KR200198450Y1 - 반도체 웨이퍼 검사장비의 척 - Google Patents

반도체 웨이퍼 검사장비의 척 Download PDF

Info

Publication number
KR200198450Y1
KR200198450Y1 KR2019970037079U KR19970037079U KR200198450Y1 KR 200198450 Y1 KR200198450 Y1 KR 200198450Y1 KR 2019970037079 U KR2019970037079 U KR 2019970037079U KR 19970037079 U KR19970037079 U KR 19970037079U KR 200198450 Y1 KR200198450 Y1 KR 200198450Y1
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
wafer
chuck
inspection equipment
semiconductor wafer
support
Prior art date
Application number
KR2019970037079U
Other languages
English (en)
Other versions
KR19990024604U (ko
Inventor
동용형
Original Assignee
김영환
현대반도체주식회사
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 김영환, 현대반도체주식회사 filed Critical 김영환
Priority to KR2019970037079U priority Critical patent/KR200198450Y1/ko
Publication of KR19990024604U publication Critical patent/KR19990024604U/ko
Application granted granted Critical
Publication of KR200198450Y1 publication Critical patent/KR200198450Y1/ko

Links

Classifications

    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01RMEASURING ELECTRIC VARIABLES; MEASURING MAGNETIC VARIABLES
    • G01R31/00Arrangements for testing electric properties; Arrangements for locating electric faults; Arrangements for electrical testing characterised by what is being tested not provided for elsewhere
    • G01R31/28Testing of electronic circuits, e.g. by signal tracer
    • G01R31/2851Testing of integrated circuits [IC]
    • G01R31/2855Environmental, reliability or burn-in testing
    • G01R31/286External aspects, e.g. related to chambers, contacting devices or handlers
    • G01R31/2865Holding devices, e.g. chucks; Handlers or transport devices

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Environmental & Geological Engineering (AREA)
  • Computer Hardware Design (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • General Engineering & Computer Science (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Testing Or Measuring Of Semiconductors Or The Like (AREA)
  • Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)

Abstract

본 고안은 반도체 웨이퍼 검사장비의 척에 관한 것으로, 종래에는 웨이퍼의 고정시 몸체의 상면에 형성된 진공홈을 제외한 전면이 몸체의 하면과 접촉되므로 웨이퍼에 이물질이 많이 부착되어 웨이퍼를 오염시키는 문제점이 있었다. 본 고안 반도체 웨이퍼 검사장비의 척은 몸체(11)의 상면 가장자리에 웨이퍼(W)를 지지하기 위한 수개의 웨이퍼 지지대(12)를 설치하고, 웨이퍼(W)의 고정시 상기 웨이퍼 지지대(12)에 의하여 웨이퍼(W)의 하면 가장자리가 지지되는 상태로 고정되도록 함으로서, 종래의 경우보다 몸체의 상면과 웨이퍼의 하면의 접촉면적이 줄어들게 되어, 웨이퍼의 하면이 이물질에 의하여 오염되는 것이 방지되고 따라서 웨이퍼의 품질을 향상시키는 효과가 있다.

Description

반도체 웨이퍼 검사장비의 척
본 고안은 반도체 웨이퍼 검사장비의 척에 관한 것으로, 특히 웨이퍼 하면과 접촉하는 접촉면적을 감소시켜서 이물질이 발생되는 것을 방지하도록 하는데 적합한 반도체 웨이퍼 검사장비의 척에 관한 것이다.
일반적으로 반도체 웨이퍼 제조공정 중 마지막으로 실시하는 검사공정에서는 척의 상면에 웨이퍼를 고정한 다음 검사를 실시하게 되는데, 이와 같이 웨이퍼가 고정되는 척이 제1도에 도시되어 있는 바, 이를 간단히 설명하면 다음과 같다.
제1도는 종래 반도체 웨이퍼 검사장비의 척을 보인 사시도로서, 도시된 바와 같이, 종래 반도체 웨이퍼 검사장비의 척은 몸체(1)의 상면에 가로방향 및 세로방향으로 형성된 다수개의 진공홈(2)이 형성되어 있고, 그 진공홈(2) 상에는 수개의 버큠홀(3)이 형성되어 있다.
상기와 같이 구성되어 있는 종래 반도체 웨이퍼 검사장비의 척은 몸체(1)의 상면에 제2도에 도시된 바와 같이 웨이퍼(4)를 얹어 놓고, 버큠홀(3)에 진공을 발생시켜서 몸체(1)의 상면에 얹혀있는 웨이퍼(4)를 진공흡착하며, 이와 같은 웨이퍼(4)가 몸체(1)의 상면에 고정된 상태에서 웨이퍼(4)의 검사가 이루어지게 된다.
그러나, 상기와 같이 구성되어 있는 종래 반도체 웨이퍼 검사장비의 척은 몸체(1)의 상면에 형성되어 있는 진공홈(2)들을 제외한 전면이 웨이퍼(4)의 하면과 접촉하여, 웨이퍼(4)의 하면에 이물질을 발생시키고, 이는 웨이퍼(4)의 품질의 저하시키는 요인이 되는 문제점이 있었다.
상기와 같은 문제점을 감안하여 안출한 본 고안의 목적은 웨이퍼와의 접촉면적을 최소화시키도록 하는데 적합한 반도체 웨이퍼 검사장비의 척을 제공함에 있다.
제1도는 종래 반도체 웨이퍼 검사장비의 척을 보인 사시도.
제2도는 종래 척에 웨이퍼가 고정된 상태를 보인 단면도.
제3도는 본 고안 반도체 웨이퍼 검사장비의 척을 보인 사시도.
제4도는 본 고안 척에 웨이퍼가 고정된 상태를 보인 단면도.
* 도면의 주요부분에 대한 부호의 설명
11 : 몸체 12 : 웨이퍼 지지대
13 : 버큠홀
상기와 같은 본 고안의 목적을 달성하기 위하여 원판형의 몸체와, 그 몸체의 상면에 120℃간격으로 설치됨과 아울러 웨이퍼의 측면을 지지하기 위한 수직지지부와 하면을 지지하기 위한 수평지지부가 “ㄴ”형상으로 형성되어 있는 수개의 웨이퍼 지지대와, 지지대들의 수평지지부상면에 각각 형성되어 있는 버큠홀을 구비하여서 구성되는 것을 특징으로 하는 반도체 웨이퍼 검사장비의 척이 제공된다.
이하, 상기와 같이 구성되는 본 고안 반도체 웨이퍼 검사장비의 척을 첨부된 도면의 실시예를 참고하여 보다 상세히 설명하면 다음과 같다.
제3도는 본 고안 반도제 웨이퍼 검사장비의 척을 보인 사시도로서, 도시된 바와 같이, 본 고안 반도체 웨이퍼 검사장비의 척은 세라믹재질의 원판형 몸체(11)와, 그 몸체(11)의 상면 가장자리에 120℃ 간격으로 3개 설치되는 웨이퍼 지지대(12)와, 그 각각의 웨이퍼 지지대(12)에 형성되어 얹혀지는 웨이퍼를 진공흡착하기 위한 버큠홀(13)과, 상기 몸체(11)의 상면 중앙에 설치되며 웨이퍼의 중앙부 하면을 지지하기 위한 지지핀(14)으로 구성되어 있다.
상기 웨이퍼 지지대(12)의 웨이퍼의 하면 가장자리를 지지하기 위한 수평지지부(12a)와. 그 수평지지부(12a)의 외측에 일체로 형성되어 웨이퍼의 측면을 지지하는 수직지지부(12b)가 “ㄴ”자 형상으로 이루도록 일체로 구성되어 있으며, 상기 버큠홀(13)은 상기 수평지지부(12a)에 상하방향으로 형성되어 있다.
상기 수평지지부(12a)와 지지핀(14)의 높이는 동일하다.
상기와 같이 구성되어 있는 본 고안 반도체 웨이퍼 검사장비의 척은 검사를 실시하고자 하는 웨이퍼(W)를 제4도에 도시된 바와 같이 몸체(11)의 상면 가장자리에 설치된 웨이퍼 지지대(12)의 수평지지부(12a)와 중앙에 설치된 지지핀(14)의 상면에 얹어 놓는다. 그런 다음, 수평지지부(12a)에 형성되어 있는 버큠홀(13)을 통하여 버큠을 발생시켜서 웨이퍼(7')를 진공흡착한 다음 검사를 실시한다.
이상에서 상세히 설명한 바와 같이, 본 고안 반도체 웨이퍼 검사장비의 척은 몸체의 상면 가장자리에 “ㄴ”자형의 웨이퍼 지지대를 120°간격으로 설치하고, 웨이퍼의 고정시 상기 웨이퍼 지지대에 의하여 웨이퍼의 하면 가장자리가 지지되는 상태로 고정되도록 함으로서, 종래의 경우보다 몸체의 상면과 웨이퍼의 하면의 접촉면적이 줄어들게 되어, 웨이퍼의 하면이 이물질에 의하여 오염되는 것이 방지되고, 따라서 웨이퍼의 품질을 향상시키는 효과가 있다. 또한, 지지대의 수직지지부에 의하여 웨이퍼의 측면이 지지되므로 공정진행시 웨이퍼의 이탈을 방지하는 효과가 있다.

Claims (2)

  1. 원판형의 몸체와, 그 몸체의 상면에 120°간격으로 설치됨과 아울러 웨이퍼의 측면을 지지하기 위한 수직지지부와 하면을 지지하기 위한 수평지지부가 “ㄴ”형상으로 형성되어 있는 수개의 웨이퍼 지지대와, 그 웨이퍼 지지대들의 수평지지부 상면에 각각 형성되어 있는 버큠홀을 구비하여서 구성되는 것을 특징으로 하는 반도체 웨이퍼 검사장비의 척.
  2. 제1항에 있어서, 상기 몸체의 상면 중앙에 웨이퍼를 지지하기 위한 지지핀이 설치된 것을 특정으로 하는 반도체 웨이퍼 검사장비의 척.
KR2019970037079U 1997-12-13 1997-12-13 반도체 웨이퍼 검사장비의 척 KR200198450Y1 (ko)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR2019970037079U KR200198450Y1 (ko) 1997-12-13 1997-12-13 반도체 웨이퍼 검사장비의 척

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR2019970037079U KR200198450Y1 (ko) 1997-12-13 1997-12-13 반도체 웨이퍼 검사장비의 척

Publications (2)

Publication Number Publication Date
KR19990024604U KR19990024604U (ko) 1999-07-05
KR200198450Y1 true KR200198450Y1 (ko) 2000-12-01

Family

ID=19516795

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR2019970037079U KR200198450Y1 (ko) 1997-12-13 1997-12-13 반도체 웨이퍼 검사장비의 척

Country Status (1)

Country Link
KR (1) KR200198450Y1 (ko)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100741028B1 (ko) * 2001-08-08 2007-07-19 씨앤지하이테크 주식회사 반도체소자 제조공정용 스핀척의 구조

Families Citing this family (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR102117093B1 (ko) * 2018-11-07 2020-05-29 세메스 주식회사 기판 처리 장치

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100741028B1 (ko) * 2001-08-08 2007-07-19 씨앤지하이테크 주식회사 반도체소자 제조공정용 스핀척의 구조

Also Published As

Publication number Publication date
KR19990024604U (ko) 1999-07-05

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR200198450Y1 (ko) 반도체 웨이퍼 검사장비의 척
JPH06132387A (ja) 真空吸着ステージ
KR20000030996A (ko) 반도체 건식 식각설비
KR19990035698U (ko) 반도체 웨이퍼의 진공척구조
KR0136549Y1 (ko) 저압 화학 기상 증착 장치용 웨이퍼 보트
KR102673906B1 (ko) 카드 홀더 및 이를 포함하는 프로브 스테이션
KR200171679Y1 (ko) 반도체웨이퍼척
KR20030016903A (ko) 노광 설비의 웨이퍼 스테이지
KR0156314B1 (ko) 반도체 웨이퍼 건조장치의 업,다운 스테이지
KR0166215B1 (ko) 반도체 노광장치의 독립 진공형 웨이퍼 홀더
KR100536026B1 (ko) 웨이퍼 스테이지
KR200284170Y1 (ko) 반도체 웨이퍼 증착장비용 보트
KR100564544B1 (ko) 웨이퍼 적재용 보트
KR20050068545A (ko) 반도체 제조공정의 웨이퍼 척
KR20050112205A (ko) 반도체 소자 제조를 위한 웨이퍼 보트
KR20230150110A (ko) 웨이퍼 지지장치
KR890008580Y1 (ko) 흡착고정식 웨이퍼 검사기에 있어서 진공홀 커버판
KR200211269Y1 (ko) 반도체플라즈마식각장비의웨이퍼예비정렬장치
KR0132640Y1 (ko) 진공 웨이퍼 척
KR19990074931A (ko) 웨이퍼 세정설비
KR19980016819A (ko) 반도체 소자의 제조장치
KR19980014338A (ko) 반도체 웨이퍼 안착용 스테이지(Stage)
KR20010107234A (ko) 반도체 제조설비에 적용되는 진공 척 구조
KR20110015886A (ko) 외부팁이 형성된 진공 척
KR20010028304A (ko) 반도체소자 제조공정용 진공척

Legal Events

Date Code Title Description
A201 Request for examination
E902 Notification of reason for refusal
E701 Decision to grant or registration of patent right
REGI Registration of establishment
FPAY Annual fee payment

Payment date: 20110627

Year of fee payment: 12

LAPS Lapse due to unpaid annual fee