KR19980014338A - 반도체 웨이퍼 안착용 스테이지(Stage) - Google Patents

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Abstract

반도체 웨이퍼에 공정을 수행하거나 웨이퍼의 위치정렬시 웨이퍼가 안정되게 놓이도록 하는 반도체 웨이퍼 안착용 스테이지에 관한 것이다.
본 발명의 구성은 반도체장치 제조설비에 설치되는 것으로 웨이퍼(13)가 놓여지는 안착면(12)이 돌출형성된 반도체 웨이퍼(13) 안착용 스테이지에 있어서, 상기 안착면(12)을 정삼각형 위치에 3개 배치하여 3위치에서 각각 웨이퍼(13)를 받쳐지지하도록 형성된 것이다.
따라서 웨이퍼의 휨변형 없이 안정적으로 받쳐지지할 수 있고, 접촉면적이 감소되어 오염발생이 줄어들며, 스테이지 및 로봇의 척의 크기가 줄어 구동시키는 데 무리가 없는 효과가 있다.

Description

반도체 웨이퍼 안착용 스테이지(Stage)
본 발명은 반도체 웨이퍼 안착용 스테이지(Stage)에 관한 것으로서, 더욱 상세하게는 웨이퍼에 공정을 수행하거나 웨이퍼의 위치정렬시 웨이퍼가 안정되게 놓이도록 하는 스테이지에 관한 것이다.
일반적으로 반도체장치의 제조공정에 사용되는 모든 장비에는 웨이퍼를 올려놓기 위한 스테이지가 구비되어 있으며, 이러한 스테이지는 웨이퍼의 중심을 안정적으로 지지하기 위하여 웨이퍼 크기와 같은 크기 또는 웨이퍼를 지탱할 수 있을 정도의 크기로 형성된 1개의 안착면이 구비되어 있다.
즉, 도1 및 도2에 도시된 바와 같이 스테이지(1)의 상면에 안착면(2)이 돌출되어 있고, 이 안착면(2)은 적어도 웨이퍼(3)보다 작은 크기로 제작되어 웨이퍼(3)의 중심을 받쳐지지하도록 되어 있으며, 안착면(2)의 크기는 가능한 작게 하여 접촉면적을 최소화함으로써 웨이퍼(3)의 뒷면 가장자리부에 오염이 발생하는 것을 줄일 수 있도록 하고 있다.
그러나 웨이퍼(3)가 대구경화(12인치)됨에 따라 기존의 안착면(2) 크기로는 웨이퍼(3)를 안정적으로 받쳐지지할 수 없고, 안착면(2)이 웨이퍼(3)의 중심을 지지하게 되므로 웨이퍼(3)의 가장자리부에서 휨현상이 발생하여 불량을 유발하게 된다.
따라서 웨이퍼(3)의 크기 증가에 따라 스테이지(1)의 안착면(2) 크기도 상대적으로 크게 형성하면 웨이퍼(3)를 안정적으로 지지하고 웨이퍼(3)의 휨발생을 방지할 수는 있으나, 스테이지(1)의 안착면(2)이 넓어짐으로 인해 웨이퍼(3)와의 접촉면적을 증가시켜 웨이퍼(3)의 오염발생율을 증가시키게 되었고, 스테이지(1)의 구동에도 부하가 가중되므로 보다 큰 용량의 동력원이 필요하게 되었으며, 또한 웨이퍼(3)를 스테이지(1)로 로딩 및 언로딩시키는 로봇의 척(4) 크기도 스테이지(1)의 안착면(2)과 함께 상대적으로 커지게되어 역시 구동에 무리가 따르는 문제점이 있었다.
본 발명의 목적은, 웨이퍼와의 접촉면적을 감소시키면서 웨이퍼를 안정적으로 받쳐지지할 수 있도록 함으로써 웨이퍼의 오염을 감소시키고 웨이퍼의 휨변형을 방지할 수 있는 반도체 웨이퍼 안착용 스테이지를 제공하는 데 있다.
본 발명의 다른 목적은 웨이퍼의 안착면 크기와 웨이퍼 로딩용 척의 크기를 감소시켜 구동시 기존의 동력원으로도 무리없이 동작시킬 수 있는 반도체 웨이퍼 안착용 스테이지를 제공하는 데 있다.
도1 및 도2는 종래의 스테이지 상에 웨이퍼가 안착된 상태를 나타내는 정면도 및 평면도이다.
도3 및 도4는 본 발명에 따른 스테이지상에 웨이퍼가 안착된 상태를 나타낸 정면도 및 평면도이다.
* 도면의 주요부분에 대한 부호의 설명 *
1, 11 : 스테이지 2, 12 : 안착면
3, 13 : 웨이퍼 4, 14 : 척
상기의 목적은 반도체장치 제조설비에 설치되는 것으로 웨이퍼가 놓여지는 안착면이 돌출형성된 반도체 웨이퍼 안착용 스테이지에 있어서, 상기 안착면이 복수개 형성되어 적어도 2곳 이상에서 웨이퍼를 받쳐지지하도록 구성됨을 특징으로 하는 반도체 웨이퍼 안착용 스테이지에 의해 달성될 수 있다.
이때 상기 안착면은 정삼각형 위치에 3개를 배치하여 3위치에서 각각 웨이퍼를 받쳐지지하도록 형성하는 것이 바람직하다.
이하, 본 발명의 구체적인 실시예를 첨부한 도면을 참조하여 상세히 설명한다.
도3 및 도4는 본 발명의 반도체 웨이퍼 안착용 스테이지의 바람직한 실시예를 나타낸 정면도 및 평면도로서, 본 발명의 스테이지(11)는 상면에 3개의 안착면(12)이 돌출 형성되어 있고, 이 3개의 안착면(12)은 정삼각형으로 배치되어 웨이퍼(13)의 바닥면을 3점 지지하도록 됨으로써 웨이퍼(13)를 보다 안정적으로 지지하게 된다.
이때 상기 안착면(12)의 단면형상은 원형으로 하는 것이 바람직하고, 3점지지에 의해 웨이퍼(13)를 받쳐지지하는 것이므로 안착면(12)의 크기를 작게 형성하는 것이 가능하며, 웨이퍼(13)의 크기에 따라 안착면(12)간의 거리를 가장 안정적으로 받쳐지지할 수 있도록 설정할 수 있다.
이러한 구성의 스테이지(11)는 웨이퍼(13)를 3개의 안착면(12)으로 삼각지점에서 지지하게 되므로 웨이퍼(13) 가장자리부의 휨변형이 없고, 웨이퍼(13)를 안정적으로 받져지지할 수 있으며, 웨이퍼(13)의 3점지지로 안착면(12)의 크기를 작게 형성할 수 있고, 이로써 웨이퍼(13)와의 접촉면적이 적어지게 되므로 웨이퍼(13)와 안착면(12)과의 접촉으로 인해 발생되는 오염을 감소시킬 수 있게 된다.
또한 안착면(12)의 크기가 작게 형성되는 것에 의해 스테이지(11)의 중량이 감소되므로 스테이지(11)를 구동시키기 위한 동력원의 용량을 높이지 않아도 동작이 무리없이 이루어지고, 더욱이 웨이퍼(13)를 안착면(12)에 로딩 및 언로딩시키는 로봇의 척(14)도 2개의 안착면(12) 사이로 삽입시킬 수 있도록 하여 웨이퍼(13)의 중심부를 지지함으로써 최소의 면적을 갖는 척(14)으로 웨이퍼(13)의 로딩 및 언로딩이 가능하게 되며, 척(14)의 크기가 작아져 구동도 원활하게 이루어지게 된다.
이상에서와 같이 본 발명에 따른 반도체 웨이퍼 안착용 스테이지에 의하면, 웨이퍼의 휨변형이 없이 안정적으로 받쳐지지할 수 있고, 접촉면적이 감소되어 오염발생이 줄어들며, 스테이지 및 로봇의 척의 크기가 줄어 구동시키는 데 무리가 없는 효과가 있다.
본 발명은 이상에서 기재된 구체예에 대해서만 상세히 설명되었지만 본 발명의 사상과 범위내에서 다양한 변형이나 수정이 가능함은 본 발명이 속하는 분야의 당업자에게는 명백한 것이며, 이러한 변형이나 수정이 첨부된 특허청구의 범위에 속함은 당연하다.

Claims (2)

  1. 반도체장치 제조설비에 설치되는 것으로 웨이퍼가 놓여지는 안착면이 돌출형성된 반도체 웨이퍼 안착용 스테이지에 있어서,
    상기 안착면이 복수개 형성되어 적어도 2곳 이상에서 웨이퍼를 받쳐지지하도록 구성됨을 특징으로 하는 반도체 웨이퍼 안착용 스테이지.
  2. 제 1 항에 있어서,
    상기 안착면은 정삼각형 위치에 3개를 배치하여 3위치에서 각각 웨이퍼를 받쳐지지하도록 형성됨을 특징으로 하는 상기 반도체 웨이퍼 안착용 스테이지.
KR1019960033273A 1996-08-09 1996-08-09 반도체 웨이퍼 안착용 스테이지(Stage) KR19980014338A (ko)

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