JP2001024048A - エッチング装置 - Google Patents

エッチング装置

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JP2001024048A
JP2001024048A JP19446299A JP19446299A JP2001024048A JP 2001024048 A JP2001024048 A JP 2001024048A JP 19446299 A JP19446299 A JP 19446299A JP 19446299 A JP19446299 A JP 19446299A JP 2001024048 A JP2001024048 A JP 2001024048A
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JP
Japan
Prior art keywords
wafer
support plate
lower stage
etching apparatus
wafer support
Prior art date
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Pending
Application number
JP19446299A
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English (en)
Inventor
Yuichi Minamitani
優一 南谷
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Sony Corp
Original Assignee
Sony Corp
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Publication date
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 パーティクルやダストがウエハの裏面に付着
し難いようにしたエッチング装置を提供する。 【解決手段】 本エッチング装置は、ウエハを上面で支
持して、下部ステージを貫通して昇降するウエハ支持板
30と、ウエハ支持板を昇降させる昇降機構とを備え、
ウエハ支持板の上面にウエハを載せ、次いでウエハを載
せたウエハ支持板を昇降機構により一旦押し上げ、次い
で下降して、下部ステージのウエハ載置面にウエハを載
置し、ウエハにドライエッチング処理を施す。ウエハ支
持板30は、ウエハを先端で支持する高さ2mmの5個
の突起部32を、ウエハ支持板30の上面に等間隔に離
隔して有する。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、エッチング装置に
関し、更に詳細には、ウエハを下部ステージに移載する
際、ウエハの裏面にパーティクル或いはダストを付着さ
せないような構成のウエハ移載機構を備えたエッチング
装置に関するものである。
【0002】
【従来の技術】半導体装置の製造過程では、種々のエッ
チング装置が使用されている。ここで、図2を参照し
て、平行平板型エッチング装置のウエハ搬送機構及びウ
エハ移載機構の構成を説明する。図2は平行平板型エッ
チング装置のウエハ搬送機構及びウエハ移載機構の構成
を示す模式的斜視図である。一般に、エッチング装置
は、例えば平行平板型エッチング装置10は、図2に示
すように、ロードロック室12と、下部電極兼用の下部
ステージ14を備え、下部ステージ14に載置されたウ
エハにエッチング処理を施すエッチングチャンバ16
と、アンロードロック室18とを備えている。
【0003】また、平行平板型エッチング装置10は、
ウエハの搬送機構として、ロードロック室12からエッ
チングチャンバ16にウエハWを搬送するベルトコンベ
ヤ20と、エッチングチャンバ16内でウエハを搬送す
るために、下部ステージ14上に設けられた2個のベル
トコンベヤ22A、Bと、エッチングチャンバ16から
アンロードロック室18にウエハを搬送するベルトコン
ベヤ24とを備えている。2個のベルトコンベヤ22
A、Bは、下部ステージ14の中心を中心にして対称的
に並列に走行し、かつ矢印の方向に相互に自在に離間し
て、下部ステージ14を完全に露出させ、また近接して
元の位置に戻るようになっている。
【0004】更に、平行平板型エッチング装置10は、
ベルトコンベヤ22A、Bからウエハを受け取り、ベル
トコンベヤ22A、Bの下に設けられた下部ステージ1
4にウエハを移載するウエハ移載機構を備えている。ウ
エハ移載機構は、図3に示すように、直径の小さいな円
板として形成され、ウエハWを上面で支持するウエハ支
持板26と、ウエハ支持板26の下面中心から下方に延
びる支持棒28とを備えている。ウエハ支持板26は、
支持棒28を介して昇降装置(図示せず)によって駆動
され、図4に示すように、下部ステージ14を貫通して
昇降する。図3はウエハ支持板26及び支持棒28から
なるウエハ移載機構の構成を示す側面図、図4は下部ス
テージ14回りの構成を示す斜視図である。
【0005】ウエハを下部ステージ14に移載する際に
は、先ず、ベルトコンベヤ20によりロードロック室1
2のウエハカセット30からエッチングチャンバ16に
ウエハWを搬送する。次いで、ベルトコンベヤ22A、
Bが、ベルトコンベヤ20からウエハWを受け取り、下
部ステージ14上に移送する。ここで、ウエハ支持板2
6が上昇して、ウエハを上面で支持し、持ち上げる。次
に、ベルトコンベヤ22A、Bが相互に矢印の方向に離
間して、下部ステージ14をベルトコンベヤ22A、B
の間に露出させる。続いて、ウエハ支持板26が下降し
てウエハを下部ステージ14上に移載する。
【0006】
【発明が解決しようとする課題】しかし、上述のウエハ
移載機構を備えたエッチング装置でウエハをエッチング
する際に、パーティクルやダストがウエハの裏面に付着
してウエハと共に次の工程に移行し、パーティクルやダ
ストに起因する種々のトラブルを引き起こしていた。そ
こで、本発明の目的は、パーティクルやダストがウエハ
の裏面に付着し難いようにしたエッチング装置を提供す
ることである。
【0007】
【課題を解決するための手段】本発明者は、ウエハの裏
面にパーティクルが付着する原因を調べた結果、ウエハ
移載機構のウエハ支持板の上面が滑らかな平面状になっ
ていて、ウエハに裏面がウエハ支持板の上面に密着す
る。そして、ウエハ支持板の上面に有ったパーティクル
やダストが、ウエハ支持板の上面に密着したウエハの裏
面に付着することにより、パーティクルやダストがウエ
ハの裏面に付着して次の工程に移行することを見い出し
た。そこで、本発明者は、ウエハ支持板の上面とウエハ
の裏面とが密着しないように、ウエハ支持板の上面に少
なくとも3個の同じ高さの突起部を離隔して配置し、突
起部の先端でウエハを支持することを着想し、実験を重
ねて本発明を完成するに到った。
【0008】上記目的を達成するために、本発明に係る
エッチング装置は、ウエハを上面に載せて支持し、下部
ステージを貫通して昇降するウエハ支持板と、ウエハ支
持板を昇降させる昇降機構とを備え、ウエハ支持板の上
面にウエハを載せ、ウエハを載せたウエハ支持板を昇降
機構により一旦押し上げ、次いで下降して、下部ステー
ジのウエハ載置面にウエハを載置し、ウエハにドライエ
ッチング処理を施すエッチング装置において、ウエハを
先端で支持する少なくとも3個の同じ高さの突起部が、
ウエハ支持板の上面に相互に離隔して設けられ、突起部
の先端は、ウエハ支持板が下降してウエハを下部ステー
ジに移載する際、下部ステージのウエハ載置面より高く
ならないことを特徴としている。
【0009】ウエハ支持板に設けた突起部の先端は、ウ
エハ支持板が下降してウエハを下部ステージに移載する
際、下部ステージのウエハ載置面より高くならないよう
になっているので、ウエハを下部ステージに載置すると
きにも、ウエハが下部ステージから浮き上がるようなこ
とは生じない。突起部の高さは、通常、1mmから2m
mの範囲である。
【0010】本発明の好適な実施態様では、5個又は6
個の突起部がウエハ支持板の上面に設けられている。ウ
エハを押し上げる時、突起部がウエハの裏面を5箇所又
は6箇所で支持しているので、ウエハがウエハ支持板の
上面には接触しない。よって、ウエハ支持板の上面のパ
ーティクルやダストがウエハの裏面に付着するようなこ
とは生じない。また、突起部がウエハの裏面を5箇所又
は6箇所で支持しているので、ウエハを持ち上げる際、
ウエハ支持板の上でウエハが安定している。
【0011】
【発明の実施の形態】以下に、実施形態例を挙げ、添付
図面を参照して、本発明の実施の形態を具体的かつ詳細
に説明する。実施形態例 本実施形態例は、本発明に係るエッチング装置の実施形
態の一例であって、図1(a)はウエハ支持板の構成を
示す側面図、図1(b)は従来のウエハ支持板の側面図
である。本実施形態例の平行平板型エッチング装置は、
ウエハ支持板の構成を除いて、図2を参照して説明した
平行平板型エッチング装置の構成と同じ構成を備えてい
る。
【0012】本実施形態例の平行平板型エッチング装置
に設けたウエハ移載機構のウエハ支持板30は、図1
(a)に示すように、ウエハを先端で支持する高さ2m
mの5個の突起部32を、ウエハ支持板30の上面に等
間隔に離隔して有する。突起部32の先端は、ウエハ支
持板32が下降してウエハを下部ステージ14に移載す
る際、下部ステージ14のウエハ載置面より高くならな
いように構成されている。本実施形態例では、図1
(a)に示すように、突起部32の先端部は、半球形に
形成され、かつ従来のウエハ支持板26の上面を2mm
削り出して形成しているので、図1(a)と図1(b)
との比較対照から判るように、従来のウエハ支持板26
の上面と同じ高さ位置にあり、下部ステージ14のウエ
ハ載置面より突起部32が高くなることは無い。
【0013】本実施形態例では、ウエハ支持板32の上
面に設けられた5個の突起部32の先端部でウエハを支
持しているので、ウエハとの接触面積が最小限に抑えら
れているので、ウエハの裏面にパーティクルやダストが
付着することがない。
【0014】
【発明の効果】本発明によれば、ウエハを先端で支持す
る少なくとも3個の突起部をウエハ支持板の上面に相互
に離隔して設け、かつ突起部の先端が、ウエハ支持板が
下降してウエハを下部ステージに移載する際、下部ステ
ージのウエハ載置面より高くならないようにすることに
より、ウエハの裏面にパーティクルやダストを付着させ
ることなく、ウエハを下部ステージに移載することがで
きる。また、少なくとも3個の突起部でウエハを支持す
るので、ウエハを安定して持ち上げることができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】図1(a)はウエハ支持板の構成を示す側面
図、図1(b)は従来のウエハ支持板の側面図である。
【図2】平行平板型エッチング装置のウエハ搬送機構及
びウエハ移載機構の構成を示す模式的斜視図である。
【図3】ウエハ支持板及び支持棒からなるウエハ移載機
構の構成を示す模式的側面図である。
【図4】下部ステージ回りの構成を示す斜視図である。
【符号の説明】
10……平行平板型エッチング装置、12……ロードロ
ック室、14……下部電極兼用の下部ステージ、16…
…エッチングチャンバ、18……アンロードロック室、
20……ベルトコンベヤ、22A、B……ベルトコンベ
ヤ、24……ベルトコンベヤ、26……ウエハ支持板、
28……支持棒、30……実施形態例の平行平板型エッ
チング装置に設けたウエハ支持板、32……突起部。

Claims (2)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 ウエハを上面に載せて支持し、下部ステ
    ージを貫通して昇降するウエハ支持板と、ウエハ支持板
    を昇降させる昇降機構とを備え、ウエハ支持板の上面に
    ウエハを載せ、ウエハを載せたウエハ支持板を昇降機構
    により一旦押し上げ、次いで下降して、下部ステージの
    ウエハ載置面にウエハを載置し、ウエハにドライエッチ
    ング処理を施すエッチング装置において、 ウエハを先端で支持する少なくとも3個の同じ高さの突
    起部が、ウエハ支持板の上面に相互に離隔して設けら
    れ、突起部の先端は、ウエハ支持板が下降してウエハを
    下部ステージに移載する際、下部ステージのウエハ載置
    面より高くならないことを特徴とするエッチング装置。
  2. 【請求項2】 5個又は6個の突起部が、ウエハ支持板
    の上面に設けられていることを特徴とする請求項1に記
    載のエッチング装置。
JP19446299A 1999-07-08 1999-07-08 エッチング装置 Pending JP2001024048A (ja)

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JP19446299A JP2001024048A (ja) 1999-07-08 1999-07-08 エッチング装置

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Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100503897B1 (ko) * 2000-02-19 2005-07-25 엘지.필립스 엘시디 주식회사 건식식각 장치의 기판 파손방지 방법 및 건식식각 장치
JP2008517453A (ja) * 2004-10-19 2008-05-22 サン−ゴバン グラス フランス 導電層のエッチング装置およびエッチング方法
KR101188327B1 (ko) 2010-11-05 2012-10-09 주식회사 포스코 시편 처리장치

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