KR0166215B1 - 반도체 노광장치의 독립 진공형 웨이퍼 홀더 - Google Patents

Abstract

구조가 개선된 반도체 제조 장치중 노광장치의 웨이퍼 홀더가 개시되어 있다.

본 발명에 따른 반도체 노광장치의 독립 진공형 웨이퍼 홀더는 종래의 핀형 웨이퍼 홀더에 있어서, 핀의 내부에 중공부를 형성하고 상기 중공부를 외부의 에어실린더와 연통되게 하여 진공작용영역으로 하는 것을 특징으로 한다.

본 발명에 따르면 웨이퍼 홀더의 핀단부와 웨이퍼와의 접촉부에 형성되는 이물질들이 웨이퍼 홀더내로 진공흡착되게 되어 이물질에 의한 노광공정 중의 단차발생 등의 불량이 크게 감소되는 효과가 있다.

Description

반도체 노광장치의 독립 진공형 웨이퍼 홀더

제1도는 종래의 핀형 독립 진공형 웨이퍼 홀더의 웨이퍼와의 접촉 형태를 보여주는 도면이다.

제2도는 종래의 다른 링형 독립 진공형 웨이퍼 홀더의 웨이퍼와의 접촉 형태를 보여주는 도면이다.

제3도는 본 발명에 따른 독립 진공형 웨이퍼 홀더의 모식적인 상부 요부 단면도 도면이다.

제4도는 본 발명에 따른 독립 진공형 웨이퍼 홀더의 웨이퍼와의 접촉형태를 보여주는 도면이다.

* 도면의 주요부분에 대한 부호의 설명

1,2,4,15,18 : 접촉부 3,5,16,19 : 진공작용영역

10 : 웨이퍼 홀더 11 : 핀

12 : 중공부 13 : 링형 돌기부

14 : 홀 17 : 공간부

본 발명은 반도체 제조 장치중 노광장치의 웨이퍼 홀더에 관한 것으로서, 보다 상세하게는 웨이퍼 홀더의 구조를 변경함으로써 노광 패턴 형성시 이물질에 의한 단차 생성을 방지하고 형성되는 패턴의 신뢰도를 향상시킨 반도체 노광장치의 독립 진공형 웨이퍼 홀더에 관한 것이다.

반도체 제조공정의 사진식각공정중 노광공정에서는 통상 노광공정이 수행되어질 웨이퍼와 마스크 수단을 정렬시키고 정렬된 웨이퍼가 공정중 정확한 위치를 유지할 수 있도록 하기 위하여 에어실린더를 이용한 진공에 의해 기능을 수행하는 웨이퍼 홀더로서 웨이퍼를 고정시킨다.

제1도와 제2도는 이와 같이 웨이퍼를 고정시킬 때 종래의 웨이퍼 홀더에 의해 파지되는 형태를 보여주는 도면으로서, 제1도는 핀형(Pin type) 웨이퍼 홀더의 경우이고 제2도는 링형(Ring type) 웨이퍼 홀더의 경우이다.

제1도의 핀형에 있어서는 웨이퍼 저면 전면에 웨이퍼 홀더의 핀단부와 웨이퍼 저면과 접촉하는 부위인 작은 사각형 형상의 접촉부(1)들이 분포되어 있게 되며 웨이퍼의 주연부를 따라 원주상으로도 링 형태의 접촉부(2)가 형성되고, 이들 접촉부(1,2) 이외의 영역인 도면상 비해칭 부분은 웨이퍼 홀더의 내부와 연통된 에어실린더에 의한 진공 흡착력이 작용하는 영역(3)이다. 이와 같이 진공흡착력이 작용하는 영역을 본 명세서에서는 설명의 편의상 진공작용영역이라 칭하기로 한다.

한편, 제2도의 링형에 있어서는 내외부에 링 형태의 접촉부(4)가 있고 이들 인접한 양 접촉부의 사이가 진공작용영역(5)으로 되며 이와 같은 단위의 접촉부 및 진공작용영역들이 웨이퍼 저면 중심으로부터 변부까지 동심원상으로 복수개 형성되어 있다.

상술한 바와 같은 종래의 웨이퍼 홀더에 의한 웨이퍼 파지는 접촉부(1,2,4)에서 웨이퍼 홀더의 돌출된 핀 또는 링에 의해 웨이퍼가 지지되고 진공작용영역(3,5)에서 진공흡착력에 의해 웨이퍼가 고정 파지되어 완성된다.

그러나, 이와 같은 종래의 웨이퍼 홀더에 의한 웨이퍼의 파지에 있어서는 상기 접촉부를 통해 미립자 상태의 이물질이 웨이퍼에 부착되어 미세한 단차를 유발하고 이러한 단차가 노광공정시에 형성되는 패턴의 불량을 발생시켜 왔다. 이와 같은 문제점은 제조되는 반도체 소자가 점점 고집적화됨에 따라 사진 식각 공정등에서 형성되는 패턴도 극히 정확하고 정밀해져야 되기 때문에 더욱 부각되고 있다.

본 발명의 목적은 상기와 같은 종래 기술의 문제점을 해결하기 위한 것으로서 반도체 공정중 웨이퍼 홀더에 의한 웨이퍼 파지시 접촉부에서의 이물질 부착에 의한 패턴 형성 불량을 크게 감소시킬 수 있는 반도체 노광장치의 독립 진공형 웨이퍼 홀더를 제공함에 있다.

본 발명에 따른 반도체 노광장치의 독립 진공형 웨이퍼 홀더는 종래의 핀형 웨이퍼 홀더에 있어서, 각 핀의 내부에 중공부를 형성하여 상기 중공부를 외부의 에어실린더와 연통되게 함으로써 진공작용영역으로 하고 핀들사이는 진공이 작용하지 않는 공간으로 하는 것을 특징으로 한다. 본 발명에 있어서는 웨이퍼 홀더의 주연부에도 링형 웨이퍼 홀더와 유사하게 동심원상의 두개의 링형 돌기부를 형성시키고 상기 두개의 링형 돌기부 사이부분을 진공작용영역으로 되게 하는 것이 파지의 정확성 및 견고성 제고면에서 바람직하다.

이하에서 첨부된 도면을 참조하여 본 발명의 바람직한 일실시예를 설명할 것이다. 그러나 이하의 실시예는 단지 본 발명을 예시하는 것일 뿐이므로 본 발명의 범위를 국한시키는 것으로 이해되어져서는 안될 것이다.

제3도는 본 발명의 바람직한 일실시예에 따른 반도체 노광장치의 독립 진공형 웨이퍼 홀더에 대한 상부 요부 단면도로서, 제3도를 참조하면, 본 발명의 웨이퍼 홀더(10)는 핀(11)의 내부에 중공부(12)가 형성되어 있는 것이 특징이다. 상기 중공부(12)는 외부 에어실린더에 의한 진공흡착력을 웨이퍼 저면에 전달하는 통로로 된다. 또한, 본 발명의 웨이퍼 홀더에 있어서, 홀더 변부에도 링형 돌기부들(13)이 형성되고 상기 인접한 링형 돌기부들(13) 사이에도 외부의 에어 실린더와 연통되는 홀(14)이 형성되어 진공작용영역으로 되는데 이렇게 하는 것이 웨이퍼 파지력의 제고면에서 바람직하다.

제3도는 본 발명의 바람직한 일실시예에 따른 반도체 노광장치의 독립 진공형 웨이퍼 홀더에 의해 웨이퍼가 파지되었을 때 웨이퍼 홀더의 핀(11) 및 링형 돌기부(13)와 웨이퍼(20) 저면과의 접촉부(15,18) 및 진공작용영역(16,19)을 나타낸 것이다. 제3도를 참조하면 본 발명의 웨이퍼 홀더에 있어서는 종래의 핀형 웨이퍼 홀더에서 핀의 내부에 중공부를 형성하여 이를 진공작용영역(16)으로 하였고, 핀과 핀 사이의 영역은 진공흡착력이 작용하지 않는 공간부(17)로 두었다. 또한, 웨이퍼(20)의 주연부에도 파지를 보다 견고하고 정확하게 하기 위하여 링형 웨이퍼 홀더에서와 같이 동심원상의 접촉부(15)를 형성하고 그 사이가 진공작용영역(16)으로 되도록 링형 돌기부(13)를 형성하였다. 상기 핀단부에 의한 접촉부(18)의 외형 크기, 즉, 핀의 단면적은 종래의 핀형 웨이퍼 홀더의 경우 보다 파지 효율을 높이기 위하여 크게 하는 것이 바람직하며, 내부에 중공부가 형성되어 이물질이 흡착, 제거될 수 있기 때문에 상기 접촉부(18)의 외형 크기, 즉, 핀의 단면적은 다소 커져도 무방하게 되는 것이다.

상술한 바와 같이 본 발명에 따르면 웨이퍼 홀더의 핀단부와 웨이퍼와의 접촉부에 형성되는 이물질들이 웨이퍼 홀더내로 진공흡착되게 되어 이물질에 의한 노광공정중의 단차발생 등의 불량이 크게 감소될 수 있다.

이상에서 본 발명을 노광장치에 국한하여 설명하였지만 본 발명이 반도체 공정중의 대부분의 진공형 웨이퍼 홀더에 채용될 수 있음은 당연하다.

이상에서 본 발명은 기재된 구체예에 대해서만 상세히 설명되었지만 본 발명의 기술사상 범위내에서 다양한 변형 및 수정이 있을 수 있음은 당해 분야에서 통상의 기술을 가진 자에게는 명백한 것이며 이러한 변형 및 수정이 첨부된 특허청구범위에 속함은 당연하다.

Claims (2)

1. 종래의 반도체 노광장치의 핀형 독립 진공형 웨이퍼 홀더에 있어서, 각 핀의 내부에 중공부를 형성하여 상기 중공부를 외부의 에어실린더와 연통되게 함으로써 진공작용영역으로 하고, 핀들사이는 진공이 작용하지 않는 공간으로 하는 것을 특징으로 하는 반도체 노광장치의 독립 진공형 웨이퍼 홀더.
2. 제1항에 있어서, 상기 웨이퍼 홀더의 주연부에도 링형 웨이퍼 홀더와 유사하게 동심원상의 두 개의 링형 돌기부를 형성시키고 상기 두 개의 링형 돌기부 사이부분을 진공작용영역으로 되게 하는 것을 특징으로 하는 반도체 노광장치의 독립 진공형 웨이퍼 홀더.