JPH11260895A - 半導体用ウエハの支持装置 - Google Patents
半導体用ウエハの支持装置Info
- Publication number
- JPH11260895A JPH11260895A JP10065478A JP6547898A JPH11260895A JP H11260895 A JPH11260895 A JP H11260895A JP 10065478 A JP10065478 A JP 10065478A JP 6547898 A JP6547898 A JP 6547898A JP H11260895 A JPH11260895 A JP H11260895A
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- supports
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- Pending
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- Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
- Jigs For Machine Tools (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】ウエハの露光工程において、ウエハの下面に付
着したゴミに起因した露光不良の発生率を低減する。 【手段】テーブル11に、放射方向に延びる４個の支持体
12を設け、各支持体12に設けた支持部12ａでウエハＷの
周縁部W1を飛び飛びに支持する。支持部12ａには上向き
開口の真空吸引穴17を設ける。ウエハＷを支持部12ａに
吸着した状態で、シリンダ16で支持体12を半径外向きに
引くことにより、ウエハＷを平坦に引き延ばす。ウエハ
Ｗと支持部12ａとの接触面積が小さいため、ゴミがあっ
ても支持部12ａとウエハＷとの間に挟まることは皆無に
近くなる。
着したゴミに起因した露光不良の発生率を低減する。 【手段】テーブル11に、放射方向に延びる４個の支持体
12を設け、各支持体12に設けた支持部12ａでウエハＷの
周縁部W1を飛び飛びに支持する。支持部12ａには上向き
開口の真空吸引穴17を設ける。ウエハＷを支持部12ａに
吸着した状態で、シリンダ16で支持体12を半径外向きに
引くことにより、ウエハＷを平坦に引き延ばす。ウエハ
Ｗと支持部12ａとの接触面積が小さいため、ゴミがあっ
ても支持部12ａとウエハＷとの間に挟まることは皆無に
近くなる。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、シリコンウエハの
表面に塗布したレジスト膜を露光する工程で使用するウ
エハ支持装置（ステージ）に関するものである。
表面に塗布したレジスト膜を露光する工程で使用するウ
エハ支持装置（ステージ）に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】ＩＣやＬＳＩ等の半導体を製造する工程
の一つに、シリコン製ウエハの表面に塗布したレジスト
膜にフォトリソグラフィ法によって配線等のパターンを
露光し、次いで、現像によってレジストパターンを形成
する工程がある。そして、露光工程でウエハを支持する
手段として従来は、図５及び図６に示す回転式のステー
ジ（テーブル、ホルダー）１が使用されていた。すなわ
ち、図５は平面図、図６は図５の一部破断VI−VI視図で
あり、ステージ１の上面に多数の環状溝２が同心円状に
形成されており、各環状溝２に連通した吸引穴３が真空
ポンプ等の真空発生源４に接続されている。そして、ウ
エハＷをステージ１に吸着した状態で、露光装置Ａによ
って露光される。
の一つに、シリコン製ウエハの表面に塗布したレジスト
膜にフォトリソグラフィ法によって配線等のパターンを
露光し、次いで、現像によってレジストパターンを形成
する工程がある。そして、露光工程でウエハを支持する
手段として従来は、図５及び図６に示す回転式のステー
ジ（テーブル、ホルダー）１が使用されていた。すなわ
ち、図５は平面図、図６は図５の一部破断VI−VI視図で
あり、ステージ１の上面に多数の環状溝２が同心円状に
形成されており、各環状溝２に連通した吸引穴３が真空
ポンプ等の真空発生源４に接続されている。そして、ウ
エハＷをステージ１に吸着した状態で、露光装置Ａによ
って露光される。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】ところで、ウエハＷの
レジスト膜をマスクのパターン通りに正確に露光するに
は、ウエハＷの表面が高い平坦度に保持されていること
が必要であり、ウエハＷに反りや撓みがあると、焦点深
度がずれてパターンの寸法精度が低下したり、現像不良
が生じたりする。
レジスト膜をマスクのパターン通りに正確に露光するに
は、ウエハＷの表面が高い平坦度に保持されていること
が必要であり、ウエハＷに反りや撓みがあると、焦点深
度がずれてパターンの寸法精度が低下したり、現像不良
が生じたりする。
【０００４】そこで従来は、ウエハＷをその全体にわた
ってステージ１に真空吸着することによって平坦度の確
保を図っているのであるが、この従来技術は、ウエハＷ
とステージ１との接触面積が大きいため、ウエハＷの下
面にゴミが付着していると、図６に一点鎖線で誇張して
示すように、ウエハＷに反りが発生することがあり、こ
のため寸法精度低下や現像不良等の露光不良がしばしば
発生していた。
ってステージ１に真空吸着することによって平坦度の確
保を図っているのであるが、この従来技術は、ウエハＷ
とステージ１との接触面積が大きいため、ウエハＷの下
面にゴミが付着していると、図６に一点鎖線で誇張して
示すように、ウエハＷに反りが発生することがあり、こ
のため寸法精度低下や現像不良等の露光不良がしばしば
発生していた。
【０００５】この点の改良案として特開平9-148225号公
報では、ステージを、放射方向に移動自在な複数個の支
持体（移動体）に分割し、各支持体に、ウエハの外周縁
を支持する平面視円弧状の載置部を形成し、この載置部
に、平面視円弧状に延びる上向き開口の真空吸引穴を設
けることが開示されている。この特開平9-148225号公報
の構成によると、ウエハはその外周縁のみが支持されて
いるに過ぎず、図５及び図６に示した従来例に比べると
ウエハとステージとの接触面積が小さくなるめ、ウエハ
の下面にゴミが付着していることに起因した露光不良の
発生率を低減でき、また、各支持体を半径外向きに移動
させてウエハに放射方向の張力を付与することにより、
ウエハを平坦状に保持できる利点がある。
報では、ステージを、放射方向に移動自在な複数個の支
持体（移動体）に分割し、各支持体に、ウエハの外周縁
を支持する平面視円弧状の載置部を形成し、この載置部
に、平面視円弧状に延びる上向き開口の真空吸引穴を設
けることが開示されている。この特開平9-148225号公報
の構成によると、ウエハはその外周縁のみが支持されて
いるに過ぎず、図５及び図６に示した従来例に比べると
ウエハとステージとの接触面積が小さくなるめ、ウエハ
の下面にゴミが付着していることに起因した露光不良の
発生率を低減でき、また、各支持体を半径外向きに移動
させてウエハに放射方向の張力を付与することにより、
ウエハを平坦状に保持できる利点がある。
【０００６】しかし、この特開平9-148225号公報の構造
では、各支持体の載置部は長く延びる円弧状に形成され
ていて、複数個の支持体の載置部が全体として一続きに
なった状態になっているため、換言すると、ウエハの外
周縁が殆ど全周にわたって支持体の載置部に載っている
ため、ウエハの外周縁の下面にゴミが付着していた場合
の反りは殆ど防止できず、このため、ゴミの悪影響の防
止に限度があるという問題があった。
では、各支持体の載置部は長く延びる円弧状に形成され
ていて、複数個の支持体の載置部が全体として一続きに
なった状態になっているため、換言すると、ウエハの外
周縁が殆ど全周にわたって支持体の載置部に載っている
ため、ウエハの外周縁の下面にゴミが付着していた場合
の反りは殆ど防止できず、このため、ゴミの悪影響の防
止に限度があるという問題があった。
【０００７】本発明は、この問題を解消することを目的
とするものである。
とするものである。
【０００８】
【課題を解決するための手段】前記目的を達成するため
本発明の支持装置は、ウエハの放射方向に沿って水平移
動させ得る複数個の支持体に、ウエハの周縁部が部分的
に載る支持部を、隣合った支持部が大きく隔たるように
して設け、これら各支持部に、ウエハを真空吸着するた
めの上向き開口の吸引穴を形成する構成にした。
本発明の支持装置は、ウエハの放射方向に沿って水平移
動させ得る複数個の支持体に、ウエハの周縁部が部分的
に載る支持部を、隣合った支持部が大きく隔たるように
して設け、これら各支持部に、ウエハを真空吸着するた
めの上向き開口の吸引穴を形成する構成にした。
【０００９】この場合、ウエハに対して均等に張力を付
与して平坦度を確保するためには、支持体の個数は３個
以上（より好適には４個以上）が望ましい。
与して平坦度を確保するためには、支持体の個数は３個
以上（より好適には４個以上）が望ましい。
【００１０】
【発明の作用・効果】本発明によると、ウエハの周縁部
は複数の支持体によって飛び飛びの狭い箇所が支持され
るため、換言すると、支持体とウエハとの接触面積がき
わめて小さくなるため、ウエハの周縁部の下面にゴミが
付着していても、そのゴミが支持体とウエハとの間に挟
まる可能性は皆無に近くなる。また、複数個の支持体で
ウエハの周縁部が放射方向に引っ張られて、ウエハが放
射方向に引き延ばされるような状態になるため、ウエハ
は反りや撓みが修正されて高い平坦度に保持される。
は複数の支持体によって飛び飛びの狭い箇所が支持され
るため、換言すると、支持体とウエハとの接触面積がき
わめて小さくなるため、ウエハの周縁部の下面にゴミが
付着していても、そのゴミが支持体とウエハとの間に挟
まる可能性は皆無に近くなる。また、複数個の支持体で
ウエハの周縁部が放射方向に引っ張られて、ウエハが放
射方向に引き延ばされるような状態になるため、ウエハ
は反りや撓みが修正されて高い平坦度に保持される。
【００１１】従って本発明によると、ゴミの影響をより
確実に防止した状態でウエハを平坦に保持できるため、
露光工程での不良率を従来より低減することができる。
確実に防止した状態でウエハを平坦に保持できるため、
露光工程での不良率を従来より低減することができる。
【００１２】
【発明の実施形態】次に、本発明の実施形態を図面に基
づいて説明する。図１は支持装置10の斜視図、図２のう
ち (A)は平面図、 (B)は (A)の B-B視断面図、図３使用
状態での平面図、図４は使用状態での断面図である。支
持装置（ステージ）10は、図示しない駆動装置によって
回転駆動されるテーブル11を備えており、テーブル11上
には、ウエハＷの周縁部のうち等間隔を隔てた４か所を
支持する４つの支持体12が配置されている。各支持体12
は、テーブル11の半径方向に延びる姿勢で配置したガイ
ド体13に、蟻溝14と蟻ほぞ15とから成る嵌め合いによっ
て水平移動自在に取付けられており、従って、各支持体
12は、テーブル11及びウエハＷの放射方向に沿って水平
移動させ得る。
づいて説明する。図１は支持装置10の斜視図、図２のう
ち (A)は平面図、 (B)は (A)の B-B視断面図、図３使用
状態での平面図、図４は使用状態での断面図である。支
持装置（ステージ）10は、図示しない駆動装置によって
回転駆動されるテーブル11を備えており、テーブル11上
には、ウエハＷの周縁部のうち等間隔を隔てた４か所を
支持する４つの支持体12が配置されている。各支持体12
は、テーブル11の半径方向に延びる姿勢で配置したガイ
ド体13に、蟻溝14と蟻ほぞ15とから成る嵌め合いによっ
て水平移動自在に取付けられており、従って、各支持体
12は、テーブル11及びウエハＷの放射方向に沿って水平
移動させ得る。
【００１３】テーブル11には、各支持体12を移動するた
めの空圧式等のシリンダ16を取付けており、シリンダ16
のピストンロッド17の先端に支持体12を固定している。
そして、各支持体12には、ウエハＷの周縁部W1をごく狭
い面積で支持する平面視円形の支持部12ａを突設してい
る。各支持部12ａには上向き開口した吸引穴18が空いて
おり、各吸引穴17は真空発生源19に接続されている。各
支持部12ａは、その上面が同一面となり得るように同じ
高さに設定されている。
めの空圧式等のシリンダ16を取付けており、シリンダ16
のピストンロッド17の先端に支持体12を固定している。
そして、各支持体12には、ウエハＷの周縁部W1をごく狭
い面積で支持する平面視円形の支持部12ａを突設してい
る。各支持部12ａには上向き開口した吸引穴18が空いて
おり、各吸引穴17は真空発生源19に接続されている。各
支持部12ａは、その上面が同一面となり得るように同じ
高さに設定されている。
【００１４】なお、支持部12ａは平面視円形には限ら
ず、楕円形や多角形など、種々の形状に形成できる。ま
た、支持体12の形状・移動手段も図示のものには限ら
ず、例えば支持体12をガイドバーに嵌め入れてガイドす
るなどしても良いて、ばねを利用して半径外向きに引っ
張ったりしても良い。更に、支持体12の個数は４個には
限らず、例えば６個や８個など、他の個数でも良い。
ず、楕円形や多角形など、種々の形状に形成できる。ま
た、支持体12の形状・移動手段も図示のものには限ら
ず、例えば支持体12をガイドバーに嵌め入れてガイドす
るなどしても良いて、ばねを利用して半径外向きに引っ
張ったりしても良い。更に、支持体12の個数は４個には
限らず、例えば６個や８個など、他の個数でも良い。
【００１５】以上の構成において、図３に示すように、
ウエハＷの周縁部を各支持体12の支持部12ａで支持して
から、吸引穴18に真空を作用させてウエハＷの周縁部w1
を支持部12ａに吸着し、その状態で、各支持体12が半径
外向きに移動し勝手となるように各シリンダ16を作動さ
せて、ウエハＷにこれを引き延ばすような張力を付与す
る。
ウエハＷの周縁部を各支持体12の支持部12ａで支持して
から、吸引穴18に真空を作用させてウエハＷの周縁部w1
を支持部12ａに吸着し、その状態で、各支持体12が半径
外向きに移動し勝手となるように各シリンダ16を作動さ
せて、ウエハＷにこれを引き延ばすような張力を付与す
る。
【００１６】すると、ウエハＷが反っていても、ウエハ
Ｗはその反りが修正されて平坦に保持される。従って、
露光装置Ａで露光するに際しての焦点ボケを防止して、
高い精度で正確に露光できる。そして、ウエハＷの周縁
部W1のうち支持体12の支持部12ａに載っている面積はご
く僅かであるから、換言すると、ウエハＷの周縁部W1は
各支持体12の支持部12ａで飛び飛びに支持されているに
過ぎないから、ウエハＷの周縁部W1の下面にゴミが付着
していても、そのゴミが支持体12の支持部12ａと重なり
合う確率は極めて低い。このため、ゴミに起因した露光
不良の発生率を著しく低減できるのである。
Ｗはその反りが修正されて平坦に保持される。従って、
露光装置Ａで露光するに際しての焦点ボケを防止して、
高い精度で正確に露光できる。そして、ウエハＷの周縁
部W1のうち支持体12の支持部12ａに載っている面積はご
く僅かであるから、換言すると、ウエハＷの周縁部W1は
各支持体12の支持部12ａで飛び飛びに支持されているに
過ぎないから、ウエハＷの周縁部W1の下面にゴミが付着
していても、そのゴミが支持体12の支持部12ａと重なり
合う確率は極めて低い。このため、ゴミに起因した露光
不良の発生率を著しく低減できるのである。
【００１７】ところで、ウエハＷの平坦度を向上するに
は、当該ウエハＷに作用する引っ張り応力をできるだけ
均一化する必要があり、そのためには、ウエハＷには放
射方向の引っ張り力だけが作用することが望ましい。し
かるに前記特開平9-148225号公報の構成では、図３に二
点鎖線で示すように、支持体の真空吸引穴20は円弧状に
長く延びている一方、支持体は符号21で示す一方向のみ
に移動するに過ぎないため、吸引穴20の端部の箇所とウ
エハＷとの関係を見ると、吸引穴20の端部の箇所ではウ
エハＷの引っ張り方向22が放射方向23と大きくずれてお
り、このため、ウエハＷに複雑な応力が生じて、反りや
撓みが発生する虞がある。
は、当該ウエハＷに作用する引っ張り応力をできるだけ
均一化する必要があり、そのためには、ウエハＷには放
射方向の引っ張り力だけが作用することが望ましい。し
かるに前記特開平9-148225号公報の構成では、図３に二
点鎖線で示すように、支持体の真空吸引穴20は円弧状に
長く延びている一方、支持体は符号21で示す一方向のみ
に移動するに過ぎないため、吸引穴20の端部の箇所とウ
エハＷとの関係を見ると、吸引穴20の端部の箇所ではウ
エハＷの引っ張り方向22が放射方向23と大きくずれてお
り、このため、ウエハＷに複雑な応力が生じて、反りや
撓みが発生する虞がある。
【００１８】これに対して本発明では、支持体12の支持
部12ａはウエハＷの周縁部W1に対して飛び飛びの状態で
吸着しているに過ぎないため、支持体12を駆動してもウ
エハＷに複雑な応力が発生することはなく、このため、
高い平坦度を確保できる。
部12ａはウエハＷの周縁部W1に対して飛び飛びの状態で
吸着しているに過ぎないため、支持体12を駆動してもウ
エハＷに複雑な応力が発生することはなく、このため、
高い平坦度を確保できる。
【図１】本発明の実施形態を示す斜視図である。
【図２】 (A)は平面図、 (B)は (A)の B-B視断面図であ
る。
る。
【図３】使用状態での平面図である。
【図４】使用状態での断面図である。
【図５】従来例の平面図である。
【図６】図６のVI−VI視図である。
Ｗ ウエハ W1 ウエハの周縁部 10 支持装置 11 テーブル 12 支持体 12ａ 支持部 16 駆動手段の一例としてのシリンダ 17 吸引穴
Claims (1)
- 【請求項１】半導体用ウエハを寝かせた状態に平坦状に
支持する装置であって、 ウエハの放射方向に沿って水平移動させ得る複数個の支
持体に、ウエハの周縁部が部分的に載る支持部を、隣合
った支持部が大きく隔たるようにして設け、これら各支
持部に、ウエハを真空吸着するための上向き開口の吸引
穴を形成したことを特徴とする半導体用ウエハの支持装
置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10065478A JPH11260895A (ja) | 1998-03-16 | 1998-03-16 | 半導体用ウエハの支持装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10065478A JPH11260895A (ja) | 1998-03-16 | 1998-03-16 | 半導体用ウエハの支持装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH11260895A true JPH11260895A (ja) | 1999-09-24 |
Family
ID=13288257
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP10065478A Pending JPH11260895A (ja) | 1998-03-16 | 1998-03-16 | 半導体用ウエハの支持装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH11260895A (ja) |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2008078304A (ja) * | 2006-09-20 | 2008-04-03 | Olympus Corp | 基板保持機構およびそれを用いた基板検査装置 |
| JP2012156415A (ja) * | 2011-01-28 | 2012-08-16 | Lintec Corp | 板状部材の支持装置及び支持方法 |
| CN109648257A (zh) * | 2018-11-30 | 2019-04-19 | 中国航空工业集团公司金城南京机电液压工程研究中心 | 一种角向组合装置贯通孔的加工方法 |
| CN111390584A (zh) * | 2020-03-20 | 2020-07-10 | 涡阳县信隆船舶附件有限公司 | 一种船舶用舱门加工装置 |
| CN114975207A (zh) * | 2022-07-13 | 2022-08-30 | 上海隐冠半导体技术有限公司 | 一种带升降真空爪的转台及交接方法 |
-
1998
- 1998-03-16 JP JP10065478A patent/JPH11260895A/ja active Pending
Cited By (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2008078304A (ja) * | 2006-09-20 | 2008-04-03 | Olympus Corp | 基板保持機構およびそれを用いた基板検査装置 |
| JP2012156415A (ja) * | 2011-01-28 | 2012-08-16 | Lintec Corp | 板状部材の支持装置及び支持方法 |
| CN109648257A (zh) * | 2018-11-30 | 2019-04-19 | 中国航空工业集团公司金城南京机电液压工程研究中心 | 一种角向组合装置贯通孔的加工方法 |
| CN109648257B (zh) * | 2018-11-30 | 2020-12-25 | 中国航空工业集团公司金城南京机电液压工程研究中心 | 一种角向组合装置贯通孔的加工方法 |
| CN111390584A (zh) * | 2020-03-20 | 2020-07-10 | 涡阳县信隆船舶附件有限公司 | 一种船舶用舱门加工装置 |
| CN111390584B (zh) * | 2020-03-20 | 2021-10-26 | 涡阳县信隆船舶附件有限公司 | 一种船舶用舱门加工装置 |
| CN114975207A (zh) * | 2022-07-13 | 2022-08-30 | 上海隐冠半导体技术有限公司 | 一种带升降真空爪的转台及交接方法 |
| CN114975207B (zh) * | 2022-07-13 | 2022-09-30 | 上海隐冠半导体技术有限公司 | 一种带升降真空爪的转台及交接方法 |
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