JPH05166711A - ウエハ固定用チャック - Google Patents

ウエハ固定用チャック

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Publication number
JPH05166711A
JPH05166711A JP33016291A JP33016291A JPH05166711A JP H05166711 A JPH05166711 A JP H05166711A JP 33016291 A JP33016291 A JP 33016291A JP 33016291 A JP33016291 A JP 33016291A JP H05166711 A JPH05166711 A JP H05166711A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
wafer
chuck
wafer fixing
fixing portion
vacuum chuck
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP33016291A
Other languages
English (en)
Inventor
Ichiro Arimoto
一郎 有本
Teruaki Ishiba
輝昭 石場
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Mitsubishi Electric Corp
Original Assignee
Mitsubishi Electric Corp
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Filing date
Publication date
Application filed by Mitsubishi Electric Corp filed Critical Mitsubishi Electric Corp
Priority to JP33016291A priority Critical patent/JPH05166711A/ja
Publication of JPH05166711A publication Critical patent/JPH05166711A/ja
Pending legal-status Critical Current

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Classifications

    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/70Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
    • G03F7/70691Handling of masks or workpieces
    • G03F7/707Chucks, e.g. chucking or un-chucking operations or structural details

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)
  • Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
  • Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【目的】他のチャックのウエハ固定部上の異物が、該ウ
エハ固定部で固定されていたウエハ側に付着していて
も、その付着異物に影響なくウエハをチャックできるよ
うにする。 【構成】レジスト塗布装置用真空チャック36の放射状
ウエハ固定部40と、露光装置用真空チャック42のウ
エハ固定部44とは、互いにウエハ下面に対し共通の固
定接触部分を持たないようにする。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、半導体製造工程の中の
写真製版工程においてレジスト塗布と露光との各装置そ
れぞれに用いるのに適したウエハ固定用チャックに関す
る。
【0002】
【従来の技術】レジスト塗布装置においては、ウエハ上
面にレジストを所要のパターンに正確に塗布するために
は該ウエハを所要の位置に固定する必要があるが、その
ために、図8および図9でそれぞれ示すようなウエハ固
定用チャックとしての真空チャック2を用いるものがあ
る。このレジスト塗布装置用の真空チャック2は、回転
軸としての中空パイプ4の上端開口内にチャック本体6
の下部中央のパイプ状下端8が嵌め合まれるとともに、
このチャック本体6上にその中央開口10を中心として
放射状に広がる突起状のウエハ固定部12と、その放射
状ウエハ固定部12の周囲を囲むことで真空引きを可能
とするための突起状ウエハ固定部14とが設けられてな
る。
【0003】このような真空チャック2においては、こ
のウエハ固定部12の上にウエハ16の下面側を載置す
るとともに、チャック本体6の上面とウエハ固定部14
とウエハ16の下面とで囲む空間を、中空パイプ4の下
端開口に接続した真空源を作動させて真空引きすること
で該ウエハ16をその下面側でウエハ固定部12に吸着
固定させる。そして、この固定状態で回転軸である中空
パイプ4を回転速度を制御しつつ回転させながらレジス
トをウエハ16の上面に所要の均一な厚さに塗布するよ
うになっている。
【0004】このレジスト塗布装置によるウエハ16の
上面へのレジスト塗布ののちは、それを所要のマスクを
用いてフォーカス合わせをして露光するのであるが、そ
のための露光装置においては、該ウエハ16を所要の位
置に固定するために、図10および図11でそれぞれ示
すようなウエハ固定用チャックとしての真空チャック1
8を用いるものがある。
【0005】この露光装置用真空チャック18は、基台
20を貫通して取り付けられた中空パイプ22の上端開
口にチャック本体24の下部中央のパイプ状下端26が
嵌め合まれてある。このチャック本体24は内部に空洞
28を有し、その上側には該チャック本体24の中央部
から所定間隔毎に開口30が設けられている。そして、
そのチャック本体24の上面には、その中央部から同心
円状に同じ高さの複数の突起状のウエハ固定部32が設
けられている。
【0006】このような真空チャック18においては、
ウエハ固定部32上にウエハ16を載置するとともに、
中空パイプ22下端開口に接続した真空源を作動させて
該ウエハ16をその下面側でウエハ固定部32に吸着固
定させた状態でウエハ16上面を露光するようになって
いる。
【0007】
【発明が解決しようとする課題】レジスト塗布装置用と
露光装置用の各真空チャック2,18においては、上述
のように、前者が放射状のウエハ固定部12であるのに
対し、後者が同心円状のウエハ固定部32であることか
ら、ウエハ16下面への固定部分が共通に重なる関係に
あることになる。そのため、該レジスト塗布装置用真空
チャック2のウエハ固定部12における前記固定部分上
に異物が有った状態でウエハ16をその下面側で該ウエ
ハ固定部12上に載置させたレジストを塗布したのち、
露光装置用真空チャック18のウエハ固定部32上に該
ウエハ16をその下面側で固定した場合には、ウエハ固
定部32におけるウエハ下面への前記共通固定部分には
図12に示すように、ウエハ16の異物34の付着下面
が固定されてしまうことになる。
【0008】このような固定状態では、ウエハ16がそ
のウエハ16とウエハ固定部32との間の異物34で上
方に盛り上がったように変形しているから、その変形状
態のまま露光したのでは露光フォーカスずれを来して露
光パターンの形状が劣化してしまうという課題がある。
【0009】そこで、本発明においては、例えば上述の
ようなレジスト塗布装置用と露光装置用それぞれの固定
用チャックのように、前者の固定用チャックでのチャッ
クの際にウエハ下面に異物が付着しても、それが後者の
固定用チャックでのチャックに影響しないようにして、
ウエハをチャックできるようにすることを主たる目的と
している。
【0010】
【課題を解決するための手段】このような目的を達成す
るために、本発明の請求項1に係るウエハ固定用チャッ
クにおいては、他のウエハ固定用チャックのウエハ固定
部とはウエハの固定接触部分が重ならない関係となるよ
うにウエハ固定部が配置されていることを特徴としてい
る。
【0011】請求項2に係るウエハ固定用チャックにお
いては、ウエハ固定部が、ウエハのダイシングラインに
一致して設けられていることを特徴としている。
【0012】
【作用】請求項1においては、他のウエハ固定用チャッ
クのウエハ固定部で当該下面が固定されてあったウエハ
をチャックしても、そのウエハ固定部とウエハ下面との
接触部分とは重ならないようにウエハ固定部でウエハを
固定することができる。
【0013】請求項2においては、ウエハ固定部が、ウ
エハのダイシングラインに一致して設けられているか
ら、該ウエハ固定部に異物があったときには、チャック
の際にはそのダイシングライン近辺でウエハが盛り上が
るように変形することになる。
【0014】
【実施例】以下、本発明の各実施例を図面を参照して詳
細に説明する。この実施例ではウエハ固定用チャックと
して真空チャックを例に挙げて説明するが、必ずしも、
この真空チャックに限定されるものではなく、他のウエ
ハ固定用チャックにも適用できる。また、この実施例で
は半導体製造工程の中の写真製版工程で用いるレジスト
塗布装置用のものと露光装置用のものとを挙げて説明す
るが、必ずしもこのような装置に限定されるものではな
く、他の製造工程で用いる場合にも適用できる。
【0015】実施例1 図1ないし図4は、本発明の実施例1に係るウエハ固定
用チャックとしての真空チャックに係り、図1はレジス
ト塗布装置用真空チャックの平面図であり、図2は露光
装置用真空チャックの平面図であり、図3は各真空チャ
ックを重ねた状態を示す平面図である。
【0016】図1を参照して、レジスト塗布装置用真空
チャック36は、中央開口38を中心にして互いに放射
状に広がる複数の突起状ウエハ固定部40を有してい
る。各ウエハ固定部40は、それぞれ、その放射方向に
おいて不連続状になっている。このような放射状のウエ
ハ固定部40を有するレジスト塗布装置用真空チャック
36については、その下面側が従来と同様に回転軸であ
る中空パイプ上端に取り付けられるとともに、上面側に
ウエハが載置されるようになっている。なお、このウエ
ハへのレジスト塗布は従来と同様であるから、その説明
は省略する。
【0017】図2を参照して、露光装置用真空チャック
42は、中心からそれぞれが同心円状にそれの径方向に
複数の同心円状ウエハ固定部44を有している。このよ
うな同心円状のウエハ固定部44を有する露光装置用真
空チャック42については、その下面側が従来と同様に
基台を貫通する中空パイプに取り付けられるとともに、
上面側にウエハが載置されるようになっている。なお、
このウエハへの露光も従来と同様であるから、その説明
は省略する。
【0018】このように図1および図2のそれぞれに示
される構造のレジスト塗布装置用と露光装置用それぞれ
の真空チャック36,42は、図3のように上下方向に
重ねた場合に、それぞれのウエハ固定部40,44が上
下方向で互いに重ならないように、レジスト塗布装置用
真空チャック36のウエハ固定部40の前記放射方向で
の不連続間隔は、露光装置用真空チャック42のウエハ
固定部44の同心円の径方向間隔に一致されている。
【0019】したがって、今、レジスト塗布装置用真空
チャック36のウエハ固定部40でウエハを固定した場
合に、そのウエハ固定部40上に異物があり、そのた
め、ウエハへのレジスト塗布が終わり、そのウエハを該
真空チャック36から取り外したときに、そのウエハの
下面側におけるウエハ固定部40との接触部分に異物3
4が付着していても、そのウエハを露光装置用真空チャ
ック42のウエハ固定部44で図4のように固定したと
きには、レジスト塗布装置用と露光装置用それぞれの真
空チャック36,42の各ウエハ固定部40,42は図
3を参照して説明したように上下方向に互いに重ならな
い関係にあることから、ウエハ16の下面側に付着の異
物34は、露光装置用真空チャック42のウエハ固定部
44には接触することがなく、結果、ウエハ16がその
異物34で上方に盛り上がるように変形することがなく
なり、そのウエハ16を露光装置で露光するときのフォ
ーカスが該変形でずれるようなことがなく、正確なフォ
ーカスのもとでの露光が可能となる。
【0020】実施例2 図5は本発明の実施例2に係る真空チャックの平面図で
あり、図6はこの真空チャックでチャックされるウエハ
の平面図である。この真空チャック46は、ウエハ16
のダイシングライン48に一致する突起状ウエハ固定部
50を有している。すなわち、ウエハ16は、縦横方向
のダイシングライン48で囲まれる中に半導体チップを
有しており、ダイシング機械でもってこのダイシングラ
イン48に沿って切断されることで半導体チップが得ら
れるものである。そして、実施例2の真空チャック46
は、そのダイシングのためにウエハを固定するのである
が、その固定のためのウエハ固定部50がダイシングラ
イン48に一致させてあるために、図7のようなウエハ
固定部50上の付着異物34でダイシングライン48近
辺のウエハ部分が上方に盛り上がるように変形しても、
このダイシングライン48近辺のパターンは通常パター
ンサイズが大きいために、ダイシング機械によるダイシ
ングへの影響は少なく抑えられる。
【0021】
【発明の効果】以上のように本発明の請求項1によれ
ば、他のウエハ固定用チャックのウエハ固定部で当該下
面が固定されてあったウエハをチャックしても、そのウ
エハ固定部とウエハ下面との接触部分とは異なる位置で
ウエハを固定することができるから、当該他のチャック
のウエハ固定部の異物によるチャックへの影響はなくな
る。
【0022】また、請求項2によれば、ウエハ固定部
が、ウエハのダイシングラインに一致して設けられてい
るから、該ウエハ固定部に異物があってダイシングライ
ン近辺が該異物で盛り上がるように変形しても、該変形
の影響なくダイシングが可能となる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の実施例1に係るレジスト塗布装置用の
真空チャックの平面図である。
【図2】本発明の実施例1に係る露光装置用真空チャッ
クの平面図である。
【図3】本発明の実施例1に係る各真空チャックを表裏
方向に重ねた状態の平面図である。
【図4】図2の露光装置用真空チャックでウエハをチャ
ックした場合の側面断面図である。
【図5】本発明の実施例2に係る真空チャックの平面図
である。
【図6】実施例2の真空チャックでチャックされるウエ
ハの平面図である。
【図7】図5の真空チャックで図6のウエハをチャック
した場合の側面断面図である。
【図8】従来例のレジスト塗布装置用真空チャックの斜
視図である。
【図9】図8の側面断面図である。
【図10】従来例の露光装置用真空チャックの斜視図で
ある。
【図11】図10の側面断面図である。
【図12】図10の真空チャックでウエハをチャックし
た場合の側面断面図である。
【符号の説明】
16 ウエハ 34 異物 36 レジスト塗布装置用真空チャック 40 ウエハ固定部 42 露光装置用真空チャック 44 ウエハ固定部

Claims (2)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 他のウエハ固定用チャックのウエハ固定
    部とはウエハの固定接触部分が重ならない関係となるよ
    うにウエハ固定部が配置されていることを特徴とするウ
    エハ固定用チャック。
  2. 【請求項2】 ウエハ固定部が、ウエハのダイシングラ
    インに一致して設けられていることを特徴とするウエハ
    固定用チャック。
JP33016291A 1991-12-13 1991-12-13 ウエハ固定用チャック Pending JPH05166711A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP33016291A JPH05166711A (ja) 1991-12-13 1991-12-13 ウエハ固定用チャック

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JP33016291A JPH05166711A (ja) 1991-12-13 1991-12-13 ウエハ固定用チャック

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JPH05166711A true JPH05166711A (ja) 1993-07-02

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ID=18229510

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JP33016291A Pending JPH05166711A (ja) 1991-12-13 1991-12-13 ウエハ固定用チャック

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JP (1) JPH05166711A (ja)

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100444263B1 (ko) * 1999-07-05 2004-08-11 캐논 가부시끼가이샤 노광장치 및 디바이스의 제조방법
JP2016186841A (ja) * 2015-03-27 2016-10-27 株式会社メルビル 試料回転用部材、及び試料回転装置

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