KR19980033196A - 광반응성 그룹을 함유하는 실란 유도체 - Google Patents
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- 150000004756 silanes Chemical class 0.000 title claims abstract description 28
- 239000000203 mixture Substances 0.000 claims abstract description 38
- 239000004973 liquid crystal related substance Substances 0.000 claims abstract description 32
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 claims abstract description 10
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 claims description 131
- -1 phenylene, pyridine-2,5-diyl Chemical group 0.000 claims description 95
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 claims description 52
- 125000003545 alkoxy group Chemical group 0.000 claims description 39
- 239000000460 chlorine Substances 0.000 claims description 39
- 239000011737 fluorine Substances 0.000 claims description 35
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 claims description 35
- 125000001153 fluoro group Chemical group F* 0.000 claims description 31
- ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N Chlorine atom Chemical compound [Cl] ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 30
- 229910052801 chlorine Inorganic materials 0.000 claims description 30
- 125000004093 cyano group Chemical group *C#N 0.000 claims description 28
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 28
- BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N Silane Chemical compound [SiH4] BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 16
- 125000006850 spacer group Chemical group 0.000 claims description 16
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims description 15
- 229910000077 silane Inorganic materials 0.000 claims description 11
- 125000001989 1,3-phenylene group Chemical group [H]C1=C([H])C([*:1])=C([H])C([*:2])=C1[H] 0.000 claims description 10
- 125000004958 1,4-naphthylene group Chemical group 0.000 claims description 10
- 125000004959 2,6-naphthylene group Chemical group [H]C1=C([H])C2=C([H])C([*:1])=C([H])C([H])=C2C([H])=C1[*:2] 0.000 claims description 10
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 claims description 9
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 claims description 8
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 7
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 claims description 7
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 claims description 7
- 125000000843 phenylene group Chemical group C1(=C(C=CC=C1)*)* 0.000 claims description 6
- 238000004132 cross linking Methods 0.000 claims description 5
- 125000004956 cyclohexylene group Chemical group 0.000 claims description 5
- 125000005714 2,5- (1,3-dioxanylene) group Chemical group [H]C1([H])OC([H])([*:1])OC([H])([H])C1([H])[*:2] 0.000 claims description 4
- PXGOKWXKJXAPGV-UHFFFAOYSA-N Fluorine Chemical compound FF PXGOKWXKJXAPGV-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 125000002947 alkylene group Chemical group 0.000 claims description 4
- 125000000753 cycloalkyl group Chemical group 0.000 claims description 4
- 229910052736 halogen Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 150000002367 halogens Chemical class 0.000 claims description 4
- 125000006413 ring segment Chemical group 0.000 claims description 4
- 125000001140 1,4-phenylene group Chemical group [H]C1=C([H])C([*:2])=C([H])C([H])=C1[*:1] 0.000 claims description 3
- 125000000956 methoxy group Chemical group [H]C([H])([H])O* 0.000 claims description 3
- CFOKCKRTEVYPIM-NBVRZTHBSA-N methyl (e)-3-[6-[6-(3-triethoxysilylpropylcarbamoyloxy)hexoxy]naphthalen-2-yl]prop-2-enoate Chemical compound C1=C(\C=C\C(=O)OC)C=CC2=CC(OCCCCCCOC(=O)NCCC[Si](OCC)(OCC)OCC)=CC=C21 CFOKCKRTEVYPIM-NBVRZTHBSA-N 0.000 claims description 3
- 125000005731 2,5-thiophenylene group Chemical group [H]C1=C([*:1])SC([*:2])=C1[H] 0.000 claims description 2
- 229910002091 carbon monoxide Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 125000000524 functional group Chemical group 0.000 claims description 2
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 claims description 2
- 125000000449 nitro group Chemical group [O-][N+](*)=O 0.000 claims description 2
- 235000010290 biphenyl Nutrition 0.000 claims 1
- 239000004305 biphenyl Substances 0.000 claims 1
- ZUOUZKKEUPVFJK-UHFFFAOYSA-N phenylbenzene Natural products C1=CC=CC=C1C1=CC=CC=C1 ZUOUZKKEUPVFJK-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 abstract description 9
- 150000001408 amides Chemical class 0.000 abstract description 3
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 51
- XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N Ethyl acetate Chemical compound CCOC(C)=O XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 48
- YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N Dichloromethane Chemical compound ClCCl YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 24
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 20
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 15
- WBYWAXJHAXSJNI-UHFFFAOYSA-N cinnamic acid group Chemical group C(C=CC1=CC=CC=C1)(=O)O WBYWAXJHAXSJNI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 15
- CSNNHWWHGAXBCP-UHFFFAOYSA-L Magnesium sulfate Chemical compound [Mg+2].[O-][S+2]([O-])([O-])[O-] CSNNHWWHGAXBCP-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 14
- 230000010287 polarization Effects 0.000 description 14
- 235000013985 cinnamic acid Nutrition 0.000 description 13
- WBYWAXJHAXSJNI-VOTSOKGWSA-M .beta-Phenylacrylic acid Natural products [O-]C(=O)\C=C\C1=CC=CC=C1 WBYWAXJHAXSJNI-VOTSOKGWSA-M 0.000 description 12
- 229930016911 cinnamic acid Natural products 0.000 description 12
- VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N n-Hexane Chemical compound CCCCCC VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 11
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 11
- WBYWAXJHAXSJNI-SREVYHEPSA-N Cinnamic acid Chemical compound OC(=O)\C=C/C1=CC=CC=C1 WBYWAXJHAXSJNI-SREVYHEPSA-N 0.000 description 10
- WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N Tetrahydrofuran Chemical compound C1CCOC1 WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 9
- 230000002441 reversible effect Effects 0.000 description 9
- 229910002027 silica gel Inorganic materials 0.000 description 9
- 239000000741 silica gel Substances 0.000 description 9
- 239000012074 organic phase Substances 0.000 description 8
- 239000011541 reaction mixture Substances 0.000 description 8
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 7
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 description 7
- 229910052943 magnesium sulfate Inorganic materials 0.000 description 7
- 235000019341 magnesium sulphate Nutrition 0.000 description 7
- 238000010992 reflux Methods 0.000 description 7
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N N,N-Dimethylformamide Chemical compound CN(C)C=O ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- ZMANZCXQSJIPKH-UHFFFAOYSA-N Triethylamine Chemical compound CCN(CC)CC ZMANZCXQSJIPKH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 238000004587 chromatography analysis Methods 0.000 description 6
- 230000008569 process Effects 0.000 description 6
- RIMRBIFHSSBNQI-NTUHNPAUSA-N [2-methoxy-4-[(e)-3-methoxy-3-oxoprop-1-enyl]phenyl] 4-but-3-enoxybenzoate Chemical compound COC1=CC(/C=C/C(=O)OC)=CC=C1OC(=O)C1=CC=C(OCCC=C)C=C1 RIMRBIFHSSBNQI-NTUHNPAUSA-N 0.000 description 5
- 239000007858 starting material Substances 0.000 description 5
- YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N tetrahydrofuran Natural products C=1C=COC=1 YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 125000004975 3-butenyl group Chemical group C(CC=C)* 0.000 description 4
- BAPJBEWLBFYGME-UHFFFAOYSA-N Methyl acrylate Chemical compound COC(=O)C=C BAPJBEWLBFYGME-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 238000002425 crystallisation Methods 0.000 description 4
- 230000008025 crystallization Effects 0.000 description 4
- 125000000113 cyclohexyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])C1([H])[H] 0.000 description 4
- 238000006317 isomerization reaction Methods 0.000 description 4
- BWHMMNNQKKPAPP-UHFFFAOYSA-L potassium carbonate Chemical compound [K+].[K+].[O-]C([O-])=O BWHMMNNQKKPAPP-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 4
- 125000001436 propyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 4
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 4
- QQQSFSZALRVCSZ-UHFFFAOYSA-N triethoxysilane Chemical compound CCO[SiH](OCC)OCC QQQSFSZALRVCSZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N Benzene Chemical compound C1=CC=CC=C1 UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- UIIMBOGNXHQVGW-UHFFFAOYSA-M Sodium bicarbonate Chemical compound [Na+].OC([O-])=O UIIMBOGNXHQVGW-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- AOTNHJGOHNIIHO-WUXMJOGZSA-N [2-methoxy-4-[(e)-3-methoxy-3-oxoprop-1-enyl]phenyl] 4-(4-trichlorosilylbutoxy)benzoate Chemical compound COC1=CC(/C=C/C(=O)OC)=CC=C1OC(=O)C1=CC=C(OCCCC[Si](Cl)(Cl)Cl)C=C1 AOTNHJGOHNIIHO-WUXMJOGZSA-N 0.000 description 3
- UKLDJPRMSDWDSL-UHFFFAOYSA-L [dibutyl(dodecanoyloxy)stannyl] dodecanoate Chemical compound CCCCCCCCCCCC(=O)O[Sn](CCCC)(CCCC)OC(=O)CCCCCCCCCCC UKLDJPRMSDWDSL-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 3
- 150000001299 aldehydes Chemical class 0.000 description 3
- 210000004027 cell Anatomy 0.000 description 3
- 150000001851 cinnamic acid derivatives Chemical class 0.000 description 3
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 3
- 239000012975 dibutyltin dilaurate Substances 0.000 description 3
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N ether Substances CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 125000001495 ethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 3
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 description 3
- 230000007774 longterm Effects 0.000 description 3
- OFDFGWLQAKFNRX-CSKARUKUSA-N methyl (e)-3-[4-(6-hydroxyhexoxy)-3-methoxyphenyl]prop-2-enoate Chemical compound COC(=O)\C=C\C1=CC=C(OCCCCCCO)C(OC)=C1 OFDFGWLQAKFNRX-CSKARUKUSA-N 0.000 description 3
- YNPBLDODCPAPMS-YRNVUSSQSA-N methyl (e)-3-[6-(6-hydroxyhexoxy)naphthalen-2-yl]prop-2-enoate Chemical compound C1=C(OCCCCCCO)C=CC2=CC(/C=C/C(=O)OC)=CC=C21 YNPBLDODCPAPMS-YRNVUSSQSA-N 0.000 description 3
- NLKNQRATVPKPDG-UHFFFAOYSA-M potassium iodide Chemical compound [K+].[I-] NLKNQRATVPKPDG-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 3
- AUJXJFHANFIVKH-GQCTYLIASA-N trans-methylferulate Chemical compound COC(=O)\C=C\C1=CC=C(O)C(OC)=C1 AUJXJFHANFIVKH-GQCTYLIASA-N 0.000 description 3
- NCAHXPUYMMFXNN-UHFFFAOYSA-N 6-(6-bromonaphthalen-2-yl)oxyhexan-1-ol Chemical compound C1=C(Br)C=CC2=CC(OCCCCCCO)=CC=C21 NCAHXPUYMMFXNN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M Acrylate Chemical compound [O-]C(=O)C=C NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- KXZGYLQAERIPQX-KESTWPANSA-N C=CCC[C@H]1CC[C@@H](CC1)c1ccc(cc1)-c1ccc(C=O)cc1 Chemical compound C=CCC[C@H]1CC[C@@H](CC1)c1ccc(cc1)-c1ccc(C=O)cc1 KXZGYLQAERIPQX-KESTWPANSA-N 0.000 description 2
- IAZDPXIOMUYVGZ-UHFFFAOYSA-N Dimethylsulphoxide Chemical compound CS(C)=O IAZDPXIOMUYVGZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- MZRVEZGGRBJDDB-UHFFFAOYSA-N N-Butyllithium Chemical compound [Li]CCCC MZRVEZGGRBJDDB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000004642 Polyimide Substances 0.000 description 2
- HUMILNIRNTYFEL-LDADJPATSA-N [2-methoxy-4-[(e)-3-methoxy-3-oxoprop-1-enyl]phenyl] 4-(4-triethoxysilylbutoxy)benzoate Chemical compound C1=CC(OCCCC[Si](OCC)(OCC)OCC)=CC=C1C(=O)OC1=CC=C(\C=C\C(=O)OC)C=C1OC HUMILNIRNTYFEL-LDADJPATSA-N 0.000 description 2
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N acrylic acid group Chemical group C(C=C)(=O)O NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 description 2
- WPYMKLBDIGXBTP-UHFFFAOYSA-N benzoic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=CC=C1 WPYMKLBDIGXBTP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- DSVRVHYFPPQFTI-UHFFFAOYSA-N bis(ethenyl)-methyl-trimethylsilyloxysilane;platinum Chemical compound [Pt].C[Si](C)(C)O[Si](C)(C=C)C=C DSVRVHYFPPQFTI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000012876 carrier material Substances 0.000 description 2
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 2
- 230000006378 damage Effects 0.000 description 2
- 238000006471 dimerization reaction Methods 0.000 description 2
- 125000003707 hexyloxy group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])O* 0.000 description 2
- 150000002430 hydrocarbons Chemical group 0.000 description 2
- AMGQUBHHOARCQH-UHFFFAOYSA-N indium;oxotin Chemical compound [In].[Sn]=O AMGQUBHHOARCQH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N mercury Chemical compound [Hg] QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052753 mercury Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000003921 oil Substances 0.000 description 2
- YJVFFLUZDVXJQI-UHFFFAOYSA-L palladium(ii) acetate Chemical compound [Pd+2].CC([O-])=O.CC([O-])=O YJVFFLUZDVXJQI-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- 229920001721 polyimide Polymers 0.000 description 2
- 229910000027 potassium carbonate Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000002243 precursor Substances 0.000 description 2
- 229930195734 saturated hydrocarbon Natural products 0.000 description 2
- 238000002444 silanisation Methods 0.000 description 2
- 238000004528 spin coating Methods 0.000 description 2
- FYSNRJHAOHDILO-UHFFFAOYSA-N thionyl chloride Chemical compound ClS(Cl)=O FYSNRJHAOHDILO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ZDHXKXAHOVTTAH-UHFFFAOYSA-N trichlorosilane Chemical compound Cl[SiH](Cl)Cl ZDHXKXAHOVTTAH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000005052 trichlorosilane Substances 0.000 description 2
- FRGPKMWIYVTFIQ-UHFFFAOYSA-N triethoxy(3-isocyanatopropyl)silane Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)CCCN=C=O FRGPKMWIYVTFIQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- JWZZKOKVBUJMES-UHFFFAOYSA-N (+-)-Isoprenaline Chemical compound CC(C)NCC(O)C1=CC=C(O)C(O)=C1 JWZZKOKVBUJMES-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZGEGCLOFRBLKSE-UHFFFAOYSA-N 1-Heptene Chemical group CCCCCC=C ZGEGCLOFRBLKSE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AFFLGGQVNFXPEV-UHFFFAOYSA-N 1-decene Chemical group CCCCCCCCC=C AFFLGGQVNFXPEV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OOLSRHZMXAYDFB-UHFFFAOYSA-N 1-ethyl-4-iodobenzene Chemical compound CCC1=CC=C(I)C=C1 OOLSRHZMXAYDFB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JRZJOMJEPLMPRA-UHFFFAOYSA-N 1-nonene Chemical group CCCCCCCC=C JRZJOMJEPLMPRA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KWKAKUADMBZCLK-UHFFFAOYSA-N 1-octene Chemical group CCCCCCC=C KWKAKUADMBZCLK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 2-Butanone Chemical compound CCC(C)=O ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NGNBDVOYPDDBFK-UHFFFAOYSA-N 2-[2,4-di(pentan-2-yl)phenoxy]acetyl chloride Chemical compound CCCC(C)C1=CC=C(OCC(Cl)=O)C(C(C)CCC)=C1 NGNBDVOYPDDBFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BPMBNLJJRKCCRT-UHFFFAOYSA-N 4-phenylbenzonitrile Chemical compound C1=CC(C#N)=CC=C1C1=CC=CC=C1 BPMBNLJJRKCCRT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FCMCSZXRVWDVAW-UHFFFAOYSA-N 6-bromo-1-hexanol Chemical compound OCCCCCCBr FCMCSZXRVWDVAW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YLDFTMJPQJXGSS-UHFFFAOYSA-N 6-bromo-2-naphthol Chemical compound C1=C(Br)C=CC2=CC(O)=CC=C21 YLDFTMJPQJXGSS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JNTPTNNCGDAGEJ-UHFFFAOYSA-N 6-chlorohexan-1-ol Chemical compound OCCCCCCCl JNTPTNNCGDAGEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CPELXLSAUQHCOX-UHFFFAOYSA-M Bromide Chemical compound [Br-] CPELXLSAUQHCOX-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- XDTMQSROBMDMFD-UHFFFAOYSA-N Cyclohexane Chemical compound C1CCCCC1 XDTMQSROBMDMFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000006000 Knoevenagel condensation reaction Methods 0.000 description 1
- GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N Nitric acid Chemical compound O[N+]([O-])=O GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QDFKDDCKKXSMEJ-UHFFFAOYSA-N OC(=O)C=CC1=CC=CC=C1.OC(=O)C(=C)C1=CC=CC=C1 Chemical compound OC(=O)C=CC1=CC=CC=C1.OC(=O)C(=C)C1=CC=CC=C1 QDFKDDCKKXSMEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PMZURENOXWZQFD-UHFFFAOYSA-L Sodium Sulfate Chemical compound [Na+].[Na+].[O-]S([O-])(=O)=O PMZURENOXWZQFD-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N Titan oxide Chemical compound O=[Ti]=O GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000007239 Wittig reaction Methods 0.000 description 1
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 1
- 230000009471 action Effects 0.000 description 1
- 150000001298 alcohols Chemical class 0.000 description 1
- 125000003282 alkyl amino group Chemical group 0.000 description 1
- 125000003277 amino group Chemical group 0.000 description 1
- DMLAVOWQYNRWNQ-UHFFFAOYSA-N azobenzene Chemical compound C1=CC=CC=C1N=NC1=CC=CC=C1 DMLAVOWQYNRWNQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 1
- 125000000319 biphenyl-4-yl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C([H])C([H])=C1C1=C([H])C([H])=C([*])C([H])=C1[H] 0.000 description 1
- SIPUZPBQZHNSDW-UHFFFAOYSA-N bis(2-methylpropyl)aluminum Chemical compound CC(C)C[Al]CC(C)C SIPUZPBQZHNSDW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000011449 brick Substances 0.000 description 1
- 125000000484 butyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 125000003178 carboxy group Chemical group [H]OC(*)=O 0.000 description 1
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 1
- 150000001805 chlorine compounds Chemical class 0.000 description 1
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 1
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 1
- 230000008878 coupling Effects 0.000 description 1
- 238000010168 coupling process Methods 0.000 description 1
- 238000005859 coupling reaction Methods 0.000 description 1
- 210000002858 crystal cell Anatomy 0.000 description 1
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 1
- 239000000428 dust Substances 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 125000004185 ester group Chemical group 0.000 description 1
- 230000032050 esterification Effects 0.000 description 1
- 238000005886 esterification reaction Methods 0.000 description 1
- 125000001301 ethoxy group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])O* 0.000 description 1
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 description 1
- 230000008020 evaporation Effects 0.000 description 1
- KSEBMYQBYZTDHS-HWKANZROSA-N ferulic acid Chemical compound COC1=CC(\C=C\C(O)=O)=CC=C1O KSEBMYQBYZTDHS-HWKANZROSA-N 0.000 description 1
- KSEBMYQBYZTDHS-UHFFFAOYSA-N ferulic acid Natural products COC1=CC(C=CC(O)=O)=CC=C1O KSEBMYQBYZTDHS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 1
- 125000004836 hexamethylene group Chemical group [H]C([H])([*:2])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[*:1] 0.000 description 1
- 238000006459 hydrosilylation reaction Methods 0.000 description 1
- 239000012442 inert solvent Substances 0.000 description 1
- 229910052809 inorganic oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 1
- 239000000463 material Substances 0.000 description 1
- SIGOIUCRXKUEIG-UHFFFAOYSA-N methyl 2-dimethoxyphosphorylacetate Chemical compound COC(=O)CP(=O)(OC)OC SIGOIUCRXKUEIG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- 229910017604 nitric acid Inorganic materials 0.000 description 1
- TWNQGVIAIRXVLR-UHFFFAOYSA-N oxo(oxoalumanyloxy)alumane Chemical compound O=[Al]O[Al]=O TWNQGVIAIRXVLR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004817 pentamethylene group Chemical group [H]C([H])([*:2])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[*:1] 0.000 description 1
- 239000012071 phase Substances 0.000 description 1
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 description 1
- 238000006552 photochemical reaction Methods 0.000 description 1
- VXPLXMJHHKHSOA-UHFFFAOYSA-N propham Chemical compound CC(C)OC(=O)NC1=CC=CC=C1 VXPLXMJHHKHSOA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000010453 quartz Substances 0.000 description 1
- 230000009257 reactivity Effects 0.000 description 1
- 238000001953 recrystallisation Methods 0.000 description 1
- 230000009467 reduction Effects 0.000 description 1
- 239000013557 residual solvent Substances 0.000 description 1
- 238000000926 separation method Methods 0.000 description 1
- 238000007086 side reaction Methods 0.000 description 1
- 229910052814 silicon oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910000030 sodium bicarbonate Inorganic materials 0.000 description 1
- 235000017557 sodium bicarbonate Nutrition 0.000 description 1
- 229910052938 sodium sulfate Inorganic materials 0.000 description 1
- 235000011152 sodium sulphate Nutrition 0.000 description 1
- 239000011877 solvent mixture Substances 0.000 description 1
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 1
- 238000003860 storage Methods 0.000 description 1
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 1
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 1
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N sulfuric acid Substances OS(O)(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000725 suspension Substances 0.000 description 1
- 125000000383 tetramethylene group Chemical group [H]C([H])([*:1])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[*:2] 0.000 description 1
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 1
- OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N titanium oxide Inorganic materials [Ti]=O OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- COIOYMYWGDAQPM-UHFFFAOYSA-N tris(2-methylphenyl)phosphane Chemical compound CC1=CC=CC=C1P(C=1C(=CC=CC=1)C)C1=CC=CC=C1C COIOYMYWGDAQPM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920002554 vinyl polymer Polymers 0.000 description 1
- 229910052724 xenon Inorganic materials 0.000 description 1
- FHNFHKCVQCLJFQ-UHFFFAOYSA-N xenon atom Chemical compound [Xe] FHNFHKCVQCLJFQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
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-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07F—ACYCLIC, CARBOCYCLIC OR HETEROCYCLIC COMPOUNDS CONTAINING ELEMENTS OTHER THAN CARBON, HYDROGEN, HALOGEN, OXYGEN, NITROGEN, SULFUR, SELENIUM OR TELLURIUM
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- C07F7/00—Compounds containing elements of Groups 4 or 14 of the Periodic Table
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Abstract
본 발명은 신규 가교결합가능한 광활성 실란 유도체 및 3-아릴-아크릴산 에스테르 및 아미드와의 혼합물 뿐만 아니라 액정용 및 비구조화되고, 구조화된 광학요소 및 다중층 시스템의 제조용 배향층으로서의 그들의 용도에 관한 것이다.
Description
본 발명은 신규 가교결합가능한 광활성 실란 유도체 및 3-아릴-아크릴산 에스테르 및 아미드와의 혼합물 뿐만 아니라 액정용 및 비구조화되고, 각각 구조화된 광학요소 및 다중층 시스템의 제조용 배향층으로서의 그들의 용도를 제공하는 것이다.
배향층은 (전기광학적) 액정장치에서 특히 중요한 것중의 하나이다. 배향층은 분자 축의 균일하고 방해되지 않은 배열을 보증할 목적으로 제공한다.
단일축으로 마찰된 중합체 배향층(예, 폴리이미드)은 보통 액정 지시기(LCD)중에서 액정 분자의 배향을 위해 사용된다. 마찰 방향은 이 과정중에서 배향 방향을 제공한다. 그러나, 마찰과 관련되어 몇가지 심각한 단점이 발생하며, 이들은 액정 지시기의 광학특질에 심각하게 작용할 수 있다. 따라서, 마찰에 의해 디스플레이중에 광학결함을 야기할 수 있는 분진이 생성된다. 동시에, 중합체 층이 정전기적으로 하전되어 예를 들면 박막 트랜지스터(TFT)-TN LCD의 경우 아래에 놓여있는 박층 트랜지스터의 파괴를 초래할 수 있다. 이러한 이유때문에 LCD 제조시 광학적으로 흠이없는 디스플레이의 수득은 지금까지 최적으로 이루어지지 않았다.
마찰에 의한 추가 단점은 배향의 방향이 마찰에 의해 국소적으로 변화될 수 없기 때문에 구조된 배향층을 간단한 방법으로 제조할 수 없다는 것이다. 따라서 주로 균일하게 배향된 큰 면적 층은 마찰에 의해 생성될 수 있다. 그러나, 구조화된 배향층은 많은 분야의 디스플레이 기술 및 광집적 회로에 크게 관련되고 있다. 예를 들면 꼬인 네마틱(TN) LCD의 가시각 의존성은 구조화된 배향층으로 개선될 수 있다.
편광선의 조사에 의해 배향 방향이 생성될 수 있는 배향층은 이미 공지되어 있다. 따라서 마찰의 고유의 문제점이 배제될 수 있다. 또한, 국부적인 방식으로 다른 배향방향을 생성하는 가능성이 존재하므로써 배향층을 구조화시킨다.
액정의 구조화 배향에 대한 한가지 가능성은 적합한 파장의 편광선을 조사하여 바람직한 방향을 광화학적으로 유도하기 위해 특정 염료 분자의 이성질화능을 활용하는 것이다. 이것은 예를 들면 배향 중합체와 염료를 혼합한 다음 편광선을 조사하여 이루어진다. 이러한 게스트/호스트 시스템은 예를 들면 미국 특허 제 4,974,941 호에 기술되어 있다. 이 시스템에서 아조벤젠은 폴리이미드 배향층에 혼입되고, 계속하여 편광선으로 조사된다. 상기 조사층의 표면과 접하는 액정은 상응하게 바람직한 방향으로 배향된다. 이 배향 과정은 가역적이다, 즉 상기 층에 제 2 편광방향의 광을 반복적으로 조사함으로써 이미 등록된 배향방향이 다시 가역적이 된다. 이 재배향 과정은 임의로 자주 반복될 수 있기 때문에 이러한 토대상의 배향층은 LCD 에 사용하기에는 덜 적합하다.
액정층에 고해상도 배향 패턴의 생성을 위한 또다른 가능성은 문헌[Jpn. J. Appl. Phys. Vol. 31(1992), 2155]에 기술되어 있다. 이 과정에서 액정의 구조화된 배향을 위해 선형 편광선을 조사하여 유도되는 중합결합된 광반응성 신남산기의 이합체화가 사용된다. 상기 기술된 가역적 배향 과정과 대조적으로 비등방성 중합체 망상조직은 문헌[Jpn. J. Appl. Phys. Vol. 31(1992), 2155]에 기술되어 있다. 이들 광배향성 중합체 망상조직은 주로 구조화되거나 비구조화된 액정 배향층이 요구되는 곳에 사용가능하다. LCD의 사용과는 별도로 이러한 배향층은 예를 들면 유럽 특허원 제 0 611 981 호, 유럽 특허원 제 0 689 084 호, 유럽 특허원 제 0 689 065 호 및 유럽 특허원 제 0 753 785 호에 예시되는 바와 같이 소위 혼성층의 생성을 위해 사용될 수 있다. 예를 들면, 비흡수성 색 여과기, 선형 및 환형 편광자, 광학 지연층등과 같은 광학요소는 광구조화된 배향 중합체 및 가교결합가능한 저분자 액정의 혼성 층을 사용하여 실현될 수 있다.
이러한 액정용 비등방성 가교결합된 광구조화된 배향층의 생성을 위한 원리에 적합한 신남산 중합체는 유럽 특허원 제 611,786 호에 기술되어 있다. 이들 가교결합가능한 신남산 유도체는 신남산(페닐아크릴산)의 카복실 작용 및 스페이서를 통해 중합체의 주쇄에 기본적으로 결합된다. 이들 중합체에서 신남산의 이합체성 아크릴계 에스테르기는 스페이서 또는 중합체 골격에 내향으로 항상 배열되는 반면, 방향족 잔기는 중합체 골격으로부터 외향으로 항상 배향된다.
공지된 광중합체중의 신남산 배열 형태는 최적이 아니라는 것이 알려져 있다. 동시에 발생하는 광화학적 반응은 배향능을 방해한다. 공지된 신남산 중합체는 부적절한 광화학적 장기간 안정성을 갖는다. 예를 들면, 예비생성된 배향층의 긴 자외선 조사는 원래 존재하는 배향의 파괴를 야기한다. 다른 방향으로 비조사된 영역을 배향시키기 위해 예정된 기입 패턴을 갖는 이미 존재하는 배향층이 다시한번 조사되는 다중 조사는 이미 조사된 위치가 마스크에 의해 덮혀질때 단지 실행될 수 있다. 한편, 상기 층의 이미 배향된 영역은 광화학적 부반응에 의해 그들의 구조의 일부 또는 전체를 손실할 수 있다.
이미 사용된 신남산 중합체의 또다른 단점은 편광선을 간단하게 조사함으로써 이들 물질로부터 생성된 배향 표면의 경우에 경사각이 발생하지 않는다는 것이다. 특히, LCD의 용도에 있어서 배향층은 배향방향이외에 경사각을 생성하여야 한다.
상기 언급된 단일축으로 마찰된 중합체 배향층의 경우에, 경사각은 중합체 표면상에서의 마찰과정에 의해 미리 생성된다. 액정이 이러한 표면과 접촉할때, 액정 분자는 평행하게 놓이지 않고 표면에 경사지게 놓이며, 따라서 액정에 경사각이 주어진다. 따라서 경사각의 크기는 예를 들면 공급속도 및 접촉압력과 같은 마찰 변수 뿐만 아니라 중합체의 화학적 구조에 의해 결정된다. 형태에 의존하는 액정 지시계의 생성을 위해 1°내지 15°의 경사각을 필요로 한다. 가장 큰 배향각은 소위 지문 조직이 나타나는 것을 배제하기 위해 초꼬임 네마틱(STN) LCD용으로 특히 요구된다. TN 및 TFT-TN LCD에서, 회전방향 및 경사방향은 경사각에 의해 한정됨으로써 역꼬임 및 역경사 현상은 방지된다. 스위치되지 않은 상태에서 역꼬임은 지시계의 얼룩을 시각적으로 인지할 수 있는 허위방향을 갖는 영역을 야기하지만, 역경사는 액정을 다른 방향으로 경사지게 하여 LCD를 스위칭함에 따라 주로 매우 교란된 정도를 시각적으로 인지할 수 있게 한다. 역꼬임은 적합한 회전방향을 갖는 키랄 도프제로 액정 혼합물을 도핑하여 방지할 수 있다. 그러나, 역경사를 억제하기 위해 지금까지 경사각을 갖는 배향층의 사용이외에 또다른 가능성이 없었다.
상기 기술된 바와 같이 중합체 골격에 결합되지 않고, 스페이서를 통해 트리알콕시 실란기와 결합되는 신남산 에스테르는 최근에 문헌[Liq. Cryst. 20, 171(1996)]에 교시되어 있다. 이 경우에, 트리알콕시실란기는 신남산 단위를 캐리어로서 기재(예, 유리)에 고정시키는 작용을 한다. 신남산 에스테르와 트리알콕시실란기를 결합하는 스페이서는 따라서 항상 신남산 에스테르의 2-위치(오르토-위치)에 위치한다. 배향층의 생성을 위해 트리알콕시실란은 먼저 용액으로부터 유리 캐리어에 도포된다. 이어서 259nm의 선형 편광선을 조사하여 배향을 수행한다. 액정을 배향시키는 상기 생성된 층의 성능은 가역성 Z/E 이성질화 때문이다. 한편, 신남산 분자가 330nm에서 조사될때 그들은 가교결합된다. 따라서 배향성능은 가교결합도에 비례하여 손실된다.
이러한 방법으로 생성된 배향층은 상기 기술된 신남산 중합체가 갖는 것과 동일한 단점을 갖는다. 또한, 배향층은 Z/E 이성질화가 가역성이므로 다중 조사의 경우에 재배향의 문제점을 야기하기 때문에 불충분한 광화학적 및 열적 안정성을 갖는다. 더우기, 배향층은 또한 경사각을 유도하는 능력을 갖지 못한다.
본 발명의 목적은 따라서 이미 사용된 신남산 중합체 및 실란의 상기 기술된 단점, 즉 광화학적 장기간 안정성의 부족 및 주로 편광선을 조사한 후에 경사각의 부족을 갖지 않음으로써 안정한 고해상도 배향패턴을 생성할 수 있는 광반응성 실란을 제조하는 것이다.
2-위치(오르토)가 아니라 방향족 고리를 갖는 3-위치 또는 4-위치의 광반응성 단위로서 3-아릴-아크릴산 유도체와 스페이서를 통해 결합되는 실란은 이 요구조건을 충족시키고, 액정에 대한 배향층으로서 뛰어나게 적합한 것을 놀랍게도 알게되었다. 이들 화합물의 선형 편광선으로의 가교결합은 배향층의 상당히 증가된 광화학적 안정성 및 동시에 예를 들면 매우 양호한 콘트라스트에 의해 특징되는 액정의 우수한 배향을 야기한다. 더우기, 경사각은 선형 편광선을 조사함으로써 생성될 수 있다.
본 발명은 화학식 (1)의 실란을 제공한다:
상기식에서,
X1, X2및 X3는 알킬, 알콕시 또는 할로겐이고, 이들중 적어도 하나는 알콕시이거나 할로겐이고;
S1은 하나이상의 불소, 염소 또는 시아노 치환체에 의해 선택적으로 치환된 -(CH2)r- 에 의해 화학식 -(CH2)r-L1-(CH2)s-L2-(L1및 L2는 각각 독립적으로 O, COO, OOC, NR2, NR2-CO, CO-NR2, NR2-COO, O-CO-NR2, CH=CH 또는 C≡C(R2는 수소 또는 저급알킬이다))으로 이루어지는 그룹으로부터 선택되는 단일 결합 또는 가교결합 작용기이다)의 쇄로 표시되는 직쇄 또는 분지된 알킬렌 그룹과 같은 스페이서 단위이고;
r 및 s는 각각 전체 1 내지 20의 수이고(단, r+s ≤ 20);
고리 A는 비치환되거나 불소, 염소, 시아노, 알킬 또는 알콕시로 선택적으로 치환된 페닐렌, 피리딘-2,5-디일, 피리미딘-2,5-디일, 1,3-디옥산-2,5-디일, 시클로헥산-1,4-디일, 피페리딘-1,4-디일 또는 피페라진-1,4-디일이고;
고리 B는 비치환되거나 불소, 염소, 시아노, 알킬 또는 알콕시로 선택적으로 치환된 페닐렌, 피리딘-2,5-디일, 피리미딘-2,5-디일, 1,4-나프틸렌, 2,6-나프틸렌, 1,3-디옥산-2,5-디일 또는 시클로헥산-1,4-디일이고;
Y1, Y2는 각각 독립적으로 단일 공유결합, -(CH2)t-, -O-, -CO-, -CO-O-, -O-OC-, -NR3-, -CO-NR3-, -R3N-CO-, -(CH2)u-O-, -O-(CH2)u-, -(CH2)u-NR3- 또는 -NR3-(CH2)u-이고(여기서 R3는 수소 또는 저급알킬이고, t는 전체 1 내지 4의 수이고, u는 전체 1 내지 3의 수이다);
m, n은 각각 독립적으로 0 또는 1이고;
고리 C는 비치환되거나, 불소, 염소, 시아노, 알킬 또는 알콕시로 선택적으로 치환된 페닐렌, 피리미딘-2,5-디일, 피리미딘-3,5-디일, 피리딘-2,5-디일, 피리딘-2,4-디일, 피리딘-2,6-디일, 2,5-티오페닐렌, 2,5-푸라닐렌, 1,4-나프틸렌 또는 2,6-나프틸렌이고;
Z는 -O- 또는 -NR4-(여기서 R4는 수소 또는 저급알킬이다) 또는 제 2 그룹의 화학식 D이고;
D는 불소 또는 염소로 선택적으로 치환된 1 내지 20개의 탄소원자를 갖는 직쇄 또는 분지된 알킬 또는 불소, 염소, 알킬 또는 알콕시로 선택적으로 치환된 3 내지 8개의 고리원자를 갖는 시클로알킬 잔기이다.
본 발명에 따르는 실란 유도체는 형성 또는 배향층에 대해 개별적으로 또는 혼합물로 사용될 수 있다. 이러한 혼합물에 대한 성분으로서 화학식 (1)의 하나이상의 화합물에 부가하여 예를 들면 화학식 (2)의 실란 유도체와 같이, 무기, 산화물 함유 표면의 실란화에 대해 통상적인 다른 가교결합가능한 실란 유도체가 또한 사용될 수 있다:
(상기식에서, X1, X2, X3및 S1은 상기 기술된 바와 같이 정의되고, M은 메소제닉 잔기 또는 저급알킬 또는 알콕시이다).
화학식 (1)의 하나이상의 성분을 함유하는 이러한 혼합물은 또한 본 발명의 목적이다.
메소제닉 잔기란 용어는 본 발명의 범위에서 화학식 (3)에 상응하는 그룹이다:
상기식에서,
고리 A1, A2및 A3는 각각 독립적으로 비치환되거나 불소, 염소, 시아노, 알킬 또는 알콕시로 선택적으로 치환된 페닐렌, 피리딘-2,5-디일, 피리미딘-2,5-디일, 2,6-나프틸렌, 1,3-디옥산-2,5-디일 또는 시클로헥산-1,4-디일이고, 이때 이러한 고리중 최대한 하나는 페닐렌 또는 시클로헥실렌과는 다르고;
Q는 하나이상의 수소원자가 불소, 염소, 시아노 또는 니트로로 치환될 수 있는 저급알킬 또는 알콕시이고;
n, m 뿐만 아니라 Y1, Y2는 상기 정의된 바와 같다.
화학식 (2)의 혼합물 성분중의 M은 화학식 (3)(n은 0이고, m은 0 또는 1이다)의 저급알킬, 저급알콕시 또는 메소제닉 잔기이다. 더우기 n은 0이고, 고리 A2및 A3는 각각 독립적으로 페닐렌 또는 시클로헥실렌이고, Y2는 단일 공유결합, -CH2CH2-, -O-, -CH2-O-, -O-CH2-, -CO-O- 또는 -O-OC-이고, Q는 (선택적으로 불소로 치환된) 저급알킬 또는 알콕시, 불소, 염소 또는 시아노인 화학식 (3)의 메소제닉 잔기가 바람직하다.
특히 바람직한 것은 화학식 (2)[M은 저급알킬, 알콕시 또는 화학식 (3)(m 및 n은 0이고, Q는 불소로 선택적으로 치환된 저급알킬 또는 저급알콕시이다)의 잔기임]의 혼합물 성분이다.
본 발명에 따르는 혼합물에서, 화학식 (1)의 구조에 상응하지 않는 실란 유도체의 함량은 50%이하, 바람직하게 30%이하이지만, 특히 15%이하이다.
액정용 배향층의 생성을 위한, 특히 혼성층 요소의 생성을 위한 본 발명에 따르는 실란 유도체 및 혼합물의 용도 뿐만 아니라 이들의 광학적 성분중의 용도는 또한 본 발명의 목적이다.
저급알킬 단독으로 또는 저급알콕시와 같이 조합하여 취해진 저급알킬이란 용어는 1 내지 6개, 바람직하게는 1 내지 3개의 탄소원자를 갖는 직쇄 및 분지된 포화 탄화수소 잔기, 예를 들면 메틸, 에틸, 프로필 또는 이소-프로필이다.
알킬 단독으로 또는 알콕시와 같이 조합하여 취해진 알킬은 30개 이하의 탄소원자를 갖는 직쇄 및 분지된 포화 탄화수소 잔기이다.
본 발명의 범위중의 바람직한 스페이서 단위는 -(CH2)r- 뿐만 아니라 -(CH2)r-O-, -(CH2)r-O-(CH2)s-, -(CH2)r-COO-(CH2)s-, -(CH2)r-OOC-(CH2)s-, -(CH2)r-NR2-CO-(CH2)s-, -(CH2)r-NR2-COO-(CH2)s-, -(CH2)r-O-(CH2)s-O-, -(CH2)r-COO-(CH2)s-O-, -(CH2)r-OOC-(CH2)s-O-, -(CH2)r-NR2-CO-(CH2)s-O-, -(CH2)r-NR2-COO-(CH2)s-O-, -(CH2)r-CO-, -(CH2)r-COO-, -(CH2)r-O-CO-, -(CH2)r-CO-NR2- 또는 -(CH2)r-NR2-CO-로 나타내어지는 직쇄 또는 분지된 알킬렌 그룹이다(여기서, r 및 s는 각각 전체 1 내지 20, 특히 2 내지 12의 수이고(단 r+s≤20, 특히 ≤15이다), R2는 수소 또는 저급알킬이다).
스페이서 단위의 바람직한 실례는 1,2-에틸렌, 1,3-프로필렌, 1,4-부틸렌, 1,5-펜틸렌, 1,6-헥실렌, 1,7-헵틸렌, 1,8-옥틸렌, 1,9-노닐렌, 1,10-데실렌, 1,11-운데실렌, 1,12-도데실렌, 1,3-부틸렌, 3-메틸-1,3-부틸렌, 프로필렌옥시, 프로필렌옥시카보닐, 프로필렌옥시, 부틸렌옥시, 부틸렌옥시카보닐, 부틸렌오일옥시, 펜틸렌옥시, 펜틸렌옥시카보닐, 펜틸렌오일옥시, 헥실렌옥시, 헥실렌옥시카보닐, 헥실렌오일옥시, 헵틸렌옥시, 헵틸렌옥시카보닐, 헵틸렌오일옥시, 옥틸렌옥시, 옥틸렌옥시카보닐, 옥틸렌오일옥시, 노닐렌옥시, 노닐렌옥시카보닐, 노닐렌오일옥시, 데실렌옥시, 데실렌옥시카보닐, 데실렌오일옥시, 운데실렌옥시, 운데실렌옥시카보닐, 운데실렌오일옥시, 도데실렌옥시, 도데실렌옥시카보닐, 도데실렌오일옥시, 프로필렌아미노카보닐, 부틸렌아미노카보닐, 펜틸렌아미노카보닐, 헥실렌아미노카보닐, 헵틸렌아미노카보닐, 옥틸렌아미노카보닐, 노닐렌아미노카보닐, 데실렌아미노카보닐, 운데실렌아미노카보닐, 도데실렌아미노카보닐, 프로필렌카보닐아미노, 부틸렌카보닐아미노, 펜틸렌카보닐아미노, 헥실렌카보닐아미노, 헵틸렌카보닐아미노, 옥틸렌카보닐아미노, 노닐렌카보닐아미노, 데실렌카보닐아미노, 운데실렌카보닐아미노, 도데실렌카보닐아미노, 프로필렌카바모일옥시헥실렌, 3-프로필렌옥시-6-헥실렌, 3-프로필렌옥시-6-헥실렌옥시, 프로필렌카바모일옥시헥실옥시, 프로필렌카바모일헥실렌, 프로필렌카바모일헥실옥시등이다.
특히 바람직한 스페이서 단위는 -(CH2)r- 뿐만 아니라 -(CH2)r-O-, -(CH2)r-NH-CO-(CH2)s-, -(CH2)r-NH-COO-(CH2)s-, -(CH2)r-O-(CH2)s-O-, -(CH2)r-NH-CO-(CH2)s-O-, -(CH2)r-NH-COO-(CH2)s-O-, -(CH2)r-CO-O-, -(CH2)r-O-CO-, -(CH2)r-CO-NH- 또는 -(CH2)r-NH-CO-로 나타내어지는 직쇄 알킬렌 그룹이다(여기서 r 및 s는 각각 2 내지 12의 전체 수이고, r+s의 합계는 ≤15이다).
비치환되거나 불소, 염소, 시아노, 알킬 또는 알콕시로 선택적으로 치환된이란 용어는 본 발명의 범위내에서 비치환되거나 불소, 염소, 시아노, 알킬 또는 알콕시, 바람직하게 불소, 메틸, 에틸, 프로필, 부틸, 메톡시, 에톡시, 프로폭시, 부톡시 또는 시아노로 단일 또는 다중 치환된 1,3-페닐렌 또는 1,4-페닐렌을 포함한다.
바람직한 페닐렌 잔기의 실례는 1,3-페닐렌, 1,4-페닐렌, 4-메틸-1,3-페닐렌, 5-메틸-1,3-페닐렌, 4-메톡시-1,3-페닐렌, 5-메톡시-1,3-페닐렌, 4-에틸-1,3-페닐렌, 5-에틸-1,3-페닐렌, 4-에톡시-1,3-페닐렌, 5-에톡시-1,3-페닐렌, 2-메틸-1,4-페닐렌, 3-메틸-1,4-페닐렌, 2-에틸-1,4-페닐렌, 3-에틸-1,4-페닐렌, 2-프로필-1,4-페닐렌, 3-프로필-1,4-페닐렌, 2-부틸-1,4-페닐렌, 3-부틸-1,4-페닐렌, 2-메톡시-1,4-페닐렌, 3-메톡시-1,4-페닐렌, 2-에톡시-1,4-페닐렌, 3-에톡시-1,4-페닐렌, 2-프로폭시-1,4-페닐렌, 3-프로폭시-1,4-페닐렌, 2-부톡시-1,4-페닐렌, 3-부톡시-1,4-페닐렌, 2,3-디메틸-1,4-페닐렌, 2,6-디메틸-1,4-페닐렌, 3,5-디메틸-1,4-페닐렌, 2,6-디메톡시-1,4-페닐렌, 3,5-디메톡시-1,4-페닐렌, 2-플루오로-1,4-페닐렌, 3-플루오로-1,4-페닐렌, 2,3-디플루오로-1,4-페닐렌, 2,6-디플루오로-1,4-페닐렌, 3,5-디플루오로-1,4-페닐렌, 2-클로로-1,4-페닐렌, 3-클로로-1,4-페닐렌, 2,3-디클로로-1,4-페닐렌, 2,6-디클로로-1,4-페닐렌, 3,5-디클로로-1,4-페닐렌, 2-시아노-1,4-페닐렌 또는 3-시아노-1,4-페닐렌등이다.
바람직한 화합물은, 화학식 (1)의 화합물에서
고리 A는 비치환되거나 불소, 염소, 시아노, 알킬 또는 알콕시로 선택적으로 치환된 페닐렌, 피리딘-2,5-디일, 피리미딘-2,5-디일 또는 시클로헥산-1,4-디일이고;
고리 B는 비치환되거나 불소, 염소, 시아노, 알킬 또는 알콕시로 선택적으로 치환된 페닐렌, 피리딘-2,5-디일, 피리미딘-2,5-디일, 1,4-나프틸렌, 2,6-나프틸렌 또는 시클로헥산-1,4-디일이고;
Y1, Y2는 각각 독립적으로 단일 공유결합, -CH2CH2-, -O-, -CH2O-, -O-CH2-, -CO-O- 또는 -O-OC-이고;
m, n은 각각 독립적으로 0 또는 1이고;
고리 C는 비치환되거나 불소, 염소, 시아노, 알킬 또는 알콕시로 선택적으로 치환된 1,3-페닐렌 또는 1,4-페닐렌, 피리미딘-2,5-디일, 피리딘-2,5-디일, 2,5-푸라닐렌 또는 1,4-나프틸렌 또는 2,6-나프틸렌이고;
Z는 -O-이고;
D는 1 내지 20개의 탄소원자를 갖는 직쇄 또는 분지된 알킬 또는 알킬 또는 알콕시, 특히 메틸 또는 메톡시로 선택적으로 치환된 5 또는 6개의 고리원자를 갖는 시클로알킬 잔기이고;
S1은 화학식 (1)에서와 동일한 화합물이다.
특히 바람직한 것은
n은 0이고;
고리 B는 비치환되거나 불소, 염소, 시아노, 알킬 또는 알콕시로 선택적으로 치환된 페닐렌, 피리딘-2,5-디일, 피리미딘-2,5-디일 또는 시클로헥산-1,4-디일이고;
Y2는 단일 공유결합, -CO-O- 또는 -O-OC-이고;
m은 0 또는 1이고;
고리 C는 비치환되거나 불소, 염소, 시아노, 알킬 또는 알콕시로 선택적으로 치환된 1,3-페닐렌 또는 1,4-페닐렌, 또는 1,4-나프틸렌 또는 2,6-나프틸렌이고;
Z는 -O-이고;
D는 1 내지 12개의 탄소원자를 갖는 직쇄 또는 분지된 알킬이고;
S1은 화학식 (1)에서와 동일한 화학식 (1)의 실란 유도체이다.
화학식 (1)의 실란 유도체는 당해 분야의 숙련자들에게 공지된 방법에 따라 제조될 수 있다. 따라서, 예를 들면 스페이서 S1의 말단부에서 실란기 대신에 말단 이중결합을 갖는 화학식 (1)의 화합물의 전구체는 하이드로실화에 의해 화학식 X1X2X3SiH의 시판중인 실란과 반응하여 화학식 (1)의 화합물을 수득할 수 있다. 또다른 제조방법은 하이드록시 또는 아미노 화합물과 화학식 X1X2X3Si-(CH2)r-N-N=C=O의 실란을 반응하는 것을 포함하고, 이때 하이드록실기 또는 아미노기는 스페이서중의 바라는 결합 위치 또는 스페이서와 결합된 고리상에 위치된다. 따라서 스페이서 또는 고리와의 결합위치에서 N-CO-O- 또는 각각 N-CO-N- 그룹을 갖는 화학식 (1)의 화합물이 얻어진다. 한편, 화학식 X1X2X3Si-(CH2)r-Br의 실란과 상기 언급된 하이드록시 또는 아미노 화합물의 반응에 의해 스페이서 또는 고리를 갖는 결합 위치에서 에테르 작용성 또는 알킬아미노기를 함유하는 화학식 (1)의 화합물을 제조할 수 있다. 산 염화물을 사용하여 화학식 X1X2X3Si-(CH2)r-NHR2의 실란과 반응하여 스페이서 또는 고리와의 결합 위치에 NR2CO기를 갖는 화학식 (1)의 실란을 제조할 수 있다. 이러한 제조방법은 미국 특허 제 4,918,200 호 및 미국 특허 제 4,861,906 호에 유사 실례로 기술되어 있다.
실란 전구체는 대다수 시판가능하고, 시판가능한 실란 조립 벽돌로부터 쉽게 개질될 수 있다. 신남산은 일부가 또한 시판가능하고, 예를 들면 상응하는 알데히드로의 이전의 환원에 의해 시판가능한 알데히드 또는 시아노 화합물로부터 크노에벤아겔(knoevenagel) 반응 또는 위트히(wittig) 반응과 같은 문헌으로부터 공지된 방법에 따라 얻어질 수 있다. 신남산 에스테르 또는 아미드는 그후 공지된 에스테르화 방법에 따라 신남산으로부터 제조될 수 있다.
배향층을 제조하기 위해 본 발명에 따르는 실란 유도체 또는 혼합물은 초기에 캐리어에 적용되어야 한다. 그 결과로서, 실란기는 캐리어에 커플링 단위로서 결합되고, 특히 얇고 가끔 단일분자층을 형성한다. 이러한 다른 대부분의 무기 산화물의 실란화는 다양하게 실시되고, 당해 분야의 숙련자들에게 잘 공지되어 있다. 공지된 캐리어 물질의 실례는 산화알루미늄, 산화티탄, 산화규소(유리 또는 석영) 또는 예를 들면 인듐-주석 산화물(ITO)과 같은 혼합 산화물이다. 광학적 또는 전기광학적 장치에 대한 본 발명에 따르는 용도의 경우에 캐리어 물질, 주로 유리 또는 선택적으로 전극 피복 캐리어(예, 인듐-주석 산화물(ITO)으로 피복된 유리판)로서 전술되어 있다. 적용시, 실란 유도체는 불활성 용매중의 용액으로서 주로 사용된다. 실란기의 반응성에 따라 다수의 다른 용매(예, 벤젠, 톨루엔, 헥산등)가 사용될 수 있고, 또는 덜 반응성인 알콕시실란의 경우에 메탄올, 에탄올등과 같은 알콜이 사용될 수 있다. 후속의 피복은 예를 들면 세정된 캐리어를 용액에 침지하거나, 스핀-피복 또는 다른 피복 기법에 의해 수행될 수 있다. 용매를 캐리어층으로부터 증발시킨 후에 주로 반응성에 따라 함침된 캐리어를 가열함으로써 캐리어에 실란기를 커플링할 수 있다. 이어서, 비결합 실란을 용매로 세척한다.
이러한 방법 또는 유사 방법에서 화학식 (1)의 실란 유도체 또는 화학식 (1)의 실란 유도체 함유 혼합물로부터 생성되어지는 층은 선형 편광선을 조사하여 이합체화될 수 있다. 캐리어에 커플링된 화학식 (1)의 분자 단위의 공간적 선택 조사에 의해 표면상의 큰 특정 영역이 또한 이합체화에 의해 직접적으로 그리고 동시에 안정화될 수 있다.
따라서, 면적에 의해 제한되는 선택적인 영역에서의 배향층의 생성을 위해 수은 고압 램프, 크세논 램프 또는 편광자를 사용하는 펄스 UV 레이저 및 선택적으로 구조체의 한정을 위한 마스크로 배향될 영역을 조사할 수 있다. 조사기간은 개별적 램프의 전력에 의존하고, 수분 내지 수시간으로 다양할 수 있다. 그러나, 이성질화는 또한 예를 들면 가교결합 반응에 적합한 조사만을 통과하는 필터를 사용하여 균일층의 조사에 의해 수행될 수 있다.
본 발명에 따르는 실란은 하기의 실시예에 의해 더욱 상세하게 예시된다.
실시예 1
메틸(E)-3-[3-메톡시-4(4-트리에톡시실라닐부틸옥시)페닐]아크릴레이트
1.4g의 3-메톡시-4-[(E)2-메톡시카보닐-비닐]페닐-4-(3-부테닐옥시)벤조에이트, 0.96ml의 트리에톡시실란, 20ml의 톨루엔 및 0.055ml의 백금 디비닐테트라메틸디실옥산(톨루엔중에 3 내지 3.5%)의 혼합물에 공기를 30분동안 통과시키고, 상기 혼합물을 다음으로 60℃에서 16시간동안 교반한다. 이어서, 반응 혼합물을 실온으로 냉각시키고, 에틸 아세테이트와 물사이에서 분배시키고, 유기상을 황산마그네슘상에서 건조시키고, 여과하고 증발하여 건조시켰다. 톨루엔/에틸 아세테이트(9:1)로 실리카 겔상에서 크로마토그래피하여 메틸(E)-3-[3-메톡시-4-(4-트리에톡시실라닐부틸옥시)-페닐]아크릴레이트를 수득한다.
하기의 실란을 유사방법으로 합성할 수 있다:
메틸(E)-3-[4-(4-트리에톡시실라닐부틸옥시)페닐]아크릴레이트;
메틸(E)-3-[3-플루오로-4-(4-트리에톡시실라닐부틸옥시)페닐]아크릴레이트;
메틸(E)-3-[3-에톡시-4-(4-트리에톡시실라닐부틸옥시)페닐]아크릴레이트;
메틸(E)-3-[3-헥실옥시-4-(4-트리에톡시실라닐부틸옥시)페닐]아크릴레이트;
메틸(E)-3-[3-(4-트리에톡시실라닐부틸옥시)페닐]아크릴레이트;
메틸(E)-3-[4-플루오로-3-(4-트리에톡시실라닐부틸옥시)페닐]아크릴레이트;
메틸(E)-3-[4-메톡시-3-(4-트리에톡시실라닐부틸옥시)페닐]아크릴레이트;
메틸(E)-3-[4-에톡시-3-(4-트리에톡시실라닐부틸옥시)페닐]아크릴레이트;
메틸(E)-3-[4-헥실옥시-3-(4-트리에톡시실라닐부틸옥시)페닐]아크릴레이트;
메틸(E)-3-[4-(8-트리에톡시실라닐옥틸옥시)페닐]아크릴레이트;
메틸(E)-3-[3-플루오로-4-(8-트리에톡시실라닐옥틸옥시)페닐]아크릴레이트;
메틸(E)-3-[3-메톡시-4-(8-트리에톡시실라닐옥틸옥시)페닐]아크릴레이트;
메틸(E)-3-[3-에톡시-4-(8-트리에톡시실라닐옥틸옥시)페닐]아크릴레이트;
메틸(E)-3-[3-헥실옥시-4-(8-트리에톡시실라닐옥틸옥시)페닐]아크릴레이트;
메틸(E)-3-[3-(8-트리에톡시실라닐옥틸옥시)페닐]아크릴레이트;
메틸(E)-3-[4-플루오로-3-(8-트리에톡시실라닐옥틸옥시)페닐]아크릴레이트;
메틸(E)-3-[4-메톡시-3-(8-트리에톡시실라닐옥틸옥시)페닐]아크릴레이트;
메틸(E)-3-[4-에톡시-3-(8-트리에톡시실라닐옥틸옥시)페닐]아크릴레이트;
메틸(E)-3-[4-헥실옥시-3-(8-트리에톡시실라닐옥틸옥시)페닐]아크릴레이트;
메틸(E)-3-[4-(6-트리에톡시실라닐헥사노일옥시)페닐]아크릴레이트;
메틸(E)-3-[3-플루오로-4-(6-트리에톡시실라닐헥사노일옥시)페닐]아크릴레이트;
메틸(E)-3-[3-메톡시-4-(6-트리에톡시실라닐헥사노일옥시)페닐]아크릴레이트;
메틸(E)-3-[3-에톡시-4-(6-트리에톡시실라닐헥사노일옥시)페닐]아크릴레이트;
메틸(E)-3-[3-부틸옥시-4-(6-트리에톡시실라닐헥사노일옥시)페닐]아크릴레이트;
메틸(E)-3-[4-(5-트리에톡시실라닐헥사노일옥시)페닐]아크릴레이트;
메틸(E)-3-[4-플루오로-3-(6-트리에톡시실라닐헥사노일옥시)페닐]아크릴레이트;
메틸(E)-3-[4-메톡시-3-(6-트리에톡시실라닐헥사노일옥시)페닐]아크릴레이트;
메틸(E)-3-[4-에톡시-3-(6-트리에톡시실라닐헥사노일옥시)페닐]아크릴레이트;
메틸(E)-3-[4-부틸옥시-3-(6-트리에톡시실라닐헥사노일옥시)페닐]아크릴레이트.
실시예 2
2-메톡시-4-[(E)2-메톡시카보닐비닐]페닐 4-(4-트리에톡시실라닐부틸옥시)벤조에이트
1g의 2-메톡시-4-[(E)2-메톡시카보닐-비닐]페닐 4-(3-부테닐옥시)벤조에이트, 0.480ml의 트리에톡시실란, 10ml의 톨루엔 및 0.017ml의 백금 디비닐테트라메틸디실옥산(톨루엔중에 3 내지 3.5%)의 혼합물에 공기를 30분동안 통과시키고, 상기 혼합물을 이어서 60℃에서 1시간동안 교반한다. 그런다음, 추가로 0.1ml의 트리에톡시실란을 가했고, 상기 혼합물을 60℃에서 16시간동안 반응시켰다. 반응 혼합물을 다음으로 실온으로 냉각시키고, 에틸 아세테이트와 물사이에서 분배시켰다. 유기상을 황산마그네슘상에서 건조시키고, 여과하고 증발하여 건조시켰다. 톨루엔/에틸 아세테이트(19:1 내지 9:1)로 150g의 실리카 겔상에서 크로마토그래피하여 무색 액체로서 0.60g의 2-메톡시-4-[(E)2-메톡시카보닐-비닐]페닐 4-(4-트리에톡시실라닐부틸옥시)벤조에이트를 수득하였다. λ최대(CH2Cl2): 279nm.
출발물질로서 사용된 2-메톡시-4-[(E)2-메톡시카보닐-비닐]페닐 4-(3-부테닐옥시)벤조에이트를 하기의 절차에 따라 제조하였다:
메틸 (E)-4-하이드록시-3-메톡시시나메이트
100g의 4-하이드록시-3-메톡시신남산을 1ℓ의 메탄올중에서 용해하였고, 14.4ml의 농축 황산으로 처리하였다. 상기 용액을 2.5시간동안 환류하에서 가열하였다. 계속하여 다량의 메탄올(약 750ml)을 증류시켰고, 잔여물을 1ℓ의 물에 부었다. 이어서, 상기 혼합물을 500ml의 에틸 아세테이트로 3회 추출하였고, 유기상을 혼합하였고, 250ml의 10% 중탄산나트륨 용액으로 2회 세척하였고, 황산나트륨상에서 건조하였고, 여과 및 증류하였다. 잔사를 800ml의 메탄올중에서 용해하였고, 여과하였고, 결정화를 위해 -25℃로 냉각하였다. 결정을 흡입(suction)하에서 여과하였고, 100ml의 냉 메탄올로 세척하였고 실온에서 고진공중에서 건조시켰다. 54.7g의 황색 결정이 수득되었다.
2-메톡시-4-[(E) 2-메톡시카보닐-비닐]-페닐 4-(3-부테닐옥시)벤조에이트
4.85g의 4-(3-부테닐옥시)벤조산 및 6ml의 티오닐 클로라이드의 혼합물을 3방울의 디메틸포름아미드로 처리하였고, 3시간동안 환류하여 가열하였다. 과량의 산 클로라이드를 정상 압력에서 먼저 증류한다음 진공을 증가시키고, 잔사를 2.5시간동안 고진공하에서 유지하였고 20ml의 염화메틸렌중에서 용해하였다. 5g의 메틸 (E)-4-하이드록시-3-메톡시신나메이트, 25ml의 염화메틸렌 및 3.9ml의 트리에틸아민의 혼합물을 얻기 위해 얼음으로 냉각시키면서 상기 용액을 적가했고, 계속하여 실온에서 60시간동안 반응시켰다. 이어서, 반응 용액을 여과하고, 약간 농축시킨후, 염화메틸렌으로 314g의 실리카 겔상에서 크로마토그래피하였다. 냉 에탄올로부터 결정화는 7.03g의 2-메톡시-4-[(E) 2-메톡시카보닐-비닐]페닐 4-(3-부테닐옥시)벤조에이트를 수득하였다.
하기의 실란 유도체를 유사방법으로 제조할 수 있다:
2-메톡시-4-[(E)2-메톡시카보닐-비닐]페닐 4-(3-트리에톡시실라닐프로필옥시-)벤조에이트;
2-메톡시-4-[(E)2-메톡시카보닐-비닐]페닐 4-(5-트리에톡시실라닐펜틸옥시)벤조에이트;
2-메톡시-4-[(E)2-메톡시카보닐-비닐]페닐 4-(6-트리에톡시실라닐헥실옥시)벤조에이트;
2-메톡시-4-[(E)2-메톡시카보닐-비닐]페닐 4-(7-트리에톡시실라닐헵틸옥시)벤조에이트;
2-메톡시-4-[(E)2-메톡시카보닐-비닐]페닐 4-(8-트리에톡시실라닐옥틸옥시)벤조에이트;
2-메톡시-4-[(E)2-메톡시카보닐-비닐]페닐 4-(4-트리에톡시실라닐부틸옥시)벤조에이트;
2-메톡시-4-[(E)2-메톡시카보닐-비닐]페닐 4-(8-트리에톡시실라닐옥틸)벤조에이트;
2-에톡시-4-[(E)2-메톡시카보닐-비닐]페닐 4-(4-트리에톡시실라닐부틸옥시)벤조에이트;
2-프로필옥시-4-[(E)2-메톡시카보닐-비닐]페닐 4-(4-트리에톡시실라닐부틸옥시)벤조에이트;
2-메톡시-4-[(E)2-에톡시카보닐-비닐]페닐 4-(8-트리에톡시실라닐옥틸)벤조에이트;
2-에톡시-4-[(E)2-에톡시카보닐-비닐]페닐 4-(4-트리에톡시실라닐부틸옥시)벤조에이트.
실시예 3
메틸 (E)-3-{3-메톡시-4-[6-(3-트리에톡시실라닐프로필카바모일옥시)헥실옥시]페닐}아크릴레이트
0.73g의 메틸 (E)-3-[3-메톡시-4-(6-하이드록시헥실옥시)페닐]아크릴레이트, 35ml의 염화메틸렌, 0.615ml의 3-트리에톡시실라닐프로필 이소시아네이트 및 0.014ml의 디부틸틴 디라우레이트의 혼합물을 60시간동안 환류하에서 가열하였다. 그런다음, 반응 용액을 냉각 및 증발하였고, 잔사를 먼저 톨루엔/에틸 아세테이트(3:1), 다음으로 시클로헥산/에틸 아세테이트(7:3)으로 100g의 실리카 겔상의 2겹 크로마토그래피에 의해 정제하였다. 0.9g의 메틸 (E)-3-{3-메톡시-4-[6-(3-트리에톡시실라닐프로필카바모일옥시)헥실옥시]페닐}아크릴레이트가 수득되었다.
λ최대(CH2Cl2): 323nm(ε= 19244).
출발물질로서 사용되는 메틸 (E)-3-[3-메톡시-4-(6-하이드록시헥실옥시)페닐]아크릴레이트를 하기의 절차에 따라서 제조하였다:
메틸 (E)-3-[3-메톡시-4-(6-하이드록시헥실옥시)페닐]아크릴레이트
0.5g의 메틸 (E)-4-하이드록시-3-메톡시시나메이트, 10ml의 2-부타논, 0.35ml의 6-브로모헥산올 및 1g의 분쇄 탄산칼륨의 혼합물을 5시간동안 환류하에서 가열하였다. 그런다음, 반응 혼합물을 냉각하였고, 에틸 아세테이트와 물사이에서 분배시켰다. 유기상을 황산마그네슘상에서 건조시켰고, 여과 및 증발시켰다. 톨루엔/에틸 아세테이트(1:1)로 100g의 실리카 겔상에서 크로마토그래피하면 무색 고형물로서 750ml의 메틸 (E)-3-[3-메톡시-4-(6-하이드록시헥실옥시)페닐]아크릴레이트가 수득되었다.. λ최대(CH2Cl2): 323nm(ε= 20513).
하기의 실란 유도체를 유사방법으로 제조할 수 있다:
메틸 (E)-3-{3-메톡시-4-[5-(3-트리에톡시실라닐프로필카바모일옥시)펜틸옥시]페닐}아크릴레이트;
메틸 (E)-3-{3-메톡시-4-[4-(3-트리에톡시실라닐프로필카바모일옥시)부틸옥시]페닐}아크릴레이트;
메틸 (E)-3-{3-메톡시-4-[3-(3-트리에톡시실라닐프로필카바모일옥시)프로필옥시]페닐}아크릴레이트;
메틸 (E)-3-{3-메톡시-4-[2-(3-트리에톡시실라닐프로필카바모일옥시)에톡시]페닐}아크릴레이트;
메틸 (E)-3-{4-[6-(3-트리에톡시실라닐프로필카바모일옥시)헥실옥시]페닐}아크릴레이트;
메틸 (E)-3-{3-플루오로-4-[6-(3-트리에톡시실라닐프로필카바모일옥시)헥실옥시]페닐}아크릴레이트;
메틸 (E)-3-{3-에톡시-4-[6-(3-트리에톡시실라닐프로필카바모일옥시)헥실옥시]페닐}아크릴레이트;
메틸 (E)-3-{3-펜틸옥시-4-[6-(3-트리에톡시실라닐프로필카바모일옥시)헥실옥시]페닐}아크릴레이트;
메틸 (E)-3-{2-메톡시-4-[6-(3-트리에톡시실라닐프로필카바모일옥시)헥실옥시]페닐}아크릴레이트; λ최대(CH2Cl2): 327nm(ε= 18095);
메틸 (E)-3-{2-메틸-4-[6-(3-트리에톡시실라닐프로필카바모일옥시)헥실옥시]페닐}아크릴레이트; (CH2Cl2): 315nm(ε= 18786);
메틸 (E)-3-{3-[6-(3-트리에톡시실라닐프로필카바모일옥시)헥실옥시]페닐}아크릴레이트; λ최대(CH2Cl2): 277nm(ε= 17200);
메틸 (E)-3-{4-플루오로-3-[6-(3-트리에톡시실라닐프로필카바모일옥시)헥실옥시]페닐}아크릴레이트;
메틸 (E)-3-{4-메톡시-3-[6-(3-트리에톡시실라닐프로필카바모일옥시)헥실옥시]페닐}아크릴레이트; λ최대(CH2Cl2): 322nm(ε= 17516);
메틸 (E)-3-{4-에톡시-3-[6-(3-트리에톡시실라닐프로필카바모일옥시)헥실옥시]페닐}아크릴레이트;
메틸 (E)-3-{4-펜틸옥시-3-[6-(3-트리에톡시실라닐프로필카바모일옥시)헥실옥시]페닐}아크릴레이트;
메틸 (E)-3-{4'-[6-(3-트리에톡시실라닐프로필카바모일옥시)헥실옥시]비페닐-4-일-}아크릴레이트;
메틸 트랜스-(E)-3-{4-[4-[3-(3-트리에톡시실라닐프로필카바모일옥시)프로필]시클로헥실]페닐}아크릴레이트;
메틸 트랜스-(E)-3-{4-[2-[3-(3-트리에톡시실라닐프로필카바모일옥시)프로필]시클로헥실]에틸}페닐}아크릴레이트;
메틸 트랜스-(E)-3-{4-[2-[3-(3-트리에톡시실라닐프로필카바모일옥시)프로필]시클로헥실]에톡시}페닐}아크릴레이트;
메틸 (E)-3-{3'-플루오로-4'-[6-(3-트리에톡시실라닐프로필카바모일옥시)헥실옥시]비페닐-4-일}아크릴레이트;
메틸 (E)-3-{3'-메톡시-4'-[6-(3-트리에톡시실라닐프로필카바모일옥시)헥실옥시]비페닐-4-일}아크릴레이트;
메틸 (E)-3-{3-플루오로-4'-[6-(3-트리에톡시실라닐프로필카바모일옥시)헥실옥시]비페닐-4-일}아크릴레이트;
메틸 (E)-3-{3-메톡시-4'-[6-(3-트리에톡시실라닐프로필카바모일옥시)헥실옥시]비페닐-4-일}아크릴레이트;
메틸 (E)-3-{4'-[6-(3-트리에톡시실라닐프로필카바모일옥시)헥실옥시]비페닐-3-일}아크릴레이트;
메틸 트랜스-(E)-3-{3-[4-[6-(3-트리에톡시실라닐프로필카바모일옥시)헥실옥시]시클로헥실]페닐}아크릴레이트;
실시예 4
메틸 (E)-3-{6-[6-(3-트리에톡시실라닐프로필카바모일옥시)헥실옥시]나프탈렌-2-일}아크릴레이트
500mg의 메틸 (E)-3-[6-(6-하이드록시헥실옥시)-나프탈렌-2-일]아크릴레이트, 25ml의 염화메틸렌, 0.376ml의 3-트리에톡시실라닐프로필 이소시아네이트 및 0.009ml의 디부틸틴 디라우레이트의 혼합물을 3시간동안 환류하에서 가열하였다. 이어서, 추가의 0.009ml의 디부틸틴 디라우레이트를 가했고, 상기 혼합물을 16시간동안 역류하에서 반응하였다. 이어서, 반응 용액을 실온으로 냉각하였고, 완전히 증발시켰고, 잔사를 에테르/헥산으로 150g의 실리카 겔상에서 크로마토그래피하였다. 무색 고형물로서 830mg의 메틸 (E)-3-{6-[6-(3-트리에톡시실라닐프로필카바모일옥시)헥실옥시]나프탈렌-2-일}아크릴레이트가 수득되었다. λ최대(CH2Cl2): 326nm(ε= 26200);
출발물질로서 사용된 메틸 3-[6-(6-하이드록시헥실옥시나프탈렌-2-일]아크릴레이트를 하기의 방법에 따라 제조하였다:
6-브로모-2-(6-하이드록시헥실옥시)나프탈렌
5g의 6-브로모-2-나프톨, 50ml의 디메틸 설폭시드, 3.3ml의 6-클로로헥산올, 7.1g의 요오드화칼륨 및 7.1g의 탄산칼륨(고진공의 80℃에서 분쇄 및 활성화됨)의 혼합물을 65℃로 16시간동안 가열하였다. 이어서, 상기 혼합물을 냉각하였고, 에틸 아세테이트와 물사이에서 분배시켰고, 유기상을 물로 수회 세척하였고, 황산마그네슘상에서 건조하였고, 여과 및 증발시켰다. 톨루엔/에틸 아세테이트(3:1)로 200g의 실리카 겔상에 잔사를 크로마토그래피하고 이어서 톨루엔/헥산(8:1)으로 결정화하여 무색 고형물로서 5.2g의 6-브로모-2-(6-하이드록시헥실옥시)-나프탈렌을 수득하였다.
메틸 (E)-3-[6-(6-하이드록시헥실옥시)나프탈렌-2-일]아크릴레이트
5.2g의 6-브로모-2-(6-하이드록시헥실옥시)나프탈렌, 25ml의 트리에틸아민, 4.3ml의 메틸 아크릴레이트, 0.072g의 팔라듐 아세테이트 및 0.392g의 트리-o- 톨일포스핀의 혼합물을 환류하에서 16시간동안 가열하였다. 반응을 완성하기 위해 추가의 0.177g의 팔라듐 아세테이트, 2.5g의 테트라부틸암노늄 브로마이드, 10ml의 디메틸포름아미드 및 2ml의 메틸 아크릴레이트를 가했고, 상기 혼합물을 추가로 24시간동안 환류하여 가열하였다. 이어서, 반응 혼합물을 냉각하였고, 에틸 아세테이트와 물사이에서 분배시키고, 유기상을 물로 세척하였고, 황산마그네슘상에서 건조하였고, 여과 및 증발시켰다. 잔사를 톨루엔/에틸 아세테이트(3:1 내지 1:1)로 250g의 실리카 겔상에서 크로마토그래피하였고, 계속하여 톨루엔으로 2회 결정화하였다. 무색 고형물로서 0.63g의 메틸 (E)-3-[6-(6-하이드록시헥실옥시)나프탈렌-2-일]아크릴레이트가 수득되었다. λ최대(CH2Cl2): 326nm(ε= 27660);
하기의 실란을 유사방법으로 합성할 수 있다:
메틸 (E)-3-{6-[2-(3-트리에톡시실라닐프로필카바모일옥시)에톡시]-나프탈렌-2-일}아크릴레이트;
메틸 (E)-3-{6-[3-(3-트리에톡시실라닐프로필카바모일옥시)프로필옥시]-나프탈렌-2-일}아크릴레이트;
메틸 (E)-3-{6-[4-(3-트리에톡시실라닐프로필카바모일옥시)부틸옥시]-나프탈렌-2-일}아크릴레이트;
메틸 (E)-3-{6-[5-(3-트리에톡시실라닐프로필카바모일옥시)펜틸옥시]-나프탈렌-2-일}아크릴레이트;
메틸 (E)-3-{6-[6-(2-트리에톡시실라닐에틸카바모일옥시)헥실옥시]-나프탈렌-2-일}아크릴레이트;
메틸 (E)-3-{4-[2-(3-트리에톡시실라닐프로필카바모일옥시)에톡시]-나프탈렌-1-일}아크릴레이트;
메틸 (E)-3-{4-[3-(3-트리에톡시실라닐프로필카바모일옥시)프로필옥시]-나프탈렌-1-일}아크릴레이트;
메틸 (E)-3-{4-[4-(3-트리에톡시실라닐프로필카바모일옥시)부틸옥시]-나프탈렌-1-일}아크릴레이트;
메틸 (E)-3-{4-[5-(3-트리에톡시실라닐프로필카바모일옥시)펜틸옥시]-나프탈렌-1-일}아크릴레이트;
메틸 (E)-3-{4-[6-(2-트리에톡시실라닐에틸카바모일옥시)헥실옥시]-나프탈렌-1-일}아크릴레이트.
실시예 5
메틸 트랜스-(E)-3-{4'-[4-(4-트리에톡시실라닐부틸)시클로헥실]비페닐-4-일}아크릴레이트
이 화합물을 메틸 트랜스-(E)-3-{4'-[4-(3-부테닐)시클로헥실]비페닐-4-일}아크릴레이트 및 트리에톡시실란으로부터 실시예 1과 유사하게 제조하였다.
출발물질로서 사용되는 메틸 트랜스-(E)-3-{4'-[4-(3-부테닐)시클로헥실]비페닐-4-일}아크릴레이트를 하기의 방법에 따라 제조하였다:
트랜스-4'-[4-(3-부테닐)-시클로헥실]비페닐-4-카복스알데히드
38.5ml의 디이소부틸알루미늄 하이드라이드 용액(톨루엔중에 20%)을 10분내에 0℃에서 150ml의 톨루엔중의 11.5g의 트랜스-4'-[4-(3-부테닐)-시클로헥실]-비페닐-4-카보니트릴(문헌 Mol Cryst. Liq. Cryst. 131, 327(1985)에 따라 제조됨)의 현탁액에 적가했다. 이어서, 반응 혼합물을 실온으로 천천히 가온시키고 다시 3.5시간동안 반응시켰다. 이어서, 1N의 질산을 천천히 적가하고 반응 혼합물을 1시간동안 교반시키고 물과 염화메틸렌사이에서 분배시켰다. 이어서, 유기상을 물로 수회 세척하였고, 황산마그네슘상에서 건조하였고, 여과 및 증발시켰다. 에틸 아세테이트/염화메틸렌으로부터 결정화하여 트랜스-4'-[4-(3-부테닐)-시클로헥실]비페닐-4-카복스알데히드를 수득하였다.
메틸 트랜스-(E)-3-{4'-[4-(3-부테닐)시클로헥실]비페닐-4-일-}아크릴레이트
27.6ml의 1.6N 부틸리튬 용액을 50ml의 무수 테트라하이드로푸란중의 6.4ml의 트리메틸 포스포노아세테이트의 용액에 0℃에서 10분이내에 적가했다. 상기 혼합물을 0℃에서 1.5시간동안 교반한다음 50ml의 무수 테트라하이드로푸란중의 11.5g의 조질의 트랜스-4'-[4-(3-부테닐)시클로헥실]-비페닐-4-카복스알데히드 용액을 동일한 온도에서 5분이내에 적가했다. 계속하여, 상기 혼합물을 실온으로 천천히 승온하였고, 15시간동안 반응시켰다. 이어서 상기 반응 혼합물을 염화메틸렌과 1N 염산사이에서 분배시켰고, 유기상을 포화 중탄산나트륨 용액 및 물로 세척하였고, 황산마그네슘상에서 건조시켰고, 증발시켰다. 에틸 아세테이트/헥산(1:9)으로 실리카 겔상에서 크로마토그래피하고 헥산/에틸 아세테이트로 계속적으로 반복하여 재결정화하여 메틸 트랜스-(E)-3-{4'-[4-(3-부테닐)시클로헥실-]비페닐-4-일}아크릴레이트를 수득하였다.
하기의 실란 유도체를 유사방법으로 제조할 수 있다:
메틸 트랜스-(E)-3-{4'-[4-(2-트리에톡시실라닐에틸)시클로헥실]-비페닐-4-일}아크릴레이트;
메틸 (E)-3-[4'-(4-트리에톡시실라닐부틸)비페닐-4-일-]아크릴레이트;
메틸 트랜스-(E)-3-{4-[4-(4-트리에톡시실라닐부틸)시클로헥실]-페닐}아크릴레이트;
메틸 트랜스-(E)-3-{4-{2-[4-(4-트리에톡시실라닐부틸)시클로헥실]-에틸}페닐}아크릴레이트;
메틸 트랜스-(E)-3-{4-{2-[4-(4-트리에톡시실라닐부틸)시클로헥실]-에톡시}페닐}아크릴레이트;
메틸 (E)-3-[3'-플루오로-4'-(4-트리에톡시실라닐부틸)비페닐-4-일]아크릴레이트;
메틸 (E)-3-[3'-메톡시-4'-(4-트리에톡시실라닐부틸)비페닐-4-일]아크릴레이트;
메틸 (E)-3-[3-플루오로-4'-(4-트리에톡시실라닐부틸)비페닐-4-일]아크릴레이트;
메틸 (E)-3-[3-메톡시-4'-(4-트리에톡시실라닐부틸)비페닐-4-일]아크릴레이트;
메틸 (E)-3-[4'-(4-트리에톡시실라닐부틸)비페닐-3-일]아크릴레이트;
메틸 트랜스-(E)-3-{3-[4-(4-트리에톡시실라닐부틸)시클로헥실]-페닐}아크릴레이트.
실시예 6
2-메톡시-4-[(E)2-메톡시카보닐비닐-]페닐 4-(4-트리클로로실라닐부틸옥시)벤조에이트
5ml의 트리클로로실란을 20ml의 무수 테트라하이드로푸란중의 0.1g의 H2PtCl6의 용액에 교반하면서 가했다. 20ml의 무수 테트라하이드로푸란중에 용해된 14.8g의 2-메톡시-4-[(E)2-메톡시카보닐비닐]페닐 4-(3-부테닐옥시)벤조에이트의 용액을 조심스럽게 여기에 가했다. 이어서, 상기 혼합물을 실온에서 5시간동안 교반한다음 50℃에서 16시간동안 교반하였다. 상기 반응 혼합물을 워터-제트(water-jet) 진공에서 농축시키고, 감압하에서 냉각 트랩을 갖는 오일 펌프상에 잔여 용매 및 트리클로로실란으로부터 완전히 유리시켰다. 조질의 2-메톡시-4-[(E)2-메톡시카보닐비닐]페닐 4-(4-트리클로로실라닐부틸옥시)벤조에이트를 수득하였고, 저장을 위해 무수 테트라하이드로푸란중에서 용해시켰다.
출발물질로서 요구되는 2-메톡시-4[(E)2-메톡시카보닐비닐]페닐 4-(4-트리클로로실라닐부틸옥시)벤조에이트를 실시예 2에 따라 제조한다.
하기의 실란 유도체를 유사방법으로 제조할 수 있다:
4-[(E)2-메톡시카보닐비닐]페닐 4-(4-트리클로로실라닐부틸옥시)벤조에이트;
3-[(E)2-메톡시카보닐비닐]페닐 4-(4-트리클로로실라닐부틸옥시)벤조에이트;
4-메톡시-3-[(E)2-메톡시카보닐비닐]페닐 3-(4-트리클로로실라닐부틸옥시)벤조에이트;
메틸 (E)-3-[4-(4-트리클로로실라닐부틸옥시)페닐]아크릴레이트;
메틸 (E)-3-[3-플루오로-4-(4-트리클로로실라닐부틸옥시)페닐]아크릴레이트;
메틸 (E)-3-[3-메톡시-4-(4-트리클로로실라닐부틸옥시)페닐]아크릴레이트;
메틸 (E)-3-[3-에톡시-4-(4-트리클로로실라닐부틸옥시)페닐]아크릴레이트;
메틸 (E)-3-[3-부틸옥시-4-(4-트리클로로실라닐부틸옥시)페닐]아크릴레이트;
메틸 (E)-3-[3-(4-트리클로로실라닐부틸옥시)페닐]아크릴레이트;
메틸 (E)-3-[4-플루오로-3-(4-트리클로로실라닐부틸옥시)페닐]아크릴레이트;
메틸 (E)-3-[4-메톡시-3-(4-트리클로로실라닐부틸옥시)페닐]아크릴레이트;
메틸 (E)-3-[4-에톡시-3-(4-트리클로로실라닐부틸옥시)페닐]아크릴레이트;
메틸 (E)-3-[4-펜틸옥시-3-(4-트리클로로실라닐부틸옥시)페닐]아크릴레이트;
메틸 (E)-3-[4-(8-트리클로로실라닐옥틸옥시)페닐]아크릴레이트;
메틸 (E)-3-[3-플루오로-4-(8-트리클로로실라닐옥틸옥시)페닐]아크릴레이트;
메틸 (E)-3-[3-메톡시-4-(8-트리클로로실라닐옥틸옥시)페닐]아크릴레이트;
메틸 (E)-3-[3-에톡시-4-(8-트리클로로실라닐옥틸옥시)페닐]아크릴레이트;
메틸 (E)-3-[3-펜틸옥시-4-(8-트리클로로실라닐옥틸옥시)페닐]아크릴레이트;
메틸 (E)-3-[3-(8-트리클로로실라닐옥틸옥시)페닐]아크릴레이트;
메틸 (E)-3-[4-플루오로-3-(8-트리클로로실라닐옥틸옥시)페닐]아크릴레이트;
메틸 (E)-3-[4-메톡시-3-(8-트리클로로실라닐옥틸옥시)페닐]아크릴레이트;
메틸 (E)-3-[4-에톡시-3-(8-트리클로로실라닐옥틸옥시)페닐]아크릴레이트;
메틸 (E)-3-[4-부틸옥시-3-(8-트리클로로실라닐옥틸옥시)페닐]아크릴레이트;
메틸 (E)-3-[4-(6-트리클로로실라닐헥사노일옥시)페닐]아크릴레이트;
메틸 (E)-3-[3-플루오로-4-(6-트리클로로실라닐헥사노일옥시)페닐]아크릴레이트;
메틸 (E)-3-[3-메톡시-4-(6-트리클로로실라닐헥사노일옥시)페닐]아크릴레이트;
메틸 (E)-3-[3-에톡시-4-(6-트리클로로실라닐헥사노일옥시)페닐]아크릴레이트;
메틸 (E)-3-[3-부틸옥시-4-(6-트리클로로실라닐헥사노일옥시)페닐]아크릴레이트;
메틸 (E)-3-[4-(5-트리클로로실라닐펜타노일옥시)페닐]아크릴레이트;
메틸 (E)-3-[4-플루오로-3-(6-트리클로로실라닐헥사노일옥시)페닐]아크릴레이트;
메틸 (E)-3-[4-메톡시-3-(6-트리클로로실라닐헥사노일옥시)페닐]아크릴레이트;
메틸 (E)-3-[4-에톡시-3-(6-트리클로로실라닐헥사노일옥시)페닐]아크릴레이트;
메틸 (E)-3-[4-부틸옥시-3-(6-트리클로로실라닐헥사노일옥시)페닐]아크릴레이트;
메틸 (E)-3-[4'-(4-트리클로로실라닐부틸옥시)비페닐-4-일]아크릴레이트;
메틸 트랜스-(E)-3-{4-[4-(4-트리클로로실라닐부틸)시클로헥실]페닐}아크릴레이트;
메틸 트랜스-(E)-3-{4{2-[4-(4-트리클로로실라닐부틸)시클로헥실]에틸}페닐}아크릴레이트;
메틸 트랜스-(E)-3-{4{2-[4-(4-트리클로로실라닐부틸)시클로헥실]에톡시}페닐}아크릴레이트;
메틸 (E)-3-[3'-플루오로-4'-(4-트리클로로실라닐부틸옥시)비페닐-4-일]아크릴레이트;
메틸 (E)-3-[3'-메톡시-4'-(4-트리클로로실라닐부틸옥시)비페닐-4-일]아크릴레이트.
실시예 7
광 가교결합가능층의 제조
0.02g의 메틸 3-{6-[6-(3-트리에톡시실라닐프로필카바모일옥시)-헥실옥시]나프탈렌-2-일}아크릴레이트를 톨루엔 및 에탄올(1:1)의 용매 혼합물 2ml중에 용해하였다. 세정된 유리판(19 x 26mm)을 30분동안 이 용액에 침지하였고, 100℃에서 추가로 30분동안 유지시켰다. 그 결과, 상기 처리된 유리판은 초음파 욕에서 10분동안 톨루엔으로 깨끗하게 되었다.
실시예 8
액정을 위한 배향층의 제조
실시예 7에 기술된 피복 유리판을 수은 고압 램프로부터의 선형 편광 자외선으로 3분동안 조사하였다. 이어서 액정층을 스핀 피복에 의해 조사층에 피복하였다. 편광 현미경하에서 배향된 액정 분자의 단일축 이중 굴절층을 관측할 수 있었다. 경사 보정판의 도움으로 배향방향은 실란층을 조사하는데 사용되는 자외선의 편광방향에 상응하는 것을 확인하였다.
실시예 9
규정된 경사각을 갖는 배향층의 제조
메틸 3-{6-[6-(3-트리에톡시실라닐프로필카바모일옥시)헥실옥시]나프탈렌-2-일}아크릴레이트로 실시예 7에 따라 피복된 2개의 유리판에 9분동안 선형 편광 자외선을 조사시키고, 빛의 입사방향을 수직판에 70°로 경사시켰다. 빛의 편광방향은 따라서 수직판과 입사방향사이에 연장하는 평면중에 놓인다. 편광 및 광 입사에 의해 두판을 조사시 생성된 특징적 방향들이 서로 평행하도록 두개의 판의 조사된 면이 내부를 향하도록 하여 20㎛의 판 분리를 갖는 액정 전지를 산출하였다. 이어서, 전지를 100℃의 온도에서 롤릭 에이지(ROLIC AG)의 액정 혼합물 3010으로 충진시켜 그 액정 혼합물을 충진기간동안 이방성 상이 되게 했다. 이어서, 전지를 1℃/분의 비율에서 실온으로 점차적으로 냉각하였다. 균일하게 배향된 액정층이 교차 편광자사이에서 인지되었다. 이 평행 전지의 경사각은 결정 회전법의 도움으로 1.3°로 측정되었다.
본 발명에 따라, 이미 사용된 신남산 중합체 및 실란의 단점, 즉 광화학적 장기간 안정성의 부족 및 주로 편광선을 조사한 후에 경사각의 부족을 갖지 않음으로써 안정한 고해상도 배향패턴을 생성할 수 있는 광반응성 실란을 제조할 수 있다.
본 발명은 예시적 양태 및 형태에 대해 예시 및 기술되고 있지만 본 발명의 한계 및 범주를 벗어남이 없이 다양한 변형 및 개선이 이루어질 수 있음을 당해 기술의 숙련자들은 명백히 알 수 있을 것이다. 따라서, 본 발명은 예시적인 양태 및 형태에 의해 제한되는 것은 아니다.
Claims (10)
- 화학식 (1)의 실란 화합물:화학식 1상기식에서,X1, X2및 X3는 알킬, 알콕시 또는 할로겐이고, 이들중 적어도 하나는 알콕시이거나 할로겐이고;S1은 하나이상의 불소, 염소 또는 시아노 치환체에 의해 선택적으로 치환된 -(CH2)r- 또는 화학식 -(CH2)r-L1-(CH2)s-L2-(L1및 L2는 각각 독립적으로 O, COO, OOC, NR2, NR2-CO, CO-NR2, NR2-COO, O-CO-NR2, CH=CH 또는 C≡C(R2는 수소 또는 저급알킬이다))로 이루어지는 그룹으로부터 선택되는 단일 결합 또는 가교결합 작용기이다)의 쇄에 의해 표시되는 직쇄 또는 분지된 알킬렌 그룹과 같은 스페이서 단위이고;r 및 s는 각각 전체 1 내지 20의 수이고(단, r+s ≤ 20);고리 A는 비치환되거나 불소, 염소, 시아노, 알킬 또는 알콕시로 선택적으로 치환된 페닐렌, 피리딘-2,5-디일, 피리미딘-2,5-디일, 1,3-디옥산-2,5-디일, 시클로헥산-1,4-디일, 피페리딘-1,4-디일 또는 피페라진-1,4-디일이고;고리 B는 비치환되거나 불소, 염소, 시아노, 알킬 또는 알콕시로 선택적으로 치환된 1,3-페닐렌 또는 1,4-페닐렌, 피리딘-2,5-디일, 피리미딘-2,5-디일, 1,4-나프틸렌, 2,6-나프틸렌, 1,3-디옥산-2,5-디일 또는 시클로헥산-1,4-디일인 페닐렌이고;Y1, Y2는 각각 독립적으로 단일 결합, -(CH2)t-, -O-, -CO-, -CO-O-, -O-OC-, -NR3-, -CO-NR3-, -R3N-CO-, -(CH2)u-O-, -O-(CH2)u-, -(CH2)u-NR3- 또는 -NR3-(CH2)u-이고(여기서 R3는 수소 또는 저급알킬이고, t는 전체 1 내지 4의 수이고, u는 전체 1 내지 3의 수이다);m, n은 각각 독립적으로 0 또는 1이고;고리 C는 비치환되거나, 불소, 염소, 시아노, 알킬 또는 알콕시로 선택적으로 치환된 1,3-페닐렌 또는 1,4-페닐렌, 피리미딘-2,5-디일, 피리미딘-3,5-디일, 피리딘-2,5-디일, 피리딘-2,4-디일, 피리딘-2,6-디일, 2,5-티오페닐렌, 2,5-푸라닐렌, 1,4-나프틸렌 또는 2,6-나프틸렌이고;Z는 -O- 또는 -NR4-(여기서 R4는 수소 또는 저급알킬이다) 또는 제 2 그룹의 화학식 D이고;D는 불소 또는 염소로 선택적으로 치환된 1 내지 20개의 탄소원자를 갖는 직쇄 또는 분지된 알킬 또는 불소, 염소, 알킬 또는 알콕시로 선택적으로 치환된 3 내지 8개의 고리원자를 갖는 시클로알킬 잔기이다.
- 제 1 항에 있어서,화학식 (1)에서,X1, X2, X3, S1, m 및 n은 제 1 항에서 정의된 바와 같고,고리 A는 비치환되거나 불소, 염소, 시아노, 알킬 또는 알콕시로 선택적으로 치환된 1,3-페닐렌 또는 1,4-페닐렌, 피리딘-2,5-디일, 피리미딘-2,5-디일 또는 시클로헥산-1,4-디일이고;고리 B는 비치환되거나 불소, 염소, 시아노, 알킬 또는 알콕시로 선택적으로 치환된 1,3-페닐렌 또는 1,4-페닐렌, 피리딘-2,5-디일, 피리미딘-2,5-디일, 1,4-나프틸렌, 2,6-나프틸렌 또는 시클로헥산-1,4-디일이고;Y1, Y2는 각각 독립적으로 단일 공유결합, -CH2CH2-, -O-, -CH2O-, -O-CH2-, -CO-O- 또는 -O-OC-이고;고리 C는 비치환되거나 불소, 염소, 시아노, 알킬 또는 알콕시로 선택적으로 치환된 1,3-페닐렌 또는 1,4-페닐렌, 피리미딘-2,5-디일, 피리딘-2,5-디일, 2,5-푸라닐렌 또는 1,4-나프틸렌 또는 2,6-나프틸렌이고;Z는 -O-이고;D는 1 내지 20개의 탄소원자를 갖는 직쇄 또는 분지된 알킬 또는 알킬 또는 알콕시, 특히 메틸 또는 메톡시로 선택적으로 치환된 5 또는 6개의 고리원자를 갖는 시클로알킬 잔기인 실란.
- 제 1 항 또는 제 2 항에 있어서,화학식 (1)에서,X1, X2, X3, S1, m은 제 1 항에서 정의된 바와 같고,n은 0이고;고리 B는 비치환되거나 불소, 염소, 시아노, 알킬 또는 알콕시로 선택적으로 치환된 1,3-페닐렌 또는 1,4-페닐렌, 피리딘-2,5-디일, 피리미딘-2,5-디일, 또는 시클로헥산-1,4-디일이고;Y2는 단일 공유결합, -CO-O- 또는 -O-OC-이고;고리 C는 비치환되거나 불소, 염소, 시아노, 알킬 또는 알콕시로 선택적으로 치환된 1,3-페닐렌 또는 1,4-페닐렌, 1,4-나프틸렌 또는 2,6-나프틸렌이고;Z는 -O-이고;D는 1 내지 12개의 탄소원자를 갖는 직쇄 또는 분지된 알킬인 실란.
- 제 3 항에 있어서,상기 화합물이메틸 (E)-3-[3-메톡시-4-(4-트리에톡시실라닐부틸옥시)페닐]아크릴레이트;3-메톡시-4-[(E) 2-메톡시카보닐비닐]페닐 4-(4-트리에톡시실라닐부틸옥시)벤조에이트;메틸 (E)-3-{3-메톡시-4-[6-(3-트리에톡시실라닐프로필카바모일옥시)헥실옥시]페닐}아크릴레이트;메틸 (E)-3-{6-[6-(3-트리에톡시실라닐프로필카바모일옥시)헥실옥시]나프탈렌-2-일}아크릴레이트;메틸 트랜스-(E)-3-{4'-[4-(4-트리에톡시실라닐부틸)시클로헥실]-비페닐-4-일}아크릴레이트;3-메톡시-4-[(E) 2-메톡시카보닐비닐]페닐 4-(4-트리클로로실라닐부틸옥시)벤조에이트로 이루어지는 그룹으로부터 선택되는 실란.
- 하나이상의 성분이 제 1 항에 정의된 화학식 (1)의 화합물인 두 개이상의 성분을 포함하는 가교결합가능한 혼합물.
- 제 5 항에 있어서,하나이상의 화학식 (1)의 화합물과 함께 하나이상의 화학식 (2)의 화합물을 함유하는 가교결합가능한 혼합물:화학식 2상기식에서, X1, X2, X3및 S1은 제 1 항에서 정의된 바와 같고;M은 화학식 (3)의 메소제닉 잔기, 저급알킬 또는 알콕시이고;화학식 3Y1, Y2, m 및 n은 제 1 항에서 정의된 바와 같고;A1, A2및 A3는 각각 독립적으로 비치환되거나 또는 불소, 염소, 시아노, 알킬 또는 알콕시로 선택적으로 치환된 페닐렌, 피리딘-2,5-디일, 피리미딘-2,5-디일, 2,6-나프틸렌, 1,3-디옥산-2,5-디일 또는 시클로헥산-1,4-디일이고, 이때 고리중의 최대한 하나는 페닐렌 또는 시클로헥실렌과 다르고;Q는 하나이상의 수소원자가 불소, 염소, 시아노 또는 니트로로 치환될 수 있는 저급알킬 또는 알콕시이다.
- 제 6 항에 있어서,n은 0이고;m은 0 또는 1이고;A2및 A3는 각각 독립적으로 페닐렌 또는 시클로헥실렌이고;Y2는 단일 공유결합, -CH2CH2-, -O-, -CH2-O-, -O-CH2-, -CO-O- 또는 -O-OCO-이고;Q는 선택적으로 불소로 치환된 저급알킬 또는 알콕시, 또는 불소, 염소 또는 시아노인 가교결합가능한 혼합물.
- 제 7 항에 있어서,m은 0이고;A3는 페닐렌 또는 시클로헥실렌이고;Q는 선택적으로 불소로 치환된 저급알킬 또는 알콕시인 가교결합가능한 혼합물.
- 액정용 배향층의 제조 및 광학적 성분에 사용되기 위한, 특히 혼성층 요소의 제조를 위한 제 1 항 내지 제 4 항중 어느 한 항에 따른 화합물의 용도.
- 액정용 배향층의 제조 및 광학적 성분에 사용되기 위한, 특히 혼성층 요소의 제조를 위한 제 5 항 내지 제 8 항중 어느 한 항에 따른 가교결합가능한 혼합물의 용도.
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
EP96117246.7 | 1996-10-28 | ||
EP96117246 | 1996-10-28 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
KR19980033196A true KR19980033196A (ko) | 1998-07-25 |
KR100518390B1 KR100518390B1 (ko) | 2006-01-27 |
Family
ID=8223334
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
KR1019970055214A KR100518390B1 (ko) | 1996-10-28 | 1997-10-27 | 광반응성그룹을함유하는실란유도체 |
Country Status (6)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US5965761A (ko) |
JP (1) | JPH10130282A (ko) |
KR (1) | KR100518390B1 (ko) |
CN (1) | CN1137126C (ko) |
DE (1) | DE59707681D1 (ko) |
HK (1) | HK1010548A1 (ko) |
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1997
- 1997-09-17 DE DE59707681T patent/DE59707681D1/de not_active Expired - Lifetime
- 1997-10-23 JP JP9290779A patent/JPH10130282A/ja active Pending
- 1997-10-24 US US08/957,096 patent/US5965761A/en not_active Expired - Lifetime
- 1997-10-27 KR KR1019970055214A patent/KR100518390B1/ko not_active IP Right Cessation
- 1997-10-28 CN CNB971212104A patent/CN1137126C/zh not_active Expired - Lifetime
-
1998
- 1998-11-03 HK HK98111699A patent/HK1010548A1/xx not_active IP Right Cessation
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
HK1010548A1 (en) | 1999-06-25 |
CN1137126C (zh) | 2004-02-04 |
US5965761A (en) | 1999-10-12 |
JPH10130282A (ja) | 1998-05-19 |
DE59707681D1 (de) | 2002-08-14 |
CN1181383A (zh) | 1998-05-13 |
KR100518390B1 (ko) | 2006-01-27 |
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