KR102667030B1 - 타임피스들을 위한 타임피스 컴포넌트들을 제조하는 방법 - Google Patents

Abstract

본 발명은 사용자에 의해 보여지도록 하는 상부 표면 및 림, 타임피스의 다이얼 또는 구조체에 놓이는 하부 표면 및 상기 하부 표면으로부터 돌출하는 적어도 하나의 풋을 포함하는 아플리케를 제조하는 방법에 관한 것이고, 본 방법은 바니쉬 처리된 아플리케를 획득할 수 있게 한다.

Description

타임피스들을 위한 타임피스 컴포넌트들을 제조하는 방법{METHOD FOR MANUFACTURING TIMEPIECE COMPONENTS FOR TIMEPIECES}

본 발명은 타임피스 컴포넌트들을 제조하는 방법에 관한 것이고, 보다 구체적으로 시간을 나타내는 숫자들의 전부 또는 일부를 대체하기 위하여, 고정 피트에 의해 타임피스의 다이얼 상에 부착되도록 하는 바니쉬 처리된 아플리케들에 관한 것이다. 이러한 방법은 또한 다이얼 또는 베젤의 제조를 위해 사용될 수 있다.

시권환 (hour-circle) 또는 세컨더리 다이얼에 배치된 아플리케는 트레이싱에 의해 또는 심지어 프린팅된 인상을 부여하는 실크스크린에 의해 대부분 종종 제조된다. 타임피스 아플리케는 특정 인상을 부여하는 것에 기여하는 것에 의한 타임피스, 특히 시계의 필수 엘리먼트들이다. 그 결과, 이들의 실행은 특히 세심하고, 매우 재현성있고, 어떠한 표면 상태 결함도 없어야 한다. 이들 외관 컴포넌트들의 매우 작은 크기 및 이들의 난이도 있는 그립에 의해 완벽한 실행이 어렵게 된다. 그 결과, 불합격률 (reject rate) 이 높아질 수 있다. 이 제조는 특히 심미적 효과를 얻기 위하여 아플리케가 바니쉬 또는 락커와 같은 코팅을 가질 때 훨씬 더 까다롭다. 바니쉬 처리된 아플리케의 경우, 지지부 상에 아플리케를 데포짓하고 이것에 바니쉬 층을 도포하는 것이 알려져 있다. 이 경우에 바니쉬는 아플리케 및 지지부 양쪽에 데포짓된다. 이후 캐필러리 작용에 의해 아플리케와 지지부 사이에 연결이 형성되어, 이후 외관이 용인하지 못할 정도로 악화된다.

본 발명의 일 목적은 가시적 부분들의 표면 조건을 보장하는 것에 의해 고품질 타임피스 아플리케를 제조하는 방법을 제공하는 것에 의해 이전에 언급된 결함들의 일부 또는 전부를 해결하는 것이다.

이를 위하여, 본 발명은 아플리케를 제조하는 방법에 관한 것으로, 하기 단계들을 포함한다:

-상부 면 및 하부 면을 갖는 베이스가 금속 재료에서 생성되는 단계;

-아플리케의 상부 표면 (2) 및 림 (3) 이, 미리 정의된 깊이로 베이스에서 상부 면으로부터 머시닝되는 단계;

-머시닝된 베이스가 세정되는 단계;

-바니쉬, 라커 또는 프린트 층이 상부 면을 덮도록 베이스의 머시닝된 상부 면 상에 데포짓되는 단계;

-데포짓된 바니쉬 층이 건조되는 단계;

-접착제 층이 적어도 전체 머시닝 깊이에 걸쳐 베이스의 상부 면 상에 데포짓되는 단계로서, 접착제 층은 바니쉬 층 상에 중첩되고, 접착제는 건조되는, 상기 접착제 층이 데포짓되는 단계;

-아플리케의 하부 표면 및 풋이, 베이스의 두께에서 상부 면의 머시닝된 깊이 만큼 작게 한 것 보다 더 큰 깊이로 베이스의 하부 면을 통해 머시닝되어, 이에 따라 아플리케는 접착제 층에 유지되어 형성되는, 상기 아플리케의 하부 표면 및 풋이 머시닝하는 단계;

-접착제를 용해하고 아플리케를 릴리즈하기 위하여, 베이스가 배스 내에 침지 (plunge) 되는 단계;

-아플리케가 그 전달을 고려하여 패키징되는 단계를 포함한다. 상기 아플리케를 제조하는 방법은 상기 베이스에서 머시닝된 상기 아플리케의 상기 상부 표면의 그리고 상기 림의 트리밍을 수행하는 단계; 상기 베이스의 전해 침출을 수행하는 단계를 더 포함할 수 있다.

본 발명의 다른 유리한 변형예들에 따르면 다음과 같다:

-방법은 바니쉬 층의 균질한 제거를 보장하기 위하여 베이스에서 머시닝되는 아플리케의 상부 표면 및 림을 버핑하고, 컬러의 라이트닝이 발현되도록 예리한 에지를 제거하는 단계를 포함하고;

-버핑에 이어, 지지체의 청정도를 보장하기 위하여 베이스를 전해 침출하는 단계가 후속하며;

-바니쉬 층은 20 ㎛ 와 100 ㎛ 사이의 두께를 가지며;

-바니쉬 층은 바람직하게 80 ℃ 에서 30분 동안 건조되고, 이후 140 ℃ 에서 60분 동안 건조된다.

-베이스는 금속 재료, 이를 테면, 황동, 알루미늄, 구리 또는 귀금속으로 형성된다.

-접착제 층은 바람직하게 45 ℃ 의 스토브에서 5 시간 동안 건조된다.

-베이스의 박리 배스 (ungluing bath) 는 바스켓에서 수행된다.

-접착제 층을 표면처리하는 단계는 하부 면의 머시닝 동안에 치수적으로 기준 표면을 획득하기 위하여 수행된다.

-베이스의 하부 면을 통한 아플리케의 머시닝은 적어도 하나의 커버링 엘리먼트 아래에서 그리고 아플리케의 림 보다 미소하게 더 큰 치수로 수행된다.

-아플리케의 하부 면을 형성하기 위하여 베이스의 하부 면을 통한 머시닝과 동시에 아플리케를 위한 적어도 하나의 풋이 형성된다.

본 발명은 또한 본 발명에 따른 적어도 하나의 아플리케를 포함하는 시계에 관한 것이다.

이들 특징들에 기인하여, 타임피스 아플리케를 제조하는 이러한 방법은 가시적 부품들의 완벽한 표면 조건을 가지면서 신속하게 아플리케를 제조할 수 있게 한다.

본 발명의 다른 특징들 및 이점들은 예시적이고 비제한적인 간단한 실시예로서 제공된 본 발명의 특정 실시 형태 및 첨부 도면들에 대한 이하의 설명을 읽으면서 더욱 명확해질 것이다.
-도 1 내지 도 6 은 본 발명에 따른 제조 방법의 여러 단계들을 예시한다.
-도 7 은 상부 면이 머시닝된 베이스의 평면도이다.
-도 8 및 도 9 는 상부 면을 통하여 머시닝되는 베이스 및 바니쉬 층을 수용하는 베이스의 단면도를 각각 나타낸다.
-도 10 은 상부 면을 통하여 머시닝되는 베이스의 사시도이다.

본 발명은 타임피스 아플리케 (1) 를 제조하는 방법에 관한 것이다.

"아플리케"는 오브젝트, 특히, 다이얼, 칼라, 플레이트, 브리지, 기타 유사물 상에 탑재된 부호, 지수, 숫자, 로고, 모노그램, 또는 유사물과 같은 사용자에 의해 보여지도록 되는 임의의 디스플레이 또는 데코레이션을 의미한다.

이러한 아플리케 (1) 는 사용자에 의해 보여지도록 하는 상부 표면 (2), 림 (3) 및 타임피스의 다이얼 또는 구조체 상에 놓이는 하부 표면 (4) 을 통상 포함한다.

이 하부 표면 (4) 이 이러한 디이얼 또는 구조체 상에 바로 접착될 수 있다면, 이는 일반적으로 적어도 하나의 풋 (5) 을 포함한다. 각각의 풋 (5) 은 이 하부 표면 (4) 으로부터 돌출하며, 보다 구체적으로, 이들에 제한되지 않은, 이러한 다이얼 또는 이러한 구조체 상에 고정되기 위하여, 하부 표면 (4) 에 대한 공간에서 특정 배향에 따라 돌출한다.

본 발명에 따르면, 이러한 아플리케 (1) 의 제조를 위하여, 다음 단계들이 연속적으로 수행된다:

- 상부 면 (11) 및 하부 면 (12) 을 갖는 베이스 (10) 가 금속 재료에서 생성된다;

- 아플리케 (1) 의 상부 표면 (2) 및 림 (3) 이, 미리 정의된 깊이 (P) 로 베이스에서 상부 면으로부터 머시닝된다;

- 머시닝된 베이스 (10) 가 세정된다;

- 바니쉬 층 (13) 이 상부 면을 덮도록 베이스 (10) 의 머시닝된 상부 면 상에 데포짓된다;

- 데포짓된 바니쉬 층 (13) 이 건조된다;

- 접착제 층 (14) 이 적어도 전체 머시닝 깊이에 걸쳐 베이스 (10) 의 상부 면 상에 데포짓되며, 접착제 층 (14) 은 바니쉬 층 (13) 상에 중첩되고, 접착제는 건조된다;

- 아플리케 (1) 의 하부 표면 (4) 및 풋 (5) 이, 베이스의 두께 (E) 에서 상부 면의 머시닝된 깊이 (P) 만큼 작게 한 것 보다 더 큰 깊이 (P') 로 베이스 (10) 의 하부 면 (12) 을 통해 머시닝되어, 이에 따라 아플리케는 접착제 층에 유지되어 형성된다;

- 접착제를 용해하고 아플리케 (1) 를 릴리즈하기 위하여, 베이스 (10) 가 배스 내에 침지된다;

- 아플리케 (1) 가 그 전달을 고려하여 패키징된다.

상부 표면 (2) 및 림 (3) 을 생성하기 위한 CNC 머신에 의한, 상부 표면 (2) 및 림 (3) 의 머시닝은 케이스에 의존하여, 단일의 툴 상에서, 또는 심지어 복수의 툴들 상에서 수행될 수도 있고, 각각은 특정 표면을 머시닝하는 동작에 대해 고유하다. 머시닝은 비제한적으로, 밀링, 그라인딩, 전기 침식, 레이저 또는 기타를 조합 또는 비조합한 여러 기법들을 구현할 수도 있다.

당연히, 아플리케 (1) 의 상부 표면 (2) 및 림 (3) 은 다소 복잡할 수도 있고, 복수의 기본 표면들, 이를 테면, 평평한 면, 측면 등등을 예를 들어 포함할 수도 있다. 상부 표면의 복잡도에 따라, 상부 표면 (2) 의 머시닝 및/또는 다이아몬드 폴리싱이 베이스에 대하여 적어도 5 개의 축을 따라 이동가능한 머시닝 및/또는 다이어몬드 폴리싱 유닛으로 수행된다.

베이스 (10) 는 금속 재료 또는 금속 합금, 이를 테면, 황동, 알루미늄 또는 귀금속으로 생성된다. 베이스 (10) 는 또한, 하부 표면 (4) 및 풋 (5) 이 머시닝될 때까지 제조 프로세스 동안에 아플리케 (1) 에 대한 지지체로서 사용된다.

본 발명의 특정 피처에 따르면, 베이스 (10) 에서 아플리케 (1) 의 상부 표면 (2) 및 림 (3) 의 머시닝은 후자의 상부 면으로부터 수행되고, 머시닝은 미리 정의된 깊이 (P) 를 갖는다. 유리하게, 머시닝의 깊이 (P) 는 아플리케 (1) 의 최종 높이 (H) 보다 더 크게 제공된다.

본 발명의 특징 피처에 따르면, 상부 표면 (2) 및 림 (3) 의 생성 후에, 머시닝된 베이스 (10) 가 초음파 세척을 통하여 이를 테면, 머시닝과 관련된 모든 먼지 또는 잔여물을 제거하기 위하여 그리고 바니쉬 층에서의 임의의 결함을 방지하기 위하여 세정된다.

더욱 구체적으로는 본 발명의 특정 피처에 따르면, 베이스 (10) 에서 머시닝된 아플리케 (1) 의 상부 표면 (2) 및 림 (3) 의 버핑은 바니쉬의 커버링력을 개선하고 아플리케의 에지들을 폴리싱하기 위하여 수행된다.

새로운 세정 단계는 버핑 후에 수행되고, 베이스는 전해 침출에 의해 세정된다.

본 발명의 일 변형예에 따르면, 베이스는 바니쉬 층의 저항을 촉진하기 위하여 표면 처리를 수용할 수도 있고, 이러한 처리는 예를 들어, 샌딩 또는 플라즈마 동작으로 구성될 수도 있다. 새로운 세정 단계가 이때 존재하는 불순물을 제거하기 위하여 필수적일 수도 있다.

본 발명의 특정 특징에 따르면, 바니쉬 층 (13) 이 베이스의 상부 면, 그리고 암묵적으로 아플리케 (1) 의 상부 표면 (2) 및 림 (3) 을 덮도록 베이스 (10) 의 머시닝된 상부 면에 데포짓된다. 바니쉬 층은 스프레이 동작에 의해 데포짓되며, 베이스의 경화가 또한 수행될 수도 있다. 바니쉬 층은 두께가 통상적으로 20 ㎛ 와 100 ㎛ 사이이도록 아플리케를 덮기 위한 충분한 두께를 갖는다.

그 다음, 이 바니쉬 층 (13) 은 80 ℃ 에서 30분 동안 건조되고, 이후 140 ℃ 에서 60분 동안 건조된다. 2 단계 건조는 느리고 규칙적인 폴리머화를 얻을 수 있게 하고 따라서 보다 양호한 바니쉬 두께의 균질성을 얻게 한다. 명백하게, 이 건조 단계의 파라미터들은 제조자에 의해 요청되는 특이성에 따라 변경될 수도 있다.

본 발명의 특정 특징에 따르면, 접착제 층 (14) 이 베이스 (10) 의 상부 면에 데포짓되고, 그리고 접착제 층 (14) 은 바니쉬 층 (13) 상에 중첩되어, 아플리케 (1) 의 상부 표면 (2) 및 림 (3) 을 덮도록 베이스의 머시닝된 상부 면을 엔벨로프한다. 유리하게, 접착제 층 (14) 은 머시닝의 적어도 전체 깊이에 걸쳐 데포짓되거나 또는 베이스의 상부 면에 의해 형성된 평면을 초과하도록 심지어 약간 더 많이 데포짓된다. 바람직하게, Prolaq® 타입의 수계 접착제가 후속 단계에서 접착제의 용해 동안에 바니쉬를 손상하는 것을 방지하는데 사용된다.

다음 단계는 데포짓된 접착제 층 (14) 을 건조하는 것으로 구성되고, 이를 위하여, 접착제로 코팅된 베이스가 45 ℃ 의 스토브에서 적어도 5 시간 동안 놓인다.

접착제 층 (14) 이 건조되면, 선택적인 라벨링 단계가 수행된다. 접착제 층은 예를 들어, 균질한 층을 얻기 위하여, 본 방법의 종료시 아플리케의 릴리즈를 가속화하기 위하여, 그리고 하부 면의 머시닝 동안에 치수적으로 평편한 기준 표면을 형성하기 위하여 표면처리하는 방식으로 머시닝된다.

본 발명의 특정 특징에 따르면, 아플리케 (1) 의 하부 표면 (4) 및 풋 (5) 은 베이스 (10) 의 하부 면 (12) 을 통하여 머시닝된다. 이 머시닝은 베이스 (10) 의 두께 (E) 에서 상부 면의 머시닝 깊이 (P) 만큼 적은 것 보다 더 큰 깊이 (P') 에서 수행된다, 즉, P'>(E-P).

베이스의 하부 면을 통한 아플리케 (1) 의 머시닝은 베이스로부터 아플리케를 분리하기 위하여 아플리케 (1) 의 림 (3) 보다 미소하게 더 큰 치수에서 수행되고, 이에 따라 형성된 아플리케는 베이스 (10) 에 더 이상 접속되지 않고, 그 후, 이전에 데포짓된 접착제 층 (14) 에 의해 유지된다.

본 발명의 특정 특징에 따르면, 베이스는 접착제를 용해하고 접착제 층으로부터 아플리케를 릴리즈하기 위하여 수용액 내에 침지된다. 용액에서의 베이스 (10) 의 배스는 릴리즈된 아플리케를 용이하게 복구가능하기 위하여 바스켓에서 수행된다.

여기에 설명된 경우에, 사용된 용액은 접착제를 용해하기 위하여 알칼리성 수용액이며, 베이스 (10) 는 접착제의 양호한 용해를 보장하도록 55 ℃ 에서 60분 동안 배스의 침출과 연속하여 침지된다. 명백하게 다른 수용액들이 선택된 접착제에 따라 사용될 수도 있고, 침출 시간 및 수용액의 온도는 사용된 접착제에 따라 변할 수 있다.

마지막으로 아플리케는 임의의 접착제 잔여물을 제거하기 위하여 한번 세정되어 건조될 수도 있다. 아플리케는 또한 발광성 재료의 데포짓과 같은 다른 데코레이티브 처리들을 받을 수 있다.

마지막으로, 아플리케가 그 전달을 고려하여 저장 팔레트에서 패키징된다.

또한, 본 발명은 적어도 하나의 아플리케 (1) 를 포함하는 시계에 관한 것이다.

물론, 본 발명은 예시된 예에 제한되지 않고, 당업자에게 명백할 다양한 변형 및 수정이 가능하다.

1: 아플리케
2: 상부 표면
3: 림
4: 하부 표면
5: 풋
10: 베이스
11: 상부 면
12: 하부 면
13: 바니쉬 층
14: 접착제 층
E: 베이스 두께
H: 아플리케 높이
P, P': 머시닝 깊이

Claims (11)

1. 사용자에 의해 보여지도록 하는 상부 표면 (2) 및 림 (3), 타임피스의 다이얼 또는 구조체에 놓이는 하부 표면 (4) 및 상기 하부 표면 (4) 으로부터 돌출하는 적어도 하나의 풋 (5) 을 포함하는 아플리케 (1) 를 제조하는 방법으로서,
   상기 방법은 하기 단계들:
   - 상부 면 (11) 및 하부 면 (12) 을 갖는 베이스 (10) 가 금속 재료에서 생성되는 단계;
   - 상기 아플리케 (1) 의 상기 상부 표면 (2) 및 상기 림 (3) 이, 미리 정의된 깊이 (P) 로 상기 베이스에서 상기 상부 면으로부터 머시닝되는 단계;
   - 머시닝된 상기 베이스가 세정되는 단계;
   - 상기 아플리케 (1) 의 상기 상부 표면 (2) 및 상기 림 (3) 이 버핑되는 단계;
   - 상기 베이스가 샌딩 또는 플라즈마 동작에 의해 표면 처리되는 단계;
   - 표면 처리된 상기 베이스가 세정되는 단계;
   - 바니쉬 층이 상기 상부 면, 상기 아플리케 (1) 의 상기 상부 표면 (2) 및 상기 림 (3) 을 커버링하도록 상기 베이스의 머시닝된 상부 면 상에 데포짓되는 단계;
   - 데포짓된 상기 바니쉬 층이 건조되는 단계;
   - 접착제 층 (14) 이 적어도 전체 머시닝 깊이에 걸쳐 상기 베이스 (10) 의 상부 면 상에 데포짓되는 단계로서, 상기 접착제 층은 상기 바니쉬 층 상에 중첩되고, 접착제는 건조되는, 상기 접착제 층이 데포짓되는 단계;
   - 상기 아플리케 (1) 의 상기 하부 표면 (4) 및 상기 풋 (5) 이, 상기 베이스 (10) 의 두께 (E) 에서, 상기 상부 면의 머시닝된 깊이 (P) 만큼 작게 한 것 보다 더 큰 깊이 (P') 로 상기 베이스 (10) 의 상기 하부 면 (12) 을 통해 머시닝되는 단계;
   - 상기 접착제 층 (14) 을 용해하고 상기 아플리케 (1) 를 릴리즈하기 위하여, 상기 베이스가 용액 (liquid solution) 의 배스 내에 침지 (plunge) 되는 단계;
   - 상기 아플리케가 그 전달을 고려하여 패키징되는 단계를 포함하고,
   상기 바니쉬 층 (13) 은 80 ℃ 에서 30분 동안 건조되고, 이후 140 ℃ 에서 60분 동안 건조되는, 아플리케 (1) 를 제조하는 방법.
2. 제 1 항에 있어서,
   - 상기 베이스 (10) 에서 머시닝된 상기 아플리케 (1) 의 상기 상부 표면 (2) 의 그리고 상기 림 (3) 의 트리밍을 수행하는 단계;
   - 상기 베이스 (10) 의 전해 침출을 수행하는 단계를 더 포함하는, 아플리케 (1) 를 제조하는 방법.
3. 제 1 항에 있어서,
   상기 바니쉬 층 (13) 은 20 ㎛ 와 100 ㎛ 사이의 두께를 갖는, 아플리케 (1) 를 제조하는 방법.
4. 삭제
5. 제 1 항에 있어서,
   상기 베이스 (10) 는 금속 재료로 생성되는, 아플리케 (1) 를 제조하는 방법.
6. 제 1 항에 있어서,
   상기 접착제 층 (14) 은 45 ℃ 의 스토브에서 5 시간 동안 건조되는, 아플리케 (1) 를 제조하는 방법.
7. 제 1 항에 있어서,
   상기 베이스의 배스는 바스켓에서 수행되는, 아플리케 (1) 를 제조하는 방법.
8. 제 1 항에 있어서,
   상기 접착제 층을 표면 처리하는 단계가 균일한 두께를 얻기 위해 수행되는, 아플리케 (1) 를 제조하는 방법.
9. 제 1 항에 있어서,
   상기 베이스 (10) 의 상기 하부 면 (12) 을 통한 상기 아플리케의 머시닝은 상기 커버링에서 이용되는 적어도 하나의 커버링 엘리먼트 아래에서 그리고 상기 아플리케 (1) 의 상기 림 (3) 보다 미소하게 더 큰 치수로 수행되는, 아플리케 (1) 를 제조하는 방법.
10. 제 9 항에 있어서,
    상기 아플리케 (1) 의 하부 면을 형성하기 위하여 상기 베이스의 하부 면을 통한 머시닝과 동시에 상기 아플리케 (1) 에 대해 적어도 하나의 풋 (5) 이 형성되는, 아플리케 (1) 를 제조하는 방법.
11. 제 1 항에 기재된 방법에 의해 제조된 적어도 하나의 아플리케 (1) 를 포함하는, 시계.

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