KR102654741B1 - 기판 처리 장치, 세정 유닛, 및, 다중 밸브 세정 방법 - Google Patents

기판 처리 장치, 세정 유닛, 및, 다중 밸브 세정 방법 Download PDF

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다카유키 노무라
도모노리 후지와라
도모노리 고지마루
가쓰에이 히가시
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가부시키가이샤 스크린 홀딩스
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Abstract

[과제] 다중 밸브를 효과적으로 세정한다.
[해결 수단] 기판 처리 장치는, 약액을 공급하기 위한 탱크와, 복수 종의 처리액을 선택적으로 공급 가능한 다중 밸브와, 다중 밸브로부터 공급되는 처리액을 이용하여 기판을 처리하는 처리액 노즐을 구비하고, 기판을 처리하기 위한 기판 처리 모드와, 적어도 다중 밸브를 세정하기 위한 세정 모드로 전환 가능하며, 세정 모드에서는, 처리액 노즐을 통하지 않고, 탱크와 다중 밸브를 통하는 경로인 세정 경로에 있어서, 탱크로부터 다중 밸브로 약액이 공급된다.

Description

기판 처리 장치, 세정 유닛, 및, 다중 밸브 세정 방법{SUBSTRATE PROCESSING APPARATUS, CLEANING UNIT, AND CLEANING METHOD FOR MULTIPLE VALVE}
본원 명세서에 개시되는 기술은, 기판 처리 기술에 관한 것이다. 처리 대상이 되는 기판에는, 예를 들면, 반도체 웨이퍼, 액정 표시 장치용 유리 기판, 유기EL(electroluminescence) 표시 장치 등의 flat panel display(FPD)용 기판, 광디스크용 기판, 자기 디스크용 기판, 광자기 디스크용 기판, 포토마스크용 유리 기판, 세라믹 기판, 전계 방출 디스플레이(field emission display, 즉, FED)용 기판, 또는, 태양전지용 기판 등이 포함된다.
기판 처리 장치에 있어서는, 기판의 처리에서 복수 종의 처리액을 이용하기 위해서, 복수 종의 처리액 중 하나를 선택적으로 공급 가능한 밸브 유닛인 다중 밸브가 설치되는 경우가 있다(예를 들면, 특허문헌 1을 참조).
일본국 특허공개 2019-012791호 공보
상기와 같은 다중 밸브는, 상류측에 접속된 복수의 배관으로부터 각각 처리액이 공급되는 구조이며, 배관 접속이 집중하는 개소이기 때문에 오염물이 모이기 쉽다. 한편, 구조가 복잡하기 때문에, 세정은 불충분해지기 쉽다는 문제가 있다.
본원 명세서에 개시되는 기술은, 이상에 기재된 문제를 감안하여 이루어진 것이며, 다중 밸브를 효과적으로 세정하기 위한 기술이다.
본원 명세서에 개시되는 기술의 제1 양태인 기판 처리 장치는, 약액을 공급하기 위한 탱크와, 기판을 처리하기 위한 복수 종의 처리액이 공급되고, 또한, 복수 종의 상기 처리액 중 적어도 하나를 선택적으로 공급 가능한 다중 밸브와, 상기 다중 밸브로부터 공급되는 상기 처리액을 이용하여 상기 기판을 처리하기 위한 처리액 노즐을 구비하고, 상기 기판을 처리하기 위한 기판 처리 모드와, 적어도 상기 다중 밸브를 세정하기 위한 세정 모드로 전환 가능하며, 상기 기판 처리 모드에서는, 상기 처리액 노즐에 공급된 상기 처리액에 의해 상기 기판이 처리되고, 상기 세정 모드에서는, 상기 처리액 노즐을 통하지 않고, 상기 탱크와 상기 다중 밸브를 통하는 경로인 세정 경로에 있어서, 상기 탱크로부터 상기 다중 밸브로 상기 약액이 공급된다.
본원 명세서에 개시되는 기술의 제2 양태인 기판 처리 장치는, 제1 양태인 기판 처리 장치에 관련하여, 상기 약액이, 복수 종의 상기 처리액 중 하나이다.
본원 명세서에 개시되는 기술의 제3 양태인 기판 처리 장치는, 제1 또는 제2 양태인 기판 처리 장치에 관련하여, 상기 세정 경로의, 상기 탱크의 하류, 또한, 상기 다중 밸브의 상류의 위치에 있어서, 상기 약액이 공급되는 복수의 공급 배관과, 복수의 상기 공급 배관에 걸쳐 접속되는 적어도 하나의 접속 배관을 추가로 구비한다.
본원 명세서에 개시되는 기술의 제4 양태인 기판 처리 장치는, 제3 양태인 기판 처리 장치에 관련하여, 상기 접속 배관은, 상기 다중 밸브를 수용하는 하우징 내에 수용된다.
본원 명세서에 개시되는 기술의 제5 양태인 기판 처리 장치는, 제3 또는 제4 양태인 기판 처리 장치에 관련하여, 상기 접속 배관은, 상기 탱크 및 상기 다중 밸브를 수용하는 하우징 내에 수용된다.
본원 명세서에 개시되는 기술의 제6 양태인 기판 처리 장치는, 제3 내지 제5 중 어느 하나의 양태인 기판 처리 장치에 관련하여, 상기 다중 밸브는, 복수의 상기 공급 배관 각각을 개폐시키는 복수의 선택 밸브를 구비하고, 상기 세정 모드에서는, 복수의 상기 공급 배관 중 적어도 하나가, 대응하는 상기 선택 밸브에 의해 개폐된다.
본원 명세서에 개시되는 기술의 제7 양태인 기판 처리 장치는, 제1 내지 제6 중 어느 하나의 양태인 기판 처리 장치에 관련하여, 상기 세정 모드에서는, 상기 세정 경로에 있어서 상기 약액이 순환한다.
본원 명세서에 개시되는 기술의 제8 양태인 기판 처리 장치는, 제7 양태인 기판 처리 장치에 관련하여, 린스액을 공급하기 위한 린스액 공급원과, 상기 다중 밸브 내를 흡인하는 흡인부를 추가로 구비하고, 상기 세정 모드에서는, 상기 세정 경로에 있어서의 상기 약액의 순환 후, 상기 다중 밸브에 상기 린스액이 공급되고, 또한, 상기 흡인부에 의해 상기 다중 밸브 내가 흡인된다.
본원 명세서에 개시되는 기술의 제9 양태인 기판 처리 장치는, 제8 양태인 기판 처리 장치에 관련하여, 상기 세정 모드에서는, 상기 세정 경로에 있어서의 상기 약액의 순환, 상기 약액의 순환 후의 상기 린스액의 공급, 및, 상기 린스액의 공급 후의 상기 다중 밸브 내의 흡인이 복수 회 반복된다.
본원 명세서에 개시되는 기술의 제10 양태인 기판 처리 장치는, 제1 내지 제7 중 어느 하나의 양태인 기판 처리 장치에 관련하여, 상기 세정 모드에서는, 상기 약액의 공급압이 변동한다.
본원 명세서에 개시되는 기술의 제11 양태인 세정 유닛은, 약액을 공급하기 위한 탱크와, 적어도 다중 밸브를 세정하기 위한 경로인 세정 경로를 형성하기 위한 세정 배관을 구비하고, 상기 다중 밸브는, 복수 종의 처리액이 공급되고, 또한, 복수 종의 상기 처리액 중 적어도 하나를 선택적으로 공급 가능하며, 상기 세정 경로는, 상기 탱크를 통하고, 상기 다중 밸브는, 상기 세정 경로에 있어서, 상기 탱크로부터 공급되는 상기 약액에 의해 세정되고, 상기 세정 배관은, 상기 다중 밸브에 대해 착탈 가능하다.
본원 명세서에 개시되는 기술의 제12 양태인 세정 유닛은, 제11 양태인 세정 유닛에 관련하여, 상기 세정 경로의, 상기 탱크의 하류, 또한, 상기 다중 밸브의 상류의 위치에 있어서, 상기 약액이 공급되는 복수의 공급 배관과, 복수의 상기 공급 배관에 걸쳐 접속되는 적어도 하나의 접속 배관을 추가로 구비한다.
본원 명세서에 개시되는 기술의 제13 양태인 세정 유닛은, 제12 양태인 세정 유닛에 관련하여, 상기 다중 밸브는, 복수의 상기 공급 배관 각각을 개폐시키는 복수의 선택 밸브를 구비하고, 복수의 상기 공급 배관 중 적어도 하나가, 대응하는 상기 선택 밸브에 의해 개폐된다.
본원 명세서에 개시되는 기술의 제14 양태인 세정 유닛은, 제11 내지 제13 중 어느 하나의 양태인 세정 유닛에 관련하여, 상기 세정 경로에 있어서 상기 약액이 순환한다.
본원 명세서에 개시되는 기술의 제15 양태인 세정 유닛은, 제11 내지 제14 중 어느 하나의 양태인 세정 유닛에 관련하여, 린스액을 공급하기 위한 린스액 공급원과, 상기 다중 밸브 내를 흡인하는 흡인부를 추가로 구비하고, 상기 세정 경로에 있어서의 상기 약액의 순환 후, 상기 다중 밸브에 상기 린스액이 공급되고, 또한, 상기 흡인부에 의해 상기 다중 밸브 내가 흡인된다.
본원 명세서에 개시되는 기술의 제16 양태인 세정 유닛은, 제15 양태인 세정 유닛에 관련하여, 상기 세정 경로에 있어서의 상기 약액의 순환, 상기 약액의 순환 후의 상기 린스액의 공급, 및, 상기 린스액의 공급 후의 상기 다중 밸브 내의 흡인이 복수 회 반복된다.
본원 명세서에 개시되는 기술의 제17 양태인 다중 밸브 세정 방법은, 기판을 처리하기 위한 복수 종의 처리액이 공급되고, 또한, 복수 종의 상기 처리액 중 적어도 하나를 선택적으로 공급 가능한 상태에서 기판 처리 장치에 접속된 다중 밸브를 세정하는 다중 밸브 세정 방법으로서, 상기 기판 처리 장치는, 약액을 공급하기 위한 탱크와, 상기 다중 밸브로부터 공급되는 상기 처리액을 이용하여 상기 기판을 처리하기 위한 처리액 노즐을 구비하고, 상기 기판 처리 장치는, 상기 기판을 처리하기 위한 기판 처리 모드와, 적어도 상기 다중 밸브를 세정하기 위한 세정 모드로 전환 가능하며, 상기 기판 처리 모드에서는, 상기 처리액 노즐에 공급된 상기 처리액에 의해 상기 기판이 처리되고, 상기 세정 모드에서는, 상기 처리액 노즐을 통하지 않고, 상기 탱크와 상기 다중 밸브를 통하는 경로인 세정 경로에 있어서, 상기 탱크로부터 상기 다중 밸브로 상기 약액이 공급되고, 상기 세정 모드에서, 상기 다중 밸브를 세정하는 공정을 구비한다.
본원 명세서에 개시되는 기술 중 적어도 제1, 11, 17 양태에 의하면, 처리액 노즐을 통하지 않는 세정 경로에 약액을 공급함으로써, 다중 밸브를 효과적으로 세정할 수 있다.
또, 본원 명세서에 개시되는 기술에 관련되는 목적과, 특징과, 국면과, 이점은, 이하에 나타내어지는 상세한 설명과 첨부 도면에 의해, 더욱 명백해진다.
도 1은, 실시 형태에 관한, 기판 처리 장치의 구성의 예를 개략적으로 나타내는 평면도이다.
도 2는, 도 1에 예가 나타내어진 제어부의 구성의 예를 나타내는 도면이다.
도 3은, 실시 형태에 관한 기판 처리 장치의 구성 중, 각각의 처리 유닛에 배관을 통해 접속되는 구조의 예를 나타내는 도면이다.
도 4는, 처리 유닛의 구성의 예를 나타내는 도면이다.
도 5는, 실시 형태에 관한 기판 처리 장치의 구성 중, 각각의 처리 유닛에 배관을 통해 접속되는 구조의 변형예를 나타내는 도면이다.
도 6은, 실시 형태에 관한 기판 처리 장치의 구성 중, 각각의 처리 유닛에 배관을 통해 접속되는 구조의 다른 변형예를 나타내는 도면이다.
도 7은, 세정 모드에 있어서 떼내어진 다중 밸브를 수용하도록 구성된, 캐비닛의 구성의 예를 나타내는 도면이다.
도 8은, 다중 밸브를 수용하도록 구성된, 세정 유닛의 구성의 예를 나타내는 도면이다.
이하, 첨부되는 도면을 참조하면서 실시 형태에 대해 설명한다. 이하의 실시 형태에서는, 기술의 설명을 위해서 상세한 특징 등도 나타내어지는데, 그들은 예시이며, 실시 형태가 실시 가능해지기 위해서 그들 모두가 반드시 필수의 특징은 아니다.
또한, 도면은 개략적으로 나타내어지는 것이며, 설명의 편의를 위하여, 적절히, 구성의 생략, 또는, 구성의 간략화가 도면에 있어서 이루어지는 것이다. 또, 상이한 도면에 각각 나타내어지는 구성 등의 크기 및 위치의 상호 관계는, 반드시 정확히 기재되는 것이 아니고, 적절히 변경될 수 있는 것이다. 또, 단면도가 아닌 평면도 등의 도면에 있어서도, 실시 형태의 내용을 이해하는 것을 용이하게 하기 위해서, 해칭이 부여되는 경우가 있다.
또, 이하에 나타내어지는 설명에서는, 동일한 구성 요소에는 같은 부호를 달아 나타내고, 그들의 명칭과 기능에 대해서도 동일한 것으로 한다. 따라서, 그들에 대한 상세한 설명을, 중복을 피하기 위해서 생략하는 경우가 있다.
또, 본원 명세서에 기재되는 설명에 있어서, 어느 구성 요소를 「구비한다」, 「포함한다」 또는 「가진다」 등으로 기재되는 경우, 특별히 언급하지 않는 한은, 다른 구성 요소의 존재를 제외하는 배타적인 표현은 아니다.
또, 본원 명세서에 기재되는 설명에 있어서, 「제1」 또는 「제2」 등의 서수가 이용되는 경우가 있어도, 이들 용어는, 실시 형태의 내용을 이해하는 것을 용이하게 하기 위해서 편의상 이용되는 것이며, 이들 서수에 의해 발생할 수 있는 순서 등으로 한정되는 것은 아니다.
또, 본원 명세서에 기재되는 설명에 있어서, 「상」, 「하」, 「좌」, 「우」, 「측」, 「저」, 「표(表)」 또는 「리(裏)」 등의 특정 위치 또는 방향을 의미하는 용어가 이용되는 경우가 있어도, 이들 용어는, 실시 형태의 내용을 이해하는 것을 용이하게 하기 위해서 편의상 이용되는 것이며, 실제로 실시될 때의 위치 또는 방향과는 관계되지 않는 것이다.
또, 본원 명세서에 기재되는 설명에 있어서, 「…의 상면」 또는 「…의 하면」 등으로 기재되는 경우, 대상이 되는 구성 요소의 상면 자체 또는 하면 자체에 더하여, 대상이 되는 구성 요소의 상면 또는 하면에 다른 구성 요소가 형성된 상태도 포함하는 것으로 한다. 즉, 예를 들면, 「갑의 상면에 설치되는 을」이라고 기재되는 경우, 갑과 을 사이에 별도의 구성 요소 「병」이 개재하는 것을 방해하는 것은 아니다.
＜실시 형태＞
이하, 본 실시 형태에 관한 기판 처리 장치, 및, 세정 유닛에 대해 설명한다.
＜기판 처리 장치의 구성에 대하여＞
도 1은, 본 실시 형태에 관한 기판 처리 장치(1)의 구성의 예를 개략적으로 나타내는 평면도이다. 기판 처리 장치(1)는, 로드 포트(601)와, 인덱서 로봇(602)과, 센터 로봇(603)과, 제어부(90)와, 적어도 1개의 처리 유닛(600)(도 1에 있어서는 4개의 처리 유닛)을 구비한다.
처리 유닛(600)은, 기판 처리에 이용할 수 있는 매엽식의 장치이며, 구체적으로는, 기판(W)에 부착되어 있는 유기물을 제거하는 처리를 행하는 장치이다. 기판(W)에 부착되어 있는 유기물은, 예를 들면, 사용 완료된 레지스트 막이다. 당해 레지스트 막은, 예를 들면, 이온 주입 공정용의 주입 마스크로서 이용된 것이다.
또한, 처리 유닛(600)은, 챔버(180)를 가질 수 있다. 그 경우, 챔버(180) 내의 분위기를 제어부(90)에 의해 제어함으로써, 처리 유닛(600)은, 원하는 분위기 중에 있어서의 기판 처리를 행할 수 있다.
제어부(90)는, 기판 처리 장치(1)에 있어서의 각각의 구성의 동작을 제어할 수 있다. 캐리어(C)는, 기판(W)을 수용하는 수용기이다. 또, 로드 포트(601)는, 복수의 캐리어(C)를 유지하는 수용기 유지 기구이다. 인덱서 로봇(602)은, 로드 포트(601)와 기판 재치부(604) 사이에서 기판(W)을 반송할 수 있다. 센터 로봇(603)은, 기판 재치부(604) 및 처리 유닛(600) 사이에서 기판(W)을 반송할 수 있다.
이상의 구성에 의해, 인덱서 로봇(602), 기판 재치부(604) 및 센터 로봇(603)은, 각각의 처리 유닛(600)과 로드 포트(601) 사이에서 기판(W)을 반송하는 반송 기구로서 기능한다.
미처리의 기판(W)은 캐리어(C)로부터 인덱서 로봇(602)에 의해 꺼내진다. 그리고, 미처리의 기판(W)은, 기판 재치부(604)를 통해 센터 로봇(603)에 수도(受渡)된다.
센터 로봇(603)은, 당해 미처리의 기판(W)을 처리 유닛(600)에 반입한다. 그리고, 처리 유닛(600)은 기판(W)에 대해 처리를 행한다.
처리 유닛(600)에 있어서 처리 완료된 기판(W)은, 센터 로봇(603)에 의해 처리 유닛(600)으로부터 꺼내진다. 그리고, 처리 완료된 기판(W)은, 필요에 따라 다른 처리 유닛(600)을 경유한 후, 기판 재치부(604)를 통해 인덱서 로봇(602)에 수도된다. 인덱서 로봇(602)은, 처리 완료된 기판(W)을 캐리어(C)에 반입한다. 이상에 의해, 기판(W)에 대한 처리가 행해진다.
도 2는, 도 1에 예가 나타내어진 제어부(90)의 구성의 예를 나타내는 도면이다. 제어부(90)는, 전기 회로를 가지는 일반적인 컴퓨터에 의해 구성되어 있어도 된다. 구체적으로는, 제어부(90)는, 중앙 연산 처리 장치(central processing unit, 즉, CPU)(91), 리드 온리 메모리(read only memory, 즉, ROM)(92), 랜덤 액세스 메모리(random access memory, 즉, RAM)(93), 기록 장치(94), 입력부(96), 표시부(97) 및 통신부(98)와, 이들을 서로 접속하는 버스 라인(95)을 구비한다.
ROM(92)은 기본 프로그램을 저장하고 있다. RAM(93)은, CPU(91)가 소정의 처리를 행할 때의 작업 영역으로서 이용된다. 기록 장치(94)는, 플래시 메모리 또는 하드 디스크 장치 등의 불휘발성 기록 장치에 의해 구성되어 있다. 입력부(96)는, 각종 스위치 또는 터치 패널 등에 의해 구성되어 있고, 유저로부터 처리 레시피 등의 입력 설정 지시를 받는다. 표시부(97)는, 예를 들면, 액정 표시 장치 및 램프 등에 의해 구성되어 있고, CPU(91)의 제어 하, 각종 정보를 표시한다. 통신부(98)는, local area network(LAN) 등을 통한 데이터 통신 기능을 갖는다.
기록 장치(94)에는, 도 1의 기판 처리 장치(1)에 있어서의 각각의 구성의 제어에 대한 복수의 모드가 미리 설정되어 있다. CPU(91)가 처리 프로그램(94P)을 실행함으로써, 상기의 복수의 모드 중 하나의 모드가 선택되고, 당해 모드에서 각각의 구성이 제어된다. 또한, 처리 프로그램(94P)은, 외부의 기록 매체에 기록되어 있어도 된다. 이 기록 매체를 이용하면, 제어부(90)에 처리 프로그램(94P)을 인스톨할 수 있다. 또, 제어부(90)가 실행하는 기능의 일부 또는 전부는, 반드시 소프트웨어에 의해 실현될 필요는 없고, 전용의 논리 회로 등의 하드웨어에 의해 실현되어도 된다.
도 3은, 본 실시 형태에 관한 기판 처리 장치(1)의 구성 중, 각각의 처리 유닛(600)에 배관을 통해 접속되는 구조의 예를 나타내는 도면이다.
도 3에 예가 나타내어지는 바와 같이, 기판 처리 장치(1)는, 캐비닛(30)과, 캐비닛(40)과, 캐비닛(50)과, 유체 박스(60)와, 유체 박스(70)와, 처리 유닛(600A)과, 처리 유닛(600B)을 구비한다. 또한, 캐비닛의 수는, 도 3에 나타내어지는 수로 한정되는 것은 아니다. 또, 유체 박스는, 1개의 처리 유닛에 대해 1개 구비되어 있으면 된다. 또, 처리 유닛(600A) 및 처리 유닛(600B)은, 도 1에 나타내어진 처리 유닛(600)과 동등한 것이다.
캐비닛(30)은, 약액 탱크(32)와, 밸브(34)와, 펌프(36)와, 필터(38)를 구비한다. 약액 탱크(32)에는, 기판(W)의 처리에 이용되는 약액(예를 들면, H2O2, NH4OH, O3 또는 IPA 등의 유기 용제 등), 후술하는 다중 밸브의 세정에 이용되는 약액, 또는, 그들에 겸용되는 약액이 저류되어 있다. 밸브(34), 펌프(36) 및 필터(38)는, 약액 탱크(32)에 접속되는 배관인 공급 배관(39)에 각각 설치된다.
약액 탱크(32)에 저류되어 있는 약액은, 제어부(90)의 제어에 의해 개폐가 조정되는 밸브(34)가 열려 있는 상태에서, 동일하게 제어부(90)의 제어에 의해 동작하는 펌프(36)에 의해 필터(38)를 통과하면서 공급 배관(39) 내를 흐르고, 하류의 유체 박스(60), 또한, 처리 유닛(600A) 등으로 흐른다.
캐비닛(40)은, 약액 탱크(42)와, 밸브(44)와, 펌프(46)와, 필터(48)를 구비한다. 약액 탱크(42)에는, 기판(W)의 처리에 이용되는 약액, 후술하는 다중 밸브의 세정에 이용되는 약액, 또는, 그들에 겸용되는 약액이 저류되어 있다. 밸브(44), 펌프(46) 및 필터(48)는, 약액 탱크(42)에 접속되는 배관인 공급 배관(49)에 각각 설치된다.
약액 탱크(42)에 저류되어 있는 약액은, 제어부(90)의 제어에 의해 개폐가 조정되는 밸브(44)가 열려 있는 상태에서, 동일하게 제어부(90)의 제어에 의해 동작하는 펌프(46)에 의해 필터(48)를 통과하면서 공급 배관(49) 내를 흐르고, 하류의 유체 박스(60), 또, 처리 유닛(600A) 등으로 흐른다.
캐비닛(50)은, 약액 탱크(52)와, 밸브(54)와, 펌프(56)와, 필터(58)를 구비한다. 약액 탱크(52)에는, 기판(W)의 처리에 이용되는 약액, 후술하는 다중 밸브의 세정에 이용되는 약액, 또는, 그들에 겸용되는 약액이 저류되어 있다. 밸브(54), 펌프(56) 및 필터(58)는, 약액 탱크(52)에 접속되는 배관인 공급 배관(59)에 각각 설치된다.
약액 탱크(52)에 저류되어 있는 약액은, 제어부(90)의 제어에 의해 개폐가 조정되는 밸브(54)가 열려 있는 상태에서, 동일하게 제어부(90)의 제어에 의해 동작하는 펌프(56)에 의해 필터(58)를 통과하면서 공급 배관(59) 내를 흐르고, 하류의 유체 박스(60), 또, 처리 유닛(600A) 등으로 흐른다.
또, 순수 공급원으로부터 공급되는 린스액으로서의 순수도, 순수 공급원에 접속되는 공급 배관(100) 내를 흐르고, 하류의 유체 박스(60), 또, 처리 유닛(600A) 등으로 흐른다.
공급 배관(39)은, 유체 박스(60) 이외의 유체 박스(예를 들면, 유체 박스(70) 또는 도시하지 않은 다른 유체 박스)에도 접속되어, 각각의 유체 박스로 약액 탱크(32) 내의 약액을 흐르게 한다.
공급 배관(49)은, 유체 박스(60) 이외의 유체 박스(예를 들면, 유체 박스(70) 또는 도시하지 않은 다른 유체 박스)에도 접속되어, 각각의 유체 박스로 약액 탱크(32) 내의 약액을 흐르게 한다.
공급 배관(59)은, 유체 박스(60) 이외의 유체 박스(예를 들면, 유체 박스(70) 또는 도시하지 않은 다른 유체 박스)에도 접속되어, 각각의 유체 박스로 약액 탱크(32) 내의 약액을 흐르게 한다.
공급 배관(100)은, 유체 박스(60) 이외의 유체 박스(예를 들면, 유체 박스(70) 또는 도시하지 않는 다른 유체 박스)에도 접속되어, 각각의 유체 박스로 린스액으로서의 순수를 흐르게 한다.
유체 박스(60)는, 공급 밸브(62A), 공급 밸브(62B), 공급 밸브(62C) 및 공급 밸브(62D)와, 접속 배관(64E)과, 접속 배관(64F)과, 접속 배관(64G)과, 접속 밸브(66E)와, 접속 밸브(66F)와, 접속 밸브(66G)와, 다중 밸브(68)와, 개방 밸브(65)와, 공급 밸브(67)와, 배액 밸브(69)를 구비한다.
공급 밸브(62A), 공급 밸브(62B), 공급 밸브(62C) 및 공급 밸브(62D)는, 상류측으로부터 접속하는 각각의 배관(예를 들면, 공급 배관(39), 공급 배관(49), 공급 배관(59) 및 공급 배관(100))에 설치되는 밸브이다.
접속 배관(64E)은, 공급 밸브(62A) 및 공급 밸브(62B)의 하류에 있어서, 공급 밸브(62A)가 설치되는 배관과 공급 밸브(62B)가 설치되는 배관에 걸치는 배관이다.
접속 배관(64F)은, 공급 밸브(62B) 및 공급 밸브(62C)의 하류에 있어서, 공급 밸브(62B)가 설치되는 배관과 공급 밸브(62C)가 설치되는 배관에 걸치는 배관이다.
접속 배관(64G)은, 공급 밸브(62C) 및 공급 밸브(62D)의 하류에 있어서, 공급 밸브(62C)가 설치되는 배관과 공급 밸브(62D)가 설치되는 배관에 걸치는 배관이다.
접속 밸브(66E)는, 접속 배관(64E)에 설치되는 밸브이다. 접속 밸브(66F)는, 접속 배관(64F)에 설치되는 밸브이다. 접속 밸브(66G)는, 접속 배관(64G)에 설치되는 밸브이다.
다중 밸브(68)는, 공급 밸브(62A), 공급 밸브(62B), 공급 밸브(62C) 및 공급 밸브(62D) 각각에 대응하는 복수의 배관에 접속되고, 또한, 당해 복수의 배관 중 적어도 하나를 선택하여 하류의 공급 배관(61)으로 흐르게 할 수 있는 밸브이다.
개방 밸브(65)는, 공급 밸브가 설치된 어느 하나의 배관에 있어서의 접속 밸브의 하류, 또한, 다중 밸브(68)의 상류에서, 분기하는 배관에 설치되는 밸브이다. 개방 밸브(65)는, 배관 내에 공기 또는 불활성 가스(예를 들면, 질소)를 도입하거나, 또는, 배관 내를 흡인하기(즉, 배관 내를 배기하기) 위한 밸브이다.
공급 밸브(67)는, 다중 밸브(68)의 하류의 공급 배관(61)에 설치되는 밸브이다. 공급 밸브(67)가 제어부(90)의 제어에 의해 열려 있는 상태에서, 다중 밸브(68)로부터 공급된 처리액이, 처리 유닛(600A)으로 공급된다.
배액 밸브(69)는, 공급 배관(61)에 있어서의 다중 밸브(68)의 하류, 또한, 공급 밸브(67)의 상류에서, 분기하는 배관에 설치되는 밸브이다. 배액 밸브(69)는, 배관 내의 처리액을 배출하기 위한 밸브이다.
여기서, 처리액이란, 약액 탱크(32), 약액 탱크(42) 및 약액 탱크(52)에 저류되어 있는 약액에 한정되지 않고, 예를 들면, 순수(DIW) 등의 린스액, 또는, 이들의 혼합액도 포함하는 것이다.
유체 박스(70)는, 공급 밸브(72A), 공급 밸브(72B), 공급 밸브(72C) 및 공급 밸브(72D)와, 접속 배관(74E)과, 접속 배관(74F)과, 접속 배관(74G)과, 접속 밸브(76E)와, 접속 밸브(76F)와, 접속 밸브(76G)와, 다중 밸브(78)와, 개방 밸브(75)와, 공급 밸브(77)와, 배액 밸브(79)를 구비한다.
공급 밸브(72A), 공급 밸브(72B), 공급 밸브(72C) 및 공급 밸브(72D)는, 상류측으로부터 접속하는 각각의 배관에 설치되는 밸브이다.
접속 배관(74E)은, 공급 밸브(72A) 및 공급 밸브(72B)의 하류에 있어서, 공급 밸브(72A)가 설치되는 배관과 공급 밸브(72B)가 설치되는 배관에 걸치는 배관이다.
접속 배관(74F)은, 공급 밸브(72B) 및 공급 밸브(72C)의 하류에 있어서, 공급 밸브(72B)가 설치되는 배관과 공급 밸브(72C)가 설치되는 배관에 걸치는 배관이다.
접속 배관(74G)은, 공급 밸브(72C) 및 공급 밸브(72D)의 하류에 있어서, 공급 밸브(72C)가 설치되는 배관과 공급 밸브(72D)가 설치되는 배관에 걸치는 배관이다.
접속 밸브(76E)는, 접속 배관(74E)에 설치되는 밸브이다. 접속 밸브(76F)는, 접속 배관(74F)에 설치되는 밸브이다. 접속 밸브(76G)는, 접속 배관(74G)에 설치되는 밸브이다.
다중 밸브(78)는, 공급 밸브(72A), 공급 밸브(72B), 공급 밸브(72C) 및 공급 밸브(72D) 각각에 대응하는 복수의 배관에 접속되고, 또한, 당해 복수의 배관 중 적어도 하나를 선택하여 하류의 공급 배관(71)으로 흐르게 할 수 있는 밸브이다.
개방 밸브(75)는, 공급 밸브가 설치된 어느 하나의 배관에 있어서의 접속 밸브의 하류, 또한, 다중 밸브(78)의 상류에서, 분기하는 배관에 설치되는 밸브이다. 개방 밸브(75)는, 배관 내에 공기 또는 불활성 가스(예를 들면, 질소)를 도입하거나, 또는, 배관 내를 흡인하기 위한 밸브이다.
공급 밸브(77)는, 다중 밸브(78)의 하류의 공급 배관(71)에 설치되는 밸브이다. 공급 밸브(77)가 제어부(90)의 제어에 의해 열려 있는 상태에서, 다중 밸브(78)로부터 공급된 처리액이, 처리 유닛(600B)에 공급된다.
배액 밸브(79)는, 공급 배관(71)에 있어서의 다중 밸브(78)의 하류, 또한, 공급 밸브(77)의 상류에서, 분기하는 배관에 설치되는 밸브이다. 배액 밸브(79)는, 배관 내의 처리액을 배출하기 위한 밸브이다.
다중 밸브(68)는, 상류측으로부터 접속하는 복수의 배관(예를 들면, 공급 배관(39), 공급 배관(49), 공급 배관(59) 및 공급 배관(100))에 걸쳐 접속되는 접속부(68A)와, 접속부(68A)의 상류측에 있어서, 복수의 배관 각각에 설치되는 선택 밸브(68B), 선택 밸브(68C), 선택 밸브(68D) 및 선택 밸브(68E)와, 접속부(68A)의 하류측에 있어서, 접속부(68A)에 접속되는 공급 배관(61)에 설치되는 선택 밸브(68F)를 구비한다.
다중 밸브(68)에 있어서의, 선택 밸브(68B), 선택 밸브(68C), 선택 밸브(68D) 및 선택 밸브(68E) 중 적어도 하나, 및, 선택 밸브(68F)가 열려 있는 상태에서, 상류측으로부터 공급된 처리액이, 다중 밸브(68)를 통해 처리 유닛(600A)에 공급된다.
다중 밸브(78)는, 상류측으로부터 접속하는 복수의 배관에 걸쳐 접속되는 접속부(78A)와, 접속부(78A)의 상류측에 있어서, 복수의 배관 각각에 설치되는 선택 밸브(78B), 선택 밸브(78C), 선택 밸브(78D) 및 선택 밸브(78E)와, 접속부(78A)의 하류측에 있어서, 접속부(78A)에 접속되는 공급 배관(71)에 설치되는 선택 밸브(78F)를 구비한다.
다중 밸브(78)에 있어서의, 선택 밸브(78B), 선택 밸브(78C), 선택 밸브(78D) 및 선택 밸브(78E) 중 적어도 하나, 및, 선택 밸브(78F)가 열려 있는 상태에서, 상류측으로부터 공급된 처리액이, 다중 밸브(78)를 통해 처리 유닛(600B)으로 공급된다. 여기서, 다중 밸브(68)가, 복수의 선택 밸브(즉, 선택 밸브(68B), 선택 밸브(68C), 선택 밸브(68D) 및 선택 밸브(68E))가 연직 방향을 따라 늘어서도록 배치되는 경우, 선택 밸브(68E)에 순수 공급원으로부터의 순수(DIW)가 공급되는 것이 바람직하다.
제어부(90)는, 각각의 캐비닛에 있어서의 밸브의 개폐 및 펌프의 출력을 제어함으로써, 유체 박스로 처리액을 공급시킨다. 그리고, 제어부(90)는, 유체 박스에 있어서의 각각의 밸브의 개폐 및 다중 밸브(68)에 설치되는 각각의 밸브의 개폐를 제어함으로써, 다중 밸브(68)에 공급되는 각각의 처리액의 유량을 조정하여, 대응하는 처리 유닛(600)으로 처리액을 공급시킨다.
＜처리 유닛에 대하여＞
도 4는, 처리 유닛(600)의 구성의 예를 나타내는 도면이다. 도 4에 예가 나타내어지는 바와 같이, 처리 유닛(600)은, 1장의 기판(W)을 대략 수평 자세로 유지하면서, 기판(W)의 중앙부를 지나는 연직인 회전축선(Z1) 둘레로 기판(W)을 회전하게 하는 스핀 척(10)과, 기판(W)에 처리액을 토출하는 처리액 노즐(20)과, 처리액 노즐(20)이 단부에 장착된 노즐 아암(22)과, 기판(W)의 회전축선(Z1) 둘레로 스핀 척(10)을 둘러싸는 통형상의 처리 컵(12)을 구비한다.
처리액 노즐(20)은, 복수 종의 처리액이 상정되는 경우에는, 각각의 처리액에 대응하여 복수 설치되어 있어도 된다. 처리액 노즐(20)은, 기판(W)의 상면에 처리액을 토출한다.
스핀 척(10)은, 대략 수평 자세의 기판(W)의 하면을 진공 흡착하는 원판형상의 스핀 베이스(10A)와, 스핀 베이스(10A)의 중앙부로부터 하방으로 연장되는 회전축(10C)과, 회전축(10C)을 회전시킴으로써, 스핀 베이스(10A)에 흡착되어 있는 기판(W)을 회전시키는 스핀 모터(10D)를 구비한다. 또한, 스핀 척(10) 대신에, 스핀 베이스의 상면 외주부로부터 상방으로 돌출하는 복수의 척 핀을 구비하고, 당해 척 핀에 의해 기판(W)의 주연부를 협지하는 협지식의 척이 이용되어도 된다.
노즐 아암(22)은, 아암부(22A)와, 축체(22B)와, 액추에이터(22C)를 구비한다. 액추에이터(22C)는, 축체(22B)의 축 둘레의 각도를 조정한다. 아암부(22A)의 한쪽 단부는 축체(22B)에 고정되어 있으며, 아암부(22A)의 다른쪽 단부는 축체(22B)의 축으로부터 멀어져서 배치된다. 또, 아암부(22A)의 다른쪽 단부에는, 처리액 노즐(20)이 장착되어 있다. 그렇게 함으로써, 처리액 노즐(20)은, 기판(W)의 반경 방향으로 요동 가능하게 구성된다. 또한, 요동에 의한 처리액 노즐(20)의 이동 방향은, 기판(W)의 반경 방향의 성분을 가지고 있으면 되고, 기판(W)의 반경 방향에 엄밀하게 평행일 필요는 없다. 여기서, 노즐 아암(22)은, 도시하지 않는 모터 등에 의해, 연직 방향으로 승강 가능해도 된다. 그 경우, 노즐 아암(22)의 단부에 장착된 처리액 노즐(20)과 기판(W)의 상면 사이의 거리를, 노즐 아암(22)의 승강에 의해 조정 가능하다.
제어부(90)는, 스핀 모터(10D)의 회전 수를 제어하면서, 처리액 노즐(20)로부터 처리액을 기판(W)의 상면으로 토출시킨다. 또, 제어부(90)는, 액추에이터(22C)의 구동을 제어함으로써, 처리액 노즐(20)을 기판(W)의 상면에 있어서 요동시킨다.
＜기판 처리 장치의 동작에 대하여＞
다음에, 도 1~도 4를 참조하면서, 본 실시 형태에 관한 기판 처리 장치(1)의 동작을 설명한다.
인덱서 로봇(602)은, 로드 포트(601)에 있어서의 캐리어(C)로부터 기판 재치부(604)로 기판(W)을 반송한다. 센터 로봇(603)은, 기판 재치부(604)로부터 1개의 처리 유닛(600)으로 기판(W)을 반송한다. 처리 유닛(600)은, 기판(W)을 처리한다. 센터 로봇(603)은, 처리 유닛(600)으로부터 기판 재치부(604)로 기판(W)을 반송한다. 인덱서 로봇(602)은, 기판 재치부(604)로부터 로드 포트(601)에 있어서의 캐리어(C)로 기판(W)을 반송한다.
상기의 기판(W)의 처리는, 기판 처리 장치(1)가 기판 처리 모드로 설정된 상태에서 행해진다. 기판 처리 모드에서는, 우선, 제어부(90)의 제어에 의해, 캐비닛(30), 캐비닛(40), 캐비닛(50) 및 도시하지 않는 처리액(순수를 포함한다)의 공급원 중 적어도 하나로부터, 기판(W)의 처리에 이용되는 처리액을 공급한다.
다음에, 제어부(90)의 제어에 의해, 기판(W)의 처리를 행하는 처리 유닛(600)(여기에서는, 처리 유닛(600A)으로 한다)에 대응하는 유체 박스(여기에서는, 유체 박스(60)로 한다)에 있어서, 공급되는 처리액이 흐르는 적어도 하나의 배관에 설치되어 있는 밸브(즉, 공급 밸브(62A), 공급 밸브(62B), 공급 밸브(62C) 및 공급 밸브(62D) 중 적어도 하나)가 열리고, 처리액이 다중 밸브(68)에 공급된다.
이때, 접속 배관(64E)에 설치된 접속 밸브(66E), 접속 배관(64F)에 설치된 접속 밸브(66F), 접속 배관(64G)에 설치된 접속 밸브(66G), 및, 개방 밸브(65)는, 각각 닫혀 있다. 단, 개방 밸브(65)는, 필요에 따라, 배관 내에 공기 또는 불활성 가스를 도입한다.
다음에, 제어부(90)의 제어에 의해, 선택 밸브(68B), 선택 밸브(68C), 선택 밸브(68D), 선택 밸브(68E) 및 선택 밸브(68F) 중 적어도 하나의 개폐를 조정하고, 접속부(68A)를 통해, 처리액을 다중 밸브(68)의 하류측으로 공급한다.
다음에, 제어부(90)의 제어에 의해, 공급 밸브(67)가 열리고, 처리액이 대응하는 처리 유닛(600A)으로 공급된다. 단, 배액 밸브(69)는, 기판(W)의 처리에 이용되는 처리액을 조정하기 때문에, 필요에 따라, 배관 내의 처리액을 배출한다.
한편, 기판 처리 장치(1)는, 다중 밸브(68)를 포함하는 배관 구조 등을 세정하기 위한 모드인 세정 모드로 전환 가능하다. 당해 전환은, 이하에 나타내어지는 바와 같이, 주로 배관 구조에 있어서의 밸브의 개폐에 의해 행해진다.
세정 모드에서는, 우선, 제어부(90)의 제어에 의해, 캐비닛(30), 캐비닛(40), 캐비닛(50) 및 도시하지 않는 처리액(순수를 포함한다)의 공급원 중 적어도 하나로부터, 다중 밸브(68)를 포함하는 배관 구조의 세정에 이용되는 처리액을 공급한다.
다음에, 제어부(90)의 제어에 의해, 세정의 대상이 되는 유체 박스(여기에서는, 유체 박스(60)로 한다)에 있어서, 공급되는 처리액이 흐르는 적어도 하나의 배관에 설치되어 있는 밸브(즉, 공급 밸브(62A), 공급 밸브(62B), 공급 밸브(62C) 및 공급 밸브(62D) 중 적어도 하나)가 열리고, 처리액이 다중 밸브(68)에 공급된다.
이때, 접속 배관(64E)에 설치된 접속 밸브(66E), 접속 배관(64F)에 설치된 접속 밸브(66F) 및 접속 배관(64G)에 설치된 접속 밸브(66G)는, 각각 열려 있다. 따라서, 유체 박스(60)에 공급된 처리액은, 다중 밸브(68)의 선택 밸브(68B), 선택 밸브(68C), 선택 밸브(68D) 및 선택 밸브(68E)에, 동시에 공급 가능하다.
또한, 접속 밸브(66E), 접속 밸브(66F) 및 접속 배관(64G) 중 적어도 하나를 닫음으로써, 다중 밸브(68)의 선택 밸브(68B), 선택 밸브(68C), 선택 밸브(68D) 및 선택 밸브(68E) 중 일부만을 세정하는 것도 가능하다.
또, 제어부(90)의 제어에 의해, 선택 밸브(68B), 선택 밸브(68C), 선택 밸브(68D), 선택 밸브(68E) 및 선택 밸브(68F) 중 적어도 하나의 개폐를 조정하고, 접속부(68A)를 통해, 처리액을 다중 밸브(68)의 하류측으로 공급한다.
여기서, 접속부(68A)의 상류측에 위치하는 선택 밸브(68B), 선택 밸브(68C), 선택 밸브(68D) 및 선택 밸브(68E) 중 적어도 하나에 있어서, (예를 들면, 2초 간격으로 반복되는)개폐 동작에 의해 급격한 유속의 변화가 생기면, 관 내의 압력 변동에 의해 배관을 진동시키는 워터 해머가 발생하는 경우가 있다. 또, 관 내의 압력 변동에 의해 발포하는 캐비테이션이 발생하는 경우가 있다.
이러한 현상은, 세정 모드에 있어서는 세정 대상에게 물리적인 충격을 줄 수 있는 것이며, 세정 효과를 높일 수 있다.
또, 제어부(90)의 제어에 의해, 공급 밸브(67)가 닫히고, 또한, 배액 밸브(69)가 열려, 다중 밸브(68)의 세정에 이용된 처리액이 배출된다.
또한, 배액 밸브(69)로 흘러간 처리액을, 동종의 처리액이 저류되는 약액 탱크 또는 도시하지 않는 공급원으로 순환시켜도 된다. 이 경우에는, 세정 모드에서 사용되는 처리액의 양을 줄일 수 있다.
또, 상기와 같은 세정 모드에서의 세정을, 우선 약액을 이용하여 행하고, 또한, 이용하는 처리액을 순수(DIW)로 변경하여 세정을 행하고, 마지막으로, 개방 밸브(65)를 이용하여 다중 밸브(68)를 포함하는 배관 내를 흡인하는 방법을 이용해도 된다. 또한, 약액 공급 후에 린스액(순수) 공급하고, 또한, 배관 내를 흡인하는 사이클을 복수 회 반복해도 된다.
이러한 방법에 의하면, 약액 및 순수에 의해, 배관 내에 잔존하는 세정 대상의 물질을 씻어내고, 또한, 세정 대상의 물질을 포함할 수 있는 약액 및 순수를 흡인함으로써, 세정 효과를 높일 수 있다. 또한, 발명자들의 실험에 의하면, 약액 및 순수에 의해 세정을 행한 후에 흡인을 하는 경우에는, 흡인을 행하지 않고 약액 및 순수에 의한 세정을 장시간(예를 들면, 24시간) 행하는 경우보다, 약액 및 순수를 이용하는 세정을 단시간(예를 들면 2시간에서 6시간) 행하고, 그때마다, 세정 후에 흡인을 행하는 편이, 세정 효과가 높음을 알 수 있다.
이상과 같이, 기판 처리 장치(1)는, 세정 모드에 있어서, 다중 밸브(68)를 포함하는 배관 구조를 세정할 수 있다. 따라서, 배관 내에 잔존하는 세정 대상의 물질을 제거하고, 기판 처리 모드에 있어서, 처리액에 있어서의 불순물이 적은 상태를 유지하면서, 기판 처리를 행할 수 있다.
여기서, 세정 모드에 있어서 형성되는 처리액이 공급되는 경로를 세정 경로라고 칭한다. 상기의 경우에서는, 세정 경로는, 어느 하나의 약액 탱크로부터 공급 배관을 통해 유체 박스 내의 다중 밸브에 이르고, 또한, 다중 밸브의 하류에 위치하는 배액 밸브(69)(또는 배액 밸브(79))가 설치되는 배관에 이르기까지의 경로에 상당한다. 공급 밸브(67)가 닫힘으로써, 약액 탱크로부터 다중 밸브에 이르는 세정 경로가, 처리액 노즐(20)을 포함하지 않는 경로로서 형성된다.
또, 세정 모드에 있어서 배관 구조를 세정하기 위해서 이용되는 처리액을 저류하는 약액 탱크는, 기판 처리에 이용되는 처리액을 저류하는 약액 탱크와 겸용 가능하다. 그 때문에, 배관 구조를 세정하기 위해서 이용되는 처리액을 저류하는 약액 탱크를 별도 설치할 필요가 없다. 또, 복수의 약액 탱크를 구비하고 있으면, 세정 대상이 되는 물질에 따라 복수의 약액을 구분하여 사용해서 세정을 행할 수 있다.
또, 복수의 유체 박스에 있어서의 다중 밸브(68)를 동시에 세정하는 것도 가능하다. 이에 의해, 세정 시간을 단축하는 것이 가능해진다. 또, 각각 상이한 약액을 유체 박스에 공급함으로써, 세정 대상에 대한 약액의 효과의 비교 등을 효율적으로 행할 수 있다.
또, 일부의 유체 박스만으로 한정하면, 다른 유체 박스에서는 기판 처리 모드에서 기판 처리를 행할 수 있기 때문에, 기판 처리 장치(1) 전체적으로는, 기판 처리를 중단하지 않고 세정을 행할 수 있다.
또, 세정 모드에 있어서의 약액의 공급압을, 캐비닛에 있어서의 펌프의 출력 조정, 밸브의 개폐 조정, 선택 밸브의 개폐 조정 등에 따라 변동시켜도 된다.
또한, 세정 모드에서는, 처리액 노즐(20)이 기판(W)의 상방으로부터 퇴피하도록, 액추에이터(22C)의 구동에 의해 처리액 노즐(20)을 이동시켜 두어도 되는데, 처리액 노즐(20)이 기판(W)의 상방에 위치한 채여도 된다. 세정 모드에서는, 공급 밸브(67)가 닫히기 때문에, 세정 모드에서 사용되는 처리액이 처리 유닛(600)에 도달하는 일이 없다. 따라서, 처리액 노즐(20)이 기판(W)의 상방에 위치한 채여도, 처리액에 의해 기판(W)이 오염되는 일이 없다.
＜기판 처리 장치의 구성의 변형예에 대하여＞
도 5는, 본 실시 형태에 관한 기판 처리 장치(1A)의 구성 중, 각각의 처리 유닛(600)에 배관을 통해 접속되는 구조의 변형예를 나타내는 도면이다.
도 5에서는 도 3에 있어서의 경우와 달리, 유체 박스(160) 내에는, 공급 밸브(62D) 이외의 공급 밸브, 접속 배관, 및, 접속 밸브가 설치되어 있지 않다. 마찬가지로, 유체 박스(170) 내에는, 공급 밸브(72D) 이외의 공급 밸브, 및, 접속 밸브가 설치되어 있지 않다. 또한, 공급 밸브(62D) 및 공급 밸브(72D)가, 대응하는 유체 박스보다 상류측에 설치되어 있어도 된다.
그 대신에, 각각의 캐비닛의 하류, 또한, 유체 박스의 상류에, 대응하는 배관 및 밸브가 설치되어 있다.
즉, 캐비닛의 하류, 또한, 유체 박스의 상류의 공급 배관(39)에 있어서, 공급 밸브(162A)가 설치되고, 캐비닛의 하류, 또한, 유체 박스의 상류의 공급 배관(49)에 있어서, 공급 밸브(162B)가 설치되고, 캐비닛의 하류, 또한, 유체 박스의 상류의 공급 배관(59)에 있어서, 공급 밸브(162C)가 설치된다.
또, 접속 배관(164E)이, 공급 밸브(162A) 및 공급 밸브(162B)의 하류에 있어서, 공급 밸브(162A)가 설치되는 배관과 공급 밸브(162B)가 설치되는 배관에 걸쳐 설치된다.
또, 접속 배관(164F)이, 공급 밸브(162B) 및 공급 밸브(162C)의 하류에 있어서, 공급 밸브(162B)가 설치되는 배관과 공급 밸브(162C)가 설치되는 배관에 걸쳐 설치된다.
또, 접속 배관(164G)이, 공급 밸브(162C)의 하류에 있어서, 공급 밸브(162C)가 설치되는 배관과 공급 배관(100)에 걸쳐서 설치된다.
또, 접속 밸브(166E)가, 접속 배관(164E)에 설치된다. 또, 접속 밸브(166F)가, 접속 배관(164F)에 설치된다. 접속 밸브(166G)가, 접속 배관(164G)에 설치된다.
이러한 구성에 있어서, 도 3에 있어서의 경우와 마찬가지로, 기판 처리 모드와 세정 모드가 전환되면서, 처리가 행해진다.
구체적으로는, 기판 처리 모드에 있어서는, 제어부(90)의 제어에 의해, 기판(W)의 처리에 이용되는 처리액을 저류하는 캐비닛(여기에서는, 캐비닛(30)으로 한다)에 대응하는 밸브(즉, 공급 밸브(162A))가 열리고, 처리액이 유체 박스(160)로 공급된다.
이때, 접속 밸브(166E), 접속 밸브(166F) 및 접속 밸브(166G)는, 각각 닫혀 있다.
다음에, 제어부(90)의 제어에 의해, 공급 밸브(67)가 열리고, 처리액이 대응하는 처리 유닛(600A)에 공급된다.
한편, 세정 모드에 있어서는, 제어부(90)의 제어에 의해, 다중 밸브(68)를 포함하는 배관 구조의 세정에 이용되는 처리액을 저류하는 캐비닛(여기에서는, 캐비닛(30)으로 한다)에 대응하는 밸브(즉, 공급 밸브(162A))가 열리고, 처리액이 유체 박스(160)에 공급된다.
이때, 접속 밸브(166E), 접속 밸브(166F) 및 접속 밸브(166G)는, 각각 열려 있다. 따라서, 유체 박스(160)에 공급된 처리액은, 다중 밸브(68)의 선택 밸브(68B), 선택 밸브(68C), 선택 밸브(68D) 및 선택 밸브(68E)에, 동시에 공급 가능하다.
다음에, 제어부(90)의 제어에 의해, 공급 밸브(67)가 닫히고, 또한, 배액 밸브(69)가 열려, 다중 밸브(68)의 세정에 이용된 처리액이 배출된다.
이상과 같이, 기판 처리 장치(1A)는, 세정 모드에 있어서, 다중 밸브(68)를 포함하는 배관 구조를 세정할 수 있다.
또, 도 3에 나타내어진 기판 처리 장치에 의해 발휘되는 효과에 더하여, 접속 배관 및 접속 밸브를 각각의 유체 박스보다 상류측에 설치함으로써, 각각의 유체 박스 내에서 이들 구성을 설치하는 경우에 비해, 구성을 간이화할 수 있다.
도 6은, 본 실시 형태에 관한 기판 처리 장치(1B)의 구성 중, 각각의 처리 유닛(600)에 배관을 통해 접속되는 구조의 다른 변형예를 나타내는 도면이다. 또한, 도 6에 있어서는, 도 3에 나타내어진 구성과 동일한 구성에 대해, 일부 도시가 생략되어 있다.
도 6에서는 도 3에 있어서의 경우와 달리, 유체 박스(260)에 있어서의 어느 하나의 공급 밸브(즉, 공급 밸브(62A), 공급 밸브(62B), 공급 밸브(62C) 및 공급 밸브(62D) 중 어느 하나)가 설치되는 배관의 하류에 있어서, 배관 구조의 세정을 위해서 이용되는 약액을 공급하기 위한 공급 배관(239)이 접속되어 있다. 마찬가지로, 유체 박스(270)에 있어서의 어느 하나의 공급 밸브(즉, 공급 밸브(72A), 공급 밸브(72B), 공급 밸브(72C) 및 공급 밸브(72D) 중 어느 하나)가 설치되는 배관의 하류에 있어서, 배관 구조의 세정을 위해서 이용되는 약액을 공급하기 위한 공급 배관(239)이 접속되어 있다. 또한, 공급 배관(239)은, 각각의 유체 박스보다 상류의 위치에서 접속되는 배관이어도 된다.
그리고, 공급 배관(239)은, 상류측에 있어서 세정 캐비닛(230)에 접속된다. 세정 캐비닛(230)은, 약액 탱크(232)와, 밸브(234)와, 펌프(236)와, 필터(238)를 구비한다. 약액 탱크(232)에는, 다중 밸브를 포함하는 배관 구조의 세정에 이용되는 약액이 저류되어 있다. 밸브(234), 펌프(236) 및 필터(238)는, 약액 탱크(232)에 접속되는 배관인 공급 배관(239)에 각각 설치된다.
약액 탱크(232)에 저류되어 있는 약액은, 제어부(90)의 제어에 의해 개폐가 조정되는 밸브(234)가 열려 있는 상태에서, 동일하게 제어부(90)의 제어에 의해 동작하는 펌프(236)에 의해 필터(238)를 통과하면서 공급 배관(239) 내를 흐르고, 하류의 유체 박스(260)로 흐른다. 또한, 유체 박스(260)에 있어서의 공급 밸브(240)(또는, 유체 박스(270)에 있어서의 공급 밸브(241))를 엶으로써, 다중 밸브(68)(또는 다중 밸브(78))에 약액이 공급된다.
또한, 유체 박스(260)에는, 배액 밸브(69)가 설치되는 배관으로부터 추가로 분기하는 배관인, 순환 배관(264)이 설치된다. 순환 배관(264)에는 순환 밸브(262)가 설치되어 있고, 제어부(90)의 제어에 의해 배액 밸브(69) 및 순환 밸브(262)의 개폐 동작을 제어함으로써, 세정에 이용된 약액을 배액할지 순환시킬지를 선택할 수 있다.
마찬가지로, 유체 박스(270)에는, 배액 밸브(79)가 설치되는 배관으로부터 추가로 분기하는 배관인, 순환 배관(274)이 설치된다. 순환 배관(274)에는 순환 밸브(272)가 설치되어 있고, 제어부(90)의 제어에 의해 배액 밸브(79) 및 순환 밸브(272)의 개폐 동작을 제어함으로써, 세정에 이용된 약액을 배액할지 순환시킬지를 선택할 수 있다.
이상과 같이, 기판 처리 장치(1B)는, 세정 모드에 있어서, 다중 밸브(68)를 포함하는 배관 구조를 세정할 수 있다.
또, 도 3에 나타내어진 기판 처리 장치에 의해 발휘되는 효과에 더하여, 다중 밸브를 포함하는 배관 구조를 세정하기 위한 약액을 저류하는 전용의 약액 탱크(232)를 구비하고 있음으로써, 세정에 이용하는 약액의 종류 및 농도 등이, 기판 처리에 의존하지 않는다. 따라서, 공급되는 약액의 자유도가 높아진다.
여기서, 상기의 세정 모드에 있어서는, 세정 대상인 다중 밸브가 유체 박스내로부터 떼내어져, 별도의 개소에 있어서 세정되어도 된다.
도 7은, 세정 모드에 있어서 떼내어진 다중 밸브(68)를 수용하도록 구성된, 캐비닛(330)의 구성의 예를 나타내는 도면이다.
도 7에 예가 나타내어지는 바와 같이, 캐비닛(330)은, 약액 탱크(332)와, 밸브(331)와, 밸브(333)와, 밸브(334)와, 밸브(335)와, 펌프(336)와, 개방 밸브(337)와, 필터(338)와, 공급 배관(339)과, 순환 배관(402)과, 공급 배관(404)과, 공급 배관(406)과, 공급 배관(408)과, 공급 배관(410)과, 공급 배관(414)과, 접속 배관(412)을 구비한다.
약액 탱크(332)에는, 기판(W)의 처리에 이용되는 약액, 다중 밸브(68)의 세정에 이용되는 약액, 또는, 다중 밸브(68)의 세정에 이용되는 순수가 저류되어 있다. 약액은, 밸브(331)가 열림으로써 약액 공급원으로부터 공급되고, 순수는, 밸브(333)가 열림으로써 순수 공급원으로부터 공급된다.
밸브(335), 개방 밸브(337), 펌프(336) 및 필터(338)는, 약액 탱크(332)로부터 다중 밸브(68)에 접속되는 공급 배관(414)에 각각 설치된다. 또, 밸브(334)는, 밸브(335)의 상류에 있어서 공급 배관(414)으로부터 분기하는 순환 배관(402)에 설치된다. 순환 배관(402)은, 공급 배관(414)을 흐르는 약액을, 약액 탱크(332)로 순환시킨다.
탑재되는 다중 밸브(68)의 상류측에는, 공급 배관(414)으로부터 각각 분기하는 공급 배관(404), 공급 배관(406), 공급 배관(408) 및 공급 배관(410)이 접속되고, 또한, 공급 배관(404), 공급 배관(406), 공급 배관(408) 및 공급 배관(410)에 걸쳐 접속 배관(412)이 설치된다.
또, 탑재되는 다중 밸브(68)의 하류측에는, 다중 밸브(68)의 세정에 이용된 처리액을 배액하거나, 또는, 순환시키기 위한 배관(340)이 접속되어 있다.
기판 처리 모드에 있어서는, 밸브(335)가 닫히고, 또한, 밸브(334)가 열린 상태에서, 기판(W)의 처리에 이용되는 약액이, 약액 탱크(332)로부터 공급 배관(414), 순환 배관(402) 및 공급 배관(339)을 통해, 하류의 유체 박스에 공급된다. 이때, 다중 밸브(68)는, 하류의 유체 박스 내에 탑재되어 있다.
한편, 세정 모드에 있어서는, 밸브(334)가 닫히고, 또한, 밸브(335)가 열린 상태에서, 다중 밸브(68)의 세정에 이용되는 약액이, 약액 탱크(332)로부터 공급 배관(414), 접속 배관(412), 공급 배관(404), 공급 배관(406), 공급 배관(408) 및 공급 배관(410)을 통해 다중 밸브(68)로 공급된다. 그 후, 다중 밸브(68)의 하류에 접속된 배관(340)으로부터, 약액이 배액 또는 회수된다.
또한, 세정 모드에 있어서는, 밸브(334)가 닫히고, 또한, 밸브(335)가 열린 상태에서, 다중 밸브(68)의 세정에 이용되는 순수가, 약액 탱크(332)로부터 공급 배관(414), 접속 배관(412), 공급 배관(404), 공급 배관(406), 공급 배관(408) 및 공급 배관(410)을 통해 다중 밸브(68)에 공급되어도 된다. 또한 그 후, 개방 밸브(337)를 이용하여 다중 밸브(68)를 포함하는 배관 내가 흡인되어도 된다.
이상과 같이, 세정 모드의 캐비닛(330) 내에 있어서, 다중 밸브(68)를 포함하는 배관 구조를 세정할 수 있다.
또, 도 3에 나타내어진 기판 처리 장치에 의해 발휘되는 효과에 더하여, 다중 밸브(68)를 떼내어 약액 탱크(332)의 근방에 배치함으로써, 기판 처리 장치의 구성을 유용하면서도, 세정하기 위한 배관 구조가 짧아 간이해져, 세정을 위한 시간을 단축할 수 있다.
여기서, 다중 밸브를 세정하기 위한 전용 유닛인 세정 유닛이, 기판 처리 장치와는 별도로 설치되어 있어도 된다.
도 8은, 다중 밸브(68)를 수용하도록 구성된, 세정 유닛(80)의 구성의 예를 나타내는 도면이다.
도 8에 예가 나타내어지는 바와 같이, 세정 유닛(80)은, 약액 탱크(82)와, 밸브(81)와, 밸브(83)와, 밸브(84)와, 밸브(85)와, 펌프(86)와, 개방 밸브(87)와, 필터(88)와, 개방 밸브(89)와, 공급 배관(502)과, 순환 배관(514)과, 공급 배관(506)과, 공급 배관(508)과, 공급 배관(510)과, 공급 배관(512)과, 접속 배관(504)과, 배액 배관(516)을 구비한다.
약액 탱크(82)에는, 다중 밸브(68)의 세정에 이용되는 약액이 저류되어 있다. 약액은, 밸브(81)가 열림으로써 다중 밸브(68)에 공급된다. 또한, 순수는, 밸브(83)가 열림으로써 순수 공급원으로부터 다중 밸브(68)로 공급된다.
개방 밸브(87), 펌프(86) 및 필터(88)는, 탑재되는 다중 밸브(68)에 약액 또는 순수를 공급하는 공급 배관(502)에 각각 설치된다. 여기서, 개방 밸브(87)는, 배관 내의 흡인을 위해서 이용된다.
탑재되는 다중 밸브(68)의 상류측에는, 공급 배관(502)으로부터 각각 분기하는 공급 배관(506), 공급 배관(508), 공급 배관(510) 및 공급 배관(512)이 접속되고, 또한, 공급 배관(506), 공급 배관(508), 공급 배관(510) 및 공급 배관(512)에 걸쳐 접속 배관(504)이 설치된다.
또, 탑재되는 다중 밸브(68)의 하류에서는, 다중 밸브(68)의 세정에 이용된 처리액을 배액하기 위한 배액 배관(516)에 밸브(85)가 설치되고, 다중 밸브(68)의 세정에 이용된 약액을 약액 탱크(82)로 순환시키기 위한 순환 배관(514)에 밸브(84)가 설치된다. 여기서, 개방 밸브(89)는, 다중 밸브(68)의 하류의 배관 내의 흡인을 위해서 이용된다.
세정 유닛(80)에 있어서는, 탑재되는 다중 밸브(68)를 세정하기 위한 세정 경로가, 세정 배관에 의해 형성된다. 여기서, 세정 배관은, 도 8의 예에서는, 약액 탱크(82)로부터 하류측으로, 공급 배관(502), 또한, 공급 배관(506), 공급 배관(508), 공급 배관(510) 및 공급 배관(512)에 이르는 배관과, 약액 탱크(82)로부터 상류측으로, 순환 배관(514) 및 배액 배관(516)에 이르는 배관을 포함한다. 세정 배관은, 다중 밸브(68)에 대해 착탈 가능하게 구성된다.
또, 탑재되는 다중 밸브(68)의 하류에서는, 다중 밸브(68)의 세정에 이용된 처리액을 배액하기 위한 배액 배관(516)에 밸브(85)가 설치되고, 다중 밸브(68)의 세정에 이용된 약액을 약액 탱크(82)로 순환시키기 위한 순환 배관(514)에 밸브(84)가 설치된다. 여기서, 개방 밸브(89)는, 다중 밸브(68)의 하류의 배관 내의 흡인을 위해서 이용된다.
세정 유닛(80)을 이용하여 다중 밸브(68)를 세정하는 경우에는, 약액 탱크(82)로부터 약액, 또한, 필요에 따라 순수가 다중 밸브(68)에 공급된다. 그리고, 세정에 이용된 약액을 약액 탱크(82)로 순환시키는 경우에는, 밸브(84)를 열고, 또한, 밸브(85)를 닫는다. 한편, 세정에 이용된 약액 또는 순수를 배액하는 경우에는, 밸브(84)를 닫고, 또한, 밸브(85)를 연다.
특히, 약액에 의한 세정 후, 또한, 순수에 의한 세정이 행해진 후에는, 개방 밸브(87) 및 개방 밸브(89)에 의해 다중 밸브(68)의 상류측 및 하류측의 쌍방에 있어서 배관 내의 흡인을 행하고, 세정 대상의 물질을 포함할 수 있는 약액 및 순수를 흡인함으로써, 세정 효과를 높일 수 있다. 또, 당해 사이클을 복수 회 반복함으로써, 세정 효과를 높일 수 있다.
이상과 같이, 세정 유닛(80)을 이용하여, 다중 밸브(68)를 포함하는 배관 구조를 세정할 수 있다.
또, 도 3에 나타내어진 기판 처리 장치에 의해 발휘되는 효과에 더하여, 다중 밸브(68)를 떼내어 다중 밸브(68)의 세정용으로 설치된 세정 유닛(80)에 있어서 세정을 행하므로, 세정에 이용하는 약액의 종류 및 농도 등이, 기판 처리에 의존하지 않는다. 따라서, 공급되는 약액의 자유도가 높아진다.
＜이상에 기재된 실시 형태에 의해 생기는 효과에 대하여＞
다음에, 이상에 기재된 실시 형태에 의해 생기는 효과의 예를 나타낸다. 또한, 이하의 설명에 있어서는, 이상에 기재된 실시 형태에 예가 나타내어진 구체적인 구성에 의거하여 당해 효과가 기재되는데, 동일한 효과가 생기는 범위에서, 본원 명세서에 예가 나타내어지는 다른 구체적인 구성으로 치환되어도 된다. 즉, 이하에서는 편의상, 대응지어지는 구체적인 구성 중 어느 하나만이 대표해서 기재되는 경우가 있는데, 대표해서 기재된 구체적인 구성이 대응지어지는 다른 구체적인 구성으로 치환되어도 된다.
이상에 기재된 실시 형태에 의하면, 기판 처리 장치는, 약액을 공급하기 위한 탱크와, 다중 밸브(68)(또는, 다중 밸브(78))와, 처리액 노즐(20)을 구비한다. 여기서, 탱크는, 예를 들면, 약액 탱크(32), 약액 탱크(42), 약액 탱크(52), 약액 탱크(232), 약액 탱크(332) 등 중 적어도 하나에 대응하는 것이다. 다중 밸브(68)는, 기판(W)을 처리하기 위한 복수 종의 처리액이 공급된다. 또, 다중 밸브(68)는, 복수 종의 처리액 중 적어도 하나를 선택적으로 공급한다. 처리액 노즐(20)은, 다중 밸브(68)로부터 공급되는 처리액을 이용하여 기판(W)을 처리한다. 여기서, 기판 처리 장치는, 기판(W)을 처리하기 위한 기판 처리 모드와, 적어도 다중 밸브(68)를 세정하기 위한 세정 모드로 전환 가능하다. 기판 처리 모드에서는, 처리액 노즐(20)에 공급된 처리액에 의해 기판(W)이 처리된다. 세정 모드에서는, 처리액 노즐(20)을 통하지 않고, 약액 탱크(32)와 다중 밸브(68)를 통하는 경로인 세정 경로에 있어서, 약액 탱크(32)로부터 다중 밸브(68)로 약액이 공급된다.
이러한 구성에 의하면, 처리액 노즐(20)을 통하지 않는 세정 경로에 약액을 공급함으로써, 다중 밸브(68)를 효과적으로 세정할 수 있다. 또, 당해 세정 경로에는 처리액 노즐(20)이 포함되지 않기 때문에, 세정 모드에 있어서는 처리액 노즐(20)로부터 약액이 토출되는 일이 없고, 기판(W)이 당해 약액에 의해 오염되는 일이 없다.
또한, 상기의 구성에 본원 명세서에 예가 나타내어진 다른 구성을 적절히 추가한 경우, 즉, 상기의 구성으로서는 언급되지 않았던 본원 명세서 중의 다른 구성이 적절히 추가된 경우여도, 마찬가지의 효과를 발생시킬 수 있다.
또, 이상에 기재된 실시 형태에 의하면, 약액이, 복수 종의 처리액 중 하나이다. 이러한 구성에 의하면, 기판(W)의 처리에 이용되는 약액 탱크로부터 공급되는 약액을, 다중 밸브(68)의 세정에 유용시킬 수 있기 때문에, 다중 밸브(68)의 세정을 위해서 별도 약액 탱크를 준비할 필요가 없어진다.
또, 이상에 기재된 실시 형태에 의하면, 기판 처리 장치는, 세정 경로의, 약액 탱크(32)의 하류, 또한, 다중 밸브(68)의 상류의 위치에 있어서, 약액이 공급되는 복수의 공급 배관과, 복수의 공급 배관에 걸쳐 접속되는 적어도 하나의 접속 배관을 구비한다. 여기서, 공급 배관은, 예를 들면, 공급 배관(39), 공급 배관(49), 공급 배관(59), 공급 배관(100), 공급 배관(404), 공급 배관(406), 공급 배관(408), 공급 배관(410) 등에 대응한다. 또, 접속 배관은, 예를 들면, 접속 배관(64E), 접속 배관(64F), 접속 배관(64G), 접속 배관(74E), 접속 배관(74F), 접속 배관(74G), 접속 배관(164E), 접속 배관(164F), 접속 배관(164G), 접속 배관(412) 등에 대응한다. 이러한 구성에 의하면, 다중 밸브(68)에 접속되는 복수의 공급 배관에 대하여, 접속 배관을 통해 동시에 약액을 공급할 수 있다. 따라서, 다중 밸브(68)에 접속되는 복수의 공급 배관을 동시에 세정하여, 세정 시간을 단축할 수 있다.
또, 이상에 기재된 실시 형태에 의하면, 접속 배관은, 다중 밸브(68)를 수용하는 하우징(예를 들면, 유체 박스(60), 유체 박스(70), 캐비닛(330) 등) 내에 수용된다. 이러한 구성에 의하면, 유체 박스(60)마다, 기판 처리 모드와 세정 모드를 전환하여 처리를 실행할 수 있다. 따라서, 기판 처리 장치(1) 전체적으로는, 기판 처리의 중단 시간을 단축할 수 있다.
또, 이상에 기재된 실시 형태에 의하면, 접속 배관(412)은, 약액 탱크(332) 및 다중 밸브(68)를 수용하는 캐비닛(330) 내에 수용된다. 이러한 구성에 의하면, 캐비닛(330) 내에, 다중 밸브(68), 약액 탱크(332) 및 접속 배관(412)이 수용됨으로써, 기판 처리 장치의 구성을 유용시키면서도, 세정하기 위한 배관 구조가 짧아 간이해져, 세정을 위한 시간을 단축할 수 있다.
또, 이상에 기재된 실시 형태에 의하면, 다중 밸브(68)는, 복수의 공급 배관 각각을 개폐시키는 복수의 선택 밸브를 구비한다. 여기서, 선택 밸브는, 예를 들면, 선택 밸브(68B), 선택 밸브(68C), 선택 밸브(68D), 선택 밸브(68E), 선택 밸브(68F), 선택 밸브(78B), 선택 밸브(78C), 선택 밸브(78D), 선택 밸브(78E), 선택 밸브(78F) 등 중 적어도 하나에 대응하는 것이다.
세정 모드에서는, 복수의 공급 배관 중 적어도 하나가, 대응하는 선택 밸브에 의해 개폐된다. 이러한 구성에 의하면, 선택 밸브의 개폐 동작에 의해 급격한 유속의 변화가 생기면, 관 내의 압력 변동에 의해 배관을 진동시키는 워터 해머가 발생하는 경우가 있다. 또, 관 내의 압력 변동에 의해 발포하는 캐비테이션이 발생하는 경우가 있다. 이들 현상에 의해, 세정 대상에게 물리적인 충격을 주어, 세정 효과를 높일 수 있다.
또, 이상에 기재된 실시 형태에 의하면, 세정 모드에서는, 세정 경로에 있어서 약액이 순환한다. 이러한 구성에 의하면, 세정을 위해서 사용되는 약액의 양을 줄일 수 있다.
또, 이상에 기재된 실시 형태에 의하면, 기판 처리 장치는, 린스액을 공급하기 위한 린스액 공급원(예를 들면, 순수 공급원)과, 다중 밸브(68) 내를 흡인하는 흡인부를 구비한다. 여기서, 흡인부는, 예를 들면, 개방 밸브(65), 개방 밸브(75), 개방 밸브(337) 등 중 적어도 하나에 대응하는 것이다. 세정 모드에서는, 세정 경로에 있어서의 약액의 순환 후, 다중 밸브(68)에 린스액이 공급되고, 또한, 개방 밸브(65)에 의해 다중 밸브(68) 내가 흡인된다. 이러한 구성에 의하면, 약액 및 순수에 의해, 배관 내에 잔존하는 세정 대상의 물질을 씻어내고, 또한, 세정 대상의 물질을 포함할 수 있는 약액 및 순수를 흡인함으로써, 세정 효과를 높일 수 있다.
또, 이상에 기재된 실시 형태에 의하면, 세정 모드에서는, 세정 경로에 있어서의 약액의 순환, 약액의 순환 후의 린스액의 공급, 및, 린스액의 공급 후의 다중 밸브(68) 내의 흡인이 복수 회 반복된다. 이러한 구성에 의하면, 약액 및 순수에 의해, 배관 내에 잔존하는 세정 대상의 물질을 씻어내고, 또한, 세정 대상의 물질을 포함할 수 있는 약액 및 순수를 흡인하는 사이클을 반복함으로써, 세정 효과를 높일 수 있다.
또, 이상에 기재된 실시 형태에 의하면, 세정 모드에서는, 약액의 공급압이 변동한다. 이러한 구성에 의하면, 급격한 유속의 변화가 생기면, 관 내의 압력 변동에 의해 배관을 진동시키는 워터 해머가 발생하는 경우가 있다. 또, 관 내의 압력 변동에 의해 발포하는 캐비테이션이 발생하는 경우가 있다. 이러한 현상에 의해, 세정 대상에게 물리적인 충격을 주어, 세정 효과를 높일 수 있다.
이상에 기재된 실시 형태에 의하면, 세정 유닛은, 약액을 공급하기 위한 탱크와, 세정 배관을 구비한다. 여기서, 탱크는, 예를 들면, 약액 탱크(82) 등에 대응하는 것이다. 세정 배관은, 적어도 다중 밸브(68)를 세정하기 위한 경로인 세정 경로를 형성한다. 세정 경로는, 약액 탱크(82)를 개재한다. 다중 밸브(68)는, 세정 경로에 있어서, 약액 탱크(82)로부터 공급되는 약액에 의해 세정된다. 또, 세정 배관은, 다중 밸브(68)에 대해 착탈 가능하다.
이러한 구성에 의하면, 세정 경로에 약액을 공급함으로써, 다중 밸브(68)를 효과적으로 세정할 수 있다. 또, 다중 밸브(68)를 떼내어 다중 밸브(68)의 세정용으로 설치된 세정 유닛(80)에 있어서 세정을 행하므로, 세정에 이용하는 약액의 종류 및 농도 등이, 기판 처리에 의존하지 않는다. 따라서, 공급되는 약액의 자유도가 높아진다.
또한, 특별한 제한이 없는 경우에는, 각각의 처리가 행해지는 순서는 변경할 수 있다.
또, 상기의 구성에 본원 명세서에 예가 나타내어진 다른 구성을 적절히 추가한 경우, 즉, 상기의 구성으로서는 언급되지 않았던 본원 명세서 중의 다른 구성이 적절히 추가된 경우여도, 마찬가지의 효과를 발생시킬 수 있다.
또, 이상에 기재된 실시 형태에 의하면, 세정 유닛은, 세정 경로의, 약액 탱크(82)의 하류, 또한, 다중 밸브(68)의 상류의 위치에 있어서, 약액이 공급되는 복수의 공급 배관(506)(또는, 공급 배관(508), 공급 배관(510), 공급 배관(512))과, 복수의 공급 배관에 걸쳐 접속되는 적어도 하나의 접속 배관(504)을 구비한다. 이러한 구성에 의하면, 다중 밸브(68)에 접속되는 복수의 공급 배관에 대해, 접속 배관을 통해 동시에 약액을 공급할 수 있다. 따라서, 다중 밸브(68)에 접속되는 복수의 공급 배관을 동시에 세정하여, 세정 시간을 단축할 수 있다.
또, 이상에 기재된 실시 형태에 의하면, 다중 밸브(68)는, 복수의 공급 배관 각각을 개폐시키는 복수의 선택 밸브를 구비한다. 그리고, 복수의 공급 배관 중 적어도 하나가, 대응하는 선택 밸브에 의해 개폐된다. 이러한 구성에 의하면, 선택 밸브의 개폐 동작에 의해 급격한 유속의 변화가 생기면, 관 내의 압력 변동에 의해 배관을 진동시키는 워터 해머가 발생하는 경우가 있다. 또, 관 내의 압력 변동에 의해 발포하는 캐비테이션이 발생하는 경우가 있다. 이들 현상에 의해, 세정 대상에게 물리적인 충격을 주어, 세정 효과를 높일 수 있다.
또, 이상에 기재된 실시 형태에 의하면, 세정 경로에 있어서 약액이 순환한다. 이러한 구성에 의하면, 세정을 위해서 사용되는 약액의 양을 줄일 수 있다.
또, 이상에 기재된 실시 형태에 의하면, 세정 유닛은, 린스액을 공급하기 위한 린스액 공급원(예를 들면, 순수 공급원)과, 다중 밸브(68) 내를 흡인하는 흡인부를 구비한다. 여기서, 흡인부는, 예를 들면, 개방 밸브(87), 개방 밸브(89) 등 중 적어도 하나에 대응하는 것이다. 세정 경로에 있어서의 약액의 순환 후, 다중 밸브(68)에 린스액이 공급되고, 또한, 개방 밸브(87)에 의해 다중 밸브(68) 내가 흡인된다. 이러한 구성에 의하면, 약액 및 순수에 의해, 배관 내에 잔존하는 세정 대상의 물질을 씻어내고, 또한, 세정 대상의 물질을 포함할 수 있는 약액 및 순수를 흡인함으로써, 세정 효과를 높일 수 있다.
또, 이상에 기재된 실시 형태에 의하면, 세정 경로에 있어서의 약액의 순환, 약액의 순환 후의 린스액의 공급, 및, 린스액의 공급 후의 다중 밸브(68) 내의 흡인이 복수 회 반복된다. 이러한 구성에 의하면, 약액 및 순수에 의해, 배관 내에 잔존하는 세정 대상의 물질을 씻어내고, 또한, 세정 대상의 물질을 포함할 수 있는 약액 및 순수를 흡인하는 사이클을 반복함으로써, 세정 효과를 높일 수 있다.
＜이상에 기재된 실시 형태의 변형예에 대하여＞
이상에 기재된 실시 형태에서는, 각각의 구성 요소의 치수, 형상, 상대적 배치 관계 또는 실시 조건 등에 대해서도 기재하는 경우가 있는데, 이들은 모든 국면에 있어서 하나의 예이며, 한정적인 것은 아닌 것으로 한다.
따라서, 예가 나타내어져 있지 않은 무수한 변형예, 및, 균등물이, 본원 명세서에 개시되는 기술의 범위 내에 있어서 상정된다. 예를 들면, 적어도 하나의 구성 요소를 변형하는 경우, 추가하는 경우 또는 생략하는 경우가 포함되는 것으로 한다.
또, 이상에 기재된 실시 형태에 있어서, 특별히 지정되지 않고 재료명 등이 기재된 경우에는, 모순이 생기지 않는 한, 당해 재료에 다른 첨가물이 포함된, 예를 들면, 합금 등이 포함되는 것으로 한다.
1, 1A, 1B: 기판 처리 장치
10: 스핀 척
10A: 스핀 베이스
10C: 회전축
10D: 스핀 모터
12: 처리 컵
20: 처리액 노즐
22: 노즐 아암
22A: 아암부
22B: 축체
22C: 액추에이터
30, 40, 50, 330: 캐비닛
32, 42, 52, 82, 232, 332: 약액 탱크
34, 44, 54, 81, 83, 84, 85, 234, 331, 333, 334, 335: 밸브
36, 46, 56, 86, 236, 336: 펌프
38, 48, 58, 88, 238, 338: 필터
39, 49, 59, 61, 71, 100, 239, 339, 404, 406, 408, 410, 414, 502, 506, 508, 510, 512: 공급 배관
60, 70, 160, 170, 260, 270: 유체 박스
62A, 62B, 62C, 62D, 67, 72A, 72B, 72C, 72D, 77, 162A, 162B, 162C, 240, 241: 공급 밸브
64E, 64F, 64G, 74E, 74F, 74G, 164E, 164F, 164G, 412, 504: 접속 배관
65, 75, 87, 89, 337: 개방 밸브
66E, 66F, 66G, 76E, 76F, 76G, 166E, 166F, 166G: 접속 밸브
68, 78: 다중 밸브
68A, 78A: 접속부
68B, 68C, 68D, 68E, 68F, 78B, 78C, 78D, 78E, 78F: 선택 밸브
69, 79: 배액 밸브
80: 세정 유닛
90: 제어부
91: CPU
92: ROM
93: RAM
94: 기록 장치
94P: 처리 프로그램
95: 버스 라인
96: 입력부
97: 표시부
98: 통신부
180: 챔버
230: 세정 캐비닛
262, 272: 순환 밸브
264, 274, 402, 514: 순환 배관
340: 배관
516: 배액 배관
600, 600A, 600B: 처리 유닛
601: 로드 포토
602: 인덱서 로봇
603: 센터 로봇
604: 기판 재치부

Claims (17)

  1. 약액을 공급하기 위한 탱크와,
    기판을 처리하기 위한 복수 종의 처리액이 공급되고, 또한, 복수 종의 상기 처리액 중 적어도 하나를 선택적으로 공급 가능한 다중 밸브와,
    상기 다중 밸브로부터 공급되는 상기 처리액을 이용하여 상기 기판을 처리하기 위한 처리액 노즐을 구비하고,
    상기 기판을 처리하기 위한 기판 처리 모드와, 적어도 상기 다중 밸브를 세정하기 위한 세정 모드로 전환 가능하며,
    상기 기판 처리 모드에서는, 상기 처리액 노즐에 공급된 상기 처리액에 의해 상기 기판이 처리되고,
    상기 세정 모드에서는, 상기 처리액 노즐을 통하지 않고, 상기 탱크와 상기 다중 밸브를 통하는 경로인 세정 경로에 있어서, 상기 탱크로부터 상기 다중 밸브로 상기 약액이 공급되고,
    상기 세정 경로의, 상기 탱크의 하류, 또한, 상기 다중 밸브의 상류의 위치에 있어서,
    상기 약액이 공급되는 복수의 공급 배관과,
    복수의 상기 공급 배관에 걸쳐 접속되는 적어도 하나의 접속 배관을 추가로 구비하는,
    기판 처리 장치.
  2. 청구항 1에 있어서,
    상기 약액이, 복수 종의 상기 처리액 중 하나인, 기판 처리 장치.
  3. 청구항 1 또는 청구항 2에 있어서,
    상기 접속 배관은, 상기 다중 밸브를 수용하는 하우징 내에 수용되는, 기판 처리 장치.
  4. 청구항 1 또는 청구항 2에 있어서,
    상기 접속 배관은, 상기 탱크 및 상기 다중 밸브를 수용하는 하우징 내에 수용되는, 기판 처리 장치.
  5. 청구항 1 또는 청구항 2에 있어서,
    상기 다중 밸브는, 복수의 상기 공급 배관 각각을 개폐시키는 복수의 선택 밸브를 구비하고,
    상기 세정 모드에서는, 복수의 상기 공급 배관 중 적어도 하나가, 대응하는 상기 선택 밸브에 의해 개폐되는, 기판 처리 장치.
  6. 약액을 공급하기 위한 탱크와,
    기판을 처리하기 위한 복수 종의 처리액이 공급되고, 또한, 복수 종의 상기 처리액 중 적어도 하나를 선택적으로 공급 가능한 다중 밸브와,
    상기 다중 밸브로부터 공급되는 상기 처리액을 이용하여 상기 기판을 처리하기 위한 처리액 노즐을 구비하고,
    상기 기판을 처리하기 위한 기판 처리 모드와, 적어도 상기 다중 밸브를 세정하기 위한 세정 모드로 전환 가능하며,
    상기 기판 처리 모드에서는, 상기 처리액 노즐에 공급된 상기 처리액에 의해 상기 기판이 처리되고,
    상기 세정 모드에서는, 상기 처리액 노즐을 통하지 않고, 상기 탱크와 상기 다중 밸브를 통하는 경로인 세정 경로에 있어서, 상기 탱크로부터 상기 다중 밸브로 상기 약액이 순환하여 공급되는, 기판 처리 장치.
  7. 청구항 6에 있어서,
    린스액을 공급하기 위한 린스액 공급원과,
    상기 다중 밸브 내의 상기 약액 및 상기 린스액을 흡인하는 흡인부를 추가로 구비하고,
    상기 세정 모드에서는, 상기 세정 경로에 있어서의 상기 약액의 순환 후, 상기 다중 밸브에 상기 린스액이 공급되고, 또한, 상기 흡인부에 의해 상기 다중 밸브 내가 흡인되는, 기판 처리 장치.
  8. 청구항 7에 있어서,
    상기 세정 모드에서는, 상기 세정 경로에 있어서의 상기 약액의 순환, 상기 약액의 순환 후의 상기 린스액의 공급, 및, 상기 린스액의 공급 후의 상기 다중 밸브 내의 흡인이, 복수 회 반복되는, 기판 처리 장치.
  9. 청구항 1, 청구항 2, 청구항 6 내지 청구항 8 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 세정 모드에서는, 상기 약액의 공급압이 변동하는, 기판 처리 장치.
  10. 약액을 공급하기 위한 탱크와,
    적어도 다중 밸브를 세정하기 위한 경로인 세정 경로를 형성하기 위한 세정 배관과,
    상기 세정 경로의, 상기 탱크의 하류, 또한, 상기 다중 밸브의 상류의 위치에 있어서, 상기 약액이 공급되는 복수의 공급 배관과, 복수의 상기 공급 배관에 걸쳐 접속되는 적어도 하나의 접속 배관을 구비하고,
    상기 다중 밸브는, 복수 종의 처리액이 공급되고, 또한, 복수 종의 상기 처리액 중 적어도 하나를 선택적으로 공급 가능하며,
    상기 세정 경로는, 상기 탱크를 통하고,
    상기 다중 밸브는, 상기 세정 경로에 있어서, 상기 탱크로부터 공급되는 상기 약액에 의해 세정되고,
    상기 세정 배관은, 상기 다중 밸브에 대해 착탈 가능한,
    세정 유닛.
  11. 청구항 10에 있어서,
    상기 다중 밸브는, 복수의 상기 공급 배관 각각을 개폐시키는 복수의 선택 밸브를 구비하고,
    복수의 상기 공급 배관 중 적어도 하나가, 대응하는 상기 선택 밸브에 의해 개폐되는, 세정 유닛.
  12. 약액을 공급하기 위한 탱크와,
    적어도 다중 밸브를 세정하기 위한 경로인 세정 경로를 형성하기 위한 세정 배관을 구비하고,
    상기 다중 밸브는, 복수 종의 처리액이 공급되고, 또한, 복수 종의 상기 처리액 중 적어도 하나를 선택적으로 공급 가능하며,
    상기 세정 경로는, 상기 탱크를 통하고,
    상기 다중 밸브는, 상기 세정 경로에 있어서, 상기 탱크로부터 공급되는 상기 약액의 순환에 의해 세정되고,
    상기 세정 배관은, 상기 다중 밸브에 대해 착탈 가능한,
    세정 유닛.
  13. 청구항 10 내지 청구항 12 중 어느 한 항에 있어서,
    린스액을 공급하기 위한 린스액 공급원과,
    상기 다중 밸브 내의 상기 약액 및 상기 린스액을 흡인하는 흡인부를 추가로 구비하고,
    상기 세정 경로에 있어서의 상기 약액의 순환 후, 상기 다중 밸브에 상기 린스액이 공급되고, 또한, 상기 흡인부에 의해 상기 다중 밸브 내가 흡인되는, 세정 유닛.
  14. 청구항 13에 있어서,
    상기 세정 경로에 있어서의 상기 약액의 순환, 상기 약액의 순환 후의 상기 린스액의 공급, 및, 상기 린스액의 공급 후의 상기 다중 밸브 내의 흡인이, 복수 회 반복되는, 세정 유닛.
  15. 기판을 처리하기 위한 복수 종의 처리액이 공급되고, 또한, 복수 종의 상기 처리액 중 적어도 하나를 선택적으로 공급 가능한 상태에서 기판 처리 장치에 접속된 다중 밸브를 세정하는 다중 밸브 세정 방법으로서,
    상기 기판 처리 장치는,
    약액을 공급하기 위한 탱크와,
    상기 다중 밸브로부터 공급되는 상기 처리액을 이용하여 상기 기판을 처리하기 위한 처리액 노즐을 구비하고,
    상기 기판 처리 장치는, 상기 기판을 처리하기 위한 기판 처리 모드와, 적어도 상기 다중 밸브를 세정하기 위한 세정 모드로 전환 가능하며,
    상기 기판 처리 모드에서는, 상기 처리액 노즐에 공급된 상기 처리액에 의해 상기 기판이 처리되고,
    상기 세정 모드에서는, 상기 처리액 노즐을 통하지 않고, 상기 탱크와 상기 다중 밸브를 통하는 경로인 세정 경로에 있어서, 상기 탱크로부터 상기 다중 밸브로 상기 약액이 공급되고,
    상기 세정 경로의, 상기 탱크의 하류, 또한, 상기 다중 밸브의 상류의 위치에 있어서,
    상기 약액이 공급되는 복수의 공급 배관과,
    복수의 상기 공급 배관에 걸쳐 접속되는 적어도 하나의 접속 배관을 추가로 구비하고,
    상기 세정 모드에서, 상기 다중 밸브를 세정하는 공정을 구비하는,
    다중 밸브 세정 방법.
  16. 기판을 처리하기 위한 복수 종의 처리액이 공급되고, 또한, 복수 종의 상기 처리액 중 적어도 하나를 선택적으로 공급 가능한 상태에서 기판 처리 장치에 접속된 다중 밸브를 세정하는 다중 밸브 세정 방법으로서,
    상기 기판 처리 장치는,
    약액을 공급하기 위한 탱크와,
    상기 다중 밸브로부터 공급되는 상기 처리액을 이용하여 상기 기판을 처리하기 위한 처리액 노즐을 구비하고,
    상기 기판 처리 장치는, 상기 기판을 처리하기 위한 기판 처리 모드와, 적어도 상기 다중 밸브를 세정하기 위한 세정 모드로 전환 가능하며,
    상기 기판 처리 모드에서는, 상기 처리액 노즐에 공급된 상기 처리액에 의해 상기 기판이 처리되고,
    상기 세정 모드에서는, 상기 처리액 노즐을 통하지 않고, 상기 탱크와 상기 다중 밸브를 통하는 경로인 세정 경로에 있어서, 상기 탱크로부터 상기 다중 밸브로 상기 약액이 순환하여 공급되고,
    상기 세정 모드에서, 상기 다중 밸브를 세정하는 공정을 구비하는,
    다중 밸브 세정 방법.
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