KR102635226B1 - Oled 공정 중 ai 및 ag 전극의 불량율 개선을 진공환경의 인라인으로 진행하는 포이즌 에이징 장치 - Google Patents
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Abstract
본 발명은 OLED 공정 중 AI 및 AG 전극의 불량율 개선을 진공 환경의 인-라인으로 진행하는 포이즌-에이징 장치에 관한 것으로, OLED의 에이징(aging) 환경을 제공하는 챔버부; 및 상기 챔버부 내의 공기를 배출시켜 에이징 공정 시 진공압력을 형성하는 펌핑부를 포함한다.
Description
본 발명은 TFT(Thin Flim Transistor) 기판 이동시 발생하는 파티클에 의해 L/C(Leakage Current) 불량이 증가하는 문제를 개선하기 위해 L/C 불량의 주 원인인 메탈성 이물을 산화시켜 태워서 산화물을 만드는 Poison-Aging 공정을 도입함에 OLED Full System Line에서 증착 후 진공상태를 유지한 상태로 Glass를 투입 연계하여 N2, O2, Clean Air의 공정 가스를 투입하여 일정한 공정 압력을 자동으로 형성하여 역 전압 또는, Pule 역 전압 그리고 역 전압 +Pule 역 전압을 인가하여 OLED 증착 품질을 향상 시키고, 정 전압을 인가하여 광 전류 측정을 한 장치안에서 실행하여 개선 상태를 수치로 바로 알 수 있는 것으로, 진공 물류 라인에서 P-Aging 장치로 증착된 Glass가 투입되는 Gate Valve 및 투입되는 Glass를 안착 시킬 수 있는 Pin Up-Down Mechanism과 Stage, 진공 형성 용기인 챔버, 저 진공 및 고 진공 형성을 위한 진공 펌프 및 라인, P-Aging 환경을 만들기 위한 공정 가스 공급 시스템, 공정 압력을 만들기 위한 Auto Pressure Controller, Glass 소자내 정/역 전압을 인가 시킬 수 있는 Pin Connector가 회로로 형성되어 있는 하부지그, Glass와 Pin Connector가 전기적으로 안정적인 Contact을 할 수 있도록 눌러서 고정해주면서 정 전압을 인가 시 광 전류 측정을 위한 다이오드가 포함된 업-다운 기능이 있는 상부지그, 진공 챔부 내부에 있는 상/하부지그에 챔버를 통과하여 정/역 전압을 전달하는 진공 피드스루, P-Aging 및 측정을 위한 Constant Current/ Constant Voltage/ Pulse Current/ Pulse Voltage/ Pulse Current Voltage 발생 및 광 전류 측정기를 포함한 소스미터를 구비하고 한장의 Glass 처리 및 다수의 Glass 처리가 가능한 포이즌-에이징 장치에 관한 것이다.
최근 들어, 다양한 정보화 사회의 요구에 따라 전자 디스플레이도 다양한 형태로 개발 상용화되고 있다.
특히, OLED는 유기화합물을 사용해 자체 발광시키는 차세대 디스플레이로서, 화질의 반응속도가 LCD(Liquid CrystalDisplay)에 비해 1100배 이상 빠르며, 15V 이하의 낮은 전압에서 구동이 가능하고 제품을 초박형으로 설계할 수 있고 시야각이 넓으면서 높은 휘도를 나타낸다는 장점 때문에 PDP(Plasma Display Panel)와 함께 TFT-LCD(Thin film transistor-liquid crystal display)를 이을 차세대 평판 디스플레이로 각광을 받고 있다.
이와 같은 OLED 패널은 구동 초기에 열화가 급속히 진행되다가 이후 안정화되는 성질이 있다.
따라서, OLED 패널은 유기전계발광 표시장치는 제품 출하 직후에 품질이나 신뢰성이 크게 저하하는 것을 방지하기 위하여 제품 출하 전에 고전압을 소정시간 인가하여 전면 발광시킴으로써 인위적으로 어느 정도의 노화시키는 에이징 (aging) 테스트를 거친다.
에이징 테스트시 패널에는 구동전원들 및/또는 구동신호들이 공급된다. 구동전원들 및/또는 구동신호들은 에이징 신호가 된다. 에이징 신호는 유기전계발광 소자에 소정의 전류가 흐르도록 각 화소들의 데이터선에 공급 되는 전압 또는 전류를 포함한다.
한편, OLED 패널을 보다 효율적으로 생산하기 위해 복수의 OLED 패널들을 단일의 모기판 상에 형성시킨 다음 에이징 처리를 한 후에 절단(scribing)하여 개개의 OLED 패널들을 얻는 방식으로 제작되고 있다.
종래의 OLED 에이징 장치는 모기판이 올려지는 작업대와, 상기 작업대의 하부에 설치되어 모기판을 고정시키 는 진공패드와, 작업대의 상부에 설치된 얼라인카메라, 작업대의 상부에 설치되어 상기 얼라인카메라로부터 전달받은 위치정보에 따라 위치가 보정되는 커넥터로 구성된다.
이와 같이 구성된 종래의 에이징 장치는 모기판이 작업대에 올려지면 진공패드가 모기판을 작업대에 밀착시키고 카메라가 모기판의 위치를 분석한다.
그리고 작업대에 설치된 커넥터가 카메라로부터 모기판의 위치정보를 전달받아 위치가 보정되며, 커넥터와 모기판과의 접속이 이루어지면 상기 커넥터를 통해 모기판에 에이징 신호를 인가하여 모기판의 각 OLED패널에 대한 에이징 처리를 수행하도록 되어 있다.
한편, 전술한 배경 기술은 발명자가 본 발명의 도출을 위해 보유하고 있었거나, 본 발명의 도출 과정에서 습득한 기술 정보로서, 반드시 본 발명의 출원 전에 일반 공중에게 공개된 공지기술이라 할 수는 없다.
본 발명은, TFT(Thin Flim Transistor) 기판 이동시 발생하는 파티클에 의해 L/C(Leakage Current) 불량이 증가하는 문제를 개선하기 위해 L/C 불량의 주 원인인 메탈성 이물을 산화시켜 태워서 산화물을 만드는 Poison-Aging 공정을 도입함에 OLED Full System Line에서 증착 후 진공상태를 유지한 상태로 Glass를 투입 연계하여 N2, O2, Clean Air의 공정 가스를 투입하여 일정한 공정 압력을 자동으로 형성하여 역 전압 또는, Pule 역 전압 그리고 역 전압 +Pule 역 전압을 인가하여 OLED 증착 품질을 향상 시키고, 정 전압을 인가하여 광 전류 측정을 한 장치안에서 실행하여 개선 상태를 수치로 바로 알 수 있는 것으로, 진공 물류 라인에서 P-Aging 장치로 증착된 Glass가 투입되는 Gate Valve 및 투입되는 Glass를 안착 시킬 수 있는 Pin Up-Down Mechanism과 Stage, 진공 형성 용기인 챔버, 저 진공 및 고 진공 형성을 위한 진공 펌프 및 라인, P-Aging 환경을 만들기 위한 공정 가스 공급 시스템, 공정 압력을 만들기 위한 Auto Pressure Controller, Glass 소자내 정/역 전압을 인가 시킬 수 있는 Pin Connector가 회로로 형성되어 있는 하부지그, Glass와 Pin Connector가 전기적으로 안정적인 Contact을 할 수 있도록 눌러서 고정해주면서 정 전압을 인가 시 광 전류 측정을 위한 다이오드가 포함된 업-다운 기능이 있는 상부지그, 진공 챔부 내부에 있는 상/하부지그에 챔버를 통과하여 정/역 전압을 전달하는 진공 피드스루, P-Aging 및 측정을 위한 Constant Current/ Constant Voltage/ Pulse Current/ Pulse Voltage/ Pulse Current Voltage 발생 및 광 전류 측정기를 포함한 소스미터를 구비하고 한장의 Glass 처리 및 다수의 Glass 처리가 가능한 OLED 공정 중 AI 및 AG 전극의 불량율 개선을 진공 환경의 인-라인으로 진행하는 포이즌-에이징 장치를 제공한다.
그리고, 에이징 공정을 수행하기 전에 OLED의 표면에 묻어 있는 먼지와 같은 이물질을 미리 제거하고, OLED를 열처리하면서 OLED에 묻어 있는 수분을 제거하여 OLED를 에이징 할 시 방해되는 요소를 원천적으로 차단할 수 있는 OLED 공정 중 AI 및 AG 전극의 불량율 개선을 진공 환경의 인-라인으로 진행하는 포이즌-에이징 장치를 제공한다.
본 발명의 기술적 과제는 이상에서 언급한 기술적 과제로 제한되지 않으며, 언급되지 않은 또 다른 기술적 과제들은 아래의 기재로부터 당업자에게 명확하게 이해될 수 있을 것이다.
본 발명의 일 실시예에 따른 OLED 공정 중 AI 및 AG 전극의 불량율 개선을 진공 환경의 인-라인으로 진행하는 포이즌-에이징 장치는, OLED의 에이징(aging) 환경을 제공하는 챔버부; 및 상기 챔버부 내의 공기를 배출시켜 에이징 공정 시 진공압력을 형성하는 펌핑부를 포함한다.
그리고, 상기 챔버부의 내부에 에이징가스를 공급하는 가스공급부; 상기 챔버부의 내부공간에 수납되고, 다수개의 OLED가 일정간격으로 고정되는 트레이; 상기 챔버부의 내부공간에 배치되고, 상기 트레이를 지지하며, 상기 OLED에 정 전압 또는 역 전압을 선택적으로 인가하기 위한 정 전압 및 역 전압 인가 회로 기판을 포함하는 하부지그; 상기 하부지그 상에서 승강되며, 상기 하부지그의 상면에 안착된 트레이를 상승시키며, 핀 커넥터가 회로로 형성되어 있는 트레이 업-다운 핀; 및 상기 트레이 업-다운 핀이 상기 트레이를 상승시키면, 하강작동에 의해 상기 트레이의 상면을 가압하며, 정 전압 인가 시 상기 OLED의 광 전류 측정을 위한 다이오드가 포함된 회로기판을 포함하는 상부지그; 상기 챔버부의 내부공간에 위치한 OLED들에 에이징을 위한 전압을 생성하는 전압 생성 프로그램을 포함하는 컨트롤러부; 상기 챔버부의 내부에 정/역 전압을 전달하는 진공 피드스루; 상기 챔버부의 내부공간을 저진공으로 변환시키는 제1 진공부; 및 상기 챔버부의 내부공간을 선택적으로 저진공 또는 고진공으로 변환시키는 제2 진공부를 더 포함하고, 상기 역 전압 또는, Pule 역 전압 그리고, 역 전압 + Pule 역 전압을 인가하기 위한 진공내 회로 구성으로 상기 진공 피드스루를 통한 전선의 챔버부내 유입 진공용 전성 케이블을 통해 상기 정 전압 및 역 전압 인가 회로 기판에 연결되고, 상기 정 전압 및 역 전압 인가 회로기판에 놓인 스프링 장착 핀을 통해 상기 챔버부의 내부에 위치되는 글래스에 구비된 셀의 +, - 전극에 일대일 매치로 정 전압 또는 역 전압을 인가하며, 이는 진공 물류를 통한 상기 글래스를 상기 챔버부의 내부로 투입하기 위해 상기 챔버부의 내부에 엔드 이펙터(End-Effector)가 투입되어 상기 글래스를 지지하며, 상기 챔버부의 내부에 배치된 트레이 업-다운 핀을 통해 상기 하부지그를 상승 또는 하강시켜 상기 하부지그와 상부지그를 서로 벌리거나 인접시키는 매커니즘을 동반한다.
또한, 상기 챔버부의 내부에 에이징가스를 공급하는 가스공급부; 상기 챔버부의 내부공간에 수납되고, 다수개의 OLED가 일정간격으로 고정되는 트레이; 상기 챔버부의 내부공간에 배치되고, 상기 트레이를 지지하며, 상기 OLED에 정 전압 또는 역 전압을 선택적으로 인가하기 위한 정 전압 및 역 전압 인가 회로 기판을 포함하는 하부지그; 상기 하부지그의 상측에 배치되고, 상기 트레이의 상면을 가압하도록 마련되며, 정 전압 인가 시 상기 OLED의 광 전류 측정을 위한 다이오드가 포함된 회로기판을 포함하고, 일측면과 타측면에는 적어도 하나 이상의 고정홈이 각각 형성된 상부지그; 상기 챔버부의 내부공간에 위치한 OLED들에 에이징을 위한 전압을 생성하는 전압 생성 프로그램을 포함하는 컨트롤러부; 상기 챔버부의 내부에 정/역 전압을 전달하는 진공 피드스루; 상기 챔버부의 내부공간을 저진공으로 변환시키는 제1 진공부; 및 상기 챔버부의 내부공간을 선택적으로 저진공 또는 고진공으로 변환시키는 제2 진공부; 상기 챔버부의 내부공간에 수납되고, 내부에 복수개의 상부지그 및 하부지그가 수직방향을 따라 순차적으로 교차되도록 배열되되, 하나의 하부지그 및 하나의 상부지그가 한 쌍으로써, 여러쌍이 일정간격으로 적용되는 카세트; 상기 상부지그들 및 하부지그들을 공동으로 관통하여 승강을 가이드하는 승강가이드 샤프트; 상기 카세트의 일측과 타측에 각각 배치되며, 상기 고정홈과 동일선상에 배치되는 고정편을 포함하는 전,후진바 및 상기 전,후진바를 전진시켜 상기 고정편을 어느 하나의 상부지그에 형성된 고정홈에 삽입시키는 전,후진 구동부를 포함하는 락킹부; 상기 전,후진 구동부가 상기 고정편을 상기 고정홈에 삽입시키면 상기 카세트를 소정거리 하강시켜, 상기 고정편이 적용된 상부지그에 하측에 배치된 하부지그가 상기 상부지그의 하측으로 이격되도록 상기 카세트를 하강시키는 승강구동부; 상기 카세트의 일측과 타측에 각각 배치되고, 상기 상부지그와 하부지그의 사이 공간으로 글래스를 지지하기 위한 지지편을 투입시킨 후, 상기 지지편을 하강시켜 상기 글래스를 상기 하부지그의 상면에 안착시킨 다음, 상기 지지편을 상기 상부지그와 하부지그의 사이에서 이탈시키는 셋팅구동부; 상기 카세트의 외부에서 상기 상부지그와 하부지그의 사이 공간으로 글래스를 투입한 후, 하강작동되어 상기 지지편의 상면에 상기 글래스를 안착시킨 다음, 후진작동에 의해 상기 카세트의 외부로 인출되는 엔드 이펙터(End-Effector); 및 상기 상부지그와 하부지그를 탄성적으로 연결하여 상기 전,후진 구동부가 상기 전,후진바를 후진시켜 상기 고정편이 상기 고정홈에서 인출되면 수축 작동에 의해 상기 상부지그와 하부지그를 밀착시키는 밀착스프링을 포함하고, 상기 역 전압 또는, Pule 역 전압 그리고, 역 전압 + Pule 역 전압을 인가하기 위한 진공내 회로 구성으로 상기 진공 피드스루를 통한 전선의 챔버부내 유입 진공용 전성 케이블을 통해 상기 정 전압 및 역 전압 인가 회로 기판에 연결되고, 상기 밀착스프링을 통해 상기 글래스에 구비된 셀의 +, - 전극에 일대일 매치로 정 전압 또는 역 전압을 인가한다.
그리고, 상기 챔버부의 일측으로 소정간격 이격되도록 배치되고, 상기 OLED의 표면에 묻어 있는 이물질을 제거하는 이물질 제거부를 더 포함하고, 기 이물질 제거부는, 상기 트레이의 일측 절반을 감싸도록 장착되고, 양측에 고정돌기가 각각 형성된 제1 슬라이딩부; 양측에 상기 고정돌기가 각각 삽입되는 고정홈이 형성되어 상기 제1 슬라이딩부에 분리 가능하게 결합되고, 상기 트레이의 나머지 절반을 감싸도록 장착되는 제2 슬라이딩부; 상기 제1 슬라이딩부 및 제2 슬라이딩부가 장착된 트레이를 내려보내도록 경사지게 배치되며, 일면에 상기 트레이를 슬라이딩시키기 위한 통로가 웨이브 패턴으로 형성된 베이스부; 상기 제1 슬라이딩부 및 제2 슬라이딩부에 각각 적용되며, 상기 제1 슬라이딩부 및 제2 슬라이딩부의 슬라이딩속도를 가속시키는 무게추; 상기 제1 슬라이딩부 및 제2 슬라이딩부에 각각 서로 일정간격 이격되도록 축 설치되어 상기 통로의 내벽면을 따라 회전되는 롤러; 상기 제1 슬라이딩부의 상면에 서로 일정간격 이격되도록 결합되는 제1 솔레노이드; 상기 제1 솔레노이드의 플런저에 각각 결합되어 상기 통로의 벽면에 대해 전진 또는 후진되는 제1 결합판; 상기 제1 결합판에 각각 결합되는 제1 코일스프링; 상기 제1 코일스프링에 각각 결합되며, 상기 통로의 벽면에 충돌하는 면이 곡선면으로 형성되는 형성되는 반원형 틀 형상으로 형성되는 제1 튕김부; 상기 제2 슬라이딩부의 상면에 서로 일정간격 이격되도록 결합되는 제2 솔레노이드; 상기 제2 솔레노이드의 플런저에 각각 결합되어 상기 통로의 벽면에 대해 전진 또는 후진되는 제2 결합판; 상기 제2 결합판에 각각 결합되는 제2 코일스프링; 상기 제2 코일스프링에 각각 결합되며, 상기 통로의 벽면에 충돌하는 면이 곡선면으로 형성되는 형성되는 반원형 틀 형상으로 형성되는 제2 튕김부; 및 상기 통로의 상측에 길이방향을 따라 다수 설치되며, 상기 OLDE에 대해 흡기작동하는 흡기팬을 포함하고, 상기 제1 솔레노이드 및 제2 솔레노이드는 각각 기 설정된 시간간격으로 서로 교번되면서 상기 제1 결합판 및 제2 결합판을 전진 및 후진시키도록 프로그래밍되고, 상기 제1 튕김부 및 제2 튕김부는 상기 제1 솔레노이드 및 제2 솔레노이드에 의해 전진될 시 상기 통로의 벽면에 충돌되며, 상기 OLDE의 표면에 묻어 있는 이물질이 충돌에 의한 진동에 의해 비산되어 항기 흡기팬에 의해 제거된다.
또한, 상기 열처리부는, 상면에 상기 트레이가 출입하는 출입구가 형성되고, 내부에 상기 트레이가 수납되는 수납공간이 형성된 박스부; 상기 박스부의 수납공간 양측벽에 서로 대향되게 배치되며, 상기 트레이의 저면 양측 가장자리와 각각 소정간격 이격되는 지지부; 상기 트레이의 저면 양측 가장자리에 각각 부착되는 제1 자석부; 상기 지지부의 상면에 각각 결합되며, 상기 트레이를 반복적으로 상승 및 하강시키기 위해 마련되는 제3 솔레노이드; 상기 제3 솔레노이드의 플런저 상단에 각각 결합되고, 상기 제1 자석부에 자력으로 부착되도록 상기 제1 자석부와 반대 극성을 갖는 제2 자석부; 상기 박스부의 출입구를 개방 또는 폐쇄하는 개폐부; 상기 박스부의 수납공간 바닥면 및 상기 개폐부의 저면에 각각 서로 일정간격 이격되도록 배치되며, OLED를 열처리 하기 위한 열을 발생시키는 히터부; 상기 박스부의 수납공간 바닥면 및 상기 개폐부의 저면에 각각 서로 일정간격 이격되도록 배치되어, 상기 OLED의 상면 및 저면과 각각 마주하며, 상기 히터부들의 사이에 배치되고, 내부공간에 상기 히터부에 의해 발생된 열이 저장되는 저장박스; 및 상기 저장박스의 내부공간에 각각 수용되어, 상기 열을 흡수한 후 상기 OLED를 향해 배출하는 열전도매체를 포함한다.
상술한 본 발명의 일측면에 따르면, TFT(Thin Flim Transistor) 기판 이동시 발생하는 파티클에 의해 L/C(Leakage Current) 불량이 증가하는 문제를 개선하기 위해 L/C 불량의 주 원인인 메탈성 이물을 산화시켜 태워서 산화물을 만드는 Poison-Aging 공정을 도입함에 OLED Full System Line에서 증착 후 진공상태를 유지한 상태로 Glass를 투입 연계하여 N2, O2, Clean Air의 공정 가스를 투입하여 일정한 공정 압력을 자동으로 형성하여 역 전압 또는, Pule 역 전압 그리고 역 전압 +Pule 역 전압을 인가하여 OLED 증착 품질을 향상 시키고, 정 전압을 인가하여 광 전류 측정을 한 장치안에서 실행하여 개선 상태를 수치로 바로 알 수 있는 것으로, 외부 공기에 노출 없이 진공 상태에서 이송되는 진공 물류 라인에서 P-Aging 장치로 증착된 Glass가 투입되는 Gate Valve 및 투입되는 Glass를 안착 시킬 수 있는 Pin Up-Down Mechanism과 Stage, 진공 형성 용기인 챔버, 저 진공 및 고 진공 형성을 위한 진공 펌프 및 라인, P-Aging 환경을 만들기 위한 공정 가스 공급 시스템, 공정 압력을 만들기 위한 Auto Pressure Controller, Glass 소자내 정/역 전압을 인가 시킬 수 있는 Pin Connector가 회로로 형성되어 있는 하부지그, Glass와 Pin Connector가 전기적으로 안정적인 Contact을 할 수 있도록 눌러서 고정해주면서 정 전압을 인가 시 광 전류 측정을 위한 다이오드가 포함된 업-다운 기능이 있는 상부지그, 진공 챔부 내부에 있는 상/하부지그에 챔버를 통과하여 정/역 전압을 전달하는 진공 피드스루, P-Aging 및 측정을 위한 Constant Current/ Constant Voltage/ Pulse Current/ Pulse Voltage/ Pulse Current Voltage 발생 및 광 전류 측정기를 포함한 소스미터를 구비하고 한장의 Glass 처리 및 다수의 Glass 처리가 가능한 효과가 있다.
그리고, 에이징 공정을 수행하기 전에 OLED의 표면에 묻어 있는 먼지와 같은 이물질을 미리 제거하고, OLED를 열처리하면서 OLED에 묻어 있는 수분을 제거하여 OLED를 에이징 할 시 방해되는 요소를 원천적으로 차단할 수 있는 효과가 있다.
본 발명의 효과는 이상에서 언급한 효과들로 제한되지 않으며, 이하에서 설명할 내용으로부터 통상의 기술자에게 자명한 범위 내에서 다양한 효과들이 포함될 수 있다.
도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 OLED 공정 중 AI 및 AG 전극의 불량율 개선을 진공 환경의 인-라인으로 진행하는 포이즌-에이징 장치를 도시한 사시도.
도 2는 본 발명의 일 실시예에 따른 OLED 공정 중 AI 및 AG 전극의 불량율 개선을 진공 환경의 인-라인으로 진행하는 포이즌-에이징 장치에서 챔버부의 에이징 공간이 나타난 상태의 사시도.
도 3은 본 발명의 일 실시예에 따른 OLED 공정 중 AI 및 AG 전극의 불량율 개선을 진공 환경의 인-라인으로 진행하는 포이즌-에이징 장치에 적용된 트레이에 복수개의 OLED가 고정된 상태를 도시한 사시도.
도 4는 본 발명의 일 실시예에 따른 OLED 공정 중 AI 및 AG 전극의 불량율 개선을 진공 환경의 인-라인으로 진행하는 포이즌-에이징 장치에 적용된 챔버부와, 펌핑부와, 가스공급부와, 컨트롤러부와, 펌핑부 및 탱크의 연결관계를 도시한 블록도.
도 5는 본 발명의 일 실시예에 따른 OLED 공정 중 AI 및 AG 전극의 불량율 개선을 진공 환경의 인-라인으로 진행하는 포이즌-에이징 장치에 적용된 하부지그와, 트레이 업-다운 핀 및 상부지그를 도시한 정면도.
도 6은 본 발명의 일 실시예에 따른 OLED 공정 중 AI 및 AG 전극의 불량율 개선을 진공 환경의 인-라인으로 진행하는 포이즌-에이징 장치에 적용된 트레이 업-다운 핀 및 상부지그의 작동을 도시한 정면도.
도 7은 본 발명의 일 실시예에 따른 OLED 공정 중 AI 및 AG 전극의 불량율 개선을 진공 환경의 인-라인으로 진행하는 포이즌-에이징 장치에 적용된 이물질 제거부를 도시한 정면도.
도 8은 본 발명의 일 실시예에 따른 OLED 공정 중 AI 및 AG 전극의 불량율 개선을 진공 환경의 인-라인으로 진행하는 포이즌-에이징 장치에 적용된 베이스의 설치 상태를 도시한 측면도.
도 9는 본 발명의 일 실시예에 따른 OLED 공정 중 AI 및 AG 전극의 불량율 개선을 진공 환경의 인-라인으로 진행하는 포이즌-에이징 장치에 적용된 제1 슬라이딩부 및 제2 슬라이딩부를 도시한 단면도.
도 10은 본 발명의 일 실시예에 따른 OLED 공정 중 AI 및 AG 전극의 불량율 개선을 진공 환경의 인-라인으로 진행하는 포이즌-에이징 장치에 적용된 제1 슬라이딩부와, 제2 슬라이딩부와, 무게추와, 롤러와, 솔레노이드 및 코일스프링을 도시한 정면도.
도 11은 본 발명의 일 실시예에 따른 OLED 공정 중 AI 및 AG 전극의 불량율 개선을 진공 환경의 인-라인으로 진행하는 포이즌-에이징 장치에 적용된 열처리부를 도시한 도.
도 12는 본 발명의 일 실시예에 따른 OLED 공정 중 AI 및 AG 전극의 불량율 개선을 진공 환경의 인-라인으로 진행하는 포이즌-에이징 장치의 다른 실시예를 도시한 사시도.
도 13은 도 12의 내부를 도시한 정면도.
도 14 및 도 15는 본 발명의 일 실시예에 따른 OLED 공정 중 AI 및 AG 전극의 불량율 개선을 진공 환경의 인-라인으로 진행하는 포이즌-에이징 장치의 내부를 도시한 사시도.
도 16은 본 발명의 일 실시예에 따른 OLED 공정 중 AI 및 AG 전극의 불량율 개선을 진공 환경의 인-라인으로 진행하는 포이즌-에이징 장치의 내부를 도시한 정면도.
도 17은 도 12의 내부구성을 도시한 사시도.
도 18은 도 17에 적용된 카세트와, 상부지그 및 하부지그를 확대한 사시도.
도 19는 도 17 및 도 18에 적용된 카세트와, 상부지그와, 하부지그 및 락킹부를 확대한 사시도.
도 20은 도 12에 적용된 셋팅구동부를 도시한 사시도.
도 21은 도 12의 내부구성 및 셋팅구동부를 도시한 정면도.
도 22는 도 12에 따른 OLED 공정 중 AI 및 AG 전극의 불량율 개선을 진공 환경의 인-라인으로 진행하는 포이즌-에이징 장치의 작동 시퀀스를 도시한 정면도.
도 2는 본 발명의 일 실시예에 따른 OLED 공정 중 AI 및 AG 전극의 불량율 개선을 진공 환경의 인-라인으로 진행하는 포이즌-에이징 장치에서 챔버부의 에이징 공간이 나타난 상태의 사시도.
도 3은 본 발명의 일 실시예에 따른 OLED 공정 중 AI 및 AG 전극의 불량율 개선을 진공 환경의 인-라인으로 진행하는 포이즌-에이징 장치에 적용된 트레이에 복수개의 OLED가 고정된 상태를 도시한 사시도.
도 4는 본 발명의 일 실시예에 따른 OLED 공정 중 AI 및 AG 전극의 불량율 개선을 진공 환경의 인-라인으로 진행하는 포이즌-에이징 장치에 적용된 챔버부와, 펌핑부와, 가스공급부와, 컨트롤러부와, 펌핑부 및 탱크의 연결관계를 도시한 블록도.
도 5는 본 발명의 일 실시예에 따른 OLED 공정 중 AI 및 AG 전극의 불량율 개선을 진공 환경의 인-라인으로 진행하는 포이즌-에이징 장치에 적용된 하부지그와, 트레이 업-다운 핀 및 상부지그를 도시한 정면도.
도 6은 본 발명의 일 실시예에 따른 OLED 공정 중 AI 및 AG 전극의 불량율 개선을 진공 환경의 인-라인으로 진행하는 포이즌-에이징 장치에 적용된 트레이 업-다운 핀 및 상부지그의 작동을 도시한 정면도.
도 7은 본 발명의 일 실시예에 따른 OLED 공정 중 AI 및 AG 전극의 불량율 개선을 진공 환경의 인-라인으로 진행하는 포이즌-에이징 장치에 적용된 이물질 제거부를 도시한 정면도.
도 8은 본 발명의 일 실시예에 따른 OLED 공정 중 AI 및 AG 전극의 불량율 개선을 진공 환경의 인-라인으로 진행하는 포이즌-에이징 장치에 적용된 베이스의 설치 상태를 도시한 측면도.
도 9는 본 발명의 일 실시예에 따른 OLED 공정 중 AI 및 AG 전극의 불량율 개선을 진공 환경의 인-라인으로 진행하는 포이즌-에이징 장치에 적용된 제1 슬라이딩부 및 제2 슬라이딩부를 도시한 단면도.
도 10은 본 발명의 일 실시예에 따른 OLED 공정 중 AI 및 AG 전극의 불량율 개선을 진공 환경의 인-라인으로 진행하는 포이즌-에이징 장치에 적용된 제1 슬라이딩부와, 제2 슬라이딩부와, 무게추와, 롤러와, 솔레노이드 및 코일스프링을 도시한 정면도.
도 11은 본 발명의 일 실시예에 따른 OLED 공정 중 AI 및 AG 전극의 불량율 개선을 진공 환경의 인-라인으로 진행하는 포이즌-에이징 장치에 적용된 열처리부를 도시한 도.
도 12는 본 발명의 일 실시예에 따른 OLED 공정 중 AI 및 AG 전극의 불량율 개선을 진공 환경의 인-라인으로 진행하는 포이즌-에이징 장치의 다른 실시예를 도시한 사시도.
도 13은 도 12의 내부를 도시한 정면도.
도 14 및 도 15는 본 발명의 일 실시예에 따른 OLED 공정 중 AI 및 AG 전극의 불량율 개선을 진공 환경의 인-라인으로 진행하는 포이즌-에이징 장치의 내부를 도시한 사시도.
도 16은 본 발명의 일 실시예에 따른 OLED 공정 중 AI 및 AG 전극의 불량율 개선을 진공 환경의 인-라인으로 진행하는 포이즌-에이징 장치의 내부를 도시한 정면도.
도 17은 도 12의 내부구성을 도시한 사시도.
도 18은 도 17에 적용된 카세트와, 상부지그 및 하부지그를 확대한 사시도.
도 19는 도 17 및 도 18에 적용된 카세트와, 상부지그와, 하부지그 및 락킹부를 확대한 사시도.
도 20은 도 12에 적용된 셋팅구동부를 도시한 사시도.
도 21은 도 12의 내부구성 및 셋팅구동부를 도시한 정면도.
도 22는 도 12에 따른 OLED 공정 중 AI 및 AG 전극의 불량율 개선을 진공 환경의 인-라인으로 진행하는 포이즌-에이징 장치의 작동 시퀀스를 도시한 정면도.
후술하는 본 발명에 대한 상세한 설명은, 본 발명이 실시될 수 있는 특정 실시예를 예시로서 도시하는 첨부 도면을 참조한다. 이들 실시예는 당업자가 본 발명을 실시할 수 있기에 충분하도록 상세히 설명된다. 본 발명의 다양한 실시예는 서로 다르지만 상호 배타적일 필요는 없음이 이해되어야 한다. 예를 들어, 여기에 기재되어 있는 특정 형상, 구조 및 특성은 일 실시예와 관련하여 본 발명의 정신 및 범위를 벗어나지 않으면서 다른 실시예로 구현될 수 있다. 또한, 각각의 개시된 실시예 내의 개별 구성요소의 위치 또는 배치는 본 발명의 정신 및 범위를 벗어나지 않으면서 변경될 수 있음이 이해되어야 한다. 따라서, 후술하는 상세한 설명은 한정적인 의미로서 취하려는 것이 아니며, 본 발명의 범위는, 적절하게 설명된다면, 그 청구항들이 주장하는 것과 균등한 모든 범위와 더불어 첨부된 청구항에 의해서만 한정된다. 도면에서 유사한 참조부호는 여러 측면에 걸쳐서 동일하거나 유사한 기능을 지칭한다.
이하, 도면들을 참조하여 본 발명의 바람직한 실시예들을 보다 상세하게 설명하기로 한다.
도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 OLED 공정 중 AI 및 AG 전극의 불량율 개선을 진공 환경의 인-라인으로 진행하는 포이즌-에이징 장치를 도시한 사시도이고, 도 2는 본 발명의 일 실시예에 따른 OLED 공정 중 AI 및 AG 전극의 불량율 개선을 진공 환경의 인-라인으로 진행하는 포이즌-에이징 장치에서 챔버부의 에이징 공간이 나타난 상태의 사시도이며, 도 3은 본 발명의 일 실시예에 따른 OLED 공정 중 AI 및 AG 전극의 불량율 개선을 진공 환경의 인-라인으로 진행하는 포이즌-에이징 장치에 적용된 트레이에 복수개의 OLED가 고정된 상태를 도시한 사시도이고, 도 4는 본 발명의 일 실시예에 따른 OLED 공정 중 AI 및 AG 전극의 불량율 개선을 진공 환경의 인-라인으로 진행하는 포이즌-에이징 장치에 적용된 챔버부와, 펌핑부와, 가스공급부와, 컨트롤러부와, 펌핑부 및 탱크의 연결관계를 도시한 블록도이며, 도 5는 본 발명의 일 실시예에 따른 OLED 공정 중 AI 및 AG 전극의 불량율 개선을 진공 환경의 인-라인으로 진행하는 포이즌-에이징 장치에 적용된 하부지그와, 트레이 업-다운 핀 및 상부지그를 도시한 정면도이고, 도 6은 본 발명의 일 실시예에 따른 OLED 공정 중 AI 및 AG 전극의 불량율 개선을 진공 환경의 인-라인으로 진행하는 포이즌-에이징 장치에 적용된 트레이 업-다운 핀 및 상부지그의 작동을 도시한 정면도이며, 도 7는 본 발명의 일 실시예에 따른 OLED 공정 중 AI 및 AG 전극의 불량율 개선을 진공 환경의 인-라인으로 진행하는 포이즌-에이징 장치에 적용된 이물질 제거부를 도시한 정면도이고, 도 8은 본 발명의 일 실시예에 따른 OLED 공정 중 AI 및 AG 전극의 불량율 개선을 진공 환경의 인-라인으로 진행하는 포이즌-에이징 장치에 적용된 베이스의 설치 상태를 도시한 측면도이며, 도 9는 본 발명의 일 실시예에 따른 OLED 공정 중 AI 및 AG 전극의 불량율 개선을 진공 환경의 인-라인으로 진행하는 포이즌-에이징 장치에 적용된 제1 슬라이딩부 및 제2 슬라이딩부를 도시한 단면도이고, 도 10은 본 발명의 일 실시예에 따른 OLED 공정 중 AI 및 AG 전극의 불량율 개선을 진공 환경의 인-라인으로 진행하는 포이즌-에이징 장치에 적용된 제1 슬라이딩부와, 제2 슬라이딩부와, 무게추와, 롤러와, 솔레노이드 및 코일스프링을 도시한 정면도이고, 도 11은는 본 발명의 일 실시예에 따른 OLED 공정 중 AI 및 AG 전극의 불량율 개선을 진공 환경의 인-라인으로 진행하는 포이즌-에이징 장치에 적용된 열처리부를 도시한 도이며, 도 11은 본 발명의 일 실시예에 따른 OLED 공정 중 AI 및 AG 전극의 불량율 개선을 진공 환경의 인-라인으로 진행하는 포이즌-에이징 장치에 적용된 열처리부를 도시한 도이고, 도 12는 본 발명의 일 실시예에 따른 OLED 공정 중 AI 및 AG 전극의 불량율 개선을 진공 환경의 인-라인으로 진행하는 포이즌-에이징 장치의 다른 실시예를 도시한 사시도이며, 도 13은 도 12의 내부를 도시한 정면도이며, 도 14 및 도 15는 본 발명의 일 실시예에 따른 OLED 공정 중 AI 및 AG 전극의 불량율 개선을 진공 환경의 인-라인으로 진행하는 포이즌-에이징 장치의 내부를 도시한 사시도이고, 도 16은 본 발명의 일 실시예에 따른 OLED 공정 중 AI 및 AG 전극의 불량율 개선을 진공 환경의 인-라인으로 진행하는 포이즌-에이징 장치의 내부를 도시한 정면도이며, 도 17은 도 12의 내부구성을 도시한 사시도이고, 도 18은 도 17에 적용된 카세트와, 상부지그 및 하부지그를 확대한 사시도이며, 도 19는 도 17 및 도 18에 적용된 카세트와, 상부지그와, 하부지그 및 락킹부를 확대한 사시도이고, 도 20은 도 12에 적용된 셋팅구동부를 도시한 사시도이며, 도 21은 도 12의 내부구성 및 셋팅구동부를 도시한 정면도이고, 도 22는 도 12에 따른 OLED 공정 중 AI 및 AG 전극의 불량율 개선을 진공 환경의 인-라인으로 진행하는 포이즌-에이징 장치의 작동 시퀀스를 도시한 정면도이다.
본 발명의 일 실시예에 따른 OLED 공정 중 AI 및 AG 전극의 불량율 개선을 진공 환경의 인-라인으로 진행하는 포이즌-에이징 장치(10)는, OLED(2)에 에이징 공정을 수행함에 있어 진공 환경에서 역 바이어스를 인가하여 OLED(2)의 증착 품질을 향상시킬 수 있는 기술이다.
이를 위해 본 발명의 일 실시예에 따른 OLED 공정 중 AI 및 AG 전극의 불량율 개선을 진공 환경의 인-라인으로 진행하는 포이즌-에이징 장치(10)는, 챔버부(10)와, 펌핑부(20)와, 가스공급부(30)와, 트레이(40)와, 컨트롤러부(50)와, 진공 피드스루(140)와, 제1 진공부(150)와, 제2 진공부(160)와, 이물질 제거부(60)와, 열처리부(80)와, 하부지그(90)와, 트레이 업-다운 핀(100) 및 상부지그(110) 중 적어도 어느 하나 이상을 포함할 수 있다.
챔버부(10)는 OLED(2)의 에이징(aging) 환경을 제공하는 구성이다.
챔버부(10)는 프레임(F)에 탑재되고, 그 내부에 에이징 환경을 제공하는 빈 공간이 형성된다.
챔버부(10)는 상면이 개방되고, 내부에 다수개의 OLED(2)가 수용되는 에이징 공간(11)이 형성된다.
챔버부(10)의 상면은 덮개(12)에 개방 또는 폐쇄될 수 있다.
덮개(12)는 챔버부(10)에 힌지 결합되어 상,하 방향으로 회동되면서 챔버부(10)의 상면을 개방 또는 폐쇄한다.
덮개(12)는 자동 또는 수동으로 작동될 수 있다.
OLED(2)는 서로 분할된 구조로 챔버부(10)의 에이징 공간(11)에 개별수용되거나 또는, 도 3에 도시된 바와 같이 하나의 트레이(40)에 여러 개로 고정된 상태로 에이징 공간(11)에 수용된 상태로 에이징 공정을 거칠 수 있다.
트레이(40)에는 OLED(2)를 구획하여 보관하기 위한 복수개의 보관홈이 일정간격으로 형성된다.
일 예로, OLED(2)는 보관홈에 보관될 시 그 상면이 트레이(40)의 상측으로 돌출될 수 있다. 그리고, OLED(2)의 저면은 트레이(40)의 하측으로 돌출되거나 또는, 트레이(40)의 저면과 동일 높이로 배치되어 돌출 없이 단순히 노출될 수 있다.
이때, 트레이(40)는 챔버부(10)의 에이징 공간(11)에 1장 또는 4장 이상의 복수개가 다층 구조로 적용될 수 있다.
즉, 본 발명의 일 실시예에 따른 OLED 공정 중 AI 및 AG 전극의 불량율 개선을 진공 환경의 인-라인으로 진행하는 포이즌-에이징 장치(10)에서, 챔버부(10)는 1장의 트레이(40) 또는 4장 이상의 트레이(40)를 선택적으로 수용하여 OLED(2)의 에이징 처리를 할 수 있다.
특히, 트레이(40)를 4장 이상의 다층 구조로 적용하는 경우, 한번에 많은 양의 OLED(2)를 에이징 할 수 있다. 이로 인해 OLED(2)의 에이징 공정에 소요되는 시간을 현저히 단축할 수 있다.
트레이(40)를 4장 이상의 다층구조로 적용하는 경우, 본 발명의 일 실시예에 따른 OLED 공정 중 AI 및 AG 전극의 불량율 개선을 진공 환경의 인-라인으로 진행하는 포이즌-에이징 장치(200)는 도12, 도13, 도 17 내지 도22에 도시된 형상으로 형성될 수 있으며, 이에 대해서는 아래에서 자세히 설명하기로 한다.
부가적으로, 도 3에 도시된 바와 같이 트레이(40)에는 OLED(2)를 에이징 공정시 +극을 공급하기 위한 +전극 및 -극을 공급하기 위한 -전극을 포함된다.
한편, OLED(2)는 에이징 공간(11)에 수용되더라도 챔버부(10) 주변에 위치된 주변 조명에 의해 전류 변화가 일어날 수 있다. 이에 본 발명의 일 실시예에 따른 OLED 공정 중 AI 및 AG 전극의 불량율 개선을 진공 환경의 인-라인으로 진행하는 포이즌-에이징 장치(10)는 주변 조명에 의한 OLED(2)의 전류 변화를 방지하기 위하여, 챔버부(10)가 주변 조명을 차단하는 차광 구조를 가지도록 형성될 수 있다. 또한, OLED(2)는 온도 변화에 따른 출력 전류의 변화가 발생할 수 있다. 이에 본 발명의 일 실시예에 따른 OLED 공정 중 AI 및 AG 전극의 불량율 개선을 진공 환경의 인-라인으로 진행하는 포이즌-에이징 장치(10)는 온도 변화에 따른 OLED(2)의 전류 변화를 방지하기 위하여, 챔버부(10)의 OLED(2)가 안착되는 부분을 알루미늄 재질로 형성하고, 안착되는 부분이 균일하게 열을 발생시킬 수 있도록 제작될 수 있다.
챔버부(10)는 에이징 테스트를 위한 패널(미도시)을 포함할 수 있다. 패널에는 구동전원들 및/또는 구동신호들이 공급된다. 구동전원들 및/또는 구동신호들은 에이징 신호가 된다. 에이징 신호는 유기전계발광 소자에 소정의 전류가 흐르도록 각 화소들의 데이터선에 공급되는 전압 또는 전류를 포함한다.
챔버부(10)는 충전을 위한 제1 전압이 인가되는 제1 구간, 상기 에이징을 위한 제2 전압이 인가되는 제2 구간, 및 방전을 위한 제3 전압이 인가되는 제3 구간으로 구성되는 전압 파형을 주기적으로 인가하여 에이징 공간(11)에 위치한 OLED(2)에 에이징을 수행할 수 있다.
이러한 OLED(2)의 에이징 방법은 동일기술 분야에서 상용화 된 구성이므로, 구체적인 설명은 생략한다.
챔버부(10)는 진공 피드스루(140)를 더 포함할 수 있다. 진공 피드스루(140)는 챔버부(10)의 내부에 정/역 전압을 선택적으로 전달한다.
한편, 펌핑부(20)는 챔버부(10) 내의 공기를 배출시켜 진공압력을 형성하는 구성이다.
펌핑부(20)는 펌프로 형성될 수 있으며, 흡기라인(21)이 챔버부(10)에 연결된다.
펌핑부(20)는 펌핑작동을 통해 에이징 공간(11) 내의 공기나 먼지, 수분 등의 이물질을 흡기하면서 진공압력을 형성한다.
펌핑부(20)를 통해 에이징 공간(11)에 진공압력을 형성함에 따라, OLED(2)를 에이징 할 시 방해요소가 되는 이물질을 제거할 수 있다. 이로 인해 보다 정확하고 효율적인 에이징 작업이 이루어지도록 할 수 있다.
제1 진공부(150) 및 제2 진공부(160)는 챔버부(10)에 연결될 수 있다.
제1 진공부(150)는 파이프 형상으로 형성될 수 있으며, 에어콤프레셔와 같은 기구를 통해 챔버부(10)의 내부공간에 공기를 공급하여 챔버부(10)의 내부공간을 저진공으로 변환할 수 있다.
그리고, 제2 진공부(160)는 펌프와 같은 기구를 통해 챔버부(10)의 내부공간에 존재하는 공기를 흡입하여 챔버부(10)의 내부공간을 고진공으로 변환시키거나 또는, 챔버부(10)의 내부공간에 공기를 공급하여 챔버부(10)의 내부공간을 저진공으로 변환할 수 있다.
이러한 제1 진공부(150) 또는 제2 진공부(160)를 통해 챔버부(10)의 내부공간을 선택적으로 자유롭게 저진공 또는 고진공을 변환함에 따라, OLED(2)를 에이징 함에 있어, 챔버부(10)의 내부공간을 최적의 진공상태로 설정할 수 있다.
한편, 가스공급부(30)는 에이징 공정시 챔버부(10)의 에이징 공간(11)에 에이징가스를 공급하는 구성이다.
가스공급부(30)는 펌프로 형성될 수 있으며, 에이징가스가 저장된 탱크(3) 및 챔버부(10)에 각각 서로 다른 연결라인을 통해 연결된다.
가스공급부(30)는 펌핑부(20)가 에이징 공간(11)에 진공압력을 형성한 다음, 펌핑 작동을 하여 탱크(3)에 저장된 에이징가스를 흡입하여 챔버부(10)의 에이징 공간(11)에 공급하게 된다.
한편, 하부지그(90)는 도 5 및 도 6에 도시된 바와 같이, 챔버부(10)의 내부공간에 수납되어, 트레이(40)를 지지한다.
그리고, 트레이 업-다운 핀(100)은 복수개로 적용되며 서로 일정간격으로 이격되도록 배치된다.
도 14 및 도 15에 도시된 하부지그(90)는 트레이(40)를 지지하며, OLED(2)에 정 전압 또는 역 전압을 선택적으로 인가하는 정 전압 및 역 전압 인가 회로기판(91)을 더 포함할 수 있다.
이때, 정 전압 및 역 전압 인가 회로기판(91)은 하부지그(90)의 내부에 매립될 수 있다.
트레이 업-다운 핀(100)은 하부지그(90)의 하측에 배치된다. 트레이 업-다운 핀(100)은 공압실린더 또는 유압실린더로 형성되는 승강구동부(120)에 의해 승강될 수 있다.
도 6에 도시된 바와 같이 트레이 업-다운 핀(100)은 상승될 시 그 일정영역이 하부지그(90)를 관통하여 트레이(40)를 일정높이로 상승시킨다.
트레이 업-다운 핀(100)은 공정 압력을 만들기 위한 오토 프레셔 콘트롤러, 글래스(180) 소자내 정/역 전압을 인가 시킬 수 있도록 설계된다.
상부지그(110)는 챔버부(10)의 내부공간에 수납되며, 하부지그(90)에 안착된 트레이의(40) 상측으로 소정간격 이격된다.
상부지그(110)는 트레이 업-다운 핀(100)이 하부지그(90)의 상면에 안착된 트레이(40)를 상승시키면, 공압실린더 또는 유압실린더로 형성되며, 상/하 지그 컨텍 업-다운 기구부(130a)인 부가 승강구동부(120)에 의해 하강작동되어 트레이의 상면을 가압하여 고정시킨다.
상부지그(110)는 글래스(180)와 트레이 업-다운 핀(100)이 전기적으로 안정적인 컨텍을 할 수 있도록 트레이(40)를 눌러서 고정해준다.
아울러, 상부지그(110)는 정 전압을 인가시 OLED(2)의 광 전류를 측정할 수 있는 다이오드가 포함된 회로기판(111)을 포함한다.
이때, 본 발명의 일 실시예에 따른 OLED 공정 중 AI 및 AG 전극의 불량율 개선을 진공 환경의 인-라인으로 진행하는 포이즌-에이징 장치(10)는 역 전압 또는, Pule 역 전압 그리고, 역 전압 + Pule 역 전압을 인가하기 위한 진공내 회로 구성으로 진공 피드스루(140)를 통한 전선의 챔버부(10)내 유입 진공용 전성 케이블(170)을 통해 정 전압 및 역 전압 인가 회로기판(91)에 연결되고, 정 전압 및 역 전압 인가 회로기판(140)에 놓인 스프링 장착 핀(91a)을 통해 상기 챔버부의 내부에 위치되는 글래스(180)에 구비된 셀의 +, - 전극에 일대일 매치로 정 전압 또는 역 전압을 인가하며, 이는 외부 공기에 노출 없이 진공 상태에서 이송되는 진공 물류를 통한 상기 글래스를 상기 챔버부의 내부로 투입하기 위해 챔버부(10)의 내부에 엔드 이펙터(190, End-Effector)가 투입되어 글래스(180)를 지지하며, 챔버부(10)의 내부에 배치된 트레이 업-다운 핀(100)을 통해 하부지그(90)를 상승 또는 하강시켜 하부지그(90)와 상부지그(110)를 서로 벌리거나 인접시키는 매커니즘을 동반한다.
본 발명의 일 실시예에 따른 OLED 공정 중 AI 및 AG 전극의 불량율 개선을 진공 환경의 인-라인으로 진행하는 포이즌-에이징 장치(10)는, 전술한 트레이 업-다운 핀(100)과 상부지그(110)를 통해 트레이(40)의 상면과 저면을 동시에 안정적으로 고정시킨 상태에서 OLED(2)를 에이징할 수 있는 장점을 제공할 수 있다.
본 발명의 일 실시예에 따른 OLED 공정 중 AI 및 AG 전극의 불량율 개선을 진공 환경의 인-라인으로 진행하는 포이즌-에이징 장치(10)는, 챔버부(10)의 내부에 위치한 하부지그(90) 및 상부지그(110)에 챔버부(10)를 통과하여 정/역 전압을 전달하는 진공 피드스루와, P-Aging 및 측정을 위한 Constant Current/ Constant Voltage/ Pulse Current/ Pulse Voltage/ Pulse Current Voltage 발생 및 광 전류 측정기를 포함한 소스미터를 더 포함할 수 있다.
한편, 컨트롤러부(50)는 챔버부(10)의 에이징 공간(11)에 위치한 OLED(2)들에 에이징을 위한 전압, 전류를 생성하는 전압, 전류 생성 프로그램을 포함한다.
이때, 컨트롤러부(50)는 하드웨어 또는 소프트웨어 형태로 제작되며, 작업자용 PC에 내장될 수 있다.
컨트롤러부(50)는 챔버부(10)의 에이징 공간(11)에 위치한 OLED(2)들에 에이징을 위한 듀티 사이클(duty cycle), 전류 전압 중 적어도 어느 하나 이상을 생성하는 프로그램을 포함할 수 있다.
프로그램은 수신된 신호 타이밍과 전원 정보에 관한 데이터에 기초하여 듀티 사이클, 전류 및 전압 중 적어도 어느 하나를 생성할 수 있다. 즉, 프로그램은 수신된 신호 타이밍과 전원 정보에 관한 데이터를 해석하고, 그 해석 결과를 토대로 듀티 사이클, 전류 및 전압 중 적어도 어느 하나 이상을 생성할 수 있다.
프로그램은 편집기의 입력 조작에 의해 듀티 사이클, 전류 및 전압 중 적어도 어느 하나 이상을 가변적으로 생성할 수 있다. 일 예로, 프로그램을 실행하는 경우 편집기의 화면이 출력될 수 있다. 편집기의 화면에는 듀티 사이클, 전류 및 전압 중 적어도 어느 하나 이상을 입력할 수 있는 UI(User Interface)가 구비될 수 있다. UI에는 듀티 사이클 및 전압의 입력 범위가 미리 설정되어 있을 수 있으며, UI를 통해 미리 설정된 범위 내에서 듀티 사이클 및 전압을 입력할 수 있다. 이러한 입력 조작에 따라 프로그램은 듀티 사이클, 전류 및 전압 중 적어도 어느 하나 이상을 가변적으로 생성할 수 있다.
한편, 전술한 본 발명의 일 실시예에 따른 OLED 공정 중 AI 및 AG 전극의 불량율 개선을 진공 환경의 인-라인으로 진행하는 포이즌-에이징 장치(200)는, 챔버부(10)와, 펌핑부(20)와, 가스공급부(30)와, 트레이(40)와, 하부지그(90)와, 상부지그(110)와, 컨트롤러부(50)와, 진공 피드스루(140)와, 제1 진공부(150)와, 제2 진공부(160)와, 카세트(210)와, 승강가이드(253) 샤프트(220)와, 락킹부(230)와, 승강구동부(240)와, 셋팅구동부(250)와, 엔드 이펙터(190) 및 밀착스프링(260) 중 적어도 어느 하나 이상을 포함할 수 있다.
이때, 챔버부(10)와, 펌핑부(20)와, 가스공급부(30)와, 트레이(40)와, 하부지그(90)와, 상부지그(110)와, 컨트롤러부(50)와, 진공 피드스루(140)와, 제1 진공부(150), 제2 진공부(160) 및 엔드 이펙터(190)(190)는 전술한 바와 같으므로 구체적인 설명은 생략하고, 카세트(210)와, 승강가이드(253) 샤프트(220)와, 락킹부(230)와, 승강구동부(240)와, 셋팅구동부(250)와, 엔드 이펙터(190) 및 밀착스프링(260)에 대해서만 구체적으로 설명한다.
이때, 상부지그(110)의 일측과 타측에는 후술되는 락킹부(230)의 고정편(2311)이 삽입되어 고정되는 고정홈(110a)이 각각 형성된다.
그리고, 고정홈(110a)은 복수개로 형성될 수 있으며, 상부지그 상에서 서로 일정간격 이격되도록 형성된다.
그리고, 고정홈(110a)은 후술되는 고정편(2311)이 삽입되어 고정되는 구성으로써, 고정편(2311)과 동일한 개수로 적용된다.
카세트(210)는 챔버부의 내부공간에 수납된다.
카세트(210)는 대략 사각박스 형상으로 형성될 수 있다,
카세트(210)의 내부에는 상부지그 및 하부지그가 수용되는 수용공간이 형성된다.
이때, 상부지그 및 하부지그는 복수개로 적용되어 수용공간의 수직방향을 따라 순차적으로 교차되도록 배열되며, 도 18에는 4개의 상부지그 및 4개의 하부지그가 수용공간에 수용된 예를 도시하였다. 그리고, 하나의 하부지그 및 하나의 상부지그가 한 쌍으로 적용된다. 이로 인해 상부지그 및 하부지그는 4쌍으로 적용된다.
그리고, 상부지그 및 하부지그는 승강가이드(253) 샤프트(220)에 의해 서로 일정간격 이격된 상태를 유지한다.
승강가이드(253) 샤프트(220)는 상부지그들 및 하부지그들을 공동으로 관통하여, 상부지그들 및 하부지그들의 승강을 가이드한다.
일 예로, 승강가이드(253) 샤프트(220)는 도 18에 도시된 바와 같이, 4개로 적용될 수 있으며, 상부지그들 및 하부지그들의 각 모서리 부분을 공동으로 관통한다.
따라서, 상부지그들 및 하부지그들은 모서리 부분이 승강가이드(253) 샤프트(220)에 각각 가이드된 상태로 승강할 수 있다. 이때, 본 발명의 일 실시예에 따른 OLED 공정 중 AI 및 AG 전극의 불량율 개선을 진공 환경의 인-라인으로 진행하는 포이즌-에이징 장치(200)에서 승강가이드(253) 샤프트(220)의 적용개수는 4개에 한정되지 않으며, 4개 이하 또는 4개 이상으로 적용될 수 있음을 밝힌다.
그리고, 최상층에 위치된 상부지그는 에이징 공정 시 락킹부(230)에 의해 고정되어 부동상태를 유지하는 형태로 구현될 수 있다.
락킹부(230)는 최상층에 위치된 상부지그부터 최하층에 위치된 상부지그를 순차적으로 고정하여 해당 상부지그와 한쌍을 이루는 해당 하부지그가 이격되도록 할 수 있고, 이로 인해 상부지그 및 하부지그의 사이에 글래스(180) 및 트레이를 각각 투입할 수 있도록 하는 구성이다.
락킹부(230)는 도 17 및 도 19에 도시된 바와 같이, 2개 한 쌍으로 구성되어 카세트(210)의 일측과 타측에 각각 배치될 수 있다.
락킹부(230)는 상부지그와 하부지그를 이격시키도록 전,후진바(231) 및 전,후진 구동부(233)를 포함할 수 있다.
전,후진바(231)는 2개 한 쌍으로 구성되며, 구동판(232)의 전면에 서로 일정간격 이격되도록 배치될 수 있다.
전,후진바(231)의 일단에는 수직바가 각각 결합되며, 수직바의 하단에는 고정편(2311)이 각각 형성된다.
고정편(2311)은 수직바의 하단에서 각각 직각방향으로 연장되어 상부지그(110)의 고정홈(110a)과 동일선상에 배치된다.
전,후진 구동부(233)는 에어실린더로 형성될 수 있다.
전,후진 구동부(233)는 2개 한 쌍으로 구성되어 구동판(232)의 후방에 각각 배치되며, 그 피스톤은 구동판(232)의 후면 중앙부분에 결합된다.
전,후진 구동부(233)는 이와 같은 상태에서 구동판(232)을 각각 전진 또는 후진시킨다.
구동판(232)이 전진되면 한 쌍의 전,후진바(231)가 전진되어 고정편(2311)이 고정홈(110a)에 각각 수용된다.
그리고, 구동판(232)이 후진되면 고정편(2311)이 고정홈(110a)에서 각각 인출된다.
이러한 락킹부(230)를 통해 최상층에 위치된 상부지그부에서부터 최하층에 위치된 상부지그까지 순차적으로 고정시킬 수 있으며, 그 과정에서 상부지그와 한쌍을 이루는 하부지그를 상부지그의 하측으로 이격시켜 글래스(180) 및 트레이의 투입공간을 형성시킬 수 있다. 이에 대해서는 추후 도22를 참고하여 구체적으로 설명한다.
도면에 도시되지는 않았으나, 이러한 락킹부(230)들은 실린더, 랙피니언 등의 승강장치(미도시)를 통해 승강될 수 있으며, 승강장치는 락킹부(230)의 고정편(2311)을 각 층마다 위치된 상부지그의 고정홈(110a)과 각각 순차적으로 마주하도록 하강 또는 승강시킬 수 있다. 이때, 승강장치가 상부지그를 인식하는 방식은 각종 감지센서 중 어느 하나의 센서로 이루어지거나 또는, 비전장치를 통해 이루어질 수 있다.
이러한 승강장치가 고정편(2311)을 각 층마다 위치된 상부지그의 고정홈(110a)에 위치시키는 방식은 자동화 장치에서 상용화된 기술이므로, 구체적인 설명은 생략한다.
아울러, 락킹부(230)가 부동상태를 유지하고, 후술되는 승강구동부(240)가 카세트(210)를 승강시켜 각 층마다 위치된 상부지그의 고정홈(110a)이 고정편(2311)과 수평선상에 위치시키는 방식이 채용될 수 있으며, 이와 같은 경우 승강장치는 생략될 수 있다.
승강구동부(240)는 카세트(210)의 하측에 배치된다.
승강구동부(240)는 외주연에 나선이 형성된 샤프트 형상으로 형성될 수 있다.
승강구동부(240)는 카세트(210)를 안정적으로 승강시킬 수 있도록 복수개로 적용되어 카세트(210)의 하측에 서로 일정간격으로 이격되도록 배치될 수 있다.
승강구동부(240)의 하측은 베이스판(242)에 관통설치된 승강가이드(253)부재(241)를 관통하여 베이스판(242)의 저면측으로 돌출된다.
승강가이드(253)부재(241)는 승강구동부(240)의 정,역방향 회전을 원활하게 가이드하도록 베어링으로 형성될 수 있다.
일 예로, 승강구동부(240) 중 베이스판(242)의 하측으로 돌출된 부분은 모터(미도시)와 각각 연결될 수 있다. 모터들은 승강구동부(240)를 동일한 방향 및 동일한 속도로 회전시키도록 프로그래밍 될 수 있다.
다른 일 예로, 승강구동부(240) 중 베이스판(242)의 하측으로 돌출된 부분에는 기어 또는 풀리로 형성되는 회전수단(미도시)이 각각 장착되고, 회전수단들은 하나의 체인 또는 밸트로 형성되는 회전부재를 통해 연결된다.
그리고, 승강구동부(240) 중 어느 하나는 모터에 의해 정,역방향으로 회전된다.
모터로 승강구동부(240)를 회전시키면 회전부재는 회전수단들에서 무한궤도를 형성하면서 회전되고, 이로 인해 나머지 승강구동부(240)들도 함께 회전된다.
승강구동부(240)의 상측에는 내주연에 승강구동부(240)의 외주연에 체결되는 나선이 형성되거나 또는, 승강구동부(240)의 스크류를 따라 상,하 방향으로 이동되는 볼이 형성된 승강체(미도시)가 각각 배치된다.
승강체는 일정한 길이를 갖도록 형성되어 일정영역이 승강구동부(240)에 체결되고, 나머지 영역은 승강구동부(240)의 상측으로 돌출되어 그 상면이 카세트(210)의 저면에 결합된다.
승강체는 승강구동부(240)의 회전에 의해 승강구동부(240)를 따라 상승 또는 하강되면서 카세트(210)를 상승 또는 하강시킨다.
셋팅구동부(250)는 카세트(210)의 외부에서 상부지그와 하부지그의 사이 공간으로 글래스(180)를 지지하기 위한 지지편(2541)을 투입시킨 후, 지지편(2541)을 하강시켜 글래스(180)를 하부지그의 상면에 안착시킨 다음, 상부지그와 하부지그의 사이에서 이탈시키는 구성이다.
도21 및 도22에 도시된 바와 같이, 셋팅구동부(250)는 카세트(210)의 상측으로 일정간격 이격되도록 배치되는 서보모터(251)와, 서보모터(251)의 주변에 서로 일정간격 이격되도록 배치되되, 어느 하나가 서보모터(251)의 모터축에 결합되는 복수개의 풀리(P1,P2)와, 풀리(P1,P2)들에서 무한궤도를 형성하면서 회전되는 밸트(B)와, 카세트(210)의 일측과 타측에 각각 2개 한 쌍으로 배치되고, 상면과 저면이 개방되고, 내주연에 길이방향을 따라 나선이 형성된 승강가이드(253)와, 외주연에 승강가이드(253)의 나선에 체결되는 나선이 형성되며, 정,역방향 회전에 의해 승강가이드(253)를 따라 승강되며, 하단에 글래스(180)를 지지하기 위한 지지편(2541)이 직각방향으로 연장되는 승강샤프트(254), 지지편(2541)이 글래스(180)를 지지하거나 또는, 글래스(180)에서 이탈되도록 승강샤프트(254)를 정, 역방향으로 90도 각도로 회전시키는 회전용 실린더(252)를 포함할 수 있다.
이때, 도 20을 기준으로 서보모터(251)와, 회전실린더와, 풀리(P) 및 밸트(B)는 설치판(255)의 상측에 배치되고, 승강가이드(253)는 설치판(255)의 하측에 배치되어 카세트(210)의 일측과 타측에 각각 배치된다.
그리고, 승강가이드(253)의 상측은 설치판(255)(255)의 상측으로 돌출되고, 승강샤프트(254)의 상측(254a)도 설치판(255)(255)의 상측으로 돌출된다.
도면에 도시되지는 않았으나, 회전용 실린더(252)의 사이에 배치된 한 쌍의 풀리(P1)는 수직축에 각각 장착되어 제자리 회전된다. 수직축의 하측은 승강가이드(253)의 상측 사이에 배치된다. 수직축의 하측에는 별도의 풀리(미도시)가 장착되며, 승강가이드(253)의 상측에는 별도의 풀리(미도시)가 장착될 수 있다.
그리고, 이들 풀리(미도시)는 하나의 밸트(미도시)에 의해 연결될 수 있다. 밸트는 풀리들에 무한궤도를 형성하면서 회전되는 형태로 장착될 수 있다.
그리고, 승강샤프트(254)는 승강가이드(253)가 회전될 시 회전되지 않고 승강될 수 있는 구조로 구현된다. 승강샤프트(254)가 승강가이드(253)의 회전에 의해 회전없이 승강되는 방식은 상용화 된 기술이므로 구체적인 설명은 생략한다.
이와 같은 연결구조에 의해 서보모터(251)가 회전되면, 결국 4개의 승강가이드(253)가 회전되며, 이로 인해 승강샤프트(254)가 카세트(210)의 수직방향을 따라 승강되어 엔드 이펙터(190)로부터 공급되는 글래스(180)를 전달 받은 다음, 하강시켜 하부지그에 공급할 수 있다.
그리고, 회전용 실린더(252)는 에어실린더로 형성될 수 있다.
회전용 실린더(252)의 피스톤이 전진되면 승강샤프트(254) 및 지지편(2541)이 정 방향으로 90도 각도로 회전되고, 회전용 실린더(252)의 피스톤이 후진되면 승강샤프트(254) 및 지지편(2541)이 다시 역 방향으로 90도 각도로 회전되어 지지편(2541)이 원 상태로 복귀되도록 설계될 수 있다.
일 예로, 도면에 도시되지는 않았으나 회전용 실린더(252)의 저면에 형성된 피스톤에는 기어(미도시)가 축 결합되고, 승강샤프트(254)의 상측 외주연에는 회전용 실린더(252)의 피스톤에 장착된 기어와 치합되는 기어(미도시)가 장착될 수 있다.
따라서, 실린더의 피스톤이 전진되면 승강샤프트(254) 및 지지편(2541)이 정 방향으로 90도 각도로 회전되고, 회전용 실린더(252)의 피스톤이 후진되면 승강샤프트(254) 및 지지편(2541)이 다시 역 방향으로 90도 각도로 회전되어 지지편(2541)이 원 상태로 복귀된다.
이러한, 회전용 실린더(252)의 전,후진 작동에 의해 기어가 회전되어 승강샤프트(254)를 회전시키는 방식은 자동화 장치에서 상용화된 기술이므로, 구체적인 설명은 생략한다.
엔드 이펙터는 카세트(210)의 외부에서 상부지그(110)와 하부지그(90)의 사이 공간으로 글래스(180)를 투입한 후, 하강작동되어 지지편(2541)의 상면에 글래스(180)를 안착시킨 다음, 후진작동에 의해 카세트(210)의 외부로 인출된다.
엔드 에펙터는 리니어 실린더 또는 로드레스 실린더로 형성되는 전,후진부(미도시)에 의해 전,후진 작동되어 상부지그와 하부지그의 사이 공간으로 글래스(180)를 투입한 후 카세트(210)의 외부로 인출될 수 있다.
그리고, 전,후진부는 리니어 실린더 또는 로드레스 실린더로 형성되는 승강부(미도시)에 의해 하강될 수 있다.
밀착스프링(260)은 도 18 및 도 19에 도시된 바와 같이, 서로 한 한쌍을 이루는 하부지그 및 상부지그의 일측과 타측에 각각 적어도 하나 이상으로 배치된다.
밀착스프링(260)은 하부지그의 양측면에 형성된 하부걸이핀(92)과, 상부지그의 양측면에 형성된 상부걸이핀(112)에 각각 고정된다.
이를 위해 하부걸이핀(92) 및 상부걸이핀(112)에는 관통홀이 각각 형성되고, 밀착스프링(260)의 상측과 하측에는 관통홀에 각각 관통설치되는 후크가 각각 형성된다.
이러한 밀착스프링(260)을 통해 상부지그 및 이와 한쌍을 이루는 하부지그가 벌어졌을 때, 하부지그를 자동으로 상승시켜 상부지그에 밀착시킬 수 있다.
다음으로, 도 22를 참고하여 OLED 공정 중 AI 및 AG 전극의 불량율 개선을 진공 환경의 인-라인으로 진행하는 포이즌-에이징 장치의 작동순서를 설명한다.
먼저, 카세트(210)의 일측과 타측 중 최상층에 위치된 상부지그 상에서 전,후진 구동부(233)가 전,후진바(231)를 각각 전진시켜, 고정편(2311)을 고정홈(110a)에 삽입한다.
이와 같은 경우, 최상층에 위치된 상부지그는 카세트(210)가 하강되더라도 하강되지 아니한다.
이후, 승강구동부(240)가 카세트(210)를 소정거리 하강시켜 최상층에 위치한 상부지그와 한쌍을 이루는 하부지그 및 그 아래층에 위치된 상부지그들 및 하부지그들이 승강가이드(253) 샤프트(220)에 가이드되어 하강된다.
그리고, 최상층에 위치된 하부지그는 상부지그의 하측으로 소정간격 이격된다.
따라서, 도 22(a)에 도시된 바와 같이 상부지그와 하부지그의 사이에는 공간이 발생된다. 그리고, 밀착스프링(260)은 하부지그가 상부지그에서 이격됨으로 인해 팽창된다.
이후, 전술한 서보모터(251)가 작동하여 승강샤프트(254)들이 위치에 따라 승강 또는 하강되어 지지편(2541)이 상부지그와 하부지그의 사이 공간에 해당되는 높이에 위치되며, 이후 회전용 실린더(252)가 작동하여 지지편(2541)을 90도 각도로 회전시킨다.
따라서, 지지편(2541)은 도 22(b)에 도시된 바와 같이, 상부지그 및 하부지그의 사이 공간에로 투입된다.
이후에, 도 22(c) 및 도 22(d)에 도시된 바와 같이, 엔드 이펙터(190)가 전진작동에 의해 상부지그 및 하부지그의 사이 공간으로 글래스(180)를 투입시킨 다음, 하강된 후, 후진작동에 의해 상부지그 및 하부지그의 외부로 인출되며, 그 과정에서 지지편(2541)들의 상면에 글래스(180)가 안착된다.
이후에, 서보모터(251)가 작동하여 승강샤프트(254) 및 지지편(2541)을 하강시키며, 이로 인해 지지편(2541)에 안착된 글래스(180)가 하부지그의 상면에 형성된 글래스(180) 수용홈에 수용된다.
이때, 하부지그의 양 가장자리에는 글래스(180)를 안착시키기 위한 지지편(2541)이 수용되며, 이 상태에서 90도 각도로 회전될 수 있도록 허용하기 위한 회전허용홈이 형성된다. 회전허용홈은 평면에서 바라본 단면 형상이 대략 "ㄱ"자 또는 "ㄴ"자 형상으로 형성될 수 있다.
이후, 전술한 전,후진 구동부(233)가 전,후진바(231)를 후진시킨다.
이로 인해, 고정편(2311)이 고정홈(110a)에서 인출되어 밀착스프링(260)이 수축에 의해 원상태로 복원되며, 결국 하부지그가 상부지그에 밀착되는 형태로 합착된다.
이때, 전,후진 구동부(233)가 전,후진바(231)를 후진시키기 전에 글래스(180)의 상측에 트레이를 안착하는 공정이 수행될 수도 있다.
이와 같이, 하부지그와 상부지그의 사이에 글래스(180)를 투입한 후 하부지그를 상부지그에 합착하면 역 전압 또는, Pule 역 전압 그리고, 역 전압 + Pule 역 전압을 인가하기 위한 진공내 회로 구성으로 진공 피드스루를 통한 전선의 챔버부내 유입 진공용 전성 케이블을 통해 정 전압 및 역 전압 인가 회로 기판에 연결되고, 상기 밀착스프링(260)을 통해 상기 글래스(180)에 구비된 셀의 +, - 전극에 일대일 매치로 정 전압 또는 역 전압을 인가할 수 있다.
이후에, 전술한 과정을 반복하여 3층에서부터 1층에 위치된 상부지그(110) 및 하부지그(90)의 사이에 글래스(180) 및/또는 트레이를 순차적으로 투입하여 필요공정을 수행하면 된다.
다음으로, 도 7 내지 도 10을 참고하여 이물질 제거부(60)에 대해 설명한다.
이물질 제거부(60)는 에이징 공정을 수행하기 전에 OLED(2)에 묻어 있는 먼지와 같은 이물질을 제거하는 구성이다.
이때, P-Aging 공정은 L/C 불량의 주 원인인 메탈성 이물을 산화시켜 태워서 산화물을 만드는 Poison-Aging 공정 장비이다.
산화 공정에서도 OLED(2)에 이물질이 묻을 수 있으며, 이물질 제거부(60)는 산화 공정에서 OLED(2)에 묻는 이물질도 제거할 수 있다.
이를 위해, 이물질 제거부(60)는 제1 슬라이딩부(61), 제2 슬라이딩부(62), 베이스부(63), 무게추(64), 롤러, 제1 솔레노이드(66), 제1 결합판(67), 제1 코일스프링(68), 제1 튕김부(69), 제2 솔레노이드(70), 제2 결합판(71), 제2 코일스프링(72), 제2 튕김부(73) 및 흡기팬(74) 중 적어도 어느 하나 이상을 포함할 수 있다.
제1 슬라이딩부(61)는 트레이(40)의 일측 절반을 감싸도록 장착되는 구성이다.
이를 위해, 제1 슬라이딩부(61)의 내부에는 사각형 단면 형상으로 형성되는 트레이(40)의 일측 절반을 감싸는 "ㄷ"자 단면 형상의 제1 감쌈홈(612)이 형성된다.
그리고, 제1 슬라이딩부(61)는 후술되는 베이스부(63)의 통로를 따라 원활하게 이동되도록 반원형 단면 형상으로 형성된다.
제1 슬라이딩부(61)의 양측에는 후술되는 제2 슬라이딩부(62)와 결합을 위한 고정돌기(611)가 각각 형성된다.
제2 슬라이딩부(62)는 트레이(40)의 타측 나머지 절반을 감싸도록 장착되는 구성이다.
이를 위해, 제2 슬라이딩부(62)의 내부에는 사각형 단면 형상으로 형성되는 트레이(40)의 일측 절반을 감싸는 "ㄷ"자 단면 형상의 제2 감쌈홈이 형성된다.
그리고, 제2 슬라이딩부(62)는 후술되는 베이스부(63)의 통로를 따라 원활하게 이동되도록 반원형 단면 형상으로 형성된다.
제2 슬라이딩부(62)의 양측에는 후술되는 제1 슬라이딩부(61)의 고정돌기(611)가 삽입되어 고정되는 고정홈(621)이 각각 형성된다.
고정돌기(611)가 고정홈(621)에 결합됨으로 인해 제1 슬라이딩부(61) 및 제2 슬라이딩부(62)가 서로 결합되면서 트레이(40)의 일측과 타측을 각각 감싸도록 장착된다.
제1 슬라이딩부(61) 및 제2 슬라이딩부(62)는 결합될 시 하나의 원을 형성함으로, 후술되는 베이스의 통로를 따라 슬라이딩될 시 큰 충돌저항이나 접촉저항이 발생되지 아니하도록 할 수 있다.
이로 인해, 서로 결합된 제1 슬라이딩부(61) 및 제2 슬라이딩부(62)가 원활하게 슬라이딩 되도록 할 수 있다.
이때, 제1 슬라이딩부(61) 및 제2 슬라이딩부(62)는 트레이(40)보다 굵은 두께를 갖도록 형성됨으로, 트레이(40)가 제1 슬라이딩부(61) 및 제2 슬라이딩부(62)에 장착될 시 OLED(2)의 저면은 통로의 바닥면과 소정간격 이격되어 접촉되지 않는다.
베이스부(63)는 챔버부(10)의 일측으로 소정간격 이격되도록 배치된다.
베이스부(63)는 대략 사각판 형상으로 형성될 수 있다.
베이스부(63)는 그 저면이 대략 직삼각형 형상으로 형성되는 지지블록(75)에 지지되어 경사진 구조를 이룬다. 이로 인해 베이스부(63)는 제1 슬라이딩부(61) 및 제2 슬라이딩부(62)가 장착된 트레이(40)를 하 방향으로 내려보낼 수 있다.
베이스부(63)의 상면에는 트레이(40)를 슬라이딩시키기 위한 통로가 일정깊이로 함몰되는 형태로 형성된다.
통로는 트레이(40)의 슬라이딩 경로를 증가시키기 위해 웨이브 패턴으로 형성된다.
무게추(64)는 제1 슬라이딩부(61) 및 제2 슬라이딩부(62)에 각각 적어도 하나 이상으로 적용되어, 제1 슬라이딩부(61) 및 제2 슬라이딩부(62)의 슬라이딩 속도를 가속시킨다.
제1 슬라이딩부(61) 및 제2 슬라이딩부(62)의 상면에는 복수개의 매립홈(613,623)이 일정간격으로 형성된다.
무게추(64)는 매립홈(613,623)에 각각 매립되어 제1 슬라이딩부(61) 및 제2 슬라이딩부(62)의 무게를 증가시킴에 따라, 제1 슬라이딩부(61) 및 제2 슬라이딩부(62)의 슬라이딩 속도를 가속시킨다.
이때, 무게추(64)는 매립홈(613,623)에 매립될 시 그 상면만 외부로 노출된다.
아울러, 무게추(64)의 상면은 제1 슬라이딩부(61) 및 제2 슬라이딩부(62)의 외부로 돌출되지 아니한다.
롤러는 복수개로 적용되어 제1 슬라이딩부(61) 및 제2 슬라이딩부(62)에 각각 서로 일정간격 이격되도록 축 설치된다.
이때, 제1 슬라이딩부(61) 및 제2 슬라이딩부(62)는 통로의 내벽면과 마주하는 측면에 롤러가 수용되는 수용홈이 곡선형상으로 형성된다.
롤러는 일부분은 수용홈에서 제1 슬라이딩부(61) 및 제2 슬라이딩부(62)에 각각 축 설치된다. 그리고, 롤러의 나머지 부분은 수용홈에서 돌출되어 통로의 내벽면을 따라 마찰을 일으키면서 회전 될 수 있다.
이러한 롤러를 통해 서로 결합된 제1 슬라이딩부(61) 및 제2 슬라이딩부(62)가 통로를 따라 원활하게 이동하도록 할 수 있다.
제1 솔레노이드(66)는 제1 슬라이딩부(61)의 상면에 서로 일정간격 이격되도록 결합된다.
제1 결합판(67)은 제1 솔레노이드(66)의 플런저에 각각 결합되어 통로의 벽면에 대해 전진 또는 후진된다.
제1 코일스프링(68)은 제1 결합판(67)에 각각 적어도 하나 이상으로 결합된다.
제1 코일스프링(68)은 OLED(2)에 묻어 있는 이물질 제거에 필요한 진동을 발생시킨다.
제1 튕김부(69)는 제1 코일스프링(68)에 각각 결합되며, 통로의 벽면에 충돌하는 면이 곡선면으로 형성되는 형성되는 반원형 틀 형상으로 형성된다.
따라서, 제1 튕김부(69)는 통로의 벽면에 충돌될 시 일정수준으로 수축된다.
도면에는 제1 솔레노이드(66)가 제1 슬라이딩부(61)의 좌측에 결합된 예를 도시하였으나, 제1 솔레노이드(66)는 제1 슬라이딩부(61)의 상측 및 하측에도 추가로 더 결합될 수 있다.
그리고, 추가로 더 결합되는 제1 솔레노이드(66)에도 제1 결합판(67)과, 제1 코일스프링(68) 및 제1 튕김부(69)가 각각 적용될 수 있다.
제2 솔레노이드(70)는 제2 슬라이딩부(62)의 상면에 서로 일정간격 이격되도록 결합된다.
제2 결합판(71)은 제2 솔레노이드(70)의 플런저에 각각 결합되어 통로의 벽면에 대해 전진 또는 후진된다.
제2 코일스프링(72)은 제2 결합판(71)에 각각 적어도 하나 이상으로 결합된다.
제2 코일스프링(72)은 OLED(2)에 묻어 있는 이물질 제거에 필요한 진동을 발생시킨다.
제2 튕김부(73)는 제2 코일스프링(72)에 각각 결합되며, 통로의 벽면에 충돌하는 면이 곡선면으로 형성되는 형성되는 반원형 틀 형상으로 형성된다.
따라서, 제2 튕김부(73)는 통로의 벽면에 충돌될 시 일정수준으로 수축된다.
도면에는 제2 솔레노이드(70)가 제2 슬라이딩부(62)의 우측에 결합된 예를 도시하였으나, 제2 솔레노이드(70)는 제2 슬라이딩부(62)의 상측 및 하측에도 추가로 더 결합될 수 있다.
그리고, 추가로 더 결합되는 제2 솔레노이드(70)에도 제2 결합판(71)과, 제2 코일스프링(72) 및 제1 튕김부(73)가 각각 적용될 수 있다.
흡기팬(74)은 다수개로 적용되어 통로의 상측에 길이방향을 따라 다수 배치된다.
이때, 흡기팬(74)은 경사형 지지대(76)에 서로 일정간격 이격되도록 설치된다.
흡기팬(74)은 흡기작동을 통해 통로를 따라 이동하는 OLDE에 묻어 있는 이물질을 흡기하여 분리시키게 된다.
다음으로, 이상 설명한 이물질 제거부(60)의 작동 및 효과에 대해 설명한다.
먼저, 제1 슬라이딩부(61) 및 제2 슬라이딩부(62)를 트레이(40)의 일측과 타측에 장착하면서 결합하여 하나의 조립체(4)를 형성한다.
이후, 제1 솔레노이드(66) 및 제2 솔레노이드(70)들을 작동시킨 다음, 베이스의 상측에서 조립체(4)를 통로에 투입한다.
따라서, 조립체(4)는 통로를 따라 슬라이딩된다.
제1 솔레노이드(66) 및 제2 솔레노이드(70)는 각각 기 설정된 시간간격으로, 제1 결합판(67) 및 제2 결합판(71)을 전진 및 후진시키도록 프로그래밍 된다.
아울러, 제1 솔레노이드(66) 및 제2 솔레노이드(70)는 서로 교번되게 제1 결합판(67) 및 제2 결합판(71)을 전진 및 후진시키도록 프로그래밍 된다.
따라서, 제1 솔레노이드(66)가 제1 결합판(67)을 전진시킬 시 제2 솔레노이드(70)는 제2 결합판(71)을 후진시키고, 제1 솔레노이드(66)가 제1 결합판(67)을 후진시킬 시 제2 솔레노이드(70)는 제2 결합판(71)을 전진시킨다.
이로 인해, 조립체(4)가 통로를 따라 슬라이딩 되는 과정에서 제1 솔레노이드(66)가 제1 결합판(67)을 먼저 전진시킨다. 제1 결합판(67)이 전진됨으로 인해 제1 코일스프링(68) 및 제1 튕김부(69)도 전진되며, 결국 제1 튕김부(69)가 통로의 일측벽을 타격하면서 일정수준으로 수축된다. 따라서, 조립체(4)가 통로의 타측벽으로 튕겨진다.
이때, 제1 코일스프링(68)은 제1 튕김부(69)가 통로의 일측벽에 충돌하면 일정수준으로 압축되고, 제1 튕김부(69)가 통로의 일측벽에서 튕겨지면 팽창되면서 통로의 타측벽으로 이동되는 조립체(4)를 가속시킨다.
한편, 조립체(4)가 통로의 타측벽으로 이동되는 과정에서 제1 솔레노이드(66)가 제1 결합판(67)을 후진시키고, 제2 솔레노이드(70)가 제2 결합판(71)을 전진시킨다. 제2 결합판(71)이 전진됨으로 인해 제2 코일스프링(72) 및 제2 튕김부(73)도 전진되며, 결국 제2 튕김부(73)가 통로의 타측벽을 타격하면서 일정수준으로 수축된다. 따라서, 조립체(4)가 다시 통로의 일측벽으로 튕겨진다.
이때, 제1 코일스프링(68)은 제1 튕김부(69)가 통로의 일측벽에 충돌하면 일정수준으로 압축되고, 제1 튕김부(69)가 통로의 일측벽에서 튕겨지면 팽창되면서 통로의 타측벽으로 이동되는 조립체(4)를 가속시킨다.
그리고, 조립체(4)가 통로의 일측벽으로 이동되는 과정에서 제2 솔레노이드(70)가 제2 결합판(71)을 후진시키고, 제1 솔레노이드(66)가 제1 결합판(67)을 다시 전진시킨다. 전술한 바와 같이 제1 결합판(67)이 전진됨으로 인해 제1 코일스프링(68) 및 제1 튕김부(69)도 전진되며, 결국 제1 튕김부(69)가 통로의 일측벽을 타격하면서 일정수준으로 수축된다. 따라서, 조립체(4)가 통로의 타측벽으로 튕겨진다.
조립체(4)는 통로를 따라 슬라이딩되는 과정에서 제1 솔레노이드(66)와, 제1 코일스프링(68)과, 제1 튕김부(69)와, 제2 솔레노이드(70)와, 제2 코일스프링(72) 및 제2 튕김부(73)의 상호 작용에 의해 통로의 일측벽과 타측벽을 지그재그 형태로 반복적으로 왕복이동 된다. 그리고, 제1 튕김부(69) 및 제2 튕김부(73)가 통로의 일측벽과 타측벽에 각각 충돌될 때마다 조립체(4)의 OLED(2)에 반복적으로 진동이 발생되어, OLED(2)의 상면과 저면에 묻어 있던 이물질이 분리된다.
이때, 전술한 제1 코일스프링(68) 및 제2 코일스프링(72)이 조립체(4)를 가속시킴에 따라, OLED(2)에 많은 진동이 발생되도록 할 수 있어 이물질 제거효율을 향상시킬 수 있다.
그리고, OLED(2)의 상면에서 비산되는 이물질은 흡기팬(74)의 작동에 의해 공중으로 날아가게 된다. 즉, 흡기팬(74)을 통해 OLED(2)에서 이물질을 완벽하게 분리할 수 있다.
또한, 본 발명의 일 실시예에 따른 OLED 공정 중 AI 및 AG 전극의 불량율 개선을 진공 환경의 인-라인으로 진행하는 포이즌-에이징 장치(10)는 이물질 제거부(60)를 통해 OLED(2)를 직접 타격하지 않고도 진동을 발생시켜 이물질을 제거할 수 있다.
이로 인해 OLED(2)를 안전하게 보호하면서 이물질 제거 작업이 이루어지도록 할 수 있다.
부가적으로, 제1 롤러(65a)는 제1 코일스프링(68)이 수축되었을 때 통로의 일측벽에 접촉되고, 제2 롤러(65b)는 제2 코일스프링(72)이 수축되었을 때 통로의 타측벽에 접촉될 수 있다. 제1 롤러(65a) 및 제2 롤러(65b)의 외주연에는 고무나 실리콘 재질의 보호링이 장착될 수 있다.
그리고, 통로에서 조립체(4)의 슬라이딩이 원활하게 이루어진다면 제1 롤러(65a) 및 제2 롤러(65b)는 생략될 수도 있다.
한편, 전술한 제1 솔레노이드(66) 및 제2 솔레노이드(70)는 제1 슬라이딩부(61) 및 제2 슬라이딩부(62)에 분리 가능하게 결합될 수 있다.
이를 위해 제1 솔레노이드(66) 및 제2 솔레노이드(70)의 일면에는 돌기가 형성되고, 제1 슬라이딩부(61) 및 제2 슬라이딩부(62)의 상면과 저면에는 제1 솔레노이드(66) 및 제2 솔레노이드(70)의 돌기가 삽입되어 고정되는 고정홈이 각각 형성된다.
따라서, 조립체(4)가 통로의 하단까지 내려오면 제1 슬라이딩부(61) 및 제2 슬라이딩부(62)의 상면에서 제1 솔레노이드(66) 및 제2 솔레노이드(70)를 분리한 다음, 조립체(4)를 180도로 뒤집어, 제1 슬라이딩부(61) 및 제2 슬라이딩부(62)의 상면과 하면을 반전시킨 후, 뒤집어진 제1 슬라이딩부(61) 및 제2 슬라이딩부(62)의 상면에 제1 솔레노이드(66) 및 제2 솔레노이드(70)를 결합한 다음, 베이스의 상측에서 조립체(4)를 통로에 투입하여 OLED(2)의 저면에 묻어 있는 이물질도 제1 솔레노이드(66)와, 제1 코일스프링(68)과, 제1 튕김부(69)와, 제2 솔레노이드(70)와, 제2 코일스프링(72)와, 제2 튕김부(73) 및 흡기팬(74)의 상호 작용을 통해 제거하면 된다.
이때, 본 발명의 일 실시예에 따른 OLED 공정 중 AI 및 AG 전극의 불량율 개선을 진공 환경의 인-라인으로 진행하는 포이즌-에이징 장치(10)는 베이스부(63) 및 흡기팬(74)을 내부공간에 수용하는 박스형상의 하우징을 더 포함할 수 있다.
즉, 이물질 제거부(60)를 통한 이물질 제거 작업은 하우징의 내부공간에서 이루어진다. 이로 인해 OLED(2)를 외부와 차단한 상태로 이물질 제거작업을 수행할 수 있다. 따라서, 이물질 제거작업 중에 OLED(2)에 외부에 존재하는 먼지가 묻는 것을 방지할 수 있다.
그리고, 흡기팬(74)은 흡기한 이물질을 하우징의 외부로 배출하도록 설치될 수 있다.
다음으로, 도 11을 참고하여 이물질 제거부(60)에 대해 설명한다.
이물질 제거부(60)를 통해 OLED(2)의 이물질 처리 공정을 마친 후에는 열처리부(80)로 트레이(40)에 수납된 OLED(2)들을 열처리하게 된다.
열처리부(80)는 에이징 공정 전에 OLED(2)를 열처리하여 살균하면서 OLED(2)에 묻어 있는 수분을 증발시켜 제거함으로써, OLED(2)에 에이징 공정이 효과적으로 수행되도록 하는 구성이다.
이때, OLED(2)의 에이징 공정에서 역전압을 가하여 산화 반응을 일으키기 위해 수분(공정 가스)을 OLED(2)에 공급할 수 있는데, 열처리부(80)는 역전압에 의해 산화 반응을 일으켜 수분이 묻게 되는 OLED(2)에서 수분도 증발시켜 제거한다.
박스부(81)는 챔버부(10)의 일측으로 약 1m 내지 2m 정도 소정간격 이격되도록 배치된다.
박스부(81)는 상면에 개폐판이 분리된 트레이(40)가 출입하는 출입구가 형성되고, 내부에 트레이(40)가 수납되는 수납공간이 형성된다.
박스부(81)는 사각박스 형상으로 형성될 수 있다.
지지부(82)는 박스부(81)의 수납공간 양측벽에 서로 대향되게 배치되며, 트레이(40)의 저면 양측 가장자리와 각각 소정간격 이격된다.
지지부(82)에는 제3 솔레노이드(84)가 위치되어 트레이(40)를 지지 및 승강시키게 된다.
제3 솔레노이드(84)에 대해서는 아래에서 자세히 설명하기로 한다.
제1 자석부(83)는 2개 한 쌍으로 구성되어, 트레이(40)의 저면 양측 가장자리에 각각 부착된다.
제1 자석부(83)의 상면에는 돌기가 형성되고, 트레이(40)의 저면 양측 가장자리에는 제1 자석부(83)의 돌기가 삽입되어 고정되는 고정홈이 형성된다.
이로 인해, 제1 자석부(83)는 트레이(40)에 분리가능하게 결합된다.
따라서, 에이징 작업 시, 제1 자석부(83)를 트레이(40)에서 분리한 이후에 트레이(40)를 챔버부(10)에 투입하여 에이징 공정을 수행하면 된다.
제3 솔레노이드(84)는 2개 한 쌍으로 구성되어 지지부(82)의 상면에 각각 결합된다.
제3 솔레노이드(84)의 플런저 상단에는 제1 자석부(83)와 반대 극성을 갖는 제2 자석부(85)가 결합된다.
제1 자석부(83)는 S극의 극성을 갖도록 형성되고, 제2 자석부(85)는 N극의 극성을 갖도록 형성된다. 따라서, 제2 자석부(85)는 제1 자석부(83)에 자력을 통해 부착된다.
그리고, 제3 솔레노이드(84)는 이와 같이 제1 자석부(83)와 제2 자석부(85)를 매개로 트레이(40)에 안정적으로 결합된다.
제3 솔레노이드(84)는 이와 같은 상태에서 트레이(40)를 반복적으로 승강시킨다.
제3 솔레노이드(84)가 트레이(40)를 반복적으로 상승 또는 하강시킴에 따라 트레이(40)에 진동이 발생되어 OLED(2)에 묻어 있는 수분 및 먼지와 같은 이물질을 일정량 제거할 수 있다.
또한, 박스부(81)는 그 내벽면들이 트레이(40)의 가장자리와 각각 소정거리 이격되는 크기를 갖도록 형성된다. 따라서, 박스부(81)의 내벽면과 트레이(40)의 가장자리 사이에 발생되는 공간을 통해 히터부(87)에 의해 발생되는 열기를 통과시킬 수 있다.
그리고, 트레이(40)는 일정한 면적을 갖도록 형성되기 때문에 제3 솔레노이드(84)에 의해 상승될 시 열기를 상 방향으로 밀어내고, 하강될 시에는 열기를 하 방향으로 밀어내어 저장박스(88)에 수용시킨다.
이로 인해, 후술되는 열전도매체(89)에 열기가 용이하게 흡수되도록 할 수 있다.
개폐부(86)는 박스부(81)의 출입구를 개방 또는 폐쇄하는 구성이다.
개폐부(86)는 사각판 형상으로 형성된다.
박스부(81)의 상면에는 복수개의 고정홈이 일정간격으로 형성되고, 개폐부(86)의 저면에는 고정홈에 각각 삽입되어 고정되는 돌기가 형성된다.
개폐부(86)는 박스부(81)의 출입구를폐쇄하여 열처리 과정에서 히터부(87)에서 발생되는 열기가 외부로 새어나가는 것을 방지한다.
박스부(81) 및 개폐부(86)는 히터부(87)의 열이 외부로 전도되는 것을 방지하도록 단열 처리된 재질로 제작될 수 있다.
히터부(87)는 복수개로 적용되어 박스부(81)의 수납공간 바닥면 개폐부(86)의 저면에 각각 서로 일정간격 이격되도록 배치된다.
히터부(87)는 OLED(2)를 열처리 하기 위한 열을 발생시킨다.
히터부(87)의 발열온도는 OLED(2)에 열변형이나 열에 의한 고장이 발생되지 아니하고, 세균을 사멸하면서 수분을 증발시킬 수 있는 온도로 설정될 수 있다.
히터부(87)는 외부전원을 공급받아 발열작동하는 복수개의 히팅코일 또는 가열선을 포함할 수 있다.
박스부(81)의 수납공간 바닥면에 설치된 히터부(87)들에서 발생되는 열기는 OLED(2)의 저면을 향해 공급된다.
그리고, 개폐부(86)의 저면에 설치된 히터부(87)들에서 발생되는 열기는 OLED(2)의 상면을 향해 공급된다.
저장박스(88)는 복수개로 적용되어 박스부(81)의 수납공간 바닥면 및 개폐부(86)의 저면에 각각 서로 일정간격 이격되도록 배치된다.
박스부(81)의 수납공간 바닥면에 설치되는 저장박스(88)들은 상면이 개방되고, 몇 개의 OLED(2) 저면과 마주한다.
그리고, 박스부(81)의 수납공간 바닥면에 설치되는 저장박스(88)들은 박스부(81)의 수납공간 바닥면에 설치되는 히터부(87) 들의 사이에 배치된다.
개폐부(86)의 저면에 설치되는 저장박스(88)들은 저면이 개방되며, 몇 개의 OLED(2) 상면과 마주한다.
또한, 개폐부(86)의 저면에 설치되는 저장박스(88)들은 개폐부(86)의 저면에 설치되는 히터부(87) 들의 사이에 배치된다.
그리고, 저장박스(88)의 내부공간에는 히터부(87)에 의해 발생되는 열기가 저장된다.
열전도매체(89)는 복수개로 적용되어 저장박스(88)의 내부공간에 각각 수용된다.
열전도매체(89)는 저장박스(88)의 내부공간에 저장된 열기를 흡수하여 OLED(2)를 향해 배출한다.
즉, 열전도매체(89)는 열을 흡수한 후 서서히 방출하는 자체 특성을 통해 저장박스(88)의 내부공간에서 흡수한 열기를 다시 OLED(2)를 향해 배출함에 따라, 열 손실을 방지하면서 OLED(2)의 열처리 효과를 향상시킨다.
그리고, 본 발명의 일 실시예에 따른 OLED 공정 중 AI 및 AG 전극의 불량율 개선을 진공 환경의 인-라인으로 진행하는 포이즌-에이징 장치(10)는, 열전도매체(89)가 히터부(87)에서 발생된 열기를 흡수하여 OLED(2)에 공급하는 바, 히터부(87)가 기 설정된 온도로 발열된 이후에 작동이 정지되고, 박스부(81)의 내부공간의 온도가 기 설정된 온도 미만으로 낮아지는 경우 히터부(87)가 다시 기 설정된 온도로 발열되도록 구현될 수 있다.
따라서, 히터부(87)가 기 설정된 온도로 발열되어 작동이 정지되더라도 열전도매체(89)가 OLED(2)에 열처리에 필요한 열기를 공급함에 따라, 히터부(87)를 작동시키기 위한 전력을 최소화 할 수 있고, 열손실을 방지할 수 있다.
이때, 열처리부(80)를 통한 OLED(2)의 열처리 시간 즉, 제3 솔레노이드(84) 및 히터부(87)의 작동시간은 히터부(87)의 가열온도, OLED(2)의 크기 등에 따라 작업자에 의해 선택적으로 다양하게 변경될 수 있다.
그리고, OLED(2)에 묻어 있는 세균이나 수분은 에이징 공정 시 방해 요소로 작용할 수 있는 바, 본 발명의 일 실시예에 따른 OLED 공정 중 AI 및 AG 전극의 불량율 개선을 진공 환경의 인-라인으로 진행하는 포이즌-에이징 장치(10)는 열처리부(80)를 통해 OLED(2)에 묻어 있는 세균이나 수분을 제거함으로써, OLED(2)에 에이징 공정이 효과적으로 수행되도록 할 수 있다.
상술된 실시예들은 예시를 위한 것이며, 상술된 실시예들이 속하는 기술분야의 통상의 지식을 가진 자는 상술된 실시예들이 갖는 기술적 사상이나 필수적인 특징을 변경하지 않고서 다른 구체적인 형태로 쉽게 변형이 가능하다는 것을 이해할 수 있을 것이다. 그러므로 상술된 실시예들은 모든 면에서 예시적인 것이며 한정적이 아닌 것으로 이해해야만 한다. 예를 들어, 단일형으로 설명되어 있는 각 구성 요소는 분산되어 실시될 수도 있으며, 마찬가지로 분산된 것으로 설명되어 있는 구성 요소들도 결합된 형태로 실시될 수 있다.
본 명세서를 통해 보호받고자 하는 범위는 상기 상세한 설명보다는 후술하는 특허청구범위에 의하여 나타내어지며, 특허청구범위의 의미 및 범위 그리고 그 균등 개념으로부터 도출되는 모든 변경 또는 변형된 형태를 포함하는 것으로 해석되어야 한다.
10 : 챔버부 11 : 에이징 공간
12 : 덮개 20 : 펌핑부
21 : 흡기라인 30 : 가스공급부
40 : 트레이 50 : 컨트롤러부
60 : 이물질 제거부 61 : 제1 슬라이딩부
611 : 고정돌기 612 : 제1 감쌈홈
613,623 : 매립홈 63 : 베이스부
631 : 통공 64 : 무게추
65a : 제1 롤러 65b : 제2 롤러
66 : 제1 솔레노이드 67 : 제1 결합판
68 : 제1 코일스프링 69 : 제1 튕김부
70 : 제2 솔레노이드 71 : 제2 결합판
72 : 제2 코일스프링 73 : 제2 튕김부
74 : 흡기팬 75 : 지지블록
76 : 경사형 지지대 80 : 열처리부
81 : 박스부 82 : 지지부
83 : 제1 자석부 84 : 제3 솔레노이드
85 : 제2 자석부 86 : 개폐부
87 : 히터부 88 : 저장박스
89 : 열전도매체 90 : 하부지그
91 : 정 전압 및 역 전압 인가 회로기판
91a : 스프링 장착핀 92 : 하부걸이핀
100 : 트레이 업-다운 핀 110 : 상부지그
111 : 회로기판 112 : 상부걸이핀
120 : 승강구동부 130a : 상/하 지그 컨텍 업-다운 기구부
140 : 진공 피드스루 150 : 제1 진공부
160 : 제2 진공부 170 : 진공용 전성 케이블
180 : 글래스 190 : 엔드 이펙터
210 : 카세트 220 : 승강가이드 샤프트
230 : 락킹부 231 : 전,후진바
2311 : 고정편 232 : 구동판
233 : 전,후진 구동부 234 : 복원스프링
240 : 승강구동부 241 : 승강가이드부재
242 : 베이스판 250 : 셋팅구동부
251 : 서보모터 252 : 회전용 실린더
253 : 승강가이드 254 : 승강샤프트
254a : 상측 2541 : 지지편
255 : 설치판 260 : 밀착스프링
B : 밸트
P : 풀리
12 : 덮개 20 : 펌핑부
21 : 흡기라인 30 : 가스공급부
40 : 트레이 50 : 컨트롤러부
60 : 이물질 제거부 61 : 제1 슬라이딩부
611 : 고정돌기 612 : 제1 감쌈홈
613,623 : 매립홈 63 : 베이스부
631 : 통공 64 : 무게추
65a : 제1 롤러 65b : 제2 롤러
66 : 제1 솔레노이드 67 : 제1 결합판
68 : 제1 코일스프링 69 : 제1 튕김부
70 : 제2 솔레노이드 71 : 제2 결합판
72 : 제2 코일스프링 73 : 제2 튕김부
74 : 흡기팬 75 : 지지블록
76 : 경사형 지지대 80 : 열처리부
81 : 박스부 82 : 지지부
83 : 제1 자석부 84 : 제3 솔레노이드
85 : 제2 자석부 86 : 개폐부
87 : 히터부 88 : 저장박스
89 : 열전도매체 90 : 하부지그
91 : 정 전압 및 역 전압 인가 회로기판
91a : 스프링 장착핀 92 : 하부걸이핀
100 : 트레이 업-다운 핀 110 : 상부지그
111 : 회로기판 112 : 상부걸이핀
120 : 승강구동부 130a : 상/하 지그 컨텍 업-다운 기구부
140 : 진공 피드스루 150 : 제1 진공부
160 : 제2 진공부 170 : 진공용 전성 케이블
180 : 글래스 190 : 엔드 이펙터
210 : 카세트 220 : 승강가이드 샤프트
230 : 락킹부 231 : 전,후진바
2311 : 고정편 232 : 구동판
233 : 전,후진 구동부 234 : 복원스프링
240 : 승강구동부 241 : 승강가이드부재
242 : 베이스판 250 : 셋팅구동부
251 : 서보모터 252 : 회전용 실린더
253 : 승강가이드 254 : 승강샤프트
254a : 상측 2541 : 지지편
255 : 설치판 260 : 밀착스프링
B : 밸트
P : 풀리
Claims (4)
- 삭제
- OLED의 에이징(aging) 환경을 제공하는 챔버부;
상기 챔버부 내의 공기를 배출시켜 에이징 공정 시 진공압력을 형성하는 펌핑부;
상기 챔버부의 내부에 에이징가스를 공급하는 가스공급부;
상기 챔버부의 내부공간에 수납되고, 다수개의 OLED가 일정간격으로 고정되는 트레이;
상기 챔버부의 내부공간에 배치되고, 상기 트레이를 지지하며, 상기 OLED에 정 전압 또는 역 전압을 선택적으로 인가하기 위한 정 전압 및 역 전압 인가 회로 기판을 포함하는 하부지그;
상기 하부지그 상에서 승강되며, 상기 하부지그의 상면에 안착된 트레이를 상승시키며, 핀 커넥터가 회로로 형성되어 있는 트레이 업-다운 핀; 및
상기 트레이 업-다운 핀이 상기 트레이를 상승시키면, 하강작동에 의해 상기 트레이의 상면을 가압하며, 정 전압 인가 시 상기 OLED의 광 전류 측정을 위한 다이오드가 포함된 회로기판을 포함하는 상부지그;
상기 챔버부의 내부공간에 위치한 OLED들에 에이징을 위한 전압을 생성하는 전압 생성 프로그램을 포함하는 컨트롤러부;
상기 챔버부의 내부에 정/역 전압을 전달하는 진공 피드스루;
상기 챔버부의 내부공간에 공기를 공급하는 제1 진공부; 및
상기 챔버부의 내부공간에 존재하는 공기를 흡입하거나 또는 상기 챔버부의 내부공간에 공기를 공급하는 제2 진공부를 포함하고,
상기 역 전압 또는, Pule 역 전압 그리고, 역 전압 + Pule 역 전압을 인가하기 위한 진공내 회로 구성으로 상기 진공 피드스루를 통한 전선의 챔버부내 유입 진공용 전성 케이블을 통해 상기 정 전압 및 역 전압 인가 회로 기판에 연결되고, 상기 정 전압 및 역 전압 인가 회로기판에 놓인 스프링 장착 핀을 통해 상기 챔버부의 내부에 위치되는 글래스에 구비된 셀의 +, - 전극에 일대일 매치로 정 전압 또는 역 전압을 인가하며, 이는 진공 물류를 통한 상기 글래스를 상기 챔버부의 내부로 투입하기 위해 상기 챔버부의 내부에 엔드 이펙터(End-Effector)가 투입되어 상기 글래스를 지지하며, 상기 챔버부의 내부에 배치된 트레이 업-다운 핀을 통해 상기 하부지그를 상승 또는 하강시켜 상기 하부지그와 상부지그를 서로 벌리거나 인접시키는 매커니즘을 동반하는 OLED 공정 중 AI 및 AG 전극의 불량율 개선을 진공 환경의 인-라인으로 진행하는 포이즌-에이징 장치.
- OLED의 에이징(aging) 환경을 제공하는 챔버부;
상기 챔버부 내의 공기를 배출시켜 에이징 공정 시 진공압력을 형성하는 펌핑부;
상기 챔버부의 내부에 에이징가스를 공급하는 가스공급부;
상기 챔버부의 내부공간에 수납되고, 다수개의 OLED가 일정간격으로 고정되는 트레이;
상기 챔버부의 내부공간에 배치되고, 상기 트레이를 지지하며, 상기 OLED에 정 전압 또는 역 전압을 선택적으로 인가하기 위한 정 전압 및 역 전압 인가 회로 기판을 포함하는 하부지그;
상기 하부지그의 상측에 배치되고, 상기 트레이의 상면을 가압하도록 마련되며, 정 전압 인가 시 상기 OLED의 광 전류 측정을 위한 다이오드가 포함된 회로기판을 포함하고, 일측면과 타측면에는 적어도 하나 이상의 고정홈이 각각 형성된 상부지그;
상기 챔버부의 내부공간에 위치한 OLED들에 에이징을 위한 전압을 생성하는 전압 생성 프로그램을 포함하는 컨트롤러부;
상기 챔버부의 내부에 정/역 전압을 전달하는 진공 피드스루;
상기 챔버부의 내부공간에 공기를 공급하는 제1 진공부;
상기 챔버부의 내부공간에 존재하는 공기를 흡입하거나 또는 상기 챔버부의 내부공간에 공기를 공급하는 제2 진공부;
상기 챔버부의 내부공간에 수납되고, 내부에 복수개의 상부지그 및 하부지그가 수직방향을 따라 순차적으로 교차되도록 배열되되, 하나의 하부지그 및 하나의 상부지그가 한 쌍으로써, 여러쌍이 일정간격으로 적용되는 카세트;
상기 상부지그들 및 하부지그들을 공동으로 관통하여 승강을 가이드하는 승강가이드 샤프트;
상기 카세트의 일측과 타측에 각각 배치되며, 상기 고정홈과 동일선상에 배치되는 고정편을 포함하는 전,후진바 및 상기 전,후진바를 전진시켜 상기 고정편을 어느 하나의 상부지그에 형성된 고정홈에 삽입시키는 전,후진 구동부를 포함하는 락킹부;
상기 전,후진 구동부가 상기 고정편을 상기 고정홈에 삽입시키면 상기 카세트를 소정거리 하강시켜, 상기 고정편이 적용된 상부지그에 하측에 배치된 하부지그가 상기 상부지그의 하측으로 이격되도록 상기 카세트를 하강시키는 승강구동부;
상기 카세트의 일측과 타측에 각각 배치되고, 상기 상부지그와 하부지그의 사이 공간으로 글래스를 지지하기 위한 지지편을 투입시킨 후, 상기 지지편을 하강시켜 상기 글래스를 상기 하부지그의 상면에 안착시킨 다음, 상기 지지편을 상기 상부지그와 하부지그의 사이에서 이탈시키는 셋팅구동부;
상기 카세트의 외부에서 상기 상부지그와 하부지그의 사이 공간으로 글래스를 투입한 후, 하강작동되어 상기 지지편의 상면에 상기 글래스를 안착시킨 다음, 후진작동에 의해 상기 카세트의 외부로 인출되는 엔드 이펙터(End-Effector); 및
상기 상부지그와 하부지그를 탄성적으로 연결하여 상기 전,후진 구동부가 상기 전,후진바를 후진시켜 상기 고정편이 상기 고정홈에서 인출되면 수축 작동에 의해 상기 상부지그와 하부지그를 밀착시키는 밀착스프링을 포함하고,
상기 역 전압 또는, Pule 역 전압 그리고, 역 전압 + Pule 역 전압을 인가하기 위한 진공내 회로 구성으로 상기 진공 피드스루를 통한 전선의 챔버부내 유입 진공용 전성 케이블을 통해 상기 정 전압 및 역 전압 인가 회로 기판에 연결되고, 상기 밀착스프링을 통해 상기 글래스에 구비된 셀의 +, - 전극에 일대일 매치로 정 전압 또는 역 전압을 인가하는 OLED 공정 중 AI 및 AG 전극의 불량율 개선을 진공 환경의 인-라인으로 진행하는 포이즌-에이징 장치.
- 제2항 또는 제3항에 있어서,
상기 트레이에 수납된 OLED들을 열처리하는 열처리부를 더 포함하고,
상기 열처리부는,
상면에 상기 트레이가 출입하는 출입구가 형성되고, 내부에 상기 트레이가 수납되는 수납공간이 형성된 박스부;
상기 박스부의 수납공간 양측벽에 서로 대향되게 배치되며, 상기 트레이의 저면 양측 가장자리와 각각 소정간격 이격되는 지지부;
상기 트레이의 저면 양측 가장자리에 각각 부착되는 제1 자석부;
상기 지지부의 상면에 각각 결합되며, 상기 트레이를 반복적으로 상승 및 하강시키기 위해 마련되는 제3 솔레노이드;
상기 제3 솔레노이드의 플런저 상단에 각각 결합되고, 상기 제1 자석부에 자력으로 부착되도록 상기 제1 자석부와 반대 극성을 갖는 제2 자석부;
상기 박스부의 출입구를 개방 또는 폐쇄하는 개폐부;
상기 박스부의 수납공간 바닥면 및 상기 개폐부의 저면에 각각 서로 일정간격 이격되도록 배치되며, OLED를 열처리 하기 위한 열을 발생시키는 히터부;
상기 박스부의 수납공간 바닥면 및 상기 개폐부의 저면에 각각 서로 일정간격 이격되도록 배치되어, 상기 OLED의 상면 및 저면과 각각 마주하며, 상기 히터부들의 사이에 배치되고, 내부공간에 상기 히터부에 의해 발생된 열이 저장되는 저장박스; 및
상기 저장박스의 내부공간에 각각 수용되어, 상기 열을 흡수한 후 상기 OLED를 향해 배출하는 열전도매체를 포함하는 OLED 공정 중 AI 및 AG 전극의 불량율 개선을 진공 환경의 인-라인으로 진행하는 포이즌-에이징 장치.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| KR1020230105720A KR102635226B1 (ko) | 2023-08-11 | 2023-08-11 | Oled 공정 중 ai 및 ag 전극의 불량율 개선을 진공환경의 인라인으로 진행하는 포이즌 에이징 장치 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| KR1020230105720A KR102635226B1 (ko) | 2023-08-11 | 2023-08-11 | Oled 공정 중 ai 및 ag 전극의 불량율 개선을 진공환경의 인라인으로 진행하는 포이즌 에이징 장치 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| KR102635226B1 true KR102635226B1 (ko) | 2024-02-08 |
Family
ID=89899897
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| KR1020230105720A KR102635226B1 (ko) | 2023-08-11 | 2023-08-11 | Oled 공정 중 ai 및 ag 전극의 불량율 개선을 진공환경의 인라인으로 진행하는 포이즌 에이징 장치 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
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Citations (5)
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|---|---|---|---|---|
| JP2000195428A (ja) * | 1998-02-24 | 2000-07-14 | Canon Inc | 画像形成装置の製造方法及び製造装置 |
| KR20070066719A (ko) * | 2005-12-22 | 2007-06-27 | 엘지전자 주식회사 | 전계발광소자의 에이징 처리장치 및 그 방법 |
| KR100874951B1 (ko) * | 2007-06-28 | 2008-12-19 | 주식회사 프로텍 | 에이징 스테이지의 냉각장치 |
| KR20120004248A (ko) | 2010-07-06 | 2012-01-12 | 주식회사 영우디에스피 | 오엘이디 패널의 에이징 장치 |
| KR20140127632A (ko) * | 2013-04-25 | 2014-11-04 | 삼성디스플레이 주식회사 | 유기발광 표시패널의 검사방법, 원장기판 검사장치 및 검사방법 |
-
2023
- 2023-08-11 KR KR1020230105720A patent/KR102635226B1/ko active IP Right Grant
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A107 | Divisional application of patent | ||
| GRNT | Written decision to grant |