KR101484734B1 - 평면 디스플레이 패널의 열처리 시스템 및 그 열처리 방법 - Google Patents

평면 디스플레이 패널의 열처리 시스템 및 그 열처리 방법 Download PDF

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KR101484734B1
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박상욱
장지원
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주식회사 이엔씨 테크놀로지
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Abstract

본 발명은 LCD 또는 OLED Panel의 제조 공정에서 글라스 상면에 코팅된 막의 열처리하여 품질을 향상시키기 위한 것으로,
본 발명의 주요 구성은 평면 디스플레이 패널에 도포된 도막을 열처리하는 열처리 시스템으로써, 사각의 지지 프레임 외측에 단열판을 설치하여 박스 형태로 구성하고, 전면에 패널의 반입 또는 반출을 위한 장입 개방부가 형성되며, 상기 지지 프레임의 안쪽에 다층으로 받침대가 설치된 본체; 상기 각각의 받침대에 소성판이 설치되고, 이 각각의 소성판 상면에 발열관이 배관되며, 발열관의 상부측에 안착 부재가 순차적으로 배치된 구성으로 이루어지며, 상기 각각의 안착 부재 상면에 놓인 패널을 발열관에서 방사되는 열로 열처리하는 열처리 유닛; 상기 각각의 열처리 유닛의 전방측에 위치하는 다수의 개폐문으로 구성되어 상기 장입 개방부를 밀폐시켜 열처리가 이루어지도록 하는 셔터; 상기 셔터의 개폐문을 전후방향으로 수평 이동시켜, 장입 개방부에 밀착 또는 이탈시키는 개폐 유닛; 상기 개폐 유닛에 의해 장입 개방부에서 수평 이동하여 이탈된 셔터를 승강 부재로 들어올리거나 또는 하강시켜 장입 개방부를 완전 개방하거나 또는 개폐문을 위치 복원시키는 승강 유닛;으로 구성된 기술적인 특징을 갖는 것으로 달성된다.

Description

평면 디스플레이 패널의 열처리 시스템 및 그 열처리 방법{Heat treatment device and the Heat treatment Method for flat display panel}
본 발명은 디스플레이 패널의 열처리 시스템 및 그 열처리 방법에 관한 것이다.
더 상세하게는, LCD 또는 OLED Panel의 제조 공정에서 글라스 상면에 코팅된 막의 열처리하여 품질을 향상시키기 위한 것으로, 다층으로 열처리 유닛을 구비하고, 이들 열처리 유닛을 이용하여 복수의 패널을 동시에 또는 선택적으로 열처리하는 시스템 및 그 열처리 방법에 관한 것이다.
또한, 본 발명은 다층으로 설치된 열처리 유닛의 전면 각각에 독립적으로 개폐되는 셔터가 구비되어 패널의 장입이 용이하도록 하며, 자동 개폐가 이루어져 작업이 용이하고, 아울러 셔터가 수평-승강 이동 방식으로 개폐되어 협소한 공간에서도 개폐 및 패널의 장입이 가능한 열처리 시스템 및 그 열처리 방법에 관한 것이다.
또, 본 발명은 패널이 안착되어 열처리가 이루어지는 안착 부재가 슬라이딩 방식으로 끼워짐으로써, 인입-반출이 용이하고, 열처리 과정에서 패널이 파손되어도 청소가 용이한 열처리 시스템에 관한 것이다.
일반적으로, 디스플레이는 음극선관(Cathode-Ray Tube, CRT)과 평판 디스플레이(Flat Panel Display, FPD)로 분류될 수 있다.
이중, 평판 디스플레이에는 액정 디스플레이(Liquid Crystal Display, LCD), 플라즈마 디스플레이 패널(Plasma Display Panel, PDP), 유기 발광다이오드(Organic Luminescent Emitting Diode, OLED), 전계 효과 디스플레이(Field Emission Display, FED), 그리고 초소형 정밀기계기술(Micro Electro Mechanical System, MEMS)을 이용한 실리콘 상층 액정(Liquid Crystal On Silicon, LCOS) 등이 있다.
상기 평판 디스플레이는, 각각이 제조 공정 및 재료는 다르지만, 공통으로 열처리를 통한 소성 과정을 거친다. 열처리 작업을 통해 낮은 전자 이동도를 가지는 비정질 실리콘층을, 높은 전자 이동도를 가지는 결정질 구조의 다결정 실리콘층으로 결정화시키는 것으로, 보통 250℃~750℃ 영역의 온도에서 이루어진다.
통상, 비정질 실리콘층에 열을 가하는 장치로는, 가열로(Furnace)의 내부에 기판을 투입하고 히터 등과 같은 가열 수단으로 비정질 실리콘층에 열을 가해 열처리하는 구조로, 하나의 기판에 대하여 열처리를 수행할 수 있는 매엽식과 복수 개의 기판을 수직으로 다단 매입하여 열처리하는 배치식이 있다.
매엽식은 장치의 구성이 간단하고 제작이 용이한 장점은 있으나 생산성이 떨어지는 단점이 있고, 배치식 열처리 장치는 챔버 내부의 히터(Heater)를 유지보수하는 공간 확보가 어렵고, 셔터(Shutter)의 개폐 동작에 필요한 공간의 제약으로 인해 패널과 패널 간의 거리가 멀어지는 문제가 있다.
배치식 열처리 장치의 일 예로 국내공개특허 2009-0088282호의 장치가 있다. 이 장치는 비정질 실리콘이 형성되어 있는 복수 개의 기판에 대하여 열처리 공간을 제공하는 챔버; 상기 챔버 내에 배치되어 상기 복수개의 기판이 로딩되는 보트를 포함하고, 상기 챔버와 상기 복수 개의 기판 사이에는 열 차단부가 설치된 구성이다.
그런데, 위와 같은 장치는 보트의 폭이 붙박이로 구성되어 기판의 크기에 따라 보수가 이루어짐으로써 그에 따른 비용이 소요되는 문제가 있으며, 열처리 과장 중 파손된 패널에 다른 패널에도 영향을 주는 문제가 있다. 또한 제조 공정 중 장치의 유지보수를 위한 점검시 방열판의 청소를 주기적으로 실시하게 되는데, 분리가 어려운 구조로 구성되어 청소 작업이 어려운 문제가 있다.
국내공개특허 10-2005-0090917호는 또 다른 실 예의 열처리 장치이다.
이 장치는 소성로 내부에서 디스플레이 평판(FPD)의 소성 및 건조가 동시에 이루어지도록 하는 것으로, 건조 또는 소성작업이 수행되고 디스플레이 평판의 투입 또는 반출을 위한 인입구 및 반출구가 형성되는 건조/소성로 본체와; 상기 디스플레이 평판을 상하로 승·하강시키는 승·하강 유닛과; 상기 건조/소성로 본체의 내부로 공기나 가스를 공급하고 순환시키는 순환 유닛을 포함하는 것으로,
상기 승·하강 유닛은, 디스플레이 평판을 상하로 승·하강시키는 메인 로드와; 상기 메인 로드와 결합되어 디스플레이 평판을 지지하는 메인로드 아암과; 상기 메인 로드를 상하로 승·하강시키는 랙, 피니언과; 상기 디스플레이 평판의 승·하강 시 회전운동을 하는 가이드 로드와; 상기 가이드 로드와 결합되고, 가이드 로드의 회전운동에 따라 회전하게 되는 가이드로드 아암으로 구성되고,
상기 순환 유닛은, 가열공기 또는 가스를 건조/소성로 내부로 주입하고 순환시키는 팬과; 상기 가열공기 또는 가스를 주입하기 위한 덕트와; 상기 가열공기 또는 가스를 가열하는 히터와; 상기 팬을 구동시키는 팬 구동모터로 구성된다.
즉, 위와 같은 장치는 소성 또는 건조 단계에 따라 디스플레이 평판을 상, 하로 이동시키는 구조이나, 이동 과정에서 평판이 흔들려 파손될 우려가 있고, 평판이 파손되는 경우 전체 평판이 손상되며, 인입/반출이 하나의 입구에서 이루어짐으로써 반입은 물론 반출 효과가 떨어지는 문제가 있다.
또한, 이러한 장치는 반입-소성-건조 과정에서 평판이 주기적으로 승,하강함으로써, 안정적인 소성 및 건조가 어렵고 따라서 품질에 영향을 주는 문제가 있다.
본 발명은 이와 같은 종래의 문제점을 감안하여 이루어진 것으로, 그 목적은 수평식 열처리 유닛을 구비하고, 이 열처리 유닛을 본체에 다층으로 설치하여 다량의 패널을 동시에 또는 선택적으로 열처리할 수 있도록 하며, 또한 열처리 유닛 각각의 전방측에 셔터를 구비하되, 이 셔터가 자동으로 개, 폐문됨으로써, 작업의 편의성은 물론 생산성을 크게 향상시킬 수 있는 평면 디스플레이 패널의 열처리 시스템 및 그 열처리 방법을 제공하는 데 있다.
본 발명의 다른 목적은 본체 내부에 마련된 열처리 공간 챔버를 밀폐 또는 개방하는 셔터(Shutter)의 동작 공간을 최소화하여 공간 활용을 극대화하고, 챔버에 설치된 히터(Heater)의 유지 보수가 용이한 열처리 시스템 및 열처리 방법을 제공하는 데 있다.
본 발명의 다른 목적은 다층으로 설치된 셔터가 수평-승강식으로 이동 개폐문되어 공간에 제약을 두지 않으며, 제작 및 설치가 간편하고 유지 보수는 물론 청소가 용이한 열처리 시스템을 제공하는 데 있다.
본 발명의 또 다른 목적은 디스플레이 패널의 안정적인 지지가 가능하며, 패널의 인입/반출이 용이하고, 또한 품질을 향상시킬 수 있는 열처리 시스템을 제공하는 데 있다.
본 발명은 평면 디스플레이 패널에 도포된 도막을 열처리하는 열처리 시스템으로써, 사각의 지지 프레임 외측에 단열판을 설치하여 박스 형태로 구성하고, 전면에 패널의 반입 또는 반출을 위한 장입 개방부가 형성되며, 상기 지지 프레임의 안쪽에 다층으로 받침대가 설치된 본체; 상기 각각의 받침대에 소성판이 설치되고, 이 각각의 소성판 상면에 발열관이 배관되며, 발열관의 상부측에 안착 부재가 순차적으로 배치된 구성으로 이루어지며, 상기 각각의 안착 부재 상면에 놓인 패널을 발열관에서 방사되는 열로 열처리하는 열처리 유닛; 상기 각각의 열처리 유닛의 전방측에 위치하는 다수의 개폐문으로 구성되어 상기 장입 개방부를 밀폐시켜 열처리가 이루어지도록 하는 셔터; 상기 셔터의 개폐문을 전후방향으로 수평 이동시켜, 장입 개방부에 밀착 또는 이탈시키는 개폐 유닛; 상기 개폐 유닛에 의해 장입 개방부에서 수평 이동하여 이탈된 셔터를 승강 부재로 들어올리거나 또는 하강시켜 장입 개방부를 완전 개방하거나 또는 개폐문을 위치 복원시키는 승강 유닛;으로 구성된 기술적인 특징을 갖는 것으로 달성된다.
또한, 본 발명은 평면 디스플레이 패널을 열처리하는 방법으로써, 본체의 일측면에 형성된 장입 개방부의 안쪽에 챔버가 마련되고, 상기 장입 개방부에 설치된 셔터를 수평 이동시켜 본체로부터 이격시키는 수평 이동 단계; 수평 이동된 셔터를 들어올려 장입 개방부를 완전 개방하는 완전 개방 단계; 개방된 장입 개방부를 통해 챔버 내부에 설치된 열처리 유닛에 디스플레이 패널을 반입시키는 반입 단계;
상기 셔터를 하강시켜 본래의 위치로 복귀시키는 셔터 복귀 단계; 상기 셔터를 장입 개방부 측으로 이동시켜 챔버를 밀폐시키는 폐문 단계; 및 상기 열처리 유닛을 가동시켜, 250℃~750℃의 온도에서 열처리가 이루어지도록 하는 열처리 단계;를 포함하며, 열처리 후, 상기 수평 개방 단계와 승강 개방 단계를 수행하여 열처리된 디스플레이 패널이 반출함과 아울러 장입이 이루어지도록 하는 것을 포함하는 평면 디스플레이 패널의 열처리 방법에 기술적인 특징이 있다.
본 발명의 열처리 시스템 및 방법은 다층으로 설치된 셔터를 수평/승강 이동 방식으로 개폐하여, 개폐에 따른 공간을 최소화하고, 그에 따라 공간 활용이 용이한 발명이다.
둘째, 본 발명은 수평식으로 열처리 유닛을 구성하여 다층으로 설치될 수 있도록 하며, 각각의 열처리 유닛에 발열관을 구비하여 동시에 또는 선택적인 열처리가 가능한 효과가 있다.
셋째, 본 발명은 발열이 이루어지는 소성판의 상면에 디스플레이 패널이 슬라이딩 방식으로 결합되어 출납이 용이하고 그에 따라 청소 및 유지 보수가 용이한 발명이다.
넷째, 본 발명은 셔터를 승강시키는 승강 유닛이 하나의 구동원만으로 공간의 제약 없이 독립적으로 동작시킬 수 있는 효과가 있다.
다섯째, 본 발명에 따른 열처리 장치는 내부에 단열재를 충진하여 본체를 구성함으로써, 단열재가 미세 먼지의 형태로 제품에 안착하여 불량을 일으키는 것을 방지할 수 있을 뿐만 아니라 고온의 환경에서 변형을 최소화할 수 있는 발명이다.
여섯째, 본 발명은 제작이 편리하고, 제품의 인입/반출이 용이하며, 제품의 질을 향상시킬 수 있는 발명이다.
도 1은 본 발명에 따른 열처리 장치의 사시도,
도 2는 본 발명에 따른 열처리 장치를 정면에서 바라본 사시도,
도 3은 본 발명에 따른 열처리 장치의 요부 확대도,
도 4는 본 발명에 적용되는 열처리 유닛의 요부 확대도,
도 5는 본 발명에 적용되는 열처리 유닛의 일측면도,
도 6은 본 발명에 적용되는 셔터의 사시도,
도 7은 본 발명에 적용되는 열처리 장치의 배면 사시도,
도 8은 본 발명에 적용되는 승강 유닛의 정면도,
본 발명을 설명하기에 앞서, 여기서 사용되는 전문 용어는 단지 특정 실시 예를 언급하기 위한 것이며, 본 발명을 한정하는 것을 의도하지 않는다. 여기서 사용되는 단수 형태들은 문구들이 이와 명백히 반대의 의미를 나타내지 않는 한 복수 형태들도 포함한다. 명세서에서 사용되는 "포함하는 "의 의미는 특정 특성, 영역, 정수, 단계, 동작, 요소 및/또는 성분을 구체화하며, 다른 특정 특성, 영역, 정수, 단계, 동작, 요소, 성분 및/또는 군의 존재나 부가를 제외시키는 것은 아니다.
다르게 정의하지는 않았지만, 여기에 사용되는 기술용어 및 과학용어를 포함하는 모든 용어들은 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자가 일반적으로 이해하는 의미와 동일한 의미를 가진다. 보통 사용되는 사전에 정의된 용어들은 관련기술문헌과 현재 개시된 내용에 부합하는 의미를 가지는 것으로 추가 해석되고, 정의되지 않는 한 이상적이거나 매우 공식적인 의미로 해석되지 않는다.
이하, 첨부된 도면을 참조하여 본 발명의 실시 예에 대하여 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자가 용이하게 실시할 수 있도록 상세히 설명한다. 그러나 본 발명은 여러 가지 상이한 형태로 구현될 수 있으며 여기에서 설명하는 실시 예에 한정되지 않는다.
먼저, 본 발명에 첨부된 도 1은 본 발명에 따른 열처리 장치의 사시도이고, 도 2는 본 발명에 따른 열처리 장치를 정면에서 바라본 사시도이며, 도 3은 본 발명에 따른 열처리 장치의 요부 확대도를 도시한 것이다.
또한, 첨부된 도 4는 본 발명에 적용되는 열처리 유닛의 요부 확대도이고, 도 5는 본 발명에 적용되는 열처리 유닛의 일측면도 이며, 도 6은 본 발명에 적용되는 셔터의 사시도이다. 첨부된 도 7은 본 발명에 적용되는 열처리 장치의 배면 사시도를 도시한 것이며, 도 8은 본 발명에 적용되는 승강 유닛의 확대 사시도를 나타낸 것이다.
본 발명은 평면 디스플레이 패널을 열처리하는 열처리 시스템 및 이 시스템을 이용하여 평면 디스플레이 패널을 열처리하는 방법에 관한 것이다.
도면에서 본 발명의 열처리 시스템(10)은 본체(100)와, 이 본체(100)의 내부에 격층으로 설치되는 열처리 유닛(200)과, 상기 열처리 유닛(200)에 기판이 장입될 수 있도록 개폐되는 셔터(300)와, 이 셔터(300)를 이동시켜 개폐문을 개폐시키는 개폐 유닛(400)과, 상기 셔터(300)를 승강시켜 장입 등에 따른 작업에 필요한 공간이 확보되도록 하는 승강 유닛(500)을 포함하며, 상기 본체의 후방에 개폐 도어(106)가 설치된 구성이다.
본체(100)
본 발명의 열처리 시스템(10)에서 상기 본체(100)는, 박스 형태의 육면체로 구성되며, 전면과 후면이 각각 개방된 구성이다.
상기 본체(100)는 공장 또는 설치 바닥에 놓이는 베이스 프레임(120)의 상면에 설치되는 것으로, 이 본체(100)는 별도로 박스 형태로 제작되어 베이스 프레임(120)의 상면에 안착 설치되거나, 또는 상기 베이스 프레임(120)의 상면에 기둥 또는 도 3과 같이 지지 프레임(140)을 설치하고, 이들의 외측 또는 안쪽에 단열판(20)을 설치하여 내부에 챔버(100a)를 갖는 박스 형태로도 제작될 수 있다. 본 발명에서는 어떠한 형태도 무방하다.
상기 본체(100)의 전면은 디스플레이 패널이 인입/인출되는 장입 개방부(102)가 마련되고, 이 장입 개방부(102)에 후술하는 셔터(400)가 다층으로 설치되어, 소성 가공 시 챔버(100a)를 밀폐시키는 구성이다.
상기 본체(100)의 후면에 형성된 후면 개방부(104)에는 개폐 도어(106)가 설치되며, 이 개폐 도어(106)는 일측 힌지를 중심으로 개폐되는 여닫이문으로 구성된다.
한편, 상기 지지 프레임(140)의 안쪽에는 다층으로 받침판(160)이 설치되는데, 이 받침판(160)은 지지 프레임(140)의 좌우 각각에 구비되어, 그 상면에 열처리 유닛(200)이 설치되도록 한다.
상기 단열재(20)는 스테인리스 재질의 외측판 내부에 단열재가 충진된 구성이다.
열처리 유닛(200)
상기 열처리 유닛(200)은 도 4 및 도 5와 같이 상면에 발열관(222)이 배관된 소성판(220)과, 상기 소성판(220)에 조립되고 상기 발열관(222)의 상부에 위치하는 안착 부재(240)로 구성된다.
상기 소성판(220)는 스테인리스 재질로 제작되며, 상면에 배관된 발열관(222)은 지그재그 형태로 연속 배관되어 열이 안착 부재에 전열되도록 한다. 한편, 상기 발열관(222)은 전기를 열원으로 하는 것이나, 소성 온도에 도달할 수 있는 다른 열원도 사용될 수 있는 것은 당연하다.
바람직하기로 상기 발열관(222)은 MI케이블(mineral insulated cable)로 구성된다.
상기 안착 부재(240)는 격자형으로 제작된 스테인리스 구조물(244)의 안쪽에 고정판(242)이 설치되고, 고정판(242)의 상면에 열처리가 이루어지는 패널이 안착되는 안착핀(260)이 돌출된 구성으로, 상기 고정판(242)은 카본 그래파이트 재질로 구성된다.
상기 안착핀(260)은 도면과 같이 하나의 고정판(242)에 여러 개가 등 간격으로 배치되어 디스플레이 패널이 안정적으로 안착되도록 하며, 열처리 시 패널에 가해지는 부하를 최소화하고, 이물질이 디스플레이 패널이 점착된 현상을 방지할 수 있다.
다시 말해, 상기 안착핀(260)은 디스플레이 패널이 고정판(242)에 맞닿아 이물질이 점착될 수 있는 우려를 사전에 방지하고, 열처리 시 고정판(242)에 가해지는 기계적인 진동으로부터 패널을 보호할 수 있는 것이다.
상기 안착 부재(240)는 구조물(244)의 양측단부가 상기 소성판(220)의 양측 각각에 구비된 가이드(224)를 따라 슬라이드 이동하며 조립되는 구성으로, 작업자는 전면에 손잡이(246)를 잡고 빼내거나 또는 끼워넣는 것이다.
본 발명의 특징이라 할 수 있는 이러한 구성은, 안착 부재(240)를 분리시킴으로써, 청소가 용이하고, 유지 보수가 간편한 이점이 있다.
도면 부호 280은 고정 장치로써, 모터와 연결된 링크(282)가 회전하여 상기 안착 부재(240)를 고정시키는 것이다.
셔터(300)
상기 셔터(300)는 본체(100)의 전면에 형성된 장입 개방부(102)에 끼워져, 내부 챔버(100a)를 밀폐 또는 개방하여 디스플레이 패널이 장입 또는 열처리 후 반출될 수 있도록 하는 것으로, 상기 열처리 유닛(200)의 전면에 설치된다.
즉, 상기 받침대(160)의 상면에 설치되어 다층으로 적층된 열처리 유닛(200)의 각각의 전방측에 셔터(300)가 구비되고, 각 셔터(300)가 후술하는 개폐 유닛(400)과, 승강 유닛(500)에 의해 이동하며 디스플레이 패널의 장입 및 열처리 그리고 반출을 가능하게 하는 것이다.
상기 셔터(300)는 도면과 같이 직사각 형태의 개폐문(320)으로 구성되고, 이 개폐문(320)은 사각 형태의 지지틀(302)과 이 지지틀 후면에 맞대어지는 단열판(20)으로 구성되며, 상기 지지틀(302)의 양측벽 각각에는 연결편(340)이 구비되고, 이 연결편(340)의 저면에 끼움돌기(342)가 구비된 구성이다.
상기 끼움돌기(342)는 개폐 유닛(400)의 이동체(440)에 연결되며, 이동체의 이동에 따라 셔터 즉 개폐문이 수평 이동하는 구성이다.
또한, 상기 지지틀(302)의 전면에는 연장판(360)이 설치되고, 이 연장판(360)의 저면에 승강 유닛(500)과 연결되는 돌부(362)가 갖추어진 구성이다.
즉, 본 발명의 셔터(300)는 수평/승강 이동식으로 구성되며, 수평 이동은 개폐 유닛(400)에 의해 이루어지고, 승하강 동작은 승강 유닛(500)에 의해 이루어지는 것으로 이에 대해서는 후술한다.
개폐 유닛(400)
상기 셔터(300)를 수평 이동시켜 디스플레이 패널의 인입/인출을 가능하게 하는 상기 개폐 유닛(300)은 실린더(420)와, 이동체(440) 그리고 베이스판(402)으로 구성된다.
상기 베이스판(402)은 직사각형으로 도면과 같이 상면에 가이드 레일(404)이 설치되고, 일측에 세워진 고정판(406)이 상기 본체의 장입 개방부(102) 양측에 고정되어 셔터의 이동을 가능하게 하는 구성이다.
상기 이동체(440)는 상면 일측에 끼움홀(442)이 형성되어 상기 셔터에 설치된 끼움돌기(342)가 끼워지도록 하고, 끼움홀의 대향측 저면에 가이드부(444)가 구비되어 상기 가이드 레일(404)을 따라 이동될 수 있도록 하는 것이다.
상기 실린더(420)는 피스톤이 이동체와 연결되어, 이동체를 밀고 당김으로써 개폐문을 수평 이동시키는 구성이다.
승강 유닛(500)
상기 승강 유닛(500)은 스크류(502)를 이용하는 것으로, 구동 모터(520)와, 회전봉(522), 그리고 좌,우측으로 세워지는 포스트(540) 및 승강판(582)으로 구성된다.
상기 구동 모터(520)는 정역회전 모터로, 모터축은 제 1기어 박스(560)와 연결된다.
상기 회전봉(522)의 중앙은 상기 기어 박스에 축설된 상태로 양단 각각은 다음에 설명될 포스트(540)의 하부에 설치된 제 2 기어 박스(562)에 축설되는 구성이다.
여기서 상기 기어 박스들(560, 562)은 구동 모터(520)의 회전력을 전달하는 것으로, 베벨 기어로 구성된다. 즉 구동 모터(520)의 모터축과 회전봉 각각에 베벨 기어를 구비하여 회전력을 전달하고, 회전봉 양단 각각에 베벨 기어를 설치하여 그 회전력을 스크류에 전달하는 것이다.
상기 포스트(540)는 간격을 두고 좌, 우측으로 세워지며, 하단 뒤쪽으로 상기 베이스 프레임(120)에 고정 설치될 수 있도록 브라켓트가 구비되며, 하단 안쪽면에 상기 제2기어박스(562)가 각각 설치되는 구성이다.
상기 좌, 우측 각각의 포스트(540)의 내부에는 스크류(502)가 입설되며, 이 스크류(502)의 하단은 제 2기어 박스에 축설된 즉, 베벨 기어가 구비되어 상기 회전봉과 연결되는 것이다.
상기 승강판(582)은 상기 스크류와 연결된다. 이 승강판(582)의 안쪽면에 암나사부(미도시)를 구비하여 상기 스크류에 조립되는 구성으로, 짝 대우 방식으로 스크류가 회전하면 승강판(582)이 상하 이동하는 것이다.
한편, 상기 좌, 우측으로 구비되는 승강판(582)에는 가로대(580)가 걸쳐지며, 이 가로대가 승강판과 동시에 승하강하며, 셔터를 들어올리거나 또는 하강시켜 위치 복원시키는 구성이다.
또한, 상기 가로대의 상면에는 상기 개폐문에 구비된 돌부(362)가 끼워지는 조립공(584)이 형성되고, 상기 승강판(582)의 안쪽면에는 스크류(502)와 짝 대우 형태로 결합되어 스크류의 회전시 상하 이동하는 결합판(586)이 각각 구비된 구성이다.
이와 같은 구성의 본 발명은 상기 개폐 유닛(400)이 장입 개방부(102)의 양측 각각에 다층으로 설치되며, 승강 유닛(500)은 개방 장입부의 전면에 설치되는 구성이다.
다음은 이와 같은 구성으로 이루어진 본 발명의 동작 과정을 설명한다.
수평 이동 단계
먼저, 디스플레이 패널의 반입 과정으로, 장입 개방부(102)가 밀폐된 경우 개폐 유닛(400)이 동작한다. 이때, 이동체(440)의 끼움홀(442)에는 개폐문에 구비된 끼움돌기(342)가 끼워진 상태로, 실린더(420)가 이동체(440)를 당기면 개폐문이 수평 이동하여 장입 개방부로부터 이격된다.
완전 개방 단계
승강 유닛(500)의 구동 모터(520)가 동작하여 스크류를 회전시키고, 이와 짝 대우 형태로 결합된 연결부(586)가 이동하여 동시에 승강판(582)과 가로대(580)를 이동시킨다.
가로대(580)가 상승하면, 이 가로대의 상면에 형성된 조립공(584)에 셔터(300)에 구비된 돌부(362)가 끼워지고, 연속하여 승강부재가 상승하면, 상기 이동체(440)의 끼움홀(442)로부터 끼움돌기(342)가 빠져나옴과 아울러 장입 개방부(102)를 개방하게 되는 것이다.
디스플레이 패널 반입 단계
이러한 상태에서 작업자는 디스플레이 패널을 열처리 유닛(200)에 장입한다.
즉, 디스플레이 패널은 안착 부재(240)의 안착핀(260) 상면에 올려지는 것이다.
폐문 단계
열처리를 위해서는 상기 승강 유닛(500)과 개폐 유닛(400)이 역으로 동작하여 장입 개방부를 밀폐시킨다.
즉, 승강 유닛(500)의 구동 모터(520)가 역회전하여, 승강 부재를 하강시키고, 이와 동시에 하강하는 개폐문(320)은 양측 끼움돌기(342)가 이동체(440)의 끼옴홀(442)에 끼워지는 것으로 안착되고, 승강 부재(580)는 다음 개폐문을 승강시키기 위해 완전히 포스트의 하부까지 하강한다.
이러한 상태에서, 개폐 유닛(400)의 실린더(420)가 이동체(440)를 밀어 개폐문이 장입 개방부를 폐쇄하도록 하는 것이다.
열처리 단계
장입 개방부가 폐쇄되면, 열처리 유닛(200)이 발열관(222)이 발열하여 열처리가 이루어지도록 하며, 적어도 250℃ 이상의 온도에서 이루어지도록 한다.
열처리 후 상기한 수평 이동 단계 및 완전 개방 단계를 반복시켜 패널을 반출 및 재반입이 이루어지는 것이다.
청소 및 유지 보수 단계
디스플레이 패널의 열처리 과정에서 경우에 따라서는 패널이 파손될 수 있다. 이때 본 발명은 안착 부재에 의해 다른 패널에 영향을 주지 않으며 청소가 용이하다.
즉, 작업자는 본체(100) 후면에 구비된 개폐 도어(106)를 개방하고, 안착 부재(240)에 구비된 손잡이(246)를 당겨 슬라이드 방식으로 안착 부재를 인출하여 패널을 정리하는 것이다.
물론, 열처리 유닛(200)의 유지 보수시에도 이용되는 것은 당연한 것이다.
이상에서 설명한 바와 같이, 본 발명이 속하는 기술 분야의 당업자는 본 발명이 그 기술적 사상이나 필수적 특징을 변경하지 않고서 다른 구체적인 형태로 실시될 수 있다는 것을 이해할 수 있을 것이다. 그러므로 이상에서 기술한 실시예는 모두 예시적인 것이며 한정적인 것이 아닌 것으로서 이해해야만 한다. 본 발명의 범위는 상기 상세한 설명보다는 후술하는 특허청구범위의 의미 및 범위 그리고 그 등가개념으로부터 도출되는 모두 변경 또는 변형된 형태가 본 발명의 범위에 포함되는 것으로 해석되어야 한다.
10 : 열처리 장치 100 : 본체
100a : 챔버 102 : 장입 개방부
200 : 열처리 유닛 220 : 소성판
240 : 안착 부재 300 : 셔터
320 : 개폐문 342 : 끼움돌기
400 : 개폐 유닛 440 : 이동체
500 : 승강 유닛

Claims (7)

  1. 평면 디스플레이 패널에 도포된 도막을 열처리하는 열처리 시스템으로써,
    지지 프레임 외측에 단열판을 설치하여 박스 형태로 구성되고, 전면에 열처리되는 패널을 반입 또는 반출하기 위한 장입 개방부가 형성되며, 상기 지지 프레임의 안쪽에 다층으로 받침대가 설치된 본체;
    상기 받침대에 소성판이 설치되고, 이 소성판 상면에 발열관이 배관되며, 발열관의 상부측에 안착 부재가 얹혀진 구성으로, 상기 안착 부재의 상면에 놓인 패널을 발열관에서 방사되는 열로 열처리하는 열처리 유닛;
    상기 열처리 유닛의 전방측에 위치하며, 상기 장입 개방부에 끼워지는 다층의 개폐문으로 구성되어 본체 내부에 마련된 챔버를 밀폐시키는 셔터;
    상기 개폐문을 전후방향으로 수평 이동시키는 실린더로 구성되어, 상기 개폐문을 장입 개방부에 밀착 또는 이격시키는 개폐 유닛;
    상기 본체의 전방에 설치된 포스트의 내부에 스크류가 입설되고, 이 스크류에 연결된 승강판의 상면에 가로대가 안착된 구성으로 이루어지는 승강 유닛;을 포함하며,
    상기 스크류를 회전시켜 이와 연결된 승강판과 가로대를 상,하 이동시켜, 개폐 유닛에 의해 이동한 개폐문을 들어올려 장입 개방부가 완전 개방되도록 하는 것을 포함하는 평면 디스플레이 패널의 열처리 시스템.
  2. 제 1항에 있어서,
    상기 본체는 전면에 셔터가 끼워지는 장입 개방부가 마련되고, 후면에는 개폐 도어가 설치되는 후면 개방부가 형성되도록 하되, 상기 개폐 도어는 디스플레이 패널이 파손되었을 때 안착 부재가 인출되도록 개방되어 청소가 이루어지도록 하는 것을 포함하는 평면 디스플레이 패널의 열처리 시스템.
  3. 제 1항에 있어서,
    상기 열처리 유닛은 소성판의 상면에 등간격으로 다수의 안착핀이 구비되고, 이 안착핀에 열처리가 이루어지는 패널이 얹혀지는 것을 더 포함하는 평면 디스플레이 열처리 패널의 시스템.
  4. 제 1항에 있어서,
    상기 셔터는 다수의 개폐문이 상기 장입 개방부에 다층으로 설치되고, 각각의 개폐문은 지지틀의 일측면에 단열재가 맞대어져 구성된 것을 더 포함하는 평면 디스플레이 패널의 열처리 시스템.
  5. 제 1항에 있어서, 상기 개폐 유닛은, 상기 개폐문의 양측 각각에 위치하며, 상기 본체에 고정되는 베이스판을 구비하고, 이 베이스판 상면에 가이드 레일이 설치된 구성으로, 상기 실린더에 의해 전후방향으로 이동하는 이동체가 가이드 레일을 따라 이동하는 구성을 더 포함하는 평면 디스플레이 패널의 열처리 시스템.
  6. 제 1항에 있어서, 상기 승강 유닛은 본체의 전방 좌, 우측으로 세워진 포스트의 내부에 스크류가 설치되고, 이 스크류와 짝 대우 형식으로 결합되는 승강판을 구비하며, 상기 승강판에 가로대가 안착된 구성으로, 상기 가로대에 조립공이 형성된 것을 포함하는 평면 디스플레이 패널의 열처리 시스템.
  7. 평면 디스플레이 패널을 열처리하는 방법으로써,
    본체의 일측면에 형성된 장입 개방부의 안쪽에 챔버가 마련되고, 상기 장입 개방부에 설치된 셔터를 수평 이동시켜 본체로부터 이격시키는 수평 이동 단계;
    수평 이동된 셔터를 들어올려 장입 개방부를 완전 개방하는 완전 개방 단계;
    개방된 장입 개방부를 통해 챔버 내부에 설치된 열처리 유닛에 디스플레이 패널을 반입시키는 반입 단계;
    상기 셔터를 하강시켜 본래의 위치로 복귀시키는 셔터 복귀 단계;
    상기 셔터를 장입 개방부 측으로 이동시켜 챔버를 밀폐시키는 폐문 단계; 및
    상기 열처리 유닛을 가동시켜, 250℃~750℃의 온도에서 열처리가 이루어지도록 하는 열처리 단계;를 포함하며,
    열처리 후, 상기 수평 이동 단계와 완전 개방 단계를 다시 수행하여 열처리된 디스플레이 패널을 반출함과 아울러 장입이 이루어지도록 하는 것을 포함하는 평면 디스플레이 패널의 열처리 방법.
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