KR101494842B1 - 평면 디스플레이 패널의 열처리 장치용 셔터 및 이 셔터의 개폐 장치 - Google Patents

평면 디스플레이 패널의 열처리 장치용 셔터 및 이 셔터의 개폐 장치 Download PDF

Info

Publication number
KR101494842B1
KR101494842B1 KR20130127630A KR20130127630A KR101494842B1 KR 101494842 B1 KR101494842 B1 KR 101494842B1 KR 20130127630 A KR20130127630 A KR 20130127630A KR 20130127630 A KR20130127630 A KR 20130127630A KR 101494842 B1 KR101494842 B1 KR 101494842B1
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
opening
shutter
heat treatment
closing
closing door
Prior art date
Application number
KR20130127630A
Other languages
English (en)
Inventor
박상욱
장지원
Original Assignee
주식회사 이엔씨 테크놀로지
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 주식회사 이엔씨 테크놀로지 filed Critical 주식회사 이엔씨 테크놀로지
Priority to KR20130127630A priority Critical patent/KR101494842B1/ko
Application granted granted Critical
Publication of KR101494842B1 publication Critical patent/KR101494842B1/ko

Links

Images

Classifications

    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B65—CONVEYING; PACKING; STORING; HANDLING THIN OR FILAMENTARY MATERIAL
    • B65G—TRANSPORT OR STORAGE DEVICES, e.g. CONVEYORS FOR LOADING OR TIPPING, SHOP CONVEYOR SYSTEMS OR PNEUMATIC TUBE CONVEYORS
    • B65G49/00—Conveying systems characterised by their application for specified purposes not otherwise provided for
    • B65G49/05—Conveying systems characterised by their application for specified purposes not otherwise provided for for fragile or damageable materials or articles
    • B65G49/06—Conveying systems characterised by their application for specified purposes not otherwise provided for for fragile or damageable materials or articles for fragile sheets, e.g. glass
    • B65G49/061—Lifting, gripping, or carrying means, for one or more sheets forming independent means of transport, e.g. suction cups, transport frames
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
    • G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
    • G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
    • G02F1/1303—Apparatus specially adapted to the manufacture of LCDs
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/67—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/67005—Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/67011—Apparatus for manufacture or treatment
    • H01L21/67098—Apparatus for thermal treatment
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/67—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/677—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for conveying, e.g. between different workstations
    • H01L21/67739—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for conveying, e.g. between different workstations into and out of processing chamber

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Computer Hardware Design (AREA)
  • Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
  • Power Engineering (AREA)
  • Nonlinear Science (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • Furnace Housings, Linings, Walls, And Ceilings (AREA)
  • Furnace Details (AREA)
  • Tunnel Furnaces (AREA)

Abstract

본 발명은 평면 디스플레이 패널을 열처리하는 장치에 설치되는 것으로, 이 열처리 장치의 본체 내부에 마련된 챔버를 밀폐시키는 셔터와 이 셔터를 개폐하는 장치에 관한 것이다.
상기 셔터는 사각 지지틀로 구성되며, 사각 지지틀 후면에 단열판을 설치하여 개폐문을 구성하되, 지지틀의 양측면에 돌출된 연결편의 저면에 끼움돌기가 구비되고, 지지틀의 전면 중앙 부위에 돌출된 연장판의 저면에 돌부가 구비되며,
상기 개폐장치는 다층으로 설치된 각각의 열처리 유닛의 전방측에 위치하며, 상기 본체에 형성된 장입 개방부에 밀착되어, 장입 개방부의 안쪽에 위치하는 챔버를 밀폐 또는 개방하는 개폐문으로 이루어진 셔터; 상기 개폐문의 양측에 설치되며, 실린더와 연결된 이동체가 상기 개폐문을 수평으로 밀거나 당겨 이동시키는 수평 이동 유닛; 상기 본체의 전방 측에 세워진 포스트의 내부에 스크류가 구비되고, 이 스크류에 짝 대우 형식으로 결합되는 승강판이 구비되며, 상기 승강판의 상면에 가로대가 설치된 승강 유닛;을 포함하며, 상기 승강 유닛의 스크류가 회전하면, 승강판과 가로대가 상,하 이동하여 상기 수평 이동 유닛에 의해 장입 개방부 앞쪽으로 이동한 개폐문을 들어올려 완전 개방이 이루어지도록 하는 특징이 있다.

Description

평면 디스플레이 패널의 열처리 장치용 셔터 및 이 셔터의 개폐 장치{shutter for flat display panel Heat treatment device, and the shutter opening and closing device}
본 발명은 셔터 및 셔터 개폐 장치에 관한 것이다.
더 상세하게는, 평면 디스플레이 패널의 열처리가 이루어지는 열처리 장치의 본체 전면에 다층으로 설치되며 장치의 내측 챔버를 개방 또는 밀폐시켜 평면 디스플레이 패널의 열처리가 이루어지도록 하는 셔터와, 이 셔터를 수평-승강 이동시켜 개방 또는 폐문하는 개폐 장치에 관한 것이다.
또한 본 발명은 셔터를 수평-승강 개방하여, 셔터 개방에 따른 공간을 최소화하고, 그에 따라 작업 공간은 물론이고 작업 현장의 공간 효율적으로 활용할 수 있도록 하는 셔터 승강 장치에 관한 것이다.
일반적으로, 디스플레이는 음극선관(Cathode-Ray Tube, CRT)과 평판 디스플레이(Flat Panel Display, FPD)로 분될 수 있다.
이중 평판 디스플레이에는 액정 디스플레이(Liquid Crystal Display, LCD), 플라즈마 디스플레이 패널(Plasma Display Panel, PDP), 유기 발광다이오드(Organic Luminescent Emitting Diode, OLED), 전계효과 디스플레이(Field Emission Display, FED), 그리고 초소형 정밀기계기술(Micro Electro Mechanical System, MEMS)을 이용한 실리콘 상층 액정(Liquid Crystal On Silicon, LCOS) 등이 있다.
이러한 평판 디스플레이는, 각각이 제조 공정 및 재료는 다르지만, 공통으로 열처리를 통한 소성 과정을 거친다. 열처리 작업을 통해 낮은 전자 이동도를 가지는 비정질 실리콘층을, 높은 전자 이동도를 가지는 결정질 구조의 다결정 실리콘층으로 결정화시키는 것으로, 보통 250℃~750℃ 영역의 온도에서 이루어진다.
통상, 비정질 실리콘층에 열을 가하는 장치로는, 가열로(Furnace)의 내부에 기판을 투입하고 히터 등과 같은 가열 수단으로 비정질 실리콘층에 열을 가해 열처리하는 구조로, 하나의 기판에 대하여 열처리를 수행할 수 있는 매엽식과 복수 개의 기판을 수직으로 다단 매입하여 열처리하는 배치식이 있다.
매엽식은 장치의 구성이 간단하고 제작이 용이한 장점은 있으나 생산성이 떨어지는 단점이 있고, 배치식 열처리 장치는 챔버 내부의 히터(Heater)를 유지보수하는 공간 확보가 어렵고, 셔터(Shutter)의 개폐 동작에 필요한 공간의 제약으로 인해 패널과 패널 간의 거리가 멀어지는 문제가 있다.
배치식 열처리 장치의 일 예로는 국내공개특허 2009-0088282호의 장치가 있다. 이 장치는 비정질 실리콘이 형성되어 있는 복수 개의 기판에 대하여 열처리 공간을 제공하는 챔버; 상기 챔버 내에 배치되어 상기 복수개의 기판이 로딩되는 보트를 포함하고, 상기 챔버와 상기 복수 개의 기판 사이에는 열 차단부가 설치된 구성이다.
열처리 장치 또 다른 형태로, 국내특허 10-0705964호가 있다.
이 장치는 다수의 기판지지대가 설치되고 전방이 개구된 개구부가 형성된 챔버를 포함하는 기판 열처리장치로써, 챔버 개구부의 일 영역을 상하로 이동하여 개구부의 일 영역을 개폐하도록, 가로방향으로 길게 배치되고 양단부에 결합공이 형성된 다수의 개폐플레이트와; 상기 개폐플레이트의 일측 또는 양측에 대응되도록 배치되어 상기 개폐플레이트의 결합공에 삽입 및 인출되도록 좌우로 왕복운동하는 슬라이드부재 및 상기 슬라이드부재를 구동시키는 구동실린더를 구비하는 잠금부와; 상기 잠금부의 슬라이드부재가 통과하도록 다수의 관통공이 형성되며 전방을 향해 절곡된 절곡부를 구비하고, 가로방향으로 길게 배치되어 상기 잠금부와 결합하는 이동플레이트와; 상기 이동플레이트와 결합되어 상기 이동플레이트를 상하 방향으로 이동시키는 구동부를 포함하는 것이다.
즉 이 장치는 다층의 셔터 즉 개폐플레이트를 구비하되, 각각의 개폐플레이트에 구동 실린더에 의해 동작하는 슬라이드 부재가 끼워져 이동부에 의해 상부 혹은 하부로 이동하며 동작하는 구성이다.
그런데, 이와 같은 장치는 셔터를 개폐문 함에 있어 몇 가지 문제가 있다. 이 장치는 하나의 이동부에 의해 다수의 개폐 플레이트가 한꺼번에 승강됨으로써, 기계 고장의 원인이 되고, 개폐플레이트가 틀어지거나 또는 슬라이드 부재와 동일선상에 놓이지 않으면 동작이 불가능한 문제가 있다.
본 발명은 이와 같은 종래의 문제점을 감안하여 이루어진 것으로 그 목적은, 평면 디스플레이 패널의 반입/반출 과정에서 개폐되는 셔터의 이동 공간을 최소화하고, 각 다층으로 설치되는 셔터의 개폐문이 독립적으로 개, 폐문되도록 구성하여 열처리가 이루어지는 패널의 반인/반출이 용이한 셔터 및 이 셔터의 개폐 장치를 제공하는 데 있다.
본 발명은 다른 목적은 독립된 각각의 개폐문을 수평-승강 이동시켜 개방함으로써 개폐에 따른 장치 부하를 감소시키고, 기계적인 고장을 방지할 수 있는 셔터 및 이 셔터의 개폐 장치를 제공하는 데 있다.
본 발명의 또 다른 목적은, 장치의 챔버 내부에 다층으로 설치된 열처리 유닛의 전방측 각각에 셔터를 구비하여, 패널의 선택적인 장입이 가능하고, 그에 따른 작업성을 향상시키며, 작업 시간을 단축할 수 있는 셔터 개폐 장치를 제공하는 데 있다.
본 발명은 평면 디스플레이 패널을 열처리하는 장치에 설치되며, 이 열처리 장치의 본체 내부에 마련된 챔버를 밀폐시키는 셔터로써, 사각 지지틀로 구성되며, 이 사각 지지틀 후면에 단열판을 설치하여 개폐문을 구성하되, 상기 지지틀의 양측면에 돌출된 연결편의 저면에 끼움돌기가 구비되고, 지지틀의 전면 중앙 부위에 돌출된 연장판의 저면에 돌부가 갖추어진 기술적인 특징을 갖는 것으로 달성된다.
또한, 본 발명은 평면 디스플레이 패널을 열처리하는 장치의 본체 내부에 챔버가 마련되고, 이 챔버에 적어도 2개 이상의 열처리 유닛이 다층으로 설치되며, 각각의 열처리 유닛 전방측에 설치되어 패널의 장입 및 반출을 가능하게 하는 개폐 장치로써, 다층으로 설치된 각각의 열처리 유닛의 전방측에 위치하며, 상기 본체에 형성된 장입 개방부에 밀착되어, 장입 개방부의 안쪽에 위치하는 챔버를 밀폐 또는 개방하는 개폐문으로 이루어진 셔터; 상기 개폐문의 양측에 설치되며, 실린더와 연결된 이동체가 상기 개폐문을 수평으로 밀거나 당겨 이동시키는 수평 이동 유닛; 상기 본체의 전방 측에 세워진 포스트의 내부에 스크류가 구비되고, 이 스크류에 짝 대우 형식으로 결합되는 승강판이 구비되며, 상기 승강판의 상면에 가로대가 설치된 승강 유닛;을 포함하며, 상기 승강 유닛의 스크류가 회전하면, 승강판과 가로대가 상,하 이동하여 상기 수평 이동 유닛에 의해 장입 개방부 앞쪽으로 이동한 개폐문을 들어올려 완전 개방이 이루어지도록 하는 기술적인 특징이 있다.
본 발명은 첫째, 열처리가 이루어지는 챔버를 개방 또는 폐쇄하는 셔터의 이동 공간을 최소화하여, 작업 공간을 활용할 수 있도록 하며, 개폐에 따른 기계적인 부하를 감소시켜 기계적인 고장이 없는 효과가 있다.
둘째, 본 발명은 셔터의 개폐 공간을 최소화하여 협소한 공간에도 열처리 장치가 설치되어 사용될 수 있도록 한 발명이다.
셋째, 본 발명은 열처리 장치의 내부에 다층으로 설치된 열처리 유닛 각각의 전면에 셔터를 구비하되, 이 셔터가 독립적으로 개폐됨으로써, 열처리 작업이 용이하고, 선택적인 열처리가 가능하여 작업 효율을 향상시킬 수 있는 효과를 갖는 발명이다.
도 1은 본 발명이 적용된 열처리 장치의 사시도,
도 2는 본 발명이 적용된 열처리 장치의 확대 사시도,
도 3은 본 발명에 따른 셔터 개폐 장치의 정면도,
도 4는 본 발명 셔터의 정면도,
도 5는 본 발명 셔터의 요부를 확대한 평면도,
도 6은 본 발명 개폐 장치의 수평 이동 유닛 및 승강 유닛의 사시도,
도 7은 본 발명 개폐 장치의 수평 이동 유닛 및 승강 유닛이 분리된 상태의 분해 사시도,
도 8은 본 발명 개폐 장치에 적용되는 수평 이동 유닛의 요부 확대 사시도,
도 9는 본 발명 개폐 장치에 적용되는 승강 유닛의 요부 확대도,
도 10a, b는 본 발명 개폐 장치의 동작 과정을 나타낸 일측면도.
본 발명을 설명하기에 앞서, 여기서 사용되는 전문 용어는 단지 특정 실시 예를 언급하기 위한 것이며, 본 발명을 한정하는 것을 의도하지 않는다. 여기서 사용되는 단수 형태들은 문구들이 이와 명백히 반대의 의미를 나타내지 않는 한 복수 형태들도 포함한다. 명세서에서 사용되는 "포함하는 "의 의미는 특정 특성, 영역, 정수, 단계, 동작, 요소 및/또는 성분을 구체화하며, 다른 특정 특성, 영역, 정수, 단계, 동작, 요소, 성분 및/또는 군의 존재나 부가를 제외시키는 것은 아니다.
다르게 정의하지는 않았지만, 여기에 사용되는 기술용어 및 과학용어를 포함하는 모든 용어들은 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자가 일반적으로 이해하는 의미와 동일한 의미를 가진다. 보통 사용되는 사전에 정의된 용어들은 관련기술문헌과 현재 개시된 내용에 부합하는 의미를 가지는 것으로 추가 해석되고, 정의되지 않는 한 이상적이거나 매우 공식적인 의미로 해석되지 않는다.
이하, 첨부된 도면을 참조하여 본 발명의 실시 예에 대하여 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자가 용이하게 실시할 수 있도록 상세히 설명한다. 그러나, 본 발명은 여러 가지 상이한 형태로 구현될 수 있으며 여기에서 설명하는 실시 예에 한정되지 않는다.
바람직하기로, 본 발명의 셔터와 셔터 개폐 장치는 평면 디스플레이 패널을 열처리하는 열처리 장치에 적용되는 것이나, 다른 기계 기구 장치에 적용되어 챔버 등을 개방, 밀폐시키거나 또는 제품, 화물 등을 승하강시키는 장치로 활용될 수 있다.
먼저 본 발명에 첨부된 도 1은 본 발명이 적용된 열처리 장치의 사시도이고, 도 2는 본 발명이 적용된 열처리 장치의 확대 사시도이며, 도 3은 본 발명에 따른 셔터 개폐 장치의 정면도를 도시한 것이고, 도 4 및 도 5는 본 발명 셔터의 정면도 및 요부를 확대한 평면도를 나타낸 것이다.
또한, 첨부된 도 6은 본 발명 개폐 장치의 수평 이동 유닛 및 승강 유닛의 사시도이고, 도 7은 본 발명 개폐 장치의 수평 이동 유닛 및 승강 유닛이 분리된 상태의 분해 사시도이며, 도 8 과 도 9는 본 발명 개폐 장치에 적용되는 수평 이동 유닛의 요부 확대 사시도와 승강 유닛의 요부 확대도를 도시한 것이다.
도 10a, b는 본 발명 개폐 장치의 동작 과정을 나타낸 일측면도를 도시한 것이다.
도면에서 본 발명이 적용되는 열처리 장치(10)는, 본체(100)와 이 본체(100)에 설치되는 열처리 유닛(200)으로 구성되며, 본 발명은 상기 본체(100)의 전면에 설치된다.
상기 본체(100)는 베이스 프레임(120)의 상면에 설치되는 박스 형태의 육면체로 구성되며, 전면과 후면이 각각 개방된 구성이다.
즉 상기 본체(100)의 전면은 디스플레이 패널이 인입/인출되는 장입 개방부(102)가 형성되고, 이 장입 개방부(102)의 안쪽으로 챔버(100a)가 마련되며, 챔버의 내측에 다층으로 열처리 유닛(200)이 설치된 구성이다.
상기 열처리 유닛(200)은 각각에 발열관이 구비되고 독립적으로 혹은 동시에 동작하며, 디스플레이 패널은 열처리 유닛의 상면에 등간격으로 돌출된 안착핀에 올려진 상태로 열처리가 이루어진다.
한편, 본체(100)의 후면 개방부(104)에는 도어(106)가 설치되어 청소 또는 장치의 유지 보수를 가능하게 한다.
본 발명의 셔터(300)는 본체(100)의 전면에 형성된 장입 개방부(102)에 끼워져, 본체의 내부 챔버(100a)를 밀폐 또는 개방하여 패널이 장입-열처리될 수 있도록 하는 것으로, 상기 열처리 유닛(200)의 전면에 설치된다.
즉, 상기 셔터(300)는 다수의 개폐문(320)으로 구성되어, 각각의 개폐문(320)이 상기 열처리 유닛(200)의 전면에 위치하여 디스플레이 패널의 반입/반출을 가능하게 한다.
셔터를 구성하는 상기 개폐문(320)은 직사각 형태의 지지틀(302)과, 이 지지틀 일면에 설치되어 장입 개방부(102)를 밀폐시키는 단열판(20)으로 구성되며, 양측면 각각에 연결편(340)이 구비되어, 이 연결편 저면에 돌출된 끼움돌기(342)가 후술하는 개폐 장치를 구성하는 수평 이동 유닛의 이동체에 끼워지는 구성이다.
상기 지지틀(302)의 전면에는 도면과 같이, 연장판(360)이 구비되고, 이 연장판(360)의 저면에 돌부(362)가 갖추어져 승강 유닛에 의해 들어 올려지도록 한다.
한편, 상기 단열판(20)은 내, 외측판 사이에 공간을 마련하여, 이 공간에 단열 부재가 충진된 구성으로, 단열 부재에서 발생하는 비산 먼지가 외부로 유출되는 것을 방지하는 구성이다.
본 발명의 셔터 개폐 장치는 수평 이동 유닛과 승강 유닛으로 구성된다.
수평 이동 유닛(400)
상기 수평 이동 유닛(400)은 상기 셔터(300)를 수평 이동시켜 디스플레이 패널의 인입/인출을 가능하게 하는 것으로, 실린더(420)와, 이동체(440) 그리고 베이스판(402)으로 구성된다.
상기 베이스판(402)은 직사각형으로, 길게 구성된 것으로, 양측단 각각에 고정판(406)이 설치된 구성으로, 일측 고정판(406)은 본체의 장입 개방부(102) 일측에 맞대어져 고정되는 구성이고, 타측 고정판(406)에는 실린더(420)가 설치되는 구성이다.
본 발명에서 상기 베이스판(402)을 장방향의 직사각형으로 구성한 것은, 개폐문(320)의 이동 거리를 확보하기 위한 것이나, 반드시 이러한 형태로만 이루어지는 것은 아니다. 환경에 따라서 다른 형상 및 모양으로 제작될 수도 있다.
상기 베이스판(402)의 상면에는 가이드 레일(404)이 설치되고, 이 가이드 레일을 따라 이동체(440)가 이동한다.
상기 이동체(440)는 대략 육면체로 구성되고 있으나, 이 또한 형태적인 변경이 가능하다.
상기 이동체(440)의 상면 일측에는 끼움홀(442)이 형성되어 상기 셔터에 설치된 끼움돌기(342)가 끼워지도록 하고, 끼움홀(442)의 대향측 저면에는 가이드부(444)가 구비되어 상기 가이드 레일(404)을 따라 이동될 수 있도록 하는 것이다.
상기 가이드부(444)는 도면과 같이 대략 "
Figure 112013096687363-pat00001
" 형상으로 구성되어 가이드 레일에 조립되도록 하되, 이 가이드부(444)는 상기 이동체(440)에 일체로 구성되거나, 또는 별개로 제작되어 이동체에 조립될 수 있다.
상기 실린더(420)는 피스톤이 도면과 같이 이동체(440)의 정면에 고정되어 이동체를 밀거나 당겨 개폐문을 수평 이동시키는 것이다.
한편, 본 발명의 수평 이동 유닛은 장입 개방부(102) 양측 각각에 설치되어, 개폐문(320)의 양측이 연결되도록 하고, 다층으로 설치되어 각각의 개폐문을 독립적으로 수평 이동시키는 구성이다.
본 발명은 상기와 같이 실린더(320)를 이용하는 것을 기본 구성으로 하고 있으나, 경우에 따라서는 모터가 이용될 수 있다.
즉, 상기 베이스판(402)의 양측단 각각에 세워진 고정판(406)에 스크류를 관통시켜 설치하고, 이 스크류를 모터로 회전시켜 구성하되, 이동체(440)의 저면에 나사부를 두어 상기 스크류에 조립되도록 하는 즉, 짝 대우 형식으로 조립이 이루어지도록 하는 방법도 있다.
본 발명 수평 이동 유닛의 또 다른 실시 예로, 랙과 피니언을 이용하는 방법도 있다. 상기와 마찬가지로, 베이스판(402)의 상면에 랙 기어를 이동 가능하게 설치하고, 모터와 연결된 피니언 기어로 랙 기어를 이동시키는 것이다. 물론 상기 이동체는 랙 기어의 일단에 고정되는 것이다.
또한 본 발명은 와이어와 체인 구동에 의한 수평 이동도 가능하다.
승강 유닛(500)
도면에서 본 발명의 승강 유닛(500)은 스크류(502)를 이용하는 것으로, 구동 모터(520)와, 회전봉(522), 그리고 좌,우측으로 세워지는 포스트(540) 그리고, 승강판(582)으로 구성된다.
상기 구동 모터(520)는 정역회전 모터로, 모터축은 제 1기어 박스(560)와 연결된다.
상기 회전봉(522)의 중앙은 상기 제 1기어 박스에 연결된 상태이고 양단 각각은 좌,우측으로 세워진 포스트(540)의 하부에 설치된 좌측 및 우측의 제 2 기어 박스(562)에 축설되는 구성이다.
여기서 상기 제 1, 2기어 박스들(560, 562)은 구동 모터(520)의 회전력을 전달하는 것으로, 직교하는 2개의 베벨 기어로 구성된다. 즉 구동 모터(520)의 모터축과 회전봉(522) 각각에 베벨 기어를 구비하여 회전력을 전달하고, 회전봉(522) 양단 각각에도 베벨 기어가 설치되어 그 회전력을 스크류(502)에 전달하는 것이다.
물론 상기 베벨 기어 이외에 다른 형태의 기어 또는 다른 형태의 동력 전달수단으로 대체될 수 있음은 당연한 것이다.
상기 포스트(540)는 간격을 두고 본체의 장입 개방부 좌, 우측에 세워지며, 하단부 배면에는 열처리 장치의 베이스 프레임(120)에 고정 설치될 수 있도록 브라켓트(542)가 구비되며, 하단 안쪽면에 상기 제2기어박스(562)가 각각 설치되는 구성이다.
상기 좌, 우측 각각의 포스트(540)의 내부에는 스크류(502)가 입설되며, 이 스크류(502)의 하단은 제 2기어 박스에 축설된 즉, 직교하는 2개의 베벨 기어가 구비되어 상기 회전봉과 연결되는 것이다.
상기 승강판(582)은 상기 스크류와 연결된다. 이 승강판(582)은 포스트의 안쪽면에 밀착된 상태로 선단 일부가 포스트에 길이 방향 절개된 절개부를 관통하여 상기 스크류에 결합되도록 하되, 이 선단부의 내면에 암나사부(미도시)를 구비하여 상기 스크류에 조립되는 구성으로, 짝 대우 방식으로 스크류가 회전하면 승강판(582)이 상하 이동하는 것이다. 물론, 상기 포스트(540)의 안쪽면 또는 측면은 형성된 절개부는 승강판의 이동을 가능하게 하는 것은 당연한 것이다.
한편, 상기 좌, 우측으로 구비되는 승강판(582)에는 가로대(580)가 걸쳐지며, 이 가로대가 승강판과 동시에 승하강하며, 셔터를 들어올리거나 또는 하강시켜 위치 복원시키는 구성이다.
본 발명 승강 장치의 다른 실시 예로, 스크류 방식이 아닌 와이어 또는 체인 구동 방식이 적용될 수 있다.
즉 좌, 우측으로 세워진 포스트(540)의 상하부 각각에 스프로킷 또는 롤러를 설치하고, 이들 각각에 체인 또는 와이어를 감아 전동하되, 하부측 스프로킷 또는 롤러는 상기 회전봉(522)가 연결되며, 와이어 또는 체인에 상기 승강판(582)이 고정된 구성이다.
이러한 구성은 회전봉(522)에 의해 스프로킷 또는 롤러가 회전하면, 여기에 감아진 체인 또는 와이어가 회전하며 승강판(582)을 승하강시키는 것이다.
다음은 본 발명의 동작 과정을 설명한다.
평면 디스플레이 패널의 열처리 장치에 적용되는 본 발명의 개폐 장치는 본체(100)의 장입 개방부(102) 앞쪽에 설치된다.
즉, 셔터(300)는 다층으로 설치된 열처리 유닛(200) 각각의 전방측에 개폐문(320)이 위치하고, 이 개폐문의 좌우측 각각에 수평 이동 유닛(400)이 설치되며, 개폐문(320)의 전면에 승강 유닛(500)이 설치되는 구성이다.
먼저 작업자 패널을 열처리 유닛(200)에 장입하기 위해 개폐 장치를 가동시키면, 수평 이동 유닛(400)의 실린더(420)가 동작한다.
이때 수평 이동 유닛의 이동체(440)의 끼움홀(442)에는 개폐문(320)에 구비된 끼움돌기(342)가 끼워진 상태로, 실린더(420)가 이동체(440)를 당기면 개폐문이 수평 이동하여 장입 개방부로부터 이격된다.
이러한 상태에서 본 발명 승강 유닛(500)의 구동 모터(520)가 동작하여 회전봉(222)과 이와 연결된 스크류(502)를 회전하면, 이 스크류와 짝 대우 형태로 결합된 승강판(582)이 상부로 이동하고, 동시에 가로대(580)가 이동한다. (도10a 참조)
가로대(580)가 연속 상승하여, 가로대(580)의 상면에 형성된 조립공(584)이 개폐문(320)에 구비된 돌부(362)에 도달하며, 이 돌부(362)가 조립공(584)에 끼워지게 된다. 돌부(362)가 끼워진 상태에서 가로대(580)가 상승하면, 이와 동시에 개폐문(320)도 같이 상승하여, 장입 개방부를 완전히 개방한다.
물론, 디스플레이 패널의 장입 후에는 반대의 동작하여 장입 개방부를 밀폐시킨다.
즉 본 발명의 승강 장치(500)가 하강하여, 개폐문(320)이 수평 이동 유닛에 도달하면 개폐문(320)의 끼움돌기(342)가 이동체의 끼움홀(442)에 끼워져 걸쳐지고, 가로대 연속하여 하강하며, 동시에 수평 이동 유닛이 동작하여 장입 개방부를 밀폐시키는 것이다.
이상에서 설명한 바와 같이, 본 발명이 속하는 기술 분야의 당업자는 본 발명이 그 기술적 사상이나 필수적 특징을 변경하지 않고서 다른 구체적인 형태로 실시될 수 있다는 것을 이해할 수 있을 것이다. 그러므로 이상에서 기술한 실시예는 모두 예시적인 것이며 한정적인 것이 아닌 것으로서 이해해야만 한다. 본 발명의 범위는 상기 상세한 설명보다는 후술하는 특허청구범위의 의미 및 범위 그리고 그 등가개념으로부터 도출되는 모두 변경 또는 변형된 형태가 본 발명의 범위에 포함되는 것으로 해석되어야 한다.
100 : 본체 200 : 열처리 유닛
300 : 셔터 400 : 수평 이동 유닛
420 : 실린더 440 : 이동체
500 : 승강 장치 502 : 스크류
520 : 구동 모터 540 : 포스트
560, 562 : 제 1,2 기어 박스

Claims (8)

  1. 삭제
  2. 삭제
  3. 평면 디스플레이 패널을 열처리하는 장치의 본체 내부에 챔버가 마련되고, 이 챔버에 적어도 2개 이상의 열처리 유닛이 다층으로 설치되며, 각각의 열처리 유닛 전방측에 설치되어 패널의 장입 및 반출을 가능하게 하는 개폐 장치로서,
    상기 다층으로 설치된 각각의 열처리 유닛의 전방측에 위치하며, 상기 본체에 형성된 장입 개방부에 밀착되어, 장입 개방부의 안쪽에 위치하는 챔버를 밀폐 또는 개방하는 개폐문으로 이루어진 셔터;
    상기 개폐문의 양측에 설치되며, 실린더와 연결된 이동체가 상기 개폐문을 수평으로 당기거나 밀어 이동시키는 수평 이동 유닛;
    상기 셔터의 전면에 위치하고 셔터의 양측단 각각에 세워진 포스트의 내부에 스크류가 입설되며, 각각의 포스트 안쪽면에 밀착되고 단부는 포스트 내부를 관통하여 상기 스크류에 짝 대우 형식으로 결합되는 승강판을 가지며, 상기 승강판의 상면에 걸쳐지는 가로대로 구성된 승강 유닛;을 포함하며,
    상기 스크류를 회전시켜 승강판이 상,하 이동하면, 이 승강판에 걸쳐진 가로대가 승강하며, 상기 수평 이동 유닛에 의해 장입 개방부 앞쪽으로 이동한 개폐문을 들어올려 완전 개방이 이루어지도록 하는 것을 포함하는 평면 디스플레이 패널의 열처리 장치용 셔터 개폐장치.
  4. 제 3항에 있어서, 상기 수평 이동 유닛은, 일단이 열처리 장치의 본체에 설치되는 베이스판을 구비하고, 이 베이스판에 실린더가 설치되며 이 실린더와 연결되는 이동체를 구비하되, 상기 이동체의 일측 상면에는 끼움홀이 형성되고, 타측 저부에는 가이드부가 구비된 구성으로 이루어지며, 상기 개폐문은 측면에 연장된 연결판에 상기 끼움홀에 끼워지는 끼움돌기가 구비되고 개폐문의 전면에는 상기 가로대의 조립공에 끼워지는 돌부가 구비된 것을 포함하는 평면 디스플레이 패널의 열처리 장치용 셔터 개폐장치.
  5. 제 4항에 있어서, 상기 베이스판은 장방형으로 구성되고, 양단 각각에 고정판이 세워져, 일측 고정판은 본체에 고정되고, 타측 고정판에는 실린더가 설치되며, 고정판들 사이에 상기 이동체의 이동을 안내하는 가이드 레일이 구비된 것을 포함하는 평면 디스플레이 패널의 열처리 장치용 셔터 개폐 장치.
  6. 제 3항에 있어서, 상기 승강 유닛은, 셔터의 양측단 각각에 세워진 포스트 하단에 직각 방향으로 동력을 전달하는 좌측 및 우측의 제 2기어 박스가 구비되고, 이들 각각의 제 2기어 박스에 조립된 상태로 상기 스크류가 입설되며, 일단은 좌측 제 2기어박스에, 타측은 우측 제 2기어 박스에 연결되고 중앙에는 구동 모터의 동력을 전달하는 제 1기어 박스가 연결된 회전봉이 구비된 것을 포함하는 평면 디스플레이 패널의 열처리 장치용 셔터 개폐 장치.
  7. 제 6항에 있어서, 상기 제1, 2 기어 박스는 직교로 맞물리는 2개의 베벨 기어로 구성된 것을 포함하는 평면 디스플레이 패널의 열처리 장치용 셔터 개폐 장치.
  8. 제 4항에 있어서, 상기 포스트 각각은 일측 하단에서 후방으로 연장된 브라켓트를 구비하여, 본체에 설치되고, 포스트의 안쪽면에 승강판의 상하 이동을 가능하게 하는 절개부가 형성된 것을 포함하는 평면 디스플레이 패널의 열처리 장치용 셔터 개폐 장치.

KR20130127630A 2013-10-25 2013-10-25 평면 디스플레이 패널의 열처리 장치용 셔터 및 이 셔터의 개폐 장치 KR101494842B1 (ko)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR20130127630A KR101494842B1 (ko) 2013-10-25 2013-10-25 평면 디스플레이 패널의 열처리 장치용 셔터 및 이 셔터의 개폐 장치

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR20130127630A KR101494842B1 (ko) 2013-10-25 2013-10-25 평면 디스플레이 패널의 열처리 장치용 셔터 및 이 셔터의 개폐 장치

Publications (1)

Publication Number Publication Date
KR101494842B1 true KR101494842B1 (ko) 2015-03-02

Family

ID=53025672

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR20130127630A KR101494842B1 (ko) 2013-10-25 2013-10-25 평면 디스플레이 패널의 열처리 장치용 셔터 및 이 셔터의 개폐 장치

Country Status (1)

Country Link
KR (1) KR101494842B1 (ko)

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US10446433B2 (en) 2015-07-30 2019-10-15 Lg Display Co., Ltd. Supporter pin and heat treatment apparatus having the same
KR20200034514A (ko) * 2018-09-21 2020-03-31 (주) 예스티 열처리 장치
CN115072383A (zh) * 2022-08-19 2022-09-20 山西建设投资集团有限公司 一种建筑施工用玻璃运送装置

Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100473993B1 (ko) * 2003-04-23 2005-03-10 주식회사 제우스 엘씨디 글라스 기판 오븐 시스템의 오븐 쳄버 위치 조절장치
KR100705964B1 (ko) * 2005-12-02 2007-04-12 오성엘에스티(주) 개별셔터방식의 도어시스템을 구비한 열처리장치
KR100755429B1 (ko) * 2006-05-26 2007-09-04 주식회사 케이피씨 가열로의 셔터
KR101297292B1 (ko) * 2012-06-22 2013-08-14 (주) 디바이스이엔지 기판 열처리 장치의 셔터 구조

Patent Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100473993B1 (ko) * 2003-04-23 2005-03-10 주식회사 제우스 엘씨디 글라스 기판 오븐 시스템의 오븐 쳄버 위치 조절장치
KR100705964B1 (ko) * 2005-12-02 2007-04-12 오성엘에스티(주) 개별셔터방식의 도어시스템을 구비한 열처리장치
KR100755429B1 (ko) * 2006-05-26 2007-09-04 주식회사 케이피씨 가열로의 셔터
KR101297292B1 (ko) * 2012-06-22 2013-08-14 (주) 디바이스이엔지 기판 열처리 장치의 셔터 구조

Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US10446433B2 (en) 2015-07-30 2019-10-15 Lg Display Co., Ltd. Supporter pin and heat treatment apparatus having the same
KR20200034514A (ko) * 2018-09-21 2020-03-31 (주) 예스티 열처리 장치
KR102103155B1 (ko) * 2018-09-21 2020-04-23 (주) 예스티 열처리 장치
CN115072383A (zh) * 2022-08-19 2022-09-20 山西建设投资集团有限公司 一种建筑施工用玻璃运送装置

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR101484734B1 (ko) 평면 디스플레이 패널의 열처리 시스템 및 그 열처리 방법
US7988817B2 (en) Lift pin driving device and a flat panel display manufacturing apparatus having same
KR101462616B1 (ko) 평면 디스플레이 패널의 열처리 유닛
KR101494842B1 (ko) 평면 디스플레이 패널의 열처리 장치용 셔터 및 이 셔터의 개폐 장치
JP4642608B2 (ja) 基板処理装置および基板処理システム
KR100830730B1 (ko) 기판 처리 장치, 로드록실 유닛, 및 반송 장치의 반출 방법
KR101058187B1 (ko) 기판 보관용 카세트 시스템
KR101542224B1 (ko) 강화유리 제조장치의 노 개폐장치
CN101178502B (zh) 升降销驱动装置以及具有该装置的平板显示器制造设备
KR100616298B1 (ko) 슬라이드 슬릿식 열처리장치
CN111383948B (zh) 基板处理装置
KR100925172B1 (ko) 리드 개폐장치 및 방법
KR100682738B1 (ko) 반도체 처리 장치
KR102113214B1 (ko) 패널 열처리 장치 및 열처리 방법
KR101327920B1 (ko) 글라스 열처리용 오븐의 셔터 구동장치
KR20160049629A (ko) 카세트 스토커 및 이를 이용한 카세트 로딩/언로딩 방법
KR101657507B1 (ko) 건축물 전력 케이블 트레이 구조물
JP2007139234A (ja) 熱処理装置
KR101371707B1 (ko) 어닐링장치
KR20090088733A (ko) 공정 챔버 및 이것을 포함하는 평판표시소자 제조장비
CN101954366A (zh) 平板清洗设备自动启闭门
KR101683640B1 (ko) 디스플레이장치용 글래스 건조 장치
KR102064511B1 (ko) 셔터장치와 이를 구비한 기판 처리 장치
KR100730459B1 (ko) 액정표시장치의 글라스 셀 자동 로딩장치
KR102315008B1 (ko) 디스플레이패널 제조용 열처리장치 및 열처리장치용 셔터장치

Legal Events

Date Code Title Description
E701 Decision to grant or registration of patent right
GRNT Written decision to grant
FPAY Annual fee payment

Payment date: 20190131

Year of fee payment: 5