KR102622287B1 - 화장료의 제조 방법 및 화장료 - Google Patents

Abstract

충전 완료된 화장료 표면으로부터 돌출되는, 미세한 문자나 도형을 포함하는 모양을 선명하면서 용이하게 형성하는, 화장료의 제조 방법 및 화장료를 제공한다.
가식용 화장료를, 충전 완료된 화장료의 표면에 대해 액적 상태로 토출하여, 상기 충전 완료된 화장료의 표면으로부터 돌출되는 모양을 형성하는 모양 형성 공정을 갖는다. 모양 형성 공정은, 가식용 화장료를 연속적으로 정량 토출하여, 충전 완료된 화장료의 표면에 대해, 액적 상태로 토출된 가식용 화장료를 연속적으로 착탄시킴으로써 돌조의 모양을 형성한다.

Description

화장료의 제조 방법 및 화장료{METHOD FOR PRODUCING COSMETIC MATERIAL AND COSMETIC MATERIAL}

본 발명은, 화장료의 제조 방법 및 화장료에 관한 것이다.

파운데이션, 블러셔, 립스틱 등의 화장료의 표면에 대해, 도형이나 문자 등의 모양을 형성하는 방법으로서, 몰드를 사용한 형빼기에 의해 모양을 형성하거나(특허문헌 1, 특허문헌 2 참조), 레이저광에 의해 소손시켜 모양을 형성하거나(특허문헌 3 참조), 정전 스크린 인쇄법에 의해 인쇄용 분체를 화장료 표면에 전사시켜 모양을 형성하는 것이 행해지고 있다(특허문헌 4 참조).

일본 특허 공개 제2002-326908호 공보 일본 특허 공개 제2008-174474호 공보 일본 특허 공개 제2000-247832호 공보 일본 특허 공개 제2005-144935호 공보

그러나 특허문헌 1 또는 특허문헌 2에 개시된 몰드를 사용한 형빼기에서는, 가느다란 선에 의한 문자나 도형 등의 모양을 형성하는 것이 곤란하고, 특히 1㎜ 이하의 선 폭의 문자나 도형 등의 모양을 형빼기하는 것은 매우 어렵다. 또한, 스틱형의 립스틱과 같이 대략 원기둥 형상의 화장료의 곡면 부분에 대해 요철 모양을 실시하는 데는, 단일의 몰드로는 곤란하며, 분할 가능한 몰드를 사용하거나, 특허문헌 2와 같이 단일의 탄성 몰드를 전개시키는 기구를 설치하거나 하는 등, 제조 장치나 제조 방법이 복잡화된다. 또한, 모양마다 상이한 몰드를 제작해야 한다.

또한, 특허문헌 3에 개시된 레이저광에 의한 모양의 형성에서는, 화장료의 표면에 대해 볼록 형상의 모양을 형성하는 것이나, 화장료와 상이한 색채의 모양을 형성할 수 없다.

또한, 특허문헌 4에 개시된 정전 스크린 인쇄법에 의한 모양의 형성에서는, 예를 들어 대략 원기둥 형상의 화장료의 곡면 부분에 대해 모양을 형성하면, 곡면 형상에 따라서 모양이 늘어나 인쇄되어 버려, 원하는 모양을 형성하는 것이 곤란하다.

그래서 본 발명의 목적으로 하는 바는, 충전 완료된 화장료 표면으로부터 돌출되는, 미세한 문자나 도형을 포함하는 모양을 선명하면서 용이하게 형성하는, 화장료의 제조 방법 및 화장료를 제공하는 데 있고, 특히 화장료에의 응용이 고려되어 있지 않았던 액체 정량 토출 수단(디스펜서)을 적용하고자 하는 것이다.

상기한 목적을 달성하기 위해, 본 발명의 화장료의 제조 방법은, 가식용 화장료를, 충전 완료된 화장료의 표면에 대해 액적 상태로 토출하여, 상기 충전 완료된 화장료의 표면으로부터 돌출되는 모양을 형성하는 모양 형성 공정을 갖는 것을 특징으로 한다.

또한, 본 발명의 화장료의 제조 방법에 있어서, 상기 모양 형성 공정은, 상기 가식용 화장료를 연속적으로 정량 토출하는 것을 특징으로 한다.

또한, 본 발명의 화장료의 제조 방법에 있어서, 상기 모양 형성 공정은, 상기 충전 완료된 화장료의 표면에 대해, 액적 상태로 토출된 상기 가식용 화장료를 연속적으로 착탄시킴으로써 돌조의 모양을 형성하는 것을 특징으로 한다.

또한, 본 발명의 화장료의 제조 방법에 있어서, 상기 가식용 화장료는, 상기 충전 완료된 화장료와는 상이한 조성인 것을 특징으로 한다.

또한, 본 발명의 화장료의 제조 방법에 있어서, 상기 가식용 화장료는, 가열에 의해 용융 상태로 된 유성 화장료이고, 상기 충전 완료된 화장료는 유성 고형 화장료인 것을 특징으로 한다.

또한, 본 발명의 화장료의 제조 방법에 있어서, 상기 돌조의 폭은, 0.7㎜ 이하인 것을 특징으로 한다.

또한, 본 발명의 화장료의 제조 방법에 있어서, 상기 돌조의 폭은, 0.3㎜ 이하인 것을 특징으로 한다.

또한, 본 발명의 화장료는, 가식용 화장료가 액적 상태로 토출되어 이루어지는, 충전 완료된 화장료의 표면으로부터 돌출되는 모양을 갖는 것을 특징으로 한다.

본 발명에 따르면, 기존의 제조 장치 및 공정에 의해 원하는 용기 등에 충전된 후의 충전 완료된 화장료의 표면에 대해, 그 표면이 평활면, 곡면, 요철면인지를 묻지 않고, 충전 완료된 화장료의 표면으로부터 돌출되는 미세한 문자나 도형을 포함하는 모양을 선명하면서 용이하게 형성할 수 있어, 기존 설비의 큰 변경을 수반하는 일 없이, 화장료의 고부가 가치화를 도모할 수 있다.

도 1은 본 발명의 실시 형태에 관한 화장료를 도시하는 도면이며, (a)는 사시도, (b)는 A-A선에 있어서의 단부면도, (c)는 B-B 부분 확대도이다.
도 2는 본 발명의 실시 형태에 관한 모양의 예를 도시하는 도면이다.
도 3은 본 발명의 실시 형태에 관한 화장료를 도시하는 사시도이다.
도 4는 본 발명에 관한 화장료의 제조 방법을 모식적으로 도시하는 도면이다.
도 5는 본 발명에 관한 화장료의 제조 시스템을 모식적으로 도시하는 사시도이다.
도 6은 유성 화장료의 토출 상태를 도시하는 모식도이다.

이하, 본 발명의 실시 형태에 관한 화장료의 제조 방법, 제조 시스템, 및 화장료에 대해, 도면을 참조하여 설명한다.

본 실시 형태에 관한 화장료의 제조 방법, 제조 시스템, 및 화장료에 대해 도 1 내지 도 6을 참조하여 설명한다. 도 1은, 본 발명의 실시 형태에 관한 화장료를 도시하는 도면이며, (a)는 사시도, (b)는 A-A선에 있어서의 단부면도, (c)는 B-B 부분 확대도, 도 2는 본 발명의 실시 형태에 관한 모양의 예를 도시하는 도면, 도 3은 본 발명의 실시 형태에 관한 화장료를 도시하는 사시도, 도 4는 본 발명에 관한 화장료의 제조 방법을 모식적으로 도시하는 도면, 도 5는 본 발명에 관한 화장료의 제조 시스템을 모식적으로 도시하는 사시도, 도 6은 유성 화장료의 토출 상태를 도시하는 모식도이다.

도 1의 (a)에 도시하는 바와 같이, 화장료(1)는, 일례로서, 원형으로 형성된 저면과, 당해 저면으로부터 기립 설치되는 측면을 갖고, 상면이 개구된 접시 형상의 용기(3)에 수용된 화장료이다. 또한, 본 발명에 있어서, 용기(3)의 형상은 특별히 한정되는 것은 아니다. 본 실시 형태에 관한 화장료(1)는, 용기(3)에 충전되어 고화되어 있는 유성 고형 화장료(2)(충전 완료된 화장료)와, 후술하는 바와 같이, 가열에 의해 용융 상태로 된 유성 화장료(가식용 화장료)를 유성 고형 화장료(2)의 표면(2a)에 대해 액적 상태로 토출하여 형성된 모양(4)을 갖고 있다.

모양(4)은, 유성 고형 화장료(2)의 표면(2a)으로부터 돌출되도록, 돌조로 형성되어 있다. 도 1에 있어서는, 모양(4)은 로마 문자 「abcdefg」 및 「ABCD&EFGI」를 2단 병기하여 이루어지는 예를 도시하고 있다. 도 1의 (b) 및 (c)에 도시하는 바와 같이, 모양(4)인 로마 문자 「abcdefg」 및 「ABCD&EFGI」는, 유성 고형 화장료(2)의 표면(2a)으로부터 돌출되도록, 1획마다 돌조로 형성되어 있다. 모양(4)은, 유성 고형 화장료(2)의 표면(2a)으로부터 돌출되도록 형성되어 있으면, 문자(기호를 포함함)에 한정되지 않고, 도 2의 (a)에 도시하는 바와 같은 선묘 형상의 도형이어도 되며, 어떠한 형상의 모양이어도 되는 것은 물론이다. 또한, 도 2의 (b)에 도시하는 바와 같이, 복수의 돌조를 인접시킴으로써, 전부 또는 일부의 선 폭이 굵게 보이도록 모양(4)을 형성해도 된다.

본 실시 형태에 관한 충전 완료된 화장료인 유성 고형 화장료(2), 및 가식용 화장료인 모양(4)을 구성하는 유성 화장료는, 일례로서는 립스틱, 립글로스, 립크림, 컨실러, 파운데이션, 아이섀도, 블러셔 등, 유성 성분이 포함되는 화장료이며, 소정 온도 이상으로 가열하면 용융 상태로 되어, 상온에서 형상을 유지할 수 있는 다양한 유성 화장료가 포함된다. 또한, 유성 고형 화장료(2)(충전 완료된 화장료) 및 모양(4)을 구성하는 유성 화장료(가식용 화장료)는 동일한 조성이어도 되고, 예를 들어 색채나, 펄제 함유의 유무 등에 있어서 상이한 조성으로 해도 된다.

도 1 및 도 2에 있어서는, 모양(4)은, 유성 고형 화장료(2)의 평활한 표면(2a)에 형성되는 예를 설명하였지만, 본 발명은 이것에 한정되는 것은 아니다. 예를 들어, 도 3에 도시하는 바와 같이, 스틱형의 립스틱과 같이, 조출 용기의 구성 부재로서의 용기(3)에 충전된, 대략 원기둥 형상의 유성 고형 화장료(1)의 곡면으로 이루어지는 표면(2a)에 대해 모양(4)(도 3에 도시하는 예에서는 로마 문자 「ABCD&EFGI」)이 형성되어도 되고, 그 밖에 몰드 등에 의해 성형된 유성 고형 화장료의 요철면으로 이루어지는 표면에 대해 모양(4)이 형성되어도 된다.

[충전 공정·충전 장치]

먼저, 유성 고형 화장료(2)를 형성하기 위해, 소정 온도에서 가열하여 용해된 유동 상태의 유성 화장료(벌크)를, 탈기 등의 처리를 거쳐 충전 장치(도시하지 않음)의 호퍼(도시하지 않음)에 저류해 두고, 이 유성 화장료를 충전 장치의 노즐(6)로부터 용기(3)의 내측에 충전한다(도 4의 (a) 참조). 또한, 용기(3)에 충전된 유성 화장료에 대해, 매끄러운 표면(2a)을 얻기 위해, 임의로 재가열(리히트) 처리를 행해도 된다.

[고화 공정·고화 장치]

상기 충전 공정(충전 장치)에 의해 충전된 유성 화장료를 고화시켜, 유성 고형 화장료(2)로 한다(도 4의 (b) 참조). 고화 방법은 특별히 한정되는 것은 아니며, 예를 들어 임의의 냉각 수단에 의해 냉각 대상물에 대해 강제적으로 냉각 처리를 실시하는 냉각 공정을 실시하거나, 냉각 대상물을 방치하여 실온까지 냉각하는 방랭 공정을 실시하거나 해도 된다. 상기한 고화 공정에 의해, 용기(3) 내에 충전·고화된, 평활한 표면(2a)을 갖는 유성 고형 화장료(2)가 얻어진다.

또한, 상기한 충전 공정 및 고화 공정에서는, 편평한 접시 형상의 용기(3) 내에 있어서 평활한 표면(2a)을 구비한 유성 고형 화장료(2)를 충전하는 경우에 대해 설명하였지만, 그 밖에 캔이나, 유리병 등의 병 용기에 유성 고형 화장료를 충전해도 되고, 본 발명에 있어서의 유성 고형 화장료(2)는 이것에 한정되는 것은 아니다. 예를 들어, 임의의 요철면을 본뜨기 가능한 몰드를 사용하여, 이른바 핫 백 등의 방법에 의해, 당해 몰드에 대응한 입체적인 요철면이 본뜨기된 표면을 구비하는 유성 고형 화장료(2)를 용기(3)에 충전시키도록 해도 된다. 또한, 용기(3)로부터 돌출되는 입체적 형상(예를 들어, 도 3에 도시하는 바와 같은 곡면으로 이루어지는 표면(2a))을 구비하는 유성 고형 화장료(2)를 성형하도록 해도 된다.

[모양 형성 공정·모양 형성 장치]

가열에 의해 용융 상태로 된 유성 화장료(가식용 화장료)를, 유성 고형 화장료(2)(충전 완료된 화장료)의 표면(2a)에 대해 액적 상태로 토출하여, 유성 고형 화장료(2)의 표면(2a)으로부터 돌출되는 모양(4)을 형성한다(도 4의 (c) 참조).

유성 고형 화장료(2)의 표면(2a)에 대한 유성 화장료의 토출은, 도 5에 도시하는 바와 같이, 토출 장치(8)와, 구동 장치(9)와, 제어 장치(도시하지 않음)를 포함하는 제조 시스템(7)에 의해 실행하는 것이 바람직하다.

토출 장치(8)는, 가식용 화장료를 저류하는 저류부(8a)를 갖고, 저류부(8a) 내의 가식용 화장료를 액적 상태로서 노즐(8b)로부터 도포 대상물을 향해 날림으로써, 도포 대상물에 비접촉으로 가식용 화장료를 토출하는 장치이다. 또한, 액적 상태는, 노즐(8b)로부터 토출된 가식용 화장료가, 미세한 입자가 되어, 노즐(8b) 및 도포 대상물 중 어느 것에도 접촉하는 일 없이, 공간 중을 이동하는 상태이다. 즉, 토출 장치(8)는, 소위 비접촉식 디스펜서인 것이 바람직하다. 에어 펄스나 모터 구동에 의해 액체 재료를 압출하는 방식이나, 튜브를 훑어 튜브 내의 액체 재료를 보내는 튜빙 방식 등의 접촉식 디스펜서에서는, Z축 방향(수직 방향)의 구동 제어(설정)가 필수인데, 비접촉식 디스펜서에 의하면, Z축 방향의 제어가 임의로 되어, 도포 택트를 현저하게 향상시킬 수 있다. 또한, 비접촉식 디스펜서에 있어서 Z축 방향의 제어를 행해도 되는 것은 물론이다.

토출 장치(8)에 의한 가식용 화장료의 토출 개시 및 정지는, 제어 장치에 의해 제어된다. 또한, 토출 장치(8)는, 저류부(8a)나 노즐(8b)에 히터(도시하지 않음)를 구비하고 있고, 제어 장치에 의해 히터의 온도 관리가 가능하게 구성되어 있다. 이에 의해, 가식용 화장료로서 유성 화장료를 사용하는 경우, 토출 직전까지 용융 상태로 유지할 수 있다.

도포 대상물인 유성 고형 화장료(2)의 표면(2a)과 노즐(8b)의 거리는, 1.5 내지 2.0㎜ 정도가 적합하다.

토출 장치(8)는, 가열에 의해 용융 상태로 된 유성 화장료(가식용 화장료)를 연속적으로 정량 토출한다. 일례로서, 1초당 토출량은 10 내지 20㎎인 것이 바람직하다. 토출 장치(8)의 노즐(8b)로부터 액적 상태로 연속적으로 토출되는 용융 상태의 유성 화장료는, 도포 대상물인 유성 고형 화장료(2)의 표면(2a)에 착탄될 때까지의 동안에 냉각되어, 표면(2a)에의 착탄과 함께 차례차례 표면(2a) 상에 고착된다. 이에 의해, 원하는 디자인에 의한 모양(4)을 유성 고형 화장료(2)의 표면(2a)에 형성할 수 있다.

또한, 도포 대상물인 유성 고형 화장료(2)(충전 완료된 화장료)의 표면(2a)에 대해, 액적 상태로 토출된 유성 화장료(가식용 화장료)를 연속적으로 착탄시켜 타점함으로써 돌조의 모양(4)을 형성한다. 도 6에 도시하는 바와 같이, 액적 상태로 토출된 유성 화장료(가식용 화장료)를 연속적으로 유성 고형 화장료(2)(충전 완료된 화장료)의 표면(2a)에 착탄시킴으로써, 표면(2a)으로부터 돌출된 선 형상(직선 및 곡선을 포함함)의 돌조의 모양(4)이 형성된다. 그 선 폭 W는, 0.7㎜ 이하인 것이 바람직하고, 0.3㎜ 이하인 것이 더욱 바람직하다.

도 5에 도시하는 바와 같이, 구동 장치(9)는, 베이스(9a)와, 베이스(9a) 상에서 Y축 방향으로 수평 구동이 가능하게 설치된 스테이지(9b)와, 스테이지(9b)에 걸쳐 있도록 베이스(9a)에 고정된 암(9c)을 구비한다. 암(9c)에는, 노즐(8b)을 스테이지(9b)에 대해 대향시킨 상태에서, 토출 장치(8)를 X축 방향으로 수평 구동이 가능하게 설치할 수 있도록 되어 있다. 구동 장치(9)에 의한 토출 장치(8) 및 스테이지(9a)의 구동은, 제어 장치에 의해 제어된다.

구동 장치(9)는, 토출 장치(8)의 X축 방향으로의 구동 및 스테이지(9a)의 Y축 방향으로의 구동 중 어느 한쪽만을 실행하거나 또는 동시에 실행함으로써, 스테이지(9a)에 적재되는 도포 대상물의 표면 중 원하는 부분에 대한 가식용 화장료의 토출을 가능하게 하고 있다.

제어 장치는, 토출 장치(8) 및 구동 장치(9)의 동작을 제어하는 제어 수단이며, 토출 압력, 토출 횟수, 히터 온도 등을 포함하는 다양한 설정 및 제어가 가능하다. 제어 장치에 대해, 유성 고형 화장료(2)의 표면(2a)에 형성하는 모양(4)에 관한 패턴 데이터를 미리 입력해 둔다. 그 패턴 데이터에 기초하여, 제어 장치는 토출 장치(8) 및 구동 장치(9)를 구동시켜, 패턴 데이터대로의 모양(4)을 표면(2a)에 형성한다.

일례로서, 도 1의 (a)에 도시하는 바와 같은 모양(4)을 형성하는 경우에는, 상단의 로마 문자 「abcdefg」의 폰트·크기·위치, 하단의 로마 문자 「ABCD&EFGI」의 폰트·크기·위치, 상단의 문자열과 하단의 문자열의 간격 등을 미리 설정한 패턴 데이터를, 제어 장치에 입력해 둔다. 당해 패턴 데이터에 기초하여, 제어 장치는 토출 장치(8) 및 구동 장치(9)를 구동시켜, 패턴 데이터대로의 모양(4)을 형성하도록, 유성 고형 화장료(2)의 표면(2a)에 대해 가식용 화장료를 토출해 간다(도 4의 (c) 참조).

또한, 상기한 모양 형성 공정에 있어서, 스테이지(9b) 상에 적재한 유성 고형 화장료(2)가, 스테이지(9b) 상에서 위치 어긋남이 발생하지 않도록 하기 위해, 스테이지(9b)의 표면 부재를 마찰 계수가 높은 소재로 형성하거나, 스테이지(9b)에 고정된 보유 지지 부재(도시하지 않음)에 유성 고형 화장료(2)를 수용하고 있는 용기(3)를 보유 지지시키거나 하는 것이 바람직하다. 또한, 도 3에 도시하는 바와 같은 대략 원기둥 형상으로 성형된 유성 고형 화장료(2)의 곡면으로 이루어지는 측면에 대해 모양(4)을 형성하는 경우에는, 스테이지(9b) 상에서 구르지 않도록, 상기 보유 지지 부재에 의해 용기(3)을 보유 지지하도록 한다.

상기한 바와 같이 원하는 패턴 데이터에 기초하는 모양(4)이 형성됨으로써, 가열에 의해 용융 상태로 된 유성 화장료가 액적 상태로 토출되어 이루어지는, 유성 고형 화장료(2)의 표면(2a)으로부터 돌출되는 모양(4)을 갖는 화장료(1)가 얻어진다(도 4의 (d) 참조).

상기한 본 발명의 실시 형태에 의한 화장료의 제조 방법에 따르면, 이하의 효과를 발휘한다.

(1) 가열에 의해 용융 상태로 된 유성 화장료를 미세한 입자로서 고정밀도로 토출하는 토출 장치에 의해 모양(4)을 형성하므로, 종래와 같이 몰드를 사용한 형빼기에서는 매우 곤란했던 선 폭 1㎜ 이하의 가느다란 돌조의 모양(4)을 정확하게 형성하는 것이나, 그러한 모양(4)을 곡면이나 요철면에 대해 형성하는 것이 매우 용이해지고, 화장료(1)의 디자인의 선택 폭이 넓어져, 섬세한 모양(4)을 구비한 부가 가치가 높은 화장료(1)를 제조할 수 있다.

(2) 또한, 가열에 의해 용융 상태로 된 유성 화장료를 미세한 입자로서 고정밀도로 토출하는 토출 장치에 의해 모양(4)을 형성하므로, Z축 방향의 구동 제어가 임의로 되어, 모양(4)의 형성을 위한 도포 택트를 현저하게 향상시킬 수 있다.

(3) 또한, 모양(4)의 형성 시에는, 원하는 디자인에 의한 패턴 데이터를 제어 장치에 설정하면 되기 때문에, 종래의 몰드를 사용한 형빼기에 의한 모양의 형성과 같이, 원하는 모양마다 몰드를 제작하거나, 몰드를 교체하거나 할 필요가 없어, 화장료(1)의 제조의 용이화를 도모할 수 있다.

(4) 또한, 가식용 화장료를, 유성 고형 화장료(2)(충전 완료된 화장료)와는 상이한 색채로 구성함으로써, 종래와 같은 몰드를 사용한 형빼기나 레이저광에 의한 모양의 형성에서는 이룰 수 없었던 다색이면서 가느다란 모양(4)을 형성할 수 있고, 또한 화장료(1)의 유저는, 상이한 색채로 이루어지는 가식용 화장료 및 유성 고형 화장료(2)가 혼합된 색의 화장료로서 사용할 수 있다고 하는, 부가 가치가 높은 화장료(1)를 제조할 수 있다.

상기한 실시 형태에 있어서는, 가식용 화장료 및 충전 완료된 화장료로서, 소정 온도 이상으로 가열하면 용융 상태로 되어, 상온에서 형상을 유지할 수 있는 유성 화장료를 사용하는 예를 설명하였지만, 본 발명은 이것에 한정되는 것은 아니다. 예를 들어, 충전 완료된 화장료로서는, (a) 가압되어 고화된 분말 화장료, (b) 분말 화장료에 소정의 용매를 첨가한 슬러리를 소정의 용기에 충전 후, 상기 용매의 적어도 일부를 제거하여 고화시킨 분말 화장료, 나아가 (c) 크림상 화장료여도 된다. 마찬가지로, 가식용 화장료로서는, 크림상 화장료나, 분말 화장료에 소정의 용매를 첨가한 슬러리여도 된다.

본 발명에 대해 상기 실시 형태를 참조하면서 설명하였지만, 본 발명은 상기 실시 형태에 한정되는 것은 아니며, 개량의 목적 또는 본 발명의 사상의 범위 내에서 개량 또는 변경이 가능하다.

1 : 화장료
2 : 유성 고형 화장료(충전 완료된 화장료)
2a : 표면
3 : 용기
4 : 모양
6 : 노즐
7 : 제조 시스템
8 : 토출 장치
8a : 저류부
8b : 노즐
9 : 구동 장치
9a : 베이스
9b : 스테이지
9c : 암
W : 선 폭

Claims (13)

1. 유동 상태로 된 유성 화장료를 용기에 충전하는 충전 공정과,
   충전 완료된 화장료를 재가열하여 상기 충전 완료된 화장료의 표면을 평활화하는 재가열 공정과,
   상기 충전 완료된 화장료를 고화시키는 고화 공정과,
   가열에 의해 용융 상태로 된 유성 화장료인 가식용 화장료를, 상기 충전 완료된 화장료의 표면에 대해 액적 상태로 연속적으로 토출하여, 상기 충전 완료된 화장료의 표면에 연속적으로 착탄시킴으로써, 상기 충전 완료된 화장료의 표면으로부터 입체적으로 돌출하는 돌조의 모양을 형성하는 모양 형성 공정을 가지며,
   상기 모양 형성 공정에서는, 연속적으로 토출되는 액적 상태의 상기 가식용 화장료끼리가 부분적으로 겹쳐 상기 충전 완료된 화장료의 표면에 착탄함으로써 상기 돌조의 모양이 형성되는 것을 특징으로 하는, 화장료의 제조 방법.
2. 제1항에 있어서,
   상기 모양 형성 공정은, 상기 가식용 화장료를 연속적으로 정량 토출하는 것을 특징으로 하는, 화장료의 제조 방법.
3. 제1항 또는 제2항에 있어서,
   상기 가식용 화장료는, 상기 충전 완료된 화장료와는 상이한 조성인 것을 특징으로 하는, 화장료의 제조 방법.
4. 제1항 또는 제2항에 있어서,
   상기 돌조의 폭은, 0.7㎜ 이하인 것을 특징으로 하는, 화장료의 제조 방법.
5. 제3항에 있어서,
   상기 돌조의 폭은, 0.7㎜ 이하인 것을 특징으로 하는, 화장료의 제조 방법.
6. 제1항 또는 제2항에 있어서,
   상기 돌조의 폭은, 0.3㎜ 이하인 것을 특징으로 하는, 화장료의 제조 방법.
7. 제3항에 있어서,
   상기 돌조의 폭은, 0.3㎜ 이하인 것을 특징으로 하는, 화장료의 제조 방법.
8. 제1항 또는 제2항에 있어서,
   상기 모양 형성 공정은, 토출 장치의 1개의 노즐로부터 1초당 10㎎ 내지 20㎎의 토출량으로, 상기 가식용 화장료를 토출하는 것을 특징으로 하는, 화장료의 제조 방법.
9. 제3항에 있어서,
   상기 모양 형성 공정은, 토출 장치의 1개의 노즐로부터 1초당 10㎎ 내지 20㎎의 토출량으로, 상기 가식용 화장료를 토출하는 것을 특징으로 하는, 화장료의 제조 방법.
10. 제4항에 있어서,
    상기 모양 형성 공정은, 토출 장치의 1개의 노즐로부터 1초당 10㎎ 내지 20㎎의 토출량으로, 상기 가식용 화장료를 토출하는 것을 특징으로 하는, 화장료의 제조 방법.
11. 제5항에 있어서,
    상기 모양 형성 공정은, 토출 장치의 1개의 노즐로부터 1초당 10㎎ 내지 20㎎의 토출량으로, 상기 가식용 화장료를 토출하는 것을 특징으로 하는, 화장료의 제조 방법.
12. 제6항에 있어서,
    상기 모양 형성 공정은, 토출 장치의 1개의 노즐로부터 1초당 10㎎ 내지 20㎎의 토출량으로, 상기 가식용 화장료를 토출하는 것을 특징으로 하는, 화장료의 제조 방법.
13. 제7항에 있어서,
    상기 모양 형성 공정은, 토출 장치의 1개의 노즐로부터 1초당 10㎎ 내지 20㎎의 토출량으로, 상기 가식용 화장료를 토출하는 것을 특징으로 하는, 화장료의 제조 방법.