KR102613596B1 - 이산화 티탄 수성 분산체 및 이의 제조 방법 - Google Patents

이산화 티탄 수성 분산체 및 이의 제조 방법 Download PDF

Info

Publication number
KR102613596B1
KR102613596B1 KR1020207022242A KR20207022242A KR102613596B1 KR 102613596 B1 KR102613596 B1 KR 102613596B1 KR 1020207022242 A KR1020207022242 A KR 1020207022242A KR 20207022242 A KR20207022242 A KR 20207022242A KR 102613596 B1 KR102613596 B1 KR 102613596B1
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
titanium dioxide
aqueous
aqueous dispersion
dispersion
particles
Prior art date
Application number
KR1020207022242A
Other languages
English (en)
Other versions
KR20200111711A (ko
Inventor
마사노리 도모나리
사토시 나가모리
유토 가메다
Original Assignee
이시하라 산교 가부시끼가이샤
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 이시하라 산교 가부시끼가이샤 filed Critical 이시하라 산교 가부시끼가이샤
Publication of KR20200111711A publication Critical patent/KR20200111711A/ko
Application granted granted Critical
Publication of KR102613596B1 publication Critical patent/KR102613596B1/ko

Links

Classifications

    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09D—COATING COMPOSITIONS, e.g. PAINTS, VARNISHES OR LACQUERS; FILLING PASTES; CHEMICAL PAINT OR INK REMOVERS; INKS; CORRECTING FLUIDS; WOODSTAINS; PASTES OR SOLIDS FOR COLOURING OR PRINTING; USE OF MATERIALS THEREFOR
    • C09D17/00—Pigment pastes, e.g. for mixing in paints
    • C09D17/004—Pigment pastes, e.g. for mixing in paints containing an inorganic pigment
    • C09D17/007—Metal oxide
    • C09D17/008—Titanium dioxide
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09C—TREATMENT OF INORGANIC MATERIALS, OTHER THAN FIBROUS FILLERS, TO ENHANCE THEIR PIGMENTING OR FILLING PROPERTIES ; PREPARATION OF CARBON BLACK  ; PREPARATION OF INORGANIC MATERIALS WHICH ARE NO SINGLE CHEMICAL COMPOUNDS AND WHICH ARE MAINLY USED AS PIGMENTS OR FILLERS
    • C09C1/00—Treatment of specific inorganic materials other than fibrous fillers; Preparation of carbon black
    • C09C1/36—Compounds of titanium
    • C09C1/3607—Titanium dioxide
    • C09C1/3669—Treatment with low-molecular organic compounds
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09C—TREATMENT OF INORGANIC MATERIALS, OTHER THAN FIBROUS FILLERS, TO ENHANCE THEIR PIGMENTING OR FILLING PROPERTIES ; PREPARATION OF CARBON BLACK  ; PREPARATION OF INORGANIC MATERIALS WHICH ARE NO SINGLE CHEMICAL COMPOUNDS AND WHICH ARE MAINLY USED AS PIGMENTS OR FILLERS
    • C09C1/00—Treatment of specific inorganic materials other than fibrous fillers; Preparation of carbon black
    • C09C1/36—Compounds of titanium
    • C09C1/3607—Titanium dioxide
    • A—HUMAN NECESSITIES
    • A61—MEDICAL OR VETERINARY SCIENCE; HYGIENE
    • A61K—PREPARATIONS FOR MEDICAL, DENTAL OR TOILETRY PURPOSES
    • A61K8/00—Cosmetics or similar toiletry preparations
    • A61K8/18—Cosmetics or similar toiletry preparations characterised by the composition
    • A61K8/19—Cosmetics or similar toiletry preparations characterised by the composition containing inorganic ingredients
    • A61K8/29—Titanium; Compounds thereof
    • A—HUMAN NECESSITIES
    • A61—MEDICAL OR VETERINARY SCIENCE; HYGIENE
    • A61Q—SPECIFIC USE OF COSMETICS OR SIMILAR TOILETRY PREPARATIONS
    • A61Q19/00—Preparations for care of the skin
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09C—TREATMENT OF INORGANIC MATERIALS, OTHER THAN FIBROUS FILLERS, TO ENHANCE THEIR PIGMENTING OR FILLING PROPERTIES ; PREPARATION OF CARBON BLACK  ; PREPARATION OF INORGANIC MATERIALS WHICH ARE NO SINGLE CHEMICAL COMPOUNDS AND WHICH ARE MAINLY USED AS PIGMENTS OR FILLERS
    • C09C1/00—Treatment of specific inorganic materials other than fibrous fillers; Preparation of carbon black
    • C09C1/36—Compounds of titanium
    • C09C1/3607—Titanium dioxide
    • C09C1/3653—Treatment with inorganic compounds
    • C09C1/3661—Coating
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09C—TREATMENT OF INORGANIC MATERIALS, OTHER THAN FIBROUS FILLERS, TO ENHANCE THEIR PIGMENTING OR FILLING PROPERTIES ; PREPARATION OF CARBON BLACK  ; PREPARATION OF INORGANIC MATERIALS WHICH ARE NO SINGLE CHEMICAL COMPOUNDS AND WHICH ARE MAINLY USED AS PIGMENTS OR FILLERS
    • C09C1/00—Treatment of specific inorganic materials other than fibrous fillers; Preparation of carbon black
    • C09C1/36—Compounds of titanium
    • C09C1/3692—Combinations of treatments provided for in groups C09C1/3615 - C09C1/3684
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09D—COATING COMPOSITIONS, e.g. PAINTS, VARNISHES OR LACQUERS; FILLING PASTES; CHEMICAL PAINT OR INK REMOVERS; INKS; CORRECTING FLUIDS; WOODSTAINS; PASTES OR SOLIDS FOR COLOURING OR PRINTING; USE OF MATERIALS THEREFOR
    • C09D17/00—Pigment pastes, e.g. for mixing in paints
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09D—COATING COMPOSITIONS, e.g. PAINTS, VARNISHES OR LACQUERS; FILLING PASTES; CHEMICAL PAINT OR INK REMOVERS; INKS; CORRECTING FLUIDS; WOODSTAINS; PASTES OR SOLIDS FOR COLOURING OR PRINTING; USE OF MATERIALS THEREFOR
    • C09D17/00—Pigment pastes, e.g. for mixing in paints
    • C09D17/001—Pigment pastes, e.g. for mixing in paints in aqueous medium
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09D—COATING COMPOSITIONS, e.g. PAINTS, VARNISHES OR LACQUERS; FILLING PASTES; CHEMICAL PAINT OR INK REMOVERS; INKS; CORRECTING FLUIDS; WOODSTAINS; PASTES OR SOLIDS FOR COLOURING OR PRINTING; USE OF MATERIALS THEREFOR
    • C09D201/00—Coating compositions based on unspecified macromolecular compounds
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09D—COATING COMPOSITIONS, e.g. PAINTS, VARNISHES OR LACQUERS; FILLING PASTES; CHEMICAL PAINT OR INK REMOVERS; INKS; CORRECTING FLUIDS; WOODSTAINS; PASTES OR SOLIDS FOR COLOURING OR PRINTING; USE OF MATERIALS THEREFOR
    • C09D5/00—Coating compositions, e.g. paints, varnishes or lacquers, characterised by their physical nature or the effects produced; Filling pastes
    • C09D5/02—Emulsion paints including aerosols
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09D—COATING COMPOSITIONS, e.g. PAINTS, VARNISHES OR LACQUERS; FILLING PASTES; CHEMICAL PAINT OR INK REMOVERS; INKS; CORRECTING FLUIDS; WOODSTAINS; PASTES OR SOLIDS FOR COLOURING OR PRINTING; USE OF MATERIALS THEREFOR
    • C09D5/00—Coating compositions, e.g. paints, varnishes or lacquers, characterised by their physical nature or the effects produced; Filling pastes
    • C09D5/02—Emulsion paints including aerosols
    • C09D5/024—Emulsion paints including aerosols characterised by the additives
    • C09D5/028—Pigments; Filters
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09D—COATING COMPOSITIONS, e.g. PAINTS, VARNISHES OR LACQUERS; FILLING PASTES; CHEMICAL PAINT OR INK REMOVERS; INKS; CORRECTING FLUIDS; WOODSTAINS; PASTES OR SOLIDS FOR COLOURING OR PRINTING; USE OF MATERIALS THEREFOR
    • C09D7/00—Features of coating compositions, not provided for in group C09D5/00; Processes for incorporating ingredients in coating compositions
    • C09D7/40—Additives
    • C09D7/45—Anti-settling agents
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09D—COATING COMPOSITIONS, e.g. PAINTS, VARNISHES OR LACQUERS; FILLING PASTES; CHEMICAL PAINT OR INK REMOVERS; INKS; CORRECTING FLUIDS; WOODSTAINS; PASTES OR SOLIDS FOR COLOURING OR PRINTING; USE OF MATERIALS THEREFOR
    • C09D7/00—Features of coating compositions, not provided for in group C09D5/00; Processes for incorporating ingredients in coating compositions
    • C09D7/40—Additives
    • C09D7/60—Additives non-macromolecular
    • C09D7/61—Additives non-macromolecular inorganic
    • C09D7/62—Additives non-macromolecular inorganic modified by treatment with other compounds
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09D—COATING COMPOSITIONS, e.g. PAINTS, VARNISHES OR LACQUERS; FILLING PASTES; CHEMICAL PAINT OR INK REMOVERS; INKS; CORRECTING FLUIDS; WOODSTAINS; PASTES OR SOLIDS FOR COLOURING OR PRINTING; USE OF MATERIALS THEREFOR
    • C09D7/00—Features of coating compositions, not provided for in group C09D5/00; Processes for incorporating ingredients in coating compositions
    • C09D7/40—Additives
    • C09D7/60—Additives non-macromolecular
    • C09D7/63—Additives non-macromolecular organic
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09G—POLISHING COMPOSITIONS; SKI WAXES
    • C09G1/00—Polishing compositions
    • C09G1/02—Polishing compositions containing abrasives or grinding agents
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C01—INORGANIC CHEMISTRY
    • C01P—INDEXING SCHEME RELATING TO STRUCTURAL AND PHYSICAL ASPECTS OF SOLID INORGANIC COMPOUNDS
    • C01P2002/00—Crystal-structural characteristics
    • C01P2002/80—Crystal-structural characteristics defined by measured data other than those specified in group C01P2002/70
    • C01P2002/84—Crystal-structural characteristics defined by measured data other than those specified in group C01P2002/70 by UV- or VIS- data
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C01—INORGANIC CHEMISTRY
    • C01P—INDEXING SCHEME RELATING TO STRUCTURAL AND PHYSICAL ASPECTS OF SOLID INORGANIC COMPOUNDS
    • C01P2004/00—Particle morphology
    • C01P2004/30—Particle morphology extending in three dimensions
    • C01P2004/32—Spheres
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C01—INORGANIC CHEMISTRY
    • C01P—INDEXING SCHEME RELATING TO STRUCTURAL AND PHYSICAL ASPECTS OF SOLID INORGANIC COMPOUNDS
    • C01P2004/00—Particle morphology
    • C01P2004/54—Particles characterised by their aspect ratio, i.e. the ratio of sizes in the longest to the shortest dimension
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C01—INORGANIC CHEMISTRY
    • C01P—INDEXING SCHEME RELATING TO STRUCTURAL AND PHYSICAL ASPECTS OF SOLID INORGANIC COMPOUNDS
    • C01P2004/00—Particle morphology
    • C01P2004/60—Particles characterised by their size
    • C01P2004/64—Nanometer sized, i.e. from 1-100 nanometer
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C01—INORGANIC CHEMISTRY
    • C01P—INDEXING SCHEME RELATING TO STRUCTURAL AND PHYSICAL ASPECTS OF SOLID INORGANIC COMPOUNDS
    • C01P2004/00—Particle morphology
    • C01P2004/80—Particles consisting of a mixture of two or more inorganic phases
    • C01P2004/82—Particles consisting of a mixture of two or more inorganic phases two phases having the same anion, e.g. both oxidic phases
    • C01P2004/84—Particles consisting of a mixture of two or more inorganic phases two phases having the same anion, e.g. both oxidic phases one phase coated with the other
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C01—INORGANIC CHEMISTRY
    • C01P—INDEXING SCHEME RELATING TO STRUCTURAL AND PHYSICAL ASPECTS OF SOLID INORGANIC COMPOUNDS
    • C01P2006/00—Physical properties of inorganic compounds
    • C01P2006/80—Compositional purity
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08K—Use of inorganic or non-macromolecular organic substances as compounding ingredients
    • C08K3/00—Use of inorganic substances as compounding ingredients
    • C08K3/18—Oxygen-containing compounds, e.g. metal carbonyls
    • C08K3/20—Oxides; Hydroxides
    • C08K3/22—Oxides; Hydroxides of metals
    • C08K2003/221—Oxides; Hydroxides of metals of rare earth metal
    • C08K2003/2213—Oxides; Hydroxides of metals of rare earth metal of cerium
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08K—Use of inorganic or non-macromolecular organic substances as compounding ingredients
    • C08K3/00—Use of inorganic substances as compounding ingredients
    • C08K3/18—Oxygen-containing compounds, e.g. metal carbonyls
    • C08K3/20—Oxides; Hydroxides
    • C08K3/22—Oxides; Hydroxides of metals
    • C08K2003/2227—Oxides; Hydroxides of metals of aluminium
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08K—Use of inorganic or non-macromolecular organic substances as compounding ingredients
    • C08K3/00—Use of inorganic substances as compounding ingredients
    • C08K3/18—Oxygen-containing compounds, e.g. metal carbonyls
    • C08K3/20—Oxides; Hydroxides
    • C08K3/22—Oxides; Hydroxides of metals
    • C08K2003/2237—Oxides; Hydroxides of metals of titanium
    • C08K2003/2241—Titanium dioxide
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08K—Use of inorganic or non-macromolecular organic substances as compounding ingredients
    • C08K3/00—Use of inorganic substances as compounding ingredients
    • C08K3/18—Oxygen-containing compounds, e.g. metal carbonyls
    • C08K3/20—Oxides; Hydroxides
    • C08K3/22—Oxides; Hydroxides of metals
    • C08K2003/2265—Oxides; Hydroxides of metals of iron
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08K—Use of inorganic or non-macromolecular organic substances as compounding ingredients
    • C08K3/00—Use of inorganic substances as compounding ingredients
    • C08K3/18—Oxygen-containing compounds, e.g. metal carbonyls
    • C08K3/20—Oxides; Hydroxides
    • C08K3/22—Oxides; Hydroxides of metals
    • C08K2003/2296—Oxides; Hydroxides of metals of zinc
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08K—Use of inorganic or non-macromolecular organic substances as compounding ingredients
    • C08K3/00—Use of inorganic substances as compounding ingredients
    • C08K3/34—Silicon-containing compounds
    • C08K3/36—Silica

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Wood Science & Technology (AREA)
  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • Inorganic Chemistry (AREA)
  • Animal Behavior & Ethology (AREA)
  • Dispersion Chemistry (AREA)
  • General Health & Medical Sciences (AREA)
  • Public Health (AREA)
  • Veterinary Medicine (AREA)
  • Dermatology (AREA)
  • Birds (AREA)
  • Epidemiology (AREA)
  • Inorganic Compounds Of Heavy Metals (AREA)
  • Pigments, Carbon Blacks, Or Wood Stains (AREA)
  • Colloid Chemistry (AREA)
  • Paints Or Removers (AREA)

Abstract

분산성이 높고 응집 또는 조립자가 적은 이산화 티탄 수성 분산체, 및 그의 제조 방법이 제공된다. 이산화 티탄 수성 분산체는 고급 지방산 또는 그의 염과 같은 소수성 화합물을 표면에 갖는 이산화 티탄 입자, 수성 분산매, HLB 값이 10 이상인 비이온성 계면활성제, 및 알칸올아민과 같은 염기성 화합물을 함유하고, pH 는 8.5-13 범위에 있다. 이산화 티탄 수성 분산체의 제조 방법은 소수성 화합물을 표면에 갖는 이산화 티탄 입자, 수성 분산매, HLB 값이 10 이상인 비이온성 계면활성제, 및 염기성 화합물을 혼합하여 수성 분산체의 pH 가 8.5-13 범위가 되게 하는 공정을 갖는다.

Description

이산화 티탄 수성 분산체 및 이의 제조 방법
본 발명은 이산화 티탄 입자의 수성 분산체, 및 이의 제조 방법에 관한 것이다.
입자 크기가 대략 3 ㎚ 내지 200 ㎚ 인 이산화 티탄 입자는 우수한 가시광 투과성 및 자외선 차폐성 뿐만 아니라 높은 안전성을 가지므로, 화장료, 도료, 잉크, 화학 섬유, 연마용 조성물 등에 사용된다.
이러한 미세한 이산화 티탄은 일차 입자가 쉽게 응집하는 특성을 갖고, 일차 입자가 응집할 때, 상기 특성 (예를 들어, 가시광 투과성 및 자외선 차폐성) 이 저하된다. 따라서, 이산화 티탄 입자가 분산매에 분산되어 있는 물질 (즉, 분산체) 이 미리 제조되고, 이 분산체가 이산화 티탄 입자를 각종 용도에 적용하기 위해 사용된다.
예를 들어, 특허문헌 1 에는 스테아르산 등으로 소수성 처리된 이산화 티탄 초미립자, 및 비이온성 계면활성제를 함유하는 수성 분산체가 기재되어 있다. 특허문헌 1 에는, 수성 분산체를 전해질 성분을 함유하는 조성물 (예를 들어, 화장료) 에 적용하는 경우에도, 이러한 수성 분산체는 이산화 티탄 초미립자의 응집을 억제하고 충분한 가시광 투과성 및 자외선 차폐성을 실현할 수 있다는 것이 기재되어 있다.
또한, 특허문헌 2 에는 실리콘 등으로 발수 처리한 방추상 이산화 티탄 초미립자, 및 HLB 값이 10 내지 17 인 분산제를 함유하는 수성 분산체로서, 이산화 티탄 초미립자, 분산제, 및 물의 함유량이 분산체 전량에 대해 80 질량% 이상인 수성 분산체가 기재되어 있다. 특허문헌 2 에는 이러한 수성 분산체는 발수 처리한 이산화 티탄 초미립자를 수성 분산매 중에 균일하게 분산시킬 수 있고, 따라서 이러한 수성 분산체를 배합한 O/W 형 유화 화장료에 있어서 보습감 및 양호한 메이크업감을 실현할 수 있다는 것이 기재되어 있다.
JPH 07-247119 A WO 2013/018827 A1
최근에, 화장료의 분야에서는 이산화 티탄 수성 분산체의 가시광 투과성 및 자외선 차폐성의 추가의 향상이 요구되고 있다. 이를 실현하기 위해서, 이산화 티탄 일차 입자의 응집이 추가로 억제되어 있는 고분산의 이산화 티탄 입자의 수성 분산체가 요구되고 있다. 화장료의 분야에서, 뿐만 아니라 이산화 티탄 초미립자의 수성 분산체를 이용하는 각종 분야에서도, 고분산의 수성 분산체에 대한 요구가 존재한다. 이러한 요구를 상기 종래의 이산화 티탄 초미립자의 수성 분산체에 의해 충족시키는 것은 곤란하다.
상기 요건을 충족시키기 위해서 심도 있게 연구한 결과, 본 발명자들은, 소수성 화합물을 그의 표면에 갖는 이산화 티탄 입자 및 소정의 분산제를 함유하는 수성 분산체에서, 수성 분산체의 pH 를 특정 범위로 설정함으로써, 응집 및 조립자가 적은 고분산의 이산화 티탄 수성 분산체가 얻어질 수 있다는 것을 발견하여, 본 발명을 완성했다.
즉, 본 발명은 하기 발명을 망라한다:
(1) 소수성 화합물을 이산화 티탄 입자의 표면에 갖는 이산화 티탄 입자, 수성 분산매, HLB 값이 10 이상인 비이온성 계면활성제, 및 염기성 화합물을 포함하는 이산화 티탄 수성 분산체로서, 이산화 티탄 수성 분산체의 pH 가 8.5 내지 13 의 범위에 있는 이산화 티탄 수성 분산체.
(2) (1) 에 있어서, 염기성 화합물이 알칸올아민인, 이산화 티탄 수성 분산체.
(3) (1) 또는 (2) 에 있어서, 소수성 화합물이 고급 지방산 또는 고급 지방산의 염인, 이산화 티탄 수성 분산체.
(4) (1) 내지 (3) 중 어느 하나에 있어서, 이산화 티탄 입자가 불순물로서 납을 함유하고, 납의 함유량이 3 ppm 이하인, 이산화 티탄 수성 분산체.
(5) (1) 내지 (4) 중 어느 하나에 있어서, 이산화 티탄 입자가, 애스펙트비가 3 이하인 구상 입자인, 이산화 티탄 수성 분산체.
(6) (1) 내지 (5) 중 어느 하나에 있어서, 이산화 티탄 입자가, 아연, 티탄, 세륨, 철, 규소, 및 알루미늄 중 적어도 1 종의 산화물 또는 수산화물로 피복되어 있는 이산화 티탄 입자의 표면에 소수성 화합물을 갖는, 이산화 티탄 수성 분산체.
(7) 소수성 화합물을 표면에 갖는 이산화 티탄 입자, 수성 분산매, HLB 값이 10 이상인 비이온성 계면활성제, 및 염기성 화합물을 혼합하여 수성 분산체의 pH 가 8.5 내지 13 의 범위가 되게 하는 만드는 공정을 포함하는, 이산화 티탄 수성 분산체의 제조 방법.
(8) (7) 에 있어서, 염기성 화합물이 알칸올아민인, 이산화 티탄 수성 분산체의 제조 방법.
본 발명은 높은 분산성을 갖고, 응집 및 조립자가 적은 이산화 티탄 수성 분산체로서, 우수한 가시광 투과성, 및 자외선 차폐성과 같은 성능을 갖는 이산화 티탄 수성 분산체를 제공할 수 있다. 또한, 이러한 본 발명의 수성 분산체는 사용되는 상황에 따라 전해질 성분, 도료 성분, 또는 잉크 성분을 첨가하거나, 수성 분산체의 pH 를 변화시킬 때에도 이산화 티탄 입자의 분산된 상태를 쉽게 유지할 수 있다. 따라서, 본 발명의 수성 분산체는 화장료 등을 위한 각종 조성물의 제조에 사용될 수 있다.
발명을 실시하기 위한 형태
본 발명의 수성 분산체는 이산화 티탄 입자를 함유한다. 이산화 티탄 입자의 평균 일차 입자 크기는 바람직하게는 3 ㎚ 내지 200 ㎚, 더욱 바람직하게는 5 ㎚ 내지 100 ㎚, 더욱더 바람직하게는 10 ㎚ 내지 100 ㎚ 이다. 그러한 입자 크기를 갖는 이산화 티탄 입자는 높은 가시광 투과성 및 유리한 자외선 차폐 범위를 갖는다. 이산화 티탄 입자의 평균 일차 입자 크기는 전자 현미경 하에서 랜덤으로 선택된 200 개의 입자의 입자 크기를 측정하고, 입자 크기의 평균 값을 산출하여 확인된다 (이는 또한 본원에서 "전자 현미경사진법" 으로 언급된다).
이산화 티탄 입자의 형상은 특별히 한정되지 않고, 임의의 형상을 갖는 입자, 예를 들어, 구상 입자, 봉상 입자, 침상 입자, 방추상 입자, 및 판상 입자가 사용될 수 있다. 구상 이외의 형상을 갖는 입자의 평균 일차 입자 크기에 대해서는, 봉상 입자, 침상 입자, 및 방추상 입자의 경우에, 평균 일차 입자 크기는 단축 측의 길이의 평균으로 규정되며, 판상 입자의 경우에, 평균 일차 입자 크기는 표면의 대각선 길이의 평균으로 규정된다. 이산화 티탄 입자의 장축 직경 대 단축 직경의 비는 애스펙트비를 나타낸다. 애스펙트비는 바람직하게는 3 이하, 더욱 바람직하게는 1 내지 2 이다. 이산화 티탄 입자의 애스펙트비는 전자 현미경 하에서 랜덤으로 선택된 200 개의 입자의 장축 직경 대 단축 직경의 평균 값으로서 산출된다.
이산화 티탄 입자의 결정 구조는 특별히 한정되지 않고, 예를 들어, 아나타제형, 루틸형, 또는 브루카이트형이 사용될 수 있다. 광촉매 활성을 억제하는 관점에서, 루틸형이 바람직하게 사용된다. 이산화 티탄 입자는 또한, 이산화 티탄 (TiO2) 에 더하여, 메타티타네이트 (TiO2·nH2O), 및 오르토티타네이트 (Ti(OH)4) 로 표시되는 화합물일 수 있다.
이산화 티탄 입자는 각종 공지의 방법에 의해 제조될 수 있다. 비교적 작은 평균 일차 입자 크기를 갖는 상기 이산화 티탄 입자의 제조 방법으로서, 예를 들어, 하기 방법이 이용될 수 있다: 사염화 티탄 수용액을 알칼리를 사용하여 중화에 의해 가수분해하고, 얻어진 함수 이산화 티탄을 소성하는 방법 (이는 또한 본원에서 "소성 공정" 으로 언급된다), 및 사염화 티탄 수용액을 알칼리를 사용하여 중화에 의해 가수분해하고, 얻어진 함수 이산화 티탄을 수산화 나트륨으로 가열 처리하고, 얻어진 반응 생성물을 가열 및 산으로 숙성시키는 방법 (이는 또한 본원에서 "습식 공정" 으로 언급된다). 일반적으로, 상기 소성 공정으로 구상 이산화 티탄 입자를 얻을 수 있고, 상기 습식 공정으로 방추상 이산화 티탄 입자를 얻을 수 있다. 또한, 소성 공정 및 습식 공정으로 루틸형 이산화 티탄 입자를 얻을 수 있다. 또한, 소성 공정으로 얻은 이산화 티탄 입자는 애스펙트비가 대략 3 이하이다. 바람직하게는, 애스펙트비가 1 내지 2 인 구상 입자를 얻을 수 있다.
소성 공정으로 얻은 구상 이산화 티탄 입자에서, 소성에 의해 결정성이 향상되고, 따라서 광촉매 활성이 고도로 억제된다. 따라서, 광촉매 활성의 억제가 요구되는 용도 (예를 들어, 화장료) 에서, 소성 공정으로 얻은 구상 이산화 티탄 입자를 사용하는 것이 바람직하다.
이산화 티탄 입자는 그의 제조에서 불가피한 각종 불순물을 함유할 수 있다. 불순물 원소의 예는 Al, Ca, Co, Cr, Cu, Fe, K, Mg, Mn, Na, Ni, Zn, Zr, Ag, Pb, Cl, 및 Nb 을 포함한다. 여기에서, 불순물 원소 중에서, 납 (Pb) 함유량은 TiO2 의 질량 기준으로 바람직하게는 3 ppm 이하이다. 납 (Pb) 과 같은 불순물 원소의 함유량의 측정에는 원자 흡광 분광광도계를 사용한다.
본 발명의 이산화 티탄 수성 분산체를 화장료에 사용하는 경우에, 납 함유량을 매우 적은 수준 (구체적으로, 3 ppm 이하) 으로 감소시킴으로써 인체에의 영향을 최소화할 수 있다. 또한, 본 발명의 이산화 티탄 수성 분산체를 화장료 이외의 용도에 사용하고 자연 환경에 방출시키는 경우에 (예를 들어, 이산화 티탄 수성 분산체를 연마용 조성물과 같은 쓰고 버릴 수 있는 물질에 사용하는 경우에), 환경에 대한 부하가 저감될 수 있다.
납 (Pb) 함유량이 상기 범위에 있는 이산화 티탄 입자를 효율적으로 제공할 수 있는 방법으로서, 상기 사염화 티탄을 출발 물질로서 이용하는 소성 공정 또는 습식 공정이 예시된다.
이산화 티탄 입자는 또한, 그의 표면이 이산화 티탄 입자와 상이한 다른 무기 화합물로 피복되어 있는 것일 수 있다. 피복 재료로 공지의 무기 표면 처리 물질이 사용될 수 있다. 예를 들어, 아연, 티탄, 세륨, 철, 규소, 및 알루미늄 중 적어도 1 종의 산화물 또는 수산화물이 사용될 수 있다. 피복량은 TiO2 의 질량 기준으로 바람직하게는 1% 내지 30% 이다. 이산화 티탄 입자는 광촉매 활성을 갖지만, 이산화 티탄 입자가 무기 화합물로 피복되어 있을 때 광촉매 활성이 억제될 수 있다. 이러한 용도 (예를 들어, 화장료) 에서, 무기 화합물로 피복된 이산화 티탄 입자가 바람직하다.
본 발명의 수성 분산체에서 이산화 티탄 입자는 그의 표면에 소수성 화합물을 갖는다. 소수성 화합물은 이산화 티탄 입자의 표면에 존재하고, 이산화 티탄 입자와 물의 친화성을 저하시킨다. 분자 내에 탄화수소 기를 갖는 화합물이 소수성 화합물의 대표예이다. 사용될 수 있는 소수성 화합물의 예는 디메틸폴리실록산, 메틸 수소 폴리실록산, 및 유기 변성 실리콘 오일과 같은 실록산; 실란계 커플링제, 티타네이트계 커플링제, 알루미늄계 커플링제, 및 불소계 커플링제와 같은 커플링제; 고급 지방산 또는 그의 염; 고급 알코올; 및 고급 알킬 기를 갖는 아민을 포함한다.
소수성 화합물로서, 고급 지방산 (구체적으로, 12 개 이상의 탄소 원자를 갖는 일가 카르복시산) 또는 그의 염이 바람직하다. 고급 지방산을 사용함으로써, 수성 분산체 중에서의 이산화 티탄 입자의 분산성이 추가로 향상될 수 있다. 고급 지방산의 예는 포화 지방산 (예를 들어, 라우린산, 미리스트산, 팔미트산, 및 스테아르산), 및 불포화 지방산 (예를 들어, 올레산) 을 포함하고, 그들 중에서, 스테아르산이 바람직하다. 고급 지방산의 염으로서, 나트륨, 칼륨, 암모늄 등의 염이 바람직하다.
소수성 화합물의 피복량은 바람직하게는 이산화 티탄 입자를 균일하게 피복할 수 있는 양이다. 구체적으로, 피복량은 TiO2 의 질량 기준으로 바람직하게는 0.5% 내지 12%, 더욱 바람직하게는 0.5% 내지 8%, 더욱더 바람직하게는 2% 내지 5% 이다. 이러한 범위 내의 피복량은 이산화 티탄 입자가 균일하게 피복되고 수성 분산체에서의 충분한 분산성 및 경시 안정성을 확보하게 해준다. 또한, 피복량이 과다하지 않도록 조절함으로써, 여분의 소수성 화합물의 방출에 의해 야기되는, 수성 분산체에서의 발포의 생성이 방지될 수 있다. 예를 들어, 소수성 화합물과 이산화 티탄 입자를 혼합함으로써, 소수성 화합물이 이산화 티탄 입자의 표면에 피복될 수 있다.
상기 소수성 화합물로 피복된 이산화 티탄 입자는 바람직하게는 수성 분산체 중에 10 질량% 내지 70 질량% 의 비율로 함유될 수 있다. 10 질량% 이상의 비율의 이산화 티탄 입자는 각종 수성 조성물에 배합되는 본 발명의 수성 분산체의 양을 억제할 수 있다. 70 질량% 이하의 비율의 이산화 티탄 입자는 수성 분산체의 유동성을 확보하고, 수성 분산체를 각종 수성 조성물에 배합하는 것을 용이하게 한다. 상한값은 더욱 바람직하게는 60 질량%, 더욱더 바람직하게는 55 질량% 이하이다. 또한, 하한값은 더욱 바람직하게는 15 질량%, 더욱더 바람직하게는 20 질량% 이다. 또한, 수성 분산체의 제조 효율의 관점에서 하한값은 더욱더 바람직하게는 25 질량% 이다.
본 발명의 수성 분산체에서 소수성 화합물로 피복된 이산화 티탄 입자는 수성 분산매에 분산된다. 본 발명에서 수성 분산매는 물을 주성분으로 함유하며, 즉, 물 함유량은 50 질량% 이상, 바람직하게는 80 질량% 이상, 더욱 바람직하게는 90 질량% 이상, 더욱더 바람직하게는 100 질량% 이다. 이산화 티탄 입자의 분산성을 향상시키는 관점에서 물은 바람직하게는 순수한 물이다. 물 이외의 성분의 예는 메탄올, 에탄올, 이소프로판올, 부탄올, 아세톤, 메틸 에틸 케톤, 및 테트라히드로푸란과 같은 물에 용해되는 유기 용매를 포함한다.
본 발명의 이산화 티탄 수성 분산체는 HLB 값이 10 이상인 비이온성 계면활성제를 함유한다. 친수성-친유성 평형 (HLB) 값은 계면활성제와 물 및 오일 (즉, 물에 불용성인 유기 화합물) 과의 친화성의 수준을 나타내는 값을 언급하고, HLB 값 10 이상은 높은 친수성 특성을 나타낸다.
비이온성 계면활성제의 예는 폴리옥시알킬렌 알킬 에테르, 폴리옥시알킬렌 지방산 에스테르, 폴리옥시알킬렌 소르비탄 지방산 에스테르, 폴리옥시알킬렌 피마자유, 폴리옥시알킬렌 경화 피마자유, 폴리옥시알킬렌 소르비톨 테트라 지방산 에스테르, 글리세린 지방산 에스테르, 소르비탄 지방산 에스테르, 폴리글리세린 지방산 에스테르, 폴리옥시알킬렌 유도체, 수크로오스 지방산 에스테르, 폴리옥시알킬렌 기를 갖는 오르가노폴리실록산, 폴리글리세린 기를 갖는 오르가노폴리실록산, 및 당쇄를 갖는 오르가노폴리실록산을 포함한다. 상기 예시된 각종 비이온성 계면활성제 중에서, 본 발명의 비이온성 계면활성제는 HLB 값이 10 이상인 비이온성 계면활성제, 즉, HLB 값이 10 내지 20 범위인 비이온성 계면활성제이다. 그러한 비이온성 계면활성제는 상호작용, 예를 들어, 본 발명의 이산화 티탄 수성 분산체에 함유된 비이온성 계면활성제의 소수성 기를 이산화 티탄 입자의 소수성 화합물과 결합시키고, 비이온성 계면활성제의 친수성 기를 수성 분산매의 물 분자의 OH- 와 결합하시는 상호작용을 야기하여, 이산화 티탄 입자는 수성 분산체 중에 균일하고 양호하게 분산될 수 있다. 비이온성 계면활성제로서, 폴리옥시알킬렌 기를 갖는 오르가노폴리실록산, 폴리옥시알킬렌 유도체, 또는 폴리옥시알킬렌 지방산 에스테르가 바람직하게 사용된다. 폴리옥시알킬렌 기를 갖는 오르가노폴리실록산의 예는 폴리에틸렌글리콜 메틸 에테르 디메티콘, 및 폴리에틸렌글리콜 디메티콘을 포함한다. 폴리옥시알킬렌 유도체의 예는 폴리옥시알킬렌 알킬 에테르, 폴리옥시에틸렌 디스티렌화 페닐 에테르, 폴리옥시에틸렌 스티렌화 페닐 에테르, 폴리옥시에틸렌 트리벤질페닐 에테르, 폴리옥시알킬렌 데실에테르, 및 폴리옥시에틸렌 트리데실에테르를 포함한다. 폴리옥시알킬렌 지방산 에스테르의 예는 폴리에틸렌 글리콜 모노라우레이트, 폴리에틸렌 글리콜 모노스테아레이트, 폴리에틸렌 글리콜 디스테아레이트, 폴리에틸렌 글리콜 모노올레에이트, 및 폴리옥시에틸렌 소르비탄 모노올레에이트를 포함한다.
비이온성 계면활성제의 HLB 값은 바람직하게는 13 내지 19 범위, 더욱 바람직하게는 13 내지 16 범위이다. 이러한 HLB 값을 갖는 비이온성 계면활성제를 사용함으로써, 분산성이 더 높은 수성 분산체가 실현될 수 있다.
본 발명에서 HLB 값은 하기 등식 (1) 에 의해 산출될 수 있다.
HLB 값 = 20 × 친수성 모이어티의 식량의 총합/비이온성 계면활성제의 분자량 … (1)
여기에서, 오직 폴리옥시에틸렌 기를 친수성 모이어티로서 함유하는 비이온성 계면활성제의 경우에, 등식 (1) 은 또한 하기 등식 (2) 로 대체될 수 있다.
HLB 값 = 폴리옥시에틸렌 기의 질량% / 5 … (2)
상기 비이온성 계면활성제는 바람직하게는 수성 분산체 중에 1 내지 10 질량% 의 비율로 함유될 수 있다. 비율을 이러한 범위 내로 조절함으로써, 비용을 억제하면서, 이산화 티탄 입자를 충분히 물 (수성 분산매) 에 분산시킬 수 있다.
본 발명의 수성 분산체는 추가로 염기성 화합물을 함유한다. 본 발명에서 염기성 화합물은 염기성 화합물의 적어도 일부가 수성 분산체 중에서 이온화되어, 수성 분산체의 pH 를 알칼리 쪽으로 시프트시키는 작용을 갖는다. 즉, 본 발명의 염기성 화합물은 염기성 화합물 자체로서 수성 분산체 중에 존재할 뿐만 아니라, 염기성 화합물이 이온화된 이온의 형태로, 또는 반응 생성물의 형태로 존재한다.
이러한 염기성 화합물로서, 염기성 무기 화합물 또는 염기성 유기 화합물이 사용될 수 있다. 염기성 무기 화합물의 예는 알칼리 금속 또는 알칼리 토금속의 수산화물 또는 각종 염 (탄산염, 중탄산염, 황산염, 초산염, 또는 염화물), 암모니아, 및 암모늄 염을 포함한다. 염기성 무기 화합물의 구체적인 예는 수산화 칼슘, 수산화 칼륨, 탄산 칼륨, 중탄산 칼륨, 황산 칼륨, 초산 칼륨, 염화 칼륨, 수산화 나트륨, 탄산 암모늄, 중탄산 나트륨, 탄산 나트륨, 탄산 암모늄, 및 중탄산 암모늄을 포함한다.
염기성 유기 화합물의 예는 알킬아민, 알칸올아민, 및 사차 암모늄 화합물을 포함한다. 알킬아민의 예는 프로필아민을 포함한다. 알칸올아민의 예는 모노에탄올아민, 디에탄올아민, 및 트리에탄올아민을 포함한다. 사차 암모늄 화합물의 예는 테트라메틸암모늄, 테트라에틸암모늄, 테트라부틸암모늄 등의 수산화물, 또는 염화물, 탄산염, 황산염, 및 인산염과 같은 염을 포함한다. 그의 구체적인 예는 수산화 테트라메틸 암모늄, 수산화 테트라에틸 암모늄, 및 수산화 테트라부틸 암모늄과 같은 수산화 테트라알킬 암모늄; 및 탄산 테트라메틸 암모늄, 및 염화 테트라메틸 암모늄과 같은 테트라알킬 암모늄 염을 포함한다.
본 발명의 이산화 티탄 수성 분산체는 pH 가 8.5 내지 13 범위이다. 소수성 화합물로 피복된 이산화 티탄 입자, 수성 분산매, 및 비이온성 계면활성제를 함유하는 수성 분산체는 통상 pH 가 중성 부근이다 (구체적으로, pH 가 대략 6 내지 8 이다). 염기성 화합물을 함유시킴으로써 pH 를 소정의 범위 (즉, 8.5 내지 13) 에 있도록 조정한다. 즉, 수성 분산체에 염기성 화합물을 함유하는 것은 수성 분산체의 pH 가 8.5 내지 13 의 범위 내에 있는 사실에 의해 확인될 수 있다. 수성 분산체의 pH 는 HORIBA, Ltd. 로부터 입수가능한 pH 미터 D-51 을 사용하여, 20℃ 의 온도 조건 하에 측정된다. 염기성 화합물의 농도 및 첨가량은 특별히 한정되지 않고, 수성 분산체의 pH 를 상기 범위로 조정가능한 농도 및 첨가량이기만 하면 된다. 이산화 티탄 수성 분산체의 pH 는 바람직하게는 8.5 내지 11 범위이고, 이러한 범위의 pH 는 이산화 티탄 입자의 높은 분산성을 실현할 수 있다.
pH 가 상기 범위인 본 발명의 이산화 티탄 수성 분산체는 pH 가 중성 부근인 종래의 수성 분산체보다 더 높은 분산성을 실현한다. 본 발명의 수성 분산체의 분산성은 수성 분산체 중에서의 이산화 티탄 입자 (이차 입자) 의 누적 50% 크기 (D50), 또는 입자 크기가 1 ㎛ 이상인 입자의 누적 빈도 (이는 또한 본원에서 "조립자 누적 빈도" 로 언급된다) 를, 지표로서, 사용함으로써 평가된다. D50 및 조립자 누적 빈도는 레이저 산란 입자 크기 분포 분석기 (LA-950A2, HORIBA, Ltd. 로부터 입수가능) 를 사용하여 측정되는, 수성 분산체 중에서의 이산화 티탄 입자의 입자 크기 분포로부터 산출될 수 있다.
본 발명의 이산화 티탄 수성 분산체에서, 이차 입자의 누적 50% 크기 (D50) 는 바람직하게는 75 ㎚ 이하, 더욱 바람직하게는 70 ㎚ 이하이다. 또한, 입자 크기가 1 ㎛ 이상인 이차 입자의 누적 빈도 (조립자 누적 빈도) 는 바람직하게는 10% 이하, 더욱 바람직하게는 7% 이하, 더욱더 바람직하게는 4.5% 이하이다.
특히, 본 발명의 이산화 티탄 수성 분산체에서, 바람직하게는, 이차 입자의 누적 50% 크기 (D50) 는 75 ㎚ 이하이고, 조립자 누적 빈도는 4.5% 이하이고; 더욱 바람직하게는, D50 는 70 ㎚ 이하이고, 조립자 누적 빈도는 3% 이하이다.
또한, 본 발명의 이산화 티탄 수성 분산체에서, 전해질 (구체적으로, 염) 의 첨가시에, 입자 크기가 1 ㎛ 이상인 이차 입자의 누적 빈도 (조립자 누적 빈도) 는 바람직하게는 8% 이하이다.
일반적으로, 수성 분산체에 함유된 이산화 티탄 입자의 농도가 높아짐에 따라, 누적 50% 크기 (D50) 및 조립자 누적 빈도를 감소시키는 것이 어려워진다. 이와 반대로, 본 발명의 이산화 티탄 수성 분산체에서, 하기: 이산화 티탄 입자의 표면을 소수성 화합물로 처리하는 것; HLB 값이 10 이상인 비이온성 계면활성제를 분산제로서 사용하는 것; 및 염기성 화합물을 사용하여 분산체의 pH 를 8.5 내지 13 으로 조정하는 것을 조합하는 효과는 이산화 티탄 입자가 비교적 높은 농도 (구체적으로, 대략 25 질량% 내지 55 질량%) 로 함유되는 경우에도 D50 및 조립자 누적 빈도가 상기 바람직한 수치 범위에서 유지될 수 있게 해준다. 따라서, 고분산의 이산화 티탄 수성 분산체를 높은 효율로 제조할 수 있다.
또한, 본 발명의 이산화 티탄 수성 분산체에서, 전자 현미경사진법에 따라 평균 일차 입자 크기 (Da) 와 이차 입자의 누적 50% 크기와의 비 (D50/Da) 의 값은 바람직하게는 5 이하, 더욱 바람직하게는 3.5 이하, 더욱더 바람직하게는 2 이하이다.
이산화 티탄 수성 분산체의 pH 를 상기 범위로 조정하기 위한 염기성 화합물로서, 알칸올아민이 바람직하게 사용된다. 알칸올아민은 알칸 골격에 히드록실 기 및 아미노 기를 갖는 화합물이다. 알칸올아민이 사용되는 경우에, 소수성 화합물로 피복된 이산화 티탄 입자 및 특정 비이온성 계면활성제를 함유하는 수성 분산체에서 특별히 높은 분산성이 실현될 수 있다. 구체적으로, 상기 조립자 누적 빈도를 1% 이하로 할 수 있다. 수성 분산체 중에 염기성 화합물로서 알칸올아민을 함유하는 것은 가스 크로마토그래피 (GC/MS) 에 의해 확인될 수 있다.
본 발명의 수성 분산체는 소수성 화합물로 피복된 이산화 티탄 입자, 상기 비이온성 계면활성제, 및 염기성 화합물에 더하여 소포제 및 방부제와 같은 각종 첨가제를 함유할 수 있다. 소포제의 예는 소르비탄 지방산 에스테르의 SOLGEN (등록상표) 30 (DKS Co. Ltd. 로부터 입수가능); 에멀전형 소포제의 KM-73, KM-73A, KM-73E, KM-70, KM-72, KM-72F, KM-72S, 및 KM-72FS (모두 Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. 로부터 입수가능); 및 실리콘형 소포제의 BYK-044 (BYK 로부터 입수가능) 를 포함한다. 이들 중에서, SOLGEN (등록상표) 30 이 바람직하다.
본 발명의 이산화 티탄 수성 분산체는 소수성 화합물로 피복된 이산화 티탄 입자, 수성 분산매, HLB 값이 10 이상인 비이온성 계면활성제, 및 염기성 화합물을 혼합하고, 수성 분산체의 pH 를 8.5 내지 13 의 범위로 조절함으로써 제조될 수 있다.
본 제조 방법에 사용되는, 이산화 티탄 입자, 이산화 티탄 입자의 입자 표면에 존재하는 소수성 화합물, 수성 분산매, 및 HLB 값이 10 이상인 비이온성 계면활성제에는 상기 물질이 사용될 수 있다. 또한, 염기성 화합물로서 상기 물질이 사용될 수 있다. 특히, 염기성 화합물로서 알칸올아민이 사용되는 경우에, 소수성 화합물로 피복된 이산화 티탄 입자 및 특정 비이온성 계면활성제를 함유하는 수성 분산체에서 특별히 높은 분산성이 실현될 수 있다. 따라서, 본 제조 방법에서, 염기성 화합물로서 알칸올아민을 사용하는 것이 바람직하다.
염기성 화합물의 농도 및 첨가량은 특별히 한정되지 않고, 상기 pH 범위를 실현할 수 있는 농도 및 첨가량일 수 있다. 수성 분산체의 제조에 있어서, 상기 성분들을 혼합하는 순서는 특별히 한정되지 않고, 혼합 방법에는, 공지의 방법 및 기구가 이용될 수 있다.
본 발명의 수성 분산체에는 이산화 티탄 입자의 분산성을 향상시키는 목적으로 습식 분쇄 처리를 실시할 수 있다. 습식 분쇄는 비드 밀, 및 샌드 밀과 같은 각종 공지의 습식 분쇄기를 사용하여 수행할 수 있다. 분쇄 매체로서, 예를 들어, 글라스 비드 및 지르콘 비드가 사용될 수 있다.
상기와 같이 pH 범위를 조정한 이산화 티탄 수성 분산체에서는, 수성 분산체를 적용하는 조성물의 용도에 따라 적절히 pH 를 재조정할 수 있다. 예를 들어, 본 발명의 수성 분산체를 화장료에 적용하는 경우에, 산성 화합물 (예를 들어, 황산, 염산, 질산, 초산, 탄산, 옥살산, 및 인산) 을 사용함으로써 pH 를 약산 내지 약알칼리 범위 (구체적으로, pH 4.5 내지 8.5 범위) 로 조정할 수 있다. 본 발명의 이산화 티탄 수성 분산체에서, pH 를 재조정하는 경우에 재조정 전의 분산된 상태를 고도로 유지할 수 있다.
본 발명의 이산화 티탄 수성 분산체는 매우 높은 분산성을 갖고, 전해질 (구체적으로, 염) 을 첨가하거나 pH 를 변화시키는 경우에도 그의 고분산 상태를 유지한다. 따라서, 본 발명의 이산화 티탄 수성 분산체는 높은 분산성이 요구되는 각종 조성물 (예를 들어, 화장료, 도료, 잉크, 섬유, 의약품, 및 연마용 조성물) 에 배합하기 위한 수성 분산체로서 바람직하게 사용될 수 있다.
본 발명의 이산화 티탄 수성 분산체를 사용하여 제조되는 화장료는 수성 분산체, 및 임의의 화장료 원료를 혼함함으로써 제조될 수 있다. 임의의 화장료 원료로서, 유제, 계면활성제, 보습제, 고급 알코올, 금속 이온 봉쇄제, 천연 및 합성 고분자, 수용성 및 유용성 고분자, 자외선 차폐제, 각종 추출물, 안료 및 유기 염료를 포함하는 색제, 방부제, 산화방지제, 색소, 증점제, pH 조정제, 향료, 냉감제, 발한억제제, 살진균제, 피부 활성화제, 및 각종 분체와 같은 성분이 사용될 수 있다. 이들 성분의 혼합물은 로션, 크림, 페이스트, 스틱, 에멀전과 같은 각종 형태로서 만들어질 수 있다.
본 발명의 수성 분산체를 사용하여 제조되는 도료는 이산화 티탄 수성 분산체와 각종 수지 (예를 들어, 폴리비닐 알코올 수지, 염화 비닐-초산 비닐 공중합체 수지, 아크릴 수지, 에폭시 수지, 우레탄 수지, 알키드 수지, 폴리에스테르 수지, 에틸렌-초산 비닐 공중합체, 아크릴-스티렌 공중합체, 셀룰로오스 수지, 페놀 수지, 및 아미노 수지), 용매, 물 등을 혼합함으로써 제조될 수 있다.
본 발명의 수성 분산체를 사용하여 제조되는 연마용 조성물은, 예를 들어, 이산화 티탄 수성 분산체, 수성 분산매, 연마용 조성물의 pH 를 조정하기 위한 첨가제 (산 또는 그의 염, 또는 염기 또는 그의 염), 연마 대상물의 표면을 산화시키기 위한 산화제, 연마 대상물의 표면 또는 마모 입자의 표면에 작용하는 수용성 고분자, 연마 대상물의 부식을 억제하는 방식제, 킬레이트제, 다른 기능을 갖는 방부제, 및 항진균제를 혼합함으로써 제조될 수 있다.
실시예
본 발명은 실시예에 기초하여 더욱 상세히 설명될 것이다. 본 발명은 이들 실시예에 한정되지 않는다.
(실시예 1)
소수성 화합물로 피복된 이산화 티탄 입자로서 구상 이산화 티탄 초미립자 (TTO-55(C), Ishihara Sangyo Kaisha, Ltd. 로부터 입수가능) 를 준비했다. 이산화 티탄 입자는 상술된 "소성 공정" 에 의해 제조되었고, 결정형은 루틸형이었고, 전자 현미경사진법에 의해 측정된 평균 일차 입자 크기는 40 ㎚ 였고, 그의 애스펙트비는 1.3 이었다.
이산화 티탄 입자를 하기에 의해 얻었다: 입자의 표면을 수산화 알루미늄 (Al(OH)3) 으로 피복하고; 추가로 스테아르산으로 피복한다. 수산화 알루미늄의 피복량 (피복 처리에 사용되는 양) 은 TiO2 의 질량 기준으로 3% 였고, 스테아르산의 피복량 (피복 처리에 사용되는 양) 은 TiO2 의 질량 기준으로 3% 였다. 이산화 티탄 입자의 제조 방법이 세부사항은 JPH 07-247119 A 의 실시예 1 에 기재되어 있다.
또한, 이산화 티탄 입자의 납 함유량을 하기 측정 방법을 사용하여 측정했고, 그에 따라 3 ppm 미만이었다.
<납 함유량의 측정 방법>
1) 칭량: 0.500 g 의 샘플 (이산화 티탄 입자) 을 칭량하고, 15 g 의 황산 암모늄을 함유하는 500 ㎖ 톨 비커 내에 옮긴다.
2) 용해: 소량의 물을 비커에 첨가하여 슬러리를 형성하고, 그 후 30 ㎖ 의 황산 (98%) 을 슬러리에 첨가한다. 비커를 시계 접시로 덮고, 히터 상에서 가열하여 샘플을 용해시킨다.
3) 희석: 그것을 냉각되게 놔둔 후에, 대략 50 ㎖ 의 물을 거기에 첨가하고, 충분히 혼합하고, 혼합물의 전량을 그 후 250 ㎖ 플라스크 내로 옮긴다.
4) 일정한 부피: 옮긴 혼합물을 실온으로 냉각시키고, 그 후 거기에 표시된 선까지 물을 첨가하고, 이어서 그것을 진탕시킨다.
5) 함유량 확인: 용액을 원자 흡광 분광광도계 (AA-7000, Shimadzu Corporation 로부터 입수가능) 를 사용하여 퍼네이스 방법에 의해 측정한다. 동시에 작성한 검정 곡선에 의해 Pb 함유량을 확인한다.
첫째로, 42.95 질량부의 순수한 물 및 6.75 질량부의 분산제로서의 비이온성 계면활성제로서의 역할을 하는 PEG-11 메틸 에테르 디메티콘 (KF-6011: Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. 로부터 입수가능, HLB 값: 14.5) 을 혼합했다. 그 후, 혼합된 용액을 교반하면서 그안에 45.00 질량부의 상기 소수성 화합물로 피복된 이산화 티탄 입자를 서서히 투입하고, 분산기로 충분히 혼합했다. 이 혼합물에, 0.30 질량부의 염기성 화합물로서의 모노에탄올아민 및 5.00 질량부의 소포제로서의 소르비탄 지방산 에스테르 (SOLGEN (등록상표) 30: DKS Co. Ltd. 로부터 입수가능) 를 첨가하고, 그 후 비드 밀 (DYNO-MILL MULTI LAB 모델, Shinmaru Enterprises Corporation 로부터 입수가능) 을 사용하여 분쇄했다. 분쇄 조건은 이하와 같았다.
분쇄 매체: 지르콘 비드 (ER 120S 0.4/0.6 ㎜, SAINT-GOBAN 로부터 입수가능)
분쇄 강도: 주변 속도: 10 m/s, 유속: 120 ㎖/min
상술된 바와 같이 얻은 이산화 티탄 수성 분산체의 pH 를 pH 미터 (D-51, HORIBA, Ltd. 로부터 입수가능) 를 사용하여 20℃ 의 온도 조건 하에 측정했고, 그에 따라 9.6 이었다.
(실시예 2)
실시예 1 에서 사용된 비이온성 계면활성제를 PEG-9 디메티콘 (KF-6013: Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. 로부터 입수가능, HLB 값: 10.0) 으로 변경한 것을 제외하고는 실시예 1 에서와 동일한 방식으로 실시예 2 의 이산화 티탄 수성 분산체를 얻었다. 수성 분산체의 pH 는 9.6 이었다.
(실시예 3)
실시예 1 에서 사용된 염기성 화합물을 17% 암모니아 수용액 (0.62 질량부) 으로 변경한 것을 제외하고는 실시예 1 에서와 동일한 방식으로 이산화 티탄 수성 분산체를 얻었다. 수성 분산체의 pH 는 9.4 였다.
(실시예 4)
실시예 1 에서 사용된 염기성 화합물을 20% 수산화 나트륨 수용액 (0.35 질량부) 으로 변경한 것을 제외하고는 실시예 1 에서와 동일한 방식으로 이산화 티탄 수성 분산체를 얻었다. 수성 분산체의 pH 는 9.6 이었다.
(실시예 5)
실시예 1 에서 사용된 염기성 화합물을 디에탄올아민 (0.52 질량부) 으로 변경한 것을 제외하고는 실시예 1 에서와 동일한 방식으로 이산화 티탄 수성 분산체를 얻었다. 수성 분산체의 pH 는 9.3 이었다.
(실시예 6)
실시예 1 에서 사용된 염기성 화합물을 트리에탄올아민 (1.1 질량부) 으로 변경한 것을 제외하고는 실시예 1 에서와 동일한 방식으로 이산화 티탄 수성 분산체를 얻었다. 수성 분산체의 pH 는 8.9 였다.
(실시예 7)
실시예 1 에서 사용된 염기성 화합물을 프로필아민 (0.33 질량부) 으로 변경한 것을 제외하고는 실시예 1 에서와 동일한 방식으로 이산화 티탄 수성 분산체를 얻었다. 수성 분산체의 pH 는 9.6 이었다.
(실시예 8)
실시예 1 에서 사용된 이산화 티탄 입자를 방추상 이산화 티탄 초미립자 (TTO-S-4, Ishihara Sangyo Kaisha, Ltd. 로부터 입수가능) 로 변경했다. 이산화 티탄 입자는 상술된 "습식 공정" 에 의해 제조되었고, 결정형은 루틸형이었고, 전자 현미경사진법에 의해 측정된 평균 일차 입자 크기는 15 ㎚ 였고, 그의 애스펙트비는 6.1 이었다. 원자 흡광 분광광도계 (AA-7000, Shimadzu Corporation 로부터 입수가능) 에 의해 측정된 이산화 티탄 입자의 납 함유량은 3 ppm 미만이었다.
이산화 티탄 입자의 표면을 수산화 알루미늄 (Al(OH)3) 으로 피복하고, 추가로 스테아르산으로 피복했다. 수산화 알루미늄의 피복량 (피복 처리에 사용되는 양) 은 TiO2 의 질량 기준으로 13.0% 였고, 스테아르산의 피복량 (피복 처리에 사용되는 양) 은 TiO2 의 질량 기준으로 10.5% 였다.
위에서 언급한 소수성 화합물로 피복된 이산화 티탄 입자를 사용한 것을 제외하고는 실시예 1 에서와 동일한 방식으로 이산화 티탄 수성 분산체를 얻었다. 수성 분산체의 pH 는 9.2 였다.
(실시예 9)
실시예 1 에서 사용된 이산화 티탄 입자를 구상 및 비교적 작은 입자 크기를 갖는 이산화 티탄 초미립자 (TTO-51(C), Ishihara Sangyo Kaisha, Ltd. 로부터 입수가능) 로 변경했다. 이산화 티탄 입자는 상술된 "소성 공정" 에 의해 제조되었고, 결정형은 루틸형이었고, 전자 현미경사진법에 의해 측정된 평균 일차 입자 크기는 20 ㎚ 였고, 그의 애스펙트비는 2.4 이었다. 원자 흡광 분광광도계 (AA-7000, Shimadzu Corporation 로부터 입수가능) 에 의해 측정된 이산화 티탄 입자의 납 함유량은 3 ppm 미만이었다.
이산화 티탄 입자의 표면을 수산화 알루미늄 (Al(OH)3) 으로 피복하고, 추가로 스테아르산으로 피복했다. 수산화 알루미늄의 피복량 (피복 처리에 사용되는 양) 은 TiO2 의 질량 기준으로 13.3% 였고, 스테아르산의 피복량 (피복 처리에 사용되는 양) 은 TiO2 의 질량 기준으로 4.8% 였다.
첫째로, 60.13 질량부의 순수한 물 및 7.34 질량부의 분산제로서의 비이온성 계면활성제의 PEG-11 메틸 에테르 디메티콘 (KF-6011: Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. 로부터 입수가능, HLB 값: 14.5) 을 혼합했다. 그 후, 혼합된 용액을 교반하면서 그안에 24.46 질량부의 상기 소수성 화합물로 피복된 이산화 티탄 입자를 서서히 투입하고, 분산기로 충분히 혼합했다. 이 혼합물에, 0.25 질량부의 염기성 화합물로서의 모노에탄올아민 및 7.83 질량부의 소포제로서의 소르비탄 지방산 에스테르 (SOLGEN (등록상표) 30: DKS Co. Ltd. 로부터 입수가능) 를 첨가하고, 그 후 비드 밀 (DYNO-MILL MULTI LAB 모델, Shinmaru Enterprises Corporation 로부터 입수가능) 을 사용하여 분쇄했다. 분쇄 조건은 실시예 1 의 경우와 동일했다. 그에 따라, 이산화 티탄 수성 분산체가 얻어졌다. 수성 분산체의 pH 는 8.9 였다.
(실시예 10)
실시예 1 에서 사용된 이산화 티탄 입자를 구상 및 비교적 큰 입자 크기를 갖는 이산화 티탄 초미립자 (MPT-142, Ishihara Sangyo Kaisha, Ltd. 로부터 입수가능) 로 변경했다. 이산화 티탄 입자는 상술된 "소성 공정" 에 의해 제조되었고, 결정형은 루틸형이었고, 전자 현미경사진법에 의한 평균 일차 입자 크기는 80 ㎚ 였고, 그의 애스펙트비는 1.2 이었다. 원자 흡광 분광광도계 (AA-7000, Shimadzu Corporation 로부터 입수가능) 에 의해 측정된 이산화 티탄 입자의 납 함유량은 3 ppm 미만이었다.
이산화 티탄 입자의 표면을 수산화 알루미늄 (Al(OH)3) 으로 피복하고, 추가로 스테아르산으로 피복했다. 수산화 알루미늄의 피복량 (피복 처리에 사용되는 양) 은 TiO2 의 질량 기준으로 2.1% 였고, 스테아르산의 피복량 (피복 처리에 사용되는 양) 은 TiO2 의 질량 기준으로 1.2% 였다.
이산화 티탄 입자를 사용한 것을 제외하고는 실시예 1 에서와 동일한 방식으로 이산화 티탄 수성 분산체를 얻었다. 수성 분산체의 pH 는 9.7 이었다.
(실시예 11)
실시예 1 에서 사용된 비이온성 계면활성제를 폴리옥시에틸렌 소르비탄 모노올레에이트 (Tween 60: Tokyo Chemical Industry Co., Ltd. 로부터 입수가능, HLB 값: 15.0) 로 변경했다. 상기 변경을 제외하고는 실시예 1 에서와 동일한 방식으로 실시예 11 의 이산화 티탄 수성 분산체를 얻었다. 수성 분산체의 pH 는 9.2 였다.
(실시예 12)
실시예 1 에서 사용된 비이온성 계면활성제를 폴리옥시알킬렌 데실에테르 (NOYGEN (등록상표) XL-140: DKS Co. Ltd. 로부터 입수가능, HLB 값: 15.9) 로 변경했다. 상기 변경을 제외하고는 실시예 1 에서와 동일한 방식으로 실시예 12 의 이산화 티탄 수성 분산체를 얻었다. 수성 분산체의 pH 는 9.0 이었다.
(실시예 13)
실시예 1 에서 사용된 비이온성 계면활성제를 폴리옥시에틸렌 트리데실에테르 (NOYGEN (등록상표) TDS-120: DKS Co. Ltd. 로부터 입수가능, HLB 값: 14.8) 로 변경했다. 상기 변경을 제외하고는 실시예 1 에서와 동일한 방식으로 실시예 13 의 이산화 티탄 수성 분산체를 얻었다. 수성 분산체의 pH 는 9.0 이었다.
(실시예 14)
실시예 1 에서 사용된 비이온성 계면활성제를 폴리옥시에틸렌 스티렌화 페닐 에테르 (NOYGEN (등록상표) EA-177: DKS Co. Ltd. 로부터 입수가능, HLB 값: 15.6) 로 변경했다. 상기 변경을 제외하고는 실시예 1 에서와 동일한 방식으로 실시예 14 의 이산화 티탄 수성 분산체를 얻었다. 수성 분산체의 pH 는 9.1 이었다.
(실시예 15)
실시예 1 에서 사용된 비이온성 계면활성제를 폴리옥시에틸렌 스티렌화 페닐 에테르 (NOYGEN (등록상표) EA-157: DKS Co. Ltd. 로부터 입수가능, HLB 값: 14.3) 로 변경했다. 상기 변경을 제외하고는 실시예 1 에서와 동일한 방식으로 실시예 15 의 산화티탄 수성 분산체를 얻었다. 수성 분산체의 pH 는 9.1 이었다.
(실시예 16)
실시예 1 의 이산화 티탄 입자를 기본 구성으로 사용하고, 그러나 지방산 피복을 스테아르산에서 라우린산으로 변경하여, 이산화 티탄 입자를 하기 방법으로 준비했다.
사염화 티탄 수용액 (TiO2 환산으로 200g/ℓ) 을 실온에서 유지하면서 수산화 나트륨 수용액으로 중화시켜 콜로이드 비정질 수산화 티탄을 석출하고, 이후에 숙성시켜 루틸형 티타니아 졸을 얻었다. 졸을 여과하고, 세정했다. 얻어진 세정된 케이크를 600℃ 에서 3 시간 동안 소성하고, 그 후 샌드 밀을 사용하여 습식 분쇄를 수행하고, 그에 따라 이산화 티탄 입자의 슬러리를 얻었다.
슬러리를 80℃ 로 가열했다. 그 후, 온도를 유지하고 잘 교반하면서 이산화 티탄에 대해 (Al2O3 환산으로) 4 질량% 의 알루민산 나트륨을 첨가했다. 20 질량% 황산을 사용하여 슬러리의 pH 를 7.5 내지 8.5 로 조정하여, 이산화 티탄 입자를 수산화 알루미늄 (Al(OH)3) 으로 피복했다. 또한, 20 질량% 황산을 사용하여 슬러리의 pH 를 대략 5 로 조정했다. 그 후, 이산화 티탄에 대해 (라우린산 환산으로) 5 질량% 의 라우린산 나트륨을 첨가하고, 그 후 대략 1 시간 동안 교반하고 혼합했다. 그 후, 슬러리의 온도를 50℃ 이하로 냉각시켰다. 이를 여과하고, 세정하고, 건조시키고, 이어서 해머 타입 밀로 분쇄하고, 그에 따라 라우린산으로 피복된 이산화 티탄 입자가 얻어졌다. 이산화 티탄 입자의 납 함유량은 3 ppm 미만이었다.
상기 라우린산으로 피복된 이산화 티탄 입자를 사용하여 실시예 1 에서와 동일한 방식으로 실시예 16 의 이산화 티탄 수성 분산체를 얻었다. 수성 분산체의 pH 는 9.1 이었다. 실시예 16 에서, 하기와 같이 각 성분의 배합량을 약간 변경했다.
순수한 물: 60.0 질량부
PEG-11 메틸 에테르 디메티콘: 4.5 질량부
이산화 티탄 입자: 30.0 질량부
모노에탄올아민: 0.5 질량부
소르비탄 지방산 에스테르: 5.0 질량부
(실시예 17)
실시예 1 의 이산화 티탄 입자를 기본 구성으로 사용하고, 실시예 16 에서 사용된 라우린산 나트륨을 올레산 나트륨으로 변경한 것을 제외하고는 실시예 16 에서와 동일한 방식으로 올레산으로 피복된 이산화 티탄 입자를 얻었다. 올레산으로 피복된 이산화 티탄 입자의 납 함유량은 3 ppm 미만이었다.
올레산으로 피복된 이산화 티탄 입자를 사용하여 실시예 1 에서와 동일한 방식으로 이산화 티탄 수성 분산체를 얻었다. 수성 분산체의 pH 는 9.1 이었다. 실시예 17 의 수성 분산체의 각 성분의 양은 실시예 16 의 경우와 동일했다.
(비교예 1-1)
실시예 1 에서 사용된 염기성 화합물 (모노에탄올아민) 의 첨가를 생략하고 첨가되지 않은 염기성 화합물 (0.3 질량부) 을 순수한 물로 대체한 것을 제외하고는 실시예 1 에서와 동일한 방식으로 이산화 티탄 수성 분산체를 얻었다. 수성 분산체의 pH 는 6.3 이었다.
(비교예 1-2)
실시예 9 에서 사용된 염기성 화합물 (모노에탄올아민) 의 첨가를 생략하고 첨가되지 않은 염기성 화합물 (0.25 질량부) 을 순수한 물로 대체한 것을 제외하고는 실시예 9 에서와 동일한 방식으로 이산화 티탄 수성 분산체를 얻었다. 수성 분산체의 pH 는 5.4 였다.
(비교예 2)
실시예 1 에서 사용된 비이온성 계면활성제를 HLB 값이 낮은 PEG-32 메틸 에테르 디메티콘 (KF-6004: Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. 로부터 입수가능, HLB 값: 9.0) 으로 변경했다. 상기 변경을 제외하고는 실시예 1 에서와 동일한 방식으로 이산화 티탄 수성 분산체의 제조를 시도했으나, 그 결과로 생긴 것은 페이스트였고 분산시킬 수 없었다. 따라서, 이산화 티탄 수성 분산체를 얻을 수 없었다.
(비교예 3)
실시예 16 에서의 라우린산 나트륨을 첨가하지 않은 것을 제외하고는 실시예 16 에서와 동일한 방식으로 이산화 티탄 입자를 얻었다.
이산화 티탄 입자를 사용한 것을 제외하고는 실시예 1 에서와 동일한 방식으로 이산화 티탄 수성 분산체의 제조를 시도했으나, 그 결과로 생긴 것은 페이스트였고 분산시킬 수 없었다. 따라서, 이산화 티탄 수성 분산체를 얻을 수 없었다.
(분산성의 평가)
상기 각종 실시예 및 비교예의 이산화 티탄 수성 분산체의 분산성을 평가하는 목적으로 분산성의 지표로서의 역할을 하는 각종 데이타를 하기 방법에 의해 수집했다.
(이차 입자 크기 (D50))
레이저 산란 입자 크기 분포 분석기 (LA-950A2, HORIBA, Ltd. 로부터 입수가능) 를 사용하여 각종 실시예 및 비교예의 수성 분산체 각각에서 이산화 티탄 입자의 입자 크기 (이차 입자 크기) 의 입자 크기 분포를 측정했다. 측정에서, 분산매 (물) 의 굴절률은 1.33 이었고, 이산화 티탄의 굴절률은 2.75 였다. 용매로서 이온 교환수를 사용하여, 투과율 (R) 이 75 내지 85% 범위가 되도록 실시예 또는 비교예의 수성 분산체 각각을 첨가하여 측정 샘플을 조제했다. 순환 속도 5, 교반 강도 3, 및 초음파 조사 없는 조건 하에 측정을 수행했다.
입자 크기 분포에서 부피 기준으로 누적 50% 크기 (중앙 크기) 를 산출하고, 이를 이산화 티탄 수성 분산체에서의 이차 입자 크기 (D50) 로서 확인했다. 이차 입자 크기 (D50) 의 더 작은 값은 수성 분산체에서의 이산화 티탄 입자의 더 양호한 분산성을 제공하는 것으로 이해된다.
(조립자 누적 빈도)
상기 방법에 의해 측정된 입자 크기 분포에서, 입자 크기 (이차 입자 크기) 가 1 ㎛ 이상인 이산화 티탄 입자의 누적 빈도 (%) 를 산출하고, 이를 이산화 티탄 수성 분산체에서 조립자 누적 빈도로서 확인했다. 조립자 누적 빈도의 더 작은 값은 수성 분산체에서의 이산화 티탄 입자의 더 양호한 분산성을 제공하는 것으로 이해된다.
(전해질의 영향의 평가)
각종 실시예 및 비교예의 수성 분산체에 전해질 (구체적으로, 염) 을 첨가하는 경우의 분산성에 대한 전해질의 영향을 평가했다. 그러나, 실시예 2 및 12 에 관한 평가 결과는 표 1 에 제시되지 않는다.
구체적으로, 각종 실시예 및 비교예의 이산화 티탄 수성 분산체 각각에 수성 분산체의 염 농도가 4 질량% 가 되도록 염화 나트륨을 첨가했다. 염화 나트륨 첨가 후의 수성 분산체에서, 상기 방법과 동일한 방법에 의해 이차 입자 크기 (D50) 및 조립자 누적 빈도의 데이타를 수집했다.
수성 분산체의 분산성 및 전해질의 영향에 관한 평가 결과가 표 1 에 제시된다. 그러나, 실시예 10 및 비교예 2 및 3 의 평가 결과는 표 1 에 제시되지 않는다. 표 1 중의 염기성 화합물의 알파벳 표기에서, MEA 는 모노에탄올아민을 나타내고, DEA 는 디에탄올아민을 나타내고, TEA 는 트리에탄올아민을 나타내고, PA 는 프로필아민을 나타낸다.
[표 1]
표 1 에서, 첫째로, 실시예 1 및 2, 및 비교예 1-1 에 주의를 집중한다. 실시예 1 및 2 의 이산화 티탄 수성 분산체에서, 전해질 (구체적으로, 염) 이 첨가되지 않은 상태 (염 첨가 전) 에서의 이차 입자 크기 (D50) 는 비교예 1-1 의 경우와 동등하거나 또는 그 미만이라는 것이 발견된다. 또한, 조립자 누적 빈도가 비교예 1-1 의 수성 분산체의 경우보다 더 작다는 것이 또한 발견된다. 따라서, 실시예 1 및 2 의 이산화 티탄 수성 분산체에서, 비교예 1-1 의 수성 분산체에 비해 분산성이 향상된다. 이는 수성 분산체 중의 염기성 화합물의 존재 및 염기성 화합물로 인한 수성 분산체의 pH (8.5 내지 13 의 범위) 에 기인하는 것으로 이해될 수 있다.
특히, 실시예 1 의 수성 분산체에서, 전해질 (구체적으로, 염) 이 첨가되지 않은 상태 (염 첨가 전) 에서의 조립자 누적 빈도는 매우 작은 값이다 (구체적으로, 빈도는 0% 이다). 실시예 2 와의 비교로부터, 이는 상기 요인에 더하여 높은 HLB 값 (구체적으로, 13 이상) 을 갖는 비이온성 계면활성제의 사용에 기인하는 것으로 여겨진다.
전해질 (구체적으로, 염) 이 첨가된 상태 (염 첨가시) 에서, 실시예 1 의 수성 분산체는 전해질 (구체적으로, 염) 첨가 전의 분산된 상태를 고도로 유지한다는 것이 발견된다. 이는 높은 HLB 값 (구체적으로, 13 이상) 을 갖는 비이온성 계면활성제의 사용에 기인하는 것으로 이해될 수 있다.
실시예 1 및 2 에서, 비이온성 계면활성제로서 각각 PEG-11 메틸 에테르 디메티콘 및 PEG-9 디메티콘이 사용된다. 그러나, 동일한 수준의 HLB 값을 갖는 또다른 비이온성 계면활성제를 사용하는 경우 (실시예 11 내지 15) 에도 유사하게 고분산 상태가 유지될 수 있다는 것이 발견된다. 또한, 실시예 1 및 2 에서, 소수성 화합물로서 스테아르산이 사용된다. 그러나, 또다른 지방산 (라우린산 또는 올레산) 을 사용하는 경우 (실시예 16 및 17) 에도 유사하게 고분산 상태가 유지될 수 있다는 것이 발견된다. 사실, 실시예 11 내지 17 에서, 전해질 (구체적으로, 염) 이 첨가되지 않은 상태 (염 첨가 전) 에서의 이차 입자 크기 (D50) 및 조립자 누적 빈도는 실시예 1 과 유사하게 비교예 1-1 의 수성 분산체의 경우보다 더 작고 (특히, 조립자 누적 빈도는 실시예 1 과 유사하게 0% 로 매우 작다); 전해질 (구체적으로, 염) 이 첨가된 상태 (염 첨가시) 에서의 이차 입자 크기 (D50) 및 조립자 누적 빈도는 또한 실시예 1 과 유사하게 비교예 1-1 의 전해질 (구체적으로, 염) 이 첨가된 상태 (염 첨가시) 에서의 수성 분산체의 이차 입자 크기 (D50) 및 조립자 누적 빈도보다 더 작다.
다음으로, 실시예 1 및 실시예 3 내지 7 에 주의를 집중한다. 이들 실시예에서, 이산화 티탄 수성 분산체의 pH 를 상기 소정의 범위로 조정하기 위해 염기성 화합물에 각종 화합물을 사용했다. 임의의 이들 실시예에서, 이차 입자 크기 (D50) 및 조립자 누적 빈도의 값은 충분히 작았고, 높은 분산성이 얻어질 수 있다는 것이 발견된다. 이러한 높은 분산성은 전해질 (구체적으로, 염) 이 첨가된 상태 (염 첨가시) 에서도 고도로 유지될 수 있다는 것이 발견된다. 사실, 실시예 1 및 실시예 3 내지 7 에서, 전해질 (구체적으로, 염) 이 첨가되지 않은 상태 (염 첨가 전) 에서의 이차 입자 크기 (D50) 및 조립자 누적 빈도는 비교예 1-1 의 전해질 (구체적으로, 염) 이 첨가되지 않은 상태 (염 첨가 전) 에서의 이차 입자 크기 (D50) 및 조립자 누적 빈도보다 더 작고; 전해질 (구체적으로, 염) 이 첨가된 상태 (염 첨가시) 에서의 이차 입자 크기 (D50) 및 조립자 누적 빈도는 또한 비교예 1-1 의 전해질 (구체적으로, 염) 이 첨가된 상태 (염 첨가시) 에서의 수성 분산체의 이차 입자 크기 (D50) 및 조립자 누적 빈도보다 더 작다.
여기에서, 특히 실시예 1, 5, 및 6 의 이산화 티탄 수성 분산체에서, 전해질 (구체적으로, 염) 이 첨가되는지 여부와 무관하게 조립자 누적 빈도의 값은 매우 작다 (구체적으로, 빈도는 전해질 (구체적으로, 염) 첨가 전에 0% 이고, 전해질 (염) 첨가시에도 2% 이하이다). 이는 염기성 화합물로서 알칸올아민계 화합물의 사용에 기인하는 것으로 이해될 수 있다.
또한, 실시예 8 에 주목하면, 방추 형상과 같은 구상 이외의 형상을 갖는 이산화 티탄 입자를 사용하는 경우에도 상기 각종 실시예와 유사하게 높은 분산성이 발휘될 수 있다는 것이 발견된다.
또한, 실시예 9 에 주목하면, 이산화 티탄 입자로서, 입자 크기 (평균 일차 입자 크기) 가 비교적 작은 것을 사용하는 경우에도 상기 각종 실시예와 유사하게 높은 분산성이 발휘될 수 있다는 것이 발견된다. 사실, 실시예 9 에서, 전해질 (구체적으로, 염) 첨가 전의 이차 입자 크기 (D50) 및 조립자 누적 빈도는 비교예 1-2 (실시예 9 의 입자 크기와 동일한 작은 입자 크기를 갖는 이산화 티탄 입자를 사용) 의 수성 분산체의 이차 입자 크기 (D50) 및 조립자 누적 빈도보다 더 작고, 이러한 경향은 전해질 (구체적으로, 염) 첨가시에 동일하다. 실시예 9 에서, 전해질 (구체적으로, 염) 첨가 전의 조립자 누적 빈도가 비교예 1-1 의 경우보다 더 크다. 이는 실시예 9 에서 사용되는 이산화 티탄 입자가 상술된 "소성 방법" 에 의해 제조된 구상 입자이고, 비교예 1-1 에서 사용되는 입자의 크기보다 그의 입자 크기 (평균 일차 입자 크기) 가 더 작아서, 용액에서 입자가 응집되어, 조립자를 쉽게 야기할 수 있기 때문이다. 또한, 실시예 10 에서, 이산화 티탄 입자로서 입자 크기 (즉, 평균 일차 입자 크기) 가 비교적 큰 이산화 티탄 입자가 사용된 경우에도 유사한 효과가 얻어질 수 있다는 것이 발견되었다 (데이타는 제시되지 않음).
(pH 변화의 영향의 평가)
실시예의 이산화 티탄 수성 분산체의 pH 를 변화시킨 경우에 분산성에 대한 영향을 평가했다. 구체적으로, 대표예로서 실시예 1 에서, 수성 분산체의 pH 가 9, 7, 및 3 이 되도록 수성 분산체에 황산을 첨가했다. pH 를 각각의 값으로 조정한 수성 분산체 각각에 대해, 상기 방법과 동일한 방법에 의해 이차 입자 크기 (D50) 및 조립자 누적 빈도의 데이타를 수집했다. 결과가 표 2 에 제시되어 있다.
[표 2]
표 2 에서 보여지는 바와 같이, 실시예 1 의 수성 분산체는 pH 를 변화시키는 경우에도 초기 pH 에서의 이차 입자 크기 (D50) 및 조립자 누적 빈도를 고도로 유지하고, 높은 분산성을 유지하는 것이 발견된다. 그러한 경향은 실시예 1 에 한정되지 않고, 다른 실시예에 유사하게 적용된다 (데이타는 제시되지 않음).
비교예 1-1 및 1-2 의 수성 분산체는 pH 를 변화시키는 경우에 초기 분산성을 유사하게 유지한다 (데이타는 제시되지 않음). 한편, 상술된 바와 같이, 초기 pH 에서의 분산성은 실시예의 수성 분산체에서 더욱 우수하고, 따라서 pH 변화 후의 수성 분산체의 분산성도 또한 실시예에서 더욱 우수하다.
(투과율 특성의 평가)
각종 실시예 및 비교예의 수성 분산체의 가시광 투과성 및 자외선 차폐성 (여기에서, 이들 두 가지 특성은 포괄적으로 투과율 특성으로 언급된다) 을 하기 방법에 의해 평가했다.
각종 실시예 및 비교예의 수성 분산체 각각의 10,000 배 희석된 용액을 조제했다. 구체적으로, 대략 1 g 의 샘플을 정밀하게 칭량하고, 이온 교환수를 첨가하여 100 배 희석하고, 희석된 용액을 그 후 충분히 교반했다. 또한, 1 g 의 이러한 희석액을 수집하고, 이온 교환수를 첨가하여 100 배 희석하고, 이어서 교반하여 시험 샘플을 준비했다.
이들 샘플 각각을 10 ㎜ 제곱 석영 셀에 넣고, 분광광도계 (V-660, JASCO Corporation 로부터 입수가능) 를 사용하여 파장 300 ㎚ 내지 750 ㎚ (가시광 내지 자외광 영역) 에서의 흡광도를 측정했다. 결과가 표 3 에서 제시된다. 표 3 은 가시광 영역에서의 대표적 흡광도로서 파장 550 ㎚ 에서의 흡광도 (A), 자외광 A 영역에서의 대표적 흡광도로서 파장 350 ㎚ 에서의 흡광도 (B), 및 자외광 B 영역에서의 대표적 흡광도로서 파장 300 ㎚ 에서의 흡광도 (C) 를 보여준다. 또한, 표 3 은 가시광 영역에서의 흡광도와 자외광 영역에서의 흡광도와의 비 ((B)/(A) 및 (C)/(A)) 를 보여준다.
[표 3]
표 3 에서 보여지는 바와 같이, 본 실시예의 이산화 티탄 수성 분산체 (이산화 티탄 입자의 농도가 비교예 1-1 과 동일하게 45 질량% 인 실시예 1 내지 15) 에서, 비교예 1-1 의 수성 분산체보다 가시광 영역에서의 흡광도 (A) 가 더 낮고, 가시광의 투과성이 높다는 것이 발견된다. 한편, 자외광 영역에서의 흡광도 ((B) 또는 (C)) 는 높고, 이는 자외선 차폐 특성이 높다는 것을 보여준다. 그러한 투과율 특성은 실시예에서 가시광 영역에서의 흡광도와 자외광 영역에서의 흡광도와의 비 ((B)/(A) 및 (C)/(A)) 의 값이 비교예 1-1 보다 더 크다는 것으로부터 알 수 있다. 실시예 16 및 17 에서, 다른 실시예 및 비교예보다 원래의 수성 분산체의 이산화 티탄의 농도가 약간 더 낮고, 따라서 흡광도는 참고 값이다. 그러나, 흡광도 비의 값은 비교예 1-1 보다 더 크다는 것이 발견된다.
다시 말하면, 본 발명의 이산화 티탄 수성 분산체는 상술한 높은 분산성을 가지므로, 양호한 가시광 투과성 및 높은 자외선 차폐성이 실현된다는 것이 발견된다.
본 발명의 이산화 티탄 수성 분산체는 높은 분산성을 갖고, 전해질 (구체적으로, 염) 을 첨가하거나 pH 를 변화시키는 경우에도 그것의 고분산 상태를 유지한다. 따라서, 본 발명의 이산화 티탄 수성 분산체는 높은 분산성이 요구되는 각종 조성물을 배합하기 위해 이산화 티탄 수성 분산체로서 유용하다.

Claims (8)

  1. 소수성 화합물을 표면에 갖는 이산화 티탄 입자, 수성 분산매, HLB 값이 10 이상인 비이온성 계면활성제, 및 염기성 화합물을 포함하고, pH 가 8.5 내지 13 의 범위에 있는 이산화 티탄 수성 분산체로서,
    상기 소수성 화합물이 스테아르산 또는 그 염이고,
    상기 염기성 화합물이 알칸올아민인, 이산화 티탄 수성 분산체.
  2. 제 1 항에 있어서, 이산화 티탄 입자가 불순물로서 납을 함유하고, 납의 함유량이 3 ppm 이하인, 이산화 티탄 수성 분산체.
  3. 제 1 항에 있어서, 이산화 티탄 입자가, 애스펙트비가 3 이하인 구상 입자인, 이산화 티탄 수성 분산체.
  4. 제 1 항에 있어서, 이산화 티탄 입자가, 아연, 티탄, 세륨, 철, 규소, 및 알루미늄 중 적어도 1 종의 산화물 또는 수산화물로 피복되어 있는 이산화 티탄 입자의 표면에 소수성 화합물을 갖는, 이산화 티탄 수성 분산체.
  5. 소수성 화합물을 표면에 갖는 이산화 티탄 입자, 수성 분산매, HLB 값이 10 이상인 비이온성 계면활성제, 및 염기성 화합물을 혼합하여 수성 분산체의 pH 가 8.5 내지 13 의 범위가 되게 하는 공정을 포함하고,
    상기 소수성 화합물이 스테아르산 또는 그 염이고,
    상기 염기성 화합물이 알칸올아민인, 이산화 티탄 수성 분산체의 제조 방법.
  6. 삭제
  7. 삭제
  8. 삭제
KR1020207022242A 2018-01-29 2019-01-28 이산화 티탄 수성 분산체 및 이의 제조 방법 KR102613596B1 (ko)

Applications Claiming Priority (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JPJP-P-2018-012385 2018-01-29
JP2018012385 2018-01-29
PCT/JP2019/002744 WO2019146783A1 (ja) 2018-01-29 2019-01-28 二酸化チタン水性分散体及びその製造方法

Publications (2)

Publication Number Publication Date
KR20200111711A KR20200111711A (ko) 2020-09-29
KR102613596B1 true KR102613596B1 (ko) 2023-12-13

Family

ID=67395990

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020207022242A KR102613596B1 (ko) 2018-01-29 2019-01-28 이산화 티탄 수성 분산체 및 이의 제조 방법

Country Status (7)

Country Link
US (1) US11702560B2 (ko)
EP (1) EP3747965B1 (ko)
JP (1) JP7185143B2 (ko)
KR (1) KR102613596B1 (ko)
CN (1) CN111684027B (ko)
TW (1) TWI780297B (ko)
WO (1) WO2019146783A1 (ko)

Families Citing this family (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP7468979B2 (ja) 2019-09-30 2024-04-16 ロンシール工業株式会社 熱可塑性樹脂製防水材
CN114716873A (zh) * 2022-05-10 2022-07-08 烟台金桥优尼科新材料科技有限公司 一种钛白粉的载体溶液及分散性快速评估方法
CN114917169B (zh) * 2022-05-24 2023-09-29 佛山嘿黑科技有限公司 一种含富锌糙米发酵液的牙膏及其制备方法

Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2015087710A1 (ja) * 2013-12-10 2015-06-18 Dic株式会社 水性顔料分散体、顔料分散剤、及びコアシェル型ポリマー粒子

Family Cites Families (19)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4981882A (en) * 1989-03-31 1991-01-01 Union Carbide Chemicals And Plastics Company Inc. Method for enhancing encapsulation efficiency in coating particles in aqueous dispersions
JP2852487B2 (ja) 1994-03-15 1999-02-03 石原産業株式会社 二酸化チタン水性分散体
FR2744914B1 (fr) 1996-02-15 1998-03-20 Rhone Poulenc Chimie Dispersion de dioxyde de titane, poudre a base de dioxyde de titane, leur utilisation dans les formulations cosmetiques
JP2003110012A (ja) 2001-09-28 2003-04-11 Nissin Electric Co Ltd 基板保持方法およびその装置
GB0127325D0 (en) * 2001-11-14 2002-01-02 Acma Metal oxide composition
US20040107871A1 (en) * 2002-08-09 2004-06-10 Defeo Maureen A. Aluminum trihydrate containing slurries
JP4710004B2 (ja) * 2005-03-17 2011-06-29 国立大学法人 千葉大学 酸化チタン分散液及びその製造方法
JP2007262229A (ja) 2006-03-28 2007-10-11 Dai Ichi Kogyo Seiyaku Co Ltd 水系顔料分散物及びそれを含有する皮膚外用剤
JP5143412B2 (ja) 2006-12-15 2013-02-13 株式会社 資生堂 水中油型乳化化粧料の製造方法
DE102007047907A1 (de) * 2007-11-30 2009-06-04 Wacker Chemie Ag Wässrige Dispersionen von Organosiliciumverbindungen
JP5794852B2 (ja) 2011-07-29 2015-10-14 石原産業株式会社 化粧料用二酸化チタン顔料及びその製造方法
KR20140046003A (ko) 2011-08-03 2014-04-17 사까이가가꾸고오교가부시끼가이샤 분산체
JP5881162B2 (ja) 2012-03-30 2016-03-09 株式会社コーセー 水性多層型化粧料
US9315615B2 (en) * 2013-03-15 2016-04-19 Tronox Llc Titanium dioxide pigment and manufacturing method
JP2015203036A (ja) * 2014-04-11 2015-11-16 セイコーエプソン株式会社 ラジカル重合性放射線硬化型インクジェット組成物、組成物収容体、及びインクジェット方法
JP6586554B2 (ja) 2014-04-15 2019-10-09 ジェイオーコスメティックス株式会社 化粧料
JP6682200B2 (ja) 2015-05-29 2020-04-15 テイカ株式会社 表面処理粉体、並びにこの表面処理粉体を用いた水分散性化粧料用組成物及びこの表面処理粉体を用いたｏ／ｗ型化粧料
KR102417771B1 (ko) 2015-10-30 2022-07-06 (주)아모레퍼시픽 수분산성 이산화티탄 복합 분체
FR3046063B1 (fr) 2015-12-23 2019-05-10 L'oreal Composition cosmetique photoprotectrice et son procede de preparation

Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2015087710A1 (ja) * 2013-12-10 2015-06-18 Dic株式会社 水性顔料分散体、顔料分散剤、及びコアシェル型ポリマー粒子

Also Published As

Publication number Publication date
KR20200111711A (ko) 2020-09-29
CN111684027A (zh) 2020-09-18
JP7185143B2 (ja) 2022-12-07
US20200347256A1 (en) 2020-11-05
WO2019146783A1 (ja) 2019-08-01
TWI780297B (zh) 2022-10-11
US11702560B2 (en) 2023-07-18
JPWO2019146783A1 (ja) 2021-01-07
EP3747965A1 (en) 2020-12-09
TW201934492A (zh) 2019-09-01
CN111684027B (zh) 2023-01-06
EP3747965A4 (en) 2021-11-03
EP3747965B1 (en) 2024-02-28

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR102613596B1 (ko) 이산화 티탄 수성 분산체 및 이의 제조 방법
JP3984613B2 (ja) 熱分解法で製造された金属酸化物粒子及び分散剤を含有する水性分散液
EP3319907B1 (de) Sio2 enthaltende dispersion mit hoher salzstabilität
JPH07247119A (ja) 二酸化チタン水性分散体
EP3319906B1 (de) Sio2 enthaltende dispersion mit hoher salzstabilität
JP2010006629A (ja) 二酸化チタン微粒子及びその製造方法
TW200402308A (en) Aqueous dispersion containing pyrogenically produced metal oxide particles and phosphates
JP4060849B2 (ja) 疎水性金属酸化物微細粒子および分散助剤を含む高濃度水性分散液
JP2005529939A (ja) 親水性金属酸化物微細粒子および分散助剤を含む高濃度水性分散液
KR102176830B1 (ko) 산화규소 피복 산화아연과 그 제조 방법 및 산화규소 피복 산화아연 함유 조성물 및 화장료
CN107001063B (zh) 氧化硅包覆氧化锌及其制造方法、含有氧化硅包覆氧化锌的组合物以及化妆材料
CN107922197B (zh) 具有高盐稳定性的含金属氧化物的分散体
DE10297612T5 (de) Anorganisches Oxid
JPH07257923A (ja) 高濃度二酸化チタン水性分散体
CN103842065A (zh) 稳定的奈米粒子悬浮液及其制造方法
JP2010180402A (ja) 二酸化チタン顔料及びその製造方法並びに印刷インキ組成物
JP2008094917A (ja) 表面を被覆した酸化亜鉛及びその製造方法並びにそれを用いた紫外線遮蔽性組成物
JP5693187B2 (ja) 無機酸化物微粒子の水分散液
JPH07165534A (ja) 鉄含有超微粒子二酸化チタン分散体
JP2008273759A (ja) 酸化亜鉛及びその製造方法並びにそれを用いた紫外線遮蔽性組成物
JP5339020B2 (ja) 無機粒子の分散体の製造法
JP4115203B2 (ja) 酸化チタンゾルの製造方法
WO2020175003A1 (ja) 低粘度分散媒用高隠蔽性白色顔料及びその製造方法

Legal Events

Date Code Title Description
E902 Notification of reason for refusal
E701 Decision to grant or registration of patent right
GRNT Written decision to grant