KR102609181B1 - 화성 처리 전의 중합체-함유 예비-헹굼 - Google Patents
화성 처리 전의 중합체-함유 예비-헹굼 Download PDFInfo
- Publication number
- KR102609181B1 KR102609181B1 KR1020177032748A KR20177032748A KR102609181B1 KR 102609181 B1 KR102609181 B1 KR 102609181B1 KR 1020177032748 A KR1020177032748 A KR 1020177032748A KR 20177032748 A KR20177032748 A KR 20177032748A KR 102609181 B1 KR102609181 B1 KR 102609181B1
- Authority
- KR
- South Korea
- Prior art keywords
- polymer
- vinylimidazolium
- composition
- steel
- rinsing
- Prior art date
Links
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 title claims abstract description 43
- 238000011282 treatment Methods 0.000 title abstract description 23
- 239000000126 substance Substances 0.000 title description 25
- 238000000034 method Methods 0.000 claims abstract description 53
- 238000005260 corrosion Methods 0.000 claims abstract description 35
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims abstract description 25
- 239000007769 metal material Substances 0.000 claims abstract description 24
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 claims abstract description 21
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 claims abstract description 16
- 238000000576 coating method Methods 0.000 claims abstract description 15
- 229910052726 zirconium Inorganic materials 0.000 claims abstract description 15
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 claims abstract description 13
- 239000000203 mixture Substances 0.000 claims description 49
- XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N Iron Chemical compound [Fe] XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 38
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 29
- 229910000831 Steel Inorganic materials 0.000 claims description 19
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 claims description 19
- 239000010959 steel Substances 0.000 claims description 19
- 239000011701 zinc Substances 0.000 claims description 18
- 229910052725 zinc Inorganic materials 0.000 claims description 18
- HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N Zinc Chemical compound [Zn] HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 17
- 229910001335 Galvanized steel Inorganic materials 0.000 claims description 15
- 239000008397 galvanized steel Substances 0.000 claims description 15
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 claims description 13
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 13
- -1 fluoride ions Chemical class 0.000 claims description 13
- 238000001035 drying Methods 0.000 claims description 9
- 230000002378 acidificating effect Effects 0.000 claims description 7
- 229920000620 organic polymer Polymers 0.000 claims description 7
- CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N Methacrylic acid Chemical compound CC(=C)C(O)=O CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- 150000002222 fluorine compounds Chemical class 0.000 claims description 5
- VPNMTSAIINVZTK-UHFFFAOYSA-N 1-ethenyl-3-methylimidazol-3-ium Chemical compound C[N+]=1C=CN(C=C)C=1 VPNMTSAIINVZTK-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- JPVYNHNXODAKFH-UHFFFAOYSA-N Cu2+ Chemical compound [Cu+2] JPVYNHNXODAKFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- WHNWPMSKXPGLAX-UHFFFAOYSA-N N-Vinyl-2-pyrrolidone Chemical compound C=CN1CCCC1=O WHNWPMSKXPGLAX-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N Styrene Chemical compound C=CC1=CC=CC=C1 PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 229910001431 copper ion Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 claims description 3
- PQOPTKHODJNNPC-UHFFFAOYSA-N 1-butyl-3-ethenylimidazol-1-ium Chemical compound CCCCN1C=C[N+](C=C)=C1 PQOPTKHODJNNPC-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- HFWUOBFGSPJRKT-UHFFFAOYSA-N 1-ethenyl-3-(2-methylpropyl)imidazol-3-ium Chemical compound C(C(C)C)[N+]1=CN(C=C1)C=C HFWUOBFGSPJRKT-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- MAXSYFSJUKUMRE-UHFFFAOYSA-N 1-ethenyl-3-ethylimidazol-3-ium Chemical compound CCN1C=C[N+](C=C)=C1 MAXSYFSJUKUMRE-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- ULFWPWKWOCJUBD-UHFFFAOYSA-N 1-ethenyl-3-methoxyimidazol-1-ium Chemical compound CO[N+]1=CN(C=C1)C=C ULFWPWKWOCJUBD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- YCGKPCBVAGTTSF-UHFFFAOYSA-N 1-ethenyl-3-propan-2-ylimidazol-3-ium Chemical compound C(C)(C)[N+]1=CN(C=C1)C=C YCGKPCBVAGTTSF-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- RKQSJPBAXUJYJJ-UHFFFAOYSA-N 1-ethenyl-3-propoxyimidazol-1-ium Chemical compound C(CC)O[N+]1=CN(C=C1)C=C RKQSJPBAXUJYJJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- OSSNTDFYBPYIEC-UHFFFAOYSA-N 1-ethenylimidazole Chemical compound C=CN1C=CN=C1 OSSNTDFYBPYIEC-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- MXRGSJAOLKBZLU-UHFFFAOYSA-N 3-ethenylazepan-2-one Chemical compound C=CC1CCCCNC1=O MXRGSJAOLKBZLU-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- XTXRWKRVRITETP-UHFFFAOYSA-N Vinyl acetate Chemical compound CC(=O)OC=C XTXRWKRVRITETP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- OSSNTDFYBPYIEC-UHFFFAOYSA-O 1-ethenylimidazole;hydron Chemical compound C=CN1C=C[NH+]=C1 OSSNTDFYBPYIEC-UHFFFAOYSA-O 0.000 claims 1
- 230000007797 corrosion Effects 0.000 abstract description 24
- 125000000623 heterocyclic group Chemical group 0.000 abstract description 10
- QJGQUHMNIGDVPM-UHFFFAOYSA-N nitrogen group Chemical group [N] QJGQUHMNIGDVPM-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 5
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 abstract description 2
- 230000003750 conditioning effect Effects 0.000 description 26
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 18
- 239000010936 titanium Substances 0.000 description 15
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 description 14
- 125000000524 functional group Chemical group 0.000 description 14
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-M Fluoride anion Chemical compound [F-] KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 12
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 12
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 11
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 9
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- 125000004429 atom Chemical group 0.000 description 7
- 125000004433 nitrogen atom Chemical group N* 0.000 description 7
- 239000011247 coating layer Substances 0.000 description 6
- 239000008367 deionised water Substances 0.000 description 6
- 229910021641 deionized water Inorganic materials 0.000 description 6
- RAXXELZNTBOGNW-UHFFFAOYSA-N imidazole Natural products C1=CNC=N1 RAXXELZNTBOGNW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 6
- 125000001424 substituent group Chemical group 0.000 description 6
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 239000002585 base Substances 0.000 description 5
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 5
- 229920001577 copolymer Polymers 0.000 description 5
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 description 5
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 description 5
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 125000001931 aliphatic group Chemical group 0.000 description 4
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000000956 alloy Substances 0.000 description 4
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 4
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 description 4
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 4
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 4
- 239000012634 fragment Substances 0.000 description 4
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 4
- 150000002894 organic compounds Chemical class 0.000 description 4
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 4
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 4
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 4
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 description 3
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 description 3
- 238000013019 agitation Methods 0.000 description 3
- 150000001412 amines Chemical class 0.000 description 3
- 239000011575 calcium Substances 0.000 description 3
- 229910052791 calcium Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000002131 composite material Substances 0.000 description 3
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 3
- 229920001519 homopolymer Polymers 0.000 description 3
- 150000004679 hydroxides Chemical class 0.000 description 3
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 3
- KDCGOANMDULRCW-UHFFFAOYSA-N 7H-purine Chemical compound N1=CNC2=NC=NC2=C1 KDCGOANMDULRCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- OYPRJOBELJOOCE-UHFFFAOYSA-N Calcium Chemical compound [Ca] OYPRJOBELJOOCE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-N Fluorane Chemical compound F KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910002651 NO3 Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910019142 PO4 Inorganic materials 0.000 description 2
- NINIDFKCEFEMDL-UHFFFAOYSA-N Sulfur Chemical group [S] NINIDFKCEFEMDL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N Titanium Chemical group [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 description 2
- 150000001768 cations Chemical class 0.000 description 2
- 229920002678 cellulose Polymers 0.000 description 2
- 239000001913 cellulose Substances 0.000 description 2
- 239000003638 chemical reducing agent Substances 0.000 description 2
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 2
- 150000003841 chloride salts Chemical class 0.000 description 2
- 239000008139 complexing agent Substances 0.000 description 2
- 230000001186 cumulative effect Effects 0.000 description 2
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 2
- 230000002939 deleterious effect Effects 0.000 description 2
- 230000008021 deposition Effects 0.000 description 2
- 238000009826 distribution Methods 0.000 description 2
- 125000005842 heteroatom Chemical group 0.000 description 2
- 239000004615 ingredient Substances 0.000 description 2
- 230000003993 interaction Effects 0.000 description 2
- 239000004922 lacquer Substances 0.000 description 2
- 150000002823 nitrates Chemical class 0.000 description 2
- 235000021317 phosphate Nutrition 0.000 description 2
- 150000003013 phosphoric acid derivatives Chemical class 0.000 description 2
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 2
- 238000007363 ring formation reaction Methods 0.000 description 2
- 239000011265 semifinished product Substances 0.000 description 2
- VWDWKYIASSYTQR-UHFFFAOYSA-N sodium nitrate Chemical compound [Na+].[O-][N+]([O-])=O VWDWKYIASSYTQR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052717 sulfur Chemical group 0.000 description 2
- 239000011593 sulfur Chemical group 0.000 description 2
- 150000003467 sulfuric acid derivatives Chemical class 0.000 description 2
- CUJPFPXNDSIBPG-UHFFFAOYSA-N 1,3-propanediyl Chemical group [CH2]C[CH2] CUJPFPXNDSIBPG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OMIVCRYZSXDGAB-UHFFFAOYSA-N 1,4-butanediyl Chemical group [CH2]CC[CH2] OMIVCRYZSXDGAB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NXDPRCXAJATIQZ-UHFFFAOYSA-N 1-ethenyl-3-ethoxyimidazol-1-ium Chemical compound C(C)O[N+]1=CN(C=C1)C=C NXDPRCXAJATIQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FKMDLBJPOWSCMR-UHFFFAOYSA-N 1-ethenyl-3-propylimidazol-3-ium Chemical compound CCCN1C=C[N+](C=C)=C1 FKMDLBJPOWSCMR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DDFHBQSCUXNBSA-UHFFFAOYSA-N 5-(5-carboxythiophen-2-yl)thiophene-2-carboxylic acid Chemical compound S1C(C(=O)O)=CC=C1C1=CC=C(C(O)=O)S1 DDFHBQSCUXNBSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MIMUSZHMZBJBPO-UHFFFAOYSA-N 6-methoxy-8-nitroquinoline Chemical compound N1=CC=CC2=CC(OC)=CC([N+]([O-])=O)=C21 MIMUSZHMZBJBPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-M Acetate Chemical compound CC([O-])=O QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N Chromium Chemical group [Cr] VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005749 Copper compound Substances 0.000 description 1
- YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N Fluorine atom Chemical compound [F] YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RAXXELZNTBOGNW-UHFFFAOYSA-O Imidazolium Chemical compound C1=C[NH+]=CN1 RAXXELZNTBOGNW-UHFFFAOYSA-O 0.000 description 1
- FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N Magnesium Chemical compound [Mg] FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NHNBFGGVMKEFGY-UHFFFAOYSA-N Nitrate Chemical compound [O-][N+]([O-])=O NHNBFGGVMKEFGY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N Phosphorus Chemical compound [P] OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004721 Polyphenylene oxide Substances 0.000 description 1
- CZPWVGJYEJSRLH-UHFFFAOYSA-N Pyrimidine Chemical compound C1=CN=CN=C1 CZPWVGJYEJSRLH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910018557 Si O Inorganic materials 0.000 description 1
- FAPWRFPIFSIZLT-UHFFFAOYSA-M Sodium chloride Chemical compound [Na+].[Cl-] FAPWRFPIFSIZLT-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 239000004480 active ingredient Substances 0.000 description 1
- 239000013543 active substance Substances 0.000 description 1
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 1
- 230000001464 adherent effect Effects 0.000 description 1
- 238000004026 adhesive bonding Methods 0.000 description 1
- 230000032683 aging Effects 0.000 description 1
- 239000003513 alkali Substances 0.000 description 1
- 238000005275 alloying Methods 0.000 description 1
- 150000001450 anions Chemical class 0.000 description 1
- 239000008346 aqueous phase Substances 0.000 description 1
- 150000001491 aromatic compounds Chemical class 0.000 description 1
- 239000012482 calibration solution Substances 0.000 description 1
- BVKZGUZCCUSVTD-UHFFFAOYSA-N carbonic acid Chemical class OC(O)=O BVKZGUZCCUSVTD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000004649 carbonic acid derivatives Chemical class 0.000 description 1
- 229910000365 copper sulfate Inorganic materials 0.000 description 1
- XTVVROIMIGLXTD-UHFFFAOYSA-N copper(II) nitrate Chemical compound [Cu+2].[O-][N+]([O-])=O.[O-][N+]([O-])=O XTVVROIMIGLXTD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ARUVKPQLZAKDPS-UHFFFAOYSA-L copper(II) sulfate Chemical compound [Cu+2].[O-][S+2]([O-])([O-])[O-] ARUVKPQLZAKDPS-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 238000005238 degreasing Methods 0.000 description 1
- 230000032798 delamination Effects 0.000 description 1
- 239000003599 detergent Substances 0.000 description 1
- 238000003618 dip coating Methods 0.000 description 1
- JBKVHLHDHHXQEQ-UHFFFAOYSA-N epsilon-caprolactam Chemical group O=C1CCCCCN1 JBKVHLHDHHXQEQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000834 fixative Substances 0.000 description 1
- 239000011737 fluorine Substances 0.000 description 1
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000001153 fluoro group Chemical group F* 0.000 description 1
- 238000007429 general method Methods 0.000 description 1
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 1
- 239000004519 grease Substances 0.000 description 1
- MTNDZQHUAFNZQY-UHFFFAOYSA-N imidazoline Chemical compound C1CN=CN1 MTNDZQHUAFNZQY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000010348 incorporation Methods 0.000 description 1
- 230000001939 inductive effect Effects 0.000 description 1
- 230000005764 inhibitory process Effects 0.000 description 1
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 description 1
- 239000003446 ligand Substances 0.000 description 1
- 239000011777 magnesium Substances 0.000 description 1
- 229910052749 magnesium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052748 manganese Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011572 manganese Substances 0.000 description 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 1
- 229910052752 metalloid Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000005272 metallurgy Methods 0.000 description 1
- 238000010327 methods by industry Methods 0.000 description 1
- 239000003921 oil Substances 0.000 description 1
- 230000035515 penetration Effects 0.000 description 1
- ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N phenol group Chemical group C1(=CC=CC=C1)O ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-K phosphate Chemical compound [O-]P([O-])([O-])=O NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 1
- 229910052698 phosphorus Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011574 phosphorus Substances 0.000 description 1
- 230000000704 physical effect Effects 0.000 description 1
- 238000005554 pickling Methods 0.000 description 1
- 238000007747 plating Methods 0.000 description 1
- 229920000570 polyether Polymers 0.000 description 1
- 239000000047 product Substances 0.000 description 1
- 230000001681 protective effect Effects 0.000 description 1
- JWVCLYRUEFBMGU-UHFFFAOYSA-N quinazoline Chemical compound N1=CN=CC2=CC=CC=C21 JWVCLYRUEFBMGU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 1
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 1
- 238000004826 seaming Methods 0.000 description 1
- 150000004756 silanes Chemical class 0.000 description 1
- 150000003377 silicon compounds Chemical class 0.000 description 1
- LIVNPJMFVYWSIS-UHFFFAOYSA-N silicon monoxide Inorganic materials [Si-]#[O+] LIVNPJMFVYWSIS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002210 silicon-based material Substances 0.000 description 1
- 239000011734 sodium Substances 0.000 description 1
- 235000010344 sodium nitrate Nutrition 0.000 description 1
- 239000004317 sodium nitrate Substances 0.000 description 1
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 1
- 239000004575 stone Substances 0.000 description 1
- 238000004381 surface treatment Methods 0.000 description 1
- 125000005207 tetraalkylammonium group Chemical group 0.000 description 1
- LEONUFNNVUYDNQ-UHFFFAOYSA-N vanadium atom Chemical group [V] LEONUFNNVUYDNQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000003466 welding Methods 0.000 description 1
- 238000007704 wet chemistry method Methods 0.000 description 1
- 238000009736 wetting Methods 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C22/00—Chemical surface treatment of metallic material by reaction of the surface with a reactive liquid, leaving reaction products of surface material in the coating, e.g. conversion coatings, passivation of metals
- C23C22/78—Pretreatment of the material to be coated
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08L—COMPOSITIONS OF MACROMOLECULAR COMPOUNDS
- C08L39/00—Compositions of homopolymers or copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and at least one being terminated by a single or double bond to nitrogen or by a heterocyclic ring containing nitrogen; Compositions of derivatives of such polymers
- C08L39/04—Homopolymers or copolymers of monomers containing heterocyclic rings having nitrogen as ring member
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- C09D—COATING COMPOSITIONS, e.g. PAINTS, VARNISHES OR LACQUERS; FILLING PASTES; CHEMICAL PAINT OR INK REMOVERS; INKS; CORRECTING FLUIDS; WOODSTAINS; PASTES OR SOLIDS FOR COLOURING OR PRINTING; USE OF MATERIALS THEREFOR
- C09D133/00—Coating compositions based on homopolymers or copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and at least one being terminated by only one carboxyl radical, or of salts, anhydrides, esters, amides, imides, or nitriles thereof; Coating compositions based on derivatives of such polymers
- C09D133/04—Homopolymers or copolymers of esters
- C09D133/06—Homopolymers or copolymers of esters of esters containing only carbon, hydrogen and oxygen, the oxygen atom being present only as part of the carboxyl radical
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- C09D—COATING COMPOSITIONS, e.g. PAINTS, VARNISHES OR LACQUERS; FILLING PASTES; CHEMICAL PAINT OR INK REMOVERS; INKS; CORRECTING FLUIDS; WOODSTAINS; PASTES OR SOLIDS FOR COLOURING OR PRINTING; USE OF MATERIALS THEREFOR
- C09D139/00—Coating compositions based on homopolymers or copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and at least one being terminated by a single or double bond to nitrogen or by a heterocyclic ring containing nitrogen; Coating compositions based on derivatives of such polymers
- C09D139/04—Homopolymers or copolymers of monomers containing heterocyclic rings having nitrogen as ring member
- C09D139/06—Homopolymers or copolymers of N-vinyl-pyrrolidones
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- C09D—COATING COMPOSITIONS, e.g. PAINTS, VARNISHES OR LACQUERS; FILLING PASTES; CHEMICAL PAINT OR INK REMOVERS; INKS; CORRECTING FLUIDS; WOODSTAINS; PASTES OR SOLIDS FOR COLOURING OR PRINTING; USE OF MATERIALS THEREFOR
- C09D5/00—Coating compositions, e.g. paints, varnishes or lacquers, characterised by their physical nature or the effects produced; Filling pastes
- C09D5/008—Temporary coatings
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- C09D—COATING COMPOSITIONS, e.g. PAINTS, VARNISHES OR LACQUERS; FILLING PASTES; CHEMICAL PAINT OR INK REMOVERS; INKS; CORRECTING FLUIDS; WOODSTAINS; PASTES OR SOLIDS FOR COLOURING OR PRINTING; USE OF MATERIALS THEREFOR
- C09D5/00—Coating compositions, e.g. paints, varnishes or lacquers, characterised by their physical nature or the effects produced; Filling pastes
- C09D5/08—Anti-corrosive paints
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- C09D—COATING COMPOSITIONS, e.g. PAINTS, VARNISHES OR LACQUERS; FILLING PASTES; CHEMICAL PAINT OR INK REMOVERS; INKS; CORRECTING FLUIDS; WOODSTAINS; PASTES OR SOLIDS FOR COLOURING OR PRINTING; USE OF MATERIALS THEREFOR
- C09D5/00—Coating compositions, e.g. paints, varnishes or lacquers, characterised by their physical nature or the effects produced; Filling pastes
- C09D5/08—Anti-corrosive paints
- C09D5/12—Wash primers
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C11—ANIMAL OR VEGETABLE OILS, FATS, FATTY SUBSTANCES OR WAXES; FATTY ACIDS THEREFROM; DETERGENTS; CANDLES
- C11D—DETERGENT COMPOSITIONS; USE OF SINGLE SUBSTANCES AS DETERGENTS; SOAP OR SOAP-MAKING; RESIN SOAPS; RECOVERY OF GLYCEROL
- C11D11/00—Special methods for preparing compositions containing mixtures of detergents ; Methods for using cleaning compositions
- C11D11/0005—Special cleaning or washing methods
- C11D11/0011—Special cleaning or washing methods characterised by the objects to be cleaned
- C11D11/0023—"Hard" surfaces
- C11D11/0029—Metals
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C22/00—Chemical surface treatment of metallic material by reaction of the surface with a reactive liquid, leaving reaction products of surface material in the coating, e.g. conversion coatings, passivation of metals
- C23C22/05—Chemical surface treatment of metallic material by reaction of the surface with a reactive liquid, leaving reaction products of surface material in the coating, e.g. conversion coatings, passivation of metals using aqueous solutions
- C23C22/06—Chemical surface treatment of metallic material by reaction of the surface with a reactive liquid, leaving reaction products of surface material in the coating, e.g. conversion coatings, passivation of metals using aqueous solutions using aqueous acidic solutions with pH less than 6
- C23C22/24—Chemical surface treatment of metallic material by reaction of the surface with a reactive liquid, leaving reaction products of surface material in the coating, e.g. conversion coatings, passivation of metals using aqueous solutions using aqueous acidic solutions with pH less than 6 containing hexavalent chromium compounds
- C23C22/26—Chemical surface treatment of metallic material by reaction of the surface with a reactive liquid, leaving reaction products of surface material in the coating, e.g. conversion coatings, passivation of metals using aqueous solutions using aqueous acidic solutions with pH less than 6 containing hexavalent chromium compounds containing also organic compounds
- C23C22/28—Macromolecular compounds
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C22/00—Chemical surface treatment of metallic material by reaction of the surface with a reactive liquid, leaving reaction products of surface material in the coating, e.g. conversion coatings, passivation of metals
- C23C22/05—Chemical surface treatment of metallic material by reaction of the surface with a reactive liquid, leaving reaction products of surface material in the coating, e.g. conversion coatings, passivation of metals using aqueous solutions
- C23C22/06—Chemical surface treatment of metallic material by reaction of the surface with a reactive liquid, leaving reaction products of surface material in the coating, e.g. conversion coatings, passivation of metals using aqueous solutions using aqueous acidic solutions with pH less than 6
- C23C22/34—Chemical surface treatment of metallic material by reaction of the surface with a reactive liquid, leaving reaction products of surface material in the coating, e.g. conversion coatings, passivation of metals using aqueous solutions using aqueous acidic solutions with pH less than 6 containing fluorides or complex fluorides
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23F—NON-MECHANICAL REMOVAL OF METALLIC MATERIAL FROM SURFACE; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL; MULTI-STEP PROCESSES FOR SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL INVOLVING AT LEAST ONE PROCESS PROVIDED FOR IN CLASS C23 AND AT LEAST ONE PROCESS COVERED BY SUBCLASS C21D OR C22F OR CLASS C25
- C23F11/00—Inhibiting corrosion of metallic material by applying inhibitors to the surface in danger of corrosion or adding them to the corrosive agent
- C23F11/08—Inhibiting corrosion of metallic material by applying inhibitors to the surface in danger of corrosion or adding them to the corrosive agent in other liquids
- C23F11/10—Inhibiting corrosion of metallic material by applying inhibitors to the surface in danger of corrosion or adding them to the corrosive agent in other liquids using organic inhibitors
- C23F11/173—Macromolecular compounds
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08L—COMPOSITIONS OF MACROMOLECULAR COMPOUNDS
- C08L33/00—Compositions of homopolymers or copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and only one being terminated by only one carboxyl radical, or of salts, anhydrides, esters, amides, imides or nitriles thereof; Compositions of derivatives of such polymers
- C08L33/04—Homopolymers or copolymers of esters
- C08L33/06—Homopolymers or copolymers of esters of esters containing only carbon, hydrogen and oxygen, which oxygen atoms are present only as part of the carboxyl radical
- C08L33/10—Homopolymers or copolymers of methacrylic acid esters
-
- C11D2111/16—
Abstract
본 발명은 금속성 물질로 제조된 부품의 부식방지 전처리를 위한 다단계 방법으로서, 여기서 적어도 1개의 4급 질소 헤테로원자를 함유하는 헤테로사이클로 치환된, 용해 및/또는 분산된 중합체 P를 함유하는 수용액 (A)를 포함하는 습식 화학적 처리 후에, 임의로 부식에 대한 추가의 코팅 보호를 적용하기 전에, 원소 Zr, Ti 및/또는 Si의 수성 화합물에 기반한 화성 처리를 수행하는 방법에 관한 것이다.
Description
본 발명은 금속성 물질로 제조된 부품의 부식방지 전처리를 위한 다단계 방법으로서, 여기서 적어도 1개의 4급 질소 헤테로원자를 함유하는 헤테로사이클로 치환된, 용해 및/또는 분산된 중합체 P를 함유하는 수성 조성물 (A)로의 습식 화학적 처리에 이어서, 추가의 부식방지 코팅이 임의로 적용되기 전에, 원소 Zr, Ti 및/또는 Si의 수용성 화합물에 기반한 화성 처리가 후속되는 방법에 관한 것이다.
원소 Zr, Ti 및/또는 Si의 수용성 화합물을 함유하는 수성 조성물에 기반한, 부식방지 코팅을 제공하기 위한 금속성 표면의 화성 처리는 특허 문헌에서 광범위하게 기재된 바 있는 기술 분야이다. 부식 보호와 관련하여 이러한 화성 처리의 특성 프로파일을 개선시키고 충분한 코팅 접착을 부여하기 위해, 화성을 유발하는 작용제의 조성에 초점을 맞추거나 또는 화성 처리와 직접적으로 관련하여 추가의 습식 화학적 처리 단계를 사용하는, 이러한 금속 전처리의 수많은 변형법이 공지되어 있다.
EP 1 455 002 A1에는, 예를 들어, 착물화제 및 금속 표면을 위한 산세척제로서의 플루오라이드 이온을 추가적으로 함유하는 이미 기재된 조성물에 의한 화성 처리의 경우에, 화성 층에서의 플루오라이드 함량을 감소시키기 위해, 실제 습식 화학적 처리에 이어서, 염기성 반응 화합물을 함유하는 수성 헹굼, 또는 건조 단계가 후속될 때 유리한 것으로 기재되어 있다. 대안적으로, 화성 층에서의 플루오라이드 함량을 감소시키기 위해, 칼슘, 마그네슘, 아연 또는 구리로부터 선택된 특정한 양이온, 또는 규소-함유 화합물이 표면의 화성을 유발하는 조성물에 첨가된다.
화성 처리를 위해 플루오라이드 이온을 함유하는 작용제 및 원소 Zr 및/또는 Ti의 수용성 화합물을 사용할 때 공정 순서의 추가의 개량과 관련하여, WO 2011/012443 A1에는 적어도 1개의 질소 헤테로원자를 함유하는 방향족 헤테로사이클을 갖는 유기 화합물을 함유하는 후속 수성 헹굼이 교시되어 있다.
마찬가지로, DE 100 05 113 A1에는 금속 표면의 화성 처리에 이어서, 비닐피롤리돈의 단독중합체 및/또는 공중합체를 함유하는 수성 조성물로의, 바람직하게는 추가의 카프로락탐 기를 갖는 비닐피롤리돈의 공중합체를 사용하는 습식 화학적 처리가 후속되는 방법이 개시되어 있다. 인용된 미심사 특허 출원의 또 다른 측면에서, 후속 래커링을 위해 브라이트 금속 표면에 이러한 단독중합체 또는 공중합체를 적용하는 것이 기재되어 있다.
관련된 교시가 또한 DE 103 58 309 A1에 개시되어 있으며, 이는 페놀계 성분에 추가로, 브라이트 금속 표면 또는 화성 층이 제공된 금속 표면의 부식방지 처리를 위해 상기 언급된 단독중합체 및 공중합체 대신에 방향족 히드록시카르복실산 및 이미다졸을 함유하는 페놀-알데히드 수지의 사용을 제안한다.
상기 선행 기술과 달리, 원소 Zr, Ti 및/또는 Si의 수용성 화합물의 조성물로의 전처리에 의해 수득가능한 다양한 금속 기재 상의 화성 층의 부식방지 특성을 추가로 조화시키고, 특히 강철 표면 상에서 이를 개선시키는 것을 목적으로 한다. 특히 목적은 코팅 층 구축 후의 부식성 층간박리에서의 평균 침윤 값이 그의 편차와 관련하여 개선되거나 또는 적어도 안정화되는 것, 즉 공정 공학의 관점에서 신뢰할 수 있게 달성가능한 것이다. 다양한 금속 기재에서의 사용과 관련하여, 적절한 습식 화학적 전처리에 의한, 물질 아연, 철, 강철 및/또는 아연도금된 강철의 표면에 추가로, 또한 물질 알루미늄의 표면을 갖는 이러한 복합 구조의 최적의 부식 보호 효과가 특히 바람직하다.
상기 목적은 적어도 부분적으로 금속성 물질로 제조된 부품의 부식방지 전처리를 위한 다단계 방법으로서, 여기서 초기에
i) 금속성 물질에 의해 형성된 부품의 표면의 적어도 일부를, 적어도 1개의 4급 질소 헤테로원자를 함유하는 헤테로사이클을 치환기로서 갖는 반복 단위 RN으로 적어도 부분적으로 구성된, 용해 및/또는 분산된 유기 중합체 P를 함유하는 수성 조성물 (A)와 접촉시키고,
후속적으로
ii) 금속성 물질에 의해 형성된 부품의 표면의 적어도 동일한 일부를, 그 사이에 헹굼 및/또는 건조 단계를 포함시키거나 또는 이러한 단계 없이, 원소 Zr, Ti 및/또는 Si의 1종 이상의 수용성 화합물을 함유하는 산성 수성 조성물 (B)와 접촉시키는 방법에 의해 달성된다.
본 발명에 따라 처리되는 부품은 제조 공정으로부터 유래하는, 임의의 목적하는 형상 및 구성을 갖는 3차원 구조, 특히 또한 반완성 제품 예컨대 스트립, 시트, 로드, 튜브 등, 뿐만 아니라 상기 언급된 반완성 제품으로부터 조립된 복합 구조일 수 있다.
본 발명에 따르면, 본 발명에 따른 방법의 제1 단계 i)에서 중합체 P를 함유하는 수성 조성물 (A)로의 처리가 수행된다. 이 처리는 후속 단계 ii)에서의 화성 처리 동안에 탁월한 코팅 접착 베이스가 제공되도록 하는 방식으로, 금속성 물질로 형성된 부품의 표면의 컨디셔닝을 유발한다. 래커 코팅 결함에서의 부식성 침윤의 개선된 억제가 특히 강철 표면 상에서 달성된다. 또한, 강철 표면 상에서, 별개로 동일한 처리 조건에 대해 부식 보호 값에 있어서의 매우 낮은 편차가 실험적으로 확립될 수 있다. 따라서 종합하면, 처리될 매우 다수의 부품에 대한 부식 보호 결과의 조화 및 보다 높은 신뢰성이 본 발명에 따른 방법으로 달성된다.
본 발명에 따른 성공은 놀랍게도 단계 i)에서의 컨디셔닝 직후에 헹굼 및/또는 건조 단계의 수행 여부에 거의 상관없이 실현된다. 그 사이의 헹굼 단계로부터 야기되는, 방법을 수행하는데 있어서의 차이는 일반적으로 수성 조성물 (A)에 용해 및/또는 분산된 중합체 P의 농도의 적정한 증가에 의해 보상될 수 있다. 어느 경우이든, 본 발명의 기본 목적을 달성하기 위한 방법의 일반적 적합성은 방법 단계 i)과 ii) 사이에 헹굼 및/또는 건조 단계를 수행하는 것의 영향을 받지 않는다.
본 발명에 따르면, 헹굼 단계는 항상 부품에 부착되는 습윤 필름과 함께 선행 습식 화학적 처리 단계의 드래그-아웃된 수용성 잔류물, 비부착성 화학적 화합물, 및 구속되어 있지 않은 고체 입자를 처리될 부품으로부터 수계 액체 매체로 제거하기 위해 사용된다. 수계 액체 매체는 아족 원소, 준금속 원소 또는 중합체 유기 화합물과 함께, 금속성 물질로 제조된 부품의 상당한 표면 피복을 유발하는 화학적 성분을 함유하지 않는다. 어느 경우이든, 이러한 상당한 표면 피복은 캐리-오버로 인한 획득 및 부품에 부착되는 습윤 필름으로부터의 드래그-아웃으로 인한 손실을 고려하지 않으면서, 헹굼 액체 매체가 특정한 원소 또는 특정한 중합체 유기 화합물을 기준으로 하여 이들 성분을 헹궈진 표면의 제곱 미터당 적어도 10 밀리그램, 바람직하게는 헹궈진 표면의 제곱 미터당 적어도 1 밀리그램 고갈시킬 때 존재한다.
본 발명에 따르면, 건조 단계는, 기술적 수단을 제공하고 사용함으로써, 특히 열 에너지를 공급하거나 또는 공기 스트림을 적용함으로써, 부품의 표면에 부착되는 수성 액체 필름을 건조시키도록 의도된 임의의 방법 단계이다.
단계 i)에서의 수성 조성물 (A)에 함유된 중합체 P는 물에 용해 및/또는 분산되어 존재한다. 본원에서 중합체의 존재를 일반적으로 또는 구체적으로 언급하는 모든 경우에, 이는 본질적으로 항상 복수의 이러한 중합체 개별 화합물을 포괄한다. 또한, 본 발명의 경우에, 중요한 특정한 물리적 특성 및/또는 화학적 구성을 갖는 본 발명에 따른 유기 중합체는 적어도 5000 g/mol, 바람직하게는 적어도 10,000 g/mol, 특히 바람직하게는 적어도 20,000 g/mol이며, 또한 바람직하게는 500,000 g/mol 이하, 특히 바람직하게는 200,000 g/mol 이하, 매우 특히 바람직하게는 100,000 g/mol 이하의 중량 평균 몰 질량 Mw를 갖는다. 본 발명의 의미 내에서, 수성 상에 용해 또는 분산된 유기 중합체는 1 μm 미만의 평균 입자 직경을 갖는다. 평균 입자 직경은 소위 D50 값으로서, 누적 입자 크기 분포에 기반하여, 레이저 광 회절을 통해 ISO 13320:2009에 따라 20℃에서 조성물 (A)에서 직접적으로 결정될 수 있다.
이와 관련하여, 본 발명에 따르면, 유기 중합체를 나타내지 않는 화합물은 탈이온수 (ĸ < 1 μScm-1)에서의 그의 용해도가 20℃에서 적어도 1 g/L일 때 수용성으로 간주됨을 주목하여야 한다.
게다가, 조성물 (A)에 함유된 중합체 P의 반복 단위 RN은 이들이 구조 요소로서 적어도 1개의 4급 질소 헤테로원자를 함유하는 헤테로사이클을 갖도록 하는 방식으로 구성된다. 4급 질소 원자는 단지 탄소 원자와의 공유 결합을 가지며, 따라서 영구 양전하를 갖는다. 본 발명에 따르면, 중합체 유기 화합물의 반복되는 구조 단위를 나타내는 반복 단위는 특정한 중합체 화합물에 누적 또는 통계적 분포로 존재할 수 있다. 구조 단위는 중합체 화합물 내에 적어도 10회 함유될 때 그의 반복 단위이다.
본 발명에 따르면, 4급 질소 원자를 함유하는 헤테로시클릭 구조 요소는 반복 단위를 연결하는 반복 단위 RN의 구조 요소의 치환기, 및 따라서 중합체 P의 측쇄 또는 반복 단위 RN의 연결 부위의 부분을 가교할 수 있으며, 따라서 자체가 중합체 P의 주쇄의 부분일 수 있다. 4급 질소 원자를 함유하는 헤테로시클릭 구조 요소는 바람직하게는 하기 구조 화학식 (I)에 상응한다:
여기서 관능기 R1은 수소 또는 6개 이하의 탄소 원자를 갖는 분지형 또는 비분지형 지방족, 또는 관능기 -(CR4R4)x-[Z(R4)(p-1)-(CR4R4)y]n-Z(R4)p로부터 선택되며, 여기서 Z는 각 경우에 산소 또는 질소로부터 선택되고, p는 Z가 질소인 경우에는 2의 값을 가지며, 그렇지 않으면 1이고, x 및 y는 각각 1 내지 4의 자연수이고, n은 마찬가지로 0 내지 4의 자연수이고, R4는 수소 또는 6개 이하의 탄소 원자를 갖는 분지형 또는 비분지형 지방족으로부터 선택되고;
여기서 Y는 5개 이하의 가교 원자를 갖는 고리-구성 2가 관능기이며, 탄소 원자와 상이한 1개 이하의 헤테로 가교 원자는 산소, 질소 또는 황 가교 원자로부터 선택될 수 있고, 탄소 원자는 결국 서로 독립적으로 관능기 R1 또는 6개 이하의 탄소 원자를 갖는 방향족 호모시클렌의 환화가 달성되는 관능기로 치환되어 존재한다.
하나의 바람직한 실시양태에서, 중합체 P의 반복 단위 RN은 4급 질소 원자를 함유하는 헤테로시클릭 구조 요소가 중합체 P에서 한편으로는 측쇄에 존재하고, 다른 한편으로는 반복 단위 RN의 하기 구조 화학식 (II)로 나타나는 특정한 화학적 구조 특성을 갖도록 하는 방식으로 구성된다:
여기서 관능기 R1은 수소 또는 6개 이하의 탄소 원자를 갖는 분지형 또는 비분지형 지방족, 또는 관능기 -(CR4R4)x-[Z(R4)(p-1)-(CR4R4)y]n-Z(R4)p로부터 선택되며, 여기서 Z는 각 경우에 산소 또는 질소로부터 선택되고, p는 Z가 질소인 경우에는 2의 값을 가지며, 그렇지 않으면 1이고, x 및 y는 각각 1 내지 4의 자연수이고, n은 마찬가지로 0 내지 4의 자연수이고, R4는 수소 또는 6개 이하의 탄소 원자를 갖는 분지형 또는 비분지형 지방족으로부터 선택되고;
여기서 관능기 R2 및 R3은 관능기 R1 또는 반복 단위 RN이 서로와 또는 다른 반복 단위 RX와 공유 결합되는 반복 단위 RN의 나머지 단편으로부터 선택되며, 단 R2 또는 R3은 반복 단위 RN의 단편을 나타내고, 반복 단위 RN의 나머지 단편은 바람직하게는 1-에타닐-2-일리덴, 1-프로파닐리덴-2-일 또는 1-프로파닐-2-일리덴으로부터 선택되고, 반복 단위 RN의 이들 바람직한 나머지 단편은 각각 서로와 또는 상이하거나 동일한 반복 단위와 직접적으로 공유 결합된 탄소 원자를 통해 공유 결합되고;
여기서 Y는 5개 이하의 가교 원자를 갖는 고리-구성 2가 관능기이며, 탄소 원자와 상이한 1개 이하의 헤테로 가교 원자는 산소, 질소 또는 황 가교 원자로부터 선택될 수 있고, 탄소 원자는 결국 서로 독립적으로 관능기 R1 또는 6개 이하의 탄소 원자를 갖는 방향족 호모시클렌의 환화가 달성되는 관능기로 치환되어 존재한다.
기본적으로 중합체 P의 반복 단위 RN은 이미다졸, 이미다졸린, 피리미딘, 퓨린 및/또는 퀴나졸린의 헤테로시클릭 기본 구조를 갖는 치환기를 보유하는 것이 유리한 것으로 제시된 바 있다. 따라서 이와 관련하여, 중합체 P의 반복 단위 RN은 고리-구성 2가 관능기 Y가 에틸렌, 에텐디일, 1,3-프로판디일, 1,3-프로펜디일, 1,4-부탄디일, 1,4-부텐디일, 1,4-부타디엔디일, -CH=N-, -CH2-NH-, (N,N-디메틸렌)아민, (N-메틸렌-N-메틸릴리덴)아민으로부터, 특히 바람직하게는 에텐디일, 1,4-부타디엔디일, -C=N 또는 (N-메틸렌-N-메틸릴리덴)아민으로부터, 매우 특히 바람직하게는 에텐디일 또는 -C=N-으로부터, 극도로 바람직하게는 에텐디일로부터 선택되며, 여기서 탄소 원자와 공유 결합된 수소는 각 경우에 구조 화학식 (I)에 따른 관능기 R1의 나머지 대표예에 의해 치환될 수 있는 것인 구조 화학식 (I)에 따른 치환기를 보유하는 것이 바람직하다.
특히 유리하게는, 반복 단위 RN이 1-메틸-3-비닐이미다졸륨, 1-에틸-3-비닐이미다졸륨, 1-이소프로필-3-비닐이미다졸륨, 1-프로필-3-비닐이미다졸륨, 1-(n-부틸)-3-비닐이미다졸륨, 1-(이소부틸)-3-비닐이미다졸륨, 1-메톡시-3-비닐이미다졸륨, 1-에톡시-3-비닐이미다졸륨, 1-프로폭시-3-비닐이미다졸륨, 특히 바람직하게는 1-메틸-3-비닐이미다졸륨으로부터 선택된 것인 중합체 P의 반복 단위 RN이 금속성 물질로 형성된 부품의 표면의, 화성 처리 전의 컨디셔닝에서 효과적인 것으로 입증된 바 있다.
조성물 (A) 중의 중합체 P는 바람직하게는 추가적으로 비닐피롤리돈, 비닐카프로락탐, 비닐 아세테이트, 비닐이미다졸, (메트)아크릴산 아미드, (메트)아크릴산, (메트)아크릴산 에스테르 및/또는 스티렌으로부터 선택된, 바람직하게는 비닐피롤리돈, 비닐이미다졸 및/또는 (메트)아크릴산 아미드로부터 선택된, 특히 바람직하게는 비닐피롤리돈으로부터 선택된 적어도 1개의 추가의 반복 단위 RX를 갖는다.
화성 처리 전의 단계 i)에서의 충분히 효과적인 컨디셔닝을 위해, 중합체 P 내의 반복 단위 RN의 비율은 특정한 수준 미만이어서는 안된다. 따라서, 본 발명에 따르면, 반복 단위 RN의 중량 분율이 중합체 P의 전체 분율을 기준으로 하여, 적어도 40%, 바람직하게는 적어도 60%, 특히 바람직하게는 적어도 80%인 경우가 바람직하다.
대안적으로 또는 동시에, 중합체 P의 양이온 전하 밀도는 중합체 P의 그램당, 바람직하게는 적어도 2 meq, 특히 바람직하게는 적어도 4 meq, 매우 특히 바람직하게는 적어도 6 meq이도록 보장되어야 한다.
놀랍게도, 중합체 P의 4급 질소 원자에 대한 반대이온의 유형도 마찬가지로 부품의 금속 표면의 컨디셔닝에 영향을 미친다. 카르보네이트, 술페이트, 니트레이트, 4개 이하의 탄소 원자를 갖는 모노알킬 술페이트, 히드록시드, 클로라이드 및/또는 플루오라이드로부터 선택된, 바람직하게는 니트레이트, 히드록시드, 클로라이드 및/또는 플루오라이드로부터 선택된, 중합체 P의 반복 단위 RN의 치환기의 헤테로사이클에서의 4급 질소 원자에 대한 이러한 반대이온이 유리한 것으로 밝혀진 바 있으며, 따라서 본 발명에 따라 바람직하다.
또한, 본 발명에 따르면, 중합체 P의 비율이 각 경우에 조성물 (A)를 기준으로 하여, 적어도 0.05 g/kg, 바람직하게는 적어도 0.2 g/kg, 특히 바람직하게는 적어도 0.4 g/kg이며, 또한 바람직하게는 2 g/kg 이하인 경우가 일반적으로 유리한 것으로 밝혀진 바 있다. 2 g/kg을 초과하면, 심지어 단계 i)에서의 컨디셔닝에 이어서 헹굼 단계가 후속되어도, 코팅 구축 후의 부식 보호에서 있어서 추가의 개선이 관찰되지 않으므로, 본 발명에 따른 방법에서 상기 수준을 초과하는 중합체 P의 양을 사용하는 것은 경제적이지 않을 것이다. 또한, 알루미늄과 같은 특정한 물질의 경우에는, 보다 높은 함량이 코팅 접착에 유해한 영향을 미칠 수 있는 것으로 관찰된 바 있으므로, 본 발명에 따라 추구되는, 수많은 금속성 물질 상의 부식 보호의 조화가 조성물 (A) 중의 중합체 P의 보다 높은 함량 때문에 위태로워진다.
단계 i)에서의 조성물 (A)의 pH는 본질적으로 자유롭게 선택될 수 있으며, 전형적으로 2 내지 14, 바람직하게는 3.0 초과, 특히 바람직하게는 4.0 초과, 매우 특히 바람직하게는 5.0 초과이며, 또한 바람직하게는 12.0 미만, 특히 바람직하게는 10.0 미만, 매우 특히 바람직하게는 8.0 미만의 범위이다.
그러나, 본 발명에 따른 방법의 특정한 변형법의 경우에, 바람직한 pH 윈도우가 존재한다. 금속성 물질에 의해 형성된 표면이 드로잉 그리스, 부식 보호 오일 또는 부식 생성물에 의해 오염된 부품의 경우에, 단계 i)에서의 컨디셔닝을 위한 조성물 (A)는 금속 표면의 세정 및 이와 연관된 산세척이 실시되도록 하는 방식으로 배합될 수 있다. 본 발명에 따른 이러한 방법에서, pH는 바람직하게는 2 내지 4.5의 범위 또는 9 내지 14의 범위이다. 그러나, 금속성 물질의 표면의 컨디셔닝을 세정과 조합하기 위해서는 알칼리성 조성물 (A)를 제공하는 것이 바람직하다.
세정이 본 발명에 따른 방법의 단계 i)에서 필요하지 않다면, 5.0 내지 8.0 범위의 pH가 바람직하며, 여기서 금속성 물질 아연 및 강철은 낮은 부식률을 가지고, 강알칼리성 또는 강산성 반응 첨가제의 첨가가 생략될 수 있다.
따라서, 본 발명에 따르면, 조성물 (A)는 추가의 성분을 함유할 수 있다. pH-조절 물질에 추가로, 이들은 또한 표면-활성 물질일 수 있으며, 세정 작용을 갖는 조성물 (A)에서의 그의 사용이 바람직하다. 게다가, 부품의 처리를 위해, 물질의 표면은 아연 및/또는 아연도금된 강철을 함유하고, 조성물 (A)는 추가적으로 일정량의 철 이온을 함유하여, 아연 표면과 접촉 시 철의 얇은 코팅 층이 형성되도록 하는 것이 유리할 수 있으며, 따라서 특히 물질 철의 표면의 경우에, 본 발명에 따른 방법에서 부식 보호의 조화가 추가로 접근가능하다. 이러한 철도금은, WO 2008/135478 A1의 교시에 따르면 바람직하게는 산성 환경에서 환원제의 존재 하에 실시될 수 있거나, 또는 WO 2011/098322 A1의 교시에 따르면 바람직하게는 알칼리성 환경에서 착물화제 및 포스페이트 이온의 존재 하에 실시될 수 있다.
그러나, 본 발명에 따른 방법의 단계 i)에서의 조성물 (A)가 중합체 P를 나타내지 않는 용해 및/또는 분산된 유기 중합체를, 500 ppm 미만, 특히 바람직하게는 100 ppm 미만, 매우 특히 바람직하게는 50 ppm 미만의 전체 함량으로 갖는 경우가 바람직하다. 이는 이러한 중합체의 부품의 금속성 물질의 표면과의 상호작용이 중합체 P의 상호작용과 경쟁하지 않고, 따라서 컨디셔닝의 목적하는 효과를 상쇄시키지 않도록 보장한다.
또한, 부품의 금속성 물질의 표면 상에서의 화성 층의 형성을 방지하기 위해, 단계 i)에서의 조성물 (A)는 특정한 원소를 기준으로 하여, 각 경우에 바람직하게는 0.005 g/kg 미만, 각 경우에 특히 바람직하게는 0.001 g/kg 미만의 원소 Zr, Ti 및/또는 Si의 수용성 화합물, 특정한 원소를 기준으로 하여, 바람직하게는 1 g/kg 미만의 원소 Zn, Mn 및 Ca의 수용성 화합물, 및/또는 플루오라이드-감지 전극으로 20℃에서 결정된, 바람직하게는 0.05 g/kg 미만, 특히 바람직하게는 0.01 g/kg 미만의 유리 플루오라이드를 함유한다.
따라서, 본 발명에 따른 하나의 바람직한 방법에서, 조성물 (A)는 단계 i)에서의 컨디셔닝을 위해 제공된 기간 동안에, 금속성 물질로 형성된 부품의 표면 상에 화성 층이 형성되도록 하는 양으로 성분을 함유하지 않는다. 본 발명의 의미 내에서, 화성 층은 티타늄 족, 바나듐 족 및/또는 크로뮴 족 원소의 포스페이트, 옥시드 및/또는 히드록시드, 또는 원소 칼슘, 철 및/또는 아연의 포스페이트를 함유하는 커버 층이 금속성 물질의 특정한 표면 상에, 특정한 아족 원소를 기준으로 하여 적어도 5 mg/m2, 또는 원소 인을 기준으로 하여 적어도 50 mg/m2의 코팅 층으로 습식 화학법으로 형성될 때 존재한다.
방법 단계 ii)에서, 산성 수성 조성물 (B)는 화성 층을 형성하는 충분한 양의 활성 성분을 함유하여야 한다. 이와 관련하여, 단계 ii)에서의 조성물 (B)가 각각 원소 Zr, Ti 또는 Si를 기준으로 하여, 적어도 0.01 g/kg, 바람직하게는 적어도 0.02 g/kg의 원소 Zr, Ti 또는 Si의 수용성 화합물을 함유하는 경우가 유리하다.
경제적 이유로 인해, 이들 화합물의 전체 함량이 원소 Zr, Ti 및 Si를 기준으로 하여, 바람직하게는 0.5 g/kg 이하인 경우가 또한 유리한데, 그 이유는 보다 높은 수준이 통상적으로 화성 층의 부식방지 특성을 추가로 개선하기 보다는, 오히려 보다 높은 침착 동역학 때문에 이들 원소와 관련하여 코팅 층의 제어를 방해하기 때문이다.
원소 Zr, Ti 또는 Si의 수용성 화합물의 적합한 대표예는 수용액에서 플루오로 착물의 음이온으로 해리되는 화합물이다. 이러한 바람직한 화합물의 예는 H2ZrF6, K2ZrF6, Na2ZrF6 및 (NH4)2ZrF6, 및 유사한 티타늄 및 규소 화합물이다. 또한, 원소 Zr, Ti 또는 Si, 특히 원소 Zr 또는 Ti의 플루오린-무함유 화합물, 예를 들어 (NH4)2Zr(OH)2(CO3)2 또는 TiO(SO4), 또는 적어도 1개의 공유 Si-O 결합을 갖는 실란이 본 발명에 따라 수용성 화합물로서 사용될 수 있다.
단계 i)에서의 사전 컨디셔닝으로, 화성 층 형성에서의 심지어 적은 코팅 중량도 우수한 부식 보호를 위해 충분하지만, 조성물 (B)가, 바람직하게는 착물 또는 단순 플루오라이드로부터 선택된 플루오라이드 이온의 공급원을 함유하는 경우가 일반적으로 유리하다. 단순 플루오라이드는 관련 기술분야의 통상의 기술자에 의해 플루오린화수소산 및 그의 염, 예컨대 알칼리 플루오라이드, 암모늄 플루오라이드 또는 암모늄 비플루오라이드를 의미하는 것으로 이해되며, 반면에 착물 플루오라이드는 본 발명에 따르면 플루오라이드가 1개 이상의 중심 원자의 리간드로서 배위된 형태로 존재하는 배위 화합물을 나타낸다. 따라서, 착물 플루오라이드의 바람직한 대표예는 원소 Zr, Ti 또는 Si의 상기 언급된 플루오린-함유 착물 화합물이다.
조성물 (B) 중의 플루오라이드 이온의 공급원을 나타내는 성분의 비율은 바람직하게는 충분히 높아서, 플루오라이드-감지 전극으로 20℃에서 측정된 유리 플루오라이드의 양이 적어도 0.05 g/kg이며, 또한 바람직하게는 0.4 g/kg 이하이다.
부식 보호와 관련하여 최상의 결과는, 단계 i)에서의 컨디셔닝과 조합되어, 단계 ii)에서의 조성물 (B)가 구리 이온을 함유할 때 달성된다. 따라서, 본 발명에 따른 방법의 하나의 특히 바람직한 실시양태에서, 조성물 (B)는 추가적으로 구리 이온의 공급원을 나타내는 수용성 화합물을, 바람직하게는 수용성 염, 예를 들어 구리 술페이트, 구리 니트레이트 및 구리 아세테이트의 형태로 함유한다.
조성물 (B) 중의 수용성 화합물의 구리 함량은 바람직하게는 적어도 0.001 g/kg, 특히 바람직하게는 적어도 0.005 g/kg이다. 그러나, 구리 이온의 함량은 바람직하게는 0.1 g/kg 이하, 특히 바람직하게는 0.05 g/kg 이하인데, 그 이유는 그렇지 않으면 원소 구리의 침착이 화성 층 형성보다 우세해지기 시작하기 때문이다.
산성 수성 조성물 (B)의 pH는 바람직하게는 2.5 내지 5.0의 범위, 특히 바람직하게는 3.5 내지 4.5의 범위이다.
게다가, 조성물 (B)가 화성 층 형성의 촉진제로서 니트레이트 이온을 함유하며, 여기서 니트레이트 이온의 비율은 바람직하게는 적어도 0.5 g/kg이며, 또한 경제적 이유로 바람직하게는 4 g/kg을 초과하지 않는 경우가 바람직하다.
본 발명에 따른 방법으로 처리되는 부품은 적어도 부분적으로 금속성 물질로 제조된다. 코팅 접착 베이스로서 화성 층의 특성을 분명히 개선시키는 바람직한 금속성 물질은 철 및 철의 합금, 특히 강철; 아연, 아연도금된 강철, 및 알루미늄이고, 뿐만 아니라 물질 아연 및 알루미늄의 합금이 또한 본 발명에 따른 방법으로 고품질 화성 층이 제공된다. 이와 관련하여, 합금 성분으로서 해당 물질의 원소를 적어도 50 중량% 함유하는 물질이 이들 물질의 합금으로서 적합하다. 철 및 그의 합금의 표면 상에서, 심지어 헹굼 및/또는 건조 단계가 단계 i)에서의 컨디셔닝 직후에 후속되는지의 여부에 거의 상관없이, 래커 결함의 부식성 침윤에서 부식 보호의 상당한 개선이 존재한다.
따라서, 본 발명에 따른 방법의 하나의 바람직한 실시양태에서, 부품은 적어도 부분적으로 물질 철 및/또는 강철의 표면을 가지며, 여기서 바람직하게는 금속성 물질의 표면인, 부품의 표면의 적어도 50%, 특히 바람직하게는 적어도 80%가 물질 철 및/또는 강철의 표면으로부터 형성된다.
부품이 부분적으로 아연 및 아연도금된 강철의 표면을 함유할 때, 컨디셔닝 직후의 헹굼 단계의 경우에, 이들 표면 상에서의 부식 보호와 관련하여 보다 높은 편차가 발생하는 것으로 관찰된다. 그러나, 이러한 보다 높은 편차는 컨디셔닝, 즉 방법 단계 i)에서의 조성물 (A) 중의 중합체 P의 비교적 보다 높은 농도를 선택함으로써 평준화될 수 있다.
부품이 또한 물질 알루미늄의 표면을 함유한다면, 컨디셔닝을 위한 조성물 (A) 중의 중합체 P의 보다 높은 농도는 알루미늄 표면 상의 부식 값에 유해한 영향을 미칠 수 있다.
그러나, 원칙적으로, 물질 철 및/또는 강철의 표면에 추가로, 또한 물질 아연 및/또는 아연도금된 강철 뿐만 아니라 알루미늄의 표면을 갖는 복합 구조 및 특히 부품은, 물질 철 및/또는 강철 표면 상에서 현저히 개선된 부식 보호 및 부식 보호 값에 있어서의 보다 낮은 편차가 달성되며, 한편 나머지 금속성 물질의 표면 상의 컨디셔닝이 원소 Zr, Ti 및/또는 Si에 기반한 화성 층의 부식 보호 효과에 대해 부정적 영향을 미치지 않는 결과로, 본 발명에 따른 방법으로 처리될 수 있다. 균질한, 얇은 부식방지 화성 층의 형성을 보장하는, 상기 언급된 금속성 표면 상의 본 발명에 따른 방법의 이러한 특성은 자동차 차체의 표면 처리를 위해 매우 중요한데, 그 이유는 이들이 상용적으로 스팟 용접, 시밍 또는 일체형 접착성 결합과 같은 접합 기술에 의해 함께 접합된 물질 조합의 유형을 갖기 때문이다.
따라서, 하나의 바람직한 실시양태에서, 부품은 물질 철 및/또는 강철의 표면 및 물질 아연 및/또는 아연도금된 강철의 표면에 추가로, 또한 바람직하게는 물질 알루미늄의 표면을 함유하며, 여기서 단계 i)에서의 컨디셔닝 후 및 단계 ii)에서의 화성 처리 전에, 바람직하게는 헹굼 단계, 특히 바람직하게는 헹굼 단계 및 건조 단계는 생략되고, 또한 수성 조성물 (A) 중의 용해 및/또는 분산된 중합체 P의 비율은 바람직하게는 1.2 g/kg 이하, 특히 바람직하게는 0.8 g/kg 이하이다.
게다가, 부품이 물질 아연 및/또는 아연도금된 강철의 표면을 갖는 경우에, 이들 표면은 철을 함유하는 얇은, 무정형 층이 제공되어, 이들 물질의 표면에 물질 철 및/또는 강철의 표면에 대해 전형적으로 결정되는 것만큼 효과적인 본 발명에 따른 방법의 단계 i)에서의 컨디셔닝이 제공되는 것이 일반적으로 바람직하다. 아연 및/또는 아연도금된 강철의 표면의 이러한 특히 효과적인 철도금은, 각 경우에 동등한 방식으로 본 발명에 따른 방법 단계 i)을 수행하기 직전에 적용될 수 있는 습식 화학적 방법으로서, 미심사 특허 출원 WO 2011098322 A1 및 WO 2008135478 A1에 기재되어 있다. 이와 관련하여, 부품이 적어도 부분적으로 물질 아연 및/또는 아연도금된 강철로 제조된 것인 본 발명에 따른 방법의 경우에, 이들 물질로 제조된 부품의 표면은 적어도 20 mg/m2이며, 또한 바람직하게는 150 mg/m2 이하의 철 피복을 갖는 것이 바람직하다.
예시적 실시양태:
하기에 기재된 바와 같이, 강철 (CRS), 아연도금된 강철 (HDG) 및 알루미늄의 시트를 각각 독립적으로 부식방지 전처리를 위한 다단계 방법에 적용한다. 이러한 방식으로 전처리되고 코팅 층이 제공된 금속 시트의, 우수한 코팅 접착 베이스를 제공하는 것에 대한 적합성을 각각의 물질-특이적 부식 시험에서 검사한다.
전처리 및 코팅을 위한 일반적 방법은 하기의 연속적인 필수적 및 임의적 개별 단계 A)-E)로 구성된다:
A) 알칼리성 세정 및 그리스제거:
시트를 알루미늄 기재의 경우에는 3분 동안 60℃에서, 또한 강철 및 아연도금된 강철의 경우에는 5분 동안 60℃에서, 4 중량% 리돌린(Ridoline)® 2011 (헨켈(Henkel)) 및 0.5 중량% 리도솔(Ridosol)® 1561 (헨켈)로 구성된 알칼리성 세정제에, 교반 하에, 침지시킨다;
B) 공정용수로, 이어서 탈이온수 (ĸ < 1 μScm-1)로 각 경우에 20℃에서 헹군다;
C) pH-변형 물질을 추가로 첨가하지 않으면서, 탈이온수 (ĸ < 1 μScm-1) 중에 미리 한정된 양의 유기 중합체를 함유하는 조성물에 시트를 1분 동안 35℃에서, 교반 하에, 침지시킴으로써 컨디셔닝한다;
D) 임의로, 20℃에서 탈이온수 (ĸ < 1 μScm-1)로 헹군다;
E) 하기를 함유하는, 4.0의 pH를 갖는 수성 조성물에 시트를 3분 동안 35℃에서, 교반 하에, 침지시킴으로써 화성 처리한다:
0.34 g/kg의 H2ZrF6
0.10 g/kg의 CuSO4
3.0 g/kg의, 소듐 니트레이트로부터의 니트레이트 이온
플루오라이드-감지 유리 전극 (WTW, F501) 및 기준 전극 (WTW, R503)을 함유하는 전위차 측정 체인 (WTW, 이노랩(inoLab)®, pH/이온 수준 3)을 사용하여 플루오라이드-감지 전극으로 20℃에서 측정되고, 완충제의 첨가 없이 머크(Merck) 티트리솔(Titrisol)® 플루오라이드 표준물로부터 제조된, 10 mg/kg, 100 mg/kg 및 1000 mg/kg의 유리 플루오라이드 함량을 갖는 보정 용액을 사용하여 3-포인트 보정이 수행된, 23 mg/kg의 유리 플루오라이드 함량을 설정하는 충분한 양의 (NH4)HF2.
방법 단계 E)에서의 화성 처리 후에, 모든 시트를 초기에 20℃에서 탈이온수 (ĸ < 1 μScm-1)로 헹구고, 후속적으로 캐소드 딥 코팅으로 코팅하고, 180℃에서 건조시킨다 (건조 층 두께: 18-20 μm; 바스프 코팅스(BASF Coatings)로부터의 캐소구아드(CathoGuard)® 800).
단계 C)에서의 컨디셔닝에 사용된 다양한 중합체-함유 조성물은 하기 표 1에 제시된다.
부식 결과 및 특정한 연관된 방법 순서는 표 2에 제시된다. 교호 기후 시험에서의 노화 후의 침윤 및 스톤 칩핑 시험과 관련하여, 엄격한 화성 처리 (제9번)와 비교하여, 본 발명의 컨디셔닝 유형이 수행되었을 때 (제1번-제8번) 강철 시트 상에서 훨씬 더 우수한 결과가 얻어진다는 것이 명백하다. 특히 컨디셔닝 C)에서 중합체 내의 4급 질소 원자를 함유하는 헤테로시클릭 구조 단위의 상대 비율이 상대적으로 높은 중합체-함유 조성물의 경우에, 강철 및 알루미늄 상에서 탁월한 부식 보호 결과를 얻을 수 있다 (제1번 및 제5번의 비교).
반대로, 실시예 9는 4급 질소 원자를 함유하는 치환기를 보유하는 모든 중합체가 후속 화성 처리를 위한 금속 표면의 성공적인 컨디셔닝을 제공할 수 있는 것은 아니라는 것을 입증한다. 실시예 9의 컨디셔닝에서의 중합체는 테트라알킬암모늄 구조 단위가 폴리에테르 가교를 통해 셀룰로스 기본 구조와 결합된 것인 개질된 셀룰로스이다.
컨디셔닝의 농도에 대한 의존성은 컨디셔닝 직후에 탈이온수로의 헹굼이 후속되는 방법에서, 보다 높은 비율의 중합체가 아연도금된 강철 상에서 우수한 부식 값을 유지하는데 있어서 유리한 경향을 제시한다 (제8번 및 제3번, 및 제7번 및 제2번의 비교). 강철 기재의 경우에는, 동일한 컨디셔닝과 함께 후속 헹굼이 부식 보호를 위해 약간 유리한 것으로 결론지을 수 있다 (제8번 및 제3번, 및 제7번 및 제2번의 비교). 컨디셔닝 후에 헹굼을 수행하는지의 여부에 상관없이, 기재 알루미늄을 위한 최적은 바람직하게는 이미다졸륨을 기재로 하는 공중합체의 평균 함량의 경우이다 (제3번 및 제7번의 비교).
Claims (15)
- 적어도 부분적으로 금속성 물질로 제조된 부품의 부식방지 전처리를 위한 다단계 방법으로서, 여기서 초기에
i) 금속성 물질에 의해 형성된 부품의 표면의 적어도 일부를, 반복 단위 RN으로 적어도 부분적으로 구성된, 용해 및/또는 분산된 유기 중합체 P를 함유하는 수성 조성물 (A)와 접촉시키고,
여기서, 반복 단위 RN이 1-메틸-3-비닐이미다졸륨, 1-에틸-3-비닐이미다졸륨, 1-이소프로필-3-비닐이미다졸륨, 1-프로필-3-비닐이미다졸륨, 1-(n-부틸)-3-비닐이미다졸륨, 1-(이소부틸)-3-비닐이미다졸륨, 1-메톡시-3-비닐이미다졸륨, 1-에톡시-3-비닐이미다졸륨, 1-프로폭시-3-비닐이미다졸륨으로부터 선택되며,
반복 단위 RN의 중량 분율이 중합체 P의 전체 분율을 기준으로 하여, 적어도 40%이고,
후속적으로
ii) 금속성 물질에 의해 형성된 부품의 표면의 적어도 동일한 일부를, 그 사이에 헹굼 및/또는 건조 단계를 포함시키거나 또는 이러한 단계 없이, 적어도 0.01 g/kg의 원소 Zr, Ti 및/또는 Si의 1종 이상의 수용성 화합물을 함유하는 산성 수성 조성물 (B)와 접촉시키는 방법. - 제1항에 있어서, 반복 단위 RN이 1-메틸-3-비닐이미다졸륨인 것을 특징으로 하는 방법.
- 제1항 또는 제2항에 있어서, 중합체 P가 비닐피롤리돈, 비닐카프로락탐, 비닐 아세테이트, 비닐이미다졸, (메트)아크릴산 아미드, (메트)아크릴산, (메트)아크릴산 에스테르 및/또는 스티렌으로부터 선택된 적어도 1개의 추가의 반복 단위 RX를 함유하는 것을 특징으로 하는 방법.
- 제1항 또는 제2항에 있어서, 반복 단위 RN의 중량 분율이 중합체 P의 전체 분율을 기준으로 하여, 적어도 60% 또는 적어도 80%인 것을 특징으로 하는 방법.
- 제1항 또는 제2항에 있어서, 조성물 (A) 중의 중합체 P의 비율이 적어도 0.05 g/kg, 적어도 0.2 g/kg, 또는 적어도 0.4 g/kg인 것을 특징으로 하는 방법.
- 제1항 또는 제2항에 있어서, 단계 i)에서 화성 층이 금속성 부품의 표면 상에 형성되지 않는 것을 특징으로 하는 방법.
- 제1항 또는 제2항에 있어서, 단계 ii)에서의 조성물 (B)가, 착물 플루오라이드 또는 단순 플루오라이드로부터 선택된 플루오라이드 이온의 공급원을 함유하는 것을 특징으로 하는 방법.
- 제1항 또는 제2항에 있어서, 단계 ii)에서의 조성물 (B)가 추가적으로 구리 이온의 공급원을 나타내는 수용성 화합물 또는 이의 수용성 염을 함유하는 것을 특징으로 하는 방법.
- 제1항 또는 제2항에 있어서, 방법 단계 i)과 ii) 사이에 헹굼 단계가 실시되지 않거나, 헹굼 단계와 건조 단계 중 어느 것도 실시되지 않는 것을 특징으로 하는 방법.
- 제1항 또는 제2항에 있어서, 부품이 적어도 부분적으로 물질 철 및/또는 강철의 표면을 가지며, 부품의 금속성 물질의 표면의 적어도 50% 또는 적어도 80%가 물질 철 및/또는 강철의 표면으로부터 형성되는 것을 특징으로 하는 방법.
- 제10항에 있어서, 부품이 물질 철 및/또는 강철의 표면에 추가로,
물질 아연 및/또는 아연도금된 강철의 표면을 또한 가지거나,
물질 아연 및/또는 아연도금된 강철의 표면, 및 물질 알루미늄의 표면을 또한 갖는 것을 특징으로 하는 방법. - 제11항에 있어서, 물질 아연 및/또는 아연도금된 강철의 표면이 적어도 20 mg/m2의 철 피복을 갖는 것을 특징으로 하는 방법.
- 삭제
- 삭제
- 삭제
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE102015206812.9A DE102015206812A1 (de) | 2015-04-15 | 2015-04-15 | Polymerhaltige Vorspüle vor einer Konversionsbehandlung |
DE102015206812.9 | 2015-04-15 | ||
PCT/EP2016/057220 WO2016165958A1 (de) | 2015-04-15 | 2016-04-01 | Polymerhaltige vorspüle vor einer konversionsbehandlung |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
KR20170137174A KR20170137174A (ko) | 2017-12-12 |
KR102609181B1 true KR102609181B1 (ko) | 2023-12-05 |
Family
ID=55661422
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
KR1020177032748A KR102609181B1 (ko) | 2015-04-15 | 2016-04-01 | 화성 처리 전의 중합체-함유 예비-헹굼 |
Country Status (10)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US11230768B2 (ko) |
EP (1) | EP3283666B1 (ko) |
JP (1) | JP6745280B2 (ko) |
KR (1) | KR102609181B1 (ko) |
CN (1) | CN107532305B (ko) |
BR (1) | BR112017021948A2 (ko) |
CA (1) | CA2982487C (ko) |
DE (1) | DE102015206812A1 (ko) |
MX (1) | MX2017012594A (ko) |
WO (1) | WO2016165958A1 (ko) |
Families Citing this family (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN113512720B (zh) * | 2021-07-05 | 2022-06-17 | 广东硕成科技股份有限公司 | 一种沉铜前处理液及其前处理方法 |
Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2013504687A (ja) * | 2009-09-10 | 2013-02-07 | 日本パーカライジング株式会社 | 金属表面の腐食保護処理のための二段階法 |
US20140041693A1 (en) * | 2006-04-18 | 2014-02-13 | Chemetall Gmbh | Process for the demulsifying cleaning of metallic surfaces |
Family Cites Families (33)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US3365313A (en) | 1962-06-11 | 1968-01-23 | American Cyanamid Co | Anti-corrosion compositions |
EP0144760B1 (de) | 1983-11-12 | 1989-01-04 | Hoechst Aktiengesellschaft | Verfahren zur Isomerisierung von Mono- oder Dichlorophenolen |
IT1207517B (it) | 1985-12-19 | 1989-05-25 | Enichem Sintesi | Inibitori di corrosione sottosforzo di acciai inossidabili. |
EP0645473B1 (en) | 1993-08-31 | 1997-10-15 | Nippon Paint Company Limited | Chemical conversion method and surface treatment method for metal can |
DE4441710A1 (de) | 1994-11-23 | 1996-05-30 | Henkel Kgaa | Korrosionsschutz und Reibungsverminderung von Metalloberflächen |
DE19649285A1 (de) | 1996-11-28 | 1998-06-04 | Henkel Kgaa | Verfahren zum Schutz von Metalloberflächen gegenüber Korrosion in flüssigen oder gasförmigen Medien |
DE10005113A1 (de) | 2000-02-07 | 2001-08-09 | Henkel Kgaa | Korrosionsschutzmittel und Korrosionsschutzverfahren für Metalloberflächen |
DE10010758A1 (de) * | 2000-03-04 | 2001-09-06 | Henkel Kgaa | Korrosionsschutzverfahren für Metalloberflächen |
CA2425403A1 (en) | 2000-10-11 | 2003-04-08 | Chemetall Gmbh | Method for pretreating and subsequently coating metallic surfaces with a paint-type coating prior to forming and use of substrates coated in this way |
DE10131723A1 (de) * | 2001-06-30 | 2003-01-16 | Henkel Kgaa | Korrosionsschutzmittel und Korrosionsschutzverfahren für Metalloberflächen |
JP3923419B2 (ja) | 2001-12-26 | 2007-05-30 | 住友金属工業株式会社 | 非クロム系化成処理鋼板のノンクロム処理 |
JP4526807B2 (ja) | 2002-12-24 | 2010-08-18 | 日本ペイント株式会社 | 塗装前処理方法 |
DE10310972A1 (de) * | 2003-03-13 | 2004-09-23 | Basf Ag | Stickstoffhaltige Polymere für die Metalloberflächenbehandlung |
US20050012077A1 (en) | 2003-05-28 | 2005-01-20 | Lonza Inc. | Quaternary ammonium carbonates and bicarbonates as anticorrosive agents |
US20050003978A1 (en) | 2003-05-28 | 2005-01-06 | Lonza Inc. | Quaternary ammonium carbonates and bicarbonates as anticorrosive agents |
DE10353149A1 (de) * | 2003-11-14 | 2005-06-16 | Henkel Kgaa | Ergänzender Korrosionsschutz für Bauteile aus organisch vorbeschichteten Metallblechen |
DE10358309A1 (de) | 2003-12-11 | 2005-07-21 | Henkel Kgaa | Funktionalisiertes Phenol-Aldehyd-Harz und Verfahren zur Behandlung von Metalloberflächen |
DE10358310A1 (de) * | 2003-12-11 | 2005-07-21 | Henkel Kgaa | Zweistufige Konversionsbehandlung |
MY148568A (en) | 2004-12-09 | 2013-04-30 | Lonza Ag | Quaternary ammonium salts as a conversion coating or coating enhancement |
FR2909667B1 (fr) | 2006-12-12 | 2009-02-20 | Inst Francais Du Petrole | Elimination de l'acetonitrile dans la charge olefinique des procedes de production d'ethers par mise en oeuvre de liquides ioniques. |
ES2391870T3 (es) * | 2007-02-12 | 2012-11-30 | Henkel Ag & Co. Kgaa | Procedimiento para tratar superficies metálicas |
DE102007021364A1 (de) | 2007-05-04 | 2008-11-06 | Henkel Ag & Co. Kgaa | Metallisierende Vorbehandlung von Zinkoberflächen |
DE102007000501A1 (de) * | 2007-10-15 | 2009-04-16 | Chemetall Gmbh | Reinigerzusammensetzung für metallische Oberflächen |
JP2009280889A (ja) | 2008-05-26 | 2009-12-03 | Nippon Parkerizing Co Ltd | 水系表面処理剤、プレコート金属材料の下地処理方法、プレコート金属材料の製造方法およびプレコート金属材料 |
JP5123051B2 (ja) | 2008-05-26 | 2013-01-16 | 日本パーカライジング株式会社 | 金属表面処理剤、金属材料の表面処理方法および表面処理金属材料 |
JP5123052B2 (ja) | 2008-05-26 | 2013-01-16 | 日本パーカライジング株式会社 | 表面化成処理液、化成処理金属板およびその製造方法、ならびに上層被覆金属板およびその製造方法 |
DE102009028025A1 (de) | 2009-07-27 | 2011-02-03 | Henkel Ag & Co. Kgaa | Mehrstufiges Verfahren zur Behandlung von Metalloberflächen vor einer Tauchlackierung |
DE102010001686A1 (de) | 2010-02-09 | 2011-08-11 | Henkel AG & Co. KGaA, 40589 | Zusammensetzung für die alkalische Passivierung von Zinkoberflächen |
AU2011311640A1 (en) | 2010-10-05 | 2013-05-02 | Basf Se | Method for passivating a metallic surface using a basic composition |
CN103154317A (zh) | 2010-10-05 | 2013-06-12 | 巴斯夫欧洲公司 | 钝化金属表面的方法 |
DE102010062807A1 (de) * | 2010-12-10 | 2012-06-14 | Henkel Ag & Co. Kgaa | N-Acylaminosäuren als Korrosionsschutz |
WO2013020980A1 (de) * | 2011-08-10 | 2013-02-14 | Basf Se | Verfahren zum passivieren von metallischen oberflächen unter verwendung von carboxylathaltigen copolymeren |
EP2971249B1 (en) * | 2013-03-16 | 2023-06-07 | PRC-Desoto International, Inc. | Alkaline cleaning compositions for metal substrates |
-
2015
- 2015-04-15 DE DE102015206812.9A patent/DE102015206812A1/de not_active Withdrawn
-
2016
- 2016-04-01 CA CA2982487A patent/CA2982487C/en active Active
- 2016-04-01 EP EP16714390.8A patent/EP3283666B1/de active Active
- 2016-04-01 BR BR112017021948-4A patent/BR112017021948A2/pt not_active Application Discontinuation
- 2016-04-01 KR KR1020177032748A patent/KR102609181B1/ko active IP Right Grant
- 2016-04-01 MX MX2017012594A patent/MX2017012594A/es unknown
- 2016-04-01 WO PCT/EP2016/057220 patent/WO2016165958A1/de active Application Filing
- 2016-04-01 CN CN201680021711.4A patent/CN107532305B/zh active Active
- 2016-04-01 JP JP2017553937A patent/JP6745280B2/ja active Active
-
2017
- 2017-10-13 US US15/783,171 patent/US11230768B2/en active Active
Patent Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US20140041693A1 (en) * | 2006-04-18 | 2014-02-13 | Chemetall Gmbh | Process for the demulsifying cleaning of metallic surfaces |
JP2013504687A (ja) * | 2009-09-10 | 2013-02-07 | 日本パーカライジング株式会社 | 金属表面の腐食保護処理のための二段階法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP6745280B2 (ja) | 2020-08-26 |
CN107532305A (zh) | 2018-01-02 |
DE102015206812A1 (de) | 2016-10-20 |
CN107532305B (zh) | 2020-05-19 |
JP2018512512A (ja) | 2018-05-17 |
WO2016165958A1 (de) | 2016-10-20 |
BR112017021948A2 (pt) | 2018-07-10 |
MX2017012594A (es) | 2018-01-09 |
EP3283666A1 (de) | 2018-02-21 |
US11230768B2 (en) | 2022-01-25 |
EP3283666B1 (de) | 2019-10-30 |
CA2982487A1 (en) | 2016-10-20 |
US20180051377A1 (en) | 2018-02-22 |
CA2982487C (en) | 2023-06-13 |
KR20170137174A (ko) | 2017-12-12 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
KR101596293B1 (ko) | 금속 표면을 위한 티타늄-/지르코늄-기부에 대한 최적화된 패시베이션 | |
US8715403B2 (en) | Multi-stage pre-treatment method for metal components having zinc and iron surfaces | |
CN100460559C (zh) | 化学转化涂层剂及经表面处理的金属 | |
JP3547054B2 (ja) | アルミニウムのための親水性被覆剤 | |
US20030138567A1 (en) | Anti-corrosive agents and method for protecting metal surfaces against corrosion | |
US8557096B2 (en) | Multistage method for treating metal surfaces prior to dip painting | |
JP4276530B2 (ja) | 化成処理剤及び表面処理金属 | |
JP2018527467A (ja) | アルミニウム表面をジルコニウム及びモリブデン含有組成物で前処理する方法 | |
US20040151619A1 (en) | Anticorrosive agent and corrosion protection process for metal surfaces | |
JP2004533542A5 (ko) | ||
JP2004501280A (ja) | 化成処理溶液に加える接合剤 | |
KR102609181B1 (ko) | 화성 처리 전의 중합체-함유 예비-헹굼 | |
CN107683349B (zh) | 用于在转化处理之前进行调理的包含季胺的预漂洗 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
E902 | Notification of reason for refusal | ||
E701 | Decision to grant or registration of patent right | ||
GRNT | Written decision to grant |