KR102608681B1 - 클리닝 헤드 및 청소 방법 - Google Patents

클리닝 헤드 및 청소 방법 Download PDF

Info

Publication number
KR102608681B1
KR102608681B1 KR1020160079155A KR20160079155A KR102608681B1 KR 102608681 B1 KR102608681 B1 KR 102608681B1 KR 1020160079155 A KR1020160079155 A KR 1020160079155A KR 20160079155 A KR20160079155 A KR 20160079155A KR 102608681 B1 KR102608681 B1 KR 102608681B1
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
cleaning
suction port
air suction
foreign matter
head
Prior art date
Application number
KR1020160079155A
Other languages
English (en)
Other versions
KR20170048136A (ko
Inventor
도모히로 시라네
Original Assignee
휴글 가이하쓰 가부시키가이샤
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 휴글 가이하쓰 가부시키가이샤 filed Critical 휴글 가이하쓰 가부시키가이샤
Publication of KR20170048136A publication Critical patent/KR20170048136A/ko
Application granted granted Critical
Publication of KR102608681B1 publication Critical patent/KR102608681B1/ko

Links

Images

Classifications

    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B08—CLEANING
    • B08B—CLEANING IN GENERAL; PREVENTION OF FOULING IN GENERAL
    • B08B5/00—Cleaning by methods involving the use of air flow or gas flow
    • B08B5/02—Cleaning by the force of jets, e.g. blowing-out cavities
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B08—CLEANING
    • B08B—CLEANING IN GENERAL; PREVENTION OF FOULING IN GENERAL
    • B08B7/00—Cleaning by methods not provided for in a single other subclass or a single group in this subclass
    • B08B7/0028—Cleaning by methods not provided for in a single other subclass or a single group in this subclass by adhesive surfaces
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B08—CLEANING
    • B08B—CLEANING IN GENERAL; PREVENTION OF FOULING IN GENERAL
    • B08B1/00—Cleaning by methods involving the use of tools
    • B08B1/30—Cleaning by methods involving the use of tools by movement of cleaning members over a surface
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B08—CLEANING
    • B08B—CLEANING IN GENERAL; PREVENTION OF FOULING IN GENERAL
    • B08B5/00—Cleaning by methods involving the use of air flow or gas flow
    • B08B5/04—Cleaning by suction, with or without auxiliary action
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/02—Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof
    • H01L21/02041—Cleaning
    • H01L21/02043—Cleaning before device manufacture, i.e. Begin-Of-Line process
    • H01L21/02052—Wet cleaning only
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/67—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/67005—Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/67011—Apparatus for manufacture or treatment
    • H01L21/67017—Apparatus for fluid treatment
    • H01L21/67028—Apparatus for fluid treatment for cleaning followed by drying, rinsing, stripping, blasting or the like
    • H01L21/6704—Apparatus for fluid treatment for cleaning followed by drying, rinsing, stripping, blasting or the like for wet cleaning or washing
    • H01L21/67051—Apparatus for fluid treatment for cleaning followed by drying, rinsing, stripping, blasting or the like for wet cleaning or washing using mainly spraying means, e.g. nozzles
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B08—CLEANING
    • B08B—CLEANING IN GENERAL; PREVENTION OF FOULING IN GENERAL
    • B08B2220/00—Type of materials or objects being removed
    • B08B2220/01—Adhesive materials

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Computer Hardware Design (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Power Engineering (AREA)
  • Cleaning In General (AREA)
  • Cleaning Or Drying Semiconductors (AREA)

Abstract

[해결하려고 하는 과제] 헤드 본체의 에어 흡인구 및 그 주위의 이물질을 간단하고 또한 신속하게 제거하는 청소 기능을 가지고, 기판 품질의 향상과 함께 제조 비용의 저감을 실현하는 클리닝 헤드, 및 청소 방법을 제공한다.
[해결 수단] 헤드 본체(10)에 장착되는 유도 지지부(21)에 의해 유도 지지되고, 에어 흡인구(12)의 길이 방향과 상대적으로 또한 대략 평행하게 이동하는 이동부(22)와, 이 이동부(22)와 함께 이동하고, 에어 흡인구(12) 및 그 주위의 이물질을 접촉 제거하는 이물질 제거부(23)를 포함하는 클리닝 헤드(100)다.

Description

클리닝 헤드 및 청소 방법{CLEANING HEAD AND CLEANING METHOD}
본 발명은 에어 흡인구 및 그 주위를 청소하는 기능을 가지는 클리닝 헤드, 및 그 청소 방법에 관한 것이다.
반도체 웨이퍼, 액정 표시기의 유리판, 필름 등의 각종 기판(이하, 단지 기판이라 함)의 제조 공정에 있어서, 기판의 표면으로부터 먼지를 제거하는 제진(除塵)을 행할 필요가 있다. 예를 들면, 기판의 수평 반송(搬送) 경로 위쪽에 클리닝 헤드를 배치하고, 반송되는 기판에 대하여 클리닝 헤드가 제진을 행한다.
클리닝 헤드의 바닥면에는 에어 분사구 및 에어 흡인구가 형성되어 있다. 에어 분사구 및 에어 흡인구는, 기판의 반송 방향에 대하여 대략 수직인 방향으로 긴 슬릿이다. 클리닝 헤드의 에어 분사구는 반송되는 기판에 세정 에어를 분사하여 먼지를 불어 날리고, 또한, 에어 흡인구는 기판으로부터 비산된 먼지를 주위의 에어와 함께 흡인하여, 기판 전체면의 제진을 행한다.
상기 클리닝 헤드의 에어 흡인구에, 유리나 필름의 단편(斷片)이 끼이거나, 에어 흡인구의 주위에 정전기에 의해 단편이 부착되는 경우가 있다. 이 이물질은, 반송되는 기판에 대하여 상처를 입힐 우려가 있다. 또한, 특히 에어 흡인구에 이물질이 끼어 있는 경우, 그 개소에서는 흡인력이 약해지기 때문에 그 개소(箇所)의 제진이 불가능하다. 에어 흡인구 및 그 주위에 고착되는 이물질은, 기판 품질을 저하시키고, 기판 제조의 수율을 악화시킨다.
최근에는, 기판의 대형화 및 박형화(薄型化)가 진행되고 있고, 클리닝 헤드에 고착된 육안으로 확인이 어려운 비교적 작은 이물질조차도 기판 품질에 큰 영향을 미칠 우려가 있다.
기판 품질의 저하를 방지하기 위해 이물질을 청소 제거할 필요가 있지만, 이와 같은 이물질이 언제 고착될지는 특정할 수 없다. 그래서, 종래의 청소 작업에서는, 기판 불량의 발생 시에 이물질이 부착되었다고 판단하고, 작업원이 에어 흡인구 및 그 주위에 고착되는 이물질을 닦아냄으로써 청소 제거하였다.
그러나, 반송 스테이지로부터 클리닝 헤드의 바닥면까지의 갭(gap)은 수밀리 정도 밖에 안되고, 에어 흡인구 및 그 주위는 좁은 개소(箇所)에 있어, 닦아냄에 의한 이물질의 청소 제거가 용이하지 않다. 이 청소 작업은, 작업성이 낮은 데에다 새로운 먼지 발생의 요인이 되는 등의 문제가 있다.
그리고, 상기 청소 작업이 곤란한 것에 기인하여 제조 설비의 정지 시간이 길어지면, 제조 시간이 낭비되고, 또한, 인적 비용도 증대한다. 이와 같이 종래 기술에서는 클리닝 헤드로의 이물질의 고착과 그 청소 제거에 기인하여, 제조 비용이 증대된다는 문제가 있다.
그래서, 클리닝 헤드의 에어 흡인구 및 그 주위의 이물질을, 기계적으로 간단하고도 신속하게 청소 제거하고자 하는 과제가 있음을 알게 되었다. 이와 같은 클리닝 헤드의 에어 흡인구의 청소를 행하는 장치의 선행 기술은 확인되지 않았다.
클리닝 헤드와는 상이한 다른 기술 분야에 있어서, 이물질의 청소를 기계적으로 행하는 장치의 선행 기술이, 예를 들면, 특허 문헌 1(일본특허 제4773209호 공보)에 개시되어 있다. 특허 문헌 1의 부품 압착(壓着) 장치에서는, 도 6A, 도 6B, 도 3A, 도 3B 등에, 브러시형의 청소 부품(21)을 스테이지면(17)의 상면에 접촉시키면서 수평 방향으로 이동시켜 이물질을 제거하는 구조가 기재되어 있다.
또한, 이물질의 청소를 기계적으로 행하는 장치의 다른 선행 기술이, 예를 들면, 특허 문헌 2(일본특허 제4031625호 공보)에 개시되어 있다. 특허 문헌 2의 전자 부품 실장(實裝) 장치에서는, 도 3, 도 4 등에, 백업(backup)면의 상면의 이물질을 브러시(10)에 의해 제거하는 구조가 기재되어 있다.
또한, 이물질의 청소를 기계적으로 행하는 장치의 다른 선행 기술이, 예를 들면, 특허 문헌 3(일본특허 제3757215호 공보)에 개시되어 있다. 특허 문헌 3의 제진 장치에서는, 도 5 등에, 제1 스크레이퍼(scraper)(30)의 톱니(31)에 끼인티끌을, 제2 스크레이퍼(40)의 스크레이핑부(41)에 의해 긁어내는 것이 기재되어 있다.
또한, 이물질의 청소를 기계적으로 행하는 장치의 다른 선행 기술이, 예를 들면, 특허 문헌 4(일본공개특허 제2014-46502호 공보)에 개시되어 있다. 특허 문헌 4의 액체 분사 장치에서는, 도 5, 도 6 등에, 특히 액체 분사 헤드(10)의 액체 분사면(12)에 청소 부재(40)를 접촉시키면서 수평 이동시켜 이물질을 제거하는 것이 기재되어 있다.
특허 문헌 1 : 일본특허 제4773209호 공보(도 6A, 도 6B, 도 3A, 도 3B) 특허 문헌 2 : 일본특허 제4031625호 공보(도 3, 도 4) 특허 문헌 3 : 일본특허 제3757215호 공보(도 5) 특허 문헌 4 : 일본공개특허 제2014-46502호 공보(도 5, 도 6)
종래 기술의 클리닝 헤드에서는, 이물질이 부착된다는 사상(事象)이나 그에 따른 문제는 좀처럼 일어나지 않기 때문에, 이들 문제에 대해서는 고려되지 않았다. 따라서, 클리닝 헤드에 부착된 이물질을 기계적으로 청소 제거하는 점에 대해서도 주목되지 않았다.
특허 문헌 1∼4에 기재된 장치도, 접촉에 의해 이물질을 청소 제거하는 것이지만, 클리닝 헤드의 에어 흡인구 및 그 주위의 이물질을 제거하는 장치에 대해서는 개시되지 않았다.
본 발명은, 상기한 바와 같이 새롭게 주목된 문제점을 해결하기 위해 이루어진 것이며, 그 목적은, 헤드 본체의 에어 흡인구 및 그 주위의 이물질을 간단하고 또한 신속하게 제거하는 청소 기능을 가지고, 기판 품질의 향상과 함께 제조 비용의 저감을 실현하는 클리닝 헤드, 및 청소 방법을 제공하는 것에 있다.
상기 문제점을 해결하기 위해, 제1항에 기재한 발명은, 긴 구멍의 에어 흡인구가 길이 방향으로 형성된 헤드 본체와, 상기 헤드 본체의 에어 흡인구 및 그 주위를 청소하는 청소 장치를 탑재하는 클리닝 헤드로서, 상기 청소 장치는, 상기 헤드 본체에 장착되는 유도 지지부와, 상기 유도 지지부에 의해 유도 지지되고, 상기 에어 흡인구의 길이 방향과 상대적으로 또한 대략 평행하게 이동하는 이동부와, 상기 이동부와 함께 이동하고, 상기 에어 흡인구 및 그 주위의 이물질을 접촉 제거하는 이물질 제거부를 포함하는 것을 특징으로 하는 클리닝 헤드이다.
또한, 제2항에 기재한 발명은, 제1항에 기재된 클리닝 헤드에 있어서, 상기 이물질 제거부는, 상기 에어 흡인구가 형성되는 바닥면과 대략 평행한 봉형(棒形) 또는 직사각형의 장척체(長尺體)이며, 상기 에어 흡인구 및 그 주위에 대하여 상기 장척체가 접촉하여 청소하는 것을 특징으로 하는 클리닝 헤드이다.
또한, 제3항에 기재한 발명은, 제1항에 기재된 클리닝 헤드에 있어서, 상기 이물질 제거부는, 상기 에어 흡인구가 형성되는 바닥면과 대략 평행한 회전축으로 지지되는 롤러이며, 상기 에어 흡인구 및 그 주위에 대하여 상기 롤러가 회전하면서 접촉하여 청소하는 것을 특징으로 하는 클리닝 헤드이다.
또한, 제4항에 기재한 발명은, 제3항에 기재된 클리닝 헤드에 있어서, 상기 롤러는, 대전(帶電) 방지용 정전(靜電) 롤러인 것을 특징으로 하는 클리닝 헤드이다.
또한, 제5항에 기재한 발명은, 제1항에 기재된 상기 청소 장치를 사용하여 청소하는 방법으로서, 상기 에어 흡인구로부터의 흡인을 정지한 상태에서 청소를 행하는 것을 특징으로 하는 청소 방법이다.
또한, 제6항에 기재한 발명은, 제5항에 기재된 청소 방법에 있어서, 상기 클리닝 헤드의 에어 분출구로부터 세정 에어를 분출하는 상태에서 청소를 행하는 것을 특징으로 하는 청소 방법이다.
또한, 제7항에 기재한 발명은, 제1항에 기재된 상기 청소 장치를 사용하여 청소하는 방법으로서, 상기 에어 흡인구 및 그 주위를 감시하는 이물질 센서를 배치하고, 상기 이물질 센서로부터의 검출 신호에 기초하여, 이물질이 있다고 판단했을 때 청소를 행하는 것을 특징으로 하는 청소 방법이다.
또한, 제8항에 기재한 발명은, 제1항에 기재된 상기 청소 장치를 사용하여 청소하는 방법으로서, 상기 클리닝 헤드의 바로 아래에서 셔터를 가지도록 반송 스테이지를 배치하고, 청소 시에 상기 셔터를 개방한 상태로 하고, 제거한 이물질을, 상기 셔터를 통하여 상기 반송 스테이지 아래로 떨어뜨리는 것을 특징으로 하는 청소 방법이다.
본 발명에 의하면, 헤드 본체의 에어 흡인구 및 그 주위의 이물질을 간단하고 또한 신속하게 제거하는 청소 기능을 가지고, 기판 품질의 향상과 함께 제조 비용의 저감을 실현하는 클리닝 헤드, 및 청소 방법을 제공할 수 있다.
도 1은, 본 발명을 실시하기 위한 제1 형태의 클리닝 헤드의 설명도이며, 도 1의 (a)는 측면도, 도 1의 (b)는 정면도이다.
도 2는, 본 발명을 실시하기 위한 제2 형태의 클리닝 헤드의 설명도이며, 도 2의 (a)는 측면도, 도 2의 (b)는 정면도이다.
도 3은, 본 발명을 실시하기 위한 제1 형태의 클리닝 헤드의 사용예의 설명도이며, 도 3의 (a)는 청소 전의 상태의 클리닝 헤드의 측면도, 도 3의 (b)는 청소 전의 상태의 클리닝 헤드의 정면도, 도 3의 (c)는 청소 도중의 상태의 클리닝 헤드의 측면도, 도 3의 (d)는 청소 도중의 상태의 클리닝 헤드의 정면도이다.
도 4는, 본 발명을 실시하기 위한 제2 형태의 클리닝 헤드의 사용예의 설명도이다.
도 5는, 본 발명을 실시하기 위한 제1 형태의 클리닝 헤드의 다른 사용예의 설명도이며, 도 5의 (a)는 측면도, 도 5의 (b)는 정면도이다.
도 6은, 본 발명을 실시하기 위한 제2 형태의 클리닝 헤드의 다른 사용예의 설명도이며, 도 6의 (a)는 측면도, 도 6의 (b)는 정면도이다.
이하, 본 발명을 실시하기 위한 제1 형태의 클리닝 헤드(100)에 대하여 도면을 참조하면서 설명한다. 상기 클리닝 헤드(100)는, 도 1에 나타낸 바와 같이, 헤드 본체(10), 청소 장치(20)를 구비하고 있다.
헤드 본체(10)는, 또한 에어 분사구(11), 에어 흡인구(12), 급기(給氣) 부(13), 배기부(14)를 더 포함한다. 헤드 본체(10)의 형상은, 6면에 의해 형성되는 직육면체를 예시하고 있다. 바닥면에는, 도시하지 않지만, 평행한 2선의 직선형의 긴 구멍인 에어 분사구(11) 및 에어 흡인구(12)가, 헤드 본체(10)의 길이 방향[도 1의 (b)의 좌우 방향]으로 길게 되도록 형성되어 있다. 급기부(13)로부터 공급된 세정 에어는, 에어 분사구(11)로부터 분사된다. 그리고, 에어 흡인구(12)로 흡인된 먼지는 배기부(14)로부터 배출된다.
청소 장치(20)는, 유도 지지부(21), 이동부(22), 이물질 제거부(23)를 더 포함하고 있다.
유도 지지부(21)는, 도 1의 (b)에 나타낸 바와 같이, 헤드 본체(10)의 정면에 형성되고, 예를 들면, 헤드 본체(10)의 길이 방향[도 1의 (b)의 좌우 방향]으로 긴 레일이다. 그리고, 유도 지지부(21)는, 도 1에서는 헤드 본체(10)의 정면의 중단 높이에 장착되어 있지만, 헤드 본체(10)의 바닥면에 가까워지도록 정면의 하단의 높이에 장착해도 된다.
이동부(22)는, 그 한쪽 단부에서 유도 지지부(21)를 따라 슬라이딩하면서 이동하게 되어 있다. 또한, 상기 이동부(22)의 다른 쪽 단부에 이물질 제거부(23)가 장착되어 있다. 이물질 제거부(23)와 이동부(22)가 일체로 되어, 유도 지지부(21)를 따라 길이 방향[도 1의 (b)의 좌우 방향]으로 이동한다.
이물질 제거부(23)는, 상세하게는, 긴 구멍의 에어 분사구(11)나 에어 흡인구(12)의 길이 방향에 대하여 대략 수직 방향이며, 또한 에어 분사구(11)나 에어 흡인구(12)가 형성되는 헤드 본체(10)의 바닥면과 대략 평행 방향으로 길어지는 봉형 또는 직사각형의 장척체이다. 이 장척체에서는 적어도 헤드 본체(10)의 바닥면과 맞닿는 변 또는 면은 평행하다. 그리고, 도 1에서는 헤드 본체(10)의 바닥면과 이물질 제거부(23) 사이에 육안으로 확인할 수 있는 갭이 존재하고 있지만, 이것은 도면을 보기 쉽게 하기 위함이며, 실제는 접촉된 상태로 되어 있다.
상기 이물질 제거부(23)는, 에어 흡인구(12)를 손상시키지 않는 정도로 탄성이 있지만 비교적 경질의 부재에 의해 형성되어 있다. 이물질 제거부(23)는, 헤드 본체(10)의 에어 흡인구(12) 및 그 주위에 적절한 힘으로 가압하기 위해, 경질인 것이 바람직하다.
이물질 제거부(23)는, 봉형 또는 직사각형의 장척체에 의한 탄성 지지의 효과에 의하여, 에어 흡인구(12) 및 그 주위에 선 접촉 또는 면 접촉하면서 이동하고, 에어 흡인구(12) 및 그 주위의 이물질을 긁어내게 된다. 그리고, 에어 분사구(11)는 대부분의 이물질을 날려 버리기 때문에 이물질이 고착될 우려는 극히 적지만, 이물질 제거부(23)는 에어 분사구(11)도 청소 가능하며, 상기한 에어 흡인구(12)의 주위에는 에어 분사구(11)도 포함되는 것으로 한다(이하, 본 명세서 중에서는 동일하게 정의함).
이어서, 본 발명의 클리닝 헤드(100)에 의한 청소의 원리에 대하여 설명한다. 클리닝 헤드(100)의 에어 흡인구(12)에 유리의 단편 등의 이물질이 낀 경우나 그 주위에 고착되어 있는 경우, 어떤 부재를 접촉시킴으로써 이물질이 간단하게 떨어지는 것이나, 흡인을 정지함으로써도 이물질이 떨어지는 것이, 경험상 알려져 있다. 이들 방법을 조합시켜 청소를 행한다.
이어서, 본 형태의 클리닝 헤드(100)의 청소 방법에 대하여 설명한다. 헤드 본체(10)의 에어 흡인구(12)에 유리의 단편 등인 이물질이 끼거나, 그 주위에 정전기력에 의해 이물질이 달라붙거나 한 상태로 한다. 먼저, 에어 분사구(11)로부터의 분사 및 에어 흡인구(12)로부터의 흡인을 정지한다. 이로써, 에어 흡인구(12)에 끼어 있는 이물질에 가해지는 흡인력을 없애고, 이물질을 취하기 쉽게 한다. 그리고, 이물질 제거부(23)가 에어 흡인구(12) 및 그 주위에 선 접촉 또는 면 접촉한 상태에서, 작업원이 이동부(22)를 이동시키면, 이물질 제거부(23)도 길이 방향으로 이동하고, 이물질 제거부(23)가 에어 흡인구(12) 및 그 주위의 이물질을 긁어낸다.
이물질 제거부(23)는 에어 흡인구(12) 및 그 주위로의 가압력이 적절해지도록 조정되어 있고, 이물질 제거부(23)가 밀착 접촉하여 이물질을 긁어낸다. 이 때, 흡인을 정지하고 있으므로, 접촉에 의해 이물질은 에어 흡인구(12) 및 그 주위로부터 용이하게 낙하한다.
그리고, 이물질 제거부(23)가 좌우의 한쪽 단부까지 이동한 곳에서 반전시켜 원래의 방향으로 되돌리도록 이동시킨다. 마지막으로, 이물질 제거부(23)를, 그 처음에 있었던 대기 위치에서 정지시킨다. 이 청소는, 제진하고 있지 않은 아이들 타임 등에서 정기적으로 행해지거나, 이물질 발견 시에 행해진다. 이와 같은 본 형태의 클리닝 헤드(100)에 의하면, 용이하게 에어 흡인구 및 그 주위를 청소할 수 있다.
이어서, 본 발명을 실시하기 위한 제2 형태의 클리닝 헤드(200)에 대하여 도면을 참조하면서 설명한다. 상기 클리닝 헤드(200)는, 도 2에서 나타낸 바와 같이, 헤드 본체(10), 청소 장치(30)를 포함하고 있다.
앞서 도 1을 사용하여 설명한 제1 형태와 비교하면, 제2 형태에서는, 헤드 본체(10)는 앞서 설명한 제1 형태의 구성과 동일하지만, 청소 장치(30)는, 그 구성이 상이하다. 상기 청소 장치(30)는, 유도 지지부(21), 이동부(22), 이물질 제거부(24)를 더 포함한다. 본 형태에서는 이물질 제거부(24)만이 상이하다.
그래서, 헤드 본체(10)나, 청소 장치(30)의 유도 지지부(21)와 이동부(22)에 대해서는, 동일한 부호를 붙이고, 또한 중복되는 설명을 생략하고, 상이한 청소 장치(30)의 이물질 제거부(24)만 설명한다. 그리고, 도 2에서는 헤드 본체(10)의 바닥면과 이물질 제거부(24) 사이에 육안으로 확인할 수 있는 갭이 존재하고 있지만, 이것은 도면을 보기 쉽게 하기 위함이며, 실제는 접촉된 상태로 되어 있다.
청소 장치(30)의 이물질 제거부(24)는, 상세하게는, 에어 분사구(11)나 에어 흡인구(12)의 길이 방향에 대하여 대략 수직 방향이며, 또한 에어 분사구(11)나 에어 흡인구(12)가 형성되는 헤드 본체(10)의 바닥면과 대략 평행 방향으로 길어지는 회전축으로 지지되어 회전하는 롤러이다. 이 롤러는, 예를 들면, 외형이 원기둥형인 브러시, 고무, 스펀지나, 통체의 표면에 천을 감은 것 등이다. 이들과 같은 롤러를 사용함으로써, 에어 흡인구(12) 및 그 주위의 이물질을 긁어내게 된다.
그리고, 상기 롤러는, 바람직하게는 대전 방지용 정전 롤러이다. 정전 롤러를 사용함으로써, 바닥면의 정전기를 제전(除電)하여 정전기력을 약하게 한 다음, 정전기력에 의해 달라붙은 이물질을 긁어내면서 청소한다.
이물질 제거부(24)에 의한 청소에서는, 이동부(22)의 이동과 함께, 에어 흡인구(12) 및 그 주위에 대하여 롤러인 이물질 제거부(24)가 회전하면서 적당한 가압력으로 슬라이딩 접촉시킴으로써, 에어 흡인구(12) 및 그 주위의 이물질을 긁어내게 된다.
이어서, 본 형태의 클리닝 헤드(200)의 청소 방법에 대하여 설명한다. 헤드 본체(10)의 에어 흡인구(12)에 유리의 단편 등인 이물질이 끼거나, 그 주위에 정전기력에 의해 이물질이 달라붙거나 한 상태로 한다. 먼저, 에어 분사구(11)로부터의 분사 및 에어 흡인구(12)로부터의 흡인을 정지한다. 그리고, 이물질 제거부(24)가 에어 흡인구(12) 및 그 주위에 접촉한 상태에서, 작업원이 이동부(22)를 이동시키면, 이물질 제거부(24)도 길이 방향으로 이동하고, 이물질 제거부(24)가 에어 흡인구(12) 및 그 주위의 이물질을 긁어낸다.
이물질 제거부(24)는 에어 흡인구(12) 및 그 주위로의 가압력이 적절해지도록 조정되어 있고, 이물질 제거부(24)가 회전 접촉하여 이물질을 긁어낸다. 이 때, 흡인을 정지하고 있으므로, 이물질은 에어 흡인구(12) 및 그 주위로부터 용이하게 낙하한다.
그리고, 이물질 제거부(24)가 좌우의 한쪽 단부까지 이동한 곳에서 반전시켜 원래의 방향으로 되돌리도록 이동시킨다. 마지막으로, 이물질 제거부(24)를, 그 처음에 있었던 대기 위치에서 정지시킨다. 이 청소는, 제진하고 있지 않은 아이들 타임 등에서 정기적으로 행해지거나, 이물질 발견 시에 행해진다. 이와 같은 본 형태의 클리닝 헤드(200)에 의하면, 용이하게 에어 흡인구 및 그 주위를 청소할 수 있다.
그리고, 클리닝 헤드에서는, 제1 형태의 이물질 제거부(23)나 제2 형태의 이물질 제거부(24) 중 어느 한쪽을 사용하는 것으로서 설명하였으나, 이 외에도, 동일한 클리닝 헤드에 대하여, 상황에 따라서 장척체인 이물질 제거부(23)를 장착하여 제1 형태의 클리닝 헤드(100)로 하거나, 롤러인 이물질 제거부(24)를 장착하여 제2 형태의 클리닝 헤드(200)로 하여, 적절히 구분하여 사용해도 된다.
또한, 제1 형태 및 제2 형태의 클리닝 헤드(100, 200)에서는, 함께 에어 분사구(11)로부터의 분사 및 에어 흡인구(12)로부터의 흡인을 정지하여 청소하는 것로 하였으나, 에어 흡인구(12)로부터의 흡인을 정지하면서 에어 분사구(11)로부터 분사시킨 상태에서 청소해도 된다. 이 경우, 닦아낸 이물질을 날려버리게 된다. 또한, 에어 분사구(11)로부터의 분사를 정지하면서 에어 흡인구(12)로부터 흡인한 상태에서 청소해도 된다. 이 경우, 닦아낸 이물질을 흡인하게 된다. 사정에 따라, 적절히 채용할 수 있다.
이어서, 청소 방법의 다른 형태에 대하여 설명한다. 본 형태는 앞서 도 1을 이용하여 설명한 제1 형태의 클리닝 헤드(100)의 청소 방법을 개량하는 청소 방법이다. 도시하지 않지만, 클리닝 헤드(100)의 에어 흡인구(12) 및 그 주위를 감시하는 이물질 센서를 포함하도록 하였다.
예를 들면, 이물질 센서는 카메라이며, 이물질이 없는 에어 흡인구 및 그 주위의 화상과, 촬상(撮像)한 에어 흡인구 및 그 주위의 화상을 비교하여, 화상의 변화에 따라 이물질이 부착되어 있다고 작업원이 판정했을 때, 작업원이 청소를 개시한다. 또한, 이동부(22)를 구동 제어하는 제어부를 포함하고, 이물질 센서의 검출 신호에 기초하여 청소를 개시하도록 제어부가 이동부(22)를 구동 제어해도 된다. 또한, 제어부에 출력부를 접속해 놓고, 청소가 필요하다고 판단된 것을 음성이나 표시에 의해 작업원에게 통지하도록 해도 된다. 그리고, 이 청소 방법을 앞서 도 2를 이용하여 설명한 제2 형태의 클리닝 헤드(200)를 사용하는 제2 청소 방법에 적용해도 된다. 이들과 같은 청소 방법으로 할 수 있다.
이어서, 청소 방법의 다른 형태에 대하여 설명한다. 본 형태는 앞서 설명한 제1 형태의 클리닝 헤드(100)를 사용하는 청소 방법을 더 개량하는 형태이다. 이 청소 방법에 대하여 도 3을 참조하면서 설명한다. 도 3의 (a), 도 3의 (b)에 나타낸 바와 같이, 클리닝 헤드(100)의 하측에, 반송 스테이지(300)에 의해 기판이 반송되도록 되어 있다.
반송 스테이지(300)는, 상류측[도 3의 (a)에서는 우측]으로부터 기판을 순서대로 반송한다. 그리고, 클리닝 헤드(100)의 아래를 통과할 때 클리닝 헤드(100)가 제진을 행한다.
클리닝 헤드(100)의 바로 아래에는 셔터(301)가 배치되어 있다. 통상의 기판 반송 시에서는, 도 3의 (a)에서 나타낸 바와 같이 셔터(301)는 폐쇄되어 있고, 도 3의 (b)에서 나타낸 바와 같이 청소 장치(20)의 이동부(22)는 정지하고 있다.
청소 시에는, 에어 분사구(11)로부터의 분사 및 에어 흡인구(12)로부터의 흡인을 정지하고, 도 3의 (c)에서 나타낸 바와 같이 셔터(301)를 개방한 상태로 한다. 그리고, 도 3의 (d)에서 나타낸 바와 같이, 청소 장치(20)의 이동부(22)가 동작하여 제거한 이물질을, 셔터(301)를 통하여 반송 스테이지(300)의 아래로 떨어뜨린다. 이로써, 이물질의 제거를 행한다. 그리고, 이 청소 방법에서는 상기한 이물질 센서를 사용하는 청소 방법을 합하여 적용해도 된다.
또한, 도 4에서 나타낸 바와 같이, 앞서 설명한 제2 형태의 클리닝 헤드(200)를 사용하는 청소 방법에 대하여, 상기 셔터(301)를 사용하는 청소 방법을 적용해도 된다. 또한, 이 청소 방법에서도 상기한 이물질 센서를 사용하는 청소 방법을 합하여 적용해도 된다.
이어서, 다른 형태에 대하여 설명한다. 본 형태는, 도 5의 (a), 도 5의 (b)에서 나타낸 바와 같이, 앞서 설명한 제1 형태의 클리닝 헤드(100)를 상측에, 또한, 대향 클리닝 헤드(400)를 하측에 배치한 형태이다. 이 경우, 클리닝 헤드(100)와 대향 클리닝 헤드(400) 사이는 좁은 공간이지만, 클리닝 헤드(100)의 이물질 제거부(23)가 이 공간 내에 배치되어, 에어 흡인구(12)를 청소할 수 있다. 이 경우, 클리닝 헤드(100)와 대향 클리닝 헤드(400)가 함께 흡인함으로써, 긁어낸 이물질을 상하로부터의 흡인에 의해 청소 제거할 수 있다. 이와 같은 기판 양면의 제진용 클리닝 헤드에도 적용할 수 있다.
이어서, 다른 형태에 대하여 설명한다. 본 형태는, 도 6의 (a), 도 6의 (b)에서 나타낸 바와 같이, 앞서 설명한 제2 형태의 클리닝 헤드(200)를 상측에, 또한, 대향 클리닝 헤드(400)를 하측에 배치한 형태이다. 이 경우도, 클리닝 헤드(200)와 대향 클리닝 헤드(400) 사이는 좁은 공간이지만, 클리닝 헤드(200)의 이물질 제거부(24)가 이 공간 내에 배치되어, 에어 흡인구(12)를 청소할 수 있다. 이 경우, 클리닝 헤드(200)와 대향 클리닝 헤드(400)가 함께 흡인함으로써, 긁어낸 이물질을 상하로부터의 흡인에 의해 청소 제거할 수 있다. 이와 같은 기판 양면의 제진용 클리닝 헤드에도 적용할 수 있다.
이상, 본 발명의 클리닝 헤드 및 청소 방법에 대하여 도면을 참조하면서 설명하였다. 그리고, 앞서 설명한 클리닝 헤드는 에어 분사구 및 에어 흡인구가 하나인 PV형 클리닝 헤드를 상정하여 설명하였으나, 하나의 에어 분사구가 2개의 에어 흡인구 사이에 배치되는 VPV형 클리닝 헤드나 하나의 에어 흡인구가 2개의 에어 분사구 사이에 배치되는 PVP형의 클리닝 헤드이어도 된다. 이와 같은 경우라도 본 발명의 실시는 가능하다.
또한, 앞서 설명한 클리닝 헤드는, 도 1의 (b)나 도 2의 (b)에서 나타낸 바와 같이, 정면 측에 청소 장치(20)의 유도 지지부(21)를 배치하였으나, 정면 측이 아니라 배면측(도시하지 않음)에 유도 지지부(21)를 배치해도 된다. 이와 같은 경우라도 본 발명의 실시는 가능하다.
이상, 설명한 이들 클리닝 헤드 및 청소 방법에 의하면, 헤드 본체의 에어 흡인구 및 그 주위의 이물질을 간단하고 또한 신속하게 제거하는 청소 기능을 가지고, 그 결과로서 기판 품질의 향상과 함께 제조 비용의 저감을 실현한다.
본 발명의 클리닝 헤드 및 청소 방법은, 전기·전자 제품에 사용되는 각종 기판의 제조에 적용할 수 있다.
100, 200 : 클리닝 헤드
10 : 헤드 본체
11 : 에어 분출구
12 : 에어 흡인구
13 : 급기부
14 : 배기부
20, 30 : 청소 장치
21 : 유도 지지부
22 : 이동부
23 : 이물질 제거부(장척체)
24 : 이물질 제거부(롤러)
300 : 반송 스테이지
301 : 셔터
400 : 대향 클리닝 헤드

Claims (8)

  1. 긴 구멍의 에어 흡인구가 길이 방향으로 형성된 헤드 본체와, 상기 헤드 본체의 에어 흡인구 및 그 주위를 청소하는 청소 장치를 탑재하는 클리닝 헤드로서,
    상기 청소 장치는,
    상기 헤드 본체에 장착되는 유도 지지부;
    상기 유도 지지부에 의해 유도 지지되고, 상기 에어 흡인구의 길이 방향과 상대적으로 또한 평행하게 이동하는 이동부; 및
    상기 이동부와 함께 이동하고, 상기 에어 흡인구 및 그 주위의 이물질을 접촉 제거하는 이물질 제거부를 포함하는,
    클리닝 헤드.
  2. 제1항에 있어서,
    상기 이물질 제거부는, 상기 에어 흡인구가 형성되는 바닥면과 평행한 봉형(棒形) 또는 직사각형의 장척(長尺)체이며, 상기 에어 흡인구 및 그 주위에 대하여 상기 장척체가 접촉하여 청소하는, 클리닝 헤드.
  3. 제1항에 있어서,
    상기 이물질 제거부는, 상기 에어 흡인구가 형성되는 바닥면과 평행한 회전축으로 지지되는 롤러이며, 상기 에어 흡인구 및 그 주위에 대하여 상기 롤러가 회전하면서 접촉하여 청소하는, 클리닝 헤드.
  4. 제3항에 있어서,
    상기 롤러가 대전 방지용 정전 롤러인, 클리닝 헤드.
  5. 제1항에 기재된 상기 청소 장치를 사용하여 청소하는 청소 방법으로서,
    상기 에어 흡인구로부터의 흡인을 정지한 상태에서 청소를 행하는, 청소 방법.
  6. 제5항에 있어서,
    상기 클리닝 헤드의 에어 분출구로부터 세정 에어를 분출하는 상태에서 청소를 행하는, 청소 방법.
  7. 제1항에 기재된 상기 청소 장치를 사용하여 청소하는 청소 방법으로서,
    상기 에어 흡인구 및 그 주위를 감시하는 이물질 센서를 배치하고, 상기 이물질 센서로부터의 검출 신호에 기초하여, 이물질이 있다고 판단했을 때 청소를 행하는, 청소 방법.
  8. 제1항에 기재된 상기 청소 장치를 사용하여 청소하는 청소 방법으로서,
    상기 클리닝 헤드의 바로 아래에서 셔터를 가지도록 반송 스테이지를 배치하고, 청소 시에 상기 셔터를 개방한 상태로 하고, 제거한 이물질을, 상기 셔터를 통하여 상기 반송 스테이지 아래로 떨어뜨리는, 청소 방법.
KR1020160079155A 2015-10-23 2016-06-24 클리닝 헤드 및 청소 방법 KR102608681B1 (ko)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JPJP-P-2015-208587 2015-10-23
JP2015208587A JP6465489B2 (ja) 2015-10-23 2015-10-23 クリーニングヘッドおよび清掃方法

Publications (2)

Publication Number Publication Date
KR20170048136A KR20170048136A (ko) 2017-05-08
KR102608681B1 true KR102608681B1 (ko) 2023-11-30

Family

ID=58615047

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020160079155A KR102608681B1 (ko) 2015-10-23 2016-06-24 클리닝 헤드 및 청소 방법

Country Status (4)

Country Link
JP (1) JP6465489B2 (ko)
KR (1) KR102608681B1 (ko)
CN (1) CN106607396A (ko)
TW (1) TW201714676A (ko)

Families Citing this family (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN107199188B (zh) 2017-06-12 2020-03-27 京东方科技集团股份有限公司 涂布机、涂布系统及涂布机清洁方法
CN108543671A (zh) * 2018-04-23 2018-09-18 深圳市华星光电技术有限公司 一种清洁装置、涂布机
CN111299245A (zh) * 2018-12-11 2020-06-19 韶阳科技股份有限公司 气体循环装置
CN110572740B (zh) * 2019-10-30 2020-08-14 深圳市科奈信科技有限公司 一种耳机收纳装置
CN112657946A (zh) * 2020-12-02 2021-04-16 深圳市华星光电半导体显示技术有限公司 清洁装置及曝光机

Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2000024607A (ja) 1998-07-09 2000-01-25 Hitachi Ltd 異物除去方法

Family Cites Families (13)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2982092B2 (ja) * 1991-08-29 1999-11-22 富士写真フイルム株式会社 コーターエッジの洗浄方法及び洗浄装置
JP4031625B2 (ja) 2001-07-02 2008-01-09 芝浦メカトロニクス株式会社 電子部品実装装置および電子部品実装方法
JP2004066164A (ja) * 2002-08-08 2004-03-04 Dainippon Printing Co Ltd 塗工ヘッドのクリーニング装置及びクリーニング方法
JP3757215B2 (ja) 2003-04-18 2006-03-22 間機設工業株式会社 除塵装置
JP4398262B2 (ja) * 2004-01-08 2010-01-13 大日本スクリーン製造株式会社 基板処理装置
JP4489480B2 (ja) * 2004-03-25 2010-06-23 東京応化工業株式会社 スリットノズル洗浄装置
KR100666347B1 (ko) * 2004-10-15 2007-01-11 세메스 주식회사 슬릿 노즐 클리닝 장치
JP4773209B2 (ja) 2006-01-12 2011-09-14 パナソニック株式会社 部品圧着装置
JP4771419B2 (ja) * 2006-06-21 2011-09-14 ヒューグルエレクトロニクス株式会社 クリーニングヘッド
CN201008870Y (zh) * 2007-03-05 2008-01-23 咸阳华清设备科技有限公司 平板显示器屏除尘装置
CN101653770B (zh) * 2009-09-02 2012-05-23 友达光电股份有限公司 可清洁水刀或风刀出口的光学工艺设备
JP6056275B2 (ja) 2012-08-30 2017-01-11 セイコーエプソン株式会社 液体噴射ヘッドのメンテナンス方法及び液体噴射装置
TW201420219A (zh) * 2012-11-16 2014-06-01 Nitto Ind Co Ltd 除塵裝置

Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2000024607A (ja) 1998-07-09 2000-01-25 Hitachi Ltd 異物除去方法

Also Published As

Publication number Publication date
JP2017084858A (ja) 2017-05-18
TW201714676A (zh) 2017-05-01
JP6465489B2 (ja) 2019-02-06
CN106607396A (zh) 2017-05-03
KR20170048136A (ko) 2017-05-08

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR102608681B1 (ko) 클리닝 헤드 및 청소 방법
KR100890503B1 (ko) 예비 토출장치
JP2004074021A (ja) 基板処理装置及び基板洗浄ユニット
TW201524788A (zh) 記錄裝置及輸送帶之洗淨方法
WO2017215519A1 (zh) 清洁装置及清洁方法
JP2014184994A5 (ko)
KR20070108818A (ko) 패널 세정기 및 세정 방법
JP2005178382A (ja) ローラ、胴、および印刷版の清掃装置
JP5303335B2 (ja) 搬送ベルトのクリーニング機構及びそれを備えたインクジェット記録装置
JP2009185347A (ja) 鋼板洗浄装置
JP4808147B2 (ja) 塗布用ダイの清掃装置
KR101791197B1 (ko) 건식 세정 장치
US7077260B2 (en) Device for cleaning corrugator belts
JP2001054765A (ja) 基板洗浄装置
KR20100117290A (ko) 기판 세정 장치
KR101677548B1 (ko) 코팅롤 표면 청소장치
KR20110045961A (ko) 회로기판의 이물 제거 장치
JP6574555B2 (ja) 横方向除塵装置
KR20150072216A (ko) 글라스 기판 접촉식 세정유닛 및 그 세정유닛이 구비된 세정장치
JP2008140928A (ja) 洗浄装置
JP3131258U (ja) 基板清掃装置
US20160193841A1 (en) Inkjet printing apparatus
TW201535559A (zh) 基板處理裝置
KR102351696B1 (ko) 기판세정장치
KR20130131924A (ko) 디스플레이 기판 세정장치

Legal Events

Date Code Title Description
A201 Request for examination
E902 Notification of reason for refusal
E701 Decision to grant or registration of patent right
GRNT Written decision to grant