JP3131258U - 基板清掃装置 - Google Patents

Abstract

【課題】塵埃除去ローラーなどの部品の交換を伴うことなく、基板の表面上の塵埃を確実に除去することができる基板清掃装置を提供する。
【解決手段】清掃ボックス１１０の内部にはブラシユニット１３０と間欠イオン化空気噴射ユニット１４０が配置されている。清掃ボックス１１０の内部に搬入された基板１１３の表面はブラシユニット１３０によりブラシ掛けされ、さらに、間欠イオン化空気噴射ユニット１４０によりイオン化空気が噴射される。基板１１３の表面から吹き飛ばされた塵埃は、ファンが形成する清掃ボックス１１０内の空気流に乗って、第二フィルター１６０に捕獲される。
【選択図】図３

Description

本考案は、基板の表面に付着した異物を除去する基板清掃装置に関する。

表面上に各種配線が形成されているプリント基板の表面に塵埃が付着すると、配線間の短絡及び部品実装時の導通不良の原因となることがある。

このため、プリント基板の表面からは塵埃をできる限り除去することが必要である。

従来は、例えば粘着テープを表面に貼り付けたローラーを基板の表面に接触させ、ローラーを基板の表面上において回転させることにより、基板の表面に付着している塵埃を除去することが行われていた。

しかしながら、上記のようなローラーは繰り返して使用されると、ローラーの表面に貼り付けられている粘着テープの粘着性能が低下し、ローラーを頻繁に交換することを必要とする。また、粘着テープに付着した塵埃が別の箇所に付着してしまう等の問題がある。

更に、プリント基板に穿孔された孔に入り込んだ塵埃は粘着テープでは除去しにくいという問題がある。

本考案は以上のような問題点に鑑みてなされたものであり、上記のようなローラーなどの部品の交換を伴うことなく、基板の表面上の塵埃を確実に除去することができる基板清掃装置を提供することを目的とする。

以下に、「考案の実施の形態」において使用される参照符号を用いて、上述の課題を解決するための手段を説明する。これらの参照符号は、「実用新案登録請求の範囲」の記載と「考案の実施の形態」の記載との間の対応関係を明らかにするためにのみ付加されたものであり、「実用新案登録請求の範囲」に記載されている考案の技術的範囲の解釈に用いるべきものではない。

上記の目的を達成するため、本考案は、基板（１１３、１２１）の表面に付着した異物を除去する基板清掃装置（１００）であって、横向きまたは縦向きに配列された基板（１１３、１２１）を導入する基板入り口（１１２）が形成された第一の側面（１１１）と、前記第一の側面（１１１）と対向し、かつ、基板出口（１１５）が形成された第二の側面（１１４）と、第一開口部（１１７）が形成された上面（１１６）と、第二開口部（１１９）が形成された底面（１１８）とを有する清掃ボックス（１１０）と、前記基板（１１３、１２１）を前記基板入り口（１１２）から前記基板出口（１１５）まで搬送する基板搬送ユニットと、前記清掃ボックス（１１０）内に配置され、前記基板（１１３、１２１）の表面及び裏面の少なくとも一方に対してブラシ掛けをする少なくとも一つのブラシユニット（１３０）と、前記基板（１１３、１２１）の進行方向において前記ブラシユニット（１３０）の下流側に配置され、前記基板（１１３、１２１）の表面及び裏面の少なくとも一方に対して間欠的にイオン化空気を噴射する少なくとも一つの間欠イオン化空気噴射ユニット（１４０）と、前記第一開口部（１１７）を覆う第一フィルター（１５０）と、前記第二開口部（１１９）を覆う第二フィルター（１６０）と、前記第二フィルター（１６０）を介して前記清掃ボックス（１１０）から排出された空気を吸引し、前記第一フィルター（１５０）を介して前記清掃ボックス（１１０）の内部に送風するファン（１７０）と、前記ファン（１７０）と前記第一フィルター（１５０）とを気密状態において連結する気密通路（１８０）と、からなる基板清掃装置（１００）を提供する。

本考案に係る基板清掃装置によれば、基板の表面に付着した塵埃はブラシユニットにより払い落とされ、さらに、ブラシユニットにより払い落とされなかった塵埃は間欠イオン化空気噴射ユニットが間欠的に噴射するイオン化空気により吹き飛ばされ、清掃ボックスの内部において浮遊する。浮遊した塵埃はファンが作り出す空気流に乗って運ばれ、第二フィルターに捕獲される。第二フィルターに捕獲されなかった塵埃も第一フィルターに捕獲される。

このように、本考案に係る基板清掃装置は、特に、従来の基板清掃装置とは異なり、基板表面に付着した塵埃の他に、基板に穿孔された孔に入り込んだ塵埃をも確実に除去することができ、同時に静電気をも除去することができるため、その後の塵埃再付着も防止することができ、塵埃除去ローラーなどの部品の交換を頻繁に行うことなく、定期的にフィルターを清掃するだけで基板の表面に付着した塵埃を除去することが可能である。

図１は本考案の一実施形態に係る基板清掃装置１００の上面図であり、図２は基板清掃装置１００の背面図であり、図３は基板清掃装置１００の側面図である。

本実施形態に係る基板清掃装置１００は、清掃ボックス１１０と、基板搬送ユニットと、ブラシユニット１３０と、間欠イオン化空気噴射ユニット１４０と、第一フィルター１５０と、第二フィルター１６０と、ファン１７０と、気密通路１８０と、を備えている。

図１乃至図３に示すように、清掃ボックス１１０は直方体の形状をなしている。

清掃ボックス１１０の第一の側面１１１には基板入り口１１２が形成されている。横向きに、すなわち、水平方向に並列に配置された複数の基板１１３は基板入り口１１２を介して清掃ボックス１１０の内部に搬入される。

第一の側面１１１と対向する清掃ボックス１１０の第二の側面１１４には基板出口１１５が形成されている。

清掃ボックス１１０の内部には、基板入り口１１２と基板出口１１５との間において、基板搬送ユニット（図示せず）が形成されており、基板入り口１１２を介して清掃ボックス１１０の内部に搬入された基板１１３は基板搬送ユニットにより基板出口１１５に搬送される。

基板搬送ユニットは、例えば、水平方向に並列に配置された複数のローラーと、これらのローラーを駆動するモーターと、からなり、基板１１３はこれらのローラー上を、あるいは、表面と裏面とを上下のローラーに挟まれた状態で、搬送される。

清掃ボックス１１０の上面１１６には第一開口部１１７が形成されており、この第一開口部１１７を覆って清掃ボックス１１０の外側には第一フィルター１５０が配置されている。

清掃ボックス１１０の底面１１８には第二開口部１１９が形成されており、この第二開口部１１９を覆って清掃ボックス１１０の外側には第二フィルター１６０が配置されている。

清掃ボックス１１０内には、基板搬送ユニットにより基板１１３が搬送される搬送経路上にブラシユニット１３０が配置されている。

ブラシユニット１３０は、水平方向に延びる回転軸を有し、回転軸の回りに回転可能なブラシを備えており、基板入り口１１２から清掃ボックス１１０の内部に搬入されてきた基板１１３の表面に対して上方からブラシ掛けを行い、基板１１３の表面に付着している塵埃を払い落とす。

基板搬送ユニットにより基板１１３が搬送される搬送経路において、ブラシユニット１３０の下流側には、間欠イオン化空気噴射ユニット１４０が配置されている。

図２に示すように、４個の間欠イオン化空気噴射ユニット１４０が水平方向に並列に配置されており、間欠イオン化空気噴射ユニット１４０の各々は基板１１３の表面に対して上方から間欠的にイオン化空気を噴射する（以下、このように間欠的に噴射されるイオン化空気を「間欠イオン化空気」と呼ぶ）。

各間欠イオン化空気噴射ユニット１４０が間欠イオン化空気を噴射するノズルの向きは基板１１３に対して約７５度の角度をなしている。発明者が、各間欠イオン化空気噴射ユニット１４０のノズルの向きが基板１１３に対してなす角度を様々に変えて実験をおこなったところ、６０度乃至９０度の角度のときに最も効率的に基板１１３の表面の塵埃を吹き飛ばすことができた。最も効率的な角度は７５度であった。このため、本実施形態においては、各間欠イオン化空気噴射ユニット１４０のノズルの向きは基板１１３に対して約７５度の角度をなすように配置されている。

ファン１７０は、清掃ボックス１１０の外側であって、清掃ボックス１１０の底面１１８の下方に配置され、清掃ボックス１１０と気密状態の下に連結されている。

ファン１７０は気密通路１８０を介して第一フィルター１５０と気密状態において連結されている。このため、清掃ボックス１１０の外部の空気がファン１７０から排出される空気とともに第一フィルター１５０に送られることはない。

ファン１７０は、第二フィルター１６０を介して清掃ボックス１１０から排出された空気を吸引し、気密通路１８０を介して第一フィルター１５０に送風し、このようにして送風された空気は第一フィルター１５０を介して清掃ボックス１１０の内部に送られる。

以上のような構造を有する本実施形態に係る基板清掃装置１００は次のようにして作動する。

基板入り口１１２を介して清掃ボックス１１０の内部に搬入された基板１１３は基板搬送ユニットにより基板出口１１５の方向に搬送される。

基板１１３は、まず、ブラシユニット１３０によりブラシ掛けされる。これにより、基板１１３の表面に付着している塵埃が基板１１３の表面から払い落とされ、塵埃は空中に浮遊する。

次いで、基板１１３は基板搬送ユニットにより間欠イオン化空気噴射ユニット１４０に向かって搬送される。

間欠イオン化空気噴射ユニット１４０は基板１１３が搬送されてくると、間欠イオン化空気を基板１１３の表面に噴射する。間欠イオン化空気の噴射により、基板１１３の表面になおも付着している微小な塵埃が吹き飛ばされる。

特に、間欠イオン化空気噴射ユニット１４０は間欠イオン化空気を噴射するため、静電気により帯電し静電付着している塵埃をも基板１１３の表面から吹き飛ばすことが可能である。

この後、基板１１３は基板搬送ユニットにより基板出口１１５から清掃ボックス１１０の外部に搬出される。

ファン１７０は、第一フィルター１５０→第二フィルター１６０→気密通路１８０→第一フィルター１５０の方向、すなわち、矢印Ａの方向（図２及び図３参照）に進む空気流を形成している。

このため、ブラシユニット１３０及び間欠イオン化空気噴射ユニット１４０により基板１１３の表面から払い落とされ、あるいは、吹き飛ばされた塵埃はこの空気流に乗る。空気流に乗った塵埃は清掃ボックス１１０の底面１１８の下方に配置された第二フィルター１６０において捕獲される。

また、第二フィルター１６０に捕獲されなかった塵埃もファン１７０により第一フィルター１５０に送られ、第一フィルター１５０において捕獲される。

このように、本実施形態に係る基板清掃装置１００によれば、基板１１３の表面に付着した塵埃はブラシユニット１３０により払い落とされ、さらに、ブラシユニット１３０により払い落とされなかった塵埃は間欠イオン化空気噴射ユニット１４０により吹き飛ばされ、清掃ボックス１１０の内部において浮遊する。浮遊した塵埃はファン１７０が作り出す空気流に乗って運ばれ、第二フィルター１６０に捕獲される。第二フィルター１６０に捕獲されなかった塵埃も第一フィルター１５０に捕獲される。

すなわち、本実施形態に係る基板清掃装置１００は、特に、頻繁に部品の交換を行うことなく、定期的にフィルターを清掃するだけで基板１１３の表面に付着した塵埃を除去することが可能である。

なお、本実施形態に係る基板清掃装置１００は上記の構造に限定されるものではなく、種々の改変が可能である。

例えば、基板１１３は横向きに、すなわち、水平方向を向くように配列されて清掃ボックス１１０の内部に搬入される。図３に示すように、基板１２１を縦向きに、すなわち、鉛直方向を向くように配列し、清掃ボックス１１０の内部に搬入することも可能である。この場合には、ブラシユニット１３０のブラシの向き及び間欠イオン化空気噴射ユニット１４０の間欠イオン化空気の噴射の向きもそれに応じて変更される。

また、本実施形態に係る基板清掃装置１００においては、ブラシユニット１３０は基板１１３の表面をブラシ掛けするように構成されているが、基板１１３の裏面をブラシ掛けするように構成することもでき、あるいは、基板１１３の表面及び裏面の双方をブラシ掛けするように構成することも可能である。

さらに、本実施形態に係る基板清掃装置１００においては、間欠イオン化空気噴射ユニット１４０は基板１１３の表面に間欠イオン化空気を噴射しているが、基板１１３の裏面に間欠イオン化空気を噴射するように構成することもでき、あるいは、基板１１３の表面及び裏面の双方に間欠イオン化空気を噴射るように構成することも可能である。

本考案の一実施形態に係る基板清掃装置の上面図である。 本考案の一実施形態に係る基板清掃装置の背面図である。 本考案の一実施形態に係る基板清掃装置の側面図である。

符号の説明

１００ 本考案の一実施形態に係る基板清掃装置
１１０ 本清掃ボックス
１１１ 第一の側面
１１２ 基板入り口
１１３ 基板
１１４ 第二の側面
１１５ 基板出口
１１６ 上面
１１７ 第一開口部
１１８ 底面
１１９ 第二開口部
１２１ 基板
１３０ ブラシユニット
１４０ 間欠イオン化空気噴射ユニット
１５０ 第一フィルター
１６０ 第 二フィルター
１７０ ファン
１８０ 気密通路

Claims (1)

1. 基板の表面に付着した異物を除去する基板清掃装置であって、
   横向きまたは縦向きに配列された基板を導入する基板入り口が形成された第一の側面と、前記第一の側面と対向し、かつ、基板出口が形成された第二の側面と、第一開口部が形成された上面と、第二開口部が形成された底面とを有する清掃ボックスと、
   前記基板を前記基板入り口から前記基板出口まで搬送する基板搬送ユニットと、
   前記清掃ボックス内に配置され、前記基板の表面及び裏面の少なくとも一方に対してブラシ掛けをする少なくとも一つのブラシユニットと、
   前記基板の進行方向において前記ブラシユニットの下流側に配置され、前記基板の表面及び裏面の少なくとも一方に対して間欠的にイオン化空気を噴射する少なくとも一つの間欠イオン化空気噴射ユニットと、
   前記第一開口部を覆う第一フィルターと、
   前記第二開口部を覆う第二フィルターと、
   前記第二フィルターを介して前記清掃ボックスから排出された空気を吸引し、前記第一フィルターを介して前記清掃ボックスの内部に送風するファンと、
   前記ファンと前記第一フィルターとを気密状態において連結する気密通路と、
   からなる基板清掃装置。

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