JP4753920B2 - 基板用除塵装置 - Google Patents

Description

本発明は、ガラス板、合成樹脂板、金属板などの基板の表面に付着した塵や埃等の異物を、清浄エアを用いて吸引除去する基板用除塵装置に関する。

液晶表示装置やプラズマ表示装置等に用いられるガラス基板を対象とした除塵装置は、例えば特許文献１や特許文献２に開示されている。この除塵装置は、清浄エアをガラス基板表面に噴射するエア排出室と、清浄エアによって舞い上がった塵や埃等の異物を吸引除去するエア吸引室とを有する除塵ユニットを備えており、この除塵ユニットをガラス基板の上方であって、エア排出室とエア吸引室とがガラス基板の搬送方向に沿って並ぶように配置して構成されている。

上述した除塵装置では、除塵ユニットの直下に搬送されてきたガラス基板が、エア吸引室の負圧によって吸い上げられて撓むことがある。ガラス基板が吸い上げられて撓むと、ガラス基板がエア吸引室のエア吸引口に接触したり移動したりして、ガラス基板が損傷するおそれがある。

そこで、エア吸引室の吸引力に抵抗する抵抗力を搬送中のガラス基板に与えるために基板に従動して回動する回動体（コロや補助ローラ）を備えた除塵装置が、例えば特許文献３や特許文献４に開示されている。

特開平７−６０２１１号公報 実用新案登録第３００９６９４号公報 特開２０００−２１０６３０号公報 特開２００３−３３２４０１号公報

上述した回動体を備えた除塵装置では、回動体の表面に付着した異物によって、基板表面が損傷することがある。小型の基板の場合は、基板の両端に回動体を配置することによって、吸引力による基板の撓みを防止し、かつ回動体による損傷の影響を最小限に抑えることが可能である。一方、大型の基板の場合は、基板の幅方向（搬送方向に直交する方向）に多数の回動体を配置して、基板の中間部分の撓みを防止する必要があるが、この場合は、回動体によって基板の中間部分が損傷してしまうという問題が生じる。

そこで、本発明の解決すべき課題は、回動体による基板の損傷を防止して、基板表面の円滑な除塵を実現することができる基板用除塵装置を提供することである。

請求項１の発明は、相対移動される基板の表面に清浄エアを噴出する少なくとも１つのエア排出部と、前記エア排出部に対して前記基板の相対移動方向に沿って配置され、前記清浄エアを吸引する少なくとも１つのエア吸引部と、前記エア吸引部の吸引力に抵抗する抵抗力を相対移動中の基板に与えるために基板に従動して回動する回動体とを備えた基板用除塵装置において、前記回動体の表面に付着した異物を除去する異物除去部を備え、前記異物除去部は、前記エア排出部の清浄エアを、前記基板の表面に噴出させる噴出用流路とは異なる流路で、前記回動体の表面であって前記基板との接触位置とは異なる位置に噴出させ、前記エア吸引部で吸引するように構成されていることを特徴とする基板用除塵装置である。

請求項２の発明は、排気ポンプが接続されるエア排出室と吸気ポンプが接続されるエア吸引室とをそれぞれ少なくとも１個備えると共に、前記エア排出室及び前記エア吸引室が基板の相対移動方向に沿って配置され、前記エア排出室から噴出用流路を介して前記基板の表面に向けて噴出させた清浄エアを前記エア吸引室に吸引させるように構成した除塵ユニットを備え、前記除塵ユニットはさらに、前記エア排出室と前記エア吸引室との間に設けられ、前記エア吸引室の吸引力に抵抗する抵抗力を相対移動中の基板に与えるために基板に従動して回動する回動体を備えた基板用除塵装置において、前記除塵ユニットは、前記エア排出室の清浄エアを、前記回動体の表面であって前記基板との接触位置とは異なる位置に噴出させた後、吸引除去する異物除去用流路を有することを特徴とする基板用除塵装置である。

請求項３の発明は、請求項２に記載の基板用除塵装置において、前記異物除去用流路は、前記回動体付近では、流路の中心線が回動体の接線となるように設置されていることを特徴としている。

請求項４の発明は、請求項２に記載の基板用除塵装置において、前記異物除去用流路は、エア排出室側の流路面積が、前記噴出用流路の流路面積よりも小さく設定されていることを特徴としている。

請求項５の発明は、請求項２に記載の基板用除塵装置において、前記異物除去用流路は、回動体よりも上流側付近の流路面積が、エア排出室側の流路面積よりも小さく設定されていることを特徴としている。

請求項６の発明は、請求項２〜５のいずれかに記載の基板用除塵装置において、前記異物除去用流路における回動体より下流側流路は、前記エア吸引室に接続されていることを特徴としている。

請求項７の発明は、請求項２〜５のいずれかに記載の基板用除塵装置において、前記異物除去用流路における回動体より下流側流路は、流路面積が前記エア吸引室の流路面積よりも小さく設定されると共に、前記吸気ポンプに直接接続されていることを特徴としている。

請求項８の発明は、請求項１に記載の基板用除塵装置において、前記異物除去部は、前記回動体の表面であって前記基板との接触位置とは異なる位置に粘着ローラを接触させて回動体表面の異物を除去するように構成されていることを特徴としている。

請求項９の発明は、請求項８に記載の基板用除塵装置において、前記異物除去部は、前記粘着ローラの表面を洗浄液で洗浄して付着した異物を除去すると共に、前記清浄エアを粘着ローラの表面に噴出させて乾燥させることを特徴としている。

請求項１に記載の発明によれば、異物除去部によって回動体の表面に付着した異物が除去されるので、回動体による基板の損傷の発生を防止できる。そのため、回動体を基板の両端だけでなく中間部分にも配置できるので、大型の基板であっても、基板を損傷させることなく、基板表面の除塵を円滑に行うことができる。

また請求項１に記載の発明によれば、エア排出部の清浄エアを用いて回動体の表面に付着した異物が除去され、異物はエア吸引部で吸引される。エア排出部の清浄エアを用いるので、比較的簡単な構成で異物除去部を構成することができる。また、基板表面に清浄エアを噴出させる噴出用流路とは異なる流路で清浄エアを回動体表面に噴出させるので、基板の除塵に影響を与えることなく、回動体の異物除去を行うことができる。

請求項２に記載の発明によれば、回動体は除塵ユニットに設けられているので、除塵ユニットに異物除去用流路を形成することで回動体の異物除去を行うことができる。したがって、比較的簡単な構成で異物除去を実現することができる。

請求項３に記載の発明によれば、異物除去用流路は、回動体付近では流路の中心線が回動体の接線となるように設置されている。流路内では中心部分が最も流速が速くなるので、流速の速い清浄エアが回動体表面に噴出されることになり、異物を効率良く除去することができる。

請求項４に記載の発明によれば、異物除去用流路は、エア排出室側の流路面積が、噴出用流路の流路面積よりも小さく設定されているので、清浄エアは噴出用流路に優先的に流れる。これによって、基板の除塵に影響を与えることなく、回動体の異物除去を行うことができる。

請求項５に記載の発明によれば、異物除去用流路は、回動体よりも上流側付近の流路面積が、エア排出室側の流路面積よりも小さく設定されている。流路内では流路面積が小さくなると流速が速くなるので、流速の速くなった清浄エアが回動体に噴出されることになり、異物を効率良く除去することができる。

請求項６に記載の発明によれば、異物除去用流路における回動体より下流側流路は、エア吸引室に接続されている。即ち、エア排出室とエア吸引室とを接続すると共に、回動体表面に干渉するような流路を形成することによって、異物除去用流路を形成することができる。したがって、比較的簡単に異物除去用流路を形成することができる。

請求項７に記載の発明によれば、異物除去用流路における回動体より下流側流路は、流路面積がエア吸引室の流路面積よりも小さく設定されると共に、吸気ポンプに直接接続されている。このような構成にすることによって、異物除去用流路の下流側流路をエア吸引室に接続する構成に比べて、エア排出室の清浄エアが異物除去用流路に流れにくくなる。これによって、清浄エアが噴出用流路に優先的に流れるので、基板の除塵に影響を与えることなく、回動体の異物除去を行うことができる。

請求項８に記載の発明によれば、回動体表面の異物は粘着ローラによって除去される。したがって、清浄エアでは舞い上がりにくい異物であっても、確実に除去することができる。

請求項９に記載の発明によれば、粘着ローラの表面は洗浄液で洗浄されて付着した異物が除去され、さらに清浄エアを用いて乾燥される。これによって、回動体表面の異物除去を確実かつ効率良く行うことが可能となる。粘着ローラの洗浄は、定期的に行うようにしてもよいし、表面が汚れてきたとユーザが判断したときに行うようにしてもよい。

図１は、本発明の第１実施形態である基板用除塵装置１における１つの回動体に関する概略的構成を示す模式図であり、（ａ）は側方から見た模式図であり、（ｂ）は下方から見た模式図である。また図２は、基板用除塵装置１を構成する除塵ユニット２の外観を示す模式上面図であり、図３は、図２の切断面線ｃ３−ｃ３から見た模式断面図である。

基板用除塵装置１は、図３に示すように、除塵ユニット２と、排気ポンプ３と、吸気ポンプ４とを備えて構成される。除塵ユニット２は、図２に示すように、基板搬送部２０の上方に配置される。基板搬送部２０は、等間隔に配列された複数の回転軸２１を有し、各回転軸２１の両端は支持台２２，２３に支持されている。各回転軸２１には、複数の搬送ローラ２４が回転自在に装着されており、複数の搬送ローラ２４は等間隔で配列されている。除塵対象である基板３０は、搬送ローラ２４で支持されて搬送される。基板３０の搬送は、搬送ローラ２４を回転駆動させて行うようにしてもよいし、基板３０を図示しない駆動源によって移動させて行うようにしてもよい。

除塵ユニット２の外形は、細長い直方体状であり、その長手方向が、基板３０の搬送方向Ｒ１に交差するように配置されている。本実施形態では、図２に示すように除塵ユニット２は、搬送ローラ２４の回転軸２１に対して傾斜するように配置されている。除塵ユニット２の長手方向の長さは、基板３０の幅方向（搬送方向Ｒ１に対して直交する方向）の長さよりもやや長く設定される。

除塵ユニット２は、エア排出室５と、エア排出室５に連通する噴出用流路６と、エア吸引室７と、エア吸引室７に連通する吸引用流路８とを備えている。除塵ユニット２においては、基板３０の搬送方向Ｒ１に対して、上流側からエア吸引室７、エア排出室５の順序で配置されている。

エア排出室５及びエア吸引室７は、除塵ユニット２の長手方向に延びて形成されており、除塵ユニット２の長さよりは短く形成されている。噴出用流路６及び吸引用流路８は、ともに除塵ユニット２の下面に開口している。また、噴出用流路６及び吸引用流路８も、エア排出室５及びエア吸引室７と同様に、除塵ユニット２の長手方向に延びて形成されており、エア排出室５及びエア吸引室７と同じ長さに形成されている。

エア排出室５には、排気ポンプ３が接続されている。排気ポンプ３は、清浄エアをエア排出室５に供給する。エア排出室５に供給された清浄エアは、噴出用流路６を通って基板３０の表面に向かって噴出する。噴出用流路６は、上述したように除塵ユニット２の長手方向に延びて形成されているので、基板３０の幅方向全体に清浄エアが噴出されることになる。これによって、基板３０の表面に付着している塵や埃等の異物が舞い上がる。なお、排気ポンプ３と除塵ユニット２（エア排出室５及び噴出用流路６）とがエア排出部を構成する。

一方、エア吸引室７には、吸気ポンプ４が接続されている。吸気ポンプ４は、エア吸引室７内の気体を吸引する。したがって、噴出用流路６から噴出された清浄エアは、吸引用流路８及びエア吸引室７を介して吸気ポンプ４によって吸引される。これによって、舞い上がった塵や埃等の異物は、吸引除去される。なお、吸気ポンプ４と除塵ユニット２（エア吸引室７及び吸引用流路８）とがエア吸引部を構成する。

さらに、除塵ユニット２は、エア吸引部の吸引力に抵抗する抵抗力を搬送中の基板３０に与えるために基板３０に従動して回動する回動体９を８個備えている。８個の回動体９は、エア排出室５とエア吸引室７との間に設けられ、除塵ユニット２の長手方向に沿って等間隔に配置されている。回動体９の回転軸９ａは、搬送ローラ２４の回転軸２１と平行になるように設定されている。この回動体９を設けたことによって、吸引力による基板３０の撓みが防止されるので、基板３０が撓んで除塵ユニット２に衝突したり移動したりして基板３０の表面が損傷するのを防止できる。

本発明は、回動体９の表面に付着した異物を除去するための異物除去部を設けたことが特徴である。本実施形態では、エア排出部（エア排出室５）の清浄エアを、噴出用流路６とは異なる流路で、回動体９の表面であって基板３０との接触位置とは異なる位置に噴出させ、エア吸引部（エア吸引室７）で吸引するように構成している。

より具体的には、図１及び図２に示すように、除塵ユニット２に、エア排出室５とエア吸引室７とを接続すると共に、回動体９の表面に干渉する異物除去用流路１０が形成されている。この異物除去用流路１０を設けたことによって、エア排出室５の清浄エアが回動体９の表面に噴出されて表面に付着している異物が舞い上がり、舞い上がった異物はエア吸引室７に吸引除去される。

また、異物除去用流路１０は、図４に示すように、回動体９付近では流路の中心線Ｌ１が回動体９の接線となるように形成されている。流路内では中心部分が最も流速が速くなるので、流速の速い清浄エアが回動体９の表面に噴出されることになる。

また、異物除去用流路１０は、図１に示すように、エア排出室５側の流路面積Ａ１が、噴出用流路６の流路面積よりも小さくなるように形成されている。即ち、８個の回動体９に対応する８個の異物除去用流路１０におけるエア排出室５側の流路面積Ａ１の合計面積が、噴出用流路６の流路面積よりも小さくなるように、８個の異物除去用流路１０は形成されている。この構成によって、エア排出室５の清浄エアは噴出用流路６に優先的に流れることになる。

また、異物除去用流路１０は、図１に示すように、回動体９よりも上流側付近の流路面積Ａ２が、エア排出室５側の流路面積Ａ１よりも小さくなるように形成されている。流路内では流路面積が小さくなると流速が速くなるので、流速の速くなった清浄エアが回動体９の表面に噴出されることになる。

以上のように第１実施形態によれば、異物除去用流路１０によって回動体９の表面に付着した異物が除去されるので、回動体９による基板３０の損傷の発生を防止できる。そのため、回動体９を基板３０の両端だけでなく中間部分にも配置できるので、大型の基板３０であっても、基板３０を損傷させることなく、基板３０の表面の除塵を円滑に行うことができる。これによって、エア排出室５の空気圧、エア吸引室７の空気圧、除塵ユニット２と基板３０との間隔を、基板３０の撓みや吸着を気にすることなく変更することができるようになり、除塵能力の向上を図ることが可能となる。

また、エア排出室５の清浄エアを用いて回動体９の表面に付着した異物が除去され、異物はエア吸引室７で吸引される。エア排出室５の清浄エアを用いるので、比較的簡単な構成で異物除去用流路１０を構成することができる。また、基板３０の表面に清浄エアを噴出させる噴出用流路６とは異なる流路で清浄エアを回動体９の表面に噴出させるので、基板３０の除塵に影響を与えることなく、回動体９の異物除去を行うことができる。

また、回動体９は除塵ユニット２に設けられているので、除塵ユニット２に異物除去用流路１０を形成することで回動体９の異物除去を行うことができる。したがって、比較的簡単な構成で異物除去を実現することができる。さらに、異物除去用流路１０における回動体９より下流側流路１０ａは、エア吸引室７に接続されている。即ち、エア排出室５とエア吸引室７とを接続すると共に、回動体９の表面に干渉するような流路を形成することによって、異物除去用流路１０を形成することができる。したがって、比較的簡単に異物除去用流路１０を形成することができる。

また、異物除去用流路１０は、回動体９付近では流路１０の中心線Ｌ１が回動体９の接線となるように設置されている。流路内では中心部分が最も流速が速くなるので、流速の速い清浄エアが回動体９の表面に噴出されることになり、異物を効率良く除去することができる。

また、異物除去用流路１０におけるエア排出室５側の流路面積Ａ１は、噴出用流路６の流路面積よりも小さく設定されているので、清浄エアは噴出用流路６に優先的に流れる。これによって、基板３０の除塵に影響を与えることなく、回動体９の異物除去を行うことができる。

また、異物除去用流路１０における回動体９よりも上流側付近の流路面積Ａ２は、エア排出室５側の流路面積Ａ１よりも小さく設定されている。流路内では流路面積が小さくなると流速が速くなるので、流速の速くなった清浄エアが回動体９に噴出されることになり、異物を効率良く除去することができる。

図５は、本発明の第２実施形態を示す模式断面図である。第２実施形態は、上述した第１実施形態に類似した構成であるので、同一の構成には同一の参照符号を付して詳細な説明は省略する。第２実施形態の特徴は、異物除去用流路１０における回動体９よりも下流側の流路面積Ａ３を、エア吸引室７の流路面積Ａ４よりも小さく設定し、さらに異物除去用流路１０における回動体９よりも下流側流路１０ａを吸気ポンプ４に直接接続したことである。

第２実施形態においても、第１実施形態と同様の効果が得られる。また、第２実施形態のような構成にすることによって、異物除去用流路１０の下流側流路１０ａをエア吸引室７に接続する構成に比べて、エア排出室５の清浄エアが異物除去用流路１０に流れにくくなる。これによって、清浄エアが噴出用流路６に優先的に流れるので、基板３０の除塵に影響を与えることなく、回動体９の異物除去を行うことができる。

図６は、本発明の第３実施形態を示す模式断面図である。第３実施形態は、上述した第１実施形態に類似した構成であるので、同一の構成には同一の参照符号を付して詳細な説明は省略する。なお、第３実施形態では、基板３０の搬送方向Ｒ１に対して、上流側からエア排出室５、エア吸引室７の順序で配置しているが、第１及び第２実施形態のように、上流側からエア吸引室７、エア排出室５の順序で配置してもよい。

第３実施形態の特徴は、回動体９の表面に付着した異物を粘着ローラ１１によって除去するように構成したことである。

粘着ローラ１１は、回動体９の上方に配置され、回動体９の上部で表面に接触している。粘着ローラ１１は、回動体９の回動に伴って回動し、回動体９の表面の異物は粘着ローラ１１の表面に移動する。また、粘着ローラ１１の上方において、粘着ローラ１１の回転方向Ｒ２の上流側に、洗浄液供給部１２が配置され、下流側には洗浄液回収部１３が配置されている。さらに、粘着ローラ１１の上端部には、エア排出室５とエア吸引室７とを接続すると共に、粘着ローラ１１の表面に干渉する乾燥用流路１４が形成されている。

この構成によって、粘着ローラ１１の表面は、洗浄液供給部１２から供給される洗浄液によって洗浄されて付着した異物が除去され、異物が混合した洗浄液は洗浄液回収部１３によって回収される。洗浄液回収部１３は、フィルタによって洗浄液から異物を除去して洗浄液を回収する。さらに、粘着ローラ１１の表面には、乾燥用流路１４によって清浄エアが噴出されて乾燥される。粘着ローラ１１の洗浄は、定期的に行うようにしてもよいし、表面が汚れてきたとユーザが判断したときに行うようにしてもよい。

以上のように第３実施形態によれば、回動体９の表面の異物は粘着ローラ１１によって除去されるので、清浄エアでは舞い上がりにくい異物であっても、確実に除去することができる。これによって、回動体９による基板３０の損傷の発生を防止できる。そのため、回動体９を基板３０の両端だけでなく中間部分にも配置できるので、大型の基板３０であっても、基板３０を損傷させることなく、基板３０の表面の除塵を円滑に行うことができる。これによって、エア排出室５の空気圧、エア吸引室７の空気圧、除塵ユニット２と基板３０との間隔を、基板３０の撓みや吸着を気にすることなく変更することができるようになり、除塵能力の向上を図ることが可能となる。

また、粘着ローラ１１の表面は洗浄液で洗浄されて付着した異物が除去され、さらに清浄エアを用いて乾燥されるので、回動体９の表面の異物除去を確実かつ効率良く行うことが可能となる。

上記の各実施形態では、除塵ユニット２を固定して基板３０を搬送するようにしたけれども、基板３０を固定して除塵ユニット２を移動させるようにしてもよい。

また、除塵ユニット２は、基板３０の搬送方向Ｒ１に直交するように配置してもよい。また、回動体９の個数は、８個に限られるものではなく、基板３０の大きさによって適宜選択される。

また、除塵ユニット２において、エア排出室５とエア吸引室７とは、基板３０の搬送方向Ｒ１に対して、どちらを上流側に配置してもよい。さらに、除塵ユニット２を、２つのエア排出室５の間に１つのエア吸引室７を配置して構成してもよいし、２つのエア吸引室７の間に１つのエア排出室５を配置して構成してもよい。また、除塵ユニット２を基板３０に対して下方に配置するようにしてもよいし、２つの除塵ユニット２を、基板３０を挟んで上下に配置するようにしてもよい。

本発明の第１実施形態である基板用除塵装置における１つの回動体に関する概略的構成を示す模式図であり、（ａ）は側方から見た模式図、（ｂ）は下方から見た模式図。 基板用除塵装置を構成する除塵ユニットの外観を示す模式上面図。 図２の切断面線ｃ３−ｃ３から見た模式断面図。 回動体付近を拡大して示す模式断面図。 本発明の第２実施形態を示す模式断面図。 本発明の第３実施形態を示す模式断面図。

符号の説明

１ 基板用除塵装置
２ 除塵ユニット
３ 排気ポンプ
４ 吸気ポンプ
５ エア排出室
６ 噴出用流路
７ エア吸引室
８ 吸引用流路
９ 回動体
１０ 異物除去用流路
１１ 粘着ローラ
１２ 洗浄液供給部
１３ 洗浄液回収部
２０ 基板搬送部
２１ 回転軸
２２，２３ 支持台
２４ 搬送ローラ
３０ 基板

Claims (9)

1. 相対移動される基板の表面に清浄エアを噴出する少なくとも１つのエア排出部と、
   前記エア排出部に対して前記基板の相対移動方向に沿って配置され、前記清浄エアを吸引する少なくとも１つのエア吸引部と、
   前記エア吸引部の吸引力に抵抗する抵抗力を相対移動中の基板に与えるために基板に従動して回動する回動体とを備えた基板用除塵装置において、
   前記回動体の表面に付着した異物を除去する異物除去部を備え、
   前記異物除去部は、前記エア排出部の清浄エアを、前記基板の表面に噴出させる噴出用流路とは異なる流路で、前記回動体の表面であって前記基板との接触位置とは異なる位置に噴出させ、前記エア吸引部で吸引するように構成されていることを特徴とする基板用除塵装置。
2. 排気ポンプが接続されるエア排出室と吸気ポンプが接続されるエア吸引室とをそれぞれ少なくとも１個備えると共に、前記エア排出室及び前記エア吸引室が基板の相対移動方向に沿って配置され、前記エア排出室から噴出用流路を介して前記基板の表面に向けて噴出させた清浄エアを前記エア吸引室に吸引させるように構成した除塵ユニットを備え、
   前記除塵ユニットはさらに、前記エア排出室と前記エア吸引室との間に設けられ、前記エア吸引室の吸引力に抵抗する抵抗力を相対移動中の基板に与えるために基板に従動して回動する回動体を備えた基板用除塵装置において、
   前記除塵ユニットは、前記エア排出室の清浄エアを、前記回動体の表面であって前記基板との接触位置とは異なる位置に噴出させた後、吸引除去する異物除去用流路を有することを特徴とする基板用除塵装置。
3. 請求項２に記載の基板用除塵装置において、
   前記異物除去用流路は、前記回動体付近では、流路の中心線が回動体の接線となるように設置されていることを特徴とする基板用除塵装置。
4. 請求項２に記載の基板用除塵装置において、
   前記異物除去用流路は、エア排出室側の流路面積が、前記噴出用流路の流路面積よりも小さく設定されていることを特徴とする基板用除塵装置。
5. 請求項２に記載の基板用除塵装置において、
   前記異物除去用流路は、回動体よりも上流側付近の流路面積が、エア排出室側の流路面積よりも小さく設定されていることを特徴とする基板用除塵装置。
6. 請求項２〜５のいずれかに記載の基板用除塵装置において、
   前記異物除去用流路における回動体より下流側流路は、前記エア吸引室に接続されていることを特徴とする基板用除塵装置。
7. 請求項２〜５のいずれかに記載の基板用除塵装置において、
   前記異物除去用流路における回動体より下流側流路は、流路面積が前記エア吸引室の流路面積よりも小さく設定されると共に、前記吸気ポンプに直接接続されていることを特徴とする基板用除塵装置。
8. 請求項１に記載の基板用除塵装置において、
   前記異物除去部は、前記回動体の表面であって前記基板との接触位置とは異なる位置に粘着ローラを接触させて回動体表面の異物を除去するように構成されていることを特徴とする基板用除塵装置。
9. 請求項８に記載の基板用除塵装置において、
   前記異物除去部は、前記粘着ローラの表面を洗浄液で洗浄して付着した異物を除去すると共に、前記清浄エアを粘着ローラの表面に噴出させて乾燥させることを特徴とする基板用除塵装置。

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