KR102493336B1 - 송이산 조성방법 및 이를 이용한 송이버섯 재배방법 - Google Patents
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Abstract
본 발명은 송이산 조성방법 및 이를 이용한 송이버섯 재배방법에 관한 것으로서, 좀 더 구체적으로는 송이버섯 자실체를 이용하여 포자를 배양하여 산지에 포자 종균을 식재하되, 송이버섯이 생장하기에 적합하도록 산지를 조성하여 인공 재배하는 방법으로 인공재배가 불가능하였던 송이버섯을 산지 재배하여 수확량을 높이고 경제성을 향상시킬 수 있는 방법에 관한 것이다.
Description
본 발명은 송이산 조성방법 및 이를 이용한 송이버섯 재배방법에 관한 것으로서, 좀 더 구체적으로는 송이버섯 자실체를 이용하여 포자를 배양하여 산지에 포자 종균을 식재하되, 송이버섯이 생장하기에 적합하도록 산지를 조성하여 인공 재배하는 방법으로 인공재배가 불가능하였던 송이버섯을 산지 재배하여 수확량을 높이고 경제성을 향상시킬 수 있는 방법에 관한 것이다.
송이버섯은 균계 담자균문 담자균강 주름버섯목 송이과 송이속의 식용 버섯으로, 소나무와 공생하며 소나무의 낙엽이 쌓인 곳에서 많이 자란다. 중국 남부, 대만, 한반도, 일본 등지에 분포한다. 동종 이명 송이버섯은 유라시아, 북미 대륙에 고루 분포한다. 갓은 지름 8~10cm, 드물게 30cm에 달하는 것도 있으며 처음에는 구형이고 후에는 만두형으로 편평하게 열린다. 표면은 엷은 황갈색·진한 갈색의 섬유모양 비늘 조각으로 덮여 있고 오래되면 흑갈색으로 된다. 어릴 때에는 가장자리가 안쪽으로 말리고 자루 상부의 솜털 모양 피막으로 이어져 있다. 주름은 흰색으로 빽빽이 나며, 자루에 만생(灣生)한다. 자루는 길이 10~20cm, 지름 1.5~3cm이며 상하가 같고 속이 차 있다. 턱받이 위쪽은 흰색 가루 모양이고 아래는 갓과 같은 색의 섬유 모양 비늘 조각으로 덮여 있다. 포자는 넓은 타원형이다. 송이버섯은 비타민 D와 향이 풍부할 뿐만 아니라 고단백, 저칼로리 식품으로 콜레스테롤을 줄여 성인병에 효과가 있다. 채취가 어렵고 기후에 민감해 희소가치가 높은 만큼 가격이 비싼 편이다. 한국과 일본에서는 송이버섯을 최고의 버섯으로 친다. 우리나라의 송이 생산량은 최근 10년간 전국 평균 대략 280톤 정도 된다. 현재까지 인공 재배는 성공하지 못해 시중에 판매되는 송이는 모두 자연산이다.
특허등록 제390048호에는 자연산 송이버섯의 자실체에서 분리된 송이균주에 펄라이트, 스페그넘 피트모스의 혼합 상토와 K-액상배지를 가하고, 소나무 종자를 무균 발아시켜 얻은 무균 발아묘를 상기 혼합 상토에 치상한 다음, 상기 송이균주와 공동 배양하여 송이균근이 형성된 소나무 묘목을 수득하는 단계를 포함하는 소나무 송이균 감염묘 형성방법 및 상기 방법으로 수득한 송이균근이 형성된 소나무 묘목을 재배하여 송이버섯을 생산하는 방법이 개시되어 있고, 특허등록 제474136호에는 송이버섯으로부터 분리한 송이균을 배양하여 액체종균을 수득하고, 이를 소나무 주위에 관주하는 형태로 접종하는 단계를 포함하는 송이버섯 생산방법이 개시되어 있다. 지금까지는 살아있는 소나무와 인용배양된 송이종균을 이용하여 송이를 인공적으로 재배하는 방법이 개발되어 왔다. 그러나, 송이균근이 형성된 소나무 묘목을 재배할 경우에도 이로부터 송이가 발생할 확률은 15% 정도에 불과하고, 송이의 액체종균을 소나무 주위에 관주할 경우에도 이로부터 송이가 발생할 확률은 최대 35%에 불과하여, 현재까지 개발된 송이의 재배방법은 송이의 생산성이 매우 낮고, 이를 해결하여 송이의 생산성을 향상시킬 수 있는 송이의 재배방법을 개발하여야 할 필요성이 끊임없이 대두되었다.
따라서, 본 발명은 재배가 어려운 송이버섯이 잘 성장할 수 있는 여건을 갖춘 송이산을 인공적으로 조성하여 송이버섯을 재배하려는 것을 목적으로 한다.
다음은 본 발명에서 사용되는 용어를 정의한 것이다.
"송이산"은 송이버섯이 나는 산 또는 송이를 재배할 수 있도록 조성한 산을 말한다. "송이 발생림"은 현재 송이가 나는 산을 말하며, "송이 미발생림"은 현재 송이가 나지 않지만 앞으로 송이가 나거나 재배될 가능성이 있는 산을 말한다. "송이균환"은 송이버섯이 날 수 있는 근거가 되는 땅속 송이균의 모임을 말한다. "적지(適地) 판정 작업"이란 송이버섯 재배사업 요청지역의 입지조건, 생태적 조건 등을 점검하여 사업 실행에 적합한 곳인지 여부를 판정하는 작업을 말한다.
또한, "간벌"은 숲의 밀도조절을 위하여 소나무 및 활엽수를 제거하는 작업을 말하며, "가지치기"란 숲에 들어오는 빛의 양 조절 및 원활한 작업을 위하여 사람의 키보다 낮은 부분에 위치한 가지를 잘라내는 작업을 말한다. "하층식생 정리"는 산 내부에 자라는 관목류(산철쭉, 쪽동백 등)나 1차년도 작업 후에 발생한 소나무류 등의 맹아를 제거하는 작업을 말한다. "지피물 제거"는 산의 지표면에 쌓인 낙엽, 나무 가지 등을 제거하는 작업을 말한다. "산물 반출"은 간벌, 가지치기, 하층식생 정리, 지피물 제거과정에서 나온 각종 산물을 대상지역 밖으로 옮기는 작업을 말한다. "관수시설"은 산에 수분 공급하기 위한 스프링클러, 양수기 등을 말한다.
포자가 배양된 송이버섯 자실체를 숲에 심어 송이버섯을 인공적으로 재배하기 위해서 먼저 송이버섯이 잘 자랄 수 있도록 조성된 송이산이 필요하다.
송이 발생림을 먼저 살펴본다. 16~35년생 소나무 지배형 유령림(幼齡林)은 1차년도에 공간조절을 위한 간벌을 상대공간지수가 30~40 수준이 되도록 실시하며, 하층식생 정리와 지피물 제거 작업을 실시한다. 2차년도에는 가지치기와 하층식생 정리만 실시하면서 전체적으로 산림이 안정을 이룰 수 있도록 유도한다.
16~35년생 활엽수 침입형 유령림의 경우 1차년도에 공간조절을 위한 간벌을 상대공간지수가 25~35 수준이 되도록 실시하되, 소나무는 최대한 남기고 활엽수를 주로 제거하며, 기타 하층식생 정리와 지피물 제거 작업을 실시한다. 2차년도에는 상대공간지수가 30~35 수준이 되도록 추가 간벌과 하층식생 정리를 실시하며 가지치기를 통하여 숲의 그늘진 정도를 조절한다. 3차년도에는 가슴 높이에서 자른 참나무류의 하층식생 정리와 가지치기를 실시하며 지피물 제거작업을 추가로 실시한다. 상대공간지수(RSI)는 나무 사이의 간격(m)/숲의 나무 키 평균치(m) × 100(%)로 계산한다.
수령 36~50년생인 장령림(壯齡林)의 경우 소나무 지배형 장령림은 격년 간격으로 하층식생 정리, 가지치기, 지피물 제거 작업을 실시한다.
활엽수 침입형 장령림의 경우에는 1차년도에 소나무를 남겨두고 활엽수만 제거하면서 상대공간지수가 30~40 수준이 되도록 간벌하고, 하층식생 정리, 지피물 제거 작업을 실시한다. 2차년도에는 가지치기와 하층식생 정리만을 실시한다. 3차년도에는 가지치기, 하층식생 정리와 더불어 지피물 제거작업을 추가로 실시한다. 4차년도에는 하층식생 정리를 통하여 수세(樹勢)가 약해진 참나무류를 완전히 제거하고, 가지치기를 통하여 나뭇가지가 3번 이상 겹쳐지며 그늘이 형성되는 곳이 없도록 한다.
또한, 송이 발생림 주변의 경우에는 1차년도에는 소나무는 최대한 유지하되 상대공간지수가 30~40 수준이 될 수 있도록 참나무류를 제거하고 하층식생 정리, 가지치기, 지피물 제거를 실시한다. 2차년도에는 숲의 그늘진 정도를 다시 확인하고, 가지치기를 실히아여 하층식생을 정리한다. 3차년도에는 하층식생 정리와 낙엽층을 비록한 지피물 제거작업을 다시 실히안다.
관수시설 설치는 가능한 7월말 이전에 완료하며, 기타 구체적인 작업 방법은 관수시설을 설치하는 지역의 지형 등 지역적 여건을 고려하여 실행한다.
이와 같이 조성한 송이산에는 포자가 배양된 송이버섯 자실체를 심는다. 송이버섯 자실체의 포자를 배양하는 과정은 아래와 같다.
80% 이상 성장한 송이버섯의 충실한 버섯 자실체를 배양실에서 60~80%의 습도를 유지하며 포자가 생성되어 배양될 수 있도록 해주며 온도는 17~20℃로 유지하며, 다른 균사가 침입하지 않게 청결한 배양장 조성에 힘을 쓴다. 또한, 송이버섯 자실체 뒷면이 아래로 가게 놓아야 한다. 자실체 바닥에는 종이나 면으로 된 천을 깔고, 비닐이나 플라스틱, 기름종이는 사용하지 않는다. 물이 고이거나 물이 맺히면 자실체가 썩을 수 있으므로 주의해야 한다.
포자 배양시간은 10~15일이 적당하며, 포자가 배양된 버섯 자실체는 1-3㎝ 이상 되게 하여 위와 같이 조성한 송이산에 1~5㎝ 두께로 흙을 덮어 심는다. 심은 후 약간의 낙엽을 덮어 수분과 온도를 조절하여 준다.
본 발명을 송이버섯 포자를 배양하기 위하여 무균실과 배양실이 필요하다.
무균실은 잡균의 오염을 방지하고 청결하게 유지해야 하므로 콘크리트나 타일 등으로 무균실 벽을 만들고, 출입구는 이중 문으로 설치하였다. 실내에는 작업대대 이외에 가스, 수도 등을 설치하며, 실내 공기를 청결하게 하기 위해 공기 여과기를 설치하고, 온도 조절도 가능하게 설치하였다.
배양실은 자실체 포자를 배양하기 위한 장소로 온도 조절이 가능하며, 배양실 내부에 잡균이 자라지 않도록 하고, 광선이나 공기의 조절이 가능하도록 하였고 온도는 18~20℃ 범위로 하였다. 실내 습도는 자실체의 건조나 오염과 관계가 깊으므로 자실체가 건조하게 되지 않도록 70~80%로 유지하였다. 때에 따라서는 생장촉진제나 포도당 처리로도 습도를 유지할 수 있다. 습도가 높아지기 쉬운 강우 전후에는 제습 작업을 하는 것이 좋다. 포자가 생육하는 데는 실내조명이 필요하므로 식물 생장용 형광등을 설치했다. 배양실의 공기는 무균 상태로 하고, 산소가 부족하지 않도록 하였다.
자실체 포자 발아 2일 내지 1주일 정도 지나면 자실체 주변에서의 포자 균사 생장이 육안으로 확인된다. 해부 현미경으로 6시간 내지 12시간 간격으로 포자 발아 여부를 확인한 뒤 송이산이 조성된 자리에 자실체 배양 포자를 식재한다. 기온이 17~20℃인 날에 이식하여야 하며 습도가 60% 이상일 때가 적당하다. 자실체 포자 배양은 자실체가 생산되는 가을, 9~11월에 한다. 자실체 포자 발아시간 10~15일, 포자 균사 식재까지의 시간을 고려할 때 9~10월에 70~100% 성장한 자실체를 확보하는 것이 좋다.
송이버섯은 소나무에서 자라는 버섯이다. 송이산을 조성한 장소에 1~5㎝ 두께로 호미로 땅을 판 후 높이 1~3㎝ 이상의 자실체 포자배양 종묘를 식재한다. 식재 간격은 1m로 하고, 식재 후 호미나 손으로 살짝 두드리듯이 눌러준다. 습도나 온도 조절을 위하여 낙엽을 약간 덮는 것도 가능하다.
식재 후 송이버섯 자실체는 2~3년 후에 생산되며, 자실체가 나온 후에는 다음해에도 연속적으로 버섯 자실체가 생산된다. 첫해의 자실체 생산이 10이면 이듬해에는 20, 또 다음해는 40이 되어 군락형태를 띤다. 버섯의 모체인 나무와의 공생관계이기 때문에 나무의 관리에도 최선을 다한다. 또한, 습도와 버섯은 뗄 수 없는 관계이기 때문에 인공관수시설을 설치하는 것이 바람직하며, 버섯 발생 온도가 토양기준으로 17~19℃가 7~15일 유지될 때 자실체가 생성된다.
본 발명은
(가) 송이산 조성 대상지 내에 송이 발생림이 있는지를 판별하는 단계;
(나) (가) 단계에서 송이 발생림이 있는 경우 소나무 나이가 16~50년 범위 내에 있는지를 판별하는 단계;
(다) (나) 단계에서 소나무 나이가 16~50년 내에 있는 경우 사업실시 범위, 면적 및 사업실시 기간을 결정한 후 송이산 조성에 착수하는 단계;를 포함하며,
(a) 사업실시 기간은
유령림의 경우 1, 2차년도,
장령림의 경우 1, 3, 5차년도로 정하고,
(b) 세부 사업내용은
유령림의 경우 1차년도에 간벌, 하층식생 정리, 지피물 제거, 2차년도에 가지치기, 하층식생 정리,
장령림의 경우 1차년도에 하층식생 정리, 가지치기, 지피물 제거, 3차년도에 하층식생 정리, 가지치기, 지피물 제거, 5차년도에 하층식생 정리, 가지치기, 지피물 제거를 수행하는 송이산 조성방법에 관한 것이다.
또한, 본 발명은 상기 (b) 세부 사업내용 중 유령림의 경우 1차년도에 간벌은 상대공간지수가 30~40이 되도록 실시함을 특징으로 하는 송이산 조성방법에 관한 것이다.
또한, 본 발명은
(가) 송이산 조성 대상지 내에 송이 발생림이 있는지를 판별하는 단계;
(나) (가) 단계에서 송이 발생림이 없는 경우 대상지가 배수가 잘 되는 산등성이 또는 산 중복 부분의 배수가 잘 되고 토양이 건조한 곳 또는 통풍이 양호하고 햇볕이 잘 들어 비교적 건조한 곳인지를 판별하는 단계;
(다) (나)의 조건을 만족하는 경우 송이 미발생림 숲의 70% 이상을 소나무가 차지한 소나무 지배형인지, 활엽수가 30~50%를 차지하는 활엽수 침입형인지, 또는 활엽수가 50% 이상인 활엽수 지배형인지를 판별하는 단계;
(라) (다) 단계에서 소나무 지배형 또는 활엽수 침입형의 경우 대상지 내의 소나무 나이가 16~35년 범위 내에 있는지를 판별하는 단계;
(마) (라) 단계에서 소나무 나이가 16~35년 내에 있는 경우 사업실시 범위, 면적 및 사업실시 기간을 결정한 후 송이산 조성에 착수하는 단계;를 포함하며,
(a) 사업실시 기간은
소나무 지배형 유령림의 경우 1, 2차년도,
활엽수 침입형 유령림의 경우 1, 2, 3차년도,
소나무 지배형 장령림의 경우 1, 3, 5차년도,
활엽수 침입형 장령림의 경우 1, 2, 3, 4차년도로 결정하며,
(b) 세부 사업내용은
소나무 지배형 유령림의 경우 1차년도에 간벌, 하층식생 정리, 지피물 제거, 2차년도에 가지치기, 하층식생 정리,
활엽수 침입형 유령림의 경우 1차년도에 간벌, 하층식생 정리, 지피물 제거, 2차년도에 간벌, 가지치기, 하층식생 정리, 3차년도에 가지치기, 하층식생 정리, 지피물 제거,
소나무 지배형 장령림의 경우 1차년도에 하층식생 정리, 가지치기, 지피물 제거, 3차년도에 하층식생 정리, 가지치기, 지피물 제거, 5차년도에 하층식생 정리, 가지치기, 지피물 제거,
활엽수 침입형 장령림의 경우 1차년도에 간벌, 하층식생 정리, 지피물 제거, 2차년도에 가지치기, 하층식생 정리, 3차년도에 가지치기, 하층식생 정리, 지피물 제거, 4차년도에 가지치기, 하층식생 정리를 수행하는 송이산 조성방법에 관한 것이다.
또한, 본 발명은 상기 (b) 세부 사업내용 중
소나무 지배형 유령림의 경우 1차년도 간벌은 상대공간지수가 30~40이 되도록 실시하고,
활엽수 침입형 유령림의 경우 1차년도 간벌은 상대공간지수가 25~35가 되도록 실시하며, 2차년도 간벌은 상대공간지수가 30~40이 되도록 실시하며,
활엽수 침입형 장령림의 경우 1차년도 간벌은 상대공간지수가 30~40이 되도록 실시함을 특징으로 하는 송이산 조성방법에 관한 것이다.
또한, 본 발명에서 상기 간벌은 소나무를 남겨두고 활엽수를 제거하는 것을 특징으로 하는 송이산 조성방법에 관한 것이다.
또한, 본 발명은 포자가 배양된 송이버섯 자실체를 상기 방법으로 조성된 송이산에 식재하는 것을 특징으로 하는 송이버섯 재배방법에 관한 것이다.
또한, 본 발명은 상기 포자가 배양된 송이버섯 자실체를 1~5㎝ 깊이로 식재하는 것을 특징으로 한다.
또한, 본 발명은 상기 포자가 배양된 송이버섯 자실체가 1~3㎝ 크기임을 특징으로 한다.
포자가 배양된 송이버섯 자실체를 식재한 후 3~4년이면 성장한 송이버섯을 수확할 수 있다.
포자가 배양된 송이버섯 자실체는 상기 송이산 조성사업 1차년도 이후 조성된 송이산에 식재할 수 있다.
또한, 송이산 조성사업 후 포자가 배양된 송이버섯 자실체를 식재하지 않더라도 주변에 자연적으로 형성된 송이산이 있거나 송이버섯 포자가 있는 경우 더디긴 하지만 송이버섯이 자연 발생할 수 있다.
이상에서 설명한 바와 같이 본 발명은 인공 자연재배가 전혀 불가능하였던 송이버섯을 인공적으로 재배할 수 있도록 송이산 가꾸기와 자실체 포자배양법을 결합하여 대량생산을 가능하게 하였다.
도 1은 송이버섯 재배에 적합한 곳인지 여부를 결정하는 순서도이다.
도 2a, 2b는 송이산 조성 중 간벌작업 중인 사진이다.
도 3a, 3b, 3c, 3d는 송이산 조성 중 간벌작업 후 하층식생정리 전 사진이다.
도 4는 송이산 조성 중 간벌작업 후 화학적인 방법으로 하층식생정리를 수행하는 사진이다.
도 5는 하층식생정리 후 사진이다.
도 6은 지피물 제거 후 사진이다.
도 7a, 7b는 배양 중인 송이 균사 사진이다.
도 8은 배양한 송이 자실체를 조성된 송이산에 식재한 모습이다.
도 9는 배양한 송이 자실체 식재 3년 후 송이 자실체 1년생 사진이다.
도 10은 배양한 송이 자실체 식재 4년 후 송이 자실체 2년생 사진이다.
도 11은 송이 자실체가 균사환을 이룬 모습이다.
도 12a, 12b는 완전히 성장한 송이버섯 사진이다.
도 2a, 2b는 송이산 조성 중 간벌작업 중인 사진이다.
도 3a, 3b, 3c, 3d는 송이산 조성 중 간벌작업 후 하층식생정리 전 사진이다.
도 4는 송이산 조성 중 간벌작업 후 화학적인 방법으로 하층식생정리를 수행하는 사진이다.
도 5는 하층식생정리 후 사진이다.
도 6은 지피물 제거 후 사진이다.
도 7a, 7b는 배양 중인 송이 균사 사진이다.
도 8은 배양한 송이 자실체를 조성된 송이산에 식재한 모습이다.
도 9는 배양한 송이 자실체 식재 3년 후 송이 자실체 1년생 사진이다.
도 10은 배양한 송이 자실체 식재 4년 후 송이 자실체 2년생 사진이다.
도 11은 송이 자실체가 균사환을 이룬 모습이다.
도 12a, 12b는 완전히 성장한 송이버섯 사진이다.
아래에서는 실시예를 들어 본 발명의 구성을 좀 더 자세히 설명한다. 그러나, 본 발명의 범위가 실시예의 기재만 한정되는 것이 아님은 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자을게 자명하다.
송이버섯 재배를 위한 산림 조성사업은 다음과 같은 순서 및 기준에 따라 실행한다. 먼저, 송이 발생림과 송이 미발생림을 구분하여 사업실행 타당성 여부를 판단한 다음, 적지로 판정된 경우 송이버섯 생산 기반사업을 실시방법에 따라 실시한다.
송이 발생림 및 송이 발생림 주변은 이미 송이버섯이 발생하는 산이므로 적지 판정은 하지 않아도 되며, 송이버섯 발생을 지속시키거나 생산량을 증대시키고 발생 면적을 주변으로 확대하기 위하여 사업실시 범위(면적) 및 사업실시 기간을 결정한 후 사업을 실시한다.
송이 미발생림의 경우 적지 판정을 먼저 실시한 후 적지로 판정된 경우에만 송이버섯 생산기반사업 실행을 결정한다.
송이버섯 재배사업 적지 판정 요건으로는 입지적 조건과 생태적 조건을 들 수 있다. 입지적 조건으로는 배수가 잘되는 산등성이 부근이 적당하다. 산 중복(中腹) 부분도 배수가 잘되어 토양이 건조한 곳, 통풍이 양호하고 햇볕이 잘 들어서 비교적 건조한 곳이 송이버섯 재배가 가능하다. 반면, 배수가 잘되지 않고 수분이 많은 곳은 송이버섯 재배 적지가 아니다. 생태적 조건으로는 소나무가 주종을 이루고 있는 숲이 가장 적당하다. 또한, 소나무 임령도 중요한데, 송이버섯 발생이 시작되기 직전의 유령림이나 송이버섯이 발생하기 시작한 숲이 가장 적당하다. 송이버섯은 통상 소나무 임령 20~30년부터 발생한다.
송이버섯 재배에 적합한 곳인지 여부는 도 1의 순서도에 따라 결정한다.
| 구 분 | 숲의 구체적인 형태 | 적지판정 | |
| 송이 발생림 |
송이 미발생림 |
||
| 소나무 지배형 | 숲의 70% 이상을 소나무가 차지한 숲 | 적합 | 적합 |
| 활엽수 침입형 (30~50%) |
상층림은 소나무가 주종을 이루고 있으나 소나무류 등 활엽수가 침입하여 혼효림을 이루고 있는 숲 |
적합 | 부적합 |
| 활엽수 지배형 (50% 이상) |
소나무가 쇠퇴하고 활엽수가 우세한 숲 |
부적합 | 부적합 |
| 구 분 | 15년생 이하 | 16~35년생 | 36~50년생 | 50년생 초과 | |
| 적지 판정 | 송이 발생림 |
부적합 | 적합 | 적합 | 부적합 |
| 송이 미발생림 |
부적합 | 적합 | 부적합 | 부적합 | |
송이산 조성사업 기간은 다음과 같이 결정한다.
먼저, 송이 발생림의 경우에는 임상 및 소나무 임령에 따라 아래 표 3과 같이 구분한다.
| 구 분 | 소나무 지배형 | 활엽수 침입형 |
| 유령림(16~35년생) | 2년(1, 2차년도) | 3년(1, 2, 3차년도) |
| 장령림(36~50년생) | 3년(1, 3, 5차년도) | 4년(1~4차년도) |
송이 발생림 주변의 경우에는 3년(1, 2, 3차년도), 송이 미발생림의 경우에는 2년(1, 2차년도)을 계획한다.
이후에는 아래와 같이 세부 사업내용을 결정한다. 송이 발생림의 경우 임상 및 소나무 임령에 따라 아래 표 4와 같이 실시한다.
| 구 분 | 유령림(16~35년생) | 장령림(36~50년생) | ||
| 소나무지배형 | 활엽수 침입형 | 소나무지배형 | 활엽수 침입형 | |
| 1차년도 | 간벌, 하층식생 정리, 지피물 제거 |
간벌, 하층식생 정리, 지피물 제거 |
하층식생 정리, 가지치기, 지피물 제거 |
간벌, 하층식생 정리, 지피물 제거 |
| 2차년도 | 가지치기, 하층식생 정리 |
간벌, 가지치기, 하층식생 정리 |
― | 가지치기, 하층식생 정리 |
| 3차년도 | ― | 가지치기, 하층식생 정리, 지피물 제거 |
하층식생 정리, 가지치기, 지피물 제거 |
가지치기, 하층식생 정리, 지피물 제거 |
| 4차년도 | ― | ― | ― | 가지치기, 하층식생 정리, |
| 5차년도 | ― | ― | 하층식생 정리, 가지치기, 지피물 제거 |
― |
송이 발생림 주변의 경우, 1차년도에는 간벌, 가지치기, 하층식생 정리, 지피물 제거, 2차년도에는 가지치기, 하층식생 정리, 3차년도에는 하층식생 정리, 지피물 제거를 실시한다.
송이 미발생림의 경우, 1차년도에는 간벌, 가지치기, 하층식생 정리, 지피물 제거, 2차년도에는 가지치기, 하층식생 정리를 실시한다.
구체적인 사업실시 방법은 아래와 같다.
간벌작업은 공간 조절을 위한 작업으로서, 나무 사이의 거리가 나무 키의 35% 수준이 되도록 조정하는 것을 원칙으로 한다. 이것을 "상대공간지수가 35 내외"라고 말한다. 예컨대, 소나무림의 수고(樹高)가 10m인 경우에는 나무 사이의 거리가 3.5m 내외가 되도록 하며, 수고가 5m인 경우에는 나무 사이의 거리가 1.8m 내외가 되도록 간벌한다. 소나무 간벌은 최대한 억제하되 상대공간지수를 유지하기 위하여 일정한 범위 내의 소나무도 제거하며, 참나무류라 할지라도 너무 간격이 멀게 되는 경우에는 남겨 두고, 참나무류는 맹아 발생 억제를 위하여 가슴 높이 정도에서 절단하고, 싸리 철쭉류는 1~2개의 줄기만 남기고 모두 제거한다. 맹아(萌芽) 발생이 잘되는 참나무류는 첫 해에 가슴 높이 (1.2~1.5m)에서 잘라내어 나무 줄기가 남아 있도록 처리한다. 2~3차년도에는 하층식생 정리 작업을 통하여 새로 돋아난 참나무 잔가지만 정리하다가 4~5차년도에는 완전히 제거하여야 한다. 간벌은 산물 반출 작업을 포함하며, 나뭇가지 등과 더불어 반드시 사업대상지 밖으로 반출해야 한다.
공간 조절을 위한 간벌을 실시하여 나무 간의 거리를 넓혔음에도 불구하고 땅에 그늘이 너무 많이 지는 경우에 가지치기를 실시한다. 작업 공간 유지를 위하여 지상 2m 이하의 가지를 우선적으로 제거한다. 가지가 3번 이상 겹쳐지면서 그늘을 만들 경우에는 2번만 겹쳐지는 수준이 되도록 가지치기를 한다.
하층식생 정리에서 진달래 및 철쭉 종류와 싸리류는 줄기 중에서 2~3개만 남기고 밑동을 절단하여 제거하고, 대단위 식생정리를 할 경우 화학적인 방법으로 식초, 빙초산 등의 산을 살포하거나 제초제 살포도 가능하다. 참나무류를 1.2~1.5m의 높이에서 잘라 새 가지가 나온 경우에는 다시 윗부분을 잘라 1.2~1.5m 부분에서 나무가 옆으로 퍼지는 형태가 되도록 만들고, 처음 자른지 4년 이상 경과한 경우에는 완전히 잘라낸다.
지피물 제거 방법은 다음과 같다. 낙엽층의 두께가 5cm 이상일 경우에는 낙엽층이 모두 없어질 정도로 긁어내고, 신선한 낙엽이 아니라 썩고 있는 낙엽층일 경우에는 3cm 이상의 낙엽층은 모두 지표면(흙)이 나타나도록 제거한다. 초본류는 송이버섯 성장에 큰 영향을 미치지 않으므로 높이 20cm 이하의 작은 초본은 제거하지 않아도 된다. 높이 20cm가 넘는 초본류와 조릿대 등 습지성 초본류는 풀베기 또는 굴취를 통하여 제거한다.
간벌, 하층식생 정리 및 가지치기는 나무의 종류 판단과 그늘진 정도의 확인이 쉬우며 맹아 발생을 억제하는 효과가 높은 여름철에 실시하는 것이 가장 좋다. 송이 발생림의 낙엽 긁기는 송이버섯을 채취한 후 10월 중순~11월에 실시하는 것이 바람직하다.
실시예
송이 산 가꾸기와 자실체 식재의 표본을 조사하기 위해서 경북 청송군 진보면의 임지에 송이가 발생한 적이 없는 지역을 선택하였다. 소나무의 임령은 20~30년 정도의 표본지를 선택하였다. 선택한 표본지는 송이 자실체가 발생한 적이 없는 지역이며 표본의 신뢰도를 위하여 같은 방향과 같은 임령과 같은 환경의 표본지를 선택하였다. 0.3ha(약 1,000평) 정도의 표본지 4개를 조성하였다. 아래 표 5의 표본지 1~4는 각각 아래와 같다.
1. 자연 상태의 산으로 송이 자실체가 발생한 적이 없는 지역,
2. 송이산 조성(간벌 및/또는 가지치기),
3. 송이산 조성(간벌 및/또는 가지치기, 하층식생정리 및 지피물 제거),
4. 송이산 조성(간벌 및/또는 가지치기 및 하층식생정리 및 지피물 제거) 후 송이 배양 자실체 식재(1,000평당 자실성체 7개 식재).
| 표본지 | 면적 | 1년차 자실체 갯수 |
2년차 자실체 갯수 |
3년차 자실체 갯수 |
4년차 자실체 갯수 |
| 1 | 1,000평 | 0 | 0 | 0 | 0 |
| 2 | 1,000평 | 0 | 0 | 0 | 2 |
| 3 | 1,000평 | 0 | 1 | 7 | 21 |
| 4 | 1,000평 | 0 | 2 | 52 | 167 |
자연 상태의 표본지나 송이산 조성사업 중 간벌 및/또는 가지치기를 한 표본지는 송이 균사가 자연적으로 자라기가 어렵다고 생각된다. 자연적인 송이 발생은 간벌 및/또는 가지치기와 하층식생정리 및 지피물 제거까지 완료한 송이산 조성사업 이후 4년차에 비로소 1,000평당 21개의 자실체 송이버섯을 얻었다. 송이산 조성사업 후 하층식생정리 및 지피물 제거를 한 표본지는 그래도 송이 균이 어느 정도 발생하였지만 송이 자실체 균환이 형성되지는 않았다. 송이산 조성사업 5~7년차에는 송이 자실체 균환이 형성될 수 있으나, 송이 자실체 식재 지역보다는 2~3년 정도 늦어지는 것으로 예상되며, 자실체 발생량도 현저한 차이가 있었다.
송이산 조성사업 1년차에 간벌 및/또는 가지치기와 하층식생정리 및 지피물 제거까지 완료한 후 송이 자실체를 식재한 후 4년차에는 12송이의 자실체가 균환을 이루는 것을 관찰하였다.
Claims (12)
- (가) 70% 이상 성장한 송이버섯의 자실체를 무균 상태의 배양실에서 60~80%의 습도, 17~20℃의 온도를 유지하며 다른 균사가 오염되지 않게 배양하되, 자실체 뒷면이 아래로 가게 놓고, 자실체가 썩는 것을 방지하기 위해 물이 고이거나 물이 맺히지 않도록 관리하여 송이버섯 자실체의 포자를 배양하는 단계;
(나) (가) 단계에서 배양된 송이버섯 자실체 포자의 발아를 확인하는 단계; 및
(다) (나) 단계에서 포자가 발아된 것으로 확인된 송이버섯 자실체 크기가 최소 1㎝ 이상의 것을 기온 17~20℃, 습도 60% 이상일 때 송이산 또는 송이산 조성지에 심되 1m 이상의 간격으로 1~5cm 깊이로 심고, 그 위에 흙을 덮는 단계;를 포함하고,
상기 송이산 조성지는
(ㄱ) 송이산 조성 대상지 내에 송이 발생림이 있는지를 판별하는 단계;
(ㄴ) (ㄱ) 단계에서 송이 발생림이 있는 경우 소나무 나이가 16~50년 범위 내에 있는지를 판별하는 단계;
(ㄷ) (ㄴ) 단계에서 소나무 나이가 16~50년 내에 있는 경우 사업실시 범위, 면적 및 사업실시 기간을 결정한 후 송이산 조성에 착수하는 단계;를 포함하며,
(ㄷ) 단계에 관수시설 설치를 포함하며,
(ㄷ) 단계에서 (a) 사업실시 기간은
유령림의 경우 1, 2차년도,
장령림의 경우 1, 3, 5차년도로 정하고,
(ㄷ) 단계에서 (b) 세부 사업내용은
유령림의 경우 1차년도에 간벌, 하층식생 정리, 지피물 제거, 2차년도에 가지치기, 하층식생 정리,
장령림의 경우 1차년도에 하층식생 정리, 가지치기, 지피물 제거, 3차년도에 하층식생 정리, 가지치기, 지피물 제거, 5차년도에 하층식생 정리, 가지치기, 지피물 제거를 수행하며,
상기 (b) 세부 사업내용 중 유령림의 경우 1차년도에 간벌은 상대공간지수가 30~40이 되도록 실시하여 조성된 것;
또는
(ㄹ) 송이산 조성 대상지 내에 송이 발생림이 있는지를 판별하는 단계;
(ㅁ) (ㄹ) 단계에서 송이 발생림이 없는 경우 대상지가 배수가 잘 되는 산등성이 부근 또는 산 중복 부분의 배수가 잘 되고 토양이 건조한 곳 또는 통풍이 양호하고 햇볕이 잘 들어서 건조한 곳인지를 판별하는 단계;
(ㅂ) (ㅁ)의 조건을 만족하는 경우 송이 미발생림 숲의 70% 이상을 소나무가 차지한 소나무 지배형인지, 활엽수가 30~50%를 차지하는 활엽수 침입형인지, 또는 활엽수가 50% 이상인 활엽수 지배형인지를 판별하는 단계;
(ㅅ) (ㅂ) 단계에서 소나무 지배형 또는 활엽수 침입형의 경우 대상지 내의 소나무 나이가 16~35년 범위 내에 있는지를 판별하는 단계;
(ㅇ) (ㅅ) 단계에서 소나무 나이가 16~35년 내에 있는 경우 사업실시 범위, 면적 및 사업실시 기간을 결정한 후 송이산 조성에 착수하는 단계;를 포함하며,
(ㅇ) 단계에 관수시설 설치를 포함하며,
(ㅇ) 단계에서 (a) 사업실시 기간은
소나무 지배형 유령림의 경우 1, 2차년도,
활엽수 침입형 유령림의 경우 1, 2, 3차년도,
소나무 지배형 장령림의 경우 1, 3, 5차년도,
활엽수 침입형 장령림의 경우 1, 2, 3, 4차년도로 결정하며,
(ㅇ) 단계에서 (b) 세부 사업내용은
소나무 지배형 유령림의 경우 1차년도에 간벌, 하층식생 정리, 지피물 제거, 2차년도에 가지치기, 하층식생 정리,
활엽수 침입형 유령림의 경우 1차년도에 간벌, 하층식생 정리, 지피물 제거, 2차년도에 간벌, 가지치기, 하층식생 정리, 3차년도에 가지치기, 하층식생 정리, 지피물 제거,
소나무 지배형 장령림의 경우 1차년도에 하층식생 정리, 가지치기, 지피물 제거, 3차년도에 하층식생 정리, 가지치기, 지피물 제거, 5차년도에 하층식생 정리, 가지치기, 지피물 제거,
활엽수 침입형 장령림의 경우 1차년도에 간벌, 하층식생 정리, 지피물 제거, 2차년도에 가지치기, 하층식생 정리, 3차년도에 가지치기, 하층식생 정리, 지피물 제거, 4차년도에 가지치기, 하층식생 정리를 수행하며,
(ㅇ) 단계의 (b) 세부 사업내용 중
소나무 지배형 유령림의 경우 1차년도 간벌은 상대공간지수가 30~40이 되도록 실시하고,
활엽수 침입형 유령림의 경우 1차년도 간벌은 상대공간지수가 25~35가 되도록 실시하며, 2차년도 간벌은 상대공간지수가 30~40이 되도록 실시하며,
활엽수 침입형 장령림의 경우 1차년도 간벌은 상대공간지수가 30~40이 되도록 실시하며,
상기 간벌은 소나무를 남겨두고 활엽수를 제거하는 것을 특징으로 하여 조성된 것을 특징으로 하며,
상기 포자가 발아된 것으로 확인된 송이버섯 자실체를 송이산 조성지에 식재하는 경우에는 상기 송이산 조성 착수 첫 해 사업 수행 이후 식재하는 것을 특징으로 하는 송이버섯을 재배하는 방법.
- 청구항 1에 있어서,
상기 (가), (나) 및 (다) 단계는 가을에 진행함을 특징으로 하는 송이버섯을 재배하는 방법.
- 청구항 1에 있어서,
상기 (가)의 자실체 포자를 배양하는 단계는 9~10월에 70~100% 성장한 송이버섯 자실체로부터 배양하는 것을 특징으로 하는 송이버섯을 재배하는 방법.
- 삭제
- 삭제
- 삭제
- 삭제
- 청구항 1에 있어서,
하층식생 정리는 화학적 방법으로 수행함을 특징으로 하는 송이버섯을 재배하는 방법. - 삭제
- 삭제
- 삭제
- 삭제
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| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| KR1020190124329A KR102493336B1 (ko) | 2019-10-08 | 2019-10-08 | 송이산 조성방법 및 이를 이용한 송이버섯 재배방법 |
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Non-Patent Citations (1)
| Title |
|---|
| 인터넷 게시물, "송이산 숲가꾸기사업 실시요령(2009.02.12.)" (Url : iforest.nfcf.or.kr/forest/user.tdf?a=user.board.BoardApp&c=2002&board_id=GPB_MATERIALROOM&mc=CYB_CST_MOR&seq=1231) 1부.* |
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