KR102480537B1 - Resin compositions, prepregs, metal clad laminates, printed wiring boards and flex-rigid printed wiring boards - Google Patents
Resin compositions, prepregs, metal clad laminates, printed wiring boards and flex-rigid printed wiring boards Download PDFInfo
- Publication number
- KR102480537B1 KR102480537B1 KR1020197021161A KR20197021161A KR102480537B1 KR 102480537 B1 KR102480537 B1 KR 102480537B1 KR 1020197021161 A KR1020197021161 A KR 1020197021161A KR 20197021161 A KR20197021161 A KR 20197021161A KR 102480537 B1 KR102480537 B1 KR 102480537B1
- Authority
- KR
- South Korea
- Prior art keywords
- prepreg
- printed wiring
- parts
- resin
- epoxy resin
- Prior art date
Links
- 239000011342 resin composition Substances 0.000 title claims abstract description 32
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 title claims description 52
- 239000002184 metal Substances 0.000 title claims description 52
- -1 prepregs Substances 0.000 title description 7
- 239000003822 epoxy resin Substances 0.000 claims abstract description 81
- 229920000647 polyepoxide Polymers 0.000 claims abstract description 81
- 239000013034 phenoxy resin Substances 0.000 claims abstract description 28
- 229920006287 phenoxy resin Polymers 0.000 claims abstract description 28
- 239000000463 material Substances 0.000 claims abstract description 24
- 229920001971 elastomer Polymers 0.000 claims abstract description 22
- 239000005060 rubber Substances 0.000 claims abstract description 22
- 239000011258 core-shell material Substances 0.000 claims abstract description 13
- QGBSISYHAICWAH-UHFFFAOYSA-N dicyandiamide Chemical compound NC(N)=NC#N QGBSISYHAICWAH-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 8
- 239000011256 inorganic filler Substances 0.000 claims abstract description 8
- 229910003475 inorganic filler Inorganic materials 0.000 claims abstract description 8
- 239000004020 conductor Substances 0.000 claims description 43
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 27
- 239000002245 particle Substances 0.000 claims description 19
- 239000000835 fiber Substances 0.000 claims description 15
- 229920000800 acrylic rubber Polymers 0.000 claims description 8
- 229920000058 polyacrylate Polymers 0.000 claims description 8
- 229920002379 silicone rubber Polymers 0.000 claims description 5
- 239000000843 powder Substances 0.000 abstract description 33
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 103
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 93
- 239000000047 product Substances 0.000 description 59
- 239000011162 core material Substances 0.000 description 31
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 28
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 28
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 23
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 23
- IISBACLAFKSPIT-UHFFFAOYSA-N bisphenol A Chemical compound C=1C=C(O)C=CC=1C(C)(C)C1=CC=C(O)C=C1 IISBACLAFKSPIT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 21
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 19
- 239000011888 foil Substances 0.000 description 19
- 238000000034 method Methods 0.000 description 19
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 16
- 239000011889 copper foil Substances 0.000 description 16
- 239000004642 Polyimide Substances 0.000 description 14
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 14
- 229920001721 polyimide Polymers 0.000 description 14
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 12
- LNEPOXFFQSENCJ-UHFFFAOYSA-N haloperidol Chemical compound C1CC(O)(C=2C=CC(Cl)=CC=2)CCN1CCCC(=O)C1=CC=C(F)C=C1 LNEPOXFFQSENCJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- 239000002356 single layer Substances 0.000 description 9
- 230000009477 glass transition Effects 0.000 description 8
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 7
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 7
- 229910000679 solder Inorganic materials 0.000 description 7
- 239000004593 Epoxy Substances 0.000 description 6
- ZUOUZKKEUPVFJK-UHFFFAOYSA-N diphenyl Chemical compound C1=CC=CC=C1C1=CC=CC=C1 ZUOUZKKEUPVFJK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 229910052698 phosphorus Inorganic materials 0.000 description 6
- OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N Phosphorus Chemical compound [P] OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 239000011574 phosphorus Substances 0.000 description 5
- 239000002759 woven fabric Substances 0.000 description 5
- 229930185605 Bisphenol Natural products 0.000 description 4
- UFWIBTONFRDIAS-UHFFFAOYSA-N Naphthalene Chemical compound C1=CC=CC2=CC=CC=C21 UFWIBTONFRDIAS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229910000831 Steel Inorganic materials 0.000 description 4
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 4
- 235000010290 biphenyl Nutrition 0.000 description 4
- 239000004305 biphenyl Substances 0.000 description 4
- 239000007822 coupling agent Substances 0.000 description 4
- 238000009826 distribution Methods 0.000 description 4
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 4
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 4
- 239000004744 fabric Substances 0.000 description 4
- 238000000465 moulding Methods 0.000 description 4
- 229920003986 novolac Polymers 0.000 description 4
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 4
- 239000010959 steel Substances 0.000 description 4
- ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 2-Butanone Chemical compound CCC(C)=O ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N N,N-Dimethylformamide Chemical compound CN(C)C=O ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N Phenol Chemical compound OC1=CC=CC=C1 ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- WNROFYMDJYEPJX-UHFFFAOYSA-K aluminium hydroxide Chemical compound [OH-].[OH-].[OH-].[Al+3] WNROFYMDJYEPJX-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 3
- 238000004458 analytical method Methods 0.000 description 3
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 3
- 238000007772 electroless plating Methods 0.000 description 3
- 230000001771 impaired effect Effects 0.000 description 3
- 239000005011 phenolic resin Substances 0.000 description 3
- 238000003825 pressing Methods 0.000 description 3
- 230000008569 process Effects 0.000 description 3
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 3
- 229920001187 thermosetting polymer Polymers 0.000 description 3
- 239000002966 varnish Substances 0.000 description 3
- NQMUGNMMFTYOHK-UHFFFAOYSA-N 1-Methoxynaphthalene Natural products C1=CC=C2C(OC)=CC=CC2=C1 NQMUGNMMFTYOHK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- RNFJDJUURJAICM-UHFFFAOYSA-N 2,2,4,4,6,6-hexaphenoxy-1,3,5-triaza-2$l^{5},4$l^{5},6$l^{5}-triphosphacyclohexa-1,3,5-triene Chemical compound N=1P(OC=2C=CC=CC=2)(OC=2C=CC=CC=2)=NP(OC=2C=CC=CC=2)(OC=2C=CC=CC=2)=NP=1(OC=1C=CC=CC=1)OC1=CC=CC=C1 RNFJDJUURJAICM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VPWNQTHUCYMVMZ-UHFFFAOYSA-N 4,4'-sulfonyldiphenol Chemical compound C1=CC(O)=CC=C1S(=O)(=O)C1=CC=C(O)C=C1 VPWNQTHUCYMVMZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VTYYLEPIZMXCLO-UHFFFAOYSA-L Calcium carbonate Chemical compound [Ca+2].[O-]C([O-])=O VTYYLEPIZMXCLO-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229920000459 Nitrile rubber Polymers 0.000 description 2
- 229920000297 Rayon Polymers 0.000 description 2
- 150000008065 acid anhydrides Chemical class 0.000 description 2
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 2
- 125000003277 amino group Chemical group 0.000 description 2
- MWPLVEDNUUSJAV-UHFFFAOYSA-N anthracene Chemical compound C1=CC=CC2=CC3=CC=CC=C3C=C21 MWPLVEDNUUSJAV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- TZCXTZWJZNENPQ-UHFFFAOYSA-L barium sulfate Chemical compound [Ba+2].[O-]S([O-])(=O)=O TZCXTZWJZNENPQ-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- PXKLMJQFEQBVLD-UHFFFAOYSA-N bisphenol F Chemical compound C1=CC(O)=CC=C1CC1=CC=C(O)C=C1 PXKLMJQFEQBVLD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 2
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 2
- 230000002950 deficient Effects 0.000 description 2
- 239000000428 dust Substances 0.000 description 2
- 238000009713 electroplating Methods 0.000 description 2
- 125000003700 epoxy group Chemical group 0.000 description 2
- 239000003063 flame retardant Substances 0.000 description 2
- NIHNNTQXNPWCJQ-UHFFFAOYSA-N fluorene Chemical compound C1=CC=C2CC3=CC=CC=C3C2=C1 NIHNNTQXNPWCJQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000000524 functional group Chemical group 0.000 description 2
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 2
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 description 2
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000012784 inorganic fiber Substances 0.000 description 2
- 238000003475 lamination Methods 0.000 description 2
- 238000007561 laser diffraction method Methods 0.000 description 2
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 2
- 239000000155 melt Substances 0.000 description 2
- VNWKTOKETHGBQD-UHFFFAOYSA-N methane Chemical compound C VNWKTOKETHGBQD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000005065 mining Methods 0.000 description 2
- 238000007747 plating Methods 0.000 description 2
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 2
- 238000004080 punching Methods 0.000 description 2
- 238000000790 scattering method Methods 0.000 description 2
- 239000000454 talc Substances 0.000 description 2
- 229910052623 talc Inorganic materials 0.000 description 2
- 230000008646 thermal stress Effects 0.000 description 2
- WBODDOZXDKQEFS-UHFFFAOYSA-N 1,2,3,4-tetramethyl-5-phenylbenzene Chemical group CC1=C(C)C(C)=CC(C=2C=CC=CC=2)=C1C WBODDOZXDKQEFS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- POFFJVRXOKDESI-UHFFFAOYSA-N 1,3,5,7-tetraoxa-4-silaspiro[3.3]heptane-2,6-dione Chemical compound O1C(=O)O[Si]21OC(=O)O2 POFFJVRXOKDESI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XQUPVDVFXZDTLT-UHFFFAOYSA-N 1-[4-[[4-(2,5-dioxopyrrol-1-yl)phenyl]methyl]phenyl]pyrrole-2,5-dione Chemical compound O=C1C=CC(=O)N1C(C=C1)=CC=C1CC1=CC=C(N2C(C=CC2=O)=O)C=C1 XQUPVDVFXZDTLT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HECLRDQVFMWTQS-RGOKHQFPSA-N 1755-01-7 Chemical compound C1[C@H]2[C@@H]3CC=C[C@@H]3[C@@H]1C=C2 HECLRDQVFMWTQS-RGOKHQFPSA-N 0.000 description 1
- QTWJRLJHJPIABL-UHFFFAOYSA-N 2-methylphenol;3-methylphenol;4-methylphenol Chemical compound CC1=CC=C(O)C=C1.CC1=CC=CC(O)=C1.CC1=CC=CC=C1O QTWJRLJHJPIABL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BRLQWZUYTZBJKN-UHFFFAOYSA-N Epichlorohydrin Chemical compound ClCC1CO1 BRLQWZUYTZBJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005062 Polybutadiene Substances 0.000 description 1
- 239000004793 Polystyrene Substances 0.000 description 1
- 239000006087 Silane Coupling Agent Substances 0.000 description 1
- GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N Titan oxide Chemical compound O=[Ti]=O GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XSQUKJJJFZCRTK-UHFFFAOYSA-N Urea Chemical compound NC(N)=O XSQUKJJJFZCRTK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000002411 adverse Effects 0.000 description 1
- PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N aluminium oxide Inorganic materials [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3] PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OJMOMXZKOWKUTA-UHFFFAOYSA-N aluminum;borate Chemical compound [Al+3].[O-]B([O-])[O-] OJMOMXZKOWKUTA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000001412 amines Chemical class 0.000 description 1
- 239000004760 aramid Substances 0.000 description 1
- 229920003235 aromatic polyamide Polymers 0.000 description 1
- JRPBQTZRNDNNOP-UHFFFAOYSA-N barium titanate Chemical compound [Ba+2].[Ba+2].[O-][Ti]([O-])([O-])[O-] JRPBQTZRNDNNOP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910002113 barium titanate Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910001593 boehmite Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000009835 boiling Methods 0.000 description 1
- 229910000019 calcium carbonate Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000004202 carbamide Substances 0.000 description 1
- 125000001951 carbamoylamino group Chemical group C(N)(=O)N* 0.000 description 1
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 1
- 239000007795 chemical reaction product Substances 0.000 description 1
- 229910052570 clay Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000004927 clay Substances 0.000 description 1
- 239000003086 colorant Substances 0.000 description 1
- 239000002131 composite material Substances 0.000 description 1
- 238000006482 condensation reaction Methods 0.000 description 1
- 239000012787 coverlay film Substances 0.000 description 1
- 238000005336 cracking Methods 0.000 description 1
- 229930003836 cresol Natural products 0.000 description 1
- 238000005520 cutting process Methods 0.000 description 1
- XLJMAIOERFSOGZ-UHFFFAOYSA-M cyanate Chemical compound [O-]C#N XLJMAIOERFSOGZ-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 238000000113 differential scanning calorimetry Methods 0.000 description 1
- FSBVERYRVPGNGG-UHFFFAOYSA-N dimagnesium dioxido-bis[[oxido(oxo)silyl]oxy]silane hydrate Chemical compound O.[Mg+2].[Mg+2].[O-][Si](=O)O[Si]([O-])([O-])O[Si]([O-])=O FSBVERYRVPGNGG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002270 dispersing agent Substances 0.000 description 1
- 238000004299 exfoliation Methods 0.000 description 1
- 239000003365 glass fiber Substances 0.000 description 1
- 229910052736 halogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000002140 halogenating effect Effects 0.000 description 1
- 150000002367 halogens Chemical class 0.000 description 1
- 150000004677 hydrates Chemical class 0.000 description 1
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 description 1
- FAHBNUUHRFUEAI-UHFFFAOYSA-M hydroxidooxidoaluminium Chemical compound O[Al]=O FAHBNUUHRFUEAI-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 description 1
- RAXXELZNTBOGNW-UHFFFAOYSA-N imidazole Substances C1=CNC=N1 RAXXELZNTBOGNW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004615 ingredient Substances 0.000 description 1
- IQPQWNKOIGAROB-UHFFFAOYSA-N isocyanate group Chemical group [N-]=C=O IQPQWNKOIGAROB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000010030 laminating Methods 0.000 description 1
- VTHJTEIRLNZDEV-UHFFFAOYSA-L magnesium dihydroxide Chemical compound [OH-].[OH-].[Mg+2] VTHJTEIRLNZDEV-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 239000000347 magnesium hydroxide Substances 0.000 description 1
- 229910001862 magnesium hydroxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000391 magnesium silicate Substances 0.000 description 1
- 229910052919 magnesium silicate Inorganic materials 0.000 description 1
- 235000019792 magnesium silicate Nutrition 0.000 description 1
- 229910044991 metal oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000004706 metal oxides Chemical class 0.000 description 1
- 125000005641 methacryl group Chemical group 0.000 description 1
- 239000010445 mica Substances 0.000 description 1
- 229910052618 mica group Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000012046 mixed solvent Substances 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- 125000001624 naphthyl group Chemical group 0.000 description 1
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000004433 nitrogen atom Chemical group N* 0.000 description 1
- JFNLZVQOOSMTJK-KNVOCYPGSA-N norbornene Chemical compound C1[C@@H]2CC[C@H]1C=C2 JFNLZVQOOSMTJK-KNVOCYPGSA-N 0.000 description 1
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 description 1
- 150000002903 organophosphorus compounds Chemical class 0.000 description 1
- AZQWKYJCGOJGHM-UHFFFAOYSA-N para-benzoquinone Natural products O=C1C=CC(=O)C=C1 AZQWKYJCGOJGHM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004437 phosphorous atom Chemical group 0.000 description 1
- 229920003192 poly(bis maleimide) Polymers 0.000 description 1
- 229920003229 poly(methyl methacrylate) Polymers 0.000 description 1
- 229920000728 polyester Polymers 0.000 description 1
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 1
- 239000004926 polymethyl methacrylate Substances 0.000 description 1
- 229920002223 polystyrene Polymers 0.000 description 1
- 229910052814 silicon oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000004945 silicone rubber Substances 0.000 description 1
- 238000007711 solidification Methods 0.000 description 1
- 230000008023 solidification Effects 0.000 description 1
- TXDNPSYEJHXKMK-UHFFFAOYSA-N sulfanylsilane Chemical compound S[SiH3] TXDNPSYEJHXKMK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000004381 surface treatment Methods 0.000 description 1
- 230000008961 swelling Effects 0.000 description 1
- 230000000930 thermomechanical effect Effects 0.000 description 1
- 125000003396 thiol group Chemical group [H]S* 0.000 description 1
- OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N titanium oxide Inorganic materials [Ti]=O OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AAAQKTZKLRYKHR-UHFFFAOYSA-N triphenylmethane Chemical compound C1=CC=CC=C1C(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1 AAAQKTZKLRYKHR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BIKXLKXABVUSMH-UHFFFAOYSA-N trizinc;diborate Chemical compound [Zn+2].[Zn+2].[Zn+2].[O-]B([O-])[O-].[O-]B([O-])[O-] BIKXLKXABVUSMH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000391 vinyl group Chemical group [H]C([*])=C([H])[H] 0.000 description 1
- 239000004207 white and yellow bees wax Substances 0.000 description 1
- 125000006839 xylylene group Chemical group 0.000 description 1
- XAEWLETZEZXLHR-UHFFFAOYSA-N zinc;dioxido(dioxo)molybdenum Chemical compound [Zn+2].[O-][Mo]([O-])(=O)=O XAEWLETZEZXLHR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BNEMLSQAJOPTGK-UHFFFAOYSA-N zinc;dioxido(oxo)tin Chemical compound [Zn+2].[O-][Sn]([O-])=O BNEMLSQAJOPTGK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
Images
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08G—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
- C08G59/00—Polycondensates containing more than one epoxy group per molecule; Macromolecules obtained by polymerising compounds containing more than one epoxy group per molecule using curing agents or catalysts which react with the epoxy groups
- C08G59/18—Macromolecules obtained by polymerising compounds containing more than one epoxy group per molecule using curing agents or catalysts which react with the epoxy groups ; e.g. general methods of curing
- C08G59/40—Macromolecules obtained by polymerising compounds containing more than one epoxy group per molecule using curing agents or catalysts which react with the epoxy groups ; e.g. general methods of curing characterised by the curing agents used
- C08G59/4007—Curing agents not provided for by the groups C08G59/42 - C08G59/66
- C08G59/4014—Nitrogen containing compounds
- C08G59/4028—Isocyanates; Thioisocyanates
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08J—WORKING-UP; GENERAL PROCESSES OF COMPOUNDING; AFTER-TREATMENT NOT COVERED BY SUBCLASSES C08B, C08C, C08F, C08G or C08H
- C08J5/00—Manufacture of articles or shaped materials containing macromolecular substances
- C08J5/24—Impregnating materials with prepolymers which can be polymerised in situ, e.g. manufacture of prepregs
- C08J5/241—Impregnating materials with prepolymers which can be polymerised in situ, e.g. manufacture of prepregs using inorganic fibres
- C08J5/244—Impregnating materials with prepolymers which can be polymerised in situ, e.g. manufacture of prepregs using inorganic fibres using glass fibres
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B32—LAYERED PRODUCTS
- B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
- B32B15/00—Layered products comprising a layer of metal
- B32B15/04—Layered products comprising a layer of metal comprising metal as the main or only constituent of a layer, which is next to another layer of the same or of a different material
- B32B15/08—Layered products comprising a layer of metal comprising metal as the main or only constituent of a layer, which is next to another layer of the same or of a different material of synthetic resin
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B32—LAYERED PRODUCTS
- B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
- B32B15/00—Layered products comprising a layer of metal
- B32B15/04—Layered products comprising a layer of metal comprising metal as the main or only constituent of a layer, which is next to another layer of the same or of a different material
- B32B15/08—Layered products comprising a layer of metal comprising metal as the main or only constituent of a layer, which is next to another layer of the same or of a different material of synthetic resin
- B32B15/092—Layered products comprising a layer of metal comprising metal as the main or only constituent of a layer, which is next to another layer of the same or of a different material of synthetic resin comprising epoxy resins
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08G—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
- C08G59/00—Polycondensates containing more than one epoxy group per molecule; Macromolecules obtained by polymerising compounds containing more than one epoxy group per molecule using curing agents or catalysts which react with the epoxy groups
- C08G59/18—Macromolecules obtained by polymerising compounds containing more than one epoxy group per molecule using curing agents or catalysts which react with the epoxy groups ; e.g. general methods of curing
- C08G59/20—Macromolecules obtained by polymerising compounds containing more than one epoxy group per molecule using curing agents or catalysts which react with the epoxy groups ; e.g. general methods of curing characterised by the epoxy compounds used
- C08G59/22—Di-epoxy compounds
- C08G59/30—Di-epoxy compounds containing atoms other than carbon, hydrogen, oxygen and nitrogen
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08G—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
- C08G59/00—Polycondensates containing more than one epoxy group per molecule; Macromolecules obtained by polymerising compounds containing more than one epoxy group per molecule using curing agents or catalysts which react with the epoxy groups
- C08G59/18—Macromolecules obtained by polymerising compounds containing more than one epoxy group per molecule using curing agents or catalysts which react with the epoxy groups ; e.g. general methods of curing
- C08G59/20—Macromolecules obtained by polymerising compounds containing more than one epoxy group per molecule using curing agents or catalysts which react with the epoxy groups ; e.g. general methods of curing characterised by the epoxy compounds used
- C08G59/22—Di-epoxy compounds
- C08G59/30—Di-epoxy compounds containing atoms other than carbon, hydrogen, oxygen and nitrogen
- C08G59/304—Di-epoxy compounds containing atoms other than carbon, hydrogen, oxygen and nitrogen containing phosphorus
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08J—WORKING-UP; GENERAL PROCESSES OF COMPOUNDING; AFTER-TREATMENT NOT COVERED BY SUBCLASSES C08B, C08C, C08F, C08G or C08H
- C08J5/00—Manufacture of articles or shaped materials containing macromolecular substances
- C08J5/24—Impregnating materials with prepolymers which can be polymerised in situ, e.g. manufacture of prepregs
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08J—WORKING-UP; GENERAL PROCESSES OF COMPOUNDING; AFTER-TREATMENT NOT COVERED BY SUBCLASSES C08B, C08C, C08F, C08G or C08H
- C08J5/00—Manufacture of articles or shaped materials containing macromolecular substances
- C08J5/24—Impregnating materials with prepolymers which can be polymerised in situ, e.g. manufacture of prepregs
- C08J5/249—Impregnating materials with prepolymers which can be polymerised in situ, e.g. manufacture of prepregs characterised by the additives used in the prepolymer mixture
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08K—Use of inorganic or non-macromolecular organic substances as compounding ingredients
- C08K3/00—Use of inorganic substances as compounding ingredients
- C08K3/01—Use of inorganic substances as compounding ingredients characterized by their specific function
- C08K3/013—Fillers, pigments or reinforcing additives
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08L—COMPOSITIONS OF MACROMOLECULAR COMPOUNDS
- C08L51/00—Compositions of graft polymers in which the grafted component is obtained by reactions only involving carbon-to-carbon unsaturated bonds; Compositions of derivatives of such polymers
- C08L51/04—Compositions of graft polymers in which the grafted component is obtained by reactions only involving carbon-to-carbon unsaturated bonds; Compositions of derivatives of such polymers grafted on to rubbers
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08L—COMPOSITIONS OF MACROMOLECULAR COMPOUNDS
- C08L63/00—Compositions of epoxy resins; Compositions of derivatives of epoxy resins
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08L—COMPOSITIONS OF MACROMOLECULAR COMPOUNDS
- C08L71/00—Compositions of polyethers obtained by reactions forming an ether link in the main chain; Compositions of derivatives of such polymers
- C08L71/08—Polyethers derived from hydroxy compounds or from their metallic derivatives
- C08L71/10—Polyethers derived from hydroxy compounds or from their metallic derivatives from phenols
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08L—COMPOSITIONS OF MACROMOLECULAR COMPOUNDS
- C08L71/00—Compositions of polyethers obtained by reactions forming an ether link in the main chain; Compositions of derivatives of such polymers
- C08L71/08—Polyethers derived from hydroxy compounds or from their metallic derivatives
- C08L71/10—Polyethers derived from hydroxy compounds or from their metallic derivatives from phenols
- C08L71/12—Polyphenylene oxides
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05K—PRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
- H05K1/00—Printed circuits
- H05K1/02—Details
- H05K1/03—Use of materials for the substrate
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05K—PRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
- H05K1/00—Printed circuits
- H05K1/02—Details
- H05K1/03—Use of materials for the substrate
- H05K1/0313—Organic insulating material
- H05K1/0353—Organic insulating material consisting of two or more materials, e.g. two or more polymers, polymer + filler, + reinforcement
- H05K1/0366—Organic insulating material consisting of two or more materials, e.g. two or more polymers, polymer + filler, + reinforcement reinforced, e.g. by fibres, fabrics
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05K—PRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
- H05K3/00—Apparatus or processes for manufacturing printed circuits
- H05K3/46—Manufacturing multilayer circuits
Abstract
양호한 성형성 및 기재에 대한 높은 밀착성을 가짐과 함께, 분말 탈락의 발생이 적은 프리프레그, 및 낮은 열팽창률을 갖는 경화물을 형성할 수 있는 수지 조성물을 제공한다. 수지 조성물은, 에폭시 수지와, 다이사이안다이아마이드와, 페녹시 수지와, 코어 쉘 고무와, 무기 필러를 함유한다. 페녹시 수지의 중량 평균 분자량은 30000 이상이다. 페녹시 수지의 인장 신도율은 20% 이상이다. 페녹시 수지의 함유량은 에폭시 수지 100질량부에 대해서 5질량부 이상이고 30질량부 이하이다. 코어 쉘 고무의 함유량은 상기 에폭시 수지 100질량부에 대해서 3질량부 이상이고 20질량부 이하이다.A resin composition capable of forming a prepreg having good moldability and high adhesion to a base material and less occurrence of powder fall-off and a cured product having a low coefficient of thermal expansion. The resin composition contains an epoxy resin, dicyandiamide, a phenoxy resin, a core shell rubber, and an inorganic filler. The weight average molecular weight of the phenoxy resin is 30000 or more. The tensile elongation of the phenoxy resin is 20% or more. The content of the phenoxy resin is 5 parts by mass or more and 30 parts by mass or less with respect to 100 parts by mass of the epoxy resin. The content of the core-shell rubber is 3 parts by mass or more and 20 parts by mass or less with respect to 100 parts by mass of the epoxy resin.
Description
본 개시는 수지 조성물, 프리프레그, 금속 클래드 적층판, 프린트 배선판 및 플렉스 리지드 프린트 배선판에 관한 것이다.The present disclosure relates to resin compositions, prepregs, metal clad laminates, printed wiring boards, and flex-rigid printed wiring boards.
프린트 배선판 등의 제조에 이용되는 프리프레그는, 종래, 열경화성 수지를 함유하는 수지 조성물을 섬유 기재에 함침시킴과 함께, 반경화 상태가 될 때까지 가열 건조하여 형성되고 있다. 그리고, 이 프리프레그를 소정 치수로 절단 후, 소요 매수 겹침과 함께, 이 편면 혹은 양면에 금속박을 겹치고, 이것을 가열 가압하여 적층 형성하는 것에 의해, 프린트 배선판의 제조에 이용되는 금속 클래드 적층판이 제작되고 있다.Conventionally, the prepreg used for manufacture of a printed wiring board etc. is formed by impregnating a fiber base material with a resin composition containing a thermosetting resin, followed by heat drying until it becomes a semi-cured state. Then, after cutting this prepreg to a predetermined size, overlapping the required number of sheets, overlapping the metal foil on one side or both sides, heating and pressurizing this to laminate, forming a metal clad laminate used in the manufacture of a printed wiring board. A clad laminated board is produced there is.
그러나, 프리프레그는 반경화 상태이기 때문에, 취성이어서, 프리프레그를 절단할 때나 적층할 때에 분말 탈락이 발생하기 쉽다. 프리프레그의 취급 시에 발생하는 분말 탈락에 의해, 제작된 적층판이 타흔(打痕)과 같이 파여, 타흔 불량이 발생할 우려가 있다.However, since the prepreg is in a semi-cured state, it is brittle, and powder fall-off is likely to occur when the prepreg is cut or laminated. There is a possibility that the produced laminated sheet is dented like a dent due to powder fall-off occurring during handling of the prepreg, resulting in defective dent.
프리프레그로부터 분말 탈락이 발생하는 것을 저감하기 위해서, 예를 들면, 특허문헌 1에는, 에폭시 수지와 다이사이안다이아마이드 등의 경화제와 입자경이 1μm 이하인 가교 고무를 함유하는 수지 조성물이 개시되어 있다. 또한, 특허문헌 2에는, 에폭시 수지와 산 무수물로 변성된 페녹시 수지를 함유하는 에폭시 수지 조성물이 개시되어 있다.In order to reduce the occurrence of powder falling off from the prepreg, for example,
그러나, 특허문헌 1 및 특허문헌 2에 기재된 수지 조성물로부터 제작되는 프리프레그에서는, 분말 탈락의 발생은 어느 정도 저감되지만, 양호한 성형성 및 기재에 대한 높은 밀착성을 동시에 실현할 수는 없고, 또한 특허문헌 1 및 특허문헌 2에 기재된 수지 조성물에서는, 낮은 열팽창률을 갖는 경화물을 형성하는 것은 어렵다.However, in the prepregs produced from the resin compositions described in
본 개시의 목적은, 양호한 성형성 및 기재에 대한 높은 밀착성을 가짐과 함께, 분말 탈락의 발생이 적은 프리프레그, 및 낮은 열팽창률을 갖는 경화물을 형성할 수 있는 수지 조성물, 이 수지 조성물로부터 제작되는 프리프레그, 및 이 수지 조성물의 경화물을 포함하는 금속 클래드 적층판, 프린트 배선판 및 플렉스 리지드 프린트 배선판을 제공하는 것이다.An object of the present disclosure is to provide a prepreg having good formability and high adhesion to a base material and less occurrence of powder fall-off, and a resin composition capable of forming a cured product having a low coefficient of thermal expansion, and production from this resin composition It is to provide a metal clad laminated board, a printed wiring board and a flex-rigid printed wiring board containing a prepreg and a cured product of this resin composition.
본 개시에 따른 수지 조성물은, (A) 에폭시 수지와, (B) 다이사이안다이아마이드와, (C) 페녹시 수지와, (D) 코어 쉘 고무와, (E) 무기 필러를 함유한다. (C) 페녹시 수지의 중량 평균 분자량은 30000 이상이다. (C) 페녹시 수지의 인장 신도율은 20% 이상이다. (C) 페녹시 수지의 함유량은 (A) 에폭시 수지 100질량부에 대해서 5질량부 이상이고 30질량부 이하이다. (D) 코어 쉘 고무의 함유량은 (A) 에폭시 수지 100질량부에 대해서 3질량부 이상이고 20질량부 이하이다.The resin composition according to the present disclosure contains (A) an epoxy resin, (B) dicyandiamide, (C) a phenoxy resin, (D) a core shell rubber, and (E) an inorganic filler. (C) The weight average molecular weight of phenoxy resin is 30000 or more. (C) The tensile elongation of the phenoxy resin is 20% or more. (C) The content of the phenoxy resin is 5 parts by mass or more and 30 parts by mass or less with respect to 100 parts by mass of the (A) epoxy resin. (D) The content of the core-shell rubber is 3 parts by mass or more and 20 parts by mass or less with respect to 100 parts by mass of the (A) epoxy resin.
본 개시에 따른 프리프레그는, 섬유 기재와, 섬유 기재에 함침된 수지 조성물의 반경화물을 갖는다.The prepreg according to the present disclosure has a fiber substrate and a semi-cured material of a resin composition impregnated in the fiber substrate.
본 개시에 따른 금속 클래드 적층판은, 수지 조성물의 경화물을 포함하는 절연층과, 절연층에 설치된 금속층을 갖는다.A metal clad laminate according to the present disclosure has an insulating layer containing a cured product of a resin composition, and a metal layer provided on the insulating layer.
본 개시에 따른 프린트 배선판은, 수지 조성물의 경화물을 포함하는 절연층과, 절연층에 설치된 도체 배선을 갖는다.A printed wiring board according to the present disclosure has an insulating layer containing a cured product of a resin composition, and conductor wiring provided on the insulating layer.
본 개시에 따른 플렉스 리지드 프린트 배선판은, 복수의 리지드부와, 복수의 리지드부를 접속하는 플렉스부와, 복수의 리지드부 및 플렉스부 중 적어도 하나에 설치된 도체 배선을 갖고, 복수의 리지드부 중 적어도 하나는 수지 조성물의 경화물을 포함한다.A flex-rigid printed wiring board according to the present disclosure has a plurality of rigid parts, a flex part connecting the plurality of rigid parts, and a conductor wiring provided in at least one of the plurality of rigid parts and the flex part, and at least one of the plurality of rigid parts includes a cured product of a resin composition.
본 개시에 의하면, 양호한 성형성 및 기재에 대한 높은 밀착성을 가짐과 함께, 분말 탈락의 발생이 적은 프리프레그, 및 낮은 열팽창률을 갖는 경화물을 형성할 수 있는 수지 조성물, 이 수지 조성물로부터 제작되는 프리프레그, 및 이 수지 조성물의 경화물을 포함하는 금속 클래드 적층판, 프린트 배선판 및 플렉스 리지드 프린트 배선판을 얻을 수 있다.According to the present disclosure, a prepreg having good moldability and high adhesion to a base material and less occurrence of powder fall-off, and a resin composition capable of forming a cured product having a low coefficient of thermal expansion, and produced from the resin composition A metal clad laminated board, a printed wiring board, and a flex-rigid printed wiring board containing a prepreg and a cured product of this resin composition can be obtained.
도 1은 본 개시의 일 실시형태에 따른 프리프레그의 단면도이다.
도 2는 본 개시의 일 실시형태에 따른 금속 클래드 적층판의 단면도이다.
도 3a는 본 개시의 일 실시형태에 따른, 단층 구조의 프린트 배선판의 단면도이다.
도 3b는 본 개시의 일 실시형태에 따른, 다층 구조의 프린트 배선판의 단면도이다.
도 4는 본 개시의 제 1 실시형태에 따른 플렉스 리지드 프린트 배선판의 단면도이다.
도 5는 본 개시의 제 2 실시형태에 따른 플렉스 리지드 프린트 배선판의 단면도이다.
도 6은 본 개시의 제 3 실시형태에 따른 플렉스 리지드 프린트 배선판의 단면도이다.1 is a cross-sectional view of a prepreg according to an embodiment of the present disclosure.
2 is a cross-sectional view of a metal clad laminate according to an embodiment of the present disclosure.
3A is a cross-sectional view of a printed wiring board having a single-layer structure, according to an embodiment of the present disclosure.
3B is a cross-sectional view of a multi-layered printed wiring board according to an embodiment of the present disclosure.
4 is a cross-sectional view of a flex-rigid printed wiring board according to the first embodiment of the present disclosure.
5 is a cross-sectional view of a flex-rigid printed wiring board according to a second embodiment of the present disclosure.
6 is a cross-sectional view of a flex-rigid printed wiring board according to a third embodiment of the present disclosure.
이하, 본 개시의 실시형태를 설명한다.Hereinafter, embodiments of the present disclosure will be described.
[본 실시형태에 따른 수지 조성물][Resin composition according to the present embodiment]
본 실시형태에 따른 수지 조성물(이하, 조성물(X)라고 함)은, (A) 에폭시 수지와, (B) 다이사이안다이아마이드와, (C) 페녹시 수지와, (D) 코어 쉘 고무와, (E) 무기 필러를 함유한다. (C) 페녹시 수지의 중량 평균 분자량은 30000 이상이다. (C) 페녹시 수지의 인장 신도율은 20% 이상이다. (C) 페녹시 수지의 함유량은 (A) 에폭시 수지 100질량부에 대해서 5질량부 이상이고 30질량부 이하이다. (D) 코어 쉘 고무의 함유량은 (A) 에폭시 수지 100질량부에 대해서 3질량부 이상이고 20질량부 이하이다.The resin composition (hereinafter referred to as composition (X)) according to the present embodiment includes (A) an epoxy resin, (B) dicyandiamide, (C) a phenoxy resin, and (D) a core shell rubber , (E) contains an inorganic filler. (C) The weight average molecular weight of phenoxy resin is 30000 or more. (C) The tensile elongation of the phenoxy resin is 20% or more. (C) The content of the phenoxy resin is 5 parts by mass or more and 30 parts by mass or less with respect to 100 parts by mass of the (A) epoxy resin. (D) The content of the core-shell rubber is 3 parts by mass or more and 20 parts by mass or less with respect to 100 parts by mass of the (A) epoxy resin.
본 실시형태에서는, 조성물(X)가, 상기의 구성을 갖기 때문에, 조성물(X)로부터 제작되는 프리프레그는, 양호한 성형성 및 기재에 대한 높은 밀착성을 가짐과 함께, 분말 탈락의 발생이 적다. 또, 조성물(X)의 경화물은 낮은 열팽창률을 갖는다.In the present embodiment, since the composition (X) has the above structure, the prepreg produced from the composition (X) has good formability and high adhesion to the substrate, and there is little powder drop-off. In addition, the cured product of the composition (X) has a low coefficient of thermal expansion.
조성물(X)가 함유하는 성분에 대하여, 더 상세하게 설명한다.The components contained in the composition (X) will be described in more detail.
<(A) 에폭시 수지><(A) Epoxy Resin>
(A) 에폭시 수지(이하, (A) 성분이라고 함)는 조성물(X)에 열경화성을 부여할 수 있다. 또한, 조성물(X)가 (A) 성분을 함유함으로써, 조성물(X)의 경화물은 양호한 내열성을 가질 수 있다.(A) The epoxy resin (hereinafter referred to as component (A)) can impart thermosetting properties to the composition (X). In addition, when the composition (X) contains the component (A), the cured product of the composition (X) can have good heat resistance.
(A) 성분으로서는, 예를 들면, 비스페놀 A형 에폭시 수지, 비스페놀 F형 에폭시 수지, 비스페놀 S형 에폭시 수지 등의 비스페놀형 에폭시 수지; 페놀 노볼락형 에폭시 수지, 크레졸 노볼락형 에폭시 수지 등의 노볼락형 에폭시 수지; 바이페닐형 에폭시 수지, 자일릴렌형 에폭시 수지, 페놀 아르알킬형 에폭시 수지, 바이페닐 아르알킬형 에폭시 수지, 바이페닐 노볼락형 에폭시 수지, 바이페닐 다이메틸렌형 에폭시 수지, 트리스페놀 메테인 노볼락형 에폭시 수지, 테트라메틸 바이페닐형 에폭시 수지 등의 아릴 알킬렌형 에폭시 수지; 4작용 나프탈렌형 에폭시 수지 등의 나프탈렌형 에폭시 수지; 나프탈렌 골격 변성 크레졸 노볼락형 에폭시 수지, 나프탈렌 다이올 아르알킬형 에폭시 수지, 나프톨 아르알킬형 에폭시 수지, 메톡시 나프탈렌 변성 크레졸 노볼락형 에폭시 수지, 메톡시 나프탈렌 다이메틸렌형 에폭시 수지 등의 나프탈렌 골격 변성 에폭시 수지; 트라이페닐메테인형 에폭시 수지; 안트라센형 에폭시 수지; 다이사이클로펜타다이엔형 에폭시 수지; 노보넨형 에폭시 수지; 플루오렌형 에폭시 수지; 상기 에폭시 수지를 할로젠화한 난연화 에폭시 수지; 인 변성 에폭시 수지 등을 들 수 있다. (A) 성분은 이들 중 1종을 단독으로 사용해도 되고, 2종 이상을 병용해도 된다.Examples of the component (A) include bisphenol type epoxy resins such as bisphenol A type epoxy resin, bisphenol F type epoxy resin, and bisphenol S type epoxy resin; novolac-type epoxy resins such as phenol novolac-type epoxy resins and cresol novolak-type epoxy resins; Biphenyl type epoxy resin, xylylene type epoxy resin, phenol aralkyl type epoxy resin, biphenyl aralkyl type epoxy resin, biphenyl novolac type epoxy resin, biphenyl dimethylene type epoxy resin, trisphenol methane novolak type aryl alkylene type epoxy resins such as epoxy resins and tetramethyl biphenyl type epoxy resins; naphthalene type epoxy resins such as tetrafunctional naphthalene type epoxy resins; Naphthalene skeleton modification of naphthalene skeleton modified cresol novolak type epoxy resin, naphthalene diol aralkyl type epoxy resin, naphthol aralkyl type epoxy resin, methoxy naphthalene modified cresol novolak type epoxy resin, methoxy naphthalene dimethylene type epoxy resin, etc. epoxy resin; triphenylmethane type epoxy resin; Anthracene type epoxy resin; dicyclopentadiene type epoxy resins; norbornene type epoxy resin; fluorene type epoxy resin; Flame retardant epoxy resin obtained by halogenating the epoxy resin; A phosphorus modified epoxy resin etc. are mentioned. (A) component may be used individually by 1 type among these, and may use 2 or more types together.
조성물(X)가, 중량 평균 분자량이 30000 이상이고, 또한 인장 신도율이 20% 이상인 비스페놀 A형 에폭시 수지를 함유하는 경우, 이 비스페놀 A형 에폭시 수지는 (C) 성분의 페녹시 수지로서 조성물(X)에 함유된다. 그 때문에, (A) 성분으로서 함유되는 비스페놀 A형 에폭시 수지는, 중량 평균 분자량이 30000 미만인 비스페놀 A형 에폭시 수지, 인장 신도율이 20% 미만인 비스페놀 A형 에폭시 수지, 또는 중량 평균 분자량이 30000 미만이고 또한 인장 신도율이 20% 미만인 비스페놀 A형 에폭시 수지이다.When the composition (X) contains a bisphenol A-type epoxy resin having a weight average molecular weight of 30000 or more and a tensile elongation of 20% or more, the bisphenol A-type epoxy resin is the composition as the phenoxy resin of component (C) ( X) is contained in Therefore, the bisphenol A type epoxy resin contained as component (A) is a bisphenol A type epoxy resin having a weight average molecular weight of less than 30000, a bisphenol A type epoxy resin having a tensile elongation of less than 20%, or a weight average molecular weight of less than 30000 Further, it is a bisphenol A type epoxy resin having a tensile elongation of less than 20%.
(A) 성분은 인 변성 에폭시 수지를 함유하는 것이 바람직하다. 인 변성 에폭시 수지란, 인 원자를 함유하는 에폭시 수지를 의미한다. (A) 성분이 인 변성 에폭시 수지를 함유하는 경우, 할로젠계 난연제를 첨가하지 않더라도 조성물(X)의 경화물에 난연성을 부여할 수 있기 때문에, 친환경적이다.(A) It is preferable that component contains a phosphorus modified epoxy resin. The phosphorus-modified epoxy resin means an epoxy resin containing a phosphorus atom. When the component (A) contains a phosphorus-modified epoxy resin, flame retardancy can be imparted to the cured product of the composition (X) without adding a halogen-based flame retardant, which is environmentally friendly.
인 변성 에폭시 수지로서는, 특별히 한정되지 않지만, 예를 들면, 유기 인 화합물과 퀴논 화합물을 반응시키고, 이 반응에서 생성되는 반응 생성물과, 에폭시 수지를 반응시켜 얻어지는 인 변성 에폭시 수지를 이용할 수 있다.The phosphorus-modified epoxy resin is not particularly limited. For example, a phosphorus-modified epoxy resin obtained by reacting an organic phosphorus compound with a quinone compound and reacting a reaction product generated in this reaction with an epoxy resin can be used.
(A) 성분이 인 변성 에폭시 수지를 함유하는 경우, 인 변성 에폭시 수지는 하기 식(1)로 표시되는 구조를 갖는 것이 바람직하다. 이 경우, 조성물(X)의 경화물은 우수한 난연성을 가질 수 있다.(A) When a component contains a phosphorus-modified epoxy resin, it is preferable that a phosphorus-modified epoxy resin has a structure represented by following formula (1). In this case, the cured product of the composition (X) may have excellent flame retardancy.
(A) 성분의 함유량은 조성물(X) 100질량부에 대해서 40질량부 이상이고 80질량부 이하의 범위 내인 것이 바람직하다. 이 경우, 조성물(X)는 충분한 열경화성을 가질 수 있다. (A) 성분의 함유량은 조성물(X) 100질량부에 대해서 50질량부 이상이고 70질량부 이하의 범위 내인 것이 더 바람직하다.The content of component (A) is preferably within the range of 40 parts by mass or more and 80 parts by mass or less with respect to 100 parts by mass of composition (X). In this case, the composition (X) may have sufficient thermosetting properties. The content of component (A) is more preferably within the range of 50 parts by mass or more and 70 parts by mass or less with respect to 100 parts by mass of composition (X).
(A) 성분이 인 변성 에폭시 수지를 함유하는 경우, 인 변성 에폭시 수지는 (A) 성분 100질량부 중의 인 농도가 1% 이상이 되도록 함유되어 있는 것이 바람직하다. 이 경우, 조성물(X)의 경화물은 보다 높은 난연성을 가질 수 있다. 인 변성 에폭시 수지는 (A) 성분 100질량부 중의 인 농도가 1.5% 이상이 되도록 함유되어 있는 것이 더 바람직하다.When the component (A) contains a phosphorus-modified epoxy resin, the phosphorus-modified epoxy resin is preferably contained so that the phosphorus concentration in 100 parts by mass of the component (A) is 1% or more. In this case, the cured product of composition (X) can have higher flame retardance. It is more preferable that the phosphorus-modified epoxy resin is contained so that the phosphorus concentration in 100 parts by mass of component (A) is 1.5% or more.
<(B) 다이사이안다이아마이드><(B) dicyandiamide>
(B) 다이사이안다이아마이드(이하, (B) 성분이라고 함)는 경화제로서 기능한다. 조성물(X)가 (B) 성분을 경화제로서 함유하면, 예를 들면 페놀계 경화제를 함유하는 경우와 비교하여, 조성물(X)가 가열되어 경화될 때의 경화 속도가 느려지기 때문에, 조성물(X)의 반경화물 및 경화물은 취성이 되기 어렵다. 이 때문에, 조성물(X)로부터 제작되는 프리프레그의 분말 탈락을 저감할 수 있다. 또, 조성물(X)가 (B) 성분을 경화제로서 함유하면, 페놀계 경화제를 함유하는 경우와 비교하여, 조성물(X)의 반경화물 및 경화물은, 특히 폴리이미드 기재에 대한 보다 높은 밀착성을 갖는다. 폴리이미드 기재는, 프린트 배선판의 커버 레이 등으로서 적합하게 사용되기 때문에, 조성물(X)로부터 제작되는 프리프레그는 프린트 배선판을 제작하기 위한 기판 재료로서 유효하게 이용될 수 있다.(B) dicyandiamide (hereinafter referred to as component (B)) functions as a curing agent. When the composition (X) contains the component (B) as a curing agent, the curing rate when the composition (X) is heated and cured is slowed compared to the case where, for example, a phenolic curing agent is contained, the composition (X ) of semi-cured material and hardened material are difficult to become brittle. For this reason, powder fall-off of the prepreg produced from composition (X) can be reduced. In addition, when the composition (X) contains the component (B) as a curing agent, compared to the case where the phenolic curing agent is contained, the semi-cured product and the cured product of the composition (X) have higher adhesion to the polyimide substrate in particular. have Since the polyimide substrate is suitably used as a cover lay of a printed wiring board or the like, a prepreg produced from the composition (X) can be effectively used as a substrate material for producing a printed wiring board.
(B) 성분은, 조성물(X)에 있어서, (A) 성분의 에폭시 당량 1에 대해서, (B) 성분의 활성 수소 당량이 0.3 이상이고 0.8 이하의 범위 내가 되도록 함유되어 있는 것이 바람직하고, 0.4 이상이고 0.7 이하의 범위 내가 되도록 함유되어 있는 것이 보다 바람직하다. 한편, 에폭시 당량이란, 에폭시 수지의 분자 중에 포함되는 에폭시기의 수에 대한 에폭시 수지의 분자량의 비이다. 또한, 활성 수소 당량이란, 경화제로서 이용하는 화합물 중의 아미노기의 질소 원자에 직결하는 활성 수소의 수에 대한 경화제로서 이용하는 화합물의 분자량의 비이다.Component (B) is contained in the composition (X) so that the active hydrogen equivalent of component (B) is within the range of 0.3 or more and 0.8 or less with respect to 1 epoxy equivalent of component (A), preferably 0.4 It is more preferable that it is contained so that it may fall within the range of 0.7 or less. On the other hand, the epoxy equivalent is the ratio of the molecular weight of the epoxy resin to the number of epoxy groups contained in the molecule of the epoxy resin. In addition, the active hydrogen equivalent is the ratio of the molecular weight of the compound used as a curing agent to the number of active hydrogens directly connected to the nitrogen atom of the amino group in the compound used as a curing agent.
<(C) 페녹시 수지><(C) Phenoxy Resin>
(C) 페녹시 수지(이하, (C) 성분이라고 함)는 비스페놀류와 에피클로로하이드린의 축합 반응에 의해, 직쇄상으로 고분자화된 수지이다. (C) 성분은 조성물(X)로부터 제작되는 프리프레그에 가요성을 부여하여, 분말 탈락의 발생을 저감시킬 수 있다. 또한, 조성물(X)가 (C) 성분을 함유함으로써, 조성물(X)의 반경화물 및 경화물은, 특히 폴리이미드 기재에 대한 양호한 밀착성을 가질 수 있다.(C) The phenoxy resin (hereinafter referred to as component (C)) is a linearly polymerized resin by a condensation reaction between bisphenols and epichlorohydrin. Component (C) imparts flexibility to the prepreg produced from the composition (X), and can reduce the occurrence of powder fall-off. In addition, when the composition (X) contains the component (C), the semi-cured and cured products of the composition (X) can have particularly good adhesion to the polyimide substrate.
(C) 성분의 중량 평균 분자량은 30000 이상이다. (C) 성분의 중량 평균 분자량이 30000 이상임으로써, 조성물(X)로부터 제작되는 프리프레그의 분말 탈락의 발생을 저감할 수 있다. (C) 성분의 중량 평균 분자량의 상한은 특별히 한정되지 않지만, 예를 들면 100000 이하인 것이 바람직하다.(C) The weight average molecular weight of component is 30000 or more. (C) When the component has a weight average molecular weight of 30000 or more, occurrence of powder drop-off of the prepreg prepared from the composition (X) can be reduced. (C) Although the upper limit of the weight average molecular weight of component is not specifically limited, For example, it is preferable that it is 100000 or less.
(C) 성분의 인장 신도율은 20% 이상이다. (C) 성분의 인장 신도율이 20% 이상임으로써, 조성물(X)로부터 제작되는 프리프레그에 충분한 가요성을 부여할 수 있기 때문에, 조성물(X)로부터 제작되는 프리프레그의 분말 탈락을 저감할 수 있다. 인장 신도율의 측정은 오토그래프를 이용하여 행할 수 있다.(C) The tensile elongation rate of component is 20 % or more. Since the tensile elongation of component (C) is 20% or more, sufficient flexibility can be imparted to the prepreg produced from the composition (X), so that the prepreg produced from the composition (X) can reduce powder fall-off. there is. The measurement of tensile elongation can be performed using an autograph.
(C) 성분으로서는, 예를 들면, 신닛테쓰주금화학 주식회사제의 품번 「YP-50」, 「YP50S」 등을 이용할 수 있다.As the component (C), for example, product numbers "YP-50" and "YP50S" manufactured by Nippon-Steel Sakekin Chemical Co., Ltd. can be used.
(C) 성분의 함유량은 (A) 성분 100질량부에 대해서 5∼30질량부이다. (C) 성분의 함유량이 이 범위 내인 경우, 조성물(X)로부터 제작되는 프리프레그의 성형성을 저하시키는 일 없이, 조성물(X)로부터 제작되는 프리프레그의 분말 탈락의 발생을 저감시킬 수 있다. 또, (C) 성분의 함유량이 이 범위 내임으로써, 조성물(X)의 반경화물 및 경화물의 폴리이미드 기재에 대한 밀착성이 저하되기 어려워지기 때문에, 조성물(X)의 반경화물 및 경화물은, 특히 폴리이미드 기재에 대한 양호한 밀착성을 가질 수 있다.The content of component (C) is 5 to 30 parts by mass with respect to 100 parts by mass of component (A). When the content of component (C) is within this range, it is possible to reduce the occurrence of powder fall-off of the prepreg produced from the composition (X) without reducing the moldability of the prepreg produced from the composition (X). In addition, when the content of component (C) is within this range, the adhesiveness of the semi-cured and cured product to the polyimide substrate is less likely to decrease, so the semi-cured and cured product of the composition (X) It can have good adhesion to the polyimide substrate.
<(D) 코어 쉘 고무><(D) Core Shell Rubber>
(D) 코어 쉘 고무(이하, (D) 성분이라고 함)는, 조성물(X)를 경화시켰을 때의 경화물의 유리전이온도에 큰 영향을 주는 일 없이, 조성물(X)로부터 제작되는 프리프레그 및 경화물에 가요성을 부여할 수 있다. 이 때문에, 조성물(X)로부터 제작되는 프리프레그의 분말 탈락이 저감된다. 또, 조성물(X)가 (D) 성분을 함유함으로써, 조성물(X)는 양호한 기재에 대한 함침성을 가져, 조성물(X)로부터 제작되는 프리프레그는 양호한 성형성을 가질 수 있다.(D) The core-shell rubber (hereinafter referred to as component (D)) is a prepreg produced from the composition (X) without significantly affecting the glass transition temperature of the cured product when the composition (X) is cured. Flexibility can be imparted to the cured product. For this reason, powder fall-off of the prepreg produced from composition (X) is reduced. In addition, when the composition (X) contains the component (D), the composition (X) has good impregnability to substrates, and a prepreg produced from the composition (X) can have good moldability.
(D) 성분은 고무 입자의 집합체이다. 고무 입자는, 코어부와, 코어부를 둘러싸는 쉘부를 갖는다. 즉, 고무 입자는, 코어부와 쉘부에 각각 상이한 재료를 포함하는 복합 재료이다.Component (D) is an aggregate of rubber particles. The rubber particle has a core portion and a shell portion surrounding the core portion. That is, the rubber particle is a composite material containing different materials for the core portion and the shell portion, respectively.
코어부는, 특별히 한정되지 않지만, 예를 들면, 실리콘·아크릴 고무, 아크릴 고무, 실리콘 고무, 나이트릴 고무, 뷰타다이엔 고무 등을 포함해도 된다. 코어부는 실리콘·아크릴 고무 또는 아크릴 고무를 포함하는 것이 바람직하다. 이 경우, 조성물(X)로부터 제작되는 프리프레그 및 경화물에 보다 높은 가요성을 부여할 수 있다.The core portion is not particularly limited, but may also include, for example, silicone/acrylic rubber, acrylic rubber, silicone rubber, nitrile rubber, butadiene rubber, and the like. It is preferable that the core part contains silicone/acrylic rubber or acrylic rubber. In this case, higher flexibility can be imparted to the prepreg and cured product produced from the composition (X).
쉘부는, 특별히 한정되지 않지만, 예를 들면, 코어부에 결합된 복수의 그래프트쇄로 이루어져 있어도 된다. 그래프트쇄는 작용기를 갖고 있어도 된다. 작용기로서는, 예를 들면, 메타크릴기, 아크릴기, 바이닐기, 에폭시기, 아미노기, 유레이도기, 머캅토기, 아이소사이아네이트기를 들 수 있다. 또한, 쉘부는, 예를 들면, 폴리메타크릴산 메틸, 폴리스타이렌 등의 중합체로 구성되어도 된다.The shell portion is not particularly limited, but may consist, for example, of a plurality of graft chains bonded to the core portion. The graft chain may have a functional group. As a functional group, a methacryl group, an acryl group, a vinyl group, an epoxy group, an amino group, a ureido group, a mercapto group, and an isocyanate group are mentioned, for example. In addition, the shell part may be constituted of polymers such as polymethyl methacrylate and polystyrene, for example.
고무 입자의 형상이나 입경은 특별히 한정되지 않는다. 고무 입자의 평균 입경은, 예를 들면 0.1∼2.0μm인 것이 바람직하다. 고무 입자의 평균 입경은 레이저 회절·산란법에 의한 입도 분포의 측정값으로부터 산출되는 체적 기준의 메디안 직경이고, 시판 중인 레이저 해석·산란식 입도 분포 측정 장치를 이용하여 얻어진다.The shape and particle size of the rubber particles are not particularly limited. It is preferable that the average particle diameter of rubber particle is 0.1-2.0 micrometer, for example. The average particle diameter of the rubber particles is the volume-based median diameter calculated from the measured values of the particle size distribution by the laser diffraction/scattering method, and is obtained using a commercially available laser analysis/scattering type particle size distribution analyzer.
(D) 성분으로서는, 예를 들면, 미쓰비시레이온 주식회사제의 품번 「SRK200A」, 「S2100」, 「SX-005」, 「S-2001」, 「S-2006」, 「S-2030」, 「S-2200」, 「SX-006」, 「W-450A」, 「E-901」, 「C-223A」; 아이카공업 주식회사제의 품번 「AC3816」, 「AC3816N」, 「AC3832」, 「AC4030」, 「AC3364」, 「IM101」; 주식회사 가네카제의 「MX-217」, 「MX-153」, 「MX-960」 등을 이용할 수 있다.(D) As a component, for example, product numbers "SRK200A", "S2100", "SX-005", "S-2001", "S-2006", "S-2030", "S" manufactured by Mitsubishi Rayon Co., Ltd. -2200”, “SX-006”, “W-450A”, “E-901”, “C-223A”; Part number "AC3816", "AC3816N", "AC3832", "AC4030", "AC3364", "IM101" made by Aika Kogyo Co., Ltd.; "MX-217", "MX-153", "MX-960", etc. made by Kaneka Co., Ltd. can be used.
(D) 성분의 함유량은 (A) 성분 100질량부에 대해서 3질량부 이상이고 20질량부 이하이다. (D) 성분의 함유량이 이 범위 내인 경우, 조성물(X)로부터 제작되는 프리프레그는 양호한 기재 밀착성을 가질 수 있다. 또, 이 경우, 조성물(X)의 경화물의 열팽창률이 지나치게 높아지는 것을 억제할 수 있다.The content of component (D) is 3 parts by mass or more and 20 parts by mass or less with respect to 100 parts by mass of component (A). When the content of component (D) is within this range, the prepreg produced from composition (X) can have good substrate adhesion. Moreover, in this case, it can suppress that the thermal expansion coefficient of the hardened|cured material of composition (X) becomes high too much.
<(E) 무기 필러><(E) inorganic filler>
조성물(X)가 (E) 무기 필러(이하, (E) 성분이라고 함)를 함유함으로써, 조성물(X)의 경화물은 낮은 열팽창률을 가질 수 있다. 조성물(X)가 (D) 성분을 함유하는 경우, 조성물(X)의 경화물의 열팽창률은 높아지기 쉽다. 그러나, 조성물(X)가 (E) 성분을 함유함으로써, 조성물(X)의 경화물은 낮은 열팽창률을 가질 수 있기 때문에, 조성물(X)의 경화물은 열응력을 받더라도, 휨 등의 변형이나 크랙의 발생이 적다.When the composition (X) contains the (E) inorganic filler (hereinafter referred to as component (E)), the cured product of the composition (X) can have a low coefficient of thermal expansion. When composition (X) contains component (D), the thermal expansion coefficient of the hardened|cured material of composition (X) tends to become high. However, since the cured product of composition (X) can have a low coefficient of thermal expansion by containing component (E) in composition (X), even if the cured product of composition (X) receives thermal stress, deformation such as warping or Less occurrence of cracks.
(E) 성분은, 특별히 한정되지 않지만, 예를 들면, 수산화 알루미늄, 실리카, 황산 바륨, 산화 규소 분말, 파쇄 실리카, 소성 탤크, 몰리브데넘산 아연 피복 탤크, 타이타늄산 바륨, 산화 타이타늄, 클레이, 알루미나, 마이카, 베마이트, 붕산 아연, 주석산 아연, 그 밖의 금속 산화물이나 금속 수화물, 탄산 칼슘, 수산화 마그네슘, 규산 마그네슘, 유리 단(短)섬유, 붕산 알루미늄 위스커, 탄산 규소 위스커 등을 포함해도 된다. (E) 성분으로서, 이들 무기 필러를 1종 단독으로 사용해도 되고, 2종 이상을 병용해도 된다. (E) 성분은 수산화 알루미늄 및 실리카 중 적어도 하나를 함유하는 것이 바람직하다.Component (E) is not particularly limited, and examples thereof include aluminum hydroxide, silica, barium sulfate, silicon oxide powder, crushed silica, calcined talc, zinc molybdate-coated talc, barium titanate, titanium oxide, clay, Alumina, mica, boehmite, zinc borate, zinc stannate, other metal oxides or metal hydrates, calcium carbonate, magnesium hydroxide, magnesium silicate, short glass fibers, aluminum borate whiskers, silicon carbonate whiskers, and the like may also be included. (E) As a component, these inorganic fillers may be used individually by 1 type, and may use 2 or more types together. Component (E) preferably contains at least one of aluminum hydroxide and silica.
(E) 성분의 형상이나 입경은 특별히 한정되지 않는다. (E) 성분의 평균 입경은, 예를 들면 0.1∼5.0μm인 것이 바람직하다. (E) 성분의 평균 입경은 레이저 회절·산란법에 의한 입도 분포의 측정값으로부터 산출되는 체적 기준의 메디안 직경이고, 시판 중인 레이저 해석·산란식 입도 분포 측정 장치를 이용하여 얻어진다.(E) The shape and particle size of component are not specifically limited. (E) It is preferable that the average particle diameter of component is 0.1-5.0 micrometer, for example. The average particle diameter of component (E) is a volume-based median diameter calculated from measured values of particle size distribution by a laser diffraction/scattering method, and is obtained using a commercially available laser analysis/scattering particle size distribution analyzer.
(E) 성분은 커플링제 등에 의해 표면 처리가 실시되어 있어도 된다. 이에 의해, 조성물(X)의 경화물의 기재에 대한 밀착성을 높일 수 있다. 커플링제로서는, 예를 들면, 에폭시실레인 커플링제, 머캅토실레인 커플링제 등의 실레인 커플링제를 이용할 수 있다.(E) Component may be subjected to surface treatment with a coupling agent or the like. As a result, the adhesion of the cured product of the composition (X) to the substrate can be improved. As a coupling agent, silane coupling agents, such as an epoxysilane coupling agent and a mercaptosilane coupling agent, can be used, for example.
(E) 성분의 함유량은 (A) 성분 100질량부에 대해서 5질량부 이상이고 100질량부 이하인 것이 바람직하다. (E) 성분의 함유량이 이 범위 내인 경우, 조성물(X)로부터 제작되는 프리프레그의 분말 탈락성에 악영향을 주는 일 없이, 조성물(X)의 경화물의 열팽창률을 낮게 할 수 있다. (E) 성분의 함유량은 (A) 성분 100질량부에 대해서 10질량부 이상이고 70질량부 이하인 것이 더 바람직하다.It is preferable that content of component (E) is 5 parts by mass or more and 100 parts by mass or less with respect to 100 parts by mass of component (A). When the content of the component (E) is within this range, the thermal expansion coefficient of the cured product of the composition (X) can be lowered without adversely affecting the powder drop-off property of the prepreg produced from the composition (X). The content of component (E) is more preferably 10 parts by mass or more and 70 parts by mass or less with respect to 100 parts by mass of component (A).
<그 밖의 성분><Other ingredients>
조성물(X)는, 본 발명의 효과가 저해되지 않는 경우, 상기의 (A) 성분, (B) 성분, (C) 성분, (D) 성분 및 (E) 성분 이외의 성분을 포함하고 있어도 된다. 조성물(X)는, 예를 들면 분산제, 착색제, 밀착성 부여제, 경화 촉진제, 유기 용제, 그 밖의 수지, 및 첨가제를 포함하고 있어도 된다.Composition (X) may contain components other than the above components (A), (B), (C), (D) and (E), as long as the effects of the present invention are not impaired. . Composition (X) may contain, for example, a dispersant, a colorant, an adhesion imparting agent, a curing accelerator, an organic solvent, other resins, and additives.
조성물(X)는, 본 발명의 효과가 저해되지 않는 경우, 예를 들면 (A) 성분 및 (C) 성분 이외의 수지를 함유해도 된다. 조성물(X)는, 예를 들면 페놀 수지, 비스말레이미드 수지, 사이아네이트 수지 등을 함유해도 된다.Composition (X) may contain resins other than component (A) and component (C), for example, if the effect of the present invention is not impaired. Composition (X) may contain, for example, a phenol resin, a bismaleimide resin, or a cyanate resin.
또한, 조성물(X)는, 본 발명의 효과가 저해되지 않는 경우, 예를 들면 (B) 성분 이외의 경화제를 함유해도 된다. (B) 성분 이외의 경화제로서는, 예를 들면 다이사이안다이아마이드 이외의 아민계 경화제, 요소계 경화제, 산 무수물계 경화제 등을 들 수 있다.In addition, composition (X) may contain, for example, a curing agent other than component (B), in the case where the effect of the present invention is not impaired. Examples of curing agents other than component (B) include amine-based curing agents other than dicyandiamide, urea-based curing agents, and acid anhydride-based curing agents.
[본 실시형태에 따른 프리프레그(1)][
도 1을 참조하여, 본 실시형태에 따른 프리프레그(1)를 설명한다.Referring to Fig. 1, a
본 실시형태에 따른 프리프레그(1)는, 섬유 기재(12)와, 섬유 기재(12)에 함침된 조성물(X)의 반경화물(11)을 갖는다.The
섬유 기재(12)는, 특별히 한정되지 않지만, 예를 들면, 종사 및 횡사가 거의 직교하도록 짜진 평직 기재 등의 직포 기재를 이용할 수 있다. 섬유 기재(12)로서, 예를 들면, 무기 섬유로 이루어지는 직포 기재, 유기 섬유로 이루어지는 직포 기재 등을 이용할 수 있다. 무기 섬유로 이루어지는 직포 기재로서는, 예를 들면 유리 클로스 등을 들 수 있다. 유기 섬유로 이루어지는 직포 기재로서는, 예를 들면 아라미드 클로스, 폴리에스터 클로스 등을 들 수 있다.Although the
프리프레그(1)는, 예를 들면, 조성물(X)를 섬유 기재(12)에 함침시키고, 이것을 반경화 상태가 될 때까지 가열 건조하는 것에 의해 형성할 수 있다. 반경화 상태로 하게 할 때의 온도 조건이나 시간은, 예를 들면 170∼200℃, 30∼90분간으로 할 수 있다. 한편, 반경화 상태란, 이른바 프리프레그 등에서의 B 스테이지 상태이다. 즉, A 스테이지 상태(바니시 상태)의 수지 조성물을 가열에 의해, C 스테이지 상태(경화 상태)로 경화시키는 중간 단계에 있는 수지 조성물이다.The
이와 같이 해서 형성되는 프리프레그(1)는, 조성물(X)를 사용하여 형성되고 있기 때문에, 전술한 바와 같이, 양호한 성형성 및 기재에 대한 높은 밀착성을 가질 뿐 아니라, 분말 탈락의 발생이 적다. 이 때문에, 프리프레그(1)를 취급할 때나 프리프레그(1)로부터 적층판을 제작할 때에 발생하는 분말 탈락에 의해, 제작된 적층판이 타흔과 같이 파여, 타흔 불량이 발생하는 것을 억제할 수 있다. 예를 들면, 후술과 같이 프리프레그(1)를 이용하여 플렉스 리지드 프린트 배선판을 제조하는 경우, 프리프레그(1)를 금형 가공 등으로 타발함으로써, 프리프레그(1)에 개구부를 설치하여 이용하는 경우가 있다. 개구부가 설치된 프리프레그(1)를 플렉스 리지드 프린트 배선판의 제조에 이용되는 코어재 상에 적층하는 경우에, 프리프레그(1)의 단면이나 개구부의 내주면으로부터의 분말 탈락에 의해, 코어재 상에 타흔이 발생하거나, 분말 탈락된 분말에 의해 불량이 생기거나 하는 것을 막을 수 있다. 그 때문에, 조성물(X)를 사용하여 형성되는 프리프레그(1)는 고성능의 프린트 배선판을 제작하기 위한 재료로서 유효하게 이용될 수 있다.Since the
[본 실시형태에 따른 금속 클래드 적층판(2)][Metal clad laminated
도 2를 참조하여, 본 실시형태에 따른 금속 클래드 적층판(2)을 설명한다.Referring to Fig. 2, a metal clad
본 실시형태에 따른 금속 클래드 적층판(2)은, 조성물(X)의 경화물을 포함하는 절연층(10)과, 절연층(10)에 설치된 금속층(20)을 갖는다.The metal clad
금속층(20)은 절연층(10)의 적어도 한쪽 면에 설치된다. 즉, 금속 클래드 적층판(2)의 구성은, 절연층(10)과, 절연층(10)의 한쪽 면에 배치된 금속층(20)을 갖는 2층 구성이어도 되고, 절연층(10)과, 절연층(10)의 양쪽 면에 배치된 2개의 금속층(20)을 갖는 3층 구성이어도 된다. 도 2는 3층 구조의 금속 클래드 적층판(2)의 단면도이다.The
금속 클래드 적층판(2)은, 예를 들면, 조성물(X)의 반경화물을 갖는 프리프레그(1)를 1매 또는 복수매 겹친 것의 편면 또는 양면에 금속박을 중첩하고, 가열 가압 성형하여 적층 일체화함으로써 제작할 수 있다. 적층 성형은, 예를 들면, 다단 진공 프레스, 핫 프레스, 더블 벨트 등을 이용하여, 가열·가압해서 행할 수 있다. 이 경우, 프리프레그(1)가 경화하는 것에 의해, 절연층(10)이 제작된다.The metal clad
금속 클래드 적층판(2)은 프리프레그(1)를 이용하지 않고서 제조되어도 된다. 예를 들면, 금속박으로 이루어지는 금속층(20)의 표면에, 직접 바니시상의 조성물(X)를 도포하고, 금속층(20) 및 조성물(X)를 가열·가압하는 것에 의해, 바니시상의 조성물(X)를 경화시켜 절연층(10)을 제작할 수 있다.The metal clad
상기와 같이 해서 형성되는 금속 클래드 적층판(2)의 절연층(10)은 조성물(X)의 경화물을 포함하기 때문에, 열팽창률이 낮다. 이 때문에, 금속 클래드 적층판(2)은 열응력을 받더라도 휨이나 크랙의 발생이 일어나기 어렵다. 그 때문에, 조성물(X)의 경화물을 포함하는 절연층(10)을 갖는 금속 클래드 적층판(2)은 고성능의 프린트 배선판을 제작하기 위한 기판 재료로서 유효하게 이용될 수 있다.Since the insulating
[본 실시형태에 따른 프린트 배선판(3, 4)][Printed
도 3a 및 도 3b를 참조하여, 본 실시형태에 따른 프린트 배선판(3, 4)을 설명한다.Referring to Figs. 3A and 3B, the printed
본 실시형태에 따른 프린트 배선판(3, 4)은, 조성물(X)의 경화물을 포함하는 절연층(10)과, 절연층(10)에 설치된 도체 배선(30)을 갖는다.The printed
프린트 배선판(3)(이하, 코어재라고 하는 경우가 있음)은, 조성물(X)의 경화물을 포함하는 1개의 절연층(10)과, 절연층(10)의 편면 또는 양면에 설치된 도체 배선(30)을 구비하는 단층 구조의 프린트 배선판이다. 도 3a는, 1개의 절연층(10)과, 1개의 절연층(10)의 양면에 설치된 2개의 도체 배선(30)을 구비하는, 단층 구조의 프린트 배선판(3)의 단면도이다. 단층 구조의 프린트 배선판(3)에는, 필요에 따라서, 스루 홀, 비아 홀 등이 형성되어도 된다.The printed wiring board 3 (hereinafter sometimes referred to as a core material) includes one insulating
프린트 배선판(4)은, 코어재(3)의 도체 배선(30)이 형성된 면 상에, 추가로 절연층(10)과 도체 배선(30)이 교대로 형성되어 구성되고, 최외층에 도체 배선(31)이 형성된 다층 구조의 프린트 배선판이다. 다층 구조의 프린트 배선판(4)에 있어서는, 복수의 절연층(10) 중 적어도 하나가 조성물(X)의 경화물을 포함한다. 다층 구조의 프린트 배선판(4)에 있어서는, 복수의 절연층(10) 모두가 조성물(X)의 경화물을 포함하는 것이 바람직하다. 도 3b는, 3개의 절연층(10)과, 4개의 도체 배선(30)을 구비하는 다층 구조의 프린트 배선판(4)의 단면도이다. 다층 구조의 프린트 배선판(4)에는, 필요에 따라서, 스루 홀, 비아 홀 등이 형성되어도 된다.The printed
단층 구조의 프린트 배선판(3)의 제조 방법으로서는, 특별히 한정되지 않고, 예를 들면, 상기의 금속 클래드 적층판(2)의 금속층(20)의 일부를 에칭에 의해 제거하여 도체 배선(30)을 형성하는 서브트랙티브법; 조성물(X)의 경화물을 포함하는 절연층(10)으로 이루어지는 언클래드판의 편면 또는 양면에 무전해 도금에 의한 얇은 무전해 도금층을 형성하고, 도금 레지스트에 의해 비회로 형성부를 보호한 후, 전해 도금에 의해 회로 형성부에 전해 도금층을 두껍게 붙이고, 그 후 도금 레지스트를 제거하고, 회로 형성부 이외의 무전해 도금층을 에칭에 의해 제거하여 도체 배선(30)을 형성하는 세미 애디티브법 등을 들 수 있다. 다층 구조의 프린트 배선판(4)의 제조 방법으로서는, 특별히 한정되지 않고, 예를 들면, 빌드업 프로세스 등을 들 수 있다.The method for manufacturing the printed
[제 1 실시형태에 따른 플렉스 리지드 프린트 배선판(5)][Flex-rigid printed
도 4를 참조하여, 제 1 실시형태에 따른 플렉스 리지드 프린트 배선판(5)을 설명한다.Referring to Fig. 4, a flex-rigid printed
제 1 실시형태에 따른 플렉스 리지드 프린트 배선판(5)은, 복수의 리지드부(51)와, 복수의 리지드부(51)를 접속하는 플렉스부(52)와, 복수의 리지드부(51) 및 플렉스부(52) 중 적어도 하나에 설치된 도체 배선(30(32))을 갖고, 복수의 리지드부(51) 중 적어도 하나는 조성물(X)의 경화물을 포함한다. 구체적으로는, 제 1 실시형태에 따른 플렉스 리지드 프린트 배선판(5)은, 2개의 리지드부(51)와, 1개의 플렉스부(52)와, 도체 배선(30(32))을 갖고, 리지드부(51)에 설치된 복수의 절연층(10) 중 적어도 하나는 조성물(X)의 경화물을 포함한다.A flex-rigid printed
리지드부(51)는 탑재되는 부품의 무게를 견디고, 하우징체에 고정할 수 있는 경도와 강도를 가진 단단한 부분이다. 플렉스부(52)는 절곡할 수 있는 가요성을 가지는 유연한 부분이다. 플렉스 리지드 프린트 배선판(5)은, 플렉스부(52)에서 절곡하여 하우징체 등에 수용하는 것에 의해, 예를 들면 휴대용 전자 기기 등 소형·경량의 기기에 사용된다. 플렉스부(52)의 두께는, 예를 들면 5∼300μm의 범위 내인 것이 바람직하다. 이 경우, 플렉스부(52)는 양호한 가요성을 갖는다.The
플렉스 리지드 프린트 배선판(5)은, 예를 들면, 1개의 절연층(50) 및 2개의 도체 배선(30)을 갖는 단층 구조의 플렉시블 프린트 배선판(200)을 코어재로서 이용함으로써 제조할 수 있다. 코어재(200)를, 플렉스부(52)가 되는 부분을 제외하고 다층화함으로써, 리지드부(51)를 형성한다. 즉, 코어재(200)의 일부는 플렉스부(52)가 되고, 코어재(200)의 다른 부분은 리지드부(51)가 된다. 코어재(200)에 있어서의 절연층(50)의 재료는 가요성을 갖는 재료이면 특별히 한정되지 않고, 예를 들면 폴리이미드 등의 가요성을 갖는 수지를 포함할 수 있다. 또한, 다층화를 위한 수법은 특별히 한정되지 않고, 공지의 수법이 이용된다. 예를 들면 금속박과 조성물(X)를 포함하는 수지층을 갖는 금속박 부착 수지 시트를 이용하여 빌드업법에 의해 다층화할 수 있다. 금속박 부착 수지 시트는, 예를 들면, 금속박에 조성물(X)를 도포하고, 조성물(X)가 반경화 상태(B 스테이지 상태)가 될 때까지 가열 건조함으로써 제작된다. 코어재(200)에 있어서의 리지드부(51)가 형성되는 복수의 영역에 있어서, 코어재(200)의 양면의 각각에 금속박 부착 수지 시트를 겹치고, 이 상태에서 가열 가압 성형함으로써, 금속박 부착 수지 시트의 조성물(X)를 포함하는 수지층이 코어재(200)에 접착됨과 함께 조성물(X)를 포함하는 수지층이 경화하여 리지드부(51)의 절연층(10)이 형성된다. 계속해서, 금속박 부착 수지 시트에서 유래하는 금속박에 에칭 처리 등을 실시함으로써, 리지드부(51)에 도체 배선(32)이 형성된다. 이에 의해, 리지드부(51)가 형성됨과 함께, 리지드부(51)를 접속하는 플렉스부(52)가 형성된다.The flex-rigid printed
도 4에 나타내는 플렉스 리지드 프린트 배선판(5)에 있어서, 리지드부(51)는, 코어재(200)의 일부와, 코어재(200) 상에 설치된 절연층(10)과, 절연층(10) 상에 설치된 도체 배선(32)을 포함하지만, 이것으로 한정되지 않고, 리지드부(51)는, 예를 들면, 최외층에 설치되는 솔더 레지스트층을 구비하고 있어도 된다. 리지드부(51)는, 코어재(200)의 양측의 각각에, 2개 이상의 절연층(10)과 2개 이상의 도체 배선(32)이 교대로 설치된 구조를 갖고 있어도 된다. 즉, 리지드부(51)는 빌드업법 등에 의해 더 다층화되어도 된다. 리지드부(51)에는, 필요에 따라서, 스루 홀, 비아 홀 등이 형성되어도 된다.In the flex-rigid printed
도 4에 나타내는 플렉스 리지드 프린트 배선판(5)에 있어서, 플렉스부(52)는 코어재(200)의 일부인 절연층(50)을 포함한다. 즉, 플렉스부(52)는 절연층(50)의 일부이다. 플렉스부(52)의 구성은 이것으로 한정되지 않고, 플렉스부(52)는, 예를 들면, 도체 배선(30)을 포함해도 된다. 즉, 플렉스부(52)의 절연층(50) 상에 도체 배선(30)이 형성되어도 된다. 또한, 코어재(200)의 도체 배선(30)을 덮는 커버 레이가 설치되어도 되고, 이 경우, 플렉스부(52)는, 절연층(50)과, 도체 배선(30)과, 커버 레이를 포함한다. 절연층(50)은 1개의 절연층으로 이루어지는 단층 구조여도 되고, 복수의 절연성을 갖는 층이 적층된 복층 구조여도 된다. 플렉스부(52)의 가요성이 저해되지 않는 경우, 플렉스부(52)는 다층 구조를 가져도 되고, 이 경우, 예를 들면 다층 구조의 플렉시블 프린트 배선판을 코어재로서 이용함으로써, 리지드 플렉스 프린트 배선판을 제작할 수 있다.In the flex-rigid printed
도 4에 나타내는 플렉스 리지드 프린트 배선판(5)에 있어서, 복수의 절연층(10) 중 적어도 하나는 조성물(X)의 경화물을 포함한다. 즉, 복수의 리지드부(51) 중 적어도 하나는 조성물(X)의 경화물을 포함한다.In the flex-rigid printed
[제 2 실시형태에 따른 플렉스 리지드 프린트 배선판(6)][Flex-rigid printed
도 5를 참조하여, 제 2 실시형태에 따른 플렉스 리지드 프린트 배선판(6)을 설명한다. 이하에서는, 제 1 실시형태에 따른 플렉스 리지드 프린트 배선판(5)과 마찬가지의 구성에 대해서는 도면 중에 동일한 부호를 붙여 상세한 설명을 생략한다.Referring to Fig. 5, a flex-rigid printed
제 2 실시형태에 따른 플렉스 리지드 프린트 배선판(6)은, 복수의 리지드부(51)와, 복수의 리지드부(51)를 접속하는 플렉스부(52)와, 복수의 리지드부(51) 및 플렉스부(52) 중 적어도 하나에 설치된 도체 배선(30(32))을 갖고, 복수의 리지드부(51) 중 적어도 하나는 조성물(X)의 경화물을 포함한다. 구체적으로는, 제 2 실시형태에 따른 플렉스 리지드 프린트 배선판(6)은, 2개의 리지드부(51)와, 1개의 플렉스부(52)와, 도체 배선(30(32))을 갖고, 리지드부(51)에 설치된 복수의 절연층(10) 중 적어도 하나는 조성물(X)의 경화물을 포함한다.A flex-rigid printed
제 2 실시형태에 따른 플렉스 리지드 프린트 배선판(6)에서는, 리지드부(51)의 최외층에 솔더 레지스트층(60)이 설치되어 있다. 또한, 코어재(200)의 도체 배선(30)을 덮는 커버 레이(40)가 설치되어 있다. 또, 리지드부(51)에는, 스루 홀(101) 및 베리드(buried) 비아 홀(102)이 형성되어 있다. 플렉스 리지드 프린트 배선판(6)의 구성은 이것으로 한정되지 않고, 플렉스 리지드 프린트 배선판(6)은 솔더 레지스트층(60)을 갖지 않아도 된다. 또한, 플렉스 리지드 프린트 배선판(6)은 커버 레이(40)를 갖지 않아도 된다. 리지드부(51)에는, 필요에 따라서, 추가로 블라인드 비아 홀이 형성되어도 된다.In the flex-rigid printed
플렉스 리지드 프린트 배선판(6)은, 예를 들면, 1개의 절연층(50) 및 2개의 도체 배선(30)을 갖는 단층 구조의 플렉시블 프린트 배선판(200)을 코어재로서 이용함으로써 제조할 수 있다. 코어재(200)에 있어서의 절연층(50)의 재료는 가요성을 갖는 재료이면 특별히 한정되지 않고, 예를 들면 폴리이미드 등의 가요성을 갖는 수지를 포함할 수 있다. 코어재(200)의 양면에 커버 레이 필름을 적층함으로써 도체 배선(30)을 덮는 커버 레이(40)를 형성한다. 이에 의해, 코어재(200)와 커버 레이(40)를 갖는 플렉시블 프린트 배선판(300)을 제작한다. 이 플렉시블 프린트 배선판(300)을, 플렉스부(52)가 되는 부분을 제외하고 다층화함으로써, 리지드부(51)를 형성한다. 즉, 플렉시블 프린트 배선판(300)의 일부는 플렉스부(52)가 되고, 플렉시블 프린트 배선판(300)의 다른 부분은 리지드부(51)가 된다. 다층화를 위한 수법은 특별히 한정되지 않고, 공지의 수법이 이용되며, 예를 들면, 전술한 제 1 실시형태의 플렉스 리지드 프린트 배선판(5)과 마찬가지의 방법으로 다층화할 수 있다. 구체적으로는, 금속박과 조성물(X)를 포함하는 수지층을 갖는 금속박 부착 수지 시트를 이용하여 빌드업법에 의해 다층화할 수 있다. 금속박 부착 수지 시트는, 금속박에 조성물(X)를 도포하고, 조성물(X)가 반경화 상태(B 스테이지 상태)가 될 때까지 가열 건조함으로써 제작된다. 플렉시블 프린트 배선판(300)에 있어서의 리지드부(51)가 형성되는 복수의 영역에 있어서, 플렉시블 프린트 배선판(300)의 양면의 각각에 금속박 부착 수지 시트를 겹치고, 이 상태에서 가열 가압 성형함으로써, 금속박 부착 수지 시트의 조성물(X)를 포함하는 수지층이 플렉시블 프린트 배선판(300)에 접착됨과 함께 조성물(X)를 포함하는 수지층이 경화하여, 조성물(X)의 경화물을 포함하는 절연층(10)이 리지드부(51)에 형성된다. 계속해서, 금속박 부착 수지 시트에서 유래하는 금속박에 에칭 처리 등을 실시함으로써, 리지드부(51)에 도체 배선(32)이 형성된다. 절연층(10)의 형성과 도체 배선(32)의 형성을 교대로 반복하여, 최외층에 솔더 레지스트층(60)을 형성한다. 이에 의해, 리지드부(51)가 형성됨과 함께, 리지드부(51)를 접속하는 플렉스부(52)가 형성된다. 스루 홀(101) 및 베리드 비아 홀(102)은 공지의 방법으로 형성할 수 있다.The flex-rigid printed
플렉스 리지드 프린트 배선판(6)을 제조하는 다른 방법으로서는, 도 1에 나타내는 섬유 기재(12)와 섬유 기재(12)에 함침된 조성물(X)의 반경화물(11)을 갖는 프리프레그(1)를 이용하는 방법을 들 수 있다. 프리프레그(1)를 금형 가공 등으로 타발함으로써, 프리프레그(1)에 개구부를 만든다. 이 개구부는 플렉스 리지드 프린트 배선판(6)의 플렉스부(52)에 대응한다. 개구부를 갖는 프리프레그(1)를 플렉시블 프린트 배선판(300)에 겹치고, 이 상태에서 가열 가압 성형함으로써, 프리프레그(1)가 경화하여, 조성물(X)의 경화물을 포함하는 절연층(10)이 리지드부(51)에 형성된다. 한편, 프리프레그(1)의 개구부는 플렉스부(52)에 대응하기 때문에, 플렉스부(52)에는 절연층(10)은 형성되지 않는다. 계속해서, 절연층(10) 상에, 공지의 방법으로 도체 배선(32)을 형성한다. 개구부를 갖는 프리프레그(1)를 이용한 절연층(10)의 형성과, 도체 배선(32)의 형성을 교대로 반복하여, 최외층에 솔더 레지스트층(60)을 형성한다. 이에 의해, 리지드부(51)가 형성됨과 함께, 리지드부(51)를 접속하는 플렉스부(52)가 형성된다.As another method for producing the flex-rigid printed
[제 3 실시형태에 따른 플렉스 리지드 프린트 배선판(7)][Flex-rigid printed wiring board 7 according to the third embodiment]
도 6을 참조하여, 제 3 실시형태에 따른 플렉스 리지드 프린트 배선판(7)을 설명한다. 이하에서는, 제 1 실시형태에 따른 플렉스 리지드 프린트 배선판(5) 및 제 2 실시형태에 따른 플렉스 리지드 프린트 배선판(6)과 마찬가지의 구성에 대해서는 도면 중에 동일한 부호를 붙여 상세한 설명을 생략한다.Referring to Fig. 6, a flex-rigid printed wiring board 7 according to a third embodiment will be described. Hereinafter, the same reference numerals are given to components similar to those of the flex-rigid printed
제 3 실시형태에 따른 플렉스 리지드 프린트 배선판(7)은, 복수의 리지드부(51)와, 복수의 리지드부(51)를 접속하는 플렉스부(52)와, 복수의 리지드부(51) 및 플렉스부(52) 중 적어도 하나에 설치된 도체 배선(30(32))을 갖고, 복수의 리지드부(51) 중 적어도 하나는 조성물(X)의 경화물을 포함한다. 구체적으로는, 제 3 실시형태에 따른 플렉스 리지드 프린트 배선판(7)은, 2개의 리지드부(51)와, 1개의 플렉스부(52)와, 도체 배선(30(32))을 갖고, 리지드부(51)에 설치된 복수의 본딩 시트(70) 중 적어도 하나는 조성물(X)의 경화물을 포함한다.A flex-rigid printed wiring board 7 according to the third embodiment includes a plurality of
제 3 실시형태에 따른 플렉스 리지드 프린트 배선판(7)에서는, 코어재(200)의 도체 배선(30)을 덮는 커버 레이(40)가 설치되어 있다. 또한, 리지드부(51)에는, 스루 홀(101) 및 블라인드 비아 홀(103)이 형성되어 있다. 플렉스 리지드 프린트 배선판(7)의 구성은 이것으로 한정되지 않고, 플렉스 리지드 프린트 배선판(7)은 커버 레이(40)를 갖지 않아도 된다. 또한, 리지드부(51)에는, 필요에 따라서, 추가로 베리드 비아 홀이 형성되어도 된다. 또한, 리지드부(51)는 최외층에 설치되는 솔더 레지스트층을 구비하고 있어도 된다.In the flex-rigid printed wiring board 7 according to the third embodiment, a cover lay 40 covering the
플렉스 리지드 프린트 배선판(7)은, 예를 들면, 제 2 실시형태의 플렉스 리지드 프린트 배선판(6)을 제조하는 데 이용되는 것과 마찬가지의 플렉시블 프린트 배선판(300)과, 리지드 프린트 배선판(400)과, 도 1에 나타내는 프리프레그(1)를 이용하여 제조할 수 있다. 플렉시블 프린트 배선판(300)은, 1개의 절연층(50) 및 2개의 도체 배선(30)을 포함하는 코어재(200)와, 2개의 커버 레이(40)를 갖는다. 리지드 프린트 배선판(400)은, 2개의 절연층(10)과 3개의 도체 배선(32)을 갖는 다층 구조의 프린트 배선판이고, 공지의 방법을 이용하여 블라인드 비아 홀(103)이 형성되어 있다. 우선, 프리프레그(1)를 금형 가공 등으로 타발함으로써, 프리프레그(1)에 개구부를 만든다. 이 개구부는 플렉스 리지드 프린트 배선판(7)의 플렉스부(52)에 대응한다. 개구부를 갖는 프리프레그(1)를 플렉시블 프린트 배선판(300)에 겹치고, 프리프레그(1)의 각각에 리지드 프린트 배선판(400)을 겹친다. 이 상태에서 가열 가압 성형함으로써, 프리프레그(1)가 경화하여 조성물(X)를 포함하는 본딩 시트(70)가 형성됨과 함께, 플렉시블 프린트 배선판(300)과 리지드 프린트 배선판(400)이 본딩 시트(70)를 개재해서 접착된다. 그 후, 스루 홀(101)을 공지의 방법으로 형성할 수 있다. 한편, 프리프레그(1)의 개구부는 플렉스부(52)에 대응하기 때문에, 플렉스부(52)에는 본딩 시트(70)는 형성되지 않는다.The flex-rigid printed wiring board 7 includes, for example, a flexible printed
리지드 프린트 배선판(400)의 구성은 도 6에 나타내는 구성으로 한정되지 않는다. 리지드 프린트 배선판(400)은, 예를 들면, 1개의 절연층(10)과 2개의 도체 배선(30)을 갖는 도 3a에 나타내는 단층 구조의 프린트 배선판(3)과 마찬가지의 구성을 가져도 된다. 또한, 리지드 프린트 배선판(400)은, 3개의 절연층(10)과 4개의 도체 배선(30)을 갖는 도 3b에 나타내는 다층 구조의 프린트 배선판(4)과 마찬가지의 구성을 가져도 되고, 4개의 절연층(10)과 5개의 도체 배선(30)을 갖는 구성이어도 된다. 한편, 제 3 실시형태의 플렉스 리지드 프린트 배선판(7)에서는, 리지드 프린트 배선판(400)의 절연층(10)은 조성물(X)의 경화물을 포함하고 있어도 되고, 포함하고 있지 않아도 된다.The structure of the rigid printed
[실시예][Example]
이하, 본 발명을 실시예에 의해 구체적으로 설명한다.Hereinafter, the present invention will be specifically described by examples.
1. 수지 조성물의 제조1. Preparation of resin composition
후에 언급하는 표 1 및 2의 「조성」란에 나타내는 성분 중, (D) 성분, (E) 성분 및 경화 촉진제를 제외한 성분을, 메틸 에틸 케톤 및 다이메틸폼아마이드의 혼합 용매를 이용하여, 표 1 및 2에 나타내는 비율로 혼합하고, 이 혼합물을 30분간 교반시켰다. 다음으로, 이 혼합물에, 표 1 및 2의 「조성」란에 나타내는 (D) 성분, (E) 성분 및 경화 촉진제를, 표 1 및 2에 나타내는 비율로 첨가하고, 볼 밀로 분산시키는 것에 의해 실시예 1∼11 및 비교예 1∼13의 수지 조성물(수지 바니시)을 얻었다.Among the components shown in the "Composition" column of Tables 1 and 2 mentioned later, components excluding component (D), component (E) and curing accelerator were prepared using a mixed solvent of methyl ethyl ketone and dimethylformamide, They were mixed in the proportions shown in 1 and 2, and the mixture was stirred for 30 minutes. Next, to this mixture, the component (D), component (E), and curing accelerator shown in the "composition" column of Tables 1 and 2 are added in the proportions shown in Tables 1 and 2, and dispersed by a ball mill. Resin compositions (resin varnishes) of Examples 1 to 11 and Comparative Examples 1 to 13 were obtained.
표 1 및 2의 「조성」의 란에 있어서의 성분의 상세는 다음과 같다.Details of the components in the column of "composition" in Tables 1 and 2 are as follows.
·인 변성 에폭시 수지: 신닛테쓰주금화학 주식회사제, 품번 FX-289・Phosphorus modified epoxy resin: manufactured by Nippon-Stetsu Sake & Chemicals Co., Ltd., product number FX-289
·비스페놀 A형 에폭시 수지 1: DIC 주식회사제, 품번 850-S, 에폭시 당량 183∼193g/eqBisphenol A type epoxy resin 1: manufactured by DIC Corporation, product number 850-S, epoxy equivalent 183 to 193 g/eq
·비스페놀 A형 에폭시 수지 2: 신닛테쓰주금화학 주식회사제, 품번 YD-011, 에폭시 당량 450∼500g/eqBisphenol A type epoxy resin 2: manufactured by Nippon Steel Sakekin Chemical Co., Ltd., product number YD-011, epoxy equivalent 450 to 500 g/eq
·비스페놀 A형 에폭시 수지 3: 신닛테쓰주금화학 주식회사제, 품번 YD-927, 에폭시 당량 1750∼2100g/eqBisphenol A type epoxy resin 3: manufactured by Nippon Steel Sake & Chemicals Co., Ltd., product number YD-927, epoxy equivalent 1750 to 2100 g/eq
·비스페놀 A형 에폭시 수지 4: 신닛테쓰주금화학 주식회사제, 품번 YD-020, 에폭시 당량 4000∼6000g/eqBisphenol A type epoxy resin 4: manufactured by Nippon Steel Sakekin Chemical Co., Ltd., part number YD-020, epoxy equivalent 4000 to 6000 g/eq
·페놀 수지: DIC 주식회사제, 품번 TD-2093, 수산기 당량 104・Phenol resin: manufactured by DIC Corporation, part number TD-2093, hydroxyl equivalent 104
·페녹시 수지 1: 신닛테쓰주금화학 주식회사제, 품번 YP-50, 중량 평균 분자량 70000, 인장 신도율 33%-Phenoxy resin 1: manufactured by Nippon Steel Sake & Chemicals Co., Ltd., product number YP-50, weight average molecular weight 70000, tensile elongation 33%
·페녹시 수지 2: 신닛테쓰주금화학 주식회사제, 품번 YP50S, 중량 평균 분자량 60000, 인장 신도율 30%-Phenoxy resin 2: manufactured by Nippon Steel Sakekin Chemical Co., Ltd., part number YP50S, weight average molecular weight 60000,
·페녹시 수지 3: 신닛테쓰주금화학 주식회사제, 품번 YP-70, 중량 평균 분자량 55000, 인장 신도율 10%-Phenoxy resin 3: manufactured by Nippon Steel Sake & Chemicals Co., Ltd., product number YP-70, weight average molecular weight 55000,
·페녹시 수지 4: 신닛테쓰주금화학 주식회사제, 품번 ZX-1356-2, 중량 평균 분자량 70000, 인장 신도율 12%-Phenoxy resin 4: manufactured by Nippon Steel Sake & Chemicals Co., Ltd., part number ZX-1356-2, weight average molecular weight 70000,
·코어 쉘 고무 1: 실리콘·아크릴 고무, 미쓰비시레이온 주식회사제, 품번 SRK-200A・Core shell rubber 1: silicone/acrylic rubber, manufactured by Mitsubishi Rayon Co., Ltd., product number SRK-200A
·코어 쉘 고무 2: 아크릴 고무, 아이카공업 주식회사제, 품번 AC-3816N・Core shell rubber 2: Acrylic rubber, manufactured by Aika Kogyo Co., Ltd., product number AC-3816N
·수산화 알루미늄: 스미토모화학 주식회사제, 품번 CL-303M・Aluminum hydroxide: Sumitomo Chemical Co., Ltd., product number CL-303M
·파쇄 실리카: 시벨코·재팬 주식회사제, 품번 Megasil525・Crushed silica: Sibelco Japan Co., Ltd., product number Megasil525
·경화 촉진제: 2-에틸-4-이미다졸, 시코쿠화성공업 주식회사제, 품번 2 E4MZ・Curing accelerator: 2-ethyl-4-imidazole, manufactured by Shikoku Kasei Co., Ltd.,
한편, 페녹시 수지 1, 페녹시 수지 2 및 페녹시 수지 3의 인장 신도율은 다음과 같이 해서 측정했다. 페녹시 수지 1∼3의 각각의 수지판(길이 15cm, 폭 1mm, 두께 100μm)을 준비하고, 이 수지판의 인장 신도율을 오토그래프(주식회사 시마즈제작소제, 형번 AG-IS)를 이용하여, 23±2℃, 인장 속도 1mm/분으로 측정했다.On the other hand, the tensile elongation rates of
2. 프리프레그의 제작2. Preparation of prepreg
각 실시예 및 비교예의 수지 바니시를 유리 클로스(닛토방적 주식회사제, #1078 타입, WEA1078)에 경화 후의 두께가 80μm가 되도록 함침시키고, 170℃에서 용융 점도가 60000∼150000Poise가 될 때까지 가열 건조시키는 것에 의해, 반경화 상태의 수지 조성물을 포함하는 프리프레그를 얻었다. 한편, 용융 점도의 측정은 고화식(高化式) 플로 테스터(주식회사 시마즈제작소제, CFT-100)를 이용하여, 플로 테스터의 온도는 130℃, 압력은 1.96MPa(20kgf/cm2)의 조건하에서, 노즐은 직경이 1mm, 두께가 1mm인 것을 이용하여 행했다.The resin varnish of each Example and Comparative Example is impregnated with a glass cloth (#1078 type, WEA1078 manufactured by Nitto Spinning Co., Ltd.) so that the thickness after curing is 80 μm, and heat-dried at 170 ° C. until the melt viscosity is 60000 to 150000 Poise As a result, a prepreg containing a semi-cured resin composition was obtained. On the other hand, the measurement of the melt viscosity is performed using a solidification type flow tester (CFT-100, manufactured by Shimadzu Corporation), the temperature of the flow tester is 130 ° C., and the pressure is 1.96 MPa (20 kgf / cm 2 ) Conditions Below, a nozzle having a diameter of 1 mm and a thickness of 1 mm was used.
3. 구리 클래드 적층판의 제작3. Fabrication of copper clad laminates
각 실시예 및 비교예의 프리프레그 1매의 양측에 두께 18μm의 구리박(미쓰이금속광업 주식회사제, 3EC-III)을 배치하여 피압체로 하고, 이 피압체를 190℃ 및 2.94MPa(30kgf/cm2)의 압력하에서 60분간 가열·가압함으로써, 양면에 구리박이 접착된 두께 80μm의 구리 클래드 적층판을 얻었다. 또한, 각 실시예 및 비교예의 프리프레그 10매를 적층한 적층체의 양측에 두께 18μm의 구리박(미쓰이금속광업 주식회사제, 3EC-III)을 배치하여 피압체로 하고, 이 피압체를 상기와 마찬가지의 조건에서 가열·가압함으로써, 양면에 구리박이 접착된 두께 800μm의 구리 클래드 적층판을 얻었다. 한편, 피압체의 성형에는, 핫 프레스를 이용하여, 성형기의 열반의 온도가 100℃로 데워진 상태에서 피압체의 투입을 행했다.Copper foil (manufactured by Mitsui Mining & Mining Co., Ltd., 3EC-III) with a thickness of 18 μm was placed on both sides of one sheet of prepreg in Examples and Comparative Examples to form a body to be pressed, and the body to be pressed was 190° C. and 2.94 MPa (30 kgf/cm 2 ) by heating and pressurizing for 60 minutes under a pressure of 80 μm in thickness to obtain a copper clad laminated board having copper foil adhered to both surfaces. Further, copper foil (3EC-III, manufactured by Mitsui Mining and Mining Co., Ltd.) having a thickness of 18 μm is placed on both sides of the laminated body in which 10 prepreg sheets of each Example and Comparative Example are laminated to form a body to be pressed, and this body to be pressed is the same as described above. By heating and pressurizing under the conditions of, a copper clad laminated board having a thickness of 800 μm in which copper foil was adhered to both surfaces was obtained. On the other hand, in forming the body to be pressed, a hot press was used to insert the body to be pressed in a state where the temperature of the hot plate of the molding machine was warmed to 100°C.
4. 평가 시험4. Assessment test
4-1. 분말 탈락성4-1. powder exfoliation
상기 2에서 제작한 각 실시예 및 비교예의 프리프레그를 11×10cm(세로×가로)의 크기로 절단하고, 테스트 피스로서 이용하여 시험을 행했다. 우선, 분말이나 티끌 등의 부착물을, 핸디 자루걸레를 이용하여 10매의 테스트 피스로부터 제거했다. 다음으로, 테스트 피스 10매의 중량을 측정했다. 계속해서, 10매의 테스트 피스의 각각에, 커터 나이프(엔티 주식회사제, A형 커터 교체형 면도날)를 이용하여 길이 10cm의 절입을 등간격으로 10개 넣고, 절입을 넣은 10매의 테스트 피스로부터 분말이나 티끌 등의 부착물을 제거했다. 그리고, 절입을 넣은 10매의 테스트 피스의 중량을 측정했다. 절입을 넣기 전의 테스트 피스 10매의 중량으로부터 절입을 넣은 후의 테스트 피스 10매의 중량을 뺀 값을 분말 탈락량으로 했다. 절입을 넣기 전의 테스트 피스 10매의 중량에 대한 분말 탈락량의 백분비를 분말 탈락성으로 했다.The prepregs of each Example and Comparative Example prepared in 2 above were cut into a size of 11 × 10 cm (length × width), and tested using them as test pieces. First, deposits such as powder and dust were removed from 10 test pieces using a handy mop. Next, the weight of 10 test pieces was measured. Subsequently, 10 incisions with a length of 10 cm were made at equal intervals using a cutter knife (A type cutter replaceable razor blade, manufactured by NT Corporation) into each of the 10 test pieces, and from the 10 test pieces into which the incisions were placed, Deposits such as powder and dust were removed. Then, the weight of 10 test pieces with incisions was measured. The value obtained by subtracting the weight of 10 test pieces after inserting the incision from the weight of 10 test pieces before inserting the incision was used as the amount of powder dropping. The percentage of the amount of powder falling off with respect to the weight of 10 test pieces before inserting the incision was taken as the powder dropping ability.
4-2. 성형성4-2. formability
상기 3에서 제작한 각 실시예 및 비교예의 두께 18μm의 구리 클래드 적층판의 양면의 구리박에 대해서, 각각 잔동률(殘銅率)이 50%가 되도록 격자상의 패턴을 형성해서 도체 배선을 형성하여, 프린트 배선판을 얻었다. 이 프린트 배선판의 양면의 도체 배선 상에, 각각 상기 2에서 제작한 프리프레그를 1매 적층하고, 190℃ 및 2.94MPa(30kgf/cm2)의 압력하에서 60분간 가열·가압하여, 적층체를 얻었다. 이 적층체를 50×50mm의 크기로 절단하여 테스트 피스를 얻었다. 이 테스트 피스를 4시간 자비하고 나서, 260℃의 땜납조(槽)에 20초간 침지하고, 테스트 피스의 외관을 관찰하여 그 결과를 다음에 나타내는 바와 같이 평가했다.Regarding the copper foil on both sides of the copper clad laminate having a thickness of 18 μm of each of the examples and comparative examples produced in 3 above, a lattice-like pattern was formed so that the residual copper ratio was 50%, respectively, to form conductor wiring, A printed wiring board was obtained. On the conductor wiring on both sides of this printed wiring board, one prepreg prepared in 2 above was laminated, respectively, and heated and pressurized for 60 minutes at 190°C and a pressure of 2.94 MPa (30 kgf/cm 2 ) to obtain a laminate. . This laminate was cut into a size of 50 x 50 mm to obtain a test piece. After boiling this test piece for 4 hours, it was immersed in a 260 degreeC solder bath for 20 seconds, the external appearance of the test piece was observed, and the result was evaluated as shown below.
A: 부풂이 확인된다.A: Puffiness is confirmed.
B: 부풂이 확인되지 않는다.B: No swelling was observed.
4-3. 구리박 밀착성4-3. Copper foil adhesion
상기 3에서 제작한 각 실시예 및 비교예의 두께 18μm의 구리 클래드 적층판을 테스트 피스로서 이용했다. 이 테스트 피스의 구리박의 필 강도를 IPC-TM-650-2.4.8에 준거하여 측정했다. 테스트 피스 상에 폭 10mm, 길이 100mm의 구리박 패턴을 형성하고, 인장 시험기에 의해 50mm/분의 속도로 구리박 패턴을 당겨 벗기고, 그때의 필 강도를 측정했다. 이 필 강도를 구리박 밀착성으로 했다.The copper clad laminated board having a thickness of 18 μm of each Example and Comparative Example produced in 3 above was used as a test piece. The peel strength of the copper foil of this test piece was measured based on IPC-TM-650-2.4.8. A copper foil pattern having a width of 10 mm and a length of 100 mm was formed on the test piece, and the copper foil pattern was peeled off at a speed of 50 mm/min with a tensile tester, and the peel strength at that time was measured. This peeling strength was made into copper foil adhesiveness.
4-4. 폴리이미드 밀착성4-4. Adhesion to polyimide
편면 플렉시블 금속 클래드 적층판(SK 이노베이션 주식회사제, Enflex(R), 구리박 두께 12μm, 폴리이미드 두께 20μm)과, 상기 2에서 제작한 각 실시예 및 비교예의 프리프레그 1매를, 편면 플렉시블 금속 클래드 적층판의 폴리이미드층과 프리프레그가 접하도록 적층하고, 190℃ 및 2.94MPa(30kgf/cm2)의 압력하에서 60분간 가열·가압함으로써 적층체를 제작했다. 이 적층체를 10×100mm의 크기로 절단하여, 테스트 피스를 얻었다. 이 테스트 피스로부터, 인장 시험기에 의해 50mm/분의 속도로 편면 플렉시블 금속 클래드 적층판을 당겨 벗기고, 그때의 필 강도를 측정했다. 이 필 강도를 폴리이미드 밀착성으로 했다.A single-sided flexible metal clad laminate (manufactured by SK Innovation Co., Ltd., Enflex(R),
4-5. 유리전이온도(Tg)4-5. Glass transition temperature (Tg)
상기 3에서 제작한 각 실시예 및 비교예의 두께 80μm의 구리 클래드 적층판의 양면의 구리박을 제거하여, 테스트 피스를 얻었다. 이 테스트 피스의 유리전이온도(Tg)를, IPC-TM-650-2.4.25에 준거하여, 시차 주사 열량 측정(DSC)에 의해, 승온 속도 20℃/분의 조건에서 측정했다. 한편, 표 1 및 2의 유리전이온도의 란에 나타내는 괄호 내의 수치는 유리전이온도를 테스트 피스의 2개소에서 측정한 경우의 저온측의 유리전이온도를 나타낸다.The copper foils on both sides of the copper clad laminate having a thickness of 80 μm of each Example and Comparative Example produced in 3 above were removed to obtain a test piece. The glass transition temperature (Tg) of this test piece was measured by differential scanning calorimetry (DSC) in accordance with IPC-TM-650-2.4.25 under conditions of a heating rate of 20°C/min. On the other hand, the numerical values in parentheses in the columns of glass transition temperature in Tables 1 and 2 indicate the glass transition temperature on the low-temperature side when the glass transition temperature is measured at two locations of the test piece.
4-6. 열팽창률(CTE)4-6. Coefficient of Thermal Expansion (CTE)
상기 3에서 제작한 각 실시예 및 비교예의 두께 800μm의 구리 클래드 적층판의 양면의 구리박을 제거하여, 테스트 피스를 얻었다. 이 테스트 피스의 면 방향(두께 방향)의 열팽창률(CTE)을, JIS C 6481에 준거하여, Thermo-mechanical analysis(TMA)법에 의해 측정했다. 한편, 열팽창률은 상기 4-5에서 측정된 유리전이온도 미만의 온도에서 측정되었다.The copper foil on both sides of the 800 μm-thick copper-clad laminate of each Example and Comparative Example produced in 3 above was removed to obtain a test piece. The coefficient of thermal expansion (CTE) of the test piece in the plane direction (thickness direction) was measured by the Thermo-mechanical analysis (TMA) method in accordance with JIS C 6481. On the other hand, the coefficient of thermal expansion was measured at a temperature less than the glass transition temperature measured in 4-5 above.
실시예 2와 비교예 13을 비교하면, 경화제로서 (B) 성분을 함유하는 실시예 2의 분말 탈락성은 경화제로서 페놀 수지를 함유하는 비교예 13의 분말 탈락성보다도 낮고, 더욱이 구리박 및 폴리이미드에 대한 밀착성이 비교예 13보다도 높다. 또한, 실시예 1과 비교예 10을 비교하면, (C) 성분을 함유하는 실시예 1의 분말 탈락성은 (C) 성분을 함유하지 않는 비교예 10의 분말 탈락성의 절반 이하이다. 또한, 실시예 3과 비교예 7을 비교하면, (D) 성분을 함유하는 실시예 3의 분말 탈락성은 (D) 성분을 함유하지 않는 비교예 7의 분말 탈락성의 절반이다. 이상과 같이, (B) 성분, (C) 성분 및 (D) 성분은 조성물(X)로부터 제작되는 프리프레그의 분말 탈락의 발생을 저감시키는 것이 확인되었다. 또한, (B) 성분은 구리박 및 폴리이미드에 대한 밀착성을 향상시키는 것이 확인되었다.Comparing Example 2 and Comparative Example 13, the powder detachment property of Example 2 containing component (B) as a curing agent was lower than that of Comparative Example 13 containing a phenol resin as a curing agent, and furthermore, copper foil and polyimide Adhesion to is higher than that of Comparative Example 13. Further, when Example 1 and Comparative Example 10 are compared, the powder drop-off property of Example 1 containing component (C) is less than half of the powder drop-off property of Comparative Example 10 not containing component (C). In addition, when Example 3 and Comparative Example 7 are compared, the powder fall-off property of Example 3 containing component (D) is half of the powder fall-off property of Comparative Example 7 not containing component (D). As described above, it was confirmed that component (B), component (C), and component (D) reduce the occurrence of powder drop-off of the prepreg produced from composition (X). In addition, it was confirmed that component (B) improves adhesion to copper foil and polyimide.
또한, 표 1 및 2로부터 분명한 바와 같이, 실시예는 비교예에 비해, 분말 탈락성, 성형성, 구리박 및 폴리이미드 밀착성, 유리전이온도, 및 열팽창률의 특성이 양호한 레벨로 균형 있게 얻어지고 있는 것이 확인되었다. 한편, 비교예에서는, 이들 특성 모두가 양호한 수지 조성물은 얻어지지 않았다.In addition, as is clear from Tables 1 and 2, compared to Comparative Examples, the examples have characteristics of powder dropout, formability, copper foil and polyimide adhesion, glass transition temperature, and thermal expansion coefficient, and are obtained in a well-balanced level. It was confirmed that there is On the other hand, in the comparative example, a resin composition having all of these characteristics was not obtained.
1: 프리프레그
11: 반경화물
12: 섬유 기재
2: 금속 클래드 적층판
10, 50: 절연층
20: 금속층
3, 4: 프린트 배선판
30, 31, 32: 도체 배선
5, 6, 7: 플렉스 리지드 프린트 배선판
51: 리지드부
52: 플렉스부1: prepreg
11: radius cargo
12: fiber substrate
2: metal clad laminate
10, 50: insulating layer
20: metal layer
3, 4: printed wiring board
30, 31, 32: conductor wiring
5, 6, 7: flex-rigid printed wiring board
51: rigid part
52: flex part
Claims (10)
상기 섬유 기재에 함침된 수지 조성물의 반경화물을 갖는 프리프레그로서,
상기 수지 조성물이
(A) 에폭시 수지와,
(B) 다이사이안다이아마이드와,
(C) 페녹시 수지와,
(D) 코어 쉘 고무와,
(E) 무기 필러를 함유하고,
상기 (C) 페녹시 수지의 중량 평균 분자량은 30000 이상이고,
상기 (C) 페녹시 수지의 인장 신도율은 20% 이상이고,
상기 (C) 페녹시 수지의 함유량은 상기 (A) 에폭시 수지 100질량부에 대해서 5질량부 이상이고 30질량부 이하이고,
상기 (D) 코어 쉘 고무의 함유량은 상기 (A) 에폭시 수지 100질량부에 대해서 3질량부 이상이고 20질량부 이하이며,
상기 (E) 무기 필러의 함유량이 상기 (A) 에폭시 수지 100질량부에 대해서 5질량부 이상 100질량부 이하인,
프리프레그.a fiber substrate,
As a prepreg having a semi-cured material of the resin composition impregnated in the fiber substrate,
The resin composition
(A) an epoxy resin;
(B) dicyandiamide;
(C) a phenoxy resin;
(D) a core shell rubber;
(E) contains an inorganic filler;
The weight average molecular weight of the (C) phenoxy resin is 30000 or more,
The tensile elongation of the (C) phenoxy resin is 20% or more,
The content of the (C) phenoxy resin is 5 parts by mass or more and 30 parts by mass or less with respect to 100 parts by mass of the epoxy resin (A),
The content of the (D) core shell rubber is 3 parts by mass or more and 20 parts by mass or less with respect to 100 parts by mass of the epoxy resin (A),
The content of the (E) inorganic filler is 5 parts by mass or more and 100 parts by mass or less with respect to 100 parts by mass of the (A) epoxy resin,
prepreg.
상기 (D) 코어 쉘 고무는 고무 입자의 집합체이고,
상기 고무 입자는, 코어부와, 상기 코어부를 둘러싸는 쉘부를 갖고,
상기 코어부는 실리콘·아크릴 고무 또는 아크릴 고무를 포함하는
프리프레그.According to claim 1,
The (D) core shell rubber is an aggregate of rubber particles,
The rubber particle has a core portion and a shell portion surrounding the core portion,
The core part includes silicone/acrylic rubber or acrylic rubber.
prepreg.
상기 (A) 에폭시 수지는 인 변성 에폭시 수지를 함유하는
프리프레그.According to claim 1,
The (A) epoxy resin contains a phosphorus-modified epoxy resin
prepreg.
상기 인 변성 에폭시 수지는 하기 식(1)로 표시되는 구조를 갖는
프리프레그.
According to claim 3,
The phosphorus-modified epoxy resin has a structure represented by the following formula (1)
prepreg.
상기 (A) 에폭시 수지는 인 변성 에폭시 수지를 함유하는
프리프레그.According to claim 2,
The (A) epoxy resin contains a phosphorus-modified epoxy resin
prepreg.
상기 인 변성 에폭시 수지는 하기 식(1)로 표시되는 구조를 갖는
프리프레그.
According to claim 5,
The phosphorus-modified epoxy resin has a structure represented by the following formula (1)
prepreg.
상기 절연층에 설치된 금속층을 갖는
금속 클래드 적층판.An insulating layer containing a cured product of the prepreg resin composition according to any one of claims 1 to 6;
Having a metal layer installed on the insulating layer
metal clad laminate.
상기 절연층에 설치된 도체 배선을 갖는
프린트 배선판.An insulating layer containing a cured product of the prepreg resin composition according to any one of claims 1 to 6;
Having a conductor wiring installed in the insulating layer
printed wiring board.
상기 복수의 리지드부를 접속하는 플렉스부와,
상기 복수의 리지드부 및 상기 플렉스부 중 적어도 하나에 설치된 도체 배선을 갖고,
상기 복수의 리지드부 중 적어도 하나는 제 1 항 내지 제 6 항 중 어느 한 항에 기재된 프리프레그의 수지 조성물의 경화물을 포함하는
플렉스 리지드 프린트 배선판.a plurality of rigid parts;
a flex portion connecting the plurality of rigid portions;
having a conductor wiring provided on at least one of the plurality of rigid portions and the flex portion;
At least one of the plurality of rigid portions includes a cured product of the prepreg resin composition according to any one of claims 1 to 6
Flex Rigid Printed Wiring Board.
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2017077043A JP6928908B2 (en) | 2017-04-07 | 2017-04-07 | Prepreg, metal-clad laminate, printed wiring board and flex rigid printed wiring board |
JPJP-P-2017-077043 | 2017-04-07 | ||
PCT/JP2018/005422 WO2018186030A1 (en) | 2017-04-07 | 2018-02-16 | Resin composition, prepreg, metal-clad laminate, printed wiring board, and flex-rigid printed wiring board |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
KR20190130121A KR20190130121A (en) | 2019-11-21 |
KR102480537B1 true KR102480537B1 (en) | 2022-12-22 |
Family
ID=63713494
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
KR1020197021161A KR102480537B1 (en) | 2017-04-07 | 2018-02-16 | Resin compositions, prepregs, metal clad laminates, printed wiring boards and flex-rigid printed wiring boards |
Country Status (5)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP6928908B2 (en) |
KR (1) | KR102480537B1 (en) |
CN (1) | CN110121532A (en) |
TW (1) | TWI829631B (en) |
WO (1) | WO2018186030A1 (en) |
Families Citing this family (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2020050797A (en) * | 2018-09-27 | 2020-04-02 | パナソニックIpマネジメント株式会社 | Resin composition, prepreg, film with resin, metal foil with resin, metal-clad laminate, and printed wiring board |
CN114302907A (en) * | 2019-09-06 | 2022-04-08 | 松下知识产权经营株式会社 | Resin composition, prepreg, film with resin, metal foil with resin, metal-clad laminate, and printed wiring board |
JP6904441B1 (en) * | 2020-01-30 | 2021-07-14 | 横浜ゴム株式会社 | Epoxy resin composition for prepreg and prepreg |
KR102424462B1 (en) * | 2021-03-31 | 2022-07-25 | 주식회사 자연바이오 | Glass fiber reinforcement and manufacturing device thereof |
Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2007246861A (en) * | 2006-03-20 | 2007-09-27 | Nippon Steel Chem Co Ltd | Resin composition, and varnish obtained using the resin composition, film adhesive, and copper foil attached with film adhesive |
JP2009074036A (en) * | 2007-02-23 | 2009-04-09 | Panasonic Electric Works Co Ltd | Epoxy resin composition, prepreg, laminate and printed wiring board |
WO2013183667A1 (en) | 2012-06-05 | 2013-12-12 | 三菱レイヨン株式会社 | Epoxy resin composition |
JP2015193704A (en) | 2014-03-31 | 2015-11-05 | 新日鉄住金化学株式会社 | High heat conductive ceramic powder-containing resin composition and cured article thereof |
Family Cites Families (19)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS621719A (en) * | 1985-06-28 | 1987-01-07 | Nippon Oil Co Ltd | Epoxy resin composition |
JPH0820654A (en) * | 1994-07-06 | 1996-01-23 | Mitsubishi Chem Corp | Epoxy resin composition and prepreg using the same |
JP2000336242A (en) | 1999-05-26 | 2000-12-05 | Matsushita Electric Works Ltd | Epoxy resin composition, prepreg, metal foil coated with resin, and laminate |
JP4362937B2 (en) | 2000-04-25 | 2009-11-11 | パナソニック電工株式会社 | Prepreg and laminate |
EP1457515A4 (en) * | 2001-08-31 | 2004-11-24 | Sumitomo Bakelite Co | Resin composition prepreg laminated sheet and semiconductor package |
JP4983228B2 (en) * | 2005-11-29 | 2012-07-25 | 味の素株式会社 | Resin composition for insulating layer of multilayer printed wiring board |
JP5144583B2 (en) * | 2009-04-24 | 2013-02-13 | パナソニック株式会社 | Sheet material and printed wiring board |
GB201102672D0 (en) * | 2011-02-15 | 2011-03-30 | Zephyros Inc | Improved structural adhesives |
CN102311614B (en) * | 2011-04-03 | 2013-09-18 | 广东生益科技股份有限公司 | Resin composition and prepreg prepared by using same |
CN103947306B (en) * | 2011-11-22 | 2017-06-23 | 松下知识产权经营株式会社 | Coat flexible parent metal of metal and preparation method thereof |
JP5632887B2 (en) * | 2012-09-18 | 2014-11-26 | 太陽ホールディングス株式会社 | Thermosetting resin composition for interlayer insulating material of multilayer printed wiring board |
TWI621639B (en) * | 2013-01-07 | 2018-04-21 | 東麗股份有限公司 | Epoxy resin composition and prepreg |
DE112015001407T5 (en) * | 2014-03-25 | 2016-12-22 | Dic Corporation | Epoxy resin, process for producing epoxy resin, curable resin composition and cured product thereof, fiber-reinforced composite material and molded article |
JP6327980B2 (en) * | 2014-07-04 | 2018-05-23 | 菱電化成株式会社 | Manufacturing method of rotating electrical machine |
WO2016024569A1 (en) * | 2014-08-15 | 2016-02-18 | ユニチカ株式会社 | Resin composition and the laminate using same |
CN106795307B (en) * | 2014-08-27 | 2020-04-28 | 松下知识产权经营株式会社 | Prepreg, metal-clad laminate, and printed wiring board |
JP6770793B2 (en) * | 2015-08-19 | 2020-10-21 | 日鉄ケミカル&マテリアル株式会社 | Flame-retardant epoxy resin composition and its cured product |
CN105602195A (en) * | 2015-12-30 | 2016-05-25 | 广东生益科技股份有限公司 | Resin composition, prepreg and copper-clad plate |
CN105585821B (en) * | 2016-01-26 | 2018-02-27 | 广东汕头超声电子股份有限公司覆铜板厂 | A kind of halogen-free resin composition and not flow prepreg and preparation method thereof using its making |
-
2017
- 2017-04-07 JP JP2017077043A patent/JP6928908B2/en active Active
-
2018
- 2018-02-16 WO PCT/JP2018/005422 patent/WO2018186030A1/en active Application Filing
- 2018-02-16 KR KR1020197021161A patent/KR102480537B1/en active IP Right Grant
- 2018-02-16 CN CN201880005369.8A patent/CN110121532A/en active Pending
- 2018-02-23 TW TW107106178A patent/TWI829631B/en active
Patent Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2007246861A (en) * | 2006-03-20 | 2007-09-27 | Nippon Steel Chem Co Ltd | Resin composition, and varnish obtained using the resin composition, film adhesive, and copper foil attached with film adhesive |
JP2009074036A (en) * | 2007-02-23 | 2009-04-09 | Panasonic Electric Works Co Ltd | Epoxy resin composition, prepreg, laminate and printed wiring board |
WO2013183667A1 (en) | 2012-06-05 | 2013-12-12 | 三菱レイヨン株式会社 | Epoxy resin composition |
JP2015193704A (en) | 2014-03-31 | 2015-11-05 | 新日鉄住金化学株式会社 | High heat conductive ceramic powder-containing resin composition and cured article thereof |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
CN110121532A (en) | 2019-08-13 |
TWI829631B (en) | 2024-01-21 |
JP6928908B2 (en) | 2021-09-01 |
TW201842045A (en) | 2018-12-01 |
WO2018186030A1 (en) | 2018-10-11 |
KR20190130121A (en) | 2019-11-21 |
JP2018177906A (en) | 2018-11-15 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
KR101355777B1 (en) | Prepreg, laminate, printed wiring board, and semiconductor device | |
KR102480537B1 (en) | Resin compositions, prepregs, metal clad laminates, printed wiring boards and flex-rigid printed wiring boards | |
KR100920535B1 (en) | Resin composition, prepreg, laminated sheet and semiconductor package | |
JP3946626B2 (en) | Resin composition, prepreg and printed wiring board using the same | |
JP6512521B2 (en) | Laminated board, metal-clad laminated board, printed wiring board, multilayer printed wiring board | |
JP6956388B2 (en) | Prepreg, metal-clad laminate and printed wiring board | |
KR102262624B1 (en) | Resin composition, prepreg, laminate including metal foil cladding, and printed wiring board | |
JP2006342238A (en) | Thermosetting adhesive sheet, copper-clad laminate and flexible printed wiring board | |
KR20110008044A (en) | Insulating resin sheet and method for manufacturing multilayer printed wiring board using the insulating resin sheet | |
TW202142621A (en) | Resin composition, prepreg, resin sheet, laminate, metal foil-clad laminate, and printed wiring board | |
JP4400191B2 (en) | Resin composition and substrate using the same | |
TWI822812B (en) | Resin compositions, prepregs, resin-coated films, resin-coated metal foils, metal-clad laminates and printed wiring boards | |
CN111511816A (en) | Resin composition, prepreg, laminate, metal foil-clad laminate, printed wiring board, and multilayer printed wiring board | |
KR20230049098A (en) | Copper foil with a resin layer and a laminate using the same | |
JP7426629B2 (en) | Resin compositions, prepregs, resin-coated films, resin-coated metal foils, metal-clad laminates, and printed wiring boards | |
CN106009508B (en) | Thermosetting resin composition, metal-clad laminate, insulating sheet, printed wiring board, method for producing printed wiring board, and package substrate | |
JP2017193614A (en) | Prepreg, metal-clad laminate, and printed wiring board | |
JP2012158637A (en) | Resin composition for printed wiring board, prepreg, laminated board, resin sheet, printed wiring board, and semiconductor device | |
JP2015076589A (en) | Laminate sheet | |
KR20220011116A (en) | A resin composition, a prepreg, a resin sheet, a laminated board, a metal foil-clad laminated board, and a printed wiring board | |
JP2012131948A (en) | Resin composition, prepreg, laminate plate, resin sheet, printed wiring board, and semiconductor device | |
KR20220116436A (en) | Resin sheet and printed wiring board | |
JP2003260755A (en) | B-stage resin composition sheet with metallic foil containing heat resisting film base material for lamination | |
JP2003273522A (en) | Method for manufacturing highly reliable and high density multilayer printed circuit board | |
JP2004193458A (en) | Method for manufacturing multilayer printed circuit board |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A201 | Request for examination | ||
E902 | Notification of reason for refusal | ||
E701 | Decision to grant or registration of patent right | ||
GRNT | Written decision to grant |