JP4362937B2 - Prepreg and laminate - Google Patents
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Description
【0001】
【発明の属する技術分野】
本発明は、プリント配線板等の製造に用いられるプリプレグ及び積層板に関するものである。
【0002】
【従来の技術】
プリント配線板等の製造に用いられるプリプレグは、まずエポキシ樹脂等の熱硬化性の樹脂を主成分とする樹脂組成物をワニスとし、これをガラスクロス等の基材に含浸し、乾燥して半硬化状態(B−ステージ)とすることによって作製されている。ここで上記の樹脂組成物は、未硬化樹脂から半硬化樹脂へと変化している。そして、このプリプレグを所定寸法に切断後、所要枚数重ねると共に、この片面あるいは両面に銅箔等の金属箔を重ね、これを加熱加圧して積層成形することによって、プリント配線板の製造に用いられる金属箔張積層板が作製されている。この段階において半硬化樹脂は硬化樹脂へと変化し、基材と共に絶縁層を形成することとなる。その後、絶縁層の片面あるいは両面の金属箔にサブトラクティブ法等を行うことで外層回路を形成すると共に、絶縁層に穴あけを行うことでスルーホール等を形成し、プリント配線板が製造されているものである。
【0003】
また、予め内層回路として回路パターンが形成された内層用基板の片面あるいは両面に、上記のようにして作製されたプリプレグを所定寸法に切断後、所要枚数重ねると共にその片面あるいは両面に銅箔等の金属箔を重ね、これを加熱加圧して積層成形することによって、多層プリント配線板の製造に用いられる多層配線板が作製されている。上記と同様に、この段階においてプリプレグ中の半硬化樹脂は硬化樹脂へと変化し、基材と共に絶縁層を形成することとなる。その後、絶縁層の片面の金属箔にサブトラクティブ法等を行うことで外層回路を形成すると共に、絶縁層に穴あけを行うことでバイアホール等を形成し、多層プリント配線板が製造されているものである。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、半硬化樹脂は一般的に脆弱であるため、例えば、上記のようにプリプレグを所定寸法に切断する際、衝撃を与えてしまうと半硬化樹脂が割れたり剥がれたりして損傷すると共に、樹脂粉が生ずることがあった。そして、このようなプリプレグを用いて製造されたプリント配線板等は、半硬化状態(B−ステージ)において生じた損傷箇所が絶縁層中に空洞となって残り、内層回路と外層回路のように、異なる層に形成された回路パターン間の絶縁性が低下するという問題があった。
【0005】
また、上記のようにして生じた樹脂粉は、積層成形前の金属箔の表面に付着することがあり、この状態で積層成形されると、金属箔の表面上に微細な硬化樹脂が形成された金属箔張積層板や多層配線板が作製されることがあった。この後、これらの金属箔に回路パターンを形成しても、微細な硬化樹脂が形成された箇所の金属箔はエッチング等では除去されずに残ることとなる。そして、この箇所は本来除去すべきものであれば、このようにして作製されたプリント配線板や多層プリント配線板において回路パターンにショート不良が発生し、歩留まりが低下するといった問題も生ずるものであった。
【0006】
さらに、内層用基板において、その表面に面積の異なる内層回路が形成されていると、この上部に形成される絶縁層の厚みが均一とならないものであった。すなわち、面積の小さい内層回路が形成されている領域においては、相対的に内層回路の無い部分が占める割合は大きくなるものであり、逆に面積の大きい内層回路が形成されている領域においては、内層回路の無い部分が占める割合は小さくなるものである。このため、面積の異なる内層回路が形成されている内層用基板の表面にプリプレグを積層成形する際に、プリプレグ中の半硬化樹脂の一部は、プリプレグ中から流れ出て内層回路の無い部分を充填することとなり、その結果、この部分の上部に形成される絶縁層の厚みが薄くなるものであった。つまり、面積の小さい内層回路が形成されている領域の上部に形成される絶縁層の厚みは、全体として薄くなるものであり、この絶縁層を介して外層回路との絶縁性が確保できなくなるものであった。また絶縁層の厚みは、上記のように面積の異なる内層回路が形成されている領域間でばらつくこととなり、インピーダンスの制御ができなくなるという問題も生ずるものであった。
【0007】
本発明は上記の点に鑑みてなされたものであり、半硬化状態(B−ステージ)においては、半硬化樹脂が割れたり剥がれたりし難くなり、樹脂粉の発生量が低減され、また硬化状態においては、絶縁層の厚みのばらつきが小さくなるプリプレグ、及びこのプリプレグを用いて作製される積層板を提供することを目的とするものである。
【0008】
【課題を解決するための手段】
本発明の請求項1に係るプリプレグは、架橋ゴムもポリビニルアセタール樹脂も含有しないエポキシ樹脂組成物が含浸され半硬化した基材に、粒子径が1μm以下の架橋ゴムを含有するエポキシ樹脂組成物、又は粒子径が1μm以下の架橋ゴム及びポリビニルアセタール樹脂を含有するエポキシ樹脂組成物を含浸し、半硬化して成ることを特徴とするものである。
【0011】
また本発明の請求項2に係る積層板は、請求項1に記載のプリプレグを積層成形して成ることを特徴とするものである。
【0012】
【発明の実施の形態】
以下、本発明の実施の形態を説明する。
【0013】
本発明において樹脂としては、臭素化ビスフェノールA型エポキシ樹脂、クレゾールノボラック型エポキシ樹脂、ビスフェノールF型エポキシ樹脂、フェノールノボラック型エポキシ樹脂等のエポキシ樹脂を用いる。これらのエポキシ樹脂は1種を単独で使用したり、2種以上を混合して使用したりすることができる。
【0014】
また本発明において架橋ゴムとしては、粒子径が1μm以下のものであれば、特に制限されるものではないが、粒子径の下限値としては、0.01μmであり、具体的には、ブタジエン−アクリロニトリル共重合ゴム、アクリロニトリルゴム等を例示することができる。このような架橋ゴムは、後述するエポキシ樹脂組成物において、エポキシ樹脂100質量部に対して1〜20質量部含有するのが好ましく、これによってエポキシ樹脂組成物が半硬化状態(B−ステージ)において良好な柔軟性を有し、割れや剥がれが発生し難くなって樹脂粉の発生を低減することができると共に、硬化状態において後述する積層板の絶縁層の厚みのばらつきを低減することができるものである。なお、粒子径が1μmを超える架橋ゴムを用いると、後述するワニス中で凝集が起こり、樹脂粉の発生量が増加するものであり、また架橋ゴムの代わりに非架橋ゴムを用いると、半硬化状態(B−ステージ)においてタッキング(軽い力で短時間に粘着する性質)を示したり、ガラス転移温度(Tg)が低下したりするなど諸特性が低下するものである。
【0015】
さらに上記の成分の他に、ポリビニルアセタール樹脂を配合するのが好ましい。ここで、ポリビニルアセタール樹脂は、後述するエポキシ樹脂組成物において、エポキシ樹脂100質量部に対して1〜20質量部含有するのが好ましく、これによって上記の架橋ゴムを配合することで得られる効果、すなわち、樹脂粉の発生量を低減したり、絶縁層の厚みのばらつきを低減したりするという効果をより高く得ることができるものである。
【0016】
また本発明において硬化剤としては、特に制限されるものではなく、一般的な樹脂の硬化剤であるジシアンジアミド、フェノールノボラック、酸無水物(無水トリメリット酸)等を例示することができる。
【0017】
さらに必要に応じて、硬化促進剤その他の添加剤を使用することができる。ここで硬化促進剤としては、2−エチル−4−メチルイミダゾール、2−メチルイミダゾール、2−フェニル−4−メチルイミダゾール等のイミダゾール類、ジメチルベンジルアミン、トリエチレンジアミン、ベンジルジメチルアミン、トリエタノールアミン等のアミン類、トリフェニルホスフィン、ジフェニルホスフィン、フェニルホスフィン等の有機ホスフィン類、テトラフェニルホスホニウム・エチルトリフェニルボレート等のテトラ置換ホスホニウム・テトラ置換ボレート、2−エチル−4−メチルイミダゾール・テトラフェニルボレート等のテトラフェニルボロン塩を例示することができる。
【0018】
そして、上記のエポキシ樹脂、粒子径が1μm以下の架橋ゴムを必須成分とし、さらに必要に応じてポリビニルアセタール樹脂、硬化剤その他の添加剤を配合し、これをミキサー、ブレンダー等で均一に混合することによってエポキシ樹脂組成物を調製することができ、プリプレグの作製においてワニスとして使用することができるものである。なお、この調製は、メチルエチルケトン(MEK)、メトキシプロパノール(MP)、ジメチルフォルムアミド(DMF)等の溶媒を用いて行ったり、あるいは溶媒を用いずに行ったりすることができる。
【0020】
本発明に係るプリプレグは、以下のように作製することができる。まず、架橋ゴムもポリビニルアセタール樹脂も含有しないエポキシ樹脂組成物をガラスクロス等の基材に含浸し、これを加熱乾燥して半硬化させておく。次に、このようにして得られた基材に、粒子径が1μm以下の架橋ゴムを含有するエポキシ樹脂組成物を含浸し、これを加熱乾燥して半硬化状態(B−ステージ)とすることによって作製することができるものである。なお、後から基材に含浸させるエポキシ樹脂組成物には、上記の架橋ゴムの他に、ポリビニルアセタール樹脂が含有されていても良い。
【0021】
このようにして作製されるプリプレグは、含浸されたエポキシ樹脂組成物中に粒子径が1μm以下の架橋ゴムを配合しているために、その半硬化樹脂の柔軟性が高められており、切断時その他の取扱い時において、半硬化樹脂が割れたり剥がれたりすることがなくなり、樹脂粉の発生を低減することができるものである。しかもこのような効果は、上記のエポキシ樹脂組成物中にポリビニルアセタール樹脂を加えることで、より高く得ることができるものである。さらにプリプレグを作製するにあたって、上記のエポキシ樹脂組成物を基材に直接含浸させる方法、あるいは他のエポキシ樹脂組成物が予め含浸され乾燥された基材に後から上記のエポキシ樹脂組成物を含浸させる方法のいずれを行っても上記と同様の効果を得ることができるものである。
【0022】
次に本発明に係る積層板は、例えば、上記のようにして作製されたプリプレグを所要枚数重ねると共に、この片面あるいは両面に銅等の金属箔を重ね、これを加熱加圧して積層成形することによって、プリント配線板に加工するための金属箔張積層板として作製することができる。
【0023】
このようにして作製される金属箔張積層板の絶縁層は、上記のプリプレグからなるため、この金属箔張積層板において半硬化樹脂の割れや剥がれ等に起因する空洞が絶縁層に残存しなくなると共に、樹脂粉が回路パターン形成前の金属箔表面に付着しなくなるものである。従って、この積層板を加工して製造されるプリント配線板は、異なる層に形成された回路パターン間の絶縁性を確実に保持することができると共に、回路パターンにショート不良が発生しなくなるものである。
【0024】
また本発明に係る積層板は、例えば、予め内層回路として回路パターンが形成された内層用基板の片面あるいは両面に、上記のプリプレグを所要枚数重ねると共に、この外面に銅等の金属箔を重ね、これを加熱加圧して積層成形することによって、多層プリント配線板に加工するための多層配線板として作製することもできる。
【0025】
このようにして作製される多層配線板の絶縁層も、上記のプリプレグからなるため、この多層配線板において絶縁層に空洞が残存しなくなると共に、回路パターン形成前の金属箔表面に樹脂粉が付着しなくなるものである。しかもこの場合においては、内層用基板の表面に形成されている内層回路の面積に依存せずに、絶縁層の厚みのばらつきが低減され、絶縁層の厚みが全面にわたって均一化されるものである。従って、この積層板を加工して製造される多層プリント配線板は、異なる層に形成された回路パターン間の絶縁性を確実に保持することができ、回路パターンにショート不良が発生しなくなると共に、インピーダンスの制御を容易に行うことができるものである。
【0026】
【実施例】
以下、本発明を実施例によって具体的に説明する。
【0027】
樹脂として、臭素化ビスフェノールA型エポキシ樹脂(東都化成社製「YDB−500」:エポキシ当量500、臭素化率約24質量%)、クレゾールノボラック型エポキシ樹脂(東都化成社製「YDCN−220」:エポキシ当量220、臭素化率約24質量%)を用いた。
【0028】
また架橋ゴムとして、ブタジエン−アクリロニトリル共重合ゴムの架橋ゴム(JSR社製「XER−91」:粒子径0.5μm以下)を用いた。
【0029】
またポリビニルアセタール樹脂(電気化学工業社製「6000AS」)を用いた。
【0030】
さらに硬化剤として、ジシアンジアミド(分子量84、理論活性水素当量21)、硬化促進剤として、2−エチル−4−メチルイミダゾール、溶媒として、メチルエチルケトン(MEK)、メトキシプロパノール(MP)、ジメチルフォルムアミド(DMF)を用いた。
<エポキシ樹脂組成物のワニスの調製>
予めジメチルフォルムアミド(DMF)に約15質量%で均一に分散した架橋ゴムと、その他の成分を表1の配合量で所定の溶媒(固形分100質量部に対して、メチルエチルケトン(MEK)を40質量部、メトキシプロパノール(MP)を20質量部、ジメチルホルムアミド(DMF)を40質量部混合して調製した溶媒)に投入し、特殊機化工工業社製「ホモミキサー」で、約1000rpmにて約90分間混合した。その後、硬化促進剤(2−エチル−4−メチルイミダゾール)を配合し、再度約15分間撹拌し、その後脱気して、25℃で約500〜1000poiseのエポキシ樹脂組成物のワニスを調製した。
<プリプレグの作製>
基材として、ガラスクロス(日東紡績社製7628タイプクロス)を使用し、このガラスクロスに上記のようにして調製したエポキシ樹脂組成物のワニスを室温にて含浸し、その後、非接触タイプの加熱ユニットにより、約130〜170℃で加熱することにより、ワニス中の溶媒を乾燥除去し、エポキシ樹脂組成物を半硬化させることによってプリプレグを作製した。
<評価項目>
1.粉落ち量
上記のようにして作製したプリプレグを100mm×100mmに切断し、これを12枚重ね、この一辺を下方に向けて5cmの高さから5回落下させた。残りの三つの辺についても同様に行い、四つの辺から落ちた樹脂粉を集め、この合計量を秤量し、粉落ち量とした。
2.打痕不良率
上記のようにして作製したプリプレグを340mm×510mmに切断し、これを8枚重ね、この両面に銅箔を重ね、さらにこの両面を金属プレートで挟み込んで、170℃、2.94MPaで100分間加熱加圧して積層成形することによって両面銅張積層板を作製した。そして、この表面を目視にて検査し、直径0.5mm以上、深さ50μm以上の凹部が発生しているものを打痕不良と判定した。この判定を1000枚の両面銅張積層板について行い、この1000枚に対する打痕不良の枚数の割合を百分率として計算し、打痕不良率とした。
3.絶縁層の厚みのばらつき
内層用基板として、予め表面の銅箔に0.5mm幅のライン状の回路パターン(以下「ライン状回路」という。)及び直径5cmの円状の回路パターン(以下「円状回路」という。)を形成すると共に、内層処理(黒化処理)を施した厚み0.2mmの内層コア両面板(松下電工社製「CR1766」:銅箔の厚み35μm)を使用し、この内層用基板の両面に上記のようにして作製したプリプレグを重ねると共に、さらにこの両面に銅箔を重ね、170℃、2.94MPaで90分間加熱加圧して積層成形することによって多層配線板を作製した。そして、この多層配線板において、ライン状回路及び円状回路が形成されている領域の上部に形成された絶縁層の厚みを光学顕微鏡にてそれぞれ30点測定し、各平均値の差を求め、絶縁層の厚みのばらつきを評価した。
【0031】
以上の評価項目1〜3の結果を表1に示す。
【0032】
【表1】
【0033】
表1にみられるように、各実施例のものは全ての評価項目において良好な結果であり、実施例1の結果から、粒子径1μm以下の架橋ゴムが含有されている樹脂組成物を含浸させる基材として、予め他のエポキシ樹脂組成物が含浸されたものを使用しても良いことが確認される。
【0034】
また実施例1と実施例2とを比較すると、ポリビニルアセタール樹脂を配合することにより、樹脂粉の発生量や絶縁層の厚みのばらつきがさらに低減されることが確認される。
【0035】
これに対し、比較例1のものは架橋ゴムが含有されていないため、他のものより評価が大幅に悪いことが確認される。
【0036】
また比較例2のものは、架橋ゴムが含有されて絶縁層の厚みのばらつきが低減されているものの、粒子径が1μmを大幅に超える架橋ゴム(粒子径12μm)を使用しているため、樹脂粉の発生量が多く、打痕不良も発生し易いことが確認される。
【0037】
【発明の効果】
上記のように本発明の請求項1に係るプリプレグは、架橋ゴムもポリビニルアセタール樹脂も含有しないエポキシ樹脂組成物が含浸され半硬化した基材に、粒子径が1μm以下の架橋ゴムを含有するエポキシ樹脂組成物、又は粒子径が1μm以下の架橋ゴム及びポリビニルアセタール樹脂を含有するエポキシ樹脂組成物を含浸し、半硬化して成るので、半硬化状態(B−ステージ)において柔軟性が高められ、切断その他の取扱いを行っても、半硬化樹脂が割れたり剥がれたりし難くなり、樹脂粉の発生を低減することができるものである。
【0040】
また本発明の請求項2に係る積層板は、請求項1に記載のプリプレグを積層成形して成るので、この積層板を加工して製造されるプリント配線板や多層プリント配線板等は、半硬化樹脂の割れや剥がれ等に起因する空洞が絶縁層に残存しなくなることで、異なる層に形成された回路パターン間の絶縁性を確実に保持することができ、また樹脂粉が回路パターン形成前の金属箔表面に付着しなくなることで、回路パターンにショート不良が発生しなくなり、さらに内層用基板の表面に形成されている内層回路の面積に依存せずに、絶縁層の厚みのばらつきが低減され、絶縁層の厚みが全面にわたって均一化されることで、インピーダンスの制御を容易に行うことができるものである。[0001]
BACKGROUND OF THE INVENTION
The present invention relates to a prepreg and a laminate used for manufacturing a printed wiring board and the like.
[0002]
[Prior art]
A prepreg used for the production of printed wiring boards, etc., firstly uses a resin composition mainly composed of a thermosetting resin such as an epoxy resin as a varnish, impregnates it into a substrate such as a glass cloth, and dries it halfway. It is produced by setting it into a cured state (B-stage). Here, the resin composition changes from an uncured resin to a semi-cured resin. And after cutting this prepreg to a predetermined size, it is used for manufacturing a printed wiring board by stacking a required number of sheets and stacking a metal foil such as a copper foil on one side or both sides and heating and pressurizing it. Metal foil-clad laminates have been produced. At this stage, the semi-cured resin changes to a cured resin and forms an insulating layer together with the substrate. Thereafter, the outer layer circuit is formed by performing a subtractive method or the like on the metal foil on one side or both sides of the insulating layer, and through holes are formed by drilling the insulating layer, thereby producing a printed wiring board. Is.
[0003]
In addition, after cutting the prepreg produced as described above to a predetermined size on one side or both sides of a substrate for an inner layer on which a circuit pattern has been previously formed as an inner layer circuit, the required number of layers are stacked and copper foil or the like is placed on one side or both sides. A multilayer wiring board used for manufacturing a multilayer printed wiring board is manufactured by stacking metal foils and heating and pressing them to form a laminate. Similarly to the above, the semi-cured resin in the prepreg is changed to a cured resin at this stage, and an insulating layer is formed together with the base material. After that, the outer layer circuit is formed by performing a subtractive method or the like on the metal foil on one side of the insulating layer, and the via hole is formed by punching the insulating layer, and the multilayer printed wiring board is manufactured. It is.
[0004]
[Problems to be solved by the invention]
However, since the semi-cured resin is generally fragile, for example, when the prepreg is cut to a predetermined size as described above, if an impact is applied, the semi-cured resin is broken or peeled off, and the resin is damaged. Powder may occur. And in the printed wiring board manufactured using such a prepreg, the damaged portion generated in the semi-cured state (B-stage) remains as a cavity in the insulating layer, like the inner layer circuit and the outer layer circuit There is a problem that the insulation between circuit patterns formed in different layers is lowered.
[0005]
In addition, the resin powder generated as described above may adhere to the surface of the metal foil before lamination molding, and when laminated molding is performed in this state, a fine cured resin is formed on the surface of the metal foil. In some cases, a metal foil-clad laminate or a multilayer wiring board is produced. After that, even if a circuit pattern is formed on these metal foils, the metal foil at the location where the fine cured resin is formed remains without being removed by etching or the like. Then, if this portion should be removed originally, a short circuit defect occurs in the printed wiring board or the multilayer printed wiring board manufactured in this way, resulting in a problem that the yield decreases. .
[0006]
Furthermore, in the inner layer substrate, when an inner layer circuit having a different area is formed on the surface thereof, the thickness of the insulating layer formed on the upper portion is not uniform. That is, in the region where the inner layer circuit with a small area is formed, the proportion occupied by the portion without the inner layer circuit is relatively large, and conversely, in the region where the inner layer circuit with a large area is formed, The proportion occupied by the portion without the inner layer circuit is small. For this reason, when a prepreg is laminated on the surface of an inner layer substrate on which inner layer circuits having different areas are formed, part of the semi-cured resin in the prepreg flows out of the prepreg and fills the portion without the inner layer circuit. As a result, the thickness of the insulating layer formed on the upper portion of this portion is reduced. In other words, the thickness of the insulating layer formed above the area where the inner layer circuit having a small area is formed becomes thinner as a whole, and insulation with the outer layer circuit cannot be secured through this insulating layer. Met. Further, the thickness of the insulating layer varies between the regions where the inner layer circuits having different areas are formed as described above, and there is a problem that the impedance cannot be controlled.
[0007]
The present invention has been made in view of the above points. In the semi-cured state (B-stage), the semi-cured resin is hardly cracked or peeled off, the amount of resin powder generated is reduced, and the cured state is also achieved. The purpose of the present invention is to provide a prepreg in which variations in the thickness of the insulating layer are reduced, and a laminate produced using this prepreg.
[0008]
[Means for Solving the Problems]
The prepreg according to claim 1 of the present invention is an epoxy resin composition containing a crosslinked rubber having a particle diameter of 1 μm or less on a semi-cured base material impregnated with an epoxy resin composition containing neither a crosslinked rubber nor a polyvinyl acetal resin, Alternatively, it is characterized by being impregnated with an epoxy resin composition containing a crosslinked rubber having a particle size of 1 μm or less and a polyvinyl acetal resin , and semi-cured.
[0011]
According to a second aspect of the present invention, there is provided a laminated board obtained by laminating the prepreg according to the first aspect.
[0012]
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION
Embodiments of the present invention will be described below.
[0013]
The resin in the present invention, odor fluorinated bisphenol A type epoxy resin, cresol novolak type epoxy resin, bisphenol F type epoxy resin, Ru an epoxy resin such as phenol novolac type epoxy resin. These epoxy resins can be used individually by 1 type, or can mix and use 2 or more types.
[0014]
In the present invention, the crosslinked rubber is not particularly limited as long as the particle diameter is 1 μm or less, but the lower limit of the particle diameter is 0.01 μm, specifically, butadiene- Examples thereof include acrylonitrile copolymer rubber and acrylonitrile rubber. Such crosslinked rubber, in an epoxy resin composition which will be described later, preferably contain 1 to 20 parts by weight per 100 parts by weight epoxy resin, whereby the epoxy resin composition is in a semi-cured state (B- stage) It has good flexibility, is less likely to crack and peel and can reduce the occurrence of resin powder, and can reduce variations in the thickness of the insulating layer of the laminated board described later in the cured state It is. When a crosslinked rubber having a particle diameter exceeding 1 μm is used, aggregation occurs in the varnish described later, and the amount of resin powder generated increases. When non-crosslinked rubber is used instead of the crosslinked rubber, semi-curing is performed. In the state (B-stage), various properties such as tacking (property to adhere in a short time with a light force) and glass transition temperature (Tg) are lowered.
[0015]
Further in addition to the above components, preferably blended polyvinyl acetal resin. In here, the polyvinyl acetal resin, the epoxy resin composition to be described later, preferably contain 1 to 20 parts by weight per 100 parts by weight epoxy resin, thereby resulting in blending the crosslinked rubber The effect, that is, the effect of reducing the generation amount of the resin powder or reducing the variation in the thickness of the insulating layer can be obtained higher.
[0016]
In the present invention, the curing agent is not particularly limited, and examples thereof include dicyandiamide, phenol novolak, and acid anhydride (trimellitic anhydride) which are general resin curing agents.
[0017]
Furthermore, a hardening accelerator and other additives can be used as needed. Here, as the curing accelerator, imidazoles such as 2-ethyl-4-methylimidazole, 2-methylimidazole, 2-phenyl-4-methylimidazole, dimethylbenzylamine, triethylenediamine, benzyldimethylamine, triethanolamine, etc. Amines, organic phosphines such as triphenylphosphine, diphenylphosphine, and phenylphosphine, tetrasubstituted phosphonium / tetrasubstituted borates such as tetraphenylphosphonium / ethyltriphenylborate, 2-ethyl-4-methylimidazole / tetraphenylborate, etc. The tetraphenylboron salt can be exemplified.
[0018]
Then, the above epoxy resin, a particle diameter less crosslinked rubber 1μm as essential components, polyvinyl acetal resin, a curing agent and other additives blended if necessary, mixed uniformly this mixer, a blender or the like By doing so, an epoxy resin composition can be prepared, and it can be used as a varnish in the production of a prepreg. This preparation can be performed using a solvent such as methyl ethyl ketone (MEK), methoxypropanol (MP), dimethylformamide (DMF) or the like, or without using a solvent.
[0020]
The prepreg according to the present invention can be prepared as follows. First, an epoxy resin composition containing neither a crosslinked rubber nor a polyvinyl acetal resin is impregnated into a substrate such as glass cloth, and this is heated and dried to be semi-cured . In the following, the thus obtained substrate, the particle size was impregnated with the epoxy resin composition containing the following cross-linked rubber 1 [mu] m, and which was heated and dried a semi-cured state (B- stage) Can be produced. Incidentally, the epoxy resin composition impregnated into the substrate later, in addition to the above cross-linked rubber, polyvinyl acetal resin may be contained.
[0021]
The prepreg produced in this way has the flexibility of the semi-cured resin enhanced because it contains a crosslinked rubber having a particle size of 1 μm or less in the impregnated epoxy resin composition. During other handling, the semi-cured resin is not broken or peeled off, and the generation of resin powder can be reduced. Moreover this effect, by adding a polyvinyl acetal resin in the above epoxy resin composition, in which it is possible to obtain higher. Further, when preparing a prepreg, a method of directly impregnating the above-mentioned epoxy resin composition into a base material, or a base material previously impregnated with another epoxy resin composition and then dried is impregnated with the above-mentioned epoxy resin composition later. The same effect as described above can be obtained by any of the methods.
[0022]
Next, the laminate according to the present invention is formed by, for example, stacking a required number of prepregs prepared as described above, and stacking a metal foil such as copper on one or both sides, and heating and pressurizing this to form a laminate. Thus, it can be produced as a metal foil-clad laminate for processing into a printed wiring board.
[0023]
Since the insulating layer of the metal foil-clad laminate produced in this way is made of the above prepreg, cavities due to cracking or peeling of the semi-cured resin do not remain in the insulating layer in this metal foil-clad laminate. At the same time, the resin powder does not adhere to the surface of the metal foil before the circuit pattern is formed. Therefore, the printed wiring board manufactured by processing this laminated board can surely retain the insulation between the circuit patterns formed in different layers and does not cause a short circuit defect in the circuit pattern. is there.
[0024]
In addition, the laminated plate according to the present invention, for example, overlaps the required number of the above prepregs on one side or both sides of the substrate for the inner layer in which the circuit pattern is formed as the inner layer circuit in advance, and overlaps the outer surface with a metal foil such as copper, It can also be produced as a multilayer wiring board for processing into a multilayer printed wiring board by heating and pressurizing and laminating.
[0025]
Since the insulating layer of the multilayer wiring board produced in this way is also made of the above prepreg, no cavity remains in the insulating layer in this multilayer wiring board, and resin powder adheres to the surface of the metal foil before forming the circuit pattern. It will not be. Moreover, in this case, the variation in the thickness of the insulating layer is reduced and the thickness of the insulating layer is made uniform over the entire surface without depending on the area of the inner layer circuit formed on the surface of the inner layer substrate. . Therefore, the multilayer printed wiring board manufactured by processing this laminated board can reliably retain the insulation between the circuit patterns formed in different layers, and the short circuit defect does not occur in the circuit pattern. Impedance can be easily controlled.
[0026]
【Example】
Hereinafter, the present invention will be specifically described by way of examples.
[0027]
As the resin, brominated bisphenol A type epoxy resin (“YDB-500” manufactured by Toto Kasei Co., Ltd .: epoxy equivalent 500, bromination rate of about 24% by mass), cresol novolac type epoxy resin (“YDCN-220” manufactured by Toto Kasei Co., Ltd.): An epoxy equivalent of 220 and a bromination rate of about 24% by mass) were used.
[0028]
Further, a crosslinked rubber of butadiene-acrylonitrile copolymer rubber (“XER-91” manufactured by JSR Corporation: particle diameter of 0.5 μm or less) was used as the crosslinked rubber.
[0029]
Matapo revision acetal resin (electrical Chemical Industry Co., Ltd. "6000AS") was used.
[0030]
Further, dicyandiamide (molecular weight 84, theoretically active hydrogen equivalent 21) as a curing agent, 2-ethyl-4-methylimidazole as a curing accelerator, methyl ethyl ketone (MEK), methoxypropanol (MP), dimethylformamide (DMF) as a solvent ) Was used.
<Preparation of varnish of epoxy resin composition>
Cross-linked rubber uniformly dispersed in dimethylformamide (DMF) at about 15% by mass in advance and other components in the amounts shown in Table 1 in a predetermined solvent (40 parts by mass of methyl ethyl ketone (MEK) with respect to 100 parts by mass of solid content). Parts by mass, 20 parts by mass of methoxypropanol (MP) and 40 parts by mass of dimethylformamide (DMF), and mixed with a “Homomixer” manufactured by Tokki Kako Kogyo Co., Ltd. at about 1000 rpm. Mix for 90 minutes. Then, the hardening accelerator (2-ethyl-4-methylimidazole) was mix | blended, it stirred again for about 15 minutes, and it deaerated after that, and the varnish of the epoxy resin composition of about 500-1000 poise was prepared at 25 degreeC.
<Preparation of prepreg>
A glass cloth (7628 type cloth manufactured by Nitto Boseki Co., Ltd.) was used as a base material, and this glass cloth was impregnated with the varnish of the epoxy resin composition prepared as described above at room temperature. By heating at about 130-170 ° C. by the unit, the solvent in the varnish was removed by drying, and the epoxy resin composition was semi-cured to prepare a prepreg.
<Evaluation items>
1. Amount of powder falling The prepreg produced as described above was cut into 100 mm × 100 mm, twelve of them were stacked, and dropped from the height of 5 cm five times with one side facing downward. The same process was performed for the remaining three sides, and the resin powder dropped from the four sides was collected, and the total amount was weighed to obtain the amount of powder fall.
2. Defect rate of dents The prepreg produced as described above was cut into 340 mm × 510 mm, 8 sheets were stacked, copper foil was stacked on both sides, and both sides were sandwiched between metal plates, 170 ° C., 2.94 MPa. A double-sided copper-clad laminate was produced by heating and pressurizing for 100 minutes to laminate. Then, this surface was visually inspected, and a case where a recess having a diameter of 0.5 mm or more and a depth of 50 μm or more was determined to be a dent defect. This determination was performed for 1000 double-sided copper-clad laminates, and the ratio of the number of dent defects to the 1000 sheets was calculated as a percentage to obtain the dent defect rate.
3. Variation in thickness of insulating layer As a substrate for an inner layer, a 0.5 mm wide line-shaped circuit pattern (hereinafter referred to as “line-shaped circuit”) and a circular circuit pattern having a diameter of 5 cm (hereinafter referred to as “circle”) are previously formed on the surface copper foil. And a 0.2 mm-thick inner layer core double-sided board (“CR1766” manufactured by Matsushita Electric Works Co., Ltd .: copper foil thickness 35 μm) is used. A multilayer wiring board is manufactured by stacking the prepreg prepared as described above on both sides of the substrate for the inner layer and further stacking copper foil on both sides and heating and pressing at 170 ° C. and 2.94 MPa for 90 minutes. did. And in this multilayer wiring board, the thickness of the insulating layer formed on the upper part of the region where the line-shaped circuit and the circular circuit are formed is measured with an optical microscope at 30 points, and the difference between the average values is obtained. The variation in the thickness of the insulating layer was evaluated.
[0031]
The results of the above evaluation items 1 to 3 are shown in Table 1.
[0032]
[Table 1]
[0033]
As can be seen in Table 1, the results of each example are good results in all the evaluation items. From the results of Example 1, a resin composition containing a crosslinked rubber having a particle diameter of 1 μm or less is impregnated. It is confirmed that a substrate that has been impregnated with another epoxy resin composition in advance may be used.
[0034]
The Comparing Example 1 and Example 2, by blending polyvinyl acetal resin, it is confirmed that the variation in the thickness of the generation amount and the insulating layer of the resin powder is further reduced.
[0035]
On the other hand, since the thing of the comparative example 1 does not contain crosslinked rubber, it is confirmed that evaluation is significantly worse than another thing.
[0036]
Moreover, although the thing of the comparative example 2 contains crosslinked rubber and the dispersion | variation in the thickness of an insulating layer is reduced, since the crosslinked rubber (particle diameter of 12 micrometers) whose particle diameter greatly exceeds 1 micrometer is used, resin It is confirmed that the amount of powder generated is large and dent defects are likely to occur.
[0037]
【The invention's effect】
As described above, the prepreg according to claim 1 of the present invention is an epoxy containing a cross-linked rubber having a particle diameter of 1 μm or less on a semi-cured substrate impregnated with an epoxy resin composition containing neither a cross-linked rubber nor a polyvinyl acetal resin. Since the resin composition or an epoxy resin composition containing a crosslinked rubber having a particle size of 1 μm or less and a polyvinyl acetal resin is impregnated and semi-cured, flexibility is improved in a semi-cured state (B-stage), Even if cutting or other handling is performed, the semi-cured resin is hardly cracked or peeled off, and the generation of resin powder can be reduced.
[0040]
Further, since the laminated board according to claim 2 of the present invention is formed by laminating the prepreg according to claim 1, a printed wiring board, a multilayer printed wiring board, etc. manufactured by processing this laminated board are semi-finished. Cavity caused by cracking or peeling of the cured resin does not remain in the insulating layer, so that the insulation between circuit patterns formed in different layers can be reliably maintained, and the resin powder is before the circuit pattern is formed. By not sticking to the surface of the metal foil, short-circuit defects do not occur in the circuit pattern, and variation in the thickness of the insulating layer is reduced without depending on the area of the inner layer circuit formed on the surface of the inner layer substrate. In addition, the impedance can be easily controlled by making the thickness of the insulating layer uniform over the entire surface.
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