JP2005336324A - Prepreg, metal clad laminate and printed circuit board - Google Patents

Prepreg, metal clad laminate and printed circuit board Download PDF

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JP2005336324A JP2004156862A JP2004156862A JP2005336324A JP 2005336324 A JP2005336324 A JP 2005336324A JP 2004156862 A JP2004156862 A JP 2004156862A JP 2004156862 A JP2004156862 A JP 2004156862A JP 2005336324 A JP2005336324 A JP 2005336324A
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Hiroki Tamiya
裕記 田宮
Yoshihiko Nakamura
善彦 中村
Takehiro Ishida
武弘 石田
Junichi Tanaka
純一 田中
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a prepreg free from impregnation unevenness of resin and having smooth surface. <P>SOLUTION: The prepreg is produced by dissolving an epoxy resin and a phenolic hardener in a solvent to prepare a phenol-hardenable epoxy resin varnish, impregnating the varnish in a substrate and drying the product. The phenolic hardener has a softening point of ≥100°C and contains ≥2.5 phenolic hydroxy groups in the molecule on an average. The solvent is composed of at least one kind of solvent having a boiling point of ≥150°C, and the substrate has a thickness of ≥150μm. The amount of the substrate is <60 mass% based on the total amount of the prepreg. <P>COPYRIGHT: (C)2006,JPO&NCIPI

Description

本発明は、多層プリント配線板の材料となるプリプレグ、このプリプレグを用いて製造される銅張積層板等の金属張積層板、この金属張積層板を用いて製造されるプリント配線板に関するものである。   The present invention relates to a prepreg used as a material for a multilayer printed wiring board, a metal-clad laminate such as a copper-clad laminate produced using the prepreg, and a printed wiring board produced using the metal-clad laminate. is there.

プリント配線板等の製造に用いられるプリプレグは、エポキシ樹脂等の熱硬化性樹脂を主成分とする樹脂組成物をワニスとして調製し、このワニスをガラスクロス等の基材に含浸させた後にこれを乾燥させて半硬化状態(B−ステージ)とすることによって製造されている。この段階において上記の樹脂組成物は未硬化樹脂から半硬化樹脂へと変化している。   A prepreg used for the production of printed wiring boards and the like is prepared by using a resin composition mainly composed of a thermosetting resin such as an epoxy resin as a varnish, and impregnating the varnish into a substrate such as a glass cloth. It is manufactured by drying to a semi-cured state (B-stage). At this stage, the resin composition changes from an uncured resin to a semi-cured resin.

そして、上記のようにして製造したプリプレグを所定寸法に切断した後、これを所要枚数重ねると共に、このプリプレグの積層体の片面又は両面に銅箔等の金属箔を重ね、これを加熱加圧して積層成形することによって、プリント配線板の製造に用いられる金属張積層板を製造することができる。この段階においてプリプレグの半硬化樹脂は硬化樹脂へと変化し、基材と共に絶縁層を形成することとなる。   Then, after cutting the prepreg produced as described above to a predetermined size, the required number of sheets are stacked, and a metal foil such as a copper foil is stacked on one or both sides of the prepreg laminate, and this is heated and pressed. A metal-clad laminate used for the production of a printed wiring board can be produced by laminate molding. At this stage, the semi-cured resin of the prepreg is changed to a cured resin, and an insulating layer is formed together with the base material.

その後、金属張積層板に穴あけ及びめっきを行うことによりスルーホール等を形成し、さらに、サブトラクティブ法等を行うことにより金属張積層板の片面又は両面の金属箔を加工して回路を形成して、プリント配線板を製造することができる。ここで、金属張積層板の両面に回路が形成されている場合、これらの回路は上記スルーホールによって電気的に接続されている。   Then, through holes are formed in the metal-clad laminate by drilling and plating, and further, a circuit is formed by processing the metal foil on one or both sides of the metal-clad laminate by performing a subtractive method or the like. Thus, a printed wiring board can be manufactured. Here, when circuits are formed on both surfaces of the metal-clad laminate, these circuits are electrically connected by the through holes.

また、あらかじめ回路(内層回路)が形成してある内層用基板の片面又は両面に、所定寸法に切断されたプリプレグを所要枚数重ねると共に、この積層体の片面又は両面に銅箔等の金属箔を重ね、これを加熱加圧して積層成形することによって、多層プリント配線板の製造に用いられる多層積層板を製造することができる。上記と同様にこの段階においてプリプレグの半硬化樹脂は硬化樹脂へと変化し、基材と共に絶縁層を形成することとなる。   In addition, a predetermined number of prepregs cut to a predetermined size are stacked on one or both sides of an inner layer substrate on which a circuit (inner layer circuit) has been formed in advance, and a metal foil such as copper foil is placed on one or both sides of the laminate. A multilayer laminated board used for the production of a multilayer printed wiring board can be produced by stacking and heating and pressurizing the laminate. As described above, at this stage, the semi-cured resin of the prepreg is changed to a cured resin, and an insulating layer is formed together with the base material.

その後、多層積層板に穴あけ及びめっきを行うことによりバイアホール等を形成し、さらに、サブトラクティブ法等を行うことにより多層積層板の片面又は両面の金属箔を加工して回路(外層回路)を形成して、多層プリント配線板を製造することができる。ここで、内層回路と外層回路は上記バイアホールによって電気的に接続されている。   Then, via holes and the like are formed by drilling and plating the multilayer laminate, and further, a circuit (outer layer circuit) is processed by processing a metal foil on one or both sides of the multilayer laminate by performing a subtractive method or the like. A multilayer printed wiring board can be manufactured by forming. Here, the inner layer circuit and the outer layer circuit are electrically connected by the via hole.

上記のようにして多層プリント配線板が製造されているが、プリプレグの製造に用いられる樹脂組成物としては、特にフェノール硬化型エポキシ樹脂組成物が用いられている(例えば、特許文献1−3参照。)。このフェノール硬化型エポキシ樹脂組成物とは、硬化剤としてフェノール性水酸基を有する化合物(フェノール系硬化剤)を用いたエポキシ樹脂組成物のことをいうが、このような組成物を用いると、マイグレーションの発生を防止し、多層プリント配線板の耐CAF(Conductive Anodic Filament)性を改良することができると共に、耐熱性を向上させることができるものである。
特開平7−165885号公報 特開昭53−101082号公報 米国特許第4501787号明細書
A multilayer printed wiring board is manufactured as described above, and a phenol curable epoxy resin composition is particularly used as a resin composition used for manufacturing a prepreg (see, for example, Patent Documents 1-3). .) This phenol curable epoxy resin composition refers to an epoxy resin composition using a phenolic hydroxyl group-containing compound (phenolic curing agent) as a curing agent. Generation | occurrence | production can be prevented, CAF (Conductive Anodic Filament) resistance of a multilayer printed wiring board can be improved, and heat resistance can be improved.
JP-A-7-16585 JP-A-53-101082 US Pat. No. 4,501,787

上記のフェノール硬化型エポキシ樹脂組成物は通常メチルエチルケトンのような溶媒に溶解させてワニスとして用いられている。   The above phenol curable epoxy resin composition is usually used as a varnish after being dissolved in a solvent such as methyl ethyl ketone.

ところが、基材として厚みが厚いもの(例えば、厚み150μm以上)を用い、かつ、基材に含浸させる樹脂量を多くすると(例えば、40質量%以上)、樹脂の含浸むらが生じ表面が平滑でないプリプレグが得られることとなる。そして、このようなプリプレグを用いて金属張積層板を製造すると、得られる金属張積層板の表面粗度は大きくなり、回路形成に支障をきたすこととなる。さらに、このような金属張積層板を用いてプリント配線板を製造すると、耐CAF性及び耐熱性が良好であっても、回路形成が不良であるため信頼性が低くなるものである。   However, when a thick base material (for example, 150 μm or more) is used and the amount of resin impregnated into the base material is increased (for example, 40% by weight or more), uneven resin impregnation occurs and the surface is not smooth. A prepreg will be obtained. When a metal-clad laminate is manufactured using such a prepreg, the surface roughness of the resulting metal-clad laminate is increased, which hinders circuit formation. Furthermore, when a printed wiring board is manufactured using such a metal-clad laminate, even if CAF resistance and heat resistance are good, circuit formation is poor and reliability is lowered.

また、エポキシ樹脂として、ノボラック型エポキシ樹脂やジシクロペンタジエン型エポキシ樹脂を用いると、プリント配線板の耐熱性を高めることができると共に吸湿性を小さくすることができるが、反面、乾燥工程で反応が進むにつれて粘度が急激に上昇し、その結果、樹脂の含浸むらが顕著に生じるという問題がある。そのため、ノボラック型エポキシ樹脂やジシクロペンタジエン型エポキシ樹脂については、使用を控えざるを得ない。   Moreover, when a novolac type epoxy resin or a dicyclopentadiene type epoxy resin is used as the epoxy resin, the heat resistance of the printed wiring board can be increased and the hygroscopicity can be reduced. As the process proceeds, the viscosity rises rapidly, and as a result, there is a problem that uneven impregnation of the resin is remarkably generated. For this reason, novolak type epoxy resins and dicyclopentadiene type epoxy resins are inevitably used.

本発明は上記の点に鑑みてなされたものであり、樹脂の含浸むらがなく表面が平滑なプリプレグ、表面粗度が小さく容易に回路形成できる金属張積層板、耐CAF性及び耐熱性が良好で信頼性の高いプリント配線板を提供することを目的とするものである。   The present invention has been made in view of the above points, and has a prepreg with a smooth surface without uneven resin impregnation, a metal-clad laminate with a small surface roughness and an easy circuit formation, and excellent CAF resistance and heat resistance. An object of the present invention is to provide a highly reliable printed wiring board.

本発明の請求項1に係るプリプレグは、エポキシ樹脂及びフェノール系硬化剤を溶媒に溶解させてフェノール硬化型エポキシ樹脂ワニスを調製し、これを基材に含浸させると共に乾燥させることによって得られるプリプレグにおいて、フェノール系硬化剤として、軟化点が100℃以上であり、かつ、分子中にフェノール性水酸基を平均2.5個以上有するものを用い、溶媒として、沸点が150℃以上であるものを少なくとも1種類用い、基材として、厚みが150μm以上であるものを用いると共に、プリプレグ全量に対して基材の含有量が60質量%未満であることを特徴とするものである。   The prepreg according to claim 1 of the present invention is a prepreg obtained by dissolving an epoxy resin and a phenol-based curing agent in a solvent to prepare a phenol-curable epoxy resin varnish, impregnating it into a substrate and drying it. A phenolic curing agent having a softening point of 100 ° C. or higher and an average of 2.5 or more phenolic hydroxyl groups in the molecule is used, and a solvent having a boiling point of 150 ° C. or higher is used as the solvent. A type having a thickness of 150 μm or more is used as a base material, and the base material content is less than 60% by mass with respect to the total amount of the prepreg.

請求項2の発明は、請求項1において、沸点が150℃以上である溶媒として、分子中に窒素原子を含まないものを用いて成ることを特徴とするものである。   The invention of claim 2 is characterized in that, in claim 1, the solvent having a boiling point of 150 ° C. or higher is a solvent containing no nitrogen atom in the molecule.

請求項3の発明は、請求項1又は2において、沸点が150℃以上である溶媒として、シクロヘキサノンを用いて成ることを特徴とするものである。   The invention of claim 3 is characterized in that in claim 1 or 2, cyclohexanone is used as a solvent having a boiling point of 150 ° C. or higher.

請求項4の発明は、請求項1乃至3のいずれかにおいて、溶媒として、シクロヘキサノン及びメチルエチルケトンを併用して成ることを特徴とするものである。   The invention of claim 4 is characterized in that in any one of claims 1 to 3, cyclohexanone and methyl ethyl ketone are used in combination as the solvent.

請求項5の発明は、請求項1乃至4のいずれかにおいて、フェノール硬化型エポキシ樹脂ワニス全量に対して20℃で液状のエポキシ樹脂が5質量%以上含有されて成ることを特徴とするものである。   The invention of claim 5 is characterized in that in any one of claims 1 to 4, the liquid epoxy resin is contained in an amount of 5% by mass or more at 20 ° C. with respect to the total amount of the phenol curable epoxy resin varnish. is there.

請求項6の発明は、請求項1乃至5のいずれかにおいて、フェノール硬化型エポキシ樹脂ワニス全量に対してノボラック型エポキシ樹脂が15質量%以上含有されて成ることを特徴とするものである。   A sixth aspect of the invention is characterized in that, in any one of the first to fifth aspects, 15% by mass or more of a novolak type epoxy resin is contained with respect to the total amount of the phenol curable epoxy resin varnish.

請求項7の発明は、請求項1乃至6のいずれかにおいて、フェノール硬化型エポキシ樹脂ワニス全量に対してジシクロペンタジエン型エポキシ樹脂が15質量%以上含有されて成ることを特徴とするものである。   The invention of claim 7 is characterized in that, in any one of claims 1 to 6, the dicyclopentadiene type epoxy resin is contained in an amount of 15% by mass or more based on the total amount of the phenol curable epoxy resin varnish. .

本発明の請求項8に係る金属張積層板は、請求項1乃至7のいずれかに記載のプリプレグと金属箔を積層成形して成ることを特徴とするものである。   A metal-clad laminate according to an eighth aspect of the present invention is formed by laminating the prepreg according to any one of the first to seventh aspects and a metal foil.

本発明の請求項9に係るプリント配線板は、請求項8に記載の金属張積層板に回路形成して成ることを特徴とするものである。   A printed wiring board according to a ninth aspect of the present invention is formed by forming a circuit on the metal-clad laminate according to the eighth aspect.

請求項1の発明によれば、樹脂の含浸むらがなく表面が平滑なプリプレグを得ることができるものである。   According to the invention of claim 1, a prepreg having a smooth surface with no unevenness of resin impregnation can be obtained.

請求項2の発明によれば、プリント配線板の耐熱性の低下を防止することができるものである。   According to the invention of claim 2, it is possible to prevent the heat resistance of the printed wiring board from being lowered.

請求項3の発明によれば、沸点が150℃以上である他の溶媒を用いる場合に比べて、表面粗度がより小さく、一層容易に回路形成できる金属張積層板を製造することができるものである。   According to the invention of claim 3, it is possible to manufacture a metal-clad laminate that has a smaller surface roughness and can form a circuit more easily than when using another solvent having a boiling point of 150 ° C. or higher. It is.

請求項4の発明によれば、シクロヘキサノンのみを用いる場合に比べて、表面粗度がより小さく、一層容易に回路形成できる金属張積層板を製造することができるものである。   According to invention of Claim 4, compared with the case where only cyclohexanone is used, the surface roughness is smaller and the metal-clad laminated board which can form a circuit more easily can be manufactured.

請求項5の発明によれば、表面粗度がより小さく、一層容易に回路形成できる金属張積層板を製造することができるものである。   According to the invention of claim 5, a metal-clad laminate having a smaller surface roughness and capable of forming a circuit more easily can be produced.

請求項6の発明によれば、表面粗度がより小さく、一層容易に回路形成できる金属張積層板を製造することができるものであり、しかもこのようにして製造した金属張積層板を用いると、プリント配線板の耐熱性をさらに高めることができると共に吸湿性を小さくすることができるものである。   According to the invention of claim 6, it is possible to manufacture a metal-clad laminate having a smaller surface roughness and capable of forming a circuit more easily, and when using the metal-clad laminate produced in this way, The heat resistance of the printed wiring board can be further increased and the hygroscopicity can be reduced.

請求項7の発明によれば、表面粗度がより小さく、一層容易に回路形成できる金属張積層板を製造することができるものであり、しかもこのようにして製造した金属張積層板を用いると、プリント配線板の耐熱性をさらに高めることができると共に吸湿性を小さくすることができるものである。   According to the invention of claim 7, it is possible to manufacture a metal-clad laminate having a smaller surface roughness and capable of forming a circuit more easily, and when using the metal-clad laminate produced in this way, The heat resistance of the printed wiring board can be further increased and the hygroscopicity can be reduced.

請求項8の発明によれば、表面粗度が小さく容易に回路形成できる金属張積層板を得ることができるものである。   According to the invention of claim 8, a metal-clad laminate having a small surface roughness and capable of forming a circuit easily can be obtained.

請求項9の発明によれば、耐CAF性及び耐熱性が良好で信頼性の高いプリント配線板を得ることができるものである。   According to the ninth aspect of the present invention, a highly reliable printed wiring board having good CAF resistance and heat resistance can be obtained.

以下、本発明の実施の形態を説明する。   Embodiments of the present invention will be described below.

本発明に係るプリプレグは、エポキシ樹脂及びフェノール系硬化剤を溶媒に溶解させてフェノール硬化型エポキシ樹脂ワニスを調製し、これを基材に含浸させると共に乾燥させることによって製造することができる。   The prepreg according to the present invention can be produced by preparing a phenol-curable epoxy resin varnish by dissolving an epoxy resin and a phenol-based curing agent in a solvent, impregnating the substrate and drying it.

エポキシ樹脂としては、特に限定されるものではないが、例えば、20℃で液状のエポキシ樹脂、クレゾールノボラック型エポキシ樹脂やフェノールノボラック型エポキシ樹脂等のノボラック型エポキシ樹脂、ジシクロペンタジエン型エポキシ樹脂、臭素化ビスフェノールA型エポキシ樹脂等のブロム化エポキシ樹脂、ビスフェノールF型エポキシ樹脂等を用いることができる。これらのエポキシ樹脂のうち1種のみを用いたり2種以上を混合して用いたりすることもできる。本発明によれば、使用するエポキシ樹脂の如何を問わず、樹脂の含浸むらがなく表面が平滑なプリプレグを得ることができるので、ノボラック型エポキシ樹脂やジシクロペンタジエン型エポキシ樹脂のようなエポキシ樹脂であっても、これらの使用を控える必要はない。むしろこれらのエポキシ樹脂を用いた方が好ましく、これによりプリント配線板の耐熱性を高めることができると共に吸湿性を小さくすることができるものである。   The epoxy resin is not particularly limited. For example, an epoxy resin that is liquid at 20 ° C., a novolac epoxy resin such as a cresol novolac epoxy resin or a phenol novolac epoxy resin, a dicyclopentadiene epoxy resin, or bromine Brominated epoxy resins such as bisphenol A epoxy resin, bisphenol F epoxy resin, and the like can be used. Of these epoxy resins, only one type may be used, or two or more types may be mixed and used. According to the present invention, it is possible to obtain a prepreg having a smooth surface without unevenness of impregnation regardless of the epoxy resin to be used, so that an epoxy resin such as a novolac type epoxy resin or a dicyclopentadiene type epoxy resin can be obtained. Even so, there is no need to refrain from using them. Rather, it is preferable to use these epoxy resins, whereby the heat resistance of the printed wiring board can be increased and the hygroscopicity can be reduced.

エポキシ樹脂として20℃で液状のエポキシ樹脂を用いる場合には、このエポキシ樹脂はフェノール硬化型エポキシ樹脂ワニス全量に対して5質量%以上(上限は50質量%)含有されていることが好ましい。これにより、その他のエポキシ樹脂を用いる場合に比べて、表面粗度がより小さく、一層容易に回路形成できる金属張積層板を製造することができるからである。20℃で液状のエポキシ樹脂の含有量が5質量%未満であると、上記のような効果を十分に得ることができないおそれがある。   When an epoxy resin that is liquid at 20 ° C. is used as the epoxy resin, the epoxy resin is preferably contained in an amount of 5% by mass or more (upper limit is 50% by mass) based on the total amount of the phenol curable epoxy resin varnish. This is because a metal-clad laminate having a smaller surface roughness and capable of forming a circuit more easily than when using other epoxy resins can be produced. If the content of the liquid epoxy resin at 20 ° C. is less than 5% by mass, the above effects may not be sufficiently obtained.

エポキシ樹脂としてノボラック型エポキシ樹脂を用いる場合には、このエポキシ樹脂はフェノール硬化型エポキシ樹脂ワニス全量に対して15質量%以上(上限は85質量%)含有されていることが好ましい。これにより、その他のエポキシ樹脂を用いる場合に比べて、表面粗度がより小さく、一層容易に回路形成できる金属張積層板を製造することができるからである。しかもこのようにして製造した金属張積層板を用いると、プリント配線板の耐熱性をさらに高めることができると共に吸湿性を小さくすることができるからである。ノボラック型エポキシ樹脂の含有量が15質量%未満であると、上記のような効果を十分に得ることができないおそれがある。   When a novolac type epoxy resin is used as the epoxy resin, the epoxy resin is preferably contained in an amount of 15% by mass or more (upper limit is 85% by mass) with respect to the total amount of the phenol curable epoxy resin varnish. This is because a metal-clad laminate having a smaller surface roughness and capable of forming a circuit more easily than when using other epoxy resins can be produced. In addition, when the metal-clad laminate manufactured in this way is used, the heat resistance of the printed wiring board can be further increased and the hygroscopicity can be reduced. If the content of the novolac-type epoxy resin is less than 15% by mass, the above effects may not be sufficiently obtained.

エポキシ樹脂としてジシクロペンタジエン型エポキシ樹脂を用いる場合には、このエポキシ樹脂はフェノール硬化型エポキシ樹脂ワニス全量に対して15質量%以上(上限は90質量%)含有されていることが好ましい。これにより、その他のエポキシ樹脂を用いる場合に比べて、表面粗度がより小さく、一層容易に回路形成できる金属張積層板を製造することができるからである。しかもこのようにして製造した金属張積層板を用いると、プリント配線板の耐熱性をさらに高めることができると共に吸湿性を小さくすることができるからである。ジシクロペンタジエン型エポキシ樹脂の含有量が15質量%未満であると、上記のような効果を十分に得ることができないおそれがある。   When a dicyclopentadiene type epoxy resin is used as the epoxy resin, the epoxy resin is preferably contained in an amount of 15% by mass or more (upper limit is 90% by mass) based on the total amount of the phenol curable epoxy resin varnish. This is because a metal-clad laminate having a smaller surface roughness and capable of forming a circuit more easily than when using other epoxy resins can be produced. In addition, when the metal-clad laminate manufactured in this way is used, the heat resistance of the printed wiring board can be further increased and the hygroscopicity can be reduced. If the content of the dicyclopentadiene type epoxy resin is less than 15% by mass, the above effects may not be sufficiently obtained.

フェノール系硬化剤としては、軟化点が100℃以上(上限は150℃)であり、かつ、分子中にフェノール性水酸基を平均2.5個以上(上限は15.0個)有するものを用いる。フェノール硬化型エポキシ樹脂ワニス全量に対してフェノール系硬化剤の含有量は5〜30質量%に設定することができる。フェノール系硬化剤の具体例としては、ビスフェノールAノボラック樹脂等を挙げることができる。特にビスフェノールAノボラック樹脂を用いると、プリプレグの成形性を高く得ることもできる。フェノール系硬化剤の軟化点が100℃未満であったり、フェノール系硬化剤の分子中のフェノール性水酸基が2.5個未満であったりすると、最終的に得られるプリント配線板の耐熱性が低下するものである。   As the phenol-based curing agent, those having a softening point of 100 ° C. or higher (upper limit is 150 ° C.) and having an average of 2.5 or more phenolic hydroxyl groups in the molecule (upper limit is 15.0) are used. Content of a phenol type hardening | curing agent can be set to 5-30 mass% with respect to phenol hardening type epoxy resin varnish whole quantity. Specific examples of the phenolic curing agent include bisphenol A novolac resin. In particular, when a bisphenol A novolac resin is used, the moldability of the prepreg can be increased. If the softening point of the phenolic curing agent is less than 100 ° C or the phenolic curing agent has less than 2.5 phenolic hydroxyl groups in the molecule, the heat resistance of the finally obtained printed wiring board will decrease. To do.

溶媒としては、沸点が150℃以上(上限は200℃)であるものを少なくとも1種類用いる。すなわち、沸点が150℃以上である溶媒のみを1種又は2種以上混合して用いるほか、これに沸点が150℃未満である溶媒(例えば、メトキシプロパノール(沸点121℃)等)を1種又は2種以上混合して用いることもできる。沸点が150℃以上である溶媒の具体例としては、シクロヘキサノン(沸点155.7℃)やジメチルホルムアミド(沸点153℃)等を挙げることができる。沸点が150℃未満である溶媒のみを用いると、樹脂の含浸むらが生じるものである。   As the solvent, at least one solvent having a boiling point of 150 ° C. or higher (upper limit is 200 ° C.) is used. That is, in addition to using only one or two or more solvents having a boiling point of 150 ° C. or higher, a solvent having a boiling point of less than 150 ° C. (for example, methoxypropanol (boiling point 121 ° C.) or the like) is used. A mixture of two or more types can also be used. Specific examples of the solvent having a boiling point of 150 ° C. or higher include cyclohexanone (boiling point 155.7 ° C.) and dimethylformamide (boiling point 153 ° C.). If only a solvent having a boiling point of less than 150 ° C. is used, uneven impregnation of the resin occurs.

沸点が150℃以上である溶媒としては、分子中に窒素原子を含まないものを用いるのが好ましい。具体例としては、シクロヘキサノン(沸点155.7℃)等を用いることができる。分子中に窒素原子を含む溶媒(例えば、ジメチルホルムアミド等)を用いると、プリント配線板の耐熱性が低下するおそれがある。よって、沸点が150℃以上であって、分子中に窒素原子を含まない溶媒を用いるのが好ましく、これによりプリント配線板の耐熱性の低下を防止することができるものである。特にシクロヘキサノンを用いると、沸点が150℃以上である他の溶媒を用いる場合に比べて、表面粗度がより小さく、一層容易に回路形成できる金属張積層板を製造することができるものである。   As the solvent having a boiling point of 150 ° C. or higher, a solvent containing no nitrogen atom in the molecule is preferably used. As a specific example, cyclohexanone (boiling point 155.7 ° C.) or the like can be used. If a solvent containing a nitrogen atom in the molecule (for example, dimethylformamide) is used, the heat resistance of the printed wiring board may be lowered. Therefore, it is preferable to use a solvent having a boiling point of 150 ° C. or higher and containing no nitrogen atom in the molecule, thereby preventing a decrease in heat resistance of the printed wiring board. In particular, when cyclohexanone is used, a metal-clad laminate having a smaller surface roughness and easier circuit formation can be produced compared to the case of using another solvent having a boiling point of 150 ° C. or higher.

溶媒としては、シクロヘキサノン(沸点155.7℃)及びメチルエチルケトン(79.6℃)を併用してもよい。これにより、シクロヘキサノンのみを用いる場合に比べて、表面粗度がより小さく、一層容易に回路形成できる金属張積層板を製造することができるからである。なお、シクロヘキサノンとメチルエチルケトンの混合比は質量比で80:20〜20:80であることが好ましい。   As the solvent, cyclohexanone (boiling point: 155.7 ° C.) and methyl ethyl ketone (79.6 ° C.) may be used in combination. This is because it is possible to manufacture a metal-clad laminate that has a smaller surface roughness and can form a circuit more easily than when only cyclohexanone is used. The mixing ratio of cyclohexanone and methyl ethyl ketone is preferably 80:20 to 20:80 by mass ratio.

基材としては、ガラスクロス等を用いることができるが、厚みは150μm以上(上限は250μm)であるものを用いる。基材の厚みが150μm未満であると、得られるプリプレグが薄くなり、取扱いが困難となる。また、このように薄いプリプレグでは、厚いプリプレグよりも、プリント配線板を製造するのに必要な枚数が多くなり、積み重ね工程数が増加し、コストも高くなる。   As the substrate, glass cloth or the like can be used, but one having a thickness of 150 μm or more (upper limit is 250 μm) is used. When the thickness of the substrate is less than 150 μm, the resulting prepreg becomes thin and handling becomes difficult. In addition, such a thin prepreg requires more sheets for manufacturing a printed wiring board than a thick prepreg, increases the number of stacking steps, and increases the cost.

フェノール硬化型エポキシ樹脂ワニスを調製するにあたっては、必要に応じて硬化促進剤を添加して用いることができる。硬化促進剤としては、特に限定されるものではないが、例えば、2−エチル−4−メチルイミダゾール(2E4MZ)、2−メチルイミダゾール、2−フェニル−4−メチルイミダゾール等のイミダゾール類、ジメチルベンジルアミン、トリエチレンジアミン、ベンジルジメチルアミン、トリエタノールアミン等のアミン類、トリフェニルホスフィン、ジフェニルホスフィン、フェニルホスフィン等の有機ホスフィン類、テトラフェニルホスホニウム・エチルトリフェニルボレート等のテトラ置換ホスホニウム・テトラ置換ボレート、2−エチル−4−メチルイミダゾール・テトラフェニルボレート等のテトラフェニルボロン塩等を用いることができる。なお、硬化促進剤を用いる場合には、フェノール硬化型エポキシ樹脂ワニス全量に対して硬化促進剤の含有量は0.01〜3.0質量%に設定することができる。   In preparing the phenol curable epoxy resin varnish, a curing accelerator can be added and used as necessary. Although it does not specifically limit as a hardening accelerator, For example, imidazoles, such as 2-ethyl-4-methylimidazole (2E4MZ), 2-methylimidazole, 2-phenyl-4-methylimidazole, dimethylbenzylamine , Amines such as triethylenediamine, benzyldimethylamine and triethanolamine, organic phosphines such as triphenylphosphine, diphenylphosphine and phenylphosphine, tetrasubstituted phosphonium / tetrasubstituted borates such as tetraphenylphosphonium / ethyltriphenylborate, 2 Tetraphenylboron salts such as ethyl-4-methylimidazole and tetraphenylborate can be used. In addition, when using a hardening accelerator, content of a hardening accelerator can be set to 0.01-3.0 mass% with respect to the phenol hardening epoxy resin varnish whole quantity.

フェノール硬化型エポキシ樹脂ワニスは、上述したエポキシ樹脂及びフェノール系硬化剤、必要に応じて硬化促進剤を配合し、これをミキサーやブレンダー等で均一に混合した後、この混合物を上述した溶媒に溶解させて希釈することによって、調製することができる。そして、このようにして調製したフェノール硬化型エポキシ樹脂ワニスを上述した基材に含浸させると共に半硬化のBステージ状態に乾燥させることによって、本発明に係るプリプレグを製造することができる。このようにして、樹脂の含浸むらがなく表面が平滑なプリプレグを得ることができるものである。ただし、プリプレグ全量に対して基材の含有量は60質量%未満(下限は30質量%)である。基材の含有量は、フェノール硬化型エポキシ樹脂ワニスを含浸させる量によって調整することができる。具体的には、間隔を調節した一対のロール間に含浸後の基材を通して余剰のフェノール硬化型エポキシ樹脂ワニスを除去することによって、基材の含有量を調整することができる。なお、基材の含有量と樹脂量(溶媒を除く)の合計がプリプレグ全量となる。基材の含有量が60質量%以上であると、樹脂の含浸むらが生じ表面が平滑でないプリプレグが得られることとなる。   The phenol curable epoxy resin varnish is blended with the above-described epoxy resin and phenol-based curing agent, and a curing accelerator if necessary, and after uniformly mixing with a mixer or blender, the mixture is dissolved in the above-described solvent. Can be prepared by diluting. And the prepreg which concerns on this invention can be manufactured by making the base material mentioned above impregnate the phenol curable epoxy resin varnish prepared in this way, and making it dry to a semi-hardened B stage state. In this way, a prepreg having a smooth surface without uneven resin impregnation can be obtained. However, the content of the base material is less than 60% by mass (the lower limit is 30% by mass) with respect to the total amount of the prepreg. The content of the substrate can be adjusted by the amount impregnated with the phenol curable epoxy resin varnish. Specifically, the content of the base material can be adjusted by removing the excess phenol-curing epoxy resin varnish through the base material after impregnation between a pair of rolls with adjusted intervals. The total of the base material content and the resin amount (excluding the solvent) is the total amount of the prepreg. When the content of the base material is 60% by mass or more, the resin impregnation unevenness occurs and a prepreg having a non-smooth surface is obtained.

本発明に係る金属張積層板は、上記のようにして得られたプリプレグと金属箔を積層成形することによって製造することができる。具体的には、次のようにして製造することができる。すなわち、プリプレグを所要枚数重ねると共に、このプリプレグの積層体の片面又は両面に銅箔等の金属箔を重ね、これを加熱加圧して積層成形することによって、プリント配線板の製造に用いられる金属張積層板を製造することができる。このようにして、表面粗度が小さく容易に回路形成できる金属張積層板を得ることができるものである。   The metal-clad laminate according to the present invention can be manufactured by laminating the prepreg and metal foil obtained as described above. Specifically, it can be produced as follows. That is, the required number of prepregs are stacked, and a metal foil such as a copper foil is stacked on one or both sides of the laminate of the prepregs, and this is heated and pressed to form a laminate. Laminates can be manufactured. In this way, it is possible to obtain a metal-clad laminate having a small surface roughness and capable of easily forming a circuit.

本発明に係るプリント配線板は、上記のようにして得られた金属張積層板に回路形成することによって製造することができる。具体的には、次のようにして製造することができる。すなわち、上記のようにして製造した金属張積層板に公知の方法で穴あけ及びめっき(例えば、銅めっき等)を行うことによりスルーホール等を形成し、さらに、サブトラクティブ法等を行うことにより金属張積層板の片面又は両面の金属箔を加工して回路を形成することによって、プリント配線板を製造することができる。このようにして、耐CAF性及び耐熱性が良好で信頼性の高いプリント配線板を得ることができるものである。なお、プリント配線板の両面に回路が形成されている場合、これらの回路は上記スルーホールによって電気的に接続されている。また、上記のようにして製造したプリント配線板は、後述する多層プリント配線板を製造するための内層用基板として用いることができる。   The printed wiring board according to the present invention can be manufactured by forming a circuit on the metal-clad laminate obtained as described above. Specifically, it can be produced as follows. That is, a metal-clad laminate produced as described above is formed by drilling and plating (for example, copper plating) by a known method to form a through hole, etc., and further by performing a subtractive method or the like. A printed wiring board can be produced by processing a metal foil on one or both sides of a stretched laminate to form a circuit. In this way, a highly reliable printed wiring board having good CAF resistance and heat resistance can be obtained. When circuits are formed on both surfaces of the printed wiring board, these circuits are electrically connected through the through holes. Moreover, the printed wiring board manufactured as mentioned above can be used as an inner layer substrate for manufacturing a multilayer printed wiring board described later.

多層プリント配線板は、次のようにして製造することができる。まず、あらかじめ回路(内層回路)が形成してある内層用基板の片面又は両面にプリプレグを所要枚数重ねると共に、この積層体の片面又は両面に銅箔等の金属箔を重ね、これを加熱加圧して積層成形することによって、多層プリント配線板の製造に用いられる多層積層板を製造することができる。この段階においてプリプレグの半硬化樹脂は硬化樹脂へと変化し、基材と共に絶縁層を形成することとなる。なお、内層用基板としては、上述したプリント配線板を用いることができるほか、市販されているもの(例えば、松下電工(株)製「CR−1766」等)を用いることもできる。また、積層成形する前に内層用基板の回路の表面をあらかじめ黒化処理して粗面化しておくのが好ましい。このようにすると、多層配線板において内層用基板に対するプリプレグの密着強度を向上させることができるからである。   The multilayer printed wiring board can be manufactured as follows. First, the required number of prepregs are stacked on one or both sides of an inner layer substrate on which a circuit (inner layer circuit) has been formed in advance, and a metal foil such as copper foil is stacked on one or both sides of this laminate, and this is heated and pressed. By multilayer molding, a multilayer laminated board used for producing a multilayer printed wiring board can be produced. At this stage, the semi-cured resin of the prepreg is changed to a cured resin, and an insulating layer is formed together with the base material. In addition, as a board | substrate for inner layers, the printed wiring board mentioned above can be used, and what is marketed (for example, "CR-1766" by Matsushita Electric Works Co., Ltd.) can also be used. Further, it is preferable that the surface of the circuit of the inner layer substrate is previously roughened by roughening before lamination molding. This is because the adhesion strength of the prepreg to the inner layer substrate in the multilayer wiring board can be improved.

その後、公知の方法で多層積層板に穴あけ及びめっき(例えば、銅めっき等)を行うことによりバイアホール等を形成し、さらに、サブトラクティブ法等を行うことにより多層積層板の片面又は両面の金属箔を加工して回路(外層回路)を形成して、多層プリント配線板を製造することができる。内層回路と外層回路は上記バイアホールによって電気的に接続されている。   Then, via holes and the like are formed by performing drilling and plating (for example, copper plating) on the multilayer laminate by a known method, and further, a single-sided or double-sided metal of the multilayer laminate is performed by performing a subtractive method or the like. A multilayer printed wiring board can be manufactured by forming a circuit (outer layer circuit) by processing the foil. The inner layer circuit and the outer layer circuit are electrically connected by the via hole.

以上のように、本発明によれば、樹脂の含浸むらがなく表面が平滑なプリプレグを得ることができ、表面粗度が小さく容易に回路形成できる金属張積層板を得ることができるので、多層化されたプリント配線板であっても、耐CAF性及び耐熱性が良好で信頼性の高いものを得ることができるものである。   As described above, according to the present invention, it is possible to obtain a prepreg having a smooth surface without uneven resin impregnation, and a metal-clad laminate that can be easily formed with a small surface roughness. Even a printed wiring board that has been made can have a high CAF resistance and heat resistance and high reliability.

以下、本発明を実施例によって具体的に説明する。   Hereinafter, the present invention will be specifically described by way of examples.

<フェノール硬化型エポキシ樹脂ワニス>
エポキシ樹脂として、ブロム化エポキシ樹脂(東都化成(株)製「YDB−500」、エポキシ当量500、臭素含有量21質量%)、クレゾールノボラック型エポキシ樹脂(大日本インキ化学工業(株)製「N−690」、エポキシ当量225)、ジシクロペンタジエン型エポキシ樹脂(大日本インキ化学工業(株)製「HP−7200H」、エポキシ当量283)、20℃で液状のエポキシ樹脂(東都化成(株)製「YD−128」、エポキシ当量186)を用いた。
<Phenol curable epoxy resin varnish>
As epoxy resin, brominated epoxy resin (“YDB-500” manufactured by Tohto Kasei Co., Ltd., epoxy equivalent 500, bromine content 21 mass%), cresol novolak type epoxy resin (“N” manufactured by Dainippon Ink & Chemicals, Inc.) -690 ", epoxy equivalent 225), dicyclopentadiene type epoxy resin (manufactured by Dainippon Ink & Chemicals, Inc.," HP-7200H ", epoxy equivalent 283), liquid epoxy resin at 20 ° C (manufactured by Toto Kasei Co., Ltd.) “YD-128”, epoxy equivalent 186) was used.

フェノール系硬化剤として、ビスフェノールAノボラック樹脂(軟化点110℃、分子中のフェノール性水酸基の平均個数2.5個、水酸基当量118)、フェノールノボラック樹脂である荒川化学工業(株)製「タマノール752」(軟化点80℃、分子中のフェノール性水酸基の平均個数1.5個、水酸基当量105)を用いた。   As a phenol-based curing agent, bisphenol A novolak resin (softening point 110 ° C., average number of phenolic hydroxyl groups in the molecule 2.5, hydroxyl group equivalent 118), “Tamanol 752” manufactured by Arakawa Chemical Industries, which is a phenol novolak resin. (Softening point 80 ° C., average number of phenolic hydroxyl groups in the molecule: 1.5, hydroxyl group equivalent: 105).

硬化促進剤として、2−エチル−4−メチルイミダゾール(四国化成工業(株)製「2E4MZ」)を用いた。   As a curing accelerator, 2-ethyl-4-methylimidazole (“2E4MZ” manufactured by Shikoku Chemicals Co., Ltd.) was used.

溶媒として、シクロヘキサノン(沸点155.7℃)、メトキシプロパノール(MP)(沸点121℃)、メチルエチルケトン(MEK)(沸点79.6℃)を用いた。   As the solvent, cyclohexanone (boiling point 155.7 ° C.), methoxypropanol (MP) (boiling point 121 ° C.), and methyl ethyl ketone (MEK) (boiling point 79.6 ° C.) were used.

そして、上記のエポキシ樹脂、フェノール系硬化剤、硬化促進剤、溶媒を下記[表1]に示す配合量で配合し、これをミキサーで均一に混合することによって、実施例1〜5及び比較例1〜4のフェノール硬化型エポキシ樹脂ワニスを調製した。   And Examples 1-5 and a comparative example by mix | blending said epoxy resin, a phenol type hardening | curing agent, a hardening accelerator, and a solvent with the compounding quantity shown to following [Table 1], and mixing this uniformly with a mixer. 1-4 phenol curable epoxy resin varnishes were prepared.

<プリプレグ>
基材として、ガラスクロス(日東紡績(株)製「7628タイプクロス」、厚み173μm)を用いた。
<Prepreg>
A glass cloth (“7628 type cloth” manufactured by Nitto Boseki Co., Ltd., thickness: 173 μm) was used as the substrate.

そして、上記のようにして調製したフェノール硬化型エポキシ樹脂ワニスを室温下で上記の基材に含浸させた。次にこれを非接触タイプの加熱ユニットで約130〜170℃に加熱乾燥して溶媒を除去することによって、実施例1〜5及び比較例1〜4のプリプレグを製造した。   And the said base material was impregnated at room temperature with the phenol curable epoxy resin varnish prepared as mentioned above. Next, the prepregs of Examples 1 to 5 and Comparative Examples 1 to 4 were manufactured by heating and drying to about 130 to 170 ° C. with a non-contact type heating unit to remove the solvent.

なお、プリプレグの樹脂量は、間隔を調節した一対のロール間に含浸後の基材を通すことによって、43質量%となるように調整した。つまり、実施例1〜5及び比較例1〜4のプリプレグの基材の含有量はいずれも57質量%である。   In addition, the resin amount of the prepreg was adjusted to 43% by passing the base material after impregnation between a pair of rolls with adjusted intervals. That is, the contents of the base materials of the prepregs of Examples 1 to 5 and Comparative Examples 1 to 4 are all 57% by mass.

<試験項目1:プリプレグの樹脂むら>
各プリプレグの表面を目視によって観察し、樹脂の含浸むらの有無を調べた。結果を下記[表1]に示す。
<Test item 1: Uneven prepreg resin>
The surface of each prepreg was visually observed to check for unevenness of resin impregnation. The results are shown in [Table 1] below.

<試験項目2:成形後の銅箔表面粗度>
厚み0.2mmの内層コア両面板(ベタ銅:松下電工(株)製「CR1766」:銅箔の厚み35μm)を内層用基板として用いた。まず、この内層用基板の両面の銅箔を内層処理(黒化処理)した。次に、この内層用基板の両面に上記のようにして製造したプリプレグを1枚ずつ重ねると共に、この積層体の両面に銅箔を重ね、これを170℃、2.94MPaで90分間加熱加圧して積層成形することによって、多層積層板を製造した。
<Test item 2: Copper foil surface roughness after molding>
An inner layer double-sided plate having a thickness of 0.2 mm (solid copper: “CR1766” manufactured by Matsushita Electric Works Co., Ltd .: copper foil thickness: 35 μm) was used as the inner layer substrate. First, the inner layer treatment (blackening treatment) was performed on the copper foils on both sides of the inner layer substrate. Next, the prepregs manufactured as described above are stacked one by one on both surfaces of the inner layer substrate, and a copper foil is stacked on both surfaces of the laminate, and this is heated and pressurized at 170 ° C. and 2.94 MPa for 90 minutes. A multi-layer laminate was produced by laminating and molding.

そして、このようにして得られた多層積層板について、銅箔の表面の粗度を表面粗度測定器により測定した。結果を下記[表1]に示す。   And about the multilayer laminated board obtained in this way, the roughness of the surface of copper foil was measured with the surface roughness measuring device. The results are shown in [Table 1] below.

<試験項目3:ガラス転移温度>
JIS C 6481に基づいて、上記のようにして製造した多層積層板について、TMA法(Thermo-mechanical analysis)によりガラス転移温度(Tg)を測定した。結果を下記[表1]に示す。
<Test item 3: Glass transition temperature>
Based on JIS C 6481, the glass transition temperature (Tg) of the multilayer laminate produced as described above was measured by the TMA method (Thermo-mechanical analysis). The results are shown in [Table 1] below.

<試験項目3:耐CAF性>
上記のようにして製造した多層積層板を121℃、湿度85%の雰囲気下に置き、50Vの電圧を500時間印可した後、絶縁劣化の有無を調べた。その結果、いずれの多層積層板についても絶縁劣化が発生していないことを確認した。
<Test item 3: CAF resistance>
The multilayer laminate produced as described above was placed in an atmosphere of 121 ° C. and 85% humidity, and after applying a voltage of 50 V for 500 hours, the presence or absence of insulation deterioration was examined. As a result, it was confirmed that none of the multilayer laminates had insulation deterioration.

<試験項目4:耐熱性>
JIS C 6481に基づいて、上記のようにして製造した多層積層板を280℃のオーブンで60分間加熱した後、膨れ又ははがれの有無を目視によって調べた。その結果、実施例1〜5及び比較例1〜3の多層積層板については膨れ及びはがれが発生しておらず、比較例4の多層積層板については膨れ及びはがれが発生したことを確認した。
<Test item 4: heat resistance>
Based on JIS C 6481, the multilayer laminate produced as described above was heated in an oven at 280 ° C. for 60 minutes, and then visually checked for the presence of swelling or peeling. As a result, it was confirmed that swelling and peeling did not occur in the multilayer laminates of Examples 1 to 5 and Comparative Examples 1 to 3, and swelling and peeling occurred in the multilayer laminate of Comparative Example 4.

Figure 2005336324
Figure 2005336324

上記[表1]にみられるように、実施例1〜5のプリプレグは樹脂の含浸むらが無いことが確認された。   As seen in the above [Table 1], it was confirmed that the prepregs of Examples 1 to 5 had no uneven resin impregnation.

また、実施例1〜5の多層配線板については銅箔の表面粗度がいずれも5μm以下であり、回路形成が容易であることが確認された。   Moreover, about the multilayer wiring board of Examples 1-5, the surface roughness of copper foil was all 5 micrometers or less, and it was confirmed that circuit formation is easy.

これに対して、比較例1のプリプレグは、溶媒としてメチルエチルケトン(沸点79.6℃)のみを用いたフェノール硬化型エポキシ樹脂ワニスを用いて製造したものであるため、樹脂の含浸むらが生じたことが確認された。しかもこのプリプレグを用いて製造した多層積層板については銅箔の表面粗度が5μm以上であり、回路形成に支障をきたすものであることが確認された。   On the other hand, since the prepreg of Comparative Example 1 was manufactured using a phenol curable epoxy resin varnish using only methyl ethyl ketone (boiling point 79.6 ° C.) as a solvent, uneven impregnation of the resin occurred. Was confirmed. Moreover, it was confirmed that the multilayer laminate produced using this prepreg had a copper foil surface roughness of 5 μm or more, which hinders circuit formation.

また、比較例2、3のプリプレグは、溶媒としてメチルエチルケトンのみを用い、さらにエポキシ樹脂としてクレゾールノボラック型エポキシ樹脂又はジシクロペンタジエン型エポキシを用いて製造したものであるため、樹脂の含浸むらが顕著に生じたことが確認された。しかもこのプリプレグを用いて製造した多層積層板については銅箔の表面粗度がさらに大きくなり、回路形成に支障をきたすものであることが確認された。   Further, since the prepregs of Comparative Examples 2 and 3 were produced using only methyl ethyl ketone as a solvent and further using a cresol novolac type epoxy resin or a dicyclopentadiene type epoxy as an epoxy resin, the uneven impregnation of the resin was remarkable. It was confirmed that it occurred. In addition, it was confirmed that the multilayer laminate produced using this prepreg has a further increased copper foil surface roughness, which hinders circuit formation.

また、比較例4のプリプレグは、樹脂の含浸むらは無いものの、軟化点が100℃未満であるフェノール系硬化剤を用いたため、多層積層板の耐熱性が低下したことが確認された。   Moreover, although the prepreg of Comparative Example 4 had no uneven resin impregnation, it was confirmed that the heat resistance of the multilayer laminate was lowered because a phenolic curing agent having a softening point of less than 100 ° C. was used.

Claims (9)

エポキシ樹脂及びフェノール系硬化剤を溶媒に溶解させてフェノール硬化型エポキシ樹脂ワニスを調製し、これを基材に含浸させると共に乾燥させることによって得られるプリプレグにおいて、フェノール系硬化剤として、軟化点が100℃以上であり、かつ、分子中にフェノール性水酸基を平均2.5個以上有するものを用い、溶媒として、沸点が150℃以上であるものを少なくとも1種類用い、基材として、厚みが150μm以上であるものを用いると共に、プリプレグ全量に対して基材の含有量が60質量%未満であることを特徴とするプリプレグ。   In a prepreg obtained by dissolving an epoxy resin and a phenol-based curing agent in a solvent to prepare a phenol-curable epoxy resin varnish, impregnating the varnish into a base material and drying it, the softening point is 100 as a phenol-based curing agent. A solvent having an average of 2.5 or more phenolic hydroxyl groups in the molecule, a solvent having at least one boiling point of 150 ° C. or more, and a substrate having a thickness of 150 μm or more. A prepreg characterized in that the content of the substrate is less than 60% by mass with respect to the total amount of the prepreg. 沸点が150℃以上である溶媒として、分子中に窒素原子を含まないものを用いて成ることを特徴とする請求項1に記載のプリプレグ。   2. The prepreg according to claim 1, wherein the solvent having a boiling point of 150 [deg.] C. or higher is a solvent containing no nitrogen atom in the molecule. 沸点が150℃以上である溶媒として、シクロヘキサノンを用いて成ることを特徴とする請求項1又は2に記載のプリプレグ。   The prepreg according to claim 1 or 2, wherein cyclohexanone is used as a solvent having a boiling point of 150 ° C or higher. 溶媒として、シクロヘキサノン及びメチルエチルケトンを併用して成ることを特徴とする請求項1乃至3のいずれかに記載のプリプレグ。   The prepreg according to any one of claims 1 to 3, wherein cyclohexanone and methyl ethyl ketone are used in combination as the solvent. フェノール硬化型エポキシ樹脂ワニス全量に対して20℃で液状のエポキシ樹脂が5質量%以上含有されて成ることを特徴とする請求項1乃至4のいずれかに記載のプリプレグ。   5. The prepreg according to claim 1, wherein the epoxy resin is contained in an amount of 5% by mass or more at 20 ° C. with respect to the total amount of the phenol curable epoxy resin varnish. フェノール硬化型エポキシ樹脂ワニス全量に対してノボラック型エポキシ樹脂が15質量%以上含有されて成ることを特徴とする請求項1乃至5のいずれかに記載のプリプレグ。   The prepreg according to any one of claims 1 to 5, wherein a novolak type epoxy resin is contained in an amount of 15% by mass or more based on the total amount of the phenol curable epoxy resin varnish. フェノール硬化型エポキシ樹脂ワニス全量に対してジシクロペンタジエン型エポキシ樹脂が15質量%以上含有されて成ることを特徴とする請求項1乃至6のいずれかに記載のプリプレグ。   The prepreg according to any one of claims 1 to 6, wherein the cyclohexane diene type epoxy resin is contained in an amount of 15% by mass or more based on the total amount of the phenol curable epoxy resin varnish. 請求項1乃至7のいずれかに記載のプリプレグと金属箔を積層成形して成ることを特徴とする金属張積層板。   A metal-clad laminate comprising the prepreg according to any one of claims 1 to 7 and a metal foil formed by lamination. 請求項8に記載の金属張積層板に回路形成して成ることを特徴とするプリント配線板。   A printed wiring board comprising a circuit formed on the metal-clad laminate according to claim 8.
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