JP4830748B2 - Flame retardant epoxy resin composition, resin film, prepreg and multilayer printed wiring board - Google Patents

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本発明は、実質的にハロゲンを含有しないエポキシ樹脂組成物に関し、特に、メッキプロセスを用いたビルドアップ工法によるプリント配線板等の絶縁材として好適に用いられるエポキシ樹脂組成物に関する。また、このようなエポキシ樹脂組成物を用いたプリプレグ、樹脂フィルム及び多層プリント配線板に関する。   The present invention relates to an epoxy resin composition containing substantially no halogen, and particularly to an epoxy resin composition suitably used as an insulating material for a printed wiring board or the like by a build-up method using a plating process. Moreover, it is related with the prepreg, resin film, and multilayer printed wiring board using such an epoxy resin composition.

近年、プリント配線板の製造においては、小型化・高密度実装の要求から、エポキシ樹脂硬化物からなる基板材料にメッキプロセスにより回路を形成するアディティブ法を用いたビルドアップ工法が広く採用されている。メッキプロセスにおいては、通常、メッキの密着性を高めるために、基板の表面を過マンガン酸カリウム等の酸化剤で粗化処理する(例えば、特許文献1)。   In recent years, in the production of printed wiring boards, build-up methods using an additive method for forming circuits by plating processes on board materials made of epoxy resin cured products have been widely adopted due to demands for miniaturization and high-density mounting. . In the plating process, the surface of the substrate is usually roughened with an oxidizing agent such as potassium permanganate in order to improve the adhesion of plating (for example, Patent Document 1).

そして、このような粗化処理による粗化の度合いを高めるために、酸化剤で優先的に溶解されうるゴム成分をエポキシ樹脂硬化物に含有させる方法が知られている(例えば、特許文献2)。しかしながら、ゴム成分を含有するエポキシ樹脂硬化物を基板材料として用いた場合には、ゴム成分の熱膨張係数が比較的大きいために、基板の熱膨張係数が大きくなる。従って、このような基板にメッキプロセスにより回路を形成した場合、冷熱試験に供する際に基板が膨張または収縮することによりメッキにクラックが発生し、導通不良が発生するおそれがあるという問題もあった。また、ゴム成分は比較的燃えやすく、このようなゴム成分を含有するエポキシ樹脂硬化物は難燃性に乏しい。そのためにこのようなエポキシ樹脂硬化物には、通常、優れた難燃性を有する臭素系難燃剤等のハロゲン系難燃剤が配合されていた。しかしながら、ハロゲン系難燃剤を含有するエポキシ樹脂硬化物は、燃焼時にハロゲン化水素等の有害物質を生成するおそれがある。ハロゲン化水素等の有害物質は、人体や自然環境に対し悪影響を及ぼすという欠点を有している。
特開平7−304933号公報 特開平11−1547号公報
And in order to raise the degree of roughening by such a roughening process, the method of making the epoxy resin hardened material contain the rubber component which can be preferentially melt | dissolved with an oxidizing agent is known (for example, patent document 2). . However, when an epoxy resin cured product containing a rubber component is used as the substrate material, the thermal expansion coefficient of the rubber component is relatively large, so that the thermal expansion coefficient of the substrate is increased. Therefore, when a circuit is formed on such a substrate by a plating process, there is a problem that a crack may occur in the plating due to expansion or contraction of the substrate when it is subjected to a cooling test, which may cause poor conduction. . Moreover, a rubber component is comparatively flammable, and an epoxy resin cured product containing such a rubber component is poor in flame retardancy. For this reason, halogenated flame retardants such as brominated flame retardants having excellent flame retardancy are usually blended with such cured epoxy resins. However, a cured epoxy resin containing a halogen-based flame retardant may generate harmful substances such as hydrogen halide during combustion. Hazardous substances such as hydrogen halide have the disadvantage of adversely affecting the human body and the natural environment.
JP-A-7-304933 JP-A-11-1547

本発明は、前記問題点に鑑み、ゴム成分を用いなくとも、高いメッキ密着性を有し、さらに、ハロゲン系難燃剤を含有しなくとも、充分な難燃性を有する難燃性エポキシ樹脂組成物、樹脂フィルム、プリプレグ及び多層プリント配線板を提供することを課題とする。   In view of the above problems, the present invention provides a flame-retardant epoxy resin composition having high plating adhesion without using a rubber component and having sufficient flame retardancy even without containing a halogen-based flame retardant. It is an object to provide an article, a resin film, a prepreg, and a multilayer printed wiring board.

本発明者は、前記課題を解決すべく鋭意検討した結果、以下の手段により前記課題を解決できることを見出した。   As a result of intensive studies to solve the above problems, the present inventor has found that the above problems can be solved by the following means.

すなわち、本発明の難燃性エポキシ樹脂組成物は、(A)ビスフェノールA型エポキシ樹脂、(B)分子中にホスファフェナントレン類構造を有する変性フェノールノボラック型エポキシ樹脂、及び(C)分子中にトリアジン環を有するフェノール系ノボラック硬化剤を含有し、(A)成分に対する(B)成分の質量比(B)/(A)が0.5〜2であることを特徴とする。このような構成により、高いメッキ密着性を有し、且つ、ハロゲン系難燃剤を用いずに充分な難燃性を有する難燃性エポキシ樹脂組成物を得ることができる。なお、前記質量比(B)/(A)が0.5〜2であることにより、高いメッキ密着性を維持することができる。   That is, the flame retardant epoxy resin composition of the present invention comprises (A) a bisphenol A type epoxy resin, (B) a modified phenol novolac type epoxy resin having a phosphaphenanthrene structure in the molecule, and (C) in the molecule. A phenolic novolak curing agent having a triazine ring is contained, and the mass ratio (B) / (A) of the component (B) to the component (A) is 0.5 to 2. With such a configuration, it is possible to obtain a flame retardant epoxy resin composition having high plating adhesion and sufficient flame retardancy without using a halogen flame retardant. In addition, when the mass ratio (B) / (A) is 0.5 to 2, high plating adhesion can be maintained.

また、前記ビスフェノールA型エポキシ樹脂(A)としては、分子中にリン原子を有するビスフェノールA型エポキシ樹脂(A−1)であることが好ましい。このように分子中にリン原子を有するビスフェノールA型エポキシ樹脂(A−1)を用いる場合には、更に高い難燃性とメッキ密着性を得ることができる。   The bisphenol A type epoxy resin (A) is preferably a bisphenol A type epoxy resin (A-1) having a phosphorus atom in the molecule. Thus, when using the bisphenol A type epoxy resin (A-1) which has a phosphorus atom in a molecule | numerator, still higher flame retardance and plating adhesiveness can be obtained.

また、分子中にリン原子を有するビスフェノールA型エポキシ樹脂(A−1)が分子中にホスファフェナントレン類構造を有するビスフェノールA型エポキシ樹脂(A−2)であることが好ましい。このように、分子中にホスファフェナントレン類構造を有するビスフェノールA型エポキシ樹脂(A−2)を用いることにより、より高い難燃性とメッキ密着性を得ることができる。   The bisphenol A type epoxy resin (A-1) having a phosphorus atom in the molecule is preferably a bisphenol A type epoxy resin (A-2) having a phosphaphenanthrene structure in the molecule. Thus, by using the bisphenol A type epoxy resin (A-2) having a phosphaphenanthrene structure in the molecule, higher flame retardancy and plating adhesion can be obtained.

また、難燃性エポキシ樹脂組成物が、さらに(D)無機充填材を含有する場合には、冷熱試験に供した場合の基板の膨張または収縮を小さくすることが出来るために、冷熱試験での信頼性が高くなる。   In addition, when the flame retardant epoxy resin composition further contains (D) an inorganic filler, the expansion or contraction of the substrate when subjected to a cold test can be reduced. Increased reliability.

また、本発明の樹脂フィルムは前記難燃性エポキシ樹脂組成物から形成されることを特徴とするものである。このような樹脂フィルムを用いれば、ハロゲン系難燃剤を含有しなくとも高い難燃性を有する樹脂フィルムが得られる。そして、このような樹脂フィルムを多層プリント配線板の製造に用いた場合には、メッキ密着性が高く、且つ、ハロゲン系難燃剤を使用せずとも高い難燃性を有する樹脂絶縁層を形成することができる。   Moreover, the resin film of this invention is formed from the said flame-retardant epoxy resin composition. If such a resin film is used, a resin film having high flame retardancy can be obtained without containing a halogen-based flame retardant. When such a resin film is used in the production of a multilayer printed wiring board, a resin insulation layer having high plating adhesion and high flame retardancy without using a halogen flame retardant is formed. be able to.

また、本発明のプリプレグは、前記難燃性エポキシ樹脂組成物のワニスをシート状基材に含浸し、乾燥して形成されることを特徴とする。このようなプリプレグを用いれば、多層プリント配線板の製造において、ハロゲン系難燃剤を含有しなくとも高い難燃性を有するプリプレグが得られる。そして、このようなプリプレグを多層プリント配線板の製造に用いた場合には、メッキ密着性が高く、且つ、ハロゲン系難燃剤を使用せずとも高い難燃性を有する樹脂絶縁層を形成することができる。   In addition, the prepreg of the present invention is formed by impregnating a sheet-like base material with the varnish of the flame retardant epoxy resin composition and drying it. When such a prepreg is used, a prepreg having high flame retardancy can be obtained in the production of a multilayer printed wiring board without containing a halogen-based flame retardant. And, when such a prepreg is used for the production of a multilayer printed wiring board, a resin insulating layer having high plating adhesion and having high flame retardancy without using a halogen flame retardant is formed. Can do.

また、本発明の多層プリント配線板の製造方法は、回路が形成された内層回路基板の前記回路の形成面上に、前記樹脂フィルムまたは前記プリプレグの何れか一方を積層して積層体を形成する積層工程と、前記積層体を加熱してエポキシ樹脂を硬化させて樹脂絶縁層を形成する絶縁層形成工程と、前記樹脂絶縁層の表面を粗化液で粗化処理する粗化処理工程と、前記粗化された表面に導体メッキを施して外層回路を形成する回路形成工程とを備えることを特徴とする。このような製造方法により、高いメッキ密着性を有し、さらに、ハロゲン系難燃剤を含有しなくとも、充分な難燃性を有する多層プリント配線板を得ることができる。   In the method for producing a multilayer printed wiring board according to the present invention, a laminate is formed by laminating either the resin film or the prepreg on the circuit forming surface of the inner circuit board on which the circuit is formed. A laminating step, an insulating layer forming step of curing the epoxy resin by heating the laminate and forming a resin insulating layer, a roughening treatment step of roughening the surface of the resin insulating layer with a roughening liquid, And a circuit forming step of forming an outer layer circuit by conducting conductor plating on the roughened surface. By such a production method, it is possible to obtain a multilayer printed wiring board having high plating adhesion and having sufficient flame retardancy without containing a halogen flame retardant.

また、本発明の多層プリント配線板の他の一形態の製造方法としては、回路が形成された内層回路基板の前記回路の形成面上に、前記難燃性エポキシ樹脂組成物のワニスを塗布した後、乾燥することにより樹脂絶縁層を形成する絶縁層形成工程と、前記樹脂絶縁層の表面を粗化液で粗化処理する粗化処理工程と、前記粗化された表面に導体メッキを施して外層回路を形成する回路形成工程とを備えることを特徴とする。このような製造方法により、高いメッキ密着性を有し、さらに、ハロゲン系難燃剤を含有しなくとも、充分な難燃性を有する多層プリント配線板を得ることができる。   In another embodiment of the multilayer printed wiring board according to the present invention, the flame-retardant epoxy resin composition varnish is applied to the circuit forming surface of the inner layer circuit board on which the circuit is formed. Thereafter, an insulating layer forming step of forming a resin insulating layer by drying, a roughening step of roughening the surface of the resin insulating layer with a roughening liquid, and conductor plating is applied to the roughened surface. And a circuit forming step for forming an outer layer circuit. By such a production method, it is possible to obtain a multilayer printed wiring board having high plating adhesion and having sufficient flame retardancy without containing a halogen flame retardant.

本発明の難燃性エポキシ樹脂組成物を用いることにより、高いメッキ密着性を有し、さらに、ハロゲン系難燃剤を用いなくとも、充分な難燃性を有する多層プリント配線板を提供することができる。   By using the flame retardant epoxy resin composition of the present invention, it is possible to provide a multilayer printed wiring board having high plating adhesion and having sufficient flame retardancy without using a halogen flame retardant. it can.

本発明の難燃性エポキシ樹脂組成物は、(A)ビスフェノールA型エポキシ樹脂、(B)分子中にホスファフェナントレン類構造を有する変性フェノールノボラック型エポキシ樹脂、及び(C)分子中にトリアジン環を有するフェノール系ノボラック硬化剤を含有し、(A)成分に対する(B)成分の質量比(B)/(A)が0.5〜2であることを特徴とする。   The flame retardant epoxy resin composition of the present invention includes (A) a bisphenol A type epoxy resin, (B) a modified phenol novolac type epoxy resin having a phosphaphenanthrene structure in the molecule, and (C) a triazine ring in the molecule. A phenolic novolak curing agent having a weight ratio (B) / (A) of the component (B) to the component (A) is 0.5 to 2.

(A)成分であるビスフェノールA型エポキシ樹脂は、ビスフェノールAのグリシジルエーテルを基本骨格とするビスフェノールA型エポキシ樹脂である。また、難燃性を更に向上させる観点から、分子中にリン原子を有するビスフェノールA型エポキシ樹脂(A−1)を用いることがさらに好ましい。   The bisphenol A type epoxy resin as the component (A) is a bisphenol A type epoxy resin having glycidyl ether of bisphenol A as a basic skeleton. Moreover, it is more preferable to use the bisphenol A type epoxy resin (A-1) which has a phosphorus atom in a molecule | numerator from a viewpoint of improving a flame retardance further.

前記分子中にリン原子を有するビスフェノールA型エポキシ樹脂(A−1)としては、分子中にホスファフェナントレン類構造を有するビスフェノールA型エポキシ樹脂(A−2)等が挙げられる。   Examples of the bisphenol A type epoxy resin (A-1) having a phosphorus atom in the molecule include a bisphenol A type epoxy resin (A-2) having a phosphaphenanthrene structure in the molecule.

前記分子中にホスファフェナントレン類構造を有するビスフェノールA型エポキシ樹脂(A−2)としては、9,10−ジヒドロ−9−オキサ−10−ホスファフェナントレン−10−オキシド又はその誘導体を用いてビスフェノールA型エポキシ樹脂を公知の方法で変性することにより得られる各種のホスファフェナントレン類構造を有するビスフェノールA型エポキシ樹脂等が挙げられる。これらは市販品として、例えば、下記式(1)に示すような構造を有する東都化成(株)製のFX305等が入手しうる。   As the bisphenol A type epoxy resin (A-2) having a phosphaphenanthrene structure in the molecule, 9,10-dihydro-9-oxa-10-phosphaphenanthrene-10-oxide or a derivative thereof is used. Examples thereof include bisphenol A type epoxy resins having various phosphaphenanthrene structures obtained by modifying an A type epoxy resin by a known method. As these products, for example, FX305 manufactured by Toto Kasei Co., Ltd. having a structure as shown in the following formula (1) can be obtained.

Figure 0004830748
Figure 0004830748

なお、前記(A)成分であるビスフェノールA型エポキシ樹脂のエポキシ当量としては、150〜600g/eq程度であることが好ましい。   In addition, as an epoxy equivalent of the bisphenol A type epoxy resin which is the said (A) component, it is preferable that it is about 150-600 g / eq.

(B)成分である分子中にホスファフェナントレン類構造を有する変性フェノールノボラック型エポキシ樹脂は、9,10−ジヒドロ−9−オキサ−10−ホスファフェナントレン−10−オキシド又はその誘導体等を用いてフェノールノボラック型エポキシ樹脂を公知の方法で変性することにより得られる各種のホスファフェナントレン類構造を有するフェノールノボラック型エポキシ樹脂が挙げられる。なお、フェノールノボラック型エポキシ樹脂としては、フェノールノボラックエポキシ樹脂のほか、クレゾールノボラックエポキシ樹脂等が挙げられる。   The modified phenol novolac epoxy resin having a phosphaphenanthrene structure in the molecule as the component (B) is obtained by using 9,10-dihydro-9-oxa-10-phosphaphenanthrene-10-oxide or a derivative thereof. Examples thereof include phenol novolac type epoxy resins having various phosphaphenanthrene structure obtained by modifying a phenol novolac type epoxy resin by a known method. Examples of the phenol novolac type epoxy resin include a cresol novolac epoxy resin in addition to the phenol novolac epoxy resin.

これらは市販品としては、例えば、下記式(2)に示すような構造を有する東都化成(株)製のFX289や東都化成(株)製のFX289ZA等が入手しうる。   As these commercially available products, for example, FX289 manufactured by Toto Kasei Co., Ltd., FX289ZA manufactured by Toto Kasei Co., Ltd., etc. having the structure shown in the following formula (2) can be obtained.

Figure 0004830748
(n,m,oはそれぞれ整数であり、n,m,oのいずれか一つが0の場合も含む)
Figure 0004830748
(N, m, and o are integers, respectively, including the case where any one of n, m, and o is 0)

なお、前記(B)成分の変性フェノールノボラック型エポキシ樹脂のエポキシ当量としては、150〜400g/eq程度であることが好ましい。   The epoxy equivalent of the modified phenol novolac type epoxy resin as the component (B) is preferably about 150 to 400 g / eq.

本発明の難燃性エポキシ樹脂組成物中における、前記(A)成分に対する前記(B)成分の質量比((B)/(A))は0.5〜2であり、好ましくは0.5〜1である。前記質量比が0.5未満及び2を超える場合にはメッキ密着性が低下する。   In the flame-retardant epoxy resin composition of the present invention, the mass ratio of the component (B) to the component (A) ((B) / (A)) is 0.5 to 2, preferably 0.5. ~ 1. When the mass ratio is less than 0.5 or more than 2, the plating adhesion is lowered.

なお、本発明の難燃性エポキシ樹脂組成物中には、本発明の効果を損なわない範囲でその他のエポキシ樹脂を含有してもよい。   In addition, in the flame-retardant epoxy resin composition of this invention, you may contain another epoxy resin in the range which does not impair the effect of this invention.

前記その他のエポキシ樹脂の具体例としては、例えば、ビスフェノールF型エポキシ樹脂、ビスフェノールS型エポキシ樹脂、ビフェニル型エポキシ樹脂、脂環式エポキシ樹脂、多官能フェノールのジグリシジルエーテル化合物、多官能アルコールのジグリシジルエーテル化合物、(B)成分以外のフェノールノボラックエポキシ樹脂、(B)成分以外のクレゾールノボラックエポキシ樹脂、ビスフェノールA型ノボラックエポキシ樹脂等が挙げられる。   Specific examples of the other epoxy resins include, for example, bisphenol F type epoxy resin, bisphenol S type epoxy resin, biphenyl type epoxy resin, alicyclic epoxy resin, polyfunctional phenol diglycidyl ether compound, and polyfunctional alcohol diester. Examples thereof include glycidyl ether compounds, phenol novolac epoxy resins other than the component (B), cresol novolac epoxy resins other than the component (B), bisphenol A type novolac epoxy resins, and the like.

本発明のエポキシ樹脂成分の含有割合としては、上述した各種エポキシ樹脂成分(エポキシ樹脂(A)とエポキシ樹脂(B)とその他のエポキシ樹脂)の合計割合として、難燃性エポキシ樹脂組成物全量中に70〜95質量%、更には80〜90質量%であることが好ましい。   As a content ratio of the epoxy resin component of the present invention, as a total ratio of the above-described various epoxy resin components (epoxy resin (A), epoxy resin (B) and other epoxy resins), in the total amount of the flame retardant epoxy resin composition 70 to 95% by mass, more preferably 80 to 90% by mass.

また、エポキシ樹脂(A)とエポキシ樹脂(B)との合計の含有割合としては、エポキシ樹脂成分全量中に50〜100質量%、更には70〜100質量%含有されることが好ましい。   Moreover, as a total content rate of an epoxy resin (A) and an epoxy resin (B), it is preferable to contain 50-100 mass% in an epoxy resin component whole quantity, Furthermore, 70-100 mass% is contained.

本発明の難燃性エポキシ樹脂組成物は、硬化剤として、分子中にトリアジン環を有するフェノール系ノボラック硬化剤(C)を含有する。前記フェノール系ノボラック硬化剤(C)は、トリアジン環中に窒素原子を含有している。そして、この窒素原子が、窒素原子を有しない通常のフェノール系ノボラック硬化剤に比べて、メッキ密着性を高くすると考えられる。   The flame retardant epoxy resin composition of the present invention contains a phenolic novolak curing agent (C) having a triazine ring in the molecule as a curing agent. The phenolic novolak curing agent (C) contains a nitrogen atom in the triazine ring. And it is thought that this nitrogen atom raises plating adhesiveness compared with the normal phenol type novolak hardening | curing agent which does not have a nitrogen atom.

トリアジン環を有するフェノール系ノボラック硬化剤(C)は、フェノールやクレゾール等のフェノール類とトリアジン環を有する化合物とアルデヒド類とを縮合することにより得られる。   The phenol novolak curing agent (C) having a triazine ring is obtained by condensing phenols such as phenol and cresol, a compound having a triazine ring and aldehydes.

トリアジン環を有するフェノール系ノボラック硬化剤(C)の具体例としては、例えば、以下の一般式(3)で示されるようなものが挙げられる。   Specific examples of the phenolic novolak curing agent (C) having a triazine ring include those represented by the following general formula (3).

Figure 0004830748
(R1 、はそれぞれ、メチル基又は水素、pは1〜5の整数を表す)。
Figure 0004830748
(R 1 and R 2 are each a methyl group or hydrogen, and p is an integer of 1 to 5).

トリアジン環を有するフェノール系ノボラック硬化剤(C)は、市販品としては、例えば、大日本インキ化学工業(株)製の「フェノライトシリーズ」として、「フェノライトLA1356(窒素含有率19%)、「フェノライトLA3018」(窒素含有率18%)、「フェノライトEXB9851」(窒素含有率8%)等を入手しうる。   The phenolic novolak curing agent (C) having a triazine ring is a commercially available product, for example, “Phenolite series” manufactured by Dainippon Ink & Chemicals, Inc., “Phenolite LA1356 (nitrogen content 19%), "Phenolite LA3018" (nitrogen content 18%), "Phenolite EXB9851" (nitrogen content 8%), etc. can be obtained.

(C)成分の配合量については、(A)成分と(B)成分との合計量のエポキシ当量に対して、(C)成分の水酸基当量の比が1:0.3〜1:0.7になるような量に調整することが好ましい。   About the compounding quantity of (C) component, the ratio of the hydroxyl equivalent of (C) component with respect to the epoxy equivalent of the total amount of (A) component and (B) component is 1: 0.3-1: 0. It is preferable that the amount is adjusted to be 7.

また、本発明の難燃性エポキシ樹脂組成物には硬化反応を促進するために硬化促進剤を含有することが好ましい。硬化促進剤としては上述したエポキシ樹脂成分と硬化剤(C)との硬化反応を促進することができるものであれば特に限定なく使用することができる。具体的には、例えば、2−メチルイミダゾールやシアノエチルイミダゾール等のイミダゾール類、トリエチレンジアミン等の三級アミン類、トリフェニルホスフィン等の有機ホスフィン類等が挙げられる。これらは単独で用いても、2種以上を組み合わせて用いてもよい。   In addition, the flame retardant epoxy resin composition of the present invention preferably contains a curing accelerator in order to accelerate the curing reaction. Any curing accelerator can be used without particular limitation as long as it can accelerate the curing reaction between the epoxy resin component and the curing agent (C). Specific examples include imidazoles such as 2-methylimidazole and cyanoethylimidazole, tertiary amines such as triethylenediamine, and organic phosphines such as triphenylphosphine. These may be used alone or in combination of two or more.

本発明の難燃性エポキシ樹脂組成物は上記のような樹脂成分とともに無機充填材をさらに含有してもよい。このような無機充填材としては、公知の溶融シリカや結晶シリカなどのシリカ、水酸化アルミニウム、水酸化マグネシウム、Eガラス粉末、アルミナ、酸化マグネシウム、二酸化チタン、チタン酸バリウム、ケイ酸カルシウム、炭酸カルシウム、クレイ、タルク等が挙げられる。これらは単独で用いても、2種以上を組み合わせて用いてもよい。これらの中では、特に、シリカを用いるのが好ましい。本発明において無機充填材を含有する場合には、難燃性エポキシ樹脂組成物全量中に、10〜50質量%程度であることが好ましい。   The flame retardant epoxy resin composition of the present invention may further contain an inorganic filler together with the resin component as described above. Examples of such inorganic fillers include known silicas such as fused silica and crystalline silica, aluminum hydroxide, magnesium hydroxide, E glass powder, alumina, magnesium oxide, titanium dioxide, barium titanate, calcium silicate, calcium carbonate. , Clay, talc and the like. These may be used alone or in combination of two or more. Among these, it is particularly preferable to use silica. In the present invention, when an inorganic filler is contained, it is preferably about 10 to 50% by mass in the total amount of the flame retardant epoxy resin composition.

また、無機充填材としては平均粒径が1μm以下、更には、0.5μm以下が特に好ましい。平均粒径が1μmを超える場合は、硬化後の粗化処理時に粗度が大きくなりすぎる可能性がある。なお、前記平均粒径とはレーザー回折式粒度分布測定装置を用いて測定された重量平均粒子径を意味する。   Moreover, as an inorganic filler, an average particle diameter is 1 micrometer or less, Furthermore, 0.5 micrometer or less is especially preferable. When the average particle size exceeds 1 μm, the roughness may become too large during the roughening treatment after curing. In addition, the said average particle diameter means the weight average particle diameter measured using the laser diffraction type particle size distribution measuring apparatus.

本発明の難燃性エポキシ樹脂組成物は、さらに、本発明の効果を損なわない範囲でその他の添加剤、例えば、レベリング剤、着色剤等を必要に応じて含有してもよい。   The flame retardant epoxy resin composition of the present invention may further contain other additives, for example, a leveling agent, a colorant and the like, as necessary, as long as the effects of the present invention are not impaired.

本発明の難燃性エポキシ樹脂組成物は、上述した各成分と有機溶剤とをミキサーやブレンダー等で均一に混合し、ワニスに調製されて用いられる。   The flame-retardant epoxy resin composition of the present invention is prepared by using the above-described components and an organic solvent uniformly mixed with a mixer, a blender, or the like, and prepared into a varnish.

前記有機溶剤としては、特に限定されず、例えば、ベンゼン、トルエン等の芳香族炭化水素類、N,N−ジメチルホルムアミド(DMF)等のアミド類、アセトン、メチルエチルケトン等のケトン類、メタノール、エタノール等のアルコール類、セロソルブ類等を挙げることができる。これらは単独でも、2種以上を組み合わせて用いてもよい。   Examples of the organic solvent include, but are not limited to, aromatic hydrocarbons such as benzene and toluene, amides such as N, N-dimethylformamide (DMF), ketones such as acetone and methyl ethyl ketone, methanol, ethanol, and the like. Alcohols, cellosolves and the like. These may be used alone or in combination of two or more.

このようにして得られた、樹脂ワニスは、プリプレグや接着シートに加工されてプリント配線板を製造する材料として用いられたり、回路パターンが形成された内層回路基板の表面に塗布して樹脂絶縁層を形成するための塗料として用いられる。   The resin varnish obtained in this way is processed into a prepreg or an adhesive sheet to be used as a material for producing a printed wiring board, or applied to the surface of an inner circuit board on which a circuit pattern is formed. It is used as a paint for forming.

以下に、本発明の難燃性エポキシ樹脂組成物を用いた樹脂フィルム及びプリプレグについて更に詳しく説明する。   Below, the resin film and prepreg using the flame-retardant epoxy resin composition of this invention are demonstrated in more detail.

本発明の樹脂フィルムは、一般的にキャスティング法と呼ばれる方法によって行われる。具体的には、例えば、支持フィルムの一表面に前記樹脂ワニスを5〜100μmの厚みとなるように塗布した後、80〜160℃で1〜40分間加熱乾燥して、溶剤を除去するとともに樹脂成分を半硬化(Bステージ化)させてフィルム状に成形する。最終的に得られる樹脂フィルムの厚さとしては、5〜80μmであることが好ましい。   The resin film of the present invention is performed by a method generally called a casting method. Specifically, for example, the resin varnish is applied to one surface of the support film so as to have a thickness of 5 to 100 μm, and then heated and dried at 80 to 160 ° C. for 1 to 40 minutes to remove the solvent and resin. The components are semi-cured (B-stage) and formed into a film. The thickness of the finally obtained resin film is preferably 5 to 80 μm.

前記支持フィルムとしては、樹脂ワニスに溶解しないものであれば、特に限定されるものではなく、例えば、PETフィルム等のポリエステルフィルム、ポリイミドフィルム等の有機樹脂フィルムや、銅箔やアルミニウム箔などの金属箔等が用いられる。   The support film is not particularly limited as long as it does not dissolve in the resin varnish. For example, polyester film such as PET film, organic resin film such as polyimide film, metal such as copper foil and aluminum foil, etc. A foil or the like is used.

また、支持フィルム上の樹脂ワニスを塗布・乾燥した後、更に、保護フィルムを貼付した場合には、多層プリント配線板の樹脂絶縁層の形成に真空ラミネータを用いる場合に、扱いやすい樹脂フィルムが得られる。   In addition, when a protective film is applied after applying and drying the resin varnish on the support film, an easy-to-handle resin film is obtained when a vacuum laminator is used to form the resin insulation layer of the multilayer printed wiring board. It is done.

一方、本発明のプリプレグは、上述の難燃性エポキシ樹脂組成物をシート状基材に含浸したのち、乾燥することにより得られる。   On the other hand, the prepreg of the present invention is obtained by impregnating the above-mentioned flame retardant epoxy resin composition into a sheet-like substrate and then drying.

前記シート状基材としては、例えば、ガラス等の無機質繊維の織布(クロス)又は不織布や、アラミドクロス、ポリエステルクロス、紙等が挙げられる。これらの中では特に、ガラスクロスが好ましく用いられる。   Examples of the sheet-like base material include woven fabric (cloth) or non-woven fabric of inorganic fibers such as glass, aramid cloth, polyester cloth, paper, and the like. Among these, glass cloth is particularly preferably used.

プリプレグは、シート状基材に前記樹脂ワニスを浸漬又は塗布することにより含浸させて、例えば、120〜180℃で1〜40分間程度加熱乾燥し、溶剤を除去するとともに樹脂成分を半硬化(Bステージ化)させることにより得られる。   The prepreg is impregnated by immersing or applying the resin varnish to a sheet-like base material, for example, by heating and drying at 120 to 180 ° C. for about 1 to 40 minutes to remove the solvent and to semi-cure the resin component (B (Stage).

次に、本発明に係る樹脂ワニス、樹脂フィルム及びプリプレグを用いた多層プリント配線板の製造方法について説明する。   Next, the manufacturing method of the multilayer printed wiring board using the resin varnish which concerns on this invention, a resin film, and a prepreg is demonstrated.

はじめに、少なくとも一方の表面に回路が形成された内層回路基板の前記回路形成面上に、前記樹脂フィルムまたは前記プリプレグの何れか一方を積層し、更に、加熱することにより樹脂絶縁層を形成する。   First, either the resin film or the prepreg is laminated on the circuit forming surface of the inner circuit board on which a circuit is formed on at least one surface, and further, a resin insulating layer is formed by heating.

前記内層回路基板の回路は、予め、酸溶液等により黒色処理(黒化酸化処理)しておくことが好ましい。   The circuit of the inner layer circuit board is preferably previously black-treated (blackened and oxidized) with an acid solution or the like.

そして、樹脂絶縁層の形成に前記樹脂フィルムを用いる場合には、前記内層回路基板の回路形成面に、真空ラミネータ等を用いて樹脂フィルムを張り合わせて積層する。そして、積層した樹脂フィルムの支持フィルムを除去してからオーブンなどで加熱硬化させることにより内層回路基板の回路形成面上に樹脂絶縁層が形成される。   And when using the said resin film for formation of a resin insulating layer, a resin film is bonded together and laminated | stacked on the circuit formation surface of the said inner-layer circuit board using a vacuum laminator. And after removing the support film of the laminated | stacked resin film, a resin insulating layer is formed on the circuit formation surface of an inner-layer circuit board by heat-hardening with oven etc. FIG.

加熱硬化の条件としては温度150〜170℃で30〜120分間の加熱硬化条件が好ましい。   The heat curing conditions are preferably heat curing conditions at a temperature of 150 to 170 ° C. for 30 to 120 minutes.

一方、樹脂絶縁層の形成に前記プリプレグを用いる場合には、前記内層回路基板の回路形成面にプリプレグを配置した後、多段真空プレス等の成形方法により加熱加圧することにより硬化物からなる樹脂絶縁層が形成される。   On the other hand, when the prepreg is used to form a resin insulation layer, after placing the prepreg on the circuit formation surface of the inner circuit board, the resin insulation made of a cured product is heated and pressed by a molding method such as a multistage vacuum press. A layer is formed.

前記加熱加圧成形の条件としては、例えば、温度160〜180℃、型圧1.5〜4.0MPaで30〜120分間の条件が挙げられる。   Examples of the conditions for the heat and pressure molding include conditions of a temperature of 160 to 180 ° C. and a mold pressure of 1.5 to 4.0 MPa for 30 to 120 minutes.

さらに、上記のようにプリプレグや樹脂フィルムを用いる代わりに上述の樹脂ワニスを前記内層回路基板の回路形成面に塗布した後、乾燥することにより樹脂絶縁層を形成させてもよい。具体的には、前記回路形成面に5〜100μm程度の厚みに樹脂ワニスを塗布した後、これを100〜200℃で1〜90分間加熱することにより樹脂絶縁層が形成される。   Further, instead of using a prepreg or a resin film as described above, the resin insulating layer may be formed by applying the above resin varnish to the circuit forming surface of the inner circuit board and then drying. Specifically, a resin varnish is applied to the circuit forming surface to a thickness of about 5 to 100 μm, and then heated at 100 to 200 ° C. for 1 to 90 minutes to form a resin insulating layer.

次に、上記のようにして形成された前記樹脂絶縁層の表面を粗化液により粗化処理する。前記粗化処理によりメッキ密着性が高くなる。   Next, the surface of the resin insulation layer formed as described above is roughened with a roughening solution. The roughening treatment increases the plating adhesion.

前記粗化液による粗化処理は、樹脂絶縁層が形成された積層体を粗化液に浸漬することにより行う。粗化液の温度としては40〜90℃、浸漬時間は1〜30分間程度であることが好ましい。   The roughening treatment with the roughening solution is performed by immersing the laminate on which the resin insulating layer is formed in the roughening solution. The temperature of the roughening solution is preferably 40 to 90 ° C., and the immersion time is preferably about 1 to 30 minutes.

粗化液としては酸と酸化剤の両方又は一方を含むものであれば、特に限定されるものではない。例えば、過マンガン酸カリウム等の過マンガン酸塩、重クロム酸塩、オゾン、過酸化水素/硫酸、硝酸等の酸化剤等又はこれらを組み合わせたもので粗化処理することができる。また、粗化液の種類を適宜変えて段階的に行ってもよい。   The roughening solution is not particularly limited as long as it contains both or one of an acid and an oxidizing agent. For example, it can be roughened with a permanganate such as potassium permanganate, a dichromate, ozone, an oxidizing agent such as hydrogen peroxide / sulfuric acid, nitric acid, or a combination thereof. Moreover, you may carry out in steps, changing the kind of roughening liquid suitably.

さらに、市販の粗化剤であるロームアンドハース社製「サーキュポジットMLB211」、ロームアンドハース社製「サーキュポジットMLB213」、ロームアンドハース社製「サーキュポジットMLB216」の3種類からなるものをセットで粗化液として用いることもできる。   Furthermore, a set of three types of commercially available roughening agents, “Circumposit MLB211” manufactured by Rohm and Haas, “Circusposit MLB213” manufactured by Rohm and Haas, and “Circuposit MLB216” manufactured by Rohm and Haas. It can also be used as a roughening solution.

前記ロームアンドハース社製「サーキュポジットMLB211」、ロームアンドハース社製「サーキュポジットMLB213」、ロームアンドハース社製「サーキュポジットMLB216」の3種類からなるものをセットで粗化液として用いる場合には、まず積層成形後の積層板を「サーキュポジットMLB211」に浸漬させて樹脂を膨潤させ、次に上記積層板を「サーキュポジットMLB213」に浸漬させて樹脂を溶解させ、最後に上記積層板を「サーキュポジットMLB216」に浸漬させて塩基性下の状態を中和させることによって、粗化液による粗化処理を行うことができる。   When using as a roughening solution a set consisting of three types of "Circumposit MLB211" manufactured by Rohm and Haas, "Circuposit MLB213" manufactured by Rohm and Haas, and "Circuposit MLB216" manufactured by Rohm and Haas First, the laminated board after lamination molding is immersed in “Circuposit MLB211” to swell the resin, and then the laminated board is immersed in “Circuposit MLB213” to dissolve the resin. A roughening treatment with a roughening solution can be carried out by immersing the substrate in a circular deposit MLB216 to neutralize the basic state.

このようにして粗化処理された表面に導体メッキを施して外層回路を形成することにより多層プリント配線板が得られる。外層回路の形成方法としては、メッキプロセスを用いたアディティブ法を用いることが好ましい。   A multilayer printed wiring board can be obtained by subjecting the roughened surface to conductor plating to form an outer layer circuit. As a method for forming the outer layer circuit, an additive method using a plating process is preferably used.

アディティブ法としてはフルアディティブ法を用いても、セミアディティブ法を用いてもよい。   As an additive method, a full additive method or a semi-additive method may be used.

以下、セミアディティブ法で外層回路を形成する例について詳しく説明する。   Hereinafter, an example in which the outer layer circuit is formed by the semi-additive method will be described in detail.

はじめに、粗化処理された樹脂絶縁層を有する積層体に、スルーホールやブラインドバイアホールを形成するための貫通穴や非貫通穴をドリル、レーザーなどにより形成する。次に、無電解メッキ処理により樹脂絶縁層の表面に無電解銅メッキ等の無電解メッキを形成する。そして、樹脂絶縁層表面に形成された無電解メッキ部分の回路を形成しない部分にメッキレジストを形成する。その後、電解メッキ処理を行って、メッキレジストが形成されていない部分のみに電解銅メッキ等の電解メッキを形成する。そして、メッキレジストを除去する。最後に、メッキレジストの除去により露出した無電解メッキをクイックエッチング法(フラッシュエッチング)で除去することにより、外層回路が形成された多層プリント配線板を得ることができる。そして、貫通穴や非貫通穴の内面には無電解メッキ及び電解メッキが形成されることによって、内層回路と外層回路を電気的に接続するスルーホールやブラインドバイアホールが形成される。なお、適宜にアフターキュアーを行ってもよい。   First, a through hole or a non-through hole for forming a through hole or a blind via hole is formed in a laminate having a roughened resin insulating layer by a drill, a laser, or the like. Next, electroless plating such as electroless copper plating is formed on the surface of the resin insulating layer by electroless plating treatment. Then, a plating resist is formed on a portion where the circuit of the electroless plating portion formed on the surface of the resin insulating layer is not formed. Thereafter, an electrolytic plating process is performed to form electrolytic plating such as electrolytic copper plating only on a portion where the plating resist is not formed. Then, the plating resist is removed. Finally, the electroless plating exposed by removing the plating resist is removed by a quick etching method (flash etching), whereby a multilayer printed wiring board on which an outer layer circuit is formed can be obtained. Then, electroless plating and electrolytic plating are formed on the inner surface of the through hole or the non-through hole, thereby forming a through hole or a blind via hole that electrically connects the inner layer circuit and the outer layer circuit. In addition, you may perform an after cure suitably.

このようにして得られる、多層プリント配線板は高いメッキ密着性を有し、さらに、ハロゲン系難燃剤を含有しなくとも、充分な難燃性を有する多層プリント配線板である。   The multilayer printed wiring board thus obtained is a multilayer printed wiring board having high plating adhesion and having sufficient flame retardancy even if it does not contain a halogen-based flame retardant.

以下に、本発明について、実施例によりさらに具体的に説明する。なお、本発明は実施例により何ら限定されるものではない。   Hereinafter, the present invention will be described more specifically with reference to examples. In addition, this invention is not limited at all by the Example.

はじめに、本実施例で用いた原材料を以下にまとめて示す。
〈エポキシ樹脂成分〉
・ビスフェノールA型エポキシ樹脂:大日本インキ化学工業(株)製1051(ビスフェノールA型固形エポキシ樹脂,エポキシ当量480)
・ホスフォフェナントレン変性ビスフェノールA型エポキシ樹脂:東都化成(株)製のFX305
・ホスフォフェナントレン変性フェノールノボラックエポキシ樹脂:東都化成(株)製のFX289ZA
〈硬化剤成分〉
・分子中にトリアジン環を有するクレゾールノボラック化合物:大日本インキ化学工業(株)製LA3018(前記式(1)中、R1 及びRがメチル基、nが1〜5のもの、窒素含有率18%)
・フェノールノボラック化合物:大日本インキ化学工業(株)製TD2090
〈硬化促進剤〉
・シアノエチルイミダゾール:四国化成工業(株)製2E4MZ−CN
〈無機充填剤〉
・球状シリカ:(株)アドマテックス製SO25R、重量平均粒径0.5μm
〈ゴム成分〉
・ニトリルブタジエンゴム:JSR(株)製の「PNR−1H」
First, the raw materials used in this example are summarized below.
<Epoxy resin component>
-Bisphenol A type epoxy resin: 1051 manufactured by Dainippon Ink and Chemicals, Inc. (bisphenol A type solid epoxy resin, epoxy equivalent 480)
Phosphophenanthrene modified bisphenol A type epoxy resin: FX305 manufactured by Toto Kasei Co., Ltd.
Phosphophenanthrene-modified phenol novolac epoxy resin: FX289ZA manufactured by Toto Kasei Co., Ltd.
<Curing agent component>
A cresol novolak compound having a triazine ring in the molecule: LA3018 manufactured by Dainippon Ink & Chemicals, Inc. (in the formula (1), R 1 and R 2 are methyl groups, n is 1 to 5, and nitrogen content is 18%)
-Phenol novolac compound: TD2090 manufactured by Dainippon Ink & Chemicals, Inc.
<Curing accelerator>
・ Cyanoethylimidazole: 2E4MZ-CN manufactured by Shikoku Chemicals Co., Ltd.
<Inorganic filler>
・ Spherical silica: SO25R manufactured by Admatechs Co., Ltd.
<Rubber component>
Nitrile butadiene rubber: “PNR-1H” manufactured by JSR Corporation

(実施例1〜5及び比較例1〜7)
表1に示した配合組成により各種配合成分を混合して樹脂組成物を形成し、さらに溶媒としてメチルエチルケトンを加えて充分に撹拌することにより、固形分が65質量%のエポキシ樹脂組成物のワニスを調製した。
(Examples 1-5 and Comparative Examples 1-7)
Various compounding ingredients are mixed by the compounding composition shown in Table 1 to form a resin composition, and further, methyl ethyl ketone is added as a solvent and sufficiently stirred, whereby a varnish of an epoxy resin composition having a solid content of 65% by mass is obtained. Prepared.

次に、ポリエチレンテレフタレート(PET)製の支持フィルムの離型面に、マルチコーター(ヒラノテクシード社製「M400」)を使用して、上記エポキシ樹脂ワニスを塗布した。そして、搬送速度20cm/分で搬送しながら100℃の温度で乾燥し、半硬化(Bステージ)状態とした。さらに塗布面に厚さ20μmのポリエチレン(PE)保護フィルムを貼付して保護フィルム付きエポキシ樹脂フィルムを作製した。   Next, the epoxy resin varnish was applied to a release surface of a support film made of polyethylene terephthalate (PET) using a multi coater (“M400” manufactured by Hirano Techseed Co., Ltd.). And it dried at the temperature of 100 degreeC, conveying with the conveyance speed of 20 cm / min, and was set as the semi-hardened (B stage) state. Furthermore, a 20 μm-thick polyethylene (PE) protective film was attached to the coated surface to prepare an epoxy resin film with a protective film.

積層成形には真空ラミネータを用いた。具体的には、予め外表面に内層回路が形成された内層回路基板(松下電工社製「R−1566」)の表面に前記保護フィルム付きエポキシ樹脂フィルムの保護フィルムを剥離した樹脂面を重ね合わせた後、真空ラミネータを用いて積層成形(温度90℃、圧力0.3MPa)した。そして、支持フィルムを剥離して除去し、オーブンで160℃×75分の条件で硬化させることにより樹脂絶縁層を形成した。   A vacuum laminator was used for the lamination molding. Specifically, the surface of the inner layer circuit board (“R-1566” manufactured by Matsushita Electric Works Co., Ltd.) having the inner layer circuit formed on the outer surface in advance is superposed on the resin surface from which the protective film of the epoxy resin film with the protective film is peeled off. After that, lamination molding (temperature 90 ° C., pressure 0.3 MPa) was performed using a vacuum laminator. And the support film was peeled and removed, and the resin insulating layer was formed by making it harden | cure on 160 degreeC * 75 minute conditions in oven.

次に、得られた樹脂絶縁層を、粗化液を用いて以下の手順により粗化処理した。   Next, the obtained resin insulating layer was roughened by the following procedure using a roughening solution.

得られた樹脂絶縁層が形成された積層板をロームアンドハース社製「サーキュポジットMLB211」の液中に80℃で6分間浸漬させた。次に、ロームアンドハース社製「サーキュポジットMLB213」の液中に80℃で10分間浸漬させた。最後にロームアンドハース社製「サーキュポジットMLB216」の液中に45℃で5分間浸漬させた。   The obtained laminated board on which the resin insulating layer was formed was immersed in a solution of “Circuposit MLB211” manufactured by Rohm and Haas for 6 minutes at 80 ° C. Next, it was immersed for 10 minutes at 80 ° C. in a solution of “Circumposit MLB213” manufactured by Rohm and Haas. Finally, it was immersed in a solution of “Circumposit MLB216” manufactured by Rohm and Haas for 5 minutes at 45 ° C.

次に、粗化処理された樹脂絶縁層表面に以下の手順により、外層回路を形成した。   Next, an outer layer circuit was formed on the surface of the roughened resin insulating layer by the following procedure.

粗化処理された樹脂絶縁層の表面に無電解銅メッキ処理を行って樹脂絶縁層の表面に無電解銅メッキを形成し、120℃で60分間乾燥させた。形成された無電解銅メッキ上の回路を形成しない部分にメッキレジストを形成した。さらに、電解銅メッキ処理を行った。   The surface of the roughened resin insulating layer was subjected to electroless copper plating to form electroless copper plating on the surface of the resin insulating layer, and dried at 120 ° C. for 60 minutes. A plating resist was formed on a portion where the circuit on the formed electroless copper plating was not formed. Furthermore, an electrolytic copper plating process was performed.

そして、メッキレジストを剥離した後、無電解メッキをフラッシュエッチングすることにより除去した。無電解銅メッキと電解銅メッキにより形成されたメッキの厚さは20±2μm、メッキ幅は10mmであった。   Then, after removing the plating resist, the electroless plating was removed by flash etching. The thickness of the plating formed by electroless copper plating and electrolytic copper plating was 20 ± 2 μm, and the plating width was 10 mm.

上記のように外層回路を形成した後、180℃で60分間オーブン中でアフターキュアーを行うことによって、多層プリント配線板を得た。上記のようにして得られた多層プリント配線板について、以下の方法により難燃性、熱膨張係数及びメッキピール強度の評価を行った。   After forming the outer layer circuit as described above, a multilayer printed wiring board was obtained by performing aftercuring in an oven at 180 ° C. for 60 minutes. The multilayer printed wiring board obtained as described above was evaluated for flame retardancy, thermal expansion coefficient and plating peel strength by the following methods.

[難燃性]
成形した積層体をUL94垂直試験法に準じて評価した。
[Flame retardance]
The molded laminate was evaluated according to the UL94 vertical test method.

[熱膨張係数(CTE)]
上記で得られたBステージ状態の樹脂フィルムを180℃で60分間硬化させた。そして、TMA法(Thermo-mechanical analysis)の引張モードによりTg以下の温度範囲(50〜100℃)における熱膨張係数を測定した。
[Coefficient of thermal expansion (CTE)]
The B-stage resin film obtained above was cured at 180 ° C. for 60 minutes. And the thermal expansion coefficient in the temperature range (50-100 degreeC) below Tg was measured by the tension mode of TMA method (Thermo-mechanical analysis).

[メッキピール強度の評価方法]
90度ピール試験方法(JIS C6481)に従い、外層回路(銅メッキ幅10mm)のピール強度を測定した。いずれの実施例及び比較例についても、n(評価用サンプル数)を3として上記測定を行った。なお、表2中「剥離」は、メッキがきれいに付着せず、ピール強度が測定できないほど密着力が弱かったことを示す。
[Method of evaluating plating peel strength]
In accordance with the 90 degree peel test method (JIS C6481), the peel strength of the outer layer circuit (copper plating width 10 mm) was measured. For any of the examples and comparative examples, the above measurement was performed with n (number of samples for evaluation) set to 3. In Table 2, “peeling” indicates that the plating did not adhere cleanly and the adhesion was so weak that the peel strength could not be measured.

Figure 0004830748
Figure 0004830748

表1の結果より、本発明に係る実施例1〜5の多層プリント配線板は、何れも、UL94に準じる燃焼性がV−1相当以上であり、ハロゲン系難燃剤を用いなくとも優れた難燃性を示したことがわかる。また、熱膨張係数の何れも56ppm/℃以下と比較的小さいために、冷熱試験に供しても、メッキにクラック等が生じにくいと思われる。さらに、メッキピール強度も何れも0.68kg/cm以上であり、高いものであった。   From the results shown in Table 1, the multilayer printed wiring boards of Examples 1 to 5 according to the present invention all have a flammability equivalent to V94 or higher and are excellent without using a halogen-based flame retardant. It turns out that it showed flammability. In addition, since all of the thermal expansion coefficients are relatively small at 56 ppm / ° C. or less, it is considered that cracks and the like are hardly generated in the plating even when subjected to a cold test. Further, the plating peel strength was 0.68 kg / cm or more and was high.

また、特に、ビスフェノールA型エポキシ樹脂として、分子中にホスファフェナントレン類構造を有するビスフェノールA型エポキシ樹脂を用いた実施例2〜5の場合には、特に高いV−0相当の難燃性を示すとともに、メッキピール強度も特に高かった。   In particular, in Examples 2 to 5 in which bisphenol A type epoxy resin having a phosphaphenanthrene structure in the molecule is used as the bisphenol A type epoxy resin, particularly high flame retardancy equivalent to V-0 is exhibited. As shown, the plating peel strength was particularly high.

さらに、無機充填材を添加した場合には、熱膨張係数がさらに小さくなるために、冷熱試験に供した場合には、特にクラック等が生じにくいと思われる。   Furthermore, when an inorganic filler is added, the coefficient of thermal expansion is further reduced. Therefore, when subjected to a cold test, cracks and the like are particularly unlikely to occur.

一方、粗化成分としてゴム成分を含有する比較例3の多層プリント配線板においては、ハロゲン系難燃剤を含有しないために、燃焼試験において完全に燃焼した。また、エポキシ樹脂成分として、分子中にホスファフェナントレン類構造を有する変性フェノールノボラック型エポキシ樹脂を含有しない比較例2及び比較例3ではメッキピール強度が低かった。さらに、硬化剤として、一般的なフェノールノボラック系の硬化剤を用いた比較例5の場合には、ピール強度が低すぎて測定できなかった。   On the other hand, the multilayer printed wiring board of Comparative Example 3 containing a rubber component as a roughening component did not contain a halogen-based flame retardant, and thus burned completely in the combustion test. Moreover, in the comparative example 2 and the comparative example 3 which do not contain the modified phenol novolak-type epoxy resin which has a phosphaphenanthrene structure in a molecule | numerator as an epoxy resin component, the plating peel strength was low. Furthermore, in the case of the comparative example 5 which used the general phenol novolak type hardening | curing agent as a hardening | curing agent, the peel strength was too low and could not be measured.

そして、(A)ビスフェノールA型エポキシ樹脂、(B)変性フェノールノボラック型エポキシ樹脂、及び(C)トリアジン環を有するフェノール系ノボラック硬化剤を含有するが、(A)成分に対する(B)成分の質量比(B)/(A)が2より高い3.0の比較例6及び0.5より低い0.33である場合には、ピール強度が実施例の多層プリント配線板に比べて、大幅に低いことが分かる。   And it contains (A) bisphenol A type epoxy resin, (B) modified phenol novolac type epoxy resin, and (C) phenol novolak curing agent having a triazine ring, but the mass of (B) component relative to (A) component When the ratio (B) / (A) is Comparative Example 6 of 3.0 higher than 2 and 0.33 lower than 0.5, the peel strength is significantly higher than that of the multilayer printed wiring board of the example. It turns out that it is low.

Claims (8)

(A)ビスフェノールA型エポキシ樹脂、(B)分子中にホスファフェナントレン類構造を有する変性フェノールノボラック型エポキシ樹脂、及び(C)分子中にトリアジン環を有するフェノール系ノボラック硬化剤を含有し、(A)成分に対する(B)成分の質量比(B)/(A)が0.5〜2であることを特徴とする難燃性エポキシ樹脂組成物。   (A) a bisphenol A type epoxy resin, (B) a modified phenol novolac type epoxy resin having a phosphaphenanthrene structure in the molecule, and (C) a phenol novolak curing agent having a triazine ring in the molecule, A flame retardant epoxy resin composition, wherein the mass ratio (B) / (A) of the component (B) to the component A) is 0.5-2. ビスフェノールA型エポキシ樹脂(A)が分子中にリン原子を有するビスフェノールA型エポキシ樹脂(A−1)である請求項1に記載の難燃性エポキシ樹脂組成物。   2. The flame retardant epoxy resin composition according to claim 1, wherein the bisphenol A type epoxy resin (A) is a bisphenol A type epoxy resin (A-1) having a phosphorus atom in the molecule. 分子中にリン原子を有するビスフェノールA型エポキシ樹脂(A−1)が分子中にホスファフェナントレン類構造を有するビスフェノールA型エポキシ樹脂(A−2)である請求項1または請求項2に記載の難燃性エポキシ樹脂組成物。   The bisphenol A type epoxy resin (A-1) having a phosphorus atom in the molecule is a bisphenol A type epoxy resin (A-2) having a phosphaphenanthrene structure in the molecule. Flame retardant epoxy resin composition. さらに(D)無機充填材を含有する請求項1〜3の何れか1項に記載の難燃性エポキシ樹脂組成物。   The flame-retardant epoxy resin composition according to any one of claims 1 to 3, further comprising (D) an inorganic filler. 請求項1〜4の何れか1項に記載の難燃性エポキシ樹脂組成物から形成されることを特徴とする樹脂フィルム。   It forms from the flame-retardant epoxy resin composition of any one of Claims 1-4, The resin film characterized by the above-mentioned. 請求項1〜4の何れか1項に記載の難燃性エポキシ樹脂組成物のワニスをシート状基材に含浸し、乾燥して形成されることを特徴とするプリプレグ。   A prepreg formed by impregnating a sheet-like base material with the varnish of the flame-retardant epoxy resin composition according to any one of claims 1 to 4, and drying it. 回路が形成された内層回路基板の前記回路の形成面上に、請求項5の樹脂フィルムまたは請求項6のプリプレグの何れか一方を積層して積層体を形成する積層工程と、前記積層体を加熱してエポキシ樹脂を硬化させて樹脂絶縁層を形成する絶縁層形成工程と、前記樹脂絶縁層の表面を粗化液で粗化処理する粗化処理工程と、前記粗化された表面に導体メッキを施して外層回路を形成する回路形成工程とを備えることを特徴とする多層プリント配線板の製造方法。   A laminating step of laminating any one of the resin film of claim 5 or the prepreg of claim 6 on the circuit forming surface of the inner circuit board on which the circuit is formed; An insulating layer forming step of forming a resin insulating layer by curing the epoxy resin by heating, a roughening step of roughening the surface of the resin insulating layer with a roughening liquid, and a conductor on the roughened surface And a circuit forming step of forming an outer layer circuit by plating. 回路が形成された内層回路基板の前記回路の形成面上に、請求項1〜4の何れか1項に記載の難燃性エポキシ樹脂組成物のワニスを塗布した後、乾燥することにより樹脂絶縁層を形成する絶縁層形成工程と、前記樹脂絶縁層の表面を粗化液で粗化処理する粗化処理工程と、前記粗化された表面に導体メッキを施して外層回路を形成する回路形成工程とを備えることを特徴とする多層プリント配線板の製造方法。   A resin insulation is obtained by applying a varnish of the flame-retardant epoxy resin composition according to any one of claims 1 to 4 on a surface of the inner circuit board on which the circuit is formed, and then drying the varnish. An insulating layer forming step for forming a layer; a roughening step for roughening the surface of the resin insulating layer with a roughening liquid; and circuit formation for forming an outer layer circuit by subjecting the roughened surface to conductor plating. And a process for producing a multilayer printed wiring board.
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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP5510314B2 (en) 2008-03-25 2014-06-04 住友ベークライト株式会社 Epoxy resin composition, resin sheet, prepreg, multilayer printed wiring board, and semiconductor device
CN102137758B (en) * 2008-09-01 2014-08-06 积水化学工业株式会社 Laminate and method for producing laminate
WO2010035451A1 (en) * 2008-09-24 2010-04-01 積水化学工業株式会社 Semi-cured body, cured body, multilayer body, method for producing semi-cured body, and method for producing cured body
WO2010035452A1 (en) * 2008-09-24 2010-04-01 積水化学工業株式会社 Resin composition, cured body and multilayer body
JP5547386B2 (en) * 2008-09-25 2014-07-09 パナソニック株式会社 Epoxy resin composition for prepreg, prepreg, and multilayer printed wiring board
JP5526525B2 (en) * 2008-10-31 2014-06-18 東亞合成株式会社 Flame retardant adhesive composition for flexible printed wiring board and flexible printed wiring board using the same
JP5487634B2 (en) * 2009-02-10 2014-05-07 東亞合成株式会社 Flame retardant adhesive composition for flexible printed wiring board and flexible printed wiring board using the same
JP5720118B2 (en) * 2009-06-01 2015-05-20 三菱レイヨン株式会社 Epoxy resin composition, prepreg and fiber reinforced composite material
JP5724503B2 (en) * 2010-11-15 2015-05-27 日立化成株式会社 Resin film for printed wiring board and method for producing the same
JP5909693B2 (en) * 2010-11-24 2016-04-27 パナソニックIpマネジメント株式会社 High heat resistant epoxy resin composition, prepreg, metal-clad laminate and printed wiring board

Family Cites Families (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP4224912B2 (en) * 1999-12-22 2009-02-18 パナソニック電工株式会社 Phosphorus-containing epoxy resin composition, prepreg using the same, metal foil with resin, adhesive sheet, laminated board and multilayer board, coating resin varnish and multilayer board using the same
JP2001329047A (en) * 2000-05-25 2001-11-27 Matsushita Electric Works Ltd Epoxy resin composition, prepreg, resin adhered metal foil, adhesive sheet, and laminate
JP3500465B2 (en) * 2000-07-03 2004-02-23 京セラケミカル株式会社 Flame retardant epoxy resin composition, prepreg and laminated product
JP4955856B2 (en) * 2001-01-26 2012-06-20 パナソニック株式会社 Phosphorus-containing epoxy resin composition, prepreg, resin-coated metal foil, adhesive sheet, laminate, multilayer board, phosphorus-containing epoxy resin varnish for coating, phosphorus-containing epoxy resin sealing material, phosphorus-containing epoxy resin casting material, phosphorus for impregnation Containing epoxy resin varnish
JP2003105167A (en) * 2001-07-27 2003-04-09 Toray Ind Inc Flame-retardant resin composition and adhesive sheet for semiconductor device using the same, cover lay film and flexible printed circuit board

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