KR101203156B1 - Epoxy resin composition, an adhesive film and a multi-layered printed circuit board prepared by using the same - Google Patents

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Abstract

본 발명은 표면 앵커 형성이 우수한 조화제로서 페녹시 수지 및 고무 변성 에폭시 수지의 혼합물과 다관능성 산무수물 경화제를 포함하는 에폭시 수지 조성물로서, 고내열성 및 고박리 강도 특성을 갖는 에폭시 수지 조성물, 이를 이용하여 제조된 접착 필름 및 다층 프린트 배선판에 관한 것이다.The present invention relates to an epoxy resin composition comprising a mixture of a phenoxy resin and a rubber-modified epoxy resin and a polyfunctional acid anhydride curing agent as a roughening agent having excellent surface anchor formation, and an epoxy resin composition having high heat resistance and high peel strength properties, and using the same. It relates to an adhesive film and a multilayer printed wiring board produced by.

페녹시 수지, 고무 변성 에폭시 수지, 다관능성 산무수물, 에폭시 수지, 내열성, 박리 강도, 다층 프린트 배선판 Phenoxy resin, rubber modified epoxy resin, polyfunctional acid anhydride, epoxy resin, heat resistance, peel strength, multilayer printed wiring board

Description

에폭시 수지 조성물, 이를 이용하여 제조된 접착필름 및 다층 프린트 배선판{Epoxy resin composition, an adhesive film and a multi-layered printed circuit board prepared by using the same}Epoxy resin composition, an adhesive film and a multi-layered printed circuit board prepared by using the same}

본 발명은 에폭시 수지 조성물, 및 이를 이용하여 제조된 접착필름 및 다층 프린트 배선판에 관한 것이다. 보다 구체적으로, 본 발명은 표면 앵커 형성이 우수한 조화제와 다관능성 산무수물 경화제를 포함하는 고내열성 및 고박리 강도 특성을 갖는 에폭시 수지 조성물, 및 이를 이용하여 제조된 접착 필름 및 다층 프린트 배선판에 관한 것이다.The present invention relates to an epoxy resin composition, and an adhesive film and a multilayer printed wiring board manufactured using the same. More specifically, the present invention relates to an epoxy resin composition having high heat resistance and high peel strength properties, including a roughening agent having excellent surface anchor formation and a polyfunctional acid anhydride curing agent, and an adhesive film and a multilayer printed wiring board manufactured using the same. will be.

일반적으로 다층 프린트 배선판(Multi-layered Printed Circuit Board)은, 회로가 형성된 내층 회로 기판상에, 유리 크로스 기재에 에폭시 수지를 함침하여 반경화시킨 프리프레그 시트를 수매 중첩하고, 그 위에 동박을 중첩하여 열판 프레스기로 가열, 가압하여 성형하는 공정으로 제조되고 있다. 그러나, 유리 크로스를 포함하는 프리프레그 시트의 사용은 배선판 제조의 비용 증가를 초래하고, 유리 크로스의 계면에서 박리나 크랙이 생기는 문제가 발생하며, 회로층간의 두께가 유리 크로스에 의해 규제되고 다층 프린트 배선판 전체의 극박화가 곤란하다는 문제가 있었다.In general, a multi-layered printed circuit board includes a plurality of prepreg sheets obtained by impregnating a glass cross substrate with an epoxy resin and semi-cured on an inner layer circuit board on which a circuit is formed, and overlapping copper foil thereon. It is manufactured by the process of heating, pressurizing, and shape | molding by a hotplate press. However, the use of prepreg sheets containing glass crosses leads to an increase in the cost of wiring board manufacture, the problem of peeling or cracking at the interface of the glass crosses, the thickness between the circuit layers is regulated by the glass crosses, and multilayered printing There existed a problem that ultrathinning of the whole wiring board was difficult.

이러한 문제점을 해결하기 위해 내층 회로 기판의 도체층 위에 유기 절연층을 교대로 적층하여 기판을 제조하는 빌드업 공법이 제안되었다.In order to solve this problem, a build-up method for manufacturing a substrate by alternately stacking an organic insulating layer on a conductor layer of an inner circuit board has been proposed.

일본 특개평 7-304931호 및 7-304933호에는 회로 형성된 내층 회로판에 에폭시 수지 조성물을 도포, 가열 경화 후 조화제에 의해 표면에 앵커를 형성하고, 도금법에 의하여 도체층을 형성하는 다층 프린트 배선판의 제조방법이 개시되어 있다. 이때 사용되는 에폭시 수지 조성물에는 경화제로서 예를 들면, 디시안디아미드, 이미다졸 화합물과 같은 아민계 경화제를 사용하는 것이 일반적이었으나, 최근 실장 밀도의 증대와 함께 내열성이 뛰어난 경화제가 바람직하게 되었다.In Japanese Patent Laid-Open Nos. 7-304931 and 7-304933, an epoxy resin composition is applied to a circuit-formed inner layer circuit board, an anchor is formed on the surface by a roughening agent after heat curing, and a multilayer printed wiring board is formed by a plating method. A manufacturing method is disclosed. In the epoxy resin composition used at this time, an amine curing agent such as a dicyandiamide or an imidazole compound has been generally used as the curing agent. However, in recent years, a curing agent excellent in heat resistance with an increase in mounting density has become preferred.

이에 따라, 일본 특개 2003-127313호에서는 트리아진 구조 함유 페놀계 경화제를 사용하여, 고내열성과 산화제에 의한 조화성을 양립시킨 층간 절연재용 에폭시 수지 조성물을 제안하였다. 그러나, 이러한 조성물의 경우 내열성은 개선되었으나 양호한 조화면을 얻지 못하고, 도체층과의 박리 강도가 약하다는 단점이 있었다.Accordingly, Japanese Laid-Open Patent Publication No. 2003-127313 proposes an epoxy resin composition for an interlayer insulating material in which a triazine structure-containing phenol-based curing agent is used, and high heat resistance and compatibility with an oxidizing agent are achieved. However, in the case of such a composition, the heat resistance was improved, but a good roughening surface was not obtained, and the peel strength with the conductor layer was weak.

본 발명은 고내열성과 고박리강도를 갖는 다층 프린트 배선판을 제조하기 위한 에폭시 수지 조성물 및 이를 포함하는 접착 필름을 제공하고자 한다. The present invention is to provide an epoxy resin composition for producing a multilayer printed wiring board having high heat resistance and high peel strength and an adhesive film comprising the same.

본 발명자들은 고내열성과 고박리강도를 갖는 다층 프린트 배선판을 제조하기 위하여 연구를 계속한 결과, 페녹시 수지와 고무 변성 에폭시 수지로 구성되는 조화제와 다관능성 산무수물 경화제를 사용하여 에폭시 수지 조성물을 제조할 경우 조화 특성이 뛰어나 높은 유리전이온도 및 필강도를 갖는다는 것을 발견하고 본 발명을 완성하였다. The inventors of the present invention continued to manufacture a multilayer printed wiring board having high heat resistance and high peel strength, and as a result, an epoxy resin composition was prepared by using a roughening agent composed of a phenoxy resin and a rubber-modified epoxy resin and a polyfunctional acid anhydride curing agent. The present invention has been found to have a high glass transition temperature and peel strength due to its excellent harmonic properties, thus completing the present invention.

본 발명에서는 페녹시 수지와 고무 변성 에폭시 수지의 혼합물로 구성되는 조화제와 다관능성 산무수물 경화제를 포함하는, 높은 유리전이온도와 필강도를 갖는 에폭시 수지 조성물을 이용하여, 내열성 및 박리 강도가 우수한 다층 프린트 배선판용 접착 필름 및 다층 프린트 배선판을 제공하는 효과를 갖는다.In the present invention, by using an epoxy resin composition having a high glass transition temperature and peel strength, including a roughening agent composed of a mixture of a phenoxy resin and a rubber-modified epoxy resin and a polyfunctional acid anhydride curing agent, excellent heat resistance and peel strength are achieved. It has the effect of providing the adhesive film for multilayer printed wiring boards, and a multilayer printed wiring board.

본 발명은 다관능 에폭시 수지, 페녹시 수지 및 고무 변성 에폭시 수지로 이루어지는 조화제, 다관능성 산무수물, 및 경화촉진제를 포함하는 에폭시 수지 조성물을 제공한다. The present invention provides an epoxy resin composition comprising a roughening agent composed of a polyfunctional epoxy resin, a phenoxy resin and a rubber-modified epoxy resin, a polyfunctional acid anhydride, and a curing accelerator.

본 발명의 한 구체예에서는, (A) 다관능 에폭시 수지 20 내지 40중량부, (B) 페녹시 수지 및 고무 변성 에폭시 수지 30 내지 60중량부, (C) 다관능성 산무수물 20 내지 50중량부, 및 (D) 경화촉진제 0.1 내지 5중량부를 포함하는 에폭시 수지 조성물을 제공한다.In one embodiment of the present invention, (A) 20 to 40 parts by weight of polyfunctional epoxy resin, (B) phenoxy resin and rubber modified epoxy resin 30 to 60 parts by weight, (C) 20 to 50 parts by weight of polyfunctional acid anhydride And (D) provides an epoxy resin composition comprising 0.1 to 5 parts by weight of the curing accelerator.

이하에서는, 수지 조성물의 구성성분을 보다 구체적으로 설명한다.Below, the structural component of a resin composition is demonstrated more concretely.

(A) 다관능 에폭시 수지(A) polyfunctional epoxy resin

다관능 에폭시 수지는 전기적, 열적 특성 그리고 화학적 안정성이 우수한 열경화성 수지로서, 특별히 제한되지는 않으나 비스페놀 A형 에폭시 수지, 비스페놀 F형 에폭시 수지, 비스페놀 S형 에폭시 수지, 페놀 노볼락형 에폭시 수지, 크레졸 노볼락형 에폭시 수지, 알킬페놀 노볼락형 에폭시 수지, 비스페놀형 에폭시 수지, 나프탈렌형 에폭시 수지, 디사이클로펜타디엔형 에폭시 수지, 트리글리시딜 이소시아네이트 및 비환식 에폭시 수지 등으로부터 선택되는 하나 이상의 에폭시 화합물로서, 바람직하기는 중량 평균 분자량이 200~2,000인 것을 사용할 수 있다. 구체적인 예로는 시판 중인 제펜 에폭시 레진 (주) 에피코트 152, 154, 828, YX-4000, 다이니폰잉크화학(주) 에피크론 N-660, N-673, N-695, 국도화학 (주) YDCN-500-4P, YDCN-638, YH-300, YH-325 등이 있다.Polyfunctional epoxy resins are thermosetting resins having excellent electrical, thermal properties, and chemical stability, including, but not limited to, bisphenol A type epoxy resins, bisphenol F type epoxy resins, bisphenol S type epoxy resins, phenol novolac type epoxy resins, and cresol furnaces. As at least one epoxy compound selected from the group consisting of a ballolac epoxy resin, an alkylphenol novolac epoxy resin, a bisphenol epoxy resin, a naphthalene epoxy resin, a dicyclopentadiene epoxy resin, triglycidyl isocyanate and acyclic epoxy resin, Preferably, the weight average molecular weights 200-2,000 can be used. Specific examples of the commercially available Zepen Epoxy Resin Co., Ltd. Epicoat 152, 154, 828, YX-4000, Dainippon Ink Chemical Co., Ltd. Epikron N-660, N-673, N-695, Kukdo Chemical Co., Ltd. YDCN -500-4P, YDCN-638, YH-300, YH-325 and the like.

다관능 에폭시 수지는 20~40중량부의 범위에서 사용하는데, 함량이 20중량부 미만이면 내열성, 내약품성, 전기 특성이 불충분하고, 40중량부를 초과하면 난연성, 접착성이 저하된다.The polyfunctional epoxy resin is used in the range of 20 to 40 parts by weight, but if the content is less than 20 parts by weight, heat resistance, chemical resistance, and electrical properties are insufficient, and if it exceeds 40 parts by weight, flame retardancy and adhesion decrease.

(B) 페녹시 수지 및 고무 변성 에폭시 수지(B) phenoxy resin and rubber modified epoxy resin

본 발명에 따른 페녹시 수지 및 고무 변성 에폭시 수지는 산화제의 수용액에 가용 또는 분해되는 조화 성분으로서 접착력이 좋고 내화학성 및 내용제성이 우수하다. 특히 페녹시 수지는 경화 도막의 기계적 강도를 향상시킬 뿐 아니라 접착 필름의 수지 용해 점도의 제어를 용이하게 하고, 크레이터링(cratering, 하지끼)의 방지 효과를 나타낸다. The phenoxy resin and the rubber-modified epoxy resin according to the present invention have good adhesion as well as chemical resistance and solvent resistance as roughening components that are soluble or decomposed in an aqueous solution of an oxidizing agent. In particular, the phenoxy resin not only improves the mechanical strength of the cured coating film, but also facilitates the control of the resin melt viscosity of the adhesive film, and exhibits an effect of preventing cratering.

페녹시 수지는 2관능 에폭시 수지와 비스페놀 S를 반응시키거나, 비스페놀 S형 에폭시 수지와 비스페놀을 반응시켜 제조될 수 있으며, 바람직하기는 중량 평균 분자량이 10,000~70,000인 것이다. 특히, 비페닐형 2관능 에폭시 수지와 비스페놀 S를 반응시켜 제조되는 페녹시 수지의 경우, 유리 전이점이 높을 뿐 아니라 치밀한 조화면을 얻을 수 있어 가장 바람직하다. 페녹시 수지의 구체적인 예로는 비스페놀 A형 에폭시 수지(동도화성 (주) YP-50, YP-70, YP-50-EK35, ZX-1356-2), 비페닐형 에폭시 수지(제펜 에폭시 레진(주) YX-4000, YX-4000H), 비스페놀 화합물과의 반응 생성물로부터 되는 페녹시 수지인 YX-6954BH30, YL-6746H30, YL-6747H30, InChemRez (주) PKHH, PKHJ, PKHB 등이 있다. The phenoxy resin may be prepared by reacting a bifunctional epoxy resin with bisphenol S or by reacting a bisphenol S-type epoxy resin with bisphenol, preferably having a weight average molecular weight of 10,000 to 70,000. In particular, in the case of the phenoxy resin produced by reacting a biphenyl type bifunctional epoxy resin with bisphenol S, not only the glass transition point is high but also a dense roughened surface is most preferable. Specific examples of the phenoxy resin include bisphenol A epoxy resin (Dongdo Chemical Co., Ltd. YP-50, YP-70, YP-50-EK35, ZX-1356-2) and biphenyl type epoxy resin (Zeppen Epoxy Resin Co., Ltd.). YX-4000, YX-4000H), YX-6954BH30, YL-6746H30, YL-6747H30, InChemRez Co., Ltd. PKHH, PKHJ, PKHB etc. which are phenoxy resins which consist of reaction products with a bisphenol compound.

고무 변성 에폭시 수지는 폴리부타디엔 고무, 고무 변성 에폭시 수지, 또는 우레탄 변성 에폭시 수지로부터 선택되는 수지로서, 바람직하기는 중량 평균 분자량이 500~10,000인 것이다. 고무 변성 에폭시 수지의 예로는 폴리부타디엔 고무(이데미스석유화학 (주) R-45EPI, R-45HT), 다이쉘화학 (주) PB3600, PB4700, 고무 변성 에폭시 수지(국도화학 (주) KR-207, KR-208, KR-909), 우레탄 변성 에폭시 수지(국도화학 (주) UME-305, UME-330)을 들 수 있다.The rubber-modified epoxy resin is a resin selected from polybutadiene rubber, rubber-modified epoxy resin, or urethane-modified epoxy resin, and preferably has a weight average molecular weight of 500 to 10,000. Examples of the rubber-modified epoxy resin include polybutadiene rubber (R-45EPI and R-45HT of Idemis Petrochemical Co., Ltd.), PB3600, PB4700, D.C. Co., Ltd., and rubber modified epoxy resin (Kukdo Chemical Co., Ltd. KR-207). And KR-208, KR-909) and urethane-modified epoxy resins (Kukdo Chemical Co., Ltd. UME-305, UME-330).

본 발명에서는 페녹시 수지와 고무 변성 에폭시 수지의 함량을 적절히 조절 함으로써 높은 필강도를 얻는다. 본 발명에 있어서, 페녹시 수지와 고무 변성 에폭시 수지의 비율은 중량비로 1 : 0.2 내지 2로 하는 것이 바람직하다. 고무 변성 에폭시 수지의 비율이 너무 높으면 표면의 조도(roughness)가 커져 균일한 조화면을 얻을 수 없다. In the present invention, high peel strength is obtained by appropriately adjusting the contents of the phenoxy resin and the rubber-modified epoxy resin. In the present invention, the ratio of the phenoxy resin and the rubber-modified epoxy resin is preferably 1: 0.2 to 2 by weight. If the ratio of the rubber-modified epoxy resin is too high, the roughness of the surface becomes large and a uniform roughening surface cannot be obtained.

페녹시 수지 및 고무 변성 에폭시 수지는 수지 조성물 중 30~60중량부 사용되는데, 함량이 30중량부 미만이면 내열성이나 기계적 강도가 떨어지며, 60중량부를 초과하면 수지 바니스 자체가 상분리를 일으키거나 열유동성이 나빠져 바람직하지 않다.Phenoxy resin and rubber-modified epoxy resin are used in the resin composition of 30 to 60 parts by weight. If the content is less than 30 parts by weight, the heat resistance or mechanical strength is lowered. If the content exceeds 60 parts by weight, the resin varnish itself causes phase separation or thermal fluidity. It is not desirable to get worse.

(C) 다관능성 산무수물(C) polyfunctional acid anhydrides

본 발명에 따른 다관능성 산무수물은 피로멜리트산 무수물, 벤조페논 테트라카르복실산무수물, 에틸렌글리콜 비스 트리멜리트산무수물, 글리세롤 트리스 트리멜리트산무수물, 및 말레익메틸사이클로헥센 테트라카르복실산무수물로부터 선택되는 경화제로서, 바람직하기는 중량 평균 분자량이 170~17,000인 것이다. 구체적인 예로서 PMDA(pyromellitic dianhydride), BTDA(Benzophenon tetracarboxylic dianhydride), TMEG(Ethylene glycol bis-trimellitic dianhydride), TMTA(Glycerol tris-trimellitic dianhydride), MCTC(5-(2,5-dioxotetrahydropryle)-3-methyl-3-cyclohexene-1,2-dicarboxylic anhydride), TDA((2,5-dioxotetranhydrofuran-3-yl)-1,2,3,4-tetrahydronaphthalene-1,2-dicarboxylic anhydride), 제펜 에폭시 레진 (주) YH-308 등이 있다.The polyfunctional acid anhydride according to the present invention is selected from pyromellitic anhydride, benzophenone tetracarboxylic anhydride, ethylene glycol bis trimellitic anhydride, glycerol tris trimellitic anhydride, and maleic methylcyclohexene tetracarboxylic anhydride As a hardening | curing agent used, Preferably the weight average molecular weights are 170-17,000. Specific examples include pyromellitic dianhydride (PMDA), benzophenon tetracarboxylic dianhydride (BTDA), ethylene glycol bis-trimellitic dianhydride (TMEG), glycerin tris-trimellitic dianhydride (TMTA), and MCTC (5- (2,5-dioxotetrahydropryle) -3-methyl -3-cyclohexene-1,2-dicarboxylic anhydride), TDA ((2,5-dioxotetranhydrofuran-3-yl) -1,2,3,4-tetrahydronaphthalene-1,2-dicarboxylic anhydride), zefen epoxy resin (Note YH-308, and the like.

본 발명에서는 다관능성 산무수물을 사용함으로써 내열성, 전기절연성, 및 기계적 강도를 향상시킬 수 있다. 다관능성 산무수물은 수지 조성물 중 20~50중량부 포함되는데, 다관능성 산무수물의 함량이 20중량부 미만이면 내열성이 저하하고, 50중량부를 초과하면 미반응의 활성 수소기가 잔존해, 절연성이 저하된다.In the present invention, heat resistance, electrical insulation, and mechanical strength can be improved by using a polyfunctional acid anhydride. 20 to 50 parts by weight of the polyfunctional acid anhydride is included in the resin composition, but if the content of the polyfunctional acid anhydride is less than 20 parts by weight, the heat resistance is lowered, and if it exceeds 50 parts by weight, the unreacted active hydrogen group remains and the insulation is lowered. do.

상기 경화제의 양은 에폭시 수지의 종류 및 사용양에 따라 달라지며, 에폭시 수지에 대하여 당량대비로 첨가한다.The amount of the curing agent depends on the type and the amount of use of the epoxy resin, it is added to the equivalent relative to the epoxy resin.

(D) 경화촉진제(D) curing accelerator

본 발명에 따른 경화촉진제는 2-메틸 이미다졸, 2-에틸-4-메틸 이미다졸 등의 이미다졸류, 벤질 디메틸 아민, 1,8-디아자비시크로(5,4,0)운데센-7과 같은 아민류, 페닐 포스핀, 테트라페닐보레이트과 같은 유기 포스핀이 사용된다.The curing accelerator according to the present invention is imidazole such as 2-methyl imidazole, 2-ethyl-4-methyl imidazole, benzyl dimethyl amine, 1,8-diazabicyclo (5,4,0) undecene- Amines such as 7, organic phosphines such as phenyl phosphine and tetraphenylborate are used.

본 발명의 수지 조성물에는 상기 필수 성분 (A)~(D) 외에 본 발명의 효과를 저해하지 않는 범위에서, 통상적인 첨가제 중 하나 이상을 적절한 함량으로 배합할 수 있다. In addition to the said essential components (A)-(D), one or more of the usual additives can be mix | blended with the resin composition of this invention to an appropriate content in the range which does not impair the effect of this invention.

통상적인 첨가제로는, 예를 들면 실리카, 알루미나, 황산바륨, 탈크, 진흙, 운모가루, 수산화알루미늄, 수산화마그네슘, 탄산칼슘, 탄산마그네슘, 산화마그네슘, 질화 붕소, 붕산 알루미늄, 티탄산바륨, 티탄산칼슘, 티탄산마그네슘, 티탄산비스머스, 산화 티탄, 지르콘산바륨, 지르콘산칼슘 등의 무기 충전제, 실리콘 파우더, 나일론 파우더, 불소 파우더 등의 유기 충전제, 석면, 오르벤, 벤톤 등의 증점제, 실리콘계, 불소계, 고분자계의 소포제, 레벨링제, 이미다졸계, 치아조르계, 트리아졸계, 및 실란 커플링제 등의 밀착성 부여제 등을 들 수 있다.Typical additives include, for example, silica, alumina, barium sulfate, talc, mud, mica powder, aluminum hydroxide, magnesium hydroxide, calcium carbonate, magnesium carbonate, magnesium oxide, boron nitride, aluminum borate, barium titanate, calcium titanate, Inorganic fillers such as magnesium titanate, bismuth titanate, titanium oxide, barium zirconate, calcium zirconate, organic fillers such as silicon powder, nylon powder, fluorine powder, thickeners such as asbestos, orbene, benton, silicone, fluorine, polymer Adhesion-providing agents, such as a defoaming agent of a type | system | group, a leveling agent, an imidazole type, a dental zortho type, a triazole type, and a silane coupling agent, etc. are mentioned.

접착 필름의 제조Preparation of Adhesive Film

본 발명의 다른 한 면은 본 발명에 따른 에폭시 수지 조성물을 유기 용제에 용해하고, 이를 지지 베이스 필름 상에 도포한 다음 열풍에 의하여 용제를 건조하여 형성된 접착 필름으로서, 프린트 배선판에 적합한 접착 필름을 제공하는 것이다.Another aspect of the present invention is an adhesive film formed by dissolving the epoxy resin composition according to the present invention in an organic solvent, applying it on a support base film, and then drying the solvent by hot air to provide an adhesive film suitable for a printed wiring board. It is.

유기 용제는 아세톤, 메탄올, 에탄올, 메틸 에틸 케톤, 시클로헥사논 등의 케톤류, 초산에틸, 초산부틸, 셀로솔브 아세테이트, 프로필렌 글리콜 모노메틸 에테르 아세테이트, 톨루엔, 크실렌 등의 방향족 탄화수소, 디메틸 폼 아미드, 디메틸 아세트아미드, N-메틸 피롤리돈으로부터 선택되는 1종 또는 2종 이상의 유기 용제를 조합하여 사용할 수 있다.Organic solvents include ketones such as acetone, methanol, ethanol, methyl ethyl ketone and cyclohexanone, ethyl acetate, butyl acetate, cellosolve acetate, propylene glycol monomethyl ether acetate, aromatic hydrocarbons such as toluene and xylene, dimethyl formamide, dimethyl One or two or more organic solvents selected from acetamide and N-methyl pyrrolidone can be used in combination.

지지 베이스 필름으로는 폴리에틸렌, 폴리프로필렌, 폴리염화비닐 등의 폴리올레핀, 폴리에틸렌테레프탈레이트 등의 폴리에스테르, 폴리카보네이트, 폴리이미드 등을 들 수 있다. Examples of the supporting base film include polyolefins such as polyethylene, polypropylene, and polyvinyl chloride, polyesters such as polyethylene terephthalate, polycarbonates, and polyimides.

본 발명의 한 구체예에서는 두께가 10~100㎛인 지지 베이스 필름 상에, 유기 용제에 용해된 본 발명에 따른 에폭시 수지 조성물을 10~100㎛ 범위의 두께로 형성시킨다. 이 때 에폭시 수지 조성물층의 두께가 너무 얇으면 양호한 필값을 얻을 수가 없으며, 너무 두꺼우면 전기 용량이 떨어지는 문제가 있다. 건조 후의 수지층의 잔류 용제량이 너무 적으면 필름의 유연성이 떨어져 수지 부분에 크랙이 발생하게 되어 사용할 수 없게 되며, 너무 많으면 지지 베이스 필름이 있는 상태로 가열 경화를 시키는 경우에, 수지 중에 보이드가 발생하는 경우가 있다. 일반적으로 건조 후 수지층의 잔류 용제량은 수지 조성물 전체 중량을 기준으로 5중량% 이하인 것이 바람직하다.In one embodiment of the present invention, the epoxy resin composition according to the present invention dissolved in an organic solvent is formed on a support base film having a thickness of 10 to 100 µm to a thickness in the range of 10 to 100 µm. At this time, if the thickness of the epoxy resin composition layer is too thin, a good peel value cannot be obtained, and if it is too thick, there is a problem that the electric capacity falls. If the amount of residual solvent in the resin layer after drying is too small, the flexibility of the film may be inferior and cracks may occur in the resin portion, and if the amount is too high, voids are generated in the resin when heat curing is performed in the presence of the supporting base film. There is a case. In general, the residual solvent amount of the resin layer after drying is preferably 5% by weight or less based on the total weight of the resin composition.

조수지층의 다른 면에 10~50㎛의 보호 필름을 한층 더 적층하여, 롤상에 권취하여 저장하는 것이 바람직하다.It is preferable to further laminate | stack a 10-50 micrometers protective film on the other surface of a crude resin layer, wind up, and store on a roll.

다층 프린트 배선판의 제조Fabrication of Multilayer Printed Wiring Boards

본 발명의 다른 한 면은 본 발명에 따른 에폭시 수지 조성물로부터 제조되는 다층 프린트 배선판을 제공하는 것이다. Another aspect of the present invention is to provide a multilayer printed wiring board made from the epoxy resin composition according to the present invention.

본 발명에 따르면, 본 발명에 따른 에폭시 수지 조성물을 내층회로가 형성된 동박층재상에 수지층으로 형성하고 열경화하는 단계; 수지층의 표면에 산화제의 수용액에 의한 조화제 처리에 의해 요철상의 조화면을 형성하는 단계; 및 상기 조화면에 도체층을 형성하는 단계를 거쳐 다층 프린트 배선판을 제조한다.According to the present invention, the step of forming an epoxy resin composition according to the present invention as a resin layer on the copper foil layer material formed with an inner layer circuit and thermosetting; Forming a roughened surface on the surface of the resin layer by roughening treatment with an aqueous solution of an oxidizing agent; And forming a conductor layer on the roughened surface to manufacture a multilayer printed wiring board.

한 구체예에서는, 본 발명에 따른 에폭시 수지 조성물로부터 형성된 접착 필름으로부터 보호 필름을 제거한 후 가압 및 가열하면서 회로 가공된 회로 기판에 라미네이트한다. 라미네이트 공정은 압착 온도 80~130℃, 압착 압력 1~10kgf/㎠로 하여 감압 하에서 적층하는 공정이다. 접착 필름이 적층된 회로 기판을 실온 부근으로 냉각하고, 지지 필름을 박리한 후 가열 경화시켜 절연층을 형성한다. 가열 경화는 150℃~200℃ 온도 하에서 30분~120분 동안 이루어진다.In one embodiment, the protective film is removed from the adhesive film formed from the epoxy resin composition according to the present invention and then laminated to the circuit processed circuit board under pressure and heating. The lamination step is a step of laminating under reduced pressure at a compression temperature of 80 to 130 ° C. and a compression pressure of 1 to 10 kgf / cm 2. The circuit board on which the adhesive film is laminated is cooled to around room temperature, the supporting film is peeled off, and then heat cured to form an insulating layer. Heat curing takes place for 30 minutes to 120 minutes at a temperature of 150 ° C to 200 ° C.

가열 경화 후 회로 기판 상에 형성된 절연층에 천공하고 이어서 비어홀, 스루홀을 형성한다. 천공은 예를 들면, 드릴, 레이저, 플라스마 등의 공지의 방법에 의해 실시할 수 있지만, 레이저에 의한 천공이 가장 바람직하다. After heat-hardening, it drills in the insulating layer formed on a circuit board, and then forms a via hole and a through hole. Although drilling can be performed by well-known methods, such as a drill, a laser, and a plasma, for example, drilling by a laser is most preferable.

그 다음 절연층 표면에 산화제로 조화 처리를 실시한다. 이 때 필요에 따라 조화 처리 전에 접착성을 안정시키기 위하여 물리적인 연마를 할 수도 있다. 산화제로는, 과망간산소금(과망간산칼륨, 과망간산나트륨 등), 중크롬산염, 오존, 과산화수소/황산, 초산 등이 있다.Then, the surface of the insulating layer is subjected to a roughening treatment with an oxidizing agent. At this time, if necessary, physical polishing may be performed to stabilize the adhesiveness before the roughening treatment. Examples of the oxidizing agent include sodium permanganate (such as potassium permanganate and sodium permanganate), dichromate, ozone, hydrogen peroxide / sulfuric acid and acetic acid.

그 후 조화 처리에 의해 요철의 앵커가 형성된 접착 필름층 표면에, 무전해 도금과 전해 도금으로 도체층을 형성한다. 그 후의 패턴 형성 방법으로서 구체적으로는 공지의 사브트라크티브법, 세미 어디티브법 등을 이용할 수 있다. 도체층 형성 후 150~200℃로 20~90분 동안 어닐링 처리하여 도체층의 필강도를 한층 더 향상시킬 수 있다.Thereafter, the conductor layer is formed on the surface of the adhesive film layer on which the uneven anchor is formed by roughening treatment by electroless plating and electrolytic plating. As a pattern formation method after that, a well-known subtractive method, a semiadditive method, etc. can be used specifically ,. After forming the conductor layer, the annealing treatment may be performed at 150 to 200 ° C. for 20 to 90 minutes to further improve the peel strength of the conductor layer.

이하 실시예를 통하여 본 발명을 구체적으로 설명하지만, 하기 실시예는 본 발명을 예시하기 위한 것일 뿐 이로 인하여 발명의 범위가 한정되는 것은 아니다.Hereinafter, the present invention will be described in detail with reference to Examples, but the following Examples are only intended to illustrate the present invention, and thus the scope of the present invention is not limited thereto.

실시예Example

<실시예 1~4><Examples 1-4>

표 1의 실시예 1 내지 4에 기재되어 있는 조성에 따라 다음과 같은 방법으로 에폭시 수지 조성물을 제조하였다: 메틸 에틸 케톤 용제 중에 에폭시 수지를 용해한 후 각 성분을 디졸버(dissolver)에서 균일하게 혼합하여 수지 바니스를 제조하였다. 수지 바니스를 두께 38㎛의 폴리에틸렌 테레프탈레이트 필름 상에 건조 후의 두께가 35㎛가 되도록 콤마 코터에서 도포하여 100℃에서 10분간 건조하여 접착필름을 얻었다. 회로 형성된 회로 기판에 진공 라미네이터로 라미네이트하였다. 160℃에서 60분간 경화시킨 후 과망간산칼륨으로 조화를 실시한 후 무전해도금과 전해 도금으로 약 25미크론의 도체층을 형성하였다. According to the composition described in Examples 1 to 4 of Table 1, an epoxy resin composition was prepared by the following method: After dissolving the epoxy resin in a methyl ethyl ketone solvent, each component was uniformly mixed in a resolver. Resin varnishes were prepared. The resin varnish was applied on a polyethylene terephthalate film having a thickness of 38 μm in a comma coater so as to have a thickness of 35 μm, and dried at 100 ° C. for 10 minutes to obtain an adhesive film. The circuit board was laminated with a vacuum laminator. After curing at 160 ° C. for 60 minutes, it was roughened with potassium permanganate, and then a conductor layer of about 25 microns was formed by electroless plating and electroplating.

제조된 시편을 180℃에서 60분 어닐링 처리한 후 유리전이온도와 필강도를 측정하여 그 결과를 표 2에 나타내었다.After annealing the prepared specimens for 60 minutes at 180 ° C., the glass transition temperature and peel strength were measured, and the results are shown in Table 2.

물성 측정 방법How to measure property

Tg : 유리 전이 온도 (TMA법)Tg: glass transition temperature (TMA method)

필강도 : JIS-C-6481 (N/㎝)Peel Strength: JIS-C-6481 (N / cm)

<비교예 1~4><Comparative Example 1-4>

표 1의 비교예 1 내지 4에 기재되어 있는 조성에 따라 에폭시 수지 조성물을 제조하였다. 수지 조성물을 이용한 시편의 제조 및 물성 측정에 대해서는 실시예 1~4에 준하여 실시하였고 결과를 표 2에 나타내었다.Epoxy resin compositions were prepared according to the compositions described in Comparative Examples 1-4 of Table 1. Preparation of the specimen using the resin composition and measurement of the physical properties were carried out according to Examples 1 to 4 and the results are shown in Table 2.

표 1Table 1

조성Furtherance 실시예Example 비교예Comparative example 1One 22 33 44 1One 22 33 44 (A) 성분(A) component KDP-540KDP-540 1515 1010 3030 1515 3030 YH-300YH-300 2020 3030 2020 2020 2020 EP-828EP-828 1010 1515 2525 1515 1010 EPPN-520HEPPN-520H 2525 (B) 성분Component (B) YL6954BH30YL6954BH30 2020 4040 2020 1010 YP-70YP-70 2020 3535 2525 2020 R-45 EPTR-45 EPT 1010 1515 1010 2525 1010 4040 YPB40-PXM40YPB40-PXM40 5050 PES5003PPES5003P 5050 (C) 성분(C) Component PMDAPMDA 2020 BTDABTDA 1818 2525 2525 TMEGTMEG 2020 TMTATMTA 2020 2020 MCTCMCTC 1515 YH-308YH-308 1010 1515 1515 1010 YLH-808YLH-808 4040 TD-2090-60MTD-2090-60M 9090 (D) 성분(D) component 1,8-지아자비시크로(5,4,0)운데센-71,8-ziazabicyclo (5,4,0) undecene-7 1One 2E4MZ2E4MZ 0.50.5 0.50.5 0.50.5 0.50.5 0.50.5 0.50.5 0.50.5

(함량 단위: 중량부)(Content unit: parts by weight)

KDP-540 : 국도화학(주), 다관능 난연 에폭시 수지KDP-540: Kukdo Chemical Co., Ltd., Multifunctional Flame Retardant Epoxy Resin

YH-300 : 국도화학(주), 다관능 에폭시 수지YH-300: Kukdo Chemical Co., Ltd., polyfunctional epoxy resin

EP-828 : 제펜 에폭시 레진(주), 비스페놀 A형 에폭시 수지EP-828: Zefen Epoxy Resin, Bisphenol A Type Epoxy Resin

N-690 : 대일본 잉크 화학공업(주), 크레졸 노볼락형 에폭시 수지N-690: Nippon Ink Chemical Co., Ltd., cresol novolac type epoxy resin

EPPN-502H : 일본 화약(주), 트리스페놀형 에폭시 수지EPPN-502H: Nippon Kayaku Co., Ltd., trisphenol type epoxy resin

YL6954BH30 : 제펜 에폭시 레진(주), 비페닐형 페녹시 수지YL6954BH30: ZEPPEN Epoxy Resin Co., Ltd., biphenyl type phenoxy resin

YP-70 : 동도화성(주), 페녹시 수지YP-70: Dongdo Chemical Co., Ltd., phenoxy resin

R-45 EPT : 나가세 화성공업(주), 고무변성 에폭시 수지R-45 EPT: Nagase Chemical Co., Ltd., rubber modified epoxy resin

YPB40-PXM40 : 토토화성(주), 취소화 페녹시 수지 바니스YPB40-PXM40: Toto Hwasung Co., Ltd., canceled phenoxy resin varnish

PES5003P : 스미모토 화학공업(주), 폴리에테르 술폰 바니스PES5003P: Sumimoto Chemical Industries Co., Ltd., Polyether Sulfone Varnish

PMDA : 미스미비 가스화학(주), 피로멜리트산 무수물PMDA: Misumibi Gas Chemical Co., Ltd., pyromellitic anhydride

BTDA : 다이셀화학(주), 벤조페논 테트라카르복실산 무수물BTDA: Daicel Chemical Co., Ltd., benzophenone tetracarboxylic anhydride

TMEG : 신일본이화(주), 에틸렌글리콜 비스 트리멜리트산 무수물TMEG: Nippon Ewha Co., Ltd., ethylene glycol bis trimellitic anhydride

TMTA : 신일본이화(주), 글리세롤 트리스 트리멜리트산 무수물TMTA: Nippon Ewha Co., Ltd., Glycerol Tris Trimellitic Anhydride

MCTC : 대일본 잉크 화학공업(주), 말레익메틸사이클로헥센 테트라카르복실산 무수물MCTC: Japan Ink Chemical Industry Co., Ltd., maleic methylcyclohexene tetracarboxylic anhydride

YH-308 : 제펜 에폭시 레진(주), 트리알킬 테트라 히드로무수프탈산 무수물YH-308: Zefen epoxy resin Co., Ltd., trialkyl tetrahydrophthalic anhydride

YLH-808 : 제펜 에폭시 레진(주), 페놀 노볼락 수지의 아세틸화 변성물YLH-808: Acetylated Modified Product of Zefen Epoxy Resin Co., Ltd., Phenol Novolak Resin

TD-2090-60M : 대일본 잉크 화학공업(주), 페놀 노볼락 수지 바니스TD-2090-60M: Nippon Ink Chemical Co., Ltd., phenol novolak resin varnish

2E4MZ : 일본국 사국화성 (주), 2-에틸-4-메틸 이미다졸2E4MZ: Japan Chrysanthemum Co., Ltd., 2-ethyl-4-methyl imidazole

표 2Table 2

실시예Example 비교예Comparative example 1One 22 33 44 1One 22 33 44 Tg(℃)Tg (占 폚) 198198 205205 190190 187187 152152 185185 190190 172172 필강도(N/㎝)Peel Strength (N / cm) 1313 1414 1616 1111 88 77 77 99

상기 표 2에서 알 수 있듯이, 실시예 1~4의 본 발명에 따른 에폭시 수지 조성물을 이용하여 제조된 시편은 높은 유리 전이 온도와 양호한 필강도를 나타내므로 조화에 의한 고내열성 및 고박리강도를 갖는 도체층을 형성하는 것이 가능하다. 하지만, 일본 특개 2003-127313호에 따라 얻어진 비교예 1의 에폭시 수지 조성물은 유리 전이 온도와 필강도가 모두 낮았으며, 본 발명의 조성 범위를 벗어나는 비교예 2~4의 경우는 낮은 유리 전이 온도 또는 낮은 필강도를 나타내는 문제가 있었다.As can be seen in Table 2, the specimen prepared by using the epoxy resin composition according to the present invention of Examples 1 to 4 exhibits high glass transition temperature and good peel strength, and thus has high heat resistance and high peeling strength due to roughening. It is possible to form a conductor layer. However, the epoxy resin composition of Comparative Example 1 obtained according to Japanese Patent Application Laid-Open No. 2003-127313 had both a low glass transition temperature and a peel strength, and in the case of Comparative Examples 2 to 4 outside the composition range of the present invention, a low glass transition temperature or There was a problem of low peel strength.

Claims (8)

기판상에 에폭시 수지 조성물을 도포 처리, 경화 처리한 표면에 양호한 조화 특성을 부여하기 위해, 다관능 에폭시 수지, 페녹시 수지 및 고무 변성 에폭시 수지를 혼합한 조화제, 다관능성 산무수물, 및 경화촉진제를 포함하는 에폭시 수지 조성물로서, In order to give favorable roughening property to the surface which apply | coated and hardened the epoxy resin composition on the board | substrate, the roughening agent which mixed the polyfunctional epoxy resin, the phenoxy resin, and the rubber modified epoxy resin, a polyfunctional acid anhydride, and a hardening accelerator As an epoxy resin composition comprising 상기 페녹시 수지는 2관능 에폭시 수지와 비스페놀 S를 반응시켜 제조된 수지 또는 비스페놀 S형 에폭시 수지와 비스페놀을 반응시켜 제조된 수지이고, 상기 고무 변성 에폭시 수지는 폴리부타디엔 고무, 또는 우레탄 변성 에폭시 수지로부터 선택되는 수지이며, 상기 조화제는 페녹시 수지 대 고무 변성 에폭시 수지를 1 : 0.2 내지 2의 중량비로 포함하고, The phenoxy resin is a resin prepared by reacting bifunctional epoxy resin with bisphenol S or a resin produced by reacting bisphenol S type epoxy resin with bisphenol, and the rubber modified epoxy resin is made of polybutadiene rubber or urethane modified epoxy resin. The resin is selected and the roughening agent comprises a phenoxy resin to a rubber modified epoxy resin in a weight ratio of 1: 0.2 to 2, 상기 다관능성 산무수물은 피로멜리트산 무수물, 벤조페논 테트라카르복실산 무수물, 에틸렌글리콜 비스 트리멜리트산 무수물, 글리세롤 트리스 트리멜리트산 무수물, 및 말레익메틸사이클로헥센 테트라카르복실산 무수물로 이루어진 군으로부터 선택되는 1종 이상이고,The polyfunctional acid anhydride is selected from the group consisting of pyromellitic anhydride, benzophenone tetracarboxylic anhydride, ethylene glycol bis trimellitic anhydride, glycerol tris trimellitic anhydride, and maleicmethylcyclohexene tetracarboxylic anhydride It is more than one kind, 상기 다관능 에폭시 수지는 20 내지 40중량부이고,The polyfunctional epoxy resin is 20 to 40 parts by weight, 상기 페녹시 수지 및 상기 고무 변성 에폭시 수지의 혼합물인 상기 조화제는 30 내지 60중량부이고, The roughening agent which is a mixture of the phenoxy resin and the rubber-modified epoxy resin is 30 to 60 parts by weight, 상기 다관능성 산무수물은 20 내지 50중량부이고,The polyfunctional acid anhydride is 20 to 50 parts by weight, 상기 경화촉진제는 0.1 내지 5중량부인 에폭시 수지 조성물.The curing accelerator is 0.1 to 5 parts by weight of the epoxy resin composition. 삭제delete 삭제delete 삭제delete 제 1항에 있어서, 실리카, 알루미나, 황산바륨, 탈크, 진흙, 운모가루, 수산화알루미늄, 수산화마그네슘, 탄산칼슘, 탄산마그네슘, 산화마그네슘, 질화 붕소, 붕산 알루미늄, 티탄산바륨, 티탄산칼슘, 티탄산마그네슘, 티탄산비스머스, 산화 티탄, 지르콘산바륨, 및 지르콘산칼슘으로 이루어지는 군으로부터 선택되는 하나 이상의 무기 충전제; 실리콘 파우더, 나일론 파우더, 및 불소 파우더로 이루어지는 군으로부터 선택되는 하나 이상의 유기 충전제; 석면, 오르벤, 및 벤톤으로 이루어지는 군으로부터 선택되는 하나 이상의 증점제; 실리콘계, 불소계, 고분자계의 소포제, 레벨링제, 이미다졸계, 치아조르계, 트리아졸계, 및 실란 커플링제로 이루어진 군으로부터 선택되는 하나 이상의 밀착성 부여제로부터 선택되는 하나 이상의 첨가제를 추가로 포함하는 에폭시 수지 조성물.The method of claim 1, wherein the silica, alumina, barium sulfate, talc, mud, mica powder, aluminum hydroxide, magnesium hydroxide, calcium carbonate, magnesium carbonate, magnesium oxide, boron nitride, aluminum borate, barium titanate, calcium titanate, magnesium titanate, At least one inorganic filler selected from the group consisting of bismuth titanate, titanium oxide, barium zirconate, and calcium zirconate; At least one organic filler selected from the group consisting of silicone powder, nylon powder, and fluorine powder; One or more thickeners selected from the group consisting of asbestos, orbene, and benton; Epoxy further comprising at least one additive selected from at least one adhesion imparting agent selected from the group consisting of silicone-based, fluorine-based, anti-foaming agents, leveling agents, imidazole-based, dental-based, triazole-based, and silane coupling agents Resin composition. 제 1항에 따른 에폭시 수지 조성물을 지지 베이스 필름 상에 도포하여 형성되는 접착 필름.An adhesive film formed by applying the epoxy resin composition according to claim 1 on a support base film. 제 1항에 따른 에폭시 수지 조성물을 내층회로가 형성된 동박층재상에 수지층으로 형성하고 열경화하는 단계;Forming an epoxy resin composition according to claim 1 as a resin layer on a copper foil layer material having an inner layer circuit and thermally curing the epoxy resin composition; 수지층의 표면에 산화제 수용액에 의한 조화제 처리에 의해 요철상의 조화면을 형성하는 단계; 및Forming a roughened surface on the surface of the resin layer by roughening treatment with an oxidizing agent aqueous solution; And 상기 조화면에 도체층을 형성하는 단계:Forming a conductor layer on the roughened surface: 를 포함하는 다층 프린트 배선판의 제조 방법.Method of manufacturing a multilayer printed wiring board comprising a. 제 1항에 따른 에폭시 수지 조성물을 경화하여 얻어지는 다층 프린트 배선판.The multilayer printed wiring board obtained by hardening the epoxy resin composition of Claim 1.
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