KR101013074B1 - Epoxy resin composition and an adhesive film for a printed wiring boards prepared using the same - Google Patents

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Abstract

본 발명은 에폭시 수지, 시아네이트 에스테르계 수지, 다관능성 산무수물, 및 무기 충전재를 포함하여 이루어지는 고내열성, 고박리강도, 저유전율, 및 저열팽창계수 특성을 갖는 에폭시 수지 조성물과 이를 이용하여 제조된 프린트 배선판용 접착 필름에 관한 것이다.The present invention provides an epoxy resin composition having high heat resistance, high peel strength, low dielectric constant, and low coefficient of thermal expansion, comprising an epoxy resin, a cyanate ester resin, a polyfunctional acid anhydride, and an inorganic filler, It is related with the adhesive film for printed wiring boards.

에폭시 수지, 조화제, 시아네이트 에스테르, 다관능성 산무수물, 접착 필름, 다층 프린트 배선판 Epoxy resin, roughening agent, cyanate ester, polyfunctional acid anhydride, adhesive film, multilayer printed wiring board

Description

에폭시 수지 조성물 및 이를 이용하여 제조된 프린트 배선판용 접착 필름{Epoxy resin composition and an adhesive film for a printed wiring boards prepared using the same}Epoxy resin composition and an adhesive film for a printed wiring boards prepared using the same}

본 발명은 에폭시 수지 조성물 및 이를 이용하여 제조된 프린트 배선판용 접착 필름에 관한 것이다. 보다 구체적으로, 본 발명은 에폭시 수지, 시아네이트 에스테르계 수지, 다관능성 산무수물, 및 무기 충전재를 포함하여 이루어지는 고내열성, 고박리강도, 저유전율, 및 저열팽창계수 특성을 갖는 에폭시 수지 조성물 및 이를 이용하여 제조된 프린트 배선판용 접착 필름에 관한 것이다.The present invention relates to an epoxy resin composition and an adhesive film for a printed wiring board manufactured using the same. More specifically, the present invention provides an epoxy resin composition having high heat resistance, high peel strength, low dielectric constant, and low coefficient of thermal expansion, including epoxy resin, cyanate ester resin, polyfunctional acid anhydride, and inorganic filler. It is related with the adhesive film for printed wiring boards manufactured using.

최근, 전자 기기의 소형화, 고성능화 추세에 수반하여, 다층 프린트 배선판 (multi-layered PCBs)의 경우 전자부품의 실장밀도를 향상시키기 위해 도체배선의 미세화가 진행되고 있으며, 또한 전자 제품의 경박 단소화 경향으로 인하여 에칭에 의한 방법과 도금에 의한 패턴 방법을 이용한 미세회로 형성 기술이 제안되고 있다. In recent years, with the trend toward miniaturization and high performance of electronic devices, in the case of multi-layered PCBs, conductor wiring has been miniaturized in order to improve the mounting density of electronic components, and the thin and light reduction trend of electronic products has been in progress. For this reason, a microcircuit forming technique using a method by etching and a pattern method by plating has been proposed.

그러나, 에칭에 의한 방법은 동박의 도금으로 인하여 두께가 두꺼워짐은 물론 패턴의 모양이 불균일하여, 미세 회로 구성이 현실상 불가능하다. However, in the etching method, the thickness of the copper foil is not only increased, but the shape of the pattern is uneven, so that a fine circuit configuration is impossible in reality.

따라서 미세패턴을 구현하기 위해서는 도금에 의한 패턴 방법이 보다 바람직하며 이러한 제조 방식에 적용하기 위해 특수 빌드업(build-up)용 절연층 재료를 사용한다. 다층 프린트 배선판의 절연층 재료로는 에폭시 수지, 페놀 경화제 등이 사용되는데, 이들 수지는 우수한 내열성 및 전기 절연성을 나타낸다는 장점이 있다.Therefore, in order to implement a fine pattern, a patterning method by plating is more preferable, and an insulating layer material for special build-up is used to apply to such a manufacturing method. Epoxy resins, phenol curing agents and the like are used as the insulating layer material of the multilayer printed wiring board, and these resins have the advantage of exhibiting excellent heat resistance and electrical insulation.

한편, 절연층 상에 고밀도 미세배선을 형성하는 방법에는 절연층 표면을 조화 처리한 후 무전해 도금으로 도체층을 형성하는 방법과 무전해 도금과 전해 도금을 조합해 도체층을 형성하는 방법이 알려져 있다. On the other hand, as a method of forming a high-density fine wiring on an insulating layer, a method of forming a conductor layer by electroless plating after roughening the surface of the insulating layer and a method of forming a conductor layer by combining electroless plating and electrolytic plating are known. have.

이 경우 알카리성 과망간산 용액 등의 산화제로 조화 처리하여 절연층 표면에 조화면을 형성시킨 다음 조화면에 도금을 하여 도체층을 형성한다. 조화 처리 공정에는 절연층에 레이저 등으로 비어 홀(via hole)을 형성하는 과정에서 발생하는 스미어(smear)를 용해제거하는 공정(Desmearing)이 있지만, 스미어의 제거가 충분하지 않은 경우 도통 불량 등의 문제가 발생할 수 있다.In this case, a roughening process is formed on the surface of the insulating layer by roughening treatment with an oxidizing agent such as an alkaline permanganic acid solution, followed by plating on the roughening surface to form a conductor layer. In the roughening process, there is a process of dissolving and removing smear generated in the process of forming a via hole in the insulating layer with a laser or the like. Problems may arise.

또한, 배선의 고밀도화가 요구되는 다층 프린트 배선판에는 동배선과 절연층과의 열팽창계수가 크게 다르기 때문에 크랙이 생기는 등의 문제가 발생하므로, 절연층의 열팽창율을 낮게 억제하는 것이 요구된다.In addition, since the thermal expansion coefficient between copper wiring and an insulating layer is largely different in the multilayer printed wiring board which requires a high density of wiring, problems such as cracking occur, and therefore, it is required to reduce the thermal expansion coefficient of the insulating layer low.

특허출원공개 제2002-87287호는 내열성이 높은 절연 조성물을 제조하기 위하여, 에폭시 수지, 내열성이 높은 특정 시아네이트 에스테르계 수지, 충전제, 경화제, 및 금속촉매를 포함하는 조성물을 개시하고 있다. 그러나, 이러한 조성물의 경우 내열성은 개선되었으나, 실제 표면 조도가 형성되지 않아 도체층과의 박리 강도 가 양호하지 않았으며 높은 열 팽창계수 값을 보이는 단점이 있었다.Patent Application Publication No. 2002-87287 discloses a composition comprising an epoxy resin, a high heat resistance specific cyanate ester resin, a filler, a curing agent, and a metal catalyst in order to prepare an insulation composition having high heat resistance. However, in the case of such a composition, the heat resistance was improved, but the actual surface roughness was not formed, so that the peel strength with the conductor layer was not good, and there was a disadvantage of showing a high coefficient of thermal expansion.

본 발명의 목적은 고내열성, 고박리강도, 저유전율, 및 저열팽창계수의 특성을 갖는 에폭시 수지 조성물을 제공하는 것이다. An object of the present invention is to provide an epoxy resin composition having the characteristics of high heat resistance, high peel strength, low dielectric constant, and low coefficient of thermal expansion.

본 발명의 다른 목적은 고내열성, 고박리강도, 저유전율, 및 저열팽창계수의 특성을 갖는 에폭시 수지 조성물을 이용하여 제조되는 프린트 배선판용 접착 필름을 제공하는 것이다. Another object of the present invention is to provide an adhesive film for a printed wiring board manufactured using an epoxy resin composition having characteristics of high heat resistance, high peel strength, low dielectric constant, and low thermal expansion coefficient.

본 발명의 또 다른 목적은 고내열성, 고박리강도, 저유전율, 및 저열팽창계수의 특성을 갖는 에폭시 수지 조성물을 이용하여 다층 프린트 배선판을 제조하는 방법 및 이로부터 제조된 다층 프린트 배선판을 제공하는 것이다. It is still another object of the present invention to provide a method for manufacturing a multilayer printed wiring board using an epoxy resin composition having properties of high heat resistance, high peel strength, low dielectric constant, and low thermal expansion coefficient, and a multilayer printed wiring board manufactured therefrom. .

상기 목적을 달성하기 위하여, 본 발명에서는 (A) 난연 에폭시 수지(A1) 10~20중량부, 다관능 에폭시 수지(A2) 5~15중량부, 및 고무변성 에폭시 수지, 페녹시 수지, 및 고무로부터 선택되는 1종 이상의 조화제(A3) 5~15중량부를 포함하는 에폭시 수지 20 내지 40중량부;In order to achieve the above object, in the present invention (A) 10 to 20 parts by weight of a flame-retardant epoxy resin (A1), 5 to 15 parts by weight of a polyfunctional epoxy resin (A2), and rubber modified epoxy resin, phenoxy resin, and rubber 20 to 40 parts by weight of an epoxy resin including 5 to 15 parts by weight of at least one roughening agent (A3) selected from;

(B) 하기 화학식 1 내지 3을 갖는 화합물로부터 선택되는 하나 또는 둘 이상의 시아네이트 에스테르계 수지 혼합물 20 내지 30중량부;(B) 20 to 30 parts by weight of one or two or more cyanate ester resin mixtures selected from compounds having the following Chemical Formulas 1 to 3;

[화학식 1][Formula 1]

Figure 112009015620872-pat00001
Figure 112009015620872-pat00001

단, 식 중 n은 1-5의 정수이다.Wherein n is an integer of 1-5.

[화학식 2][Formula 2]

Figure 112009015620872-pat00002
Figure 112009015620872-pat00002

단, 식 중 n은 1-5의 정수이다.Wherein n is an integer of 1-5.

[화학식 3](3)

Figure 112009015620872-pat00003
Figure 112009015620872-pat00003

(C) 다관능성 산무수물 10 내지 20중량부; 및 (C) 10 to 20 parts by weight of the multifunctional acid anhydride; And

(D) 무기 충전재 40 내지 50중량부를 포함하여 이루어지는 에폭시 수지 조성물을 제공한다.(D) The epoxy resin composition which consists of 40-50 weight part of inorganic fillers is provided.

본 발명에 따른 에폭시 수지 조성물은 고내열성, 고박리강도, 저유전율, 및 저열팽창계수(CTE: Coefficient of Thermal Expansion)를 가지므로, 프린트 배선판용 접착 필름 또는 다층 프린트 배선판 제조에 이용된다.Since the epoxy resin composition according to the present invention has high heat resistance, high peel strength, low dielectric constant, and low coefficient of thermal expansion (CTE), it is used in the manufacture of an adhesive film for printed wiring boards or a multilayer printed wiring board.

본 발명에서는 다층 프린트 배선판의 절연층 형성에 효과적인 에폭시 수지의 조합, 표면 앵커 형성이 용이한 조화제, 및 다관능성 산무수물 경화제를 포함하는 에폭시 수지 조성물로서, 고내열성, 고박리강도, 저유전율, 및 저열팽창계수 특성을 갖는 수지 조성물을 제공하는 효과를 갖는다.In the present invention, an epoxy resin composition comprising a combination of an epoxy resin effective for forming an insulating layer of a multilayer printed wiring board, a roughening agent that is easy to form an anchor on the surface, and a polyfunctional acid anhydride curing agent, comprising: high heat resistance, high peel strength, low dielectric constant, And a resin composition having low thermal expansion coefficient characteristics.

본 발명자는 높은 내열성뿐만 아니라 고박리강도, 저유전율, 및 저열팽창계수의 특성을 모두 갖는 수지 조성물을 제공하기 위하여 연구를 계속한 결과, 난연 에폭시 수지, 다관능 에폭시 수지, 및 고무 변성 에폭시 수지로 구성되는 에폭시 수지 혼합물, 특정한 시아네이트 에스테르 혼합물, 다관능성 산무수물, 및 무기 충전제를 포함하여 이루어지는 에폭시 수지 조성물이 내열성과 조화 특성은 뛰어나면서도 열팽창율은 낮게 유지하는 것을 발견하고 본 발명을 완성하게 되었다. The present inventors have continued to provide a resin composition having not only high heat resistance but also high peel strength, low dielectric constant, and low thermal expansion coefficient. As a result, the present inventors have studied flame retardant epoxy resin, polyfunctional epoxy resin, and rubber modified epoxy resin. The present invention has been completed by discovering that the epoxy resin composition comprising the epoxy resin mixture, the specific cyanate ester mixture, the polyfunctional acid anhydride, and the inorganic filler is composed of excellent heat resistance and coordination characteristics while maintaining low thermal expansion rate. .

본 발명의 제1면은 (A) 난연 에폭시 수지 10~20부, 다관능 에폭시 수지 5~15부, 고무 변성 에폭시 수지 5~15부로 이루어진 에폭시 수지 20~40 중량부 (B) 시아네이트 에스테르 수지 20~30 중량부 (C) 다관능성 산무수물 10~20중량부 및 (D) 무기 충전재 40~50 중량부를 포함하는 에폭시 수지 조성물에 관한 것이다. The first aspect of the present invention is (A) 20 to 40 parts by weight of an epoxy resin consisting of 10 to 20 parts of a flame retardant epoxy resin, 5 to 15 parts of a polyfunctional epoxy resin and 5 to 15 parts of a rubber modified epoxy resin (B) Cyanate ester resin 20-30 weight part (C) 10-20 weight part of polyfunctional acid anhydrides, and (D) It is related with the epoxy resin composition containing 40-50 weight part of inorganic fillers.

본 발명의 제2면은 본 발명에 따른 에폭시 수지 조성물을 지지 베이스 필름 상에 적용하여 형성된 프린트 배선판용 접착 필름에 관한 것이다.The second aspect of the present invention relates to an adhesive film for a printed wiring board formed by applying the epoxy resin composition according to the present invention on a support base film.

본 발명의 제3면은 (1) 본 발명에 따른 에폭시 수지 조성물을 내층 회로가 형성된 동박층재 상에 수지층으로서 형성해 열경화하는 공정; (2) 상기 수지층의 표면에 산화제의 수용액에 의한 조화제 처리에 의해 요철장의 조화면을 형성하는 공정; 및 (3) 상기 조화면에 도체층을 형성하는 공정에 따라 다층 프린트 배선판을 제조하는 방법 및 이로부터 제조된 다층 프린트 배선판에 관한 것이다.The 3rd surface of this invention is the process of (1) forming the epoxy resin composition which concerns on this invention as a resin layer on the copper foil layer material in which the inner layer circuit was formed, and thermosetting; (2) forming a roughened surface of the uneven surface by the roughening treatment by an aqueous solution of an oxidizing agent on the surface of the resin layer; And (3) a method of manufacturing a multilayer printed wiring board according to the step of forming a conductor layer on the roughened surface, and a multilayer printed wiring board manufactured therefrom.

이하 본 발명에 따른 에폭시 수지 조성물의 구성성분을 보다 구체적으로 설명한다.Hereinafter, the components of the epoxy resin composition according to the present invention will be described in more detail.

(A) 에폭시 수지(A) epoxy resin

본 발명에 따른 수지 조성물은 난연 에폭시 수지 10~20중량부, 다관능 에폭시 수지 5~15중량부, 및 조화제 5~15중량부로 이루어진 에폭시 수지 20~40 중량부를 포함한다. The resin composition according to the present invention comprises 20 to 40 parts by weight of an epoxy resin composed of 10 to 20 parts by weight of a flame retardant epoxy resin, 5 to 15 parts by weight of a polyfunctional epoxy resin, and 5 to 15 parts by weight of a roughening agent.

절연층의 난연 특성을 향상시키기 위하여 인컴파운드된 난연 에폭시 수지(A1)를 사용한다. 난연 에폭시 수지는 난연성을 갖는 에폭시 수지라면 특별히 제한되지 않으며 시판 중인 난연 에폭시 수지 중 바람직한 제품은 동도화성 (주)의 FX-305, 국도화학 (주)의 KDP-540, KDP-550, KDP-555 등이 있다. 이러한 난연 에폭시 수지는 단독으로 또는 2종 이상 혼합하여 사용하며 수지 조성물 중 10~20 중량부를 사용하는 것이 바람직하다. 난연 에폭시 수지의 함량이 10중량부 미만이면 난연성이 불충분하고, 20중량부를 초과하면 내열성이 저하된다.In order to improve the flame retardant property of the insulating layer, the compounded flame retardant epoxy resin (A1) is used. The flame-retardant epoxy resin is not particularly limited as long as it is an epoxy resin having flame retardancy, and among the commercially available flame-retardant epoxy resins, FX-305 of Dongdo Chemical Co., Ltd., KDP-540, KDP-550, KDP-555 of Kukdo Chemical Co., Ltd. Etc. These flame-retardant epoxy resins are used alone or in combination of two or more, and it is preferable to use 10 to 20 parts by weight in the resin composition. If the content of the flame-retardant epoxy resin is less than 10 parts by weight, the flame retardancy is insufficient, and if it exceeds 20 parts by weight, the heat resistance is lowered.

다관능 에폭시 수지(A2)는 비스페놀 A형 에폭시 수지, 비스페놀 F형 에폭시 수지, 비스페놀 S형 에폭시 수지, 비페닐형 에폭시 수지, 나프탈렌형 에폭시 수지, 페놀 노볼락형 에폭시 수지, 크레졸 노볼락형 에폭시 수지로부터 선택되는 하나 이상의 에폭시 화합물이면 특별히 제한되지 않으나, 대표적인 예로는 1, 1, 1-트리스 하이드록시페닐 에탄 글리시딜 에테르, 솔비톨 폴리글리시딜 에테르, 폴리글리세롤 폴리글리시딜 에테르, 디글리세롤 폴리글리시딜 에테르, 트리글리시딜 트리스(2-하이드록시에틸) 이소시아누레이트, 글리세롤 폴리글리시딜 에테르를 예로 들 수 있으며, 시판 중인 국도화학 (주)의 KDT-4400, YH-300, YH-325 등을 포함한다. 다관능 에폭시 수지는 단독으로 또는 2종 이상 조합하여 5~15 중량부의 범위에서 사용한다. 함량이 5중량부 미만이면 내열성이 불충분하고, 15중량부를 초과하면 난연성이 저하된다.The polyfunctional epoxy resin (A2) is bisphenol A epoxy resin, bisphenol F epoxy resin, bisphenol S epoxy resin, biphenyl type epoxy resin, naphthalene type epoxy resin, phenol novolak type epoxy resin, cresol novolac type epoxy resin The at least one epoxy compound selected from the above is not particularly limited, but representative examples thereof include 1, 1, 1-tris hydroxyphenyl ethane glycidyl ether, sorbitol polyglycidyl ether, polyglycerol polyglycidyl ether, diglycerol poly Examples include glycidyl ether, triglycidyl tris (2-hydroxyethyl) isocyanurate, and glycerol polyglycidyl ether, and KDT-4400, YH-300, YH available from Kukdo Chemical Co., Ltd. -325 and the like. A polyfunctional epoxy resin is used individually or in combination of 2 or more types, in 5-15 weight part. If the content is less than 5 parts by weight, the heat resistance is insufficient. If the content is more than 15 parts by weight, the flame retardancy is lowered.

본 발명에 따른 조화제(A3)는 산화제의 수용액에 가용 또는 분해되어 수지 조성물 표면에 미세 요철의 앵커를 형성시켜 주어 도금 후 도체층과의 필강도를 향상시켜 주는 것으로, 고무 변성 에폭시 수지, 페녹시 수지, 및 고무로부터 선택되는 1종 이상의 조화제이다. 구체적인 예로는 동도화성 (주)의 YP-55, YP-70, ZX-1356-2, 제펜 에폭시 레진 (주)의 EFR-001, YPS-007, 1256, 4250, 4275, 1255, YX8100, YX6954, 나가세 화성공업 (주)의 R-45 EPT, 다이쉘화학 (주)의 PB3600, 일본 JEON (주)의 NBR, CTBN, PB 등이 있다. 이러한 조화제는 수지 조성물 중 5~15 중량부 사용되는 것이 바람직하다. 5중량부 미만이면 조화성이 불충분하고, 15중량부를 초과하면 전기 특성, 내열성이 저하된다.The roughening agent (A3) according to the present invention is solubilized or decomposed in an aqueous solution of an oxidizing agent to form an anchor of fine concavo-convex on the surface of the resin composition, thereby improving the peel strength with the conductor layer after plating. At least one roughening agent selected from municipal resins, and rubbers. Specific examples include YP-55, YP-70, ZX-1356-2 of Dongdo Chemical, EFR-001, YPS-007, 1256, 4250, 4275, 1255, YX8100, YX6954, Nagase Chemical Co., Ltd. R-45 EPT, Daishell Chemical Co., Ltd. PB3600, Japan JEON Co., Ltd. NBR, CTBN, PB. It is preferable that 5-15 weight part of such roughening agents are used in a resin composition. Harmonicity is inadequate when it is less than 5 weight part, and when it exceeds 15 weight part, electrical characteristics and heat resistance will fall.

(B) 시아네이트 에스테르 수지 (B) cyanate ester resin

본 발명에 따른 수지 조성물은 내열성 및 유전율을 개선하기 위하여 하기 화학식 1 내지 3을 갖는 화합물로부터 선택되는 하나 또는 둘 이상의 시아네이트 에스테르계 수지 혼합물 20 내지 30중량부를 포함한다:The resin composition according to the present invention comprises 20 to 30 parts by weight of one or two or more cyanate ester resin mixtures selected from compounds having the following Chemical Formulas 1 to 3 to improve heat resistance and dielectric constant:

[화학식 1][Formula 1]

Figure 112009015620872-pat00004
Figure 112009015620872-pat00004

단, 식 중 n은 1-5의 정수이다.Wherein n is an integer of 1-5.

[화학식 2][Formula 2]

Figure 112009015620872-pat00005
Figure 112009015620872-pat00005

단, 식 중 n은 1-5의 정수이다.Wherein n is an integer of 1-5.

[화학식 3](3)

Figure 112009015620872-pat00006
Figure 112009015620872-pat00006

상기한 시아네이트 에스테르계 수지는 내열성과 열적 특성이 우수한 수지로서 단독으로 또는 둘 이상의 혼합물로 사용될 수 있다. 구체적인 예로서, 스위스 Lonza사의 PT-15, PT-30, PT-30S, PT-60, PT-60S, CT-90, BA-230S 등을 들 수 있다.The cyanate ester resin may be used alone or as a mixture of two or more resins having excellent heat resistance and thermal properties. Specific examples include PT-15, PT-30, PT-30S, PT-60, PT-60S, CT-90, BA-230S, etc. manufactured by Lonza, Switzerland.

시아네이트 에스테르계 수지는 수지 조성물의 총 중량을 기준으로 20~30중량부를 사용하는 것이 바람직하다. 시아네이트 에스테르계 수지가 30중량부를 초과하면 발열반응이 급속히 발생하여 반응을 조절하기 어렵고 제품 생산시 경제성이 떨어지며 20중량부 미만으로 첨가되는 경우, 의도하는 효과를 나타내지 않는다.It is preferable to use 20-30 weight part of cyanate ester resin based on the total weight of a resin composition. If the cyanate ester-based resin is more than 30 parts by weight exothermic reaction occurs rapidly it is difficult to control the reaction, economical during the production of the product is added when less than 20 parts by weight, does not show the intended effect.

(C) 다관능성 산무수물 (C) polyfunctional acid anhydrides

본 발명에 따른 수지 조성물은 에폭시 수지의 경화를 위하여 다관능성 산무수물 10~20중량부를 포함한다. 다관능성 산무수물의 함량이 10중량부 미만이면 내열성이 저하하고, 20중량부를 초과하면 미반응의 활성 수소기가 잔존해, 절연성이 저하된다. 다관능성 산무수물을 사용할 경우 내열성, 전기절연성, 기계적 강도 등을 향상시키는 효과가 얻어진다. The resin composition according to the present invention contains 10 to 20 parts by weight of a polyfunctional acid anhydride for curing the epoxy resin. If the content of the polyfunctional acid anhydride is less than 10 parts by weight, the heat resistance is lowered. If it is more than 20 parts by weight, unreacted active hydrogen groups remain and insulation is reduced. When the polyfunctional acid anhydride is used, the effect of improving heat resistance, electrical insulation, mechanical strength, and the like is obtained.

경화제로서 사용되는 다관능성 산무수물로는 피로메탈산 무수물, 벤조페논 테트라카르복실산 무수물, 에틸렌글리콜 비스 트리메탈산 무수물, 글리세롤 트리스 트리메탈산 무수물, 말레익메틸사이클로헥센 테트라카르복실산 무수물 등의 다관능성 산무수물을 단독으로 또는 2종 이상 혼합하여 사용하지만 이에 제한되는 것은 아니다. 구체적인 예로서 PMDA(Pyromethalic dianhydride), BTDA(Benzophenon tetracarboxylic dianhdride), TMEG(Ethylene glycol bis-trimethalic dianhydride), TMTA(Glycerol tris-trimethalic dianhydride), MCTC(5-(2,5 dioxo tetrahydropryle)-3-methyl-3-cyclohexene-1,2-dicarboxylic anhydride), TDA((2,5-dioxotetrahydrofuran-3-yl)-1,2,3,4-tetrahydronaphthalene-1,2-dicarboxylic anhydride), 제펜 에폭시 레진 (주)의 YH-308 등을 들 수 있다.As a polyfunctional acid anhydride used as a hardening | curing agent, pyrometallic anhydride, a benzophenone tetracarboxylic anhydride, ethylene glycol bis trimetalic anhydride, a glycerol tris trimetallic anhydride, maleic methylcyclohexene tetracarboxylic anhydride, etc. The polyfunctional acid anhydride may be used alone or in combination of two or more, but is not limited thereto. Specific examples include pythathalic dianhydride (PMDA), benzophenon tetracarboxylic dianhdride (BTDA), ethylene glycol bis-trimethalic dianhydride (TMEG), glycerin tris-trimethalic dianhydride (TMTA), and MCTC (5- (2,5 dioxo tetrahydropryle) -3-methyl -3-cyclohexene-1,2-dicarboxylic anhydride), TDA ((2,5-dioxotetrahydrofuran-3-yl) -1,2,3,4-tetrahydronaphthalene-1,2-dicarboxylic anhydride), zefen epoxy resin (Note ) YH-308 and the like.

(D) 무기 충전재(D) inorganic filler

본 발명에 따른 수지 조성물의 열팽창율을 낮추기 위하여 무기 충전재를 포함한다.An inorganic filler is included to lower the thermal expansion rate of the resin composition according to the present invention.

무기 충전재는 열팽창율을 낮추는 것으로 수지 조성물에 대한 함유 비율은 수지 조성물의 용도 등을 고려하여 요구되는 특성에 따라 다르지만, 수지 조성물 중 40~50중량부인 것이 바람직하다. 40중량부 미만이면, 열팽창율이 높아지며 50중량부 이상인 경우는 필강도가 저하하는 경향이 있다. 가장 바람직하기는, 무기 충전재의 함량이 전체 수지 조성물의 고형분에 대하여 40중량% 이상인 것이다.The inorganic filler lowers the coefficient of thermal expansion, and the content ratio to the resin composition depends on the properties required in consideration of the use of the resin composition and the like, but is preferably 40 to 50 parts by weight in the resin composition. If it is less than 40 weight part, a thermal expansion rate will become high and when it is 50 weight part or more, there exists a tendency for peeling strength to fall. Most preferably, the content of the inorganic filler is at least 40% by weight based on the solids of the entire resin composition.

무기 충전재의 예로는 실리카, 알루미나, 황산바륨, 탈크, 진흙, 운모가루, 수산화알루미늄, 수산화마그네슘, 탄산칼슘, 탄산마그네슘, 산화마그네슘, 질화 붕소, 붕산 알루미늄, 티탄산바륨, 티탄산칼슘, 티탄산마그네슘, 티탄산비스머스, 산화 티탄, 지르콘산바륨, 지르콘산칼슘 등을 단독으로 또는 2종 이상 혼합하여 사용한다. 특히 실리카가 바람직하다. 시판 중인 실리카 중 바람직한 제품은 SFP-20M, SFP-30M(이상 DENKA 사 제품), SO-E5(Admatechs) 등이 있다. Examples of inorganic fillers include silica, alumina, barium sulfate, talc, mud, mica powder, aluminum hydroxide, magnesium hydroxide, calcium carbonate, magnesium carbonate, magnesium oxide, boron nitride, aluminum borate, barium titanate, calcium titanate, magnesium titanate, and titanate Bismuth, titanium oxide, barium zirconate, calcium zirconate and the like are used alone or in combination of two or more thereof. Especially preferred is silica. Among the commercially available silicas, preferred products include SFP-20M, SFP-30M (from DENKA) and SO-E5 (Admatechs).

무기 충전재는 평균 입경이 5㎛를 넘는 경우, 도체층에 회로 패턴을 형성할 때 파인 패턴을 안정적으로 형성하는 것이 곤란하므로, 평균 입경은 5㎛ 이하의 것 이 바람직하다. When the inorganic filler has an average particle diameter of more than 5 µm, it is difficult to stably form a fine pattern when forming a circuit pattern in the conductor layer, so that the average particle diameter is preferably 5 µm or less.

또한, 무기 충전제는 내습성을 향상시키기 위해, 실란커플링제 등의 표면 처리제로 표면 처리되어 있는 것이 바람직하다.Moreover, in order to improve moisture resistance, it is preferable that the inorganic filler is surface-treated with surface treating agents, such as a silane coupling agent.

본 발명의 수지 조성물에는 상기 필수 성분(A) 내지 (D) 외에 본 발명의 효과를 저해하지 않는 범위에서, 열강화성 수지 또는 통상적인 첨가제를 적절한 함량으로 배합할 수 있다. 열강화성 수지로서는, 예를 들면, 블록 이소시아네이트 수지, 크실렌 수지, 래디칼 발생제와 중합성 수지 등을 들 수 있다. 첨가제로서는, 예를 들면 실리콘 파우더, 나일론 파우더, 불소 파우더 등의 유기 충전제, 오르벤, 벤톤 등의 증점제, 실리콘계, 불소계, 고분자계의 소포제 또는 레벨링제, 이미다졸계, 치아조르계, 트리아졸계, 실란커플링제 등의 밀착성 부여제 등 당업계에서 일반적으로 사용되는 첨가제를 들 수 있다.In addition to the above essential components (A) to (D), the resin composition of the present invention may be blended with a thermosetting resin or a conventional additive in an appropriate amount in a range not impairing the effects of the present invention. As a thermosetting resin, a block isocyanate resin, xylene resin, a radical generator, a polymeric resin, etc. are mentioned, for example. As an additive, For example, organic fillers, such as a silicone powder, nylon powder, and a fluorine powder, thickeners, such as orbene and benton, a silicone type, a fluorine type, a polymeric antifoamer or a leveling agent, an imidazole type, a zizor type | system | group, a triazole type, Additives generally used in the art, such as adhesive imparting agents, such as a silane coupling agent, are mentioned.

본 발명에 따른 수지 조성물은 상기 에폭시 수지(A) 성분을 메틸 에틸 케톤과 같은 케톤류, 방향족 탄화수소류, 글리콜 에테르류, 에스테르류, 알코올류, 지방족 탄화수소, 또는 석유계 용제와 같은 통상적인 유기 용제에서 교반하면서 가열 용해시킨 다음 실온까지 냉각한 후, 용해된 혼합물에 무기 충전재(D) 성분을 첨가하여 충분히 교반시킨 후 시아네이트 에스테르계 수지(B) 성분과 다관능성 산무수물(C) 성분을 첨가하여 제조한다.The resin composition according to the present invention comprises the epoxy resin (A) in a conventional organic solvent such as ketones, aromatic hydrocarbons, glycol ethers, esters, alcohols, aliphatic hydrocarbons, or petroleum solvents such as methyl ethyl ketone. After heating and dissolving with stirring and cooling to room temperature, an inorganic filler (D) component was added to the dissolved mixture, followed by sufficient stirring, followed by addition of a cyanate ester resin (B) component and a polyfunctional acid anhydride (C) component. Manufacture.

접착 필름의 제조Preparation of Adhesive Film

본 발명에 따른 수지 조성물을 유기용제에 용해한 다음, 이를 지지 베이스 필름 상에 도포하여 열풍에 의해 용제를 건조시켜 접착 필름을 제조할 수 있다. 두 께가 10~100㎛인 지지 베이스 필름에, 에폭시 수지 조성물층의 두께를 10~100㎛ 범위로 형성시킨다. 이 때 에폭시 수지 조성물층의 두께가 너무 얇으면 양호한 필값을 얻을 수가 없으며, 너무 두꺼우면 미세 회로를 형성하는데 어려움이 있다. 건조 후의 수지층의 잔류 용제량은 수지 조성물 전체 중량을 기준으로 5중량% 이하인 것이 바람직하다. The resin composition according to the present invention may be dissolved in an organic solvent, and then coated on a support base film to dry the solvent by hot air to prepare an adhesive film. The thickness of an epoxy resin composition layer is formed in the range of 10-100 micrometers in the support base film whose thickness is 10-100 micrometers. At this time, when the thickness of the epoxy resin composition layer is too thin, a good peel value cannot be obtained, and when too thick, there is a difficulty in forming a fine circuit. The residual solvent amount of the resin layer after drying is preferably 5% by weight or less based on the total weight of the resin composition.

지지 베이스 필름으로는 폴리에틸렌, 폴리프로필렌, 폴리염화비닐등의 폴리올레핀, 폴리에틸렌테레프탈레이트 등의 폴리에스테르, 폴리카보네이트, 폴리이미드 등을 사용한다. Polyolefin, such as polyethylene, polypropylene, and polyvinyl chloride, polyester, such as polyethylene terephthalate, a polycarbonate, polyimide, etc. are used as a support base film.

유기 용제로는 아세톤, 메틸 에틸 케톤, 시클로헥사논 등의 케톤류, 초산에틸, 초산부틸, 셀로솔브 아세테이트, 프로필렌 글리콜 모노메틸 에테르 아세테이트, 톨루엔, 크실렌 등의 방향족 탄화수소, 디메틸 폼 아미드, 디메틸 아세트아미드, N-메틸 피롤리돈 등을 단독 또는 2종 이상을 조합하여 사용할 수 있다.Organic solvents include ketones such as acetone, methyl ethyl ketone and cyclohexanone, ethyl acetate, butyl acetate, cellosolve acetate, aromatic hydrocarbons such as propylene glycol monomethyl ether acetate, toluene and xylene, dimethyl formamide, dimethyl acetamide, N-methyl pyrrolidone etc. can be used individually or in combination of 2 or more types.

다층 프린트 Multilayer printing 배선판의Wiring board 제조 Produce

본 발명의 접착 필름을, 보호 필름을 제거한 후 가압 및 가열하면서 가공된 회로 기판에 라미네이트한다. 라미네이트 공정은 압착 온도 90~120℃, 압착 압력 1~5kgf/㎠으로 하여 감압 하에서 적층하는 공정이다. 그 후 지지 필름을 박리한 후 가열 경화시킨다. 가열 경화는 150~220℃ 하에서 20분~180분의 범위에서 이루어지고, 바람직하기는 160~200℃ 하에서 30분~120분 동안 이루어지는 것이다.The adhesive film of the present invention is laminated on the processed circuit board while pressing and heating after removing the protective film. The lamination step is a step of laminating under reduced pressure at a compression temperature of 90 to 120 ° C. and a compression pressure of 1 to 5 kgf / cm 2. Thereafter, the support film is peeled off and then heat cured. Heat-hardening is made in the range of 20 minutes-180 minutes under 150-220 degreeC, Preferably it is made for 30 minutes-120 minutes under 160-200 degreeC.

가열 경화 후 회로 기판 상에 형성된 절연층에 천공을 실시해 비어홀, 스루홀을 형성한다. 구멍내기는 예를 들면, 드릴, 레이저, 플라스마 등의 공지의 방법 에 의해 실시할 수 있지만, 레이저에 의한 구멍 내기가 가장 일반적인 방법이다. After heat-hardening, a perforation is performed to the insulating layer formed on a circuit board, and a via hole and a through hole are formed. Although punching can be performed by well-known methods, such as a drill, a laser, and a plasma, for example, drilling by a laser is the most common method.

그 다음에 절연층 표면에 산화제를 처리하여 조화 처리를 실시한다. 산화제로서는 과망간산 소금(과망간산칼륨, 과망간산나트륨 등), 중크롬산염, 오존, 과산화 수소/황산, 초산 등을 들 수 있다. 알카리성 과망간산 용액(예를 들면 과망간산칼륨, 과망간산 나트륨의 수산화 나트륨 용액)을 이용해 조화 처리를 실시하는 것이 바람직하다. Then, the surface of the insulating layer is treated with an oxidizing agent to perform a roughening treatment. Examples of the oxidizing agent include salts of permanganate (such as potassium permanganate, sodium permanganate), dichromate, ozone, hydrogen peroxide / sulfuric acid, acetic acid, and the like. It is preferable to perform a roughening process using alkaline permanganate solution (for example, potassium permanganate, the sodium hydroxide solution of sodium permanganate).

그 후 조화 처리에 의해 요철의 앵커가 형성된 수지 조성물층 표면에, 무전해 도금과 전해 도금으로 도체층을 형성한다. 도체층 형성 후 150~200℃ 하에서 20~90분 간 어닐링 처리하면 도체층의 필강도를 한층 더 향상시킬 수 있다.Thereafter, the conductor layer is formed on the surface of the resin composition layer on which the uneven anchor is formed by the roughening treatment by electroless plating and electrolytic plating. After forming the conductor layer, the annealing treatment at 150 to 200 ° C. for 20 to 90 minutes may further improve the peel strength of the conductor layer.

이하 실시예를 나타내 본 발명을 구체적으로 설명하지만, 본 발명은 이것으로 한정되는 것은 아니다.Although an Example demonstrates this invention concretely below, this invention is not limited to this.

실시예Example

<실시예 1~4><Examples 1-4>

표 1의 실시예 1 내지 4에 기재된 조성에 따라 각 성분 및 경화촉진제를 메틸 에틸 케톤 용제 중에서 균일하게 혼합하여 수지 바니스를 제조했다. 수지 바니스를 코터에서 두께 38㎛의 폴레에틸렌 테레프탈레이트 필름 상에 도포하여, 건조 후 에폭시 수지의 두께가 40㎛가 되도록 하여 접착필름을 얻었다. 회로 형성된 회로 기판에 진공 라미네이터로 라미네이트 했다. 180℃에서 60분간 경화시킨 후 레이져로 비어 홀을 형성하고 과망간산칼륨으로 조화를 실시한 후 무전해도금과 전해 도금으로 도체층을 형성하였다. 도체의 밀착 강도를 안정화시키기 위해 190℃에서 60분간 어닐링 처리하였다.According to the composition of Examples 1-4 of Table 1, each component and hardening accelerator were mixed uniformly in the methyl ethyl ketone solvent, and the resin varnish was produced. The resin varnish was applied on a polyethylene terephthalate film having a thickness of 38 µm with a coater, and after drying, the thickness of the epoxy resin was 40 µm to obtain an adhesive film. The circuit board was laminated with a vacuum laminator. After curing at 180 ° C. for 60 minutes, a via hole was formed with a laser, roughened with potassium permanganate, and a conductor layer was formed by electroless plating and electroplating. Annealing treatment was performed at 190 ° C. for 60 minutes to stabilize the adhesion strength of the conductors.

<비교예 1~3><Comparative Examples 1 to 3>

표 1의 비교예 1 내지 3에 기재된 조성의 수지 조성물을 사용한 것을 제외하고는 실시예 1~4에 준하여 실시하였다.It carried out according to Examples 1-4 except having used the resin composition of the composition of the comparative examples 1-3 of Table 1.

(단위: 중량부)(Unit: parts by weight) 조성                Furtherance 실시예1Example 1 실시예2Example 2 실시예3Example 3 실시예4Example 4 비교예1Comparative Example 1 비교예2Comparative Example 2 비교예3Comparative Example 3 (A) 성분(A) component KDP-540(A1)            KDP-540 (A1) 15   15 16   16 10   10 10   10 FX-305(A2)             FX-305 (A2) 7.5   7.5 5    5 10   10 11   11 YX-8800(A2)            YX-8800 (A2) 30   30 비스페놀A타입 에폭시 수지(A2)    Bisphenol A type epoxy resin (A2) 62   62 12   12 테트라작용성 타입 에폭시수지(A2) Tetrafunctional Type Epoxy Resin (A2) 5    5 12   12 YL6954BH30(A2)           YL6954BH30 (A2) 15   15 R-45 EPT(A3)             R-45 EPT (A3) 7.5   7.5 12   12 YP-70(A3)               YP-70 (A3) 7    7 11   11 (B) 성분(B) component PT-15                PT-15 10   10 PT-30                PT-30 10   10 12   12 25   25 PT-30S                PT-30S 10   10 25   25 PT-60                PT-60 10   10 10   10 PT-60S                PT-60S 10   10 CT-90                CT-90 10   10 BA-230S                BA-230S 12   12 BA-200                BA-200 10   10 BA-230S75                BA-230S75 30   30 (C) 성분(C) component PMDA                PMDA 10   10 BTDA                BTDA 12   12 TMEG                TMEG 5   5 TMTA                TMTA 5   5 MCTC                MCTC 5    5 YH-308                YH-308 5    5 NMA                NMA 20   20 DICY                DICY 9    9 (D) 성분(D) component 실리카                Silica 42   42 40   40 40   40 43   43 25   25 0     0 6    6

<비고><Remarks>

KDP-540 : 국도화학(주), 난연 에폭시 수지KDP-540: Kukdo Chemical Co., Ltd.

FX-305 : 동도화성(주), 다관능 에폭시 수지FX-305: Dongdo Chemical Co., Ltd., polyfunctional epoxy resin

YX-8800 : 제펜에폭시레진 (주), 안트라센형 에폭시 수지YX-8800: Zefenepoxy Resin Co., Ltd., anthracene type epoxy resin

YL6954BH30 : 제펜에폭시레진 (주), 비페닐형 페녹시 수지 용액YL6954BH30: Zefenepoxy Resin Co., Ltd., biphenyl type phenoxy resin solution

R-45 EPT : 나가세 화성공업 (주), 고무변성에폭시수지 R-45 EPT: Nagase Chemical Industry Co., Ltd., rubber modified epoxy resin

YP-70 : 동도화성 (주), 페녹시 수지YP-70: Dongdo Chemical Co., Ltd., phenoxy resin

PT-15 : Lonza, 시아네이트 에스테르 수지PT-15: Lonza, Cyanate Ester Resin

PT-30 : Lonza, 시아네이트 에스테르 수지PT-30: Lonza, Cyanate Ester Resin

PT-30S : Lonza, 시아네이트 에스테르 수지PT-30S: Lonza, Cyanate Ester Resin

PT-60 : Lonza, 시아네이트 에스테르 수지PT-60: Lonza, Cyanate Ester Resin

PT-60S : Lonza, 시아네이트 에스테르 수지PT-60S: Lonza, Cyanate Ester Resins

CT-90 : Lonza, 시아네이트 에스테르 수지CT-90: Lonza, Cyanate Ester Resins

BA-230S : Lonza, 시아네이트 에스테르 수지BA-230S: Lonza, Cyanate Ester Resins

BA-230S75 : Lonza, 시아네이트 에스테르 수지BA-230S75: Lonza, Cyanate Ester Resins

PMDA : 미스비시 가스화학 (주), 피로메탈산 무수물PMDA: Mitsubishi Gas Chemical Co., Ltd., pyrometallic anhydride

BTDA : 다이셀화학 (주), 벤조페논 테트라카르복실산 무수물BTDA: Daicel Chemical Co., Ltd., Benzophenone tetracarboxylic anhydride

TMEG : 신일본이화 (주), 에틸렌글리콜 비스 트리메탈산 무수물TMEG: Nippon Ewha Co., Ltd., ethylene glycol bistrimetallic anhydride

TMTA : 신일본이화 (주), 글리세롤 트리스 트리메탈산 무수물TMTA: Nippon Ewha Co., Ltd., Glycerol Tris Trimetallic Anhydride

MCTC : 대일본화학잉크공업 (주), 말레익메틸사이클로헥센 테트라카르복실산 무수물MCTC: Nippon Chemical Ink Industry Co., Ltd., Maleic methylcyclohexene tetracarboxylic anhydride

YH-308 : 제펜 에폭시 레진 (주)YH-308: Zefen Epoxy Resin Co., Ltd.

NMA : 국도화학 (주), 무수메틸나딕산NMA: Kukdo Chemical Co., Ltd.

DICY : 국도화학 (주), 디시안디아미드DICY: Kukdo Chemical Co., Ltd., Dicyandiamide

실리카 : DENKA 사, SFP-20M Silica: DENKA, SFP-20M

실시예 1 내지 4 및 비교예 1 내지 3에서 얻어진 각 시편의 유리전이온도, 열팽창계수(CTE), 절연특성, 필강도, 및 난연성을 측정하고 그 결과를 표 2에 나타내었다. The glass transition temperature, thermal expansion coefficient (CTE), insulation properties, peel strength, and flame retardance of each specimen obtained in Examples 1 to 4 and Comparative Examples 1 to 3 were measured, and the results are shown in Table 2.

실시예1 Example 1 실시예2 Example 2 실시예3 Example 3 실시예4 Example 4 비교예1 Comparative Example 1 비교예2 Comparative Example 2 비교예3 Comparative Example 3 Tg(℃)      Tg (占 폚) 198   198 187   187 190   190 205   205 152   152 185   185 190   190 CTE(ppm)     CTE (ppm) 37    37 39    39 36    36 35    35 35    35 95    95 83    83 절연특성     Insulation properties o    o o    o o    o o    o o    o o    o o    o 필강도     Peel strength 7    7 8    8 6    6 6    6 7    7 4    4 3    3 난연성     Flammability V-0   V-0 V-0   V-0 V-0   V-0 V-0   V-0 V-1   V-1 V-0   V-0 V-0   V-0

<물성 측정 방법><Measurement method of physical property>

Tg : 유리 전이 온도(TMA법)Tg: glass transition temperature (TMA method)

CTE : 열팽창계수(TMA법)CTE: coefficient of thermal expansion (TMA method)

절연특성 : PCT(121℃, 100%, 2atm) 후 절연저항값 Insulation property: Insulation resistance value after PCT (121 ℃, 100%, 2atm)

○=1000㏁ 이상 ×=1000㏁ 미만           ○ = 1000 Hz or more × = 1000 Hz

필강도 : JIS-C-6481 (N/㎝)Peel Strength: JIS-C-6481 (N / cm)

난연성 : UL94V-0Flame Retardant: UL94V-0

상기 표 2에서 알 수 있듯이, 실시예 1~4의 본 발명에 따른 에폭시 수지 조성물을 이용하여 제조된 시편은 내열성, 절연 특성에 문제가 없고, 양호한 필값과 높은 유리 전이 온도를 나타내며, 낮은 열팽창율을 나타냄을 알 수 있다. 하지만 본 발명에 따른 조성을 갖지 않는 비교예 1의 시편은 필강도나 열팽창율은 양호한 반면 내열성과 난연성이 불충분했고, 비교예 2~3의 시편은 내열성은 양호하나 필강도가 불충분하였으며, 열팽창율이 높은 문제가 있었다.As can be seen in Table 2, the specimen prepared using the epoxy resin composition according to the present invention of Examples 1 to 4 has no problem in heat resistance and insulation properties, exhibits good peel value and high glass transition temperature, and has a low coefficient of thermal expansion. It can be seen that. However, the specimen of Comparative Example 1 having no composition according to the present invention had good peel strength or thermal expansion rate but insufficient heat resistance and flame retardancy, and the specimens of Comparative Examples 2-3 had good thermal resistance but insufficient peel strength and high thermal expansion rate. There was a problem.

Claims (7)

(A) 난연 에폭시 수지 10~20중량부, 다관능 에폭시 수지 5~15중량부, 및 고무변성 에폭시 수지, 페녹시 수지, 및 고무로부터 선택되는 1종 이상의 조화제 5~15중량부를 포함하는 에폭시 수지 20 내지 40중량부;(A) Epoxy comprising 10 to 20 parts by weight of a flame retardant epoxy resin, 5 to 15 parts by weight of a polyfunctional epoxy resin, and 5 to 15 parts by weight of at least one roughening agent selected from rubber-modified epoxy resins, phenoxy resins, and rubbers. 20 to 40 parts by weight of resin; (B) 하기 화학식 1 내지 3을 갖는 화합물로부터 선택되는 하나 또는 둘 이상의 시아네이트 에스테르계 수지 혼합물 20 내지 30중량부;(B) 20 to 30 parts by weight of one or two or more cyanate ester resin mixtures selected from compounds having the following Chemical Formulas 1 to 3; [화학식 1][Formula 1]
Figure 112009015620872-pat00007
Figure 112009015620872-pat00007
단, 식 중 n은 1-5의 정수이다.Wherein n is an integer of 1-5. [화학식 2][Formula 2]
Figure 112009015620872-pat00008
Figure 112009015620872-pat00008
단, 식 중 n은 1-5의 정수이다.Wherein n is an integer of 1-5. [화학식 3](3)
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(C) 다관능성 산무수물 10 내지 20중량부; 및 (C) 10 to 20 parts by weight of the multifunctional acid anhydride; And (D) 무기 충전재 40 내지 50중량부를 포함하여 이루어지는 에폭시 수지 조성물.(D) The epoxy resin composition containing 40-50 weight part of inorganic fillers.
제 1항에 있어서, 상기 다관능성 산무수물은 피로메탈산 무수물, 벤조페논 테트라카르복실산 무수물, 에틸렌글리콜 비스 트리메탈산 무수물, 글리세롤 트리스 트리메탈산 무수물, 말레익메틸사이클로헥센 테트라카르복실산 무수물을 포함하는 군으로부터 선택되는 1종 이상인 것을 특징으로 하는 에폭시 수지 조성물.2. The polyfunctional acid anhydride according to claim 1, wherein the polyfunctional acid anhydride is pyrometallic anhydride, benzophenone tetracarboxylic anhydride, ethylene glycol bistrimetallic anhydride, glycerol tris trimetallic anhydride, maleic methylcyclohexene tetracarboxylic anhydride Epoxy resin composition, characterized in that at least one selected from the group containing. 제 1항에 있어서, 상기 무기 충전제는 실리카, 알루미나, 황산바륨, 탈크, 진흙, 운모가루, 수산화알루미늄, 수산화마그네슘, 탄산칼슘, 탄산마그네슘, 산화마그네슘, 질화 붕소, 붕산 알루미늄, 티탄산바륨, 티탄산칼슘, 티탄산마그네슘, 티탄산비스머스, 산화 티탄, 지르콘산바륨, 및 지르콘산칼슘으로 이루어지는 군으로부터 선택되는 1종 이상의 충전제로서 직경이 5㎛ 이하인 것을 사용하는 것을 특징으로 하는 에폭시 수지 조성물.The method of claim 1, wherein the inorganic filler is silica, alumina, barium sulfate, talc, mud, mica powder, aluminum hydroxide, magnesium hydroxide, calcium carbonate, magnesium carbonate, magnesium oxide, boron nitride, aluminum borate, barium titanate, calcium titanate And an epoxy resin composition having a diameter of 5 µm or less as one or more fillers selected from the group consisting of magnesium titanate, bismuth titanate, titanium oxide, barium zirconate, and calcium zirconate. 제 3항에 있어서, 상기 무기 충전재의 함량이 수지 조성물의 고형분에 대하여 40중량% 이상인 것을 특징으로 하는 에폭시 수지 조성물.The epoxy resin composition according to claim 3, wherein the content of the inorganic filler is 40% by weight or more based on the solids content of the resin composition. 제 1항 내지 제 4항 중 어느 하나의 항에 따른 에폭시 수지 조성물을 지지 베이스 필름 상에 도포하여 형성되는 프린트 배선판용 접착 필름.The adhesive film for printed wiring boards formed by apply | coating the epoxy resin composition of any one of Claims 1-4 on a support base film. 제 1항 내지 제 4항 중 어느 하나의 항에 따른 에폭시 수지 조성물을 내층 회로가 형성된 동박층재상에 수지층으로서 형성해 열경화하는 공정;The step of thermosetting the epoxy resin composition of any one of Claims 1-4 as a resin layer on the copper foil layer material in which the inner layer circuit was formed; 수지층의 표면에 산화제의 수용액에 의한 조화제 처리에 의해 요철상의 조화면을 형성하는 공정; 및 Forming a roughened surface on the surface of the resin layer by a roughening agent treatment with an aqueous solution of an oxidizing agent; And 상기 조화면에 도체층을 형성하는 공정:Forming a conductor layer on the roughened surface: 을 포함하는 것을 특징으로 하는 다층 프린트 배선판의 제조 방법.Method for producing a multilayer printed wiring board comprising a. 제 1항 내지 제 4항 중 어느 하나의 항에 따른 에폭시 수지 조성물을 경화하여 얻어지는 다층 프린트 배선판.The multilayer printed wiring board obtained by hardening | curing the epoxy resin composition of any one of Claims 1-4.
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