JP2001302887A - Epoxy resin composition, metal foil with resin, and insulating film - Google Patents

Epoxy resin composition, metal foil with resin, and insulating film

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JP2001302887A
JP2001302887A JP2000124934A JP2000124934A JP2001302887A JP 2001302887 A JP2001302887 A JP 2001302887A JP 2000124934 A JP2000124934 A JP 2000124934A JP 2000124934 A JP2000124934 A JP 2000124934A JP 2001302887 A JP2001302887 A JP 2001302887A
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resin
epoxy resin
semi
metal foil
cured
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Hiroki Tamiya
裕記 田宮
Katsuhiko Ito
克彦 伊藤
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Matsushita Electric Works Ltd
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To obtain an epoxy resin composition scarcely causing cracking or peeling, etc., in a semicured state (B stage) and without making a resin residue remain in a cured state even when via holes are formed by carrying out perforation with laser beams. SOLUTION: This epoxy resin composition consists essentially of a novolak type epoxy resin and a cross-linked rubber having <=1 μm particle diameter. The amount of the novolak type epoxy resin contained therein is 20-80 pts.mass based on 100 pts.mass of the solid content.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、プリント配線板等
の製造に用いられるエポキシ樹脂組成物、樹脂付き金属
箔及び絶縁性フィルムに関するものである。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to an epoxy resin composition, a metal foil with resin, and an insulating film used for manufacturing a printed wiring board and the like.

【0002】[0002]

【従来の技術】近年、多層プリント配線板の製造には、
樹脂付き金属箔や絶縁性フィルムが広く利用されている
が、これらはそれぞれ以下のようにして作製され、使用
されているものである。
2. Description of the Related Art In recent years, in the production of multilayer printed wiring boards,
Metal foils with resin and insulating films are widely used, and these are produced and used as follows.

【0003】樹脂付き金属箔は、銅箔等の金属箔の片側
の表面にエポキシ樹脂組成物等の樹脂を塗布し、これを
半硬化することによって金属箔表面上に半硬化樹脂の層
を形成して作製される。そして、予め内層回路として回
路パターンが形成された内層用基板の片面あるいは両面
に、この樹脂付き金属箔の半硬化樹脂の層を重ね合わ
せ、これを加熱加圧して積層成形することによって、半
硬化樹脂を完全に硬化させて硬化樹脂とし、多層配線板
を製造することができる。その後、この多層配線板にレ
ーザーによる穴あけを行ってバイアホールを形成すると
共に、外側の金属箔にサブトラクティブ法等を行うこと
によって、外層回路として回路パターンを形成し、内層
回路と外層回路との導通がとられた多層プリント配線板
を製造することができるものである。
A resin-coated metal foil is formed by applying a resin such as an epoxy resin composition to one surface of a metal foil such as a copper foil and semi-curing the resin to form a semi-cured resin layer on the metal foil surface. It is produced. Then, a semi-cured resin layer of the resin-coated metal foil is superimposed on one or both sides of the inner layer substrate on which a circuit pattern has been formed as an inner layer circuit, and heated and pressed to form a semi-cured resin. The resin is completely cured to form a cured resin, and a multilayer wiring board can be manufactured. Thereafter, a laser hole is formed in the multilayer wiring board to form a via hole, and a subtractive method or the like is performed on the outer metal foil to form a circuit pattern as an outer layer circuit, thereby forming a circuit pattern between the inner layer circuit and the outer layer circuit. It is possible to manufacture a multilayer printed wiring board in which conduction has been achieved.

【0004】一方、絶縁性フィルムは、PETフィルム
等のキャリアーフィルムの表面にエポキシ樹脂組成物等
の樹脂を塗布し、これを半硬化することによってキャリ
アーフィルム上にフィルム状の半硬化樹脂を形成して作
製される。そして、上記と同様の内層用基板の片面ある
いは両面に、この絶縁性フィルムのフィルム状に形成さ
れた半硬化樹脂の面を重ね合わせ、これを加熱加圧して
積層成形することによって、半硬化樹脂を完全に硬化さ
せて硬化樹脂とし、多層配線板を製造することができ
る。その後、この多層配線板の外側を被覆しているキャ
リアーフィルムを剥がし、露出された硬化樹脂にレーザ
ーによる穴あけを行ってバイアホールを形成すると共
に、硬化樹脂の表面にアディティブ法等を行うことによ
って、外層回路として回路パターンを形成し、内層回路
と外層回路との導通がとられた多層プリント配線板を製
造することができるものである。
On the other hand, an insulating film is formed by applying a resin such as an epoxy resin composition to the surface of a carrier film such as a PET film and semi-curing the resin to form a film-like semi-cured resin on the carrier film. Produced. Then, the surface of the semi-cured resin formed in the form of a film of the insulating film is superimposed on one or both surfaces of the inner layer substrate similar to the above, and this is heated and pressed to form a laminate, thereby forming the semi-cured resin. Is completely cured to obtain a cured resin, whereby a multilayer wiring board can be manufactured. Thereafter, the carrier film covering the outside of the multilayer wiring board is peeled off, and the exposed cured resin is drilled with a laser to form a via hole, and by performing an additive method or the like on the surface of the cured resin, A circuit pattern is formed as an outer layer circuit, and a multilayer printed wiring board in which conduction between the inner layer circuit and the outer layer circuit is established can be manufactured.

【0005】しかしながら、上記のような樹脂付き金属
箔や絶縁性フィルムの半硬化樹脂は、一般的に脆弱であ
って、積層成形前の取扱い時に衝撃を与えてしまうと、
半硬化樹脂が割れたり剥がれたりして樹脂片や樹脂粉が
発生することがあった。そして、このように半硬化樹脂
が損傷した樹脂付き金属箔等を使用して製造された多層
プリント配線板は、半硬化樹脂の損傷箇所が空洞となっ
て内層回路と外層回路との間の絶縁性が低下するという
問題があった。
[0005] However, the above-mentioned semi-cured resin such as resin-coated metal foil and insulating film is generally fragile, and when subjected to an impact during handling before lamination molding,
In some cases, the semi-cured resin was cracked or peeled off to generate resin pieces or resin powder. The multilayer printed wiring board manufactured using the resin-coated metal foil or the like in which the semi-cured resin is damaged as described above has a problem that the damaged portion of the semi-cured resin becomes a cavity and the insulation between the inner layer circuit and the outer layer circuit is reduced. There is a problem that the property is reduced.

【0006】さらに、先に発生した樹脂粉等が、積層成
形前の樹脂付き金属箔の金属箔の表面に付着してしまう
と、製造される多層配線板の金属箔の表面上に微細な硬
化樹脂が形成される。このような多層配線板の金属箔に
エッチング等を行って回路パターンを形成すると、硬化
樹脂が形成された箇所は除去されずに残ってしまい、こ
の箇所が本来除去すべき箇所であったとすると、製造さ
れる多層プリント配線板において回路パターン間にショ
ート不良が発生し、歩留まりが低下するものである。
Further, if resin powder or the like generated before adheres to the surface of the metal foil of the resin-attached metal foil before lamination molding, fine hardening occurs on the surface of the metal foil of the multilayer wiring board to be manufactured. A resin is formed. When a circuit pattern is formed by performing etching or the like on the metal foil of such a multilayer wiring board, a portion where the cured resin is formed remains without being removed, and if this portion is a portion that should be originally removed, Short circuit failure occurs between circuit patterns in a manufactured multilayer printed wiring board, and the yield is reduced.

【0007】そこで、上記の樹脂付き金属箔等の半硬化
樹脂を形成するエポキシ樹脂組成物等に、可塑性を付与
する成分として非架橋ゴムやフェノキシ樹脂を配合する
ことによって、半硬化樹脂に柔軟性をもたせ、割れ(ク
ラック)や剥がれ等の損傷を回避することが検討されて
いる。
[0007] Therefore, by adding a non-crosslinked rubber or a phenoxy resin as a component for imparting plasticity to an epoxy resin composition or the like that forms a semi-cured resin such as a metal foil with a resin, the semi-cured resin has flexibility. To avoid damages such as cracks and peeling.

【0008】[0008]

【発明が解決しようとする課題】ところが、半硬化樹脂
に非架橋ゴムが配合された樹脂付き金属箔等は、半硬化
樹脂の割れ(クラック)や剥がれ等が発生し難くなって
はいるものの、このような半硬化状態(B−ステージ)
においてタッキング(軽い力で短時間に粘着する性質)
が生ずるため、積層成形前の取扱い時に、異なる樹脂付
き金属箔等の半硬化樹脂同士や、半硬化樹脂と金属箔と
が不用意に密着してしまうという問題があった。
However, in the case of a metal foil with a resin in which a non-crosslinked rubber is blended with a semi-cured resin, cracks and peeling of the semi-cured resin are less likely to occur. Such semi-cured state (B-stage)
Tacking on (the property of sticking in a short time with a light force)
Therefore, there is a problem that semi-cured resins such as metal foils with different resins or the semi-cured resin and the metal foil are inadvertently adhered to each other during handling before lamination molding.

【0009】一方、半硬化樹脂にフェノキシ樹脂が配合
されたものも、半硬化樹脂の割れ(クラック)や剥がれ
等が発生し難くなってはいるが、この半硬化樹脂が完全
硬化した硬化樹脂はレーザー加工によって樹脂残渣が発
生し易くなっており、レーザーによって穴あけを行って
バイアホールを形成すると、レーザー加工後に穴の内部
に発生した樹脂残渣が原因で導通不良が起こるという問
題もあった。
On the other hand, in the case of a semi-cured resin in which a phenoxy resin is blended, the semi-cured resin is hardly cracked or peeled off. Resin residues are easily generated by laser processing, and when a via hole is formed by drilling with a laser, there is also a problem that poor conduction occurs due to the resin residues generated inside the holes after laser processing.

【0010】本発明は上記の点に鑑みてなされたもので
あり、半硬化状態(B−ステージ)においては、割れ
(クラック)や剥がれ等が発生し難くなると共に、タッ
キングを示さず、また硬化状態においては、レーザーに
よる穴あけを行ってバイアホールを形成しても樹脂残渣
の残らないエポキシ樹脂組成物、さらにこれを使用して
作製される樹脂付き金属箔及び絶縁性フィルムを提供す
ることを目的とするものである。
The present invention has been made in view of the above points. In a semi-cured state (B-stage), cracks and peeling are less likely to occur, and no tacking is exhibited. In the state, an object is to provide an epoxy resin composition in which a resin residue does not remain even when a via hole is formed by drilling with a laser, and a resin-coated metal foil and an insulating film produced using the same. It is assumed that.

【0011】[0011]

【課題を解決するための手段】本発明の請求項1に係る
エポキシ樹脂組成物は、ノボラック型エポキシ樹脂、粒
子径が1μm以下の架橋ゴムを必須成分として含有し、
ノボラック型エポキシ樹脂を固形分100質量部に対し
て20〜80質量部含有して成ることを特徴とするもの
である。
The epoxy resin composition according to claim 1 of the present invention contains a novolak type epoxy resin and a crosslinked rubber having a particle diameter of 1 μm or less as essential components,
A novolak type epoxy resin is contained in an amount of 20 to 80 parts by mass based on 100 parts by mass of a solid content.

【0012】また請求項2の発明は、ノボラック型エポ
キシ樹脂、粒子径が1μm以下の架橋ゴム、ポリビニル
アセタール樹脂を必須成分として含有し、ノボラック型
エポキシ樹脂を固形分100質量部に対して20〜80
質量部含有して成ることを特徴とするものである。
Further, the invention according to claim 2 comprises a novolak type epoxy resin, a crosslinked rubber having a particle diameter of 1 μm or less, and a polyvinyl acetal resin as essential components. 80
It is characterized by containing by mass.

【0013】また本発明の請求項3に係る樹脂付き金属
箔は、請求項1又は2に記載のエポキシ樹脂組成物を金
属箔の表面に塗布し、半硬化して成ることを特徴とする
ものである。
According to a third aspect of the present invention, there is provided a metal foil with a resin, wherein the epoxy resin composition according to the first or second aspect is applied to the surface of the metal foil and is semi-cured. It is.

【0014】また本発明の請求項4に係る絶縁性フィル
ムは、請求項1又は2に記載のエポキシ樹脂組成物を半
硬化して成ることを特徴とするものである。
Further, an insulating film according to a fourth aspect of the present invention is characterized in that the epoxy resin composition according to the first or second aspect is semi-cured.

【0015】[0015]

【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態を説明
する。
Embodiments of the present invention will be described below.

【0016】本発明においてエポキシ樹脂としては、ノ
ボラック型エポキシ樹脂を用いるものであり、具体的に
は、クレゾールノボラック型エポキシ樹脂、フェノール
ノボラック型エポキシ樹脂等を例示することができる。
さらにノボラック型エポキシ樹脂以外の樹脂も併用する
ことができ、このような樹脂として、臭素化ビスフェノ
ールA型エポキシ樹脂、ビスフェノールF型エポキシ樹
脂等を例示することができる。
In the present invention, as the epoxy resin, a novolak type epoxy resin is used, and specific examples thereof include a cresol novolak type epoxy resin and a phenol novolak type epoxy resin.
Further, a resin other than the novolak type epoxy resin can be used in combination. Examples of such a resin include a brominated bisphenol A type epoxy resin and a bisphenol F type epoxy resin.

【0017】上記のノボラック型エポキシ樹脂は、後述
するエポキシ樹脂組成物において、このエポキシ樹脂組
成物中の固形分100質量部に対して20〜80質量部
含有するものである。含有量が20質量部未満である
と、レーザーによって加工した穴の内部に硬化樹脂の樹
脂残渣が残り、バイアホール(多層プリント配線板等の
IVHを含む)の導通信頼性が低下するものである。逆
に含有量が80質量部を超えると、レーザーによって加
工した穴の内周面の硬化樹脂がデスミア処理により粗化
され難くなり、穴の内周面の硬化樹脂と、銅等のめっき
との密着強度を十分に得ることができなくなって、バイ
アホールの導通信頼性が低下するものである。
The novolak type epoxy resin contains 20 to 80 parts by mass based on 100 parts by mass of the solid content in the epoxy resin composition described later. If the content is less than 20 parts by mass, a resin residue of the cured resin remains inside the hole processed by the laser, and the conduction reliability of the via hole (including the IVH of a multilayer printed wiring board or the like) is reduced. . Conversely, when the content exceeds 80 parts by mass, the hardened resin on the inner peripheral surface of the hole processed by the laser becomes difficult to be roughened by desmear treatment, and the hardened resin on the inner peripheral surface of the hole and the plating of copper or the like. As a result, sufficient adhesion strength cannot be obtained, and the conduction reliability of the via hole decreases.

【0018】また本発明において架橋ゴムとしては、粒
子径が1μm以下の微粒子ゴムであれば特に制限される
ものではないが、粒子径の下限値としては、0.01μ
mであり、具体的には、ブタジエン−アクリロニトリル
共重合ゴム、アクリロニトリルゴム等を例示することが
できる。このような架橋ゴムは、後述するエポキシ樹脂
組成物において、樹脂100質量部に対して1〜20質
量部含有するのが好ましく、これによってエポキシ樹脂
組成物が半硬化状態(B−ステージ)において良好な柔
軟性を有することができると共に、タッキングを示さな
くなるものである。なお、架橋ゴムの代わりに非架橋ゴ
ムを用いると、半硬化状態(B−ステージ)においてタ
ッキングを示したり、ガラス転移温度(Tg)が低下し
たりすることとなり、また粒子径が1μmを超える架橋
ゴムを用いると、後述するワニス中で凝集が起こり、乾
燥後も凝集したゴムが残って回路パターンの形成に支障
が生ずるものである。
In the present invention, the crosslinked rubber is not particularly limited as long as it is a fine particle rubber having a particle diameter of 1 μm or less, but the lower limit of the particle diameter is 0.01 μm.
m, and specific examples thereof include butadiene-acrylonitrile copolymer rubber and acrylonitrile rubber. Such a crosslinked rubber is preferably contained in the epoxy resin composition described later in an amount of 1 to 20 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the resin, whereby the epoxy resin composition is good in a semi-cured state (B-stage). In addition to having high flexibility, tacking does not occur. When a non-crosslinked rubber is used instead of the crosslinked rubber, tacking occurs in a semi-cured state (B-stage), the glass transition temperature (Tg) decreases, and a crosslinked rubber having a particle diameter exceeding 1 μm is used. When rubber is used, agglomeration occurs in a varnish described later, and the agglomerated rubber remains even after drying, which hinders the formation of a circuit pattern.

【0019】さらに上記の成分の他に、ポリビニルアセ
タール樹脂を添加するのが好ましい。このときのポリビ
ニルアセタール樹脂は、後述するエポキシ樹脂組成物に
おいて、樹脂100質量部に対して1〜20質量部含有
するのが好ましく、これによって半硬化状態(B−ステ
ージ)におけるエポキシ樹脂組成物の柔軟性をさらに高
め、割れ(クラック)や剥がれ等が発生し難くなるもの
である。
It is preferable to add a polyvinyl acetal resin in addition to the above components. The polyvinyl acetal resin at this time is preferably contained in the epoxy resin composition described below in an amount of 1 to 20 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the resin, whereby the epoxy resin composition in a semi-cured state (B-stage) is obtained. Flexibility is further enhanced, and cracks and peeling are less likely to occur.

【0020】また本発明において硬化剤としては、特に
制限されるものではなく、一般的なエポキシ樹脂の硬化
剤であるジシアンジアミド、フェノールノボラック、酸
無水物(無水トリメリット酸)等を例示することができ
る。
In the present invention, the curing agent is not particularly limited, and examples thereof include dicyandiamide, phenol novolak, and acid anhydrides (trimellitic anhydride), which are general curing agents for epoxy resins. it can.

【0021】さらに必要に応じて、硬化促進剤その他の
添加剤を使用することができる。ここで硬化促進剤とし
ては、2−エチル−4−メチルイミダゾール、2−メチ
ルイミダゾール、2−フェニル−4−メチルイミダゾー
ル等のイミダゾール類、ジメチルベンジルアミン、トリ
エチレンジアミン、ベンジルジメチルアミン、トリエタ
ノールアミン等のアミン類、トリフェニルホスフィン、
ジフェニルホスフィン、フェニルホスフィン等の有機ホ
スフィン類、テトラフェニルホスホニウム・エチルトリ
フェニルボレート等のテトラ置換ホスホニウム・テトラ
置換ボレート、2−エチル−4−メチルイミダゾール・
テトラフェニルボレート等のテトラフェニルボロン塩を
例示することができる。
Further, if necessary, a curing accelerator and other additives can be used. Examples of the curing accelerator include imidazoles such as 2-ethyl-4-methylimidazole, 2-methylimidazole, 2-phenyl-4-methylimidazole, dimethylbenzylamine, triethylenediamine, benzyldimethylamine, and triethanolamine. Amines, triphenylphosphine,
Organic phosphines such as diphenylphosphine and phenylphosphine; tetra-substituted phosphonium / tetra-substituted borate such as tetraphenylphosphonium / ethyltriphenylborate; 2-ethyl-4-methylimidazole;
Tetraphenylboron salts such as tetraphenylborate can be exemplified.

【0022】そして、本発明に係るエポキシ樹脂組成物
は、上記のノボラック型エポキシ樹脂、粒子径が1μm
以下の架橋ゴムを必須成分とし、さらに必要に応じてポ
リビニルアセタール樹脂、硬化剤その他の添加剤を配合
し、これをミキサー、ブレンダー等で均一に混合するこ
とによって調製することができ、樹脂付き金属箔や絶縁
性フィルムの作製においてワニスとして使用されるもの
である。なお、この調製は、メチルエチルケトン(ME
K)、メトキシプロパノール(MP)、ジメチルフォル
ムアミド(DMF)等の溶媒を用いて行ったり、あるい
は溶媒を用いずに行ったりすることができる。
The epoxy resin composition according to the present invention comprises the novolak type epoxy resin described above and a particle diameter of 1 μm.
The following crosslinked rubber is used as an essential component, and if necessary, a polyvinyl acetal resin, a curing agent, and other additives are blended, and the mixture is uniformly mixed with a mixer, a blender, or the like. It is used as a varnish in the production of foils and insulating films. Note that this preparation was performed using methyl ethyl ketone (ME
It can be carried out using a solvent such as K), methoxypropanol (MP), dimethylformamide (DMF) or the like, or without using a solvent.

【0023】また、本発明に係る樹脂付き金属箔は、コ
ンマコーター、転写コーター、カーテンコーター、ダイ
コーター等を用いて、銅箔、アルミニウム箔等の金属箔
の片側の表面に、上記のエポキシ樹脂組成物を塗布し、
これを連続的又は非連続的に加熱乾燥して半硬化状態
(B−ステージ)とすることによって、金属箔の片側の
表面上に半硬化樹脂の層が形成されたものとして作製す
ることができる。ここで、金属箔や金属箔の表面に形成
される半硬化樹脂の層の厚みは、適宜選定することがで
きるが、金属箔の厚みは8〜80μm、半硬化樹脂の層
の厚みは20〜200μmが一般的である。
The metal foil with resin according to the present invention may be obtained by coating the above-mentioned epoxy resin on one surface of a metal foil such as a copper foil or an aluminum foil using a comma coater, a transfer coater, a curtain coater, a die coater or the like. Apply the composition,
By heating and drying this in a semi-cured state (B-stage) by heating it continuously or discontinuously, it is possible to produce a metal foil having a semi-cured resin layer formed on one surface. . Here, the thickness of the metal foil or the semi-cured resin layer formed on the surface of the metal foil can be appropriately selected, but the thickness of the metal foil is 8 to 80 μm, and the thickness of the semi-cured resin layer is 20 to 200 μm is common.

【0024】一方、本発明に係る絶縁性フィルムは、コ
ンマコーター、転写コーター、カーテンコーター、ダイ
コーター等を用いて、PETフィルム等のキャリアーフ
ィルムに、上記のエポキシ樹脂組成物を塗布し、これを
連続的又は非連続的に加熱乾燥して半硬化状態(B−ス
テージ)とすることによって、キャリアーフィルム上に
フィルム状の半硬化樹脂が形成されたものとして作製す
ることができる。ここで、キャリアーフィルムの表面に
形成されるフィルム状の半硬化樹脂の厚みは、適宜選定
することができるが、一般的には30〜100μmであ
る。
On the other hand, the insulating film according to the present invention is obtained by applying the above-mentioned epoxy resin composition to a carrier film such as a PET film using a comma coater, a transfer coater, a curtain coater, a die coater or the like. By heating and drying continuously or discontinuously to obtain a semi-cured state (B-stage), it is possible to produce a film in which a semi-cured resin is formed on a carrier film. Here, the thickness of the film-like semi-cured resin formed on the surface of the carrier film can be appropriately selected, and is generally 30 to 100 μm.

【0025】このようにして得られる樹脂付き金属箔や
絶縁性フィルムにあって、エポキシ樹脂組成物は、粒子
径が1μm以下の架橋ゴムを配合し、さらにポリビニル
アセタール樹脂が配合してあるために、樹脂付き金属箔
や絶縁性フィルムの半硬化樹脂は柔軟性が高められてお
り、樹脂付き金属箔や絶縁性フィルムを取扱うにあたっ
て、半硬化樹脂が割れたり剥がれたりすることがなくな
り、樹脂粉等の発生を低減することができると共に、タ
ッキングの発生を防止することができるものである。ま
たこのエポキシ樹脂組成物は、ノボラック型エポキシ樹
脂が前述した含有量配合してあるために、このエポキシ
樹脂組成物が完全硬化した硬化樹脂はレーザー加工によ
り樹脂残渣が発生し難くなっており、後述する多層配線
板にレーザーによる穴あけを行っても穴の内部に樹脂残
渣が残らなくなり、導通性の良好なバイアホールを得る
ことができるものである。
In the thus obtained resin-coated metal foil or insulating film, the epoxy resin composition contains a crosslinked rubber having a particle diameter of 1 μm or less, and further contains a polyvinyl acetal resin. The flexibility of semi-cured resin of resin-coated metal foil and insulating film is enhanced, and when handling metal foil with resin and insulating film, the semi-cured resin does not break or peel off, and resin powder etc. And the occurrence of tacking can be prevented. In addition, since the epoxy resin composition contains the novolak-type epoxy resin in the above-described content, the cured resin in which the epoxy resin composition is completely cured is less likely to generate a resin residue by laser processing. Even when laser drilling is performed on the multilayer wiring board, no resin residue remains inside the hole, and a via hole having good conductivity can be obtained.

【0026】上記の樹脂付き金属箔の使用例としては、
予め内層回路として回路パターンが形成された内層用基
板の片面あるいは両面に、樹脂付き金属箔の半硬化樹脂
の層を重ね合わせ、これを加熱加圧して半硬化樹脂を完
全に硬化させて硬化樹脂とし、積層成形することによっ
て多層プリント配線板に加工するための多層配線板を製
造することができる。その後、この多層配線板の片面あ
るいは両面に積層された樹脂付き金属箔の金属箔にサブ
トラクティブ法等によって回路パターンを形成して外層
回路を設けると共に、レーザーによる穴あけを行い、銅
等のめっき処理を施してバイアホールを形成することに
より、多層プリント配線板を製造することができるもの
である。
Examples of the use of the above metal foil with resin include:
A semi-cured resin layer of metal foil with resin is overlaid on one or both sides of the inner layer substrate on which a circuit pattern has been formed as an inner layer circuit in advance, and this is heated and pressed to completely cure the semi-cured resin and cure the resin. Then, a multilayer wiring board for processing into a multilayer printed wiring board can be manufactured by laminating and molding. Then, a circuit pattern is formed on the metal foil of the resin-coated metal foil laminated on one or both surfaces of the multilayer wiring board by a subtractive method or the like, and an outer layer circuit is provided. To form a via hole, whereby a multilayer printed wiring board can be manufactured.

【0027】一方、上記の絶縁性フィルムの使用例とし
ては、予め内層回路として回路パターンが形成された内
層用基板の片面あるいは両面に、絶縁性フィルムの半硬
化樹脂を重ね合わせ、これを加熱加圧して半硬化樹脂を
完全に硬化させて硬化樹脂とし、積層成形することによ
って多層プリント配線板に加工するための多層配線板を
製造することができる。その後、この多層配線板の片面
あるいは両面に積層された絶縁性フィルムを被覆してい
る外側のキャリアーフィルムを剥がし、露出された硬化
樹脂の表面にアディティブ法等によって回路パターンを
形成して外層回路を設けると共に、レーザーによる穴あ
けを行い、銅等のめっき処理を施してバイアホールを形
成することにより、多層プリント配線板を製造すること
ができるものである。
On the other hand, as an example of the use of the above-mentioned insulating film, a semi-cured resin of an insulating film is superimposed on one or both sides of an inner layer substrate on which a circuit pattern is formed as an inner layer circuit, and this is heated and heated. By pressing the semi-cured resin to completely cure the cured resin to form a cured resin, and laminating and molding, a multilayer wiring board for processing into a multilayer printed wiring board can be manufactured. Thereafter, the outer carrier film covering the insulating film laminated on one or both sides of the multilayer wiring board is peeled off, and a circuit pattern is formed on the exposed surface of the cured resin by an additive method or the like to form an outer layer circuit. The multilayer printed wiring board can be manufactured by forming a via hole by performing drilling with a laser and performing plating treatment with copper or the like while forming the hole.

【0028】このように多層配線板を加工して多層プリ
ント配線板を製造するにあたって、多層配線板は上記の
樹脂付き金属箔や絶縁性フィルムからなっているため
に、硬化樹脂内に空洞が発生するような問題や、回路パ
ターンを形成する際のエッチング等で除去すべき金属箔
が残存するような問題がなくなり、絶縁性の低下やショ
ート不良などを未然に防ぐことができるものである。さ
らにレーザーによる穴あけを行ってバイアホールを形成
するにあたって、多層配線板は上記の樹脂付き金属箔や
絶縁性フィルムからなっているために、レーザー加工後
の穴の内部に樹脂残渣が残らなくなり、導通性の良好な
バイアホールを得ることができ、多層プリント配線板の
信頼性を高めることができるものである。
In manufacturing a multilayer printed wiring board by processing the multilayer wiring board in this way, since the multilayer wiring board is made of the above-mentioned resin-coated metal foil or insulating film, voids are generated in the cured resin. This eliminates the problem that the metal foil to be removed by etching or the like at the time of forming a circuit pattern remains, and the deterioration of insulation properties and short-circuit failure can be prevented. Furthermore, in forming via holes by laser drilling, since the multilayer wiring board is made of the above-mentioned resin-coated metal foil and insulating film, no resin residue remains inside the holes after laser processing and conduction This makes it possible to obtain a via hole having good performance and improve the reliability of the multilayer printed wiring board.

【0029】[0029]

【実施例】以下、本発明を実施例によって具体的に説明
する。
The present invention will be specifically described below with reference to examples.

【0030】エポキシ樹脂として、臭素化ビスフェノー
ルA型エポキシ樹脂(東都化成社製「YDB−50
0」:エポキシ当量500、臭素化率約24質量%)、
クレゾールノボラック型エポキシ樹脂(東都化成社製
「YDCN−220」:エポキシ当量220、臭素化率
約24質量%)を用いた。
As the epoxy resin, a brominated bisphenol A type epoxy resin ("YDB-50" manufactured by Toto Kasei Co., Ltd.)
0 ": epoxy equivalent 500, bromination ratio about 24 mass%),
Cresol novolak type epoxy resin ("YDCN-220" manufactured by Toto Kasei Co., Ltd .: epoxy equivalent 220, bromination ratio about 24 mass%) was used.

【0031】また微粒子ゴムとして、ブタジエン−アク
リロニトリル共重合ゴムの架橋ゴム(JSR社製「XE
R−91」:粒子径0.5μm以下)、ブタジエン−ア
クリロニトリル共重合ゴムの架橋ゴム(JSR社製「X
ER−81」:粒子径12μm)、非架橋ゴム(JSR
社製「N220S」:粒子径5μm)を用いた。
As the fine particle rubber, a crosslinked rubber of butadiene-acrylonitrile copolymer rubber (“XE” manufactured by JSR Corporation) is used.
R-91: particle size 0.5 μm or less), butadiene-acrylonitrile copolymer rubber crosslinked rubber (“X” manufactured by JSR Corporation)
ER-81 ": particle diameter 12 μm), non-crosslinked rubber (JSR
"N220S": particle size 5 m).

【0032】またポリビニルアセタール樹脂として、電
機化学工業社製「6000AS」を用いた。
As the polyvinyl acetal resin, "6000AS" manufactured by Denki Kagaku Kogyo KK was used.

【0033】さらに硬化剤として、ジシアンジアミド
(分子量84、理論活性水素当量21)、硬化促進剤と
して、2−エチル−4−メチルイミダゾール、溶媒とし
て、メチルエチルケトン(MEK)、メトキシプロパノ
ール(MP)、ジメチルフォルムアミド(DMF)を用
いた。 <エポキシ樹脂組成物のワニスの調製>予めジメチルフ
ォルムアミド(DMF)に約15質量%で均一に分散し
た微粒子ゴムと、その他の成分を表1〜表3の配合量で
所定の溶媒(固形分100質量部に対して、メチルエチ
ルケトン(MEK)を40質量部、メトキシプロパノー
ル(MP)を20質量部、ジメチルホルムアミド(DM
F)を40質量部混合して調製した溶媒)に投入し、特
殊機化工工業社製「ホモミキサー」で、約1000rp
mにて約90分間混合した。その後、硬化促進剤(2−
エチル−4−メチルイミダゾール)を配合し、再度約1
5分間撹拌し、その後脱気して、25℃で約500〜1
000poiseのエポキシ樹脂組成物のワニスを調製
した。 <樹脂付き金属箔の作製>金属箔として、厚み0.01
8mmの銅箔(古河サーキットフォイル社製「GT」)
を使用し、この銅箔の粗化面に上記のようにして調製し
たエポキシ樹脂組成物のワニスを室温にてコンマコータ
ーで塗布し、その後、非接触タイプの加熱ユニットによ
り、約130〜170℃で加熱することにより、ワニス
中の溶媒を乾燥除去し、エポキシ樹脂組成物を半硬化さ
せることによって、半硬化樹脂の層の厚みが75〜85
μmの樹脂付き金属箔を作製した。 <絶縁性フィルムの作製>キャリアーフィルムとして、
厚み0.035mmのPETフィルムを使用し、このP
ETフィルムに上記のようにして調製したエポキシ樹脂
組成物のワニスを室温にてコンマコーターで塗布し、そ
の後、非接触タイプの加熱ユニットにより、約130〜
170℃で加熱することにより、ワニス中の溶媒を乾燥
除去し、エポキシ樹脂組成物を半硬化させることによっ
て、半硬化樹脂の厚みが75〜85μmの絶縁性フィル
ムを作製した。 <評価項目> 1.ワニス中ゴム凝集 ワニス中における微粒子ゴムの凝集の有無を目視により
調べた。 2.樹脂割れ角度 まず、上記のようにして作製した樹脂付き金属箔1を幅
10mmに切断し、図1に示すように、金属箔側を外側
にして平板3上に載置すると共に、この上に円柱棒4
(直径10mm)を樹脂付き金属箔1の長手方向と略直
交するように載置して固定した。次に円柱棒4を介して
樹脂付き金属箔1の一方を平板3に当接させたまま固定
し、他方を円柱棒4に巻き付けるようにして樹脂付き金
属箔1を矢印の向きに曲げていき、半硬化樹脂に割れ
(クラック)等が発生する最低角度θ(度)を測定し、
これを樹脂割れ角度とした。
Further, dicyandiamide (molecular weight 84, theoretically active hydrogen equivalent 21) as a curing agent, 2-ethyl-4-methylimidazole as a curing accelerator, methyl ethyl ketone (MEK), methoxypropanol (MP), dimethylform as a solvent Amide (DMF) was used. <Preparation of Varnish of Epoxy Resin Composition> A fine particle rubber previously dispersed uniformly in dimethylformamide (DMF) at about 15% by mass and other components are mixed in a prescribed solvent (solid content) in the amounts shown in Tables 1 to 3. 40 parts by mass of methyl ethyl ketone (MEK), 20 parts by mass of methoxypropanol (MP), and dimethylformamide (DM
F) was added to a solvent prepared by mixing 40 parts by mass), and the mixture was mixed at about 1000 rpm with a “Homomixer” manufactured by Tokushu Kika Kogyo Co., Ltd.
m for about 90 minutes. Then, the curing accelerator (2-
Ethyl-4-methylimidazole) and add about 1
Stir for 5 minutes, then degas, at 500C for about 500-1
A varnish of 000 poise epoxy resin composition was prepared. <Preparation of metal foil with resin> A thickness of 0.01 as a metal foil
8mm copper foil ("GT" manufactured by Furukawa Circuit Foil)
Varnish of the epoxy resin composition prepared as described above is applied to the roughened surface of the copper foil with a comma coater at room temperature, and then, by a non-contact type heating unit, about 130 to 170 ° C. The solvent in the varnish is dried and removed by heating the epoxy resin composition, and the thickness of the semi-cured resin layer is 75 to 85.
A metal foil with a resin of μm was produced. <Preparation of insulating film> As a carrier film,
Using a PET film having a thickness of 0.035 mm,
A varnish of the epoxy resin composition prepared as described above is applied to the ET film at room temperature with a comma coater, and thereafter, by a non-contact type heating unit, about 130 to
By heating at 170 ° C., the solvent in the varnish was dried and removed, and the epoxy resin composition was semi-cured, whereby a semi-cured resin having a thickness of 75 to 85 μm was produced. <Evaluation items> 1. Rubber agglomeration in varnish The presence or absence of aggregation of the fine particle rubber in the varnish was visually inspected. 2. Resin crack angle First, the resin-attached metal foil 1 prepared as described above is cut into a width of 10 mm, and as shown in FIG. Cylindrical rod 4
(Diameter 10 mm) was placed and fixed so as to be substantially perpendicular to the longitudinal direction of the metal foil 1 with resin. Next, one of the metal foils 1 with resin is fixed in contact with the flat plate 3 via the cylindrical bar 4, and the metal foil 1 with resin is bent in the direction of the arrow so that the other is wound around the cylindrical bar 4. , The minimum angle θ (degree) at which a crack (crack) or the like occurs in the semi-cured resin is measured,
This was taken as the resin crack angle.

【0034】一方、絶縁性フィルム2の場合、キャリア
ーフィルム側を外側にして平板3上に載置した以外は、
樹脂付き金属箔1の場合と同様にして測定した。 3.タッキング 半硬化樹脂に銅箔の光沢面を押し付けて貼り付くかどう
かで判定し、貼り付いたものを「(タッキング)あ
り」、貼り付かなかったものを「(タッキング)なし」
とした。 4.レーザー加工性 内層用基板として、予め表面の銅箔に内層処理(黒化処
理)を施した厚み0.2mmの内層コア両面板(松下電
工社製「CR1766」:銅箔の厚み35μm)を使用
し、この内層用基板の両面に上記のようにして作製した
樹脂付き金属箔を半硬化樹脂の層の側で重ね、170
℃、90分間加熱しながら、2.94MPaで加圧して
多層配線板を製造した。その後、表面の銅箔をエッチン
グにより除去し、レーザー加工用サンプルを得た。
On the other hand, in the case of the insulating film 2, except that it is placed on the flat plate 3 with the carrier film side facing out,
The measurement was performed in the same manner as in the case of the metal foil 1 with resin. 3. Tacking Determines whether or not the glossy surface of the copper foil is stuck to the semi-cured resin to determine whether or not it is stuck. If it is stuck, "(Tacking) exists", and if it is not stuck, "No (Tacking)"
And 4. Laser workability As a substrate for the inner layer, a 0.2 mm thick inner layer core double-sided board ("CR1766" manufactured by Matsushita Electric Works: 35 μm thick copper foil), which has been subjected to an inner layer treatment (blackening treatment) on the surface copper foil in advance. Then, the metal foil with resin prepared as described above is superposed on both sides of the inner layer substrate on the side of the semi-cured resin layer,
While heating at 90 ° C. for 90 minutes, pressure was applied at 2.94 MPa to produce a multilayer wiring board. Thereafter, the copper foil on the surface was removed by etching to obtain a sample for laser processing.

【0035】一方、絶縁性フィルムの場合、上記と同種
の内層用基板を使用し、この内層用基板の両面に上記の
ようにして作製した絶縁性フィルムを半硬化樹脂の側で
重ね、170℃、90分間加熱しながら、2.94MP
aで加圧して多層配線板を製造した。その後、表面のキ
ャリアーフィルムを剥がし、レーザー加工用サンプルを
得た。
On the other hand, in the case of an insulating film, the same kind of substrate for the inner layer as described above is used, and the insulating film prepared as described above is superposed on both sides of the substrate for the inner layer on the side of the semi-cured resin. 2.94MP while heating for 90 minutes
a to produce a multilayer wiring board. Thereafter, the carrier film on the surface was peeled off to obtain a sample for laser processing.

【0036】次に、三菱電機社製レーザー機「ML50
5GT」を使用し、パルス周波数:1500Hz、パル
ス幅:20μs、出力:5.4mj/パルス、照射パル
ス数:3ショットの条件で、上記のようにして得られた
レーザー加工用サンプルに穴あけ加工を行った後、走査
型電子顕微鏡SEMを使用して穴の内部を観察し、樹脂
残渣の有無を調査した。 5.導通信頼性 内層用基板として、予め表面の銅箔にデージーチェーン
用回路パターンを形成すると共に、内層処理(黒化処
理)を施した厚み0.2mmの内層コア両面板(松下電
工社製「CR1766」:銅箔の厚み35μm)を使用
し、この内層用基板の両面に上記のようにして作製した
樹脂付き金属箔を半硬化樹脂の層の側で重ね、170
℃、90分間加熱しながら、2.94MPaで加圧して
多層配線板を製造した。その後、レーザー加工によって
IVHを形成すると共に、多層配線板の外側の金属箔に
外層回路を形成することにより、デージーチェーンパタ
ーンを形成し、導通信頼性評価用サンプルを得た。
Next, a laser machine “ML50” manufactured by Mitsubishi Electric Corporation was used.
Using 5GT, under the conditions of pulse frequency: 1500 Hz, pulse width: 20 μs, output: 5.4 mj / pulse, irradiation pulse number: 3 shots, the laser processing sample obtained as described above was drilled. After performing, the inside of the hole was observed using a scanning electron microscope SEM, and the presence or absence of resin residue was investigated. 5. Continuity Reliability As a substrate for the inner layer, a daisy chain circuit pattern was previously formed on the copper foil on the surface, and an inner layer core double-sided plate (CR1766 manufactured by Matsushita Electric Works Co., Ltd.) with an inner layer treatment (blackening treatment) was applied. The thickness of the copper foil is 35 μm), and the metal foil with resin produced as described above is superposed on both sides of the inner layer substrate on the side of the semi-cured resin layer.
While heating at 90 ° C. for 90 minutes, pressure was applied at 2.94 MPa to produce a multilayer wiring board. Thereafter, an IVH was formed by laser processing, and an outer layer circuit was formed on the metal foil outside the multilayer wiring board, thereby forming a daisy chain pattern, and a sample for evaluating conduction reliability was obtained.

【0037】一方、絶縁性フィルムの場合、上記と同種
の内層用基板を使用し、この内層用基板の両面に上記の
ようにして作製した絶縁性フィルムを半硬化樹脂の側で
重ね、170℃、90分間加熱しながら、2.94MP
aで加圧して多層配線板を製造した。その後、表面のキ
ャリアーフィルムを剥がし、レーザー加工によってIV
Hを形成すると共に、多層配線板の外側の硬化樹脂の表
面に外層回路を形成することにより、デージーチェーン
パターンを形成し、導通信頼性評価用サンプルを得た。
On the other hand, in the case of an insulating film, the same kind of substrate for the inner layer as described above is used, and the insulating film prepared as described above is superposed on both sides of the substrate for the inner layer on the side of the semi-cured resin. 2.94MP while heating for 90 minutes
a to produce a multilayer wiring board. After that, the carrier film on the surface is peeled off, and the IV
By forming H and forming an outer layer circuit on the surface of the cured resin outside the multilayer wiring board, a daisy chain pattern was formed, and a sample for evaluation of conduction reliability was obtained.

【0038】次に、このようにして得られた導通信頼性
評価用サンプルについて、−55℃雰囲気下に30分間
放置し、引き続き125℃雰囲気下に30分間放置する
という操作を1サイクルとして、これを1000サイク
ル繰り返し、断線発生の有無を調査した。
Next, the operation of leaving the sample for conduction reliability evaluation thus obtained in an atmosphere of -55 ° C. for 30 minutes and then in an atmosphere of 125 ° C. for 30 minutes was defined as one cycle. Was repeated 1000 cycles, and the presence or absence of disconnection was examined.

【0039】以上の評価項目1〜5の結果を表1〜表4
に示す。
Tables 1 to 4 show the results of the above evaluation items 1 to 5.
Shown in

【0040】[0040]

【表1】 [Table 1]

【0041】[0041]

【表2】 [Table 2]

【0042】[0042]

【表3】 [Table 3]

【0043】[0043]

【表4】 [Table 4]

【0044】表1〜表4にみられるように、各実施例の
ものは全ての評価項目において良好な結果であることが
確認される。
As can be seen from Tables 1 to 4, it is confirmed that the results of each of the examples are good in all evaluation items.

【0045】しかも、実施例1〜3と実施例4〜6とを
比較すると、ポリビニルアセタール樹脂を配合すること
により、樹脂割れ角度が増大し、割れ(クラック)等が
より発生し難くなることが確認される。このことは実施
例7〜9と実施例10〜12との比較からも確認され
る。
Moreover, comparing Examples 1 to 3 with Examples 4 to 6, the addition of the polyvinyl acetal resin increases the resin crack angle and makes cracks and the like less likely to occur. It is confirmed. This is also confirmed from a comparison between Examples 7 to 9 and Examples 10 to 12.

【0046】これに対し、比較例1や比較例6のものは
微粒子ゴムとして非架橋ゴムを配合しているため、タッ
キングを示すことが確認される。
On the other hand, in the case of Comparative Examples 1 and 6, since non-crosslinked rubber was blended as fine particle rubber, it was confirmed that tacking was exhibited.

【0047】また比較例2や比較例7のものは、ノボラ
ック型エポキシ樹脂の配合量が少なすぎるため、レーザ
ー加工後に樹脂残渣が残り、導通信頼性が低下すること
が確認される。
In Comparative Examples 2 and 7, the amount of the novolak-type epoxy resin was too small, so that it was confirmed that resin residues remained after laser processing and the conduction reliability was reduced.

【0048】また比較例3や比較例8のものは、ノボラ
ック型エポキシ樹脂の配合量が多すぎるため、導通信頼
性が低下することが確認される。
Further, in the case of Comparative Examples 3 and 8, it was confirmed that the conduction reliability was lowered because the amount of the novolak type epoxy resin was too large.

【0049】また比較例4のものは、微粒子ゴムとして
粒子径が1μmを大幅に超えるもの(粒子径12μm)
を使用しているため、ワニス中においてゴムが凝集する
ことが確認される。
The rubber composition of Comparative Example 4 has a particle diameter significantly exceeding 1 μm as a fine particle rubber (particle diameter: 12 μm).
It is confirmed that the rubber is agglomerated in the varnish because of the use of.

【0050】また比較例5のものは、微粒子ゴムが配合
されていないため、樹脂割れ角度が非常に小さくなり、
割れ(クラック)等が発生し易いものであることが確認
される。
In the case of Comparative Example 5, the resin cracking angle was extremely small because no fine particle rubber was blended,
It is confirmed that cracks and the like easily occur.

【0051】[0051]

【発明の効果】上記のように本発明の請求項1に係るエ
ポキシ樹脂組成物は、ノボラック型エポキシ樹脂、粒子
径が1μm以下の架橋ゴムを必須成分として含有し、ノ
ボラック型エポキシ樹脂を固形分100質量部に対して
20〜80質量部含有して成るので、粒子径が1μm以
下の架橋ゴムによって、半硬化状態(B−ステージ)に
おいて柔軟性が高められており、半硬化樹脂として割れ
たり剥がれたりすることがなくなり、樹脂粉等の発生を
低減することができると共に、タッキングの発生を防止
することができるものである。さらにこのエポキシ樹脂
組成物は、ノボラック型エポキシ樹脂によって、硬化状
態においてレーザー加工により樹脂残渣が発生し難くな
るものである。
As described above, the epoxy resin composition according to the first aspect of the present invention contains a novolak-type epoxy resin and a crosslinked rubber having a particle diameter of 1 μm or less as essential components. Since it is contained in an amount of 20 to 80 parts by mass with respect to 100 parts by mass, the flexibility in a semi-cured state (B-stage) is enhanced by a crosslinked rubber having a particle diameter of 1 μm or less, and the cross-linked rubber may be broken as a semi-cured resin. It does not peel off, can reduce the generation of resin powder and the like, and can prevent the occurrence of tacking. Further, in the epoxy resin composition, a resin residue hardly occurs by laser processing in a cured state due to the novolak type epoxy resin.

【0052】また請求項2の発明は、ノボラック型エポ
キシ樹脂、粒子径が1μm以下の架橋ゴム、ポリビニル
アセタール樹脂を必須成分として含有し、ノボラック型
エポキシ樹脂を固形分100質量部に対して20〜80
質量部含有して成るので、粒子径が1μm以下の架橋ゴ
ムに加え、ポリビニルアセタール樹脂を配合することに
よって、半硬化状態(B−ステージ)において柔軟性が
一層高められており、半硬化樹脂として割れたり剥がれ
たりすることがなくなり、樹脂粉等の発生を一層低減す
ることができると共に、タッキングの発生を防止するこ
とができるものである。さらにこのエポキシ樹脂組成物
は、ノボラック型エポキシ樹脂によって、硬化状態にお
いてレーザー加工により樹脂残渣が発生し難くなるもの
である。
The invention of claim 2 comprises a novolak type epoxy resin, a crosslinked rubber having a particle diameter of 1 μm or less, and a polyvinyl acetal resin as essential components. 80
Since it is contained in parts by mass, the flexibility in the semi-cured state (B-stage) is further enhanced by compounding a polyvinyl acetal resin in addition to the crosslinked rubber having a particle diameter of 1 μm or less, Cracks and peeling do not occur, and the generation of resin powder and the like can be further reduced, and the occurrence of tacking can be prevented. Further, in the epoxy resin composition, a resin residue hardly occurs by laser processing in a cured state due to the novolak type epoxy resin.

【0053】また本発明の請求項3に係る樹脂付き金属
箔は、請求項1又は2に記載のエポキシ樹脂組成物を金
属箔の表面に塗布し、半硬化して成るので、樹脂付き金
属箔の半硬化樹脂は柔軟性が高められており、樹脂付き
金属箔を取扱うにあたって、半硬化樹脂が割れたり剥が
れたりすることがなくなり、樹脂粉等の発生を低減する
ことができると共に、タッキングの発生を防止すること
ができるものである。さらに半硬化樹脂が完全硬化した
硬化樹脂はレーザー加工により樹脂残渣が発生し難くな
っており、多層配線板にレーザーによる穴あけを行って
も穴の内部に樹脂残渣が残らなくなり、導通性の良好な
バイアホールを得ることができるものである。
The resin-coated metal foil according to the third aspect of the present invention is obtained by applying the epoxy resin composition according to the first or second aspect to the surface of the metal foil and semi-curing. The semi-cured resin has increased flexibility, and when handling metal foil with resin, the semi-cured resin does not crack or peel off, reducing the generation of resin powder and the like and generating tacking. Can be prevented. Furthermore, the cured resin in which the semi-cured resin is completely cured has less resin residue due to laser processing, and even if a multilayer wiring board is drilled with a laser, no resin residue remains inside the hole, and good conductivity is obtained. Via holes can be obtained.

【0054】また本発明の請求項4に係る絶縁性フィル
ムは、請求項1又は2に記載のエポキシ樹脂組成物を半
硬化して成るので、絶縁性フィルムの半硬化樹脂は柔軟
性が高められており、絶縁性フィルムを取扱うにあたっ
て、半硬化樹脂が割れたり剥がれたりすることがなくな
り、樹脂粉等の発生を低減することができると共に、タ
ッキングの発生を防止することができるものである。さ
らに半硬化樹脂が完全硬化した硬化樹脂はレーザー加工
により樹脂残渣が発生し難くなっており、多層配線板に
レーザーによる穴あけを行っても穴の内部に樹脂残渣が
残らなくなり、導通性の良好なバイアホールを得ること
ができるものである。
Further, the insulating film according to claim 4 of the present invention is obtained by semi-curing the epoxy resin composition according to claim 1 or 2, so that the semi-cured resin of the insulating film has enhanced flexibility. Therefore, when handling the insulating film, the semi-cured resin does not crack or peel off, so that the generation of resin powder and the like can be reduced and the occurrence of tacking can be prevented. Furthermore, the cured resin in which the semi-cured resin is completely cured has less resin residue due to laser processing, and even if a multilayer wiring board is drilled with a laser, no resin residue remains inside the hole, and good conductivity is obtained. Via holes can be obtained.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】樹脂割れ角度の測定法を示す断面図である。FIG. 1 is a sectional view showing a method for measuring a resin crack angle.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 樹脂付き金属箔 2 絶縁性フィルム 1 Metal foil with resin 2 Insulating film

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 FI テーマコート゛(参考) H01B 3/40 H01B 3/40 C P 17/56 17/56 A Fターム(参考) 4F071 AA10 AA30 AA42 AC12 AC15 AC17 AH12 AH13 BA02 BB02 BC02 4F100 AB01B AK23A AK53A AN00A BA02 BA07 DE01A GB43 JB15A JG04 JL01 JL11 JM02B YY00A 4J002 AC072 BE063 BG102 CD041 CD05 CD061 CD121 FA002 FD140 FD150 GF00 GQ00 HA03 5G305 AA06 AA14 AB17 AB36 BA15 BA18 CA14 CA17 CA47 5G333 AA03 AB13 AB28 BA03 CB04 CB06 DA03 DA04 ──────────────────────────────────────────────────の Continued on the front page (51) Int.Cl. 7 Identification symbol FI Theme coat ゛ (Reference) H01B 3/40 H01B 3/40 CP 17/56 17/56 A F term (Reference) 4F071 AA10 AA30 AA42 AC12 AC15 AC17 AH12 AH13 BA02 BB02 BC02 4F100 AB01B AK23A AK53A AN00A BA02 BA07 DE01A GB43 JB15A JG04 JL01 JL11 JM02B YY00A 4J002 AC072 BE063 BG102 CD041 CD05 CD061 CD121 FA002 FD140 A03A15 A15G15 A15A15A15A15A15A15G15 BA03 CB04 CB06 DA03 DA04

Claims (4)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 ノボラック型エポキシ樹脂、粒子径が1
μm以下の架橋ゴムを必須成分として含有し、ノボラッ
ク型エポキシ樹脂を固形分100質量部に対して20〜
80質量部含有して成ることを特徴とするエポキシ樹脂
組成物。
1. A novolak type epoxy resin having a particle size of 1
It contains a crosslinked rubber of μm or less as an essential component, and a novolak type epoxy resin having a solid content of 20 to 100 parts by mass.
An epoxy resin composition comprising 80 parts by mass.
【請求項2】 ノボラック型エポキシ樹脂、粒子径が1
μm以下の架橋ゴム、ポリビニルアセタール樹脂を必須
成分として含有し、ノボラック型エポキシ樹脂を固形分
100質量部に対して20〜80質量部含有して成るこ
とを特徴とするエポキシ樹脂組成物。
2. A novolak type epoxy resin having a particle size of 1
An epoxy resin composition comprising a crosslinked rubber having a particle size of not more than μm and a polyvinyl acetal resin as essential components, and comprising 20 to 80 parts by mass of a novolak type epoxy resin per 100 parts by mass of a solid content.
【請求項3】 請求項1又は2に記載のエポキシ樹脂組
成物を金属箔の表面に塗布し、半硬化して成ることを特
徴とする樹脂付き金属箔。
3. A resin-coated metal foil, which is obtained by applying the epoxy resin composition according to claim 1 on the surface of the metal foil and semi-curing the epoxy resin composition.
【請求項4】 請求項1又は2に記載のエポキシ樹脂組
成物を半硬化して成ることを特徴とする絶縁性フィル
ム。
4. An insulating film obtained by semi-curing the epoxy resin composition according to claim 1 or 2.
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