KR20220011116A - A resin composition, a prepreg, a resin sheet, a laminated board, a metal foil-clad laminated board, and a printed wiring board - Google Patents

A resin composition, a prepreg, a resin sheet, a laminated board, a metal foil-clad laminated board, and a printed wiring board Download PDF

Info

Publication number
KR20220011116A
KR20220011116A KR1020217033111A KR20217033111A KR20220011116A KR 20220011116 A KR20220011116 A KR 20220011116A KR 1020217033111 A KR1020217033111 A KR 1020217033111A KR 20217033111 A KR20217033111 A KR 20217033111A KR 20220011116 A KR20220011116 A KR 20220011116A
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
resin composition
resin
metal foil
prepreg
compound
Prior art date
Application number
KR1020217033111A
Other languages
Korean (ko)
Inventor
유지 가마타
아키히로 노모토
게이이치 하세베
Original Assignee
미츠비시 가스 가가쿠 가부시키가이샤
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 미츠비시 가스 가가쿠 가부시키가이샤 filed Critical 미츠비시 가스 가가쿠 가부시키가이샤
Publication of KR20220011116A publication Critical patent/KR20220011116A/en

Links

Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08LCOMPOSITIONS OF MACROMOLECULAR COMPOUNDS
    • C08L63/00Compositions of epoxy resins; Compositions of derivatives of epoxy resins
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08JWORKING-UP; GENERAL PROCESSES OF COMPOUNDING; AFTER-TREATMENT NOT COVERED BY SUBCLASSES C08B, C08C, C08F, C08G or C08H
    • C08J5/00Manufacture of articles or shaped materials containing macromolecular substances
    • C08J5/24Impregnating materials with prepolymers which can be polymerised in situ, e.g. manufacture of prepregs
    • C08J5/241Impregnating materials with prepolymers which can be polymerised in situ, e.g. manufacture of prepregs using inorganic fibres
    • C08J5/244Impregnating materials with prepolymers which can be polymerised in situ, e.g. manufacture of prepregs using inorganic fibres using glass fibres
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32LAYERED PRODUCTS
    • B32BLAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B15/00Layered products comprising a layer of metal
    • B32B15/04Layered products comprising a layer of metal comprising metal as the main or only constituent of a layer, which is next to another layer of the same or of a different material
    • B32B15/08Layered products comprising a layer of metal comprising metal as the main or only constituent of a layer, which is next to another layer of the same or of a different material of synthetic resin
    • B32B15/092Layered products comprising a layer of metal comprising metal as the main or only constituent of a layer, which is next to another layer of the same or of a different material of synthetic resin comprising epoxy resins
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08GMACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
    • C08G59/00Polycondensates containing more than one epoxy group per molecule; Macromolecules obtained by polymerising compounds containing more than one epoxy group per molecule using curing agents or catalysts which react with the epoxy groups
    • C08G59/18Macromolecules obtained by polymerising compounds containing more than one epoxy group per molecule using curing agents or catalysts which react with the epoxy groups ; e.g. general methods of curing
    • C08G59/40Macromolecules obtained by polymerising compounds containing more than one epoxy group per molecule using curing agents or catalysts which react with the epoxy groups ; e.g. general methods of curing characterised by the curing agents used
    • C08G59/4007Curing agents not provided for by the groups C08G59/42 - C08G59/66
    • C08G59/4014Nitrogen containing compounds
    • C08G59/4028Isocyanates; Thioisocyanates
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08GMACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
    • C08G59/00Polycondensates containing more than one epoxy group per molecule; Macromolecules obtained by polymerising compounds containing more than one epoxy group per molecule using curing agents or catalysts which react with the epoxy groups
    • C08G59/18Macromolecules obtained by polymerising compounds containing more than one epoxy group per molecule using curing agents or catalysts which react with the epoxy groups ; e.g. general methods of curing
    • C08G59/40Macromolecules obtained by polymerising compounds containing more than one epoxy group per molecule using curing agents or catalysts which react with the epoxy groups ; e.g. general methods of curing characterised by the curing agents used
    • C08G59/62Alcohols or phenols
    • C08G59/621Phenols
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08JWORKING-UP; GENERAL PROCESSES OF COMPOUNDING; AFTER-TREATMENT NOT COVERED BY SUBCLASSES C08B, C08C, C08F, C08G or C08H
    • C08J5/00Manufacture of articles or shaped materials containing macromolecular substances
    • C08J5/24Impregnating materials with prepolymers which can be polymerised in situ, e.g. manufacture of prepregs
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08JWORKING-UP; GENERAL PROCESSES OF COMPOUNDING; AFTER-TREATMENT NOT COVERED BY SUBCLASSES C08B, C08C, C08F, C08G or C08H
    • C08J5/00Manufacture of articles or shaped materials containing macromolecular substances
    • C08J5/24Impregnating materials with prepolymers which can be polymerised in situ, e.g. manufacture of prepregs
    • C08J5/249Impregnating materials with prepolymers which can be polymerised in situ, e.g. manufacture of prepregs characterised by the additives used in the prepolymer mixture
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08KUse of inorganic or non-macromolecular organic substances as compounding ingredients
    • C08K3/00Use of inorganic substances as compounding ingredients
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08KUse of inorganic or non-macromolecular organic substances as compounding ingredients
    • C08K3/00Use of inorganic substances as compounding ingredients
    • C08K3/01Use of inorganic substances as compounding ingredients characterized by their specific function
    • C08K3/013Fillers, pigments or reinforcing additives
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08KUse of inorganic or non-macromolecular organic substances as compounding ingredients
    • C08K5/00Use of organic ingredients
    • C08K5/16Nitrogen-containing compounds
    • C08K5/34Heterocyclic compounds having nitrogen in the ring
    • C08K5/3412Heterocyclic compounds having nitrogen in the ring having one nitrogen atom in the ring
    • C08K5/3415Five-membered rings
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08KUse of inorganic or non-macromolecular organic substances as compounding ingredients
    • C08K7/00Use of ingredients characterised by shape
    • C08K7/16Solid spheres
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08KUse of inorganic or non-macromolecular organic substances as compounding ingredients
    • C08K9/00Use of pretreated ingredients
    • C08K9/08Ingredients agglomerated by treatment with a binding agent
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08LCOMPOSITIONS OF MACROMOLECULAR COMPOUNDS
    • C08L61/00Compositions of condensation polymers of aldehydes or ketones; Compositions of derivatives of such polymers
    • C08L61/04Condensation polymers of aldehydes or ketones with phenols only
    • C08L61/06Condensation polymers of aldehydes or ketones with phenols only of aldehydes with phenols
    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05KPRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
    • H05K1/00Printed circuits
    • H05K1/02Details
    • H05K1/03Use of materials for the substrate
    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05KPRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
    • H05K1/00Printed circuits
    • H05K1/02Details
    • H05K1/03Use of materials for the substrate
    • H05K1/0313Organic insulating material
    • H05K1/0353Organic insulating material consisting of two or more materials, e.g. two or more polymers, polymer + filler, + reinforcement
    • H05K1/0366Organic insulating material consisting of two or more materials, e.g. two or more polymers, polymer + filler, + reinforcement reinforced, e.g. by fibres, fabrics
    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05KPRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
    • H05K3/00Apparatus or processes for manufacturing printed circuits
    • H05K3/46Manufacturing multilayer circuits
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08JWORKING-UP; GENERAL PROCESSES OF COMPOUNDING; AFTER-TREATMENT NOT COVERED BY SUBCLASSES C08B, C08C, C08F, C08G or C08H
    • C08J2363/00Characterised by the use of epoxy resins; Derivatives of epoxy resins
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08KUse of inorganic or non-macromolecular organic substances as compounding ingredients
    • C08K2201/00Specific properties of additives
    • C08K2201/002Physical properties
    • C08K2201/005Additives being defined by their particle size in general

Abstract

에폭시 화합물 (A) 와, 경화제 (B) 와, 흑색 입자 (C) 와, 무기 충전재 (D) 를 함유하고, 상기 흑색 입자 (C) 의 함유량이, 상기 에폭시 화합물 (A) 와 상기 경화제 (B) 의 합계 함유량 100 질량부에 대해서, 1 ∼ 25 질량부이며, 상기 무기 충전재 (D) 의 함유량이, 상기 에폭시 화합물 (A) 와 상기 경화제 (B) 의 합계 함유량 100 질량부에 대해서, 100 ∼ 200 질량부인, 수지 조성물.It contains an epoxy compound (A), a hardening|curing agent (B), black particle (C), and an inorganic filler (D), and content of the said black particle (C) is the said epoxy compound (A) and the said hardening|curing agent (B) ) with respect to 100 parts by mass of a total content of 1 to 25 parts by mass, and the content of the inorganic filler (D) is 100 to 100 parts by mass of the total content of the epoxy compound (A) and the curing agent (B). 200 parts by mass of the resin composition.

Description

수지 조성물, 프리프레그, 레진 시트, 적층판, 금속박 피복 적층판, 및 프린트 배선판A resin composition, a prepreg, a resin sheet, a laminated board, a metal foil-clad laminated board, and a printed wiring board

본 발명은 수지 조성물, 그리고, 당해 조성물을 사용한, 프리프레그, 레진 시트, 적층판, 금속박 피복 적층판, 프린트 배선판, 및 프린트 배선판의 제조 방법에 관한 것이다.The present invention relates to a resin composition and to a method for manufacturing a prepreg, a resin sheet, a laminate, a metal foil-clad laminate, a printed wiring board, and a printed wiring board using the composition.

최근, 전자 부품의 고성능화, 고기능화, 소형화가 급속히 진행되고 있고, 이에 수반하여 전자 부품에 사용되는 전자 재료에 대해서도 고기능화의 요청이 높아지고 있다. 예를 들어, 디스플레이나 LED 등의 발광 소자에 사용되는 전자 재료에는, 외부로의 불필요한 광의 누출이 발생되지 않도록 차광성이 요구되고, 또, 카메라의 광학 센서와 같은 수광 소자에 사용되는 전자 재료에는, 외부로부터의 광의 침입이 발생되지 않도록 차광성이 요구된다. 이와 같이, 발광 소자나 수광 소자 혹은 그 밖의 전자 광학 부품에 사용되는 프린트 배선판에는 차광성이 요구되고 있다.In recent years, performance improvement, high functionalization, and miniaturization of an electronic component are progressing rapidly, and with this, the request|requirement of high functionalization is increasing also about the electronic material used for an electronic component. For example, electronic materials used for light emitting devices such as displays and LEDs are required to have light-shielding properties so that unnecessary light leakage to the outside does not occur, and electronic materials used for light receiving elements such as optical sensors of cameras , a light-shielding property is required so that the intrusion of light from the outside does not occur. Thus, light-shielding property is calculated|required by the printed wiring board used for a light emitting element, a light receiving element, or another electro-optical component.

예를 들어, 특허문헌 1 에는, 플렉시블 프린트 배선판으로서, 아닐린 블랙 등을 함유함으로써 차광성을 확보한 흑색 폴리이미드 필름이 개시되어 있다.For example, patent document 1 discloses the black polyimide film which secured light-shielding property by containing aniline black etc. as a flexible printed wiring board.

일본 공개특허공보 2016-047863호Japanese Patent Laid-Open No. 2016-047863

최근, 기재에 수지 조성물을 함침 또는 도포한 리지드 기판에 대해서도, 차광성의 향상이 요망되고 있다. 특허문헌 1 에 기재된 바와 같이, 플렉시블 프린트 배선판에는 차광성을 향상시키는 방법으로는, 아닐린 블랙 등을 사용하는 것이 알려져 있지만, 리지드 기판을 구성하는 수지 조성물에 대해서, 플렉시블 프린트 배선판과 동일하게 흑색 성분을 첨가하면, 표면 경도가 저하되거나, 성형성이 저하되거나 한다는 문제가 발생되는 경우가 있는 것을 알게 되었다.In recent years, the improvement of light-shielding property is desired also about the rigid board|substrate which impregnated or apply|coated the resin composition to the base material. As described in Patent Literature 1, it is known that aniline black or the like is used for a flexible printed wiring board as a method of improving light-shielding properties. It turned out that the problem that surface hardness falls or a moldability falls may generate|occur|produce when added.

본 발명은 상기 문제점을 감안하여 이루어진 것으로서, 차광성과 표면 경도가 우수한 리지드 기판을 얻을 수 있는 수지 조성물, 그리고, 그 수지 조성물을 사용한, 프리프레그, 레진 시트, 적층판, 금속박 피복 적층판, 프린트 배선판, 및 프린트 배선판의 제조 방법을 제공하는 것을 목적으로 한다.The present invention has been made in view of the above problems, and a resin composition capable of obtaining a rigid substrate having excellent light-shielding properties and surface hardness, and a prepreg, a resin sheet, a laminated board, a metal foil-clad laminate, a printed wiring board using the resin composition, and It aims at providing the manufacturing method of a printed wiring board.

본 발명자들은 상기 과제를 해결하기 위해서 예의 검토하였다. 그 결과, 소정량의 흑색 입자 (C) 와, 소정량의 무기 충전재 (D) 를 사용함으로써, 상기 과제를 해결할 수 있는 것을 알아내고, 본 발명을 완성하기에 이르렀다.MEANS TO SOLVE THE PROBLEM The present inventors earnestly examined in order to solve the said subject. As a result, by using the black particle (C) of a predetermined amount and the inorganic filler (D) of a predetermined amount, it discovered that the said subject could be solved, and came to complete this invention.

즉, 본 발명은 아래와 같다.That is, the present invention is as follows.

〔1〕〔One〕

에폭시 화합물 (A) 와, an epoxy compound (A), and

경화제 (B) 와, a curing agent (B);

흑색 입자 (C) 와, black particles (C) and

무기 충전재 (D) 를 함유하고, containing an inorganic filler (D),

상기 흑색 입자 (C) 의 함유량이, 상기 에폭시 화합물 (A) 와 상기 경화제 (B) 의 합계 함유량 100 질량부에 대해서, 1 ∼ 25 질량부이며, Content of the said black particle (C) is 1-25 mass parts with respect to 100 mass parts of total content of the said epoxy compound (A) and the said hardening|curing agent (B),

상기 무기 충전재 (D) 의 함유량이, 상기 에폭시 화합물 (A) 와 상기 경화제 (B) 의 합계 함유량 100 질량부에 대해서, 100 ∼ 200 질량부인, Content of the said inorganic filler (D) is 100-200 mass parts with respect to 100 mass parts of total content of the said epoxy compound (A) and the said hardening|curing agent (B),

수지 조성물.resin composition.

〔2〕〔2〕

상기 흑색 입자 (C) 가, 표면의 적어도 일부가 열경화성 수지로 피복된, 평균 입자경 1 ㎛ 이하의 입자인,〔1〕에 기재된 수지 조성물.The resin composition according to [1], wherein the black particles (C) are particles having an average particle diameter of 1 µm or less, at least a part of which is coated with a thermosetting resin on the surface.

〔3〕[3]

상기 에폭시 화합물 (A) 가, 하기 식 (I) 로 나타내는 화합물을 함유하는,〔1〕또는〔2〕에 기재된 수지 조성물.The resin composition according to [1] or [2], wherein the epoxy compound (A) contains a compound represented by the following formula (I).

[화학식 1] [Formula 1]

Figure pct00001
Figure pct00001

(식 (I) 중, n1 은 1 이상의 정수를 나타낸다.) (In formula (I), n1 represents an integer of 1 or more.)

〔4〕〔4〕

상기 경화제 (B) 로서, 페놀 화합물 (E) 및/또는 시안산에스테르 화합물 (F) 를 함유하는,〔1〕∼〔3〕중 어느 한 항에 기재된 수지 조성물.The resin composition according to any one of [1] to [3], wherein the curing agent (B) contains a phenol compound (E) and/or a cyanate compound (F).

〔5〕[5]

상기 페놀 화합물 (E) 가, 하기 식 (Ⅱ) 또는 식 (Ⅲ) 으로 나타내는 화합물을 함유하는,〔4〕에 기재된 수지 조성물.The resin composition according to [4], wherein the phenol compound (E) contains a compound represented by the following formula (II) or (III).

[화학식 2] [Formula 2]

Figure pct00002
Figure pct00002

(식 (Ⅱ) 중, n2 는 1 이상의 정수를 나타낸다.) (In formula (II), n2 represents an integer of 1 or more.)

[화학식 3] [Formula 3]

Figure pct00003
Figure pct00003

(식 (Ⅲ) 중, R1, R2 는, 각각 독립적으로, 수소 원자 또는 메틸기를 나타내고, n3 은 1 이상의 정수를 나타낸다.) (In formula (III), R 1 and R 2 each independently represent a hydrogen atom or a methyl group, and n3 represents an integer of 1 or more.)

〔6〕[6]

상기 시안산에스테르 화합물 (F) 가, 하기 식 (VI) 으로 나타내는 나프톨아르알킬형 시안산에스테르 화합물, 및/또는, 하기 식 (Ⅶ) 로 나타내는 노볼락형 시안산에스테르 화합물을 함유하는,〔4〕에 기재된 수지 조성물.[4] wherein the cyanate ester compound (F) contains a naphthol aralkyl-type cyanate ester compound represented by the following formula (VI) and/or a novolac-type cyanate ester compound represented by the following formula (VII). The resin composition according to ].

[화학식 4] [Formula 4]

Figure pct00004
Figure pct00004

(상기 식 (VI) 중, R5 는, 각각 독립적으로, 수소 원자 또는 메틸기를 나타내고, n6 은 1 이상의 정수를 나타낸다.) (In the formula (VI), R 5 each independently represents a hydrogen atom or a methyl group, and n6 represents an integer of 1 or more.)

[화학식 5] [Formula 5]

Figure pct00005
Figure pct00005

(상기 식 (Ⅶ) 중, R6 은, 각각 독립적으로, 수소 원자 또는 메틸기를 나타내고, n7 은 1 이상의 정수를 나타낸다.) (In the formula (VII), R 6 each independently represents a hydrogen atom or a methyl group, and n7 represents an integer of 1 or more.)

〔7〕[7]

말레이미드 화합물 (G) 를 추가로 함유하는,〔1〕∼〔6〕중 어느 한 항에 기재된 수지 조성물.The resin composition according to any one of [1] to [6], further comprising a maleimide compound (G).

〔8〕〔8〕

상기 말레이미드 화합물 (G) 가, 비스(4-말레이미드페닐)메탄, 2,2'-비스{4-(4-말레이미드페녹시)-페닐}프로판, 비스(3-에틸-5-메틸-4-말레이미드페닐)메탄, 하기 식 (IV) 로 나타내는 말레이미드 화합물, 및 하기 식 (V) 로 나타내는 말레이미드 화합물로 이루어지는 군에서 선택되는 1 종 이상을 함유하는,〔7〕에 기재된 수지 조성물.Said maleimide compound (G) is bis(4-maleimidephenyl)methane, 2,2'-bisb4-(4-maleimidephenoxy)-phenylbpropane, bis(3-ethyl-5-methyl The resin according to [7], containing at least one selected from the group consisting of -4-maleimidephenyl)methane, a maleimide compound represented by the following formula (IV), and a maleimide compound represented by the following formula (V). composition.

[화학식 6] [Formula 6]

Figure pct00006
Figure pct00006

(식 (IV) 중, R3 은, 각각 독립적으로, 수소 원자 또는 메틸기를 나타내고, n4 는 1 이상의 정수를 나타낸다.) (In formula (IV), R 3 each independently represents a hydrogen atom or a methyl group, and n4 represents an integer of 1 or more.)

[화학식 7] [Formula 7]

Figure pct00007
Figure pct00007

(식 (V) 중, R4 는, 각각 독립적으로, 수소 원자, 탄소수 1 ∼ 5 의 알킬기 또는 페닐기를 나타내고, n5 는, 평균치이며, 1 < n5 ≤ 5 를 나타낸다.) (In the formula (V), R 4 each independently represents a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms, or a phenyl group, n5 is an average value, and 1 < n5 ≤ 5.)

〔9〕[9]

상기 무기 충전재 (D) 가, 실리카, 수산화알루미늄, 알루미나, 베마이트, 산화마그네슘, 및 수산화마그네슘으로 이루어지는 군에서 선택되는 1 종 이상을 함유하는,〔1〕∼〔8〕중 어느 한 항에 기재된 수지 조성물.The inorganic filler (D) according to any one of [1] to [8], wherein the inorganic filler (D) contains at least one selected from the group consisting of silica, aluminum hydroxide, alumina, boehmite, magnesium oxide, and magnesium hydroxide. resin composition.

〔10〕[10]

기재와, description and

그 기재에 함침 또는 도포된〔1〕∼〔9〕중 어느 한 항에 기재된 수지 조성물을 갖는, Having the resin composition according to any one of [1] to [9] impregnated or applied to the substrate;

프리프레그.prepreg.

〔11〕[11]

지지체와, support and

그 지지체의 편면 또는 양면에 적층된〔1〕∼〔9〕중 어느 한 항에 기재된 수지 조성물을 갖는, Having the resin composition according to any one of [1] to [9] laminated on one side or both sides of the support,

레진 시트.resin sheet.

〔12〕[12]

〔10〕에 기재된 프리프레그 및〔11〕에 기재된 레진 시트로 이루어지는 군에서 선택되는 1 종 이상을 적층한, 적층판.A laminate in which at least one selected from the group consisting of the prepreg according to [10] and the resin sheet according to [11] is laminated.

〔13〕[13]

〔10〕에 기재된 프리프레그 및〔11〕에 기재된 레진 시트로 이루어지는 군에서 선택되는 1 종 이상과, At least one selected from the group consisting of the prepreg according to [10] and the resin sheet according to [11];

상기 프리프레그 및/또는 상기 레진 시트 상에 적층된 금속박을 갖는, having a metal foil laminated on the prepreg and/or the resin sheet,

금속박 피복 적층판.Metal foil clad laminate.

〔14〕[14]

상기 금속박 피복 적층판의 바콜 경도가, 70 ∼ 80 이며, 또한,The Barcol hardness of the metal foil-clad laminate is 70 to 80, and

상기 금속박 피복 적층판으로부터 금속박이 제거된 기판의 파장 400 ∼ 2000 ㎚ 의 범위에 있어서의 투과율이, 0.1 % 이하인,〔13〕에 기재된 금속박 피복 적층판.The metal foil-clad laminate according to [13], wherein the transmittance in a wavelength range of 400 to 2000 nm of the substrate from which the metal foil has been removed from the metal foil-clad laminate is 0.1% or less.

〔15〕[15]

〔10〕에 기재된 프리프레그 및〔11〕에 기재된 레진 시트로 이루어지는 군에서 선택되는 1 종 이상을 빌드업 재료로서 사용하여 제작된, 프린트 배선판.A printed wiring board produced by using, as a buildup material, at least one selected from the group consisting of the prepreg according to [10] and the resin sheet according to [11].

〔16〕[16]

〔13〕또는〔14〕에 기재된 금속박 피복 적층판을 빌드업 재료로서 사용하여 제작된, 프린트 배선판.A printed wiring board produced by using the metal foil-clad laminate according to [13] or [14] as a build-up material.

〔17〕[17]

절연층과, an insulating layer,

그 절연층의 표면에 형성된 도체층을 포함하고, a conductor layer formed on the surface of the insulating layer;

상기 절연층이〔1〕∼〔9〕중 어느 한 항에 기재된 수지 조성물을 함유하는, The insulating layer contains the resin composition according to any one of [1] to [9],

프린트 배선판.printed wiring board.

본 발명에 의하면, 차광성과 표면 경도가 우수한 리지드 기판을 얻을 수 있는 수지 조성물, 그리고, 그 수지 조성물을 사용한, 프리프레그, 레진 시트, 적층판, 금속박 피복 적층판, 프린트 배선판, 및 프린트 배선판의 제조 방법을 제공하는 것을 목적으로 한다.According to the present invention, a resin composition capable of obtaining a rigid substrate having excellent light-shielding properties and surface hardness, and a method for manufacturing a prepreg, a resin sheet, a laminated board, a metal foil-clad laminate, a printed wiring board, and a printed wiring board using the resin composition intended to provide

이하, 본 발명의 실시형태 (이하,「본 실시형태」라고 한다.) 에 대해서 상세하게 설명하지만, 본 발명은 이것에 한정되는 것이 아니고, 그 요지를 일탈하지 않는 범위에서 여러 가지로 변형이 가능하다.DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS Hereinafter, an embodiment of the present invention (hereinafter referred to as "the present embodiment") will be described in detail, but the present invention is not limited thereto, and various modifications can be made without departing from the gist thereof. do.

〔제 1 실시형태 : 수지 조성물〕[First embodiment: resin composition]

제 1 실시형태의 수지 조성물은, 예를 들어, 프리프레그, 특별하게는, 유리 클로스를 기재로 하고, 그 기재에 수지 조성물을 함침 또는 도포한 리지드 기판에 사용하는 수지 조성물이다. 당해 수지 조성물은, 에폭시 화합물 (A) 와, 경화제 (B) 와, 흑색 입자 (C) 와, 무기 충전재 (D) 를 함유하고, 필요에 따라서 말레이미드 화합물 (G) 나, 그 밖의 성분을 함유해도 된다.The resin composition of 1st Embodiment is a resin composition used for the rigid board|substrate which uses a prepreg, especially glass cloth as a base material, and impregnated or apply|coated the resin composition to the base material, for example. The said resin composition contains an epoxy compound (A), a hardening|curing agent (B), black particle (C), and an inorganic filler (D), and contains a maleimide compound (G) and other components as needed. You can do it.

제 1 실시형태의 수지 조성물에 있어서는, 상기 소정의 수지 조성에 있어서, 흑색 입자 (C) 의 함유량을, 에폭시 화합물 (A) 와 경화제 (B) 의 합계 함유량 100 질량부에 대해서, 1 ∼ 25 질량부로 하고, 무기 충전재 (D) 의 함유량을, 에폭시 화합물 (A) 와 경화제 (B) 의 합계 함유량 100 질량부에 대해서, 100 ∼ 200 질량부로 한다. 이로써, 가시 내지 근적외 영역, 예를 들어 400 ∼ 2000 ㎚ 의 파장 영역에 있어서의, 차광성이 우수한 리지드 기판이 얻어짐과 함께, 얻어지는 리지드 기판의 표면 경도가 보다 향상된다.In the resin composition of 1st Embodiment, in the said predetermined resin composition, content of black particle (C) is 1-25 mass parts with respect to 100 mass parts of total content of an epoxy compound (A) and a hardening|curing agent (B). Let it be part and let content of an inorganic filler (D) be 100-200 mass parts with respect to 100 mass parts of total content of an epoxy compound (A) and a hardening|curing agent (B). Thereby, while the rigid substrate excellent in light-shielding property in a visible thru|or near-infrared region, for example, 400-2000 nm wavelength region is obtained, the surface hardness of the rigid substrate obtained improves more.

이하, 각 성분에 대해서 상세하게 설명한다.Hereinafter, each component is demonstrated in detail.

〔에폭시 화합물 (A)〕[Epoxy compound (A)]

에폭시 화합물 (A) 는, 1 분자 중에 에폭시기를 1 개 이상 갖는 화합물이면, 공지된 것을 적절히 사용할 수 있고, 그 종류는 특별히 한정되지 않는다. 에폭시 화합물 (A) 의 1 분자당 에폭시기의 수는, 1 이상이고, 바람직하게는 2 이상이다.As an epoxy compound (A), if it is a compound which has one or more epoxy groups in 1 molecule, a well-known thing can be used suitably, The kind in particular is not limited. The number of epoxy groups per molecule of an epoxy compound (A) is 1 or more, Preferably it is 2 or more.

에폭시 화합물 (A) 로는, 특별히 한정되지 않고, 종래 공지된 에폭시 수지를 사용할 수 있고, 예를 들어, 비페닐아르알킬형 에폭시 화합물, 나프탈렌형 에폭시 화합물, 비스나프탈렌형 에폭시 화합물, 다관능 페놀형 에폭시 수지, 나프틸렌에테르형 에폭시 수지, 페놀아르알킬형 에폭시 수지, 페놀 노볼락형 에폭시 수지, 크레졸 노볼락형 에폭시 수지, 자일렌 노볼락형 에폭시 수지, 나프탈렌 골격 변성 노볼락형 에폭시 수지, 디시클로펜타디엔 노볼락형 에폭시 수지, 비페닐 노볼락형 에폭시 수지, 페놀아르알킬 노볼락형 에폭시 수지, 나프톨아르알킬 노볼락형 에폭시 수지, 아르알킬 노볼락형 에폭시 수지, 방향족 탄화수소포름알데히드형 에폭시 화합물, 안트라퀴논형 에폭시 화합물, 안트라센형 에폭시 수지, 나프톨아르알킬형 에폭시 화합물, 디시클로펜타디엔형 에폭시 수지, 자일록형 에폭시 화합물, 비스페놀 A 형 에폭시 수지, 비스페놀 E 형 에폭시 수지, 비스페놀 F 형 에폭시 수지, 비스페놀 S 형 에폭시 수지, 비스페놀 A 노볼락형 에폭시 수지, 페놀형 에폭시 화합물, 비페닐형 에폭시 수지, 아르알킬 노볼락형 에폭시 수지, 트리아진 골격 에폭시 화합물, 트리글리시딜이소시아누레이트, 지환식 에폭시 수지, 폴리올형 에폭시 수지, 글리시딜아민, 글리시딜형 에스테르 수지, 부타디엔 등의 이중 결합 함유 화합물의 이중 결합을 에폭시화한 화합물, 및, 수산기 함유 실리콘 수지류와 에피클로르하이드린의 반응에 의해서 얻어지는 화합물 등을 들 수 있다. 에폭시 화합물 (A) 는, 1 종을 단독으로 사용해도 되고, 2 종 이상을 임의의 조합 및 비율로 병용해도 된다.It does not specifically limit as an epoxy compound (A), A conventionally well-known epoxy resin can be used, For example, a biphenyl aralkyl type epoxy compound, a naphthalene type epoxy compound, a bisnaphthalene type epoxy compound, a polyfunctional phenol type epoxy Resin, naphthylene ether type epoxy resin, phenol aralkyl type epoxy resin, phenol novolak type epoxy resin, cresol novolak type epoxy resin, xylene novolak type epoxy resin, naphthalene skeleton modified novolak type epoxy resin, dicyclopenta Diene novolak type epoxy resin, biphenyl novolak type epoxy resin, phenol aralkyl novolak type epoxy resin, naphthol aralkyl novolak type epoxy resin, aralkyl novolak type epoxy resin, aromatic hydrocarbon formaldehyde type epoxy compound, anthra Quinone type epoxy compound, anthracene type epoxy resin, naphthol aralkyl type epoxy compound, dicyclopentadiene type epoxy resin, xylok type epoxy compound, bisphenol A type epoxy resin, bisphenol E type epoxy resin, bisphenol F type epoxy resin, bisphenol S Type epoxy resin, bisphenol A novolak type epoxy resin, phenol type epoxy compound, biphenyl type epoxy resin, aralkyl novolak type epoxy resin, triazine skeleton epoxy compound, triglycidyl isocyanurate, alicyclic epoxy resin, A compound obtained by epoxidizing a double bond of a compound containing double bonds such as polyol type epoxy resin, glycidylamine, glycidyl type ester resin, butadiene, and a compound obtained by reaction of hydroxyl group containing silicone resin with epichlorhydrin and the like. An epoxy compound (A) may be used individually by 1 type, and may use 2 or more types together by arbitrary combinations and a ratio.

또한, 상기 예시에 기재한 바와 같이, 본 명세서에서는, 어느 수지 또는 화합물을 에폭시화하여 얻어지는 구조를 갖는 에폭시 화합물을, 그 수지 또는 화합물의 명칭에「∼ 형 에폭시 화합물」로 기재하여 나타내는 경우가 있다.In addition, as described in the above example, in this specification, an epoxy compound having a structure obtained by epoxidizing a certain resin or compound may be described as "-type epoxy compound" in the name of the resin or compound. .

이 중에서도, 에폭시 화합물 (A) 로는, 절연층과 도체층의 밀착성 및 난연성 등을 향상시키는 관점에서, 비페닐아르알킬형 에폭시 화합물, 나프탈렌형 에폭시 화합물, 비스나프탈렌형 에폭시 화합물, 방향족 탄화수소포름알데히드형 에폭시 화합물, 안트라퀴논형 에폭시 화합물, 및 나프톨아르알킬형 에폭시 화합물로 이루어지는 군에서 선택되는 1 종 또는 2 종 이상인 것이 바람직하다.Among them, the epoxy compound (A) is a biphenyl aralkyl type epoxy compound, a naphthalene type epoxy compound, a bisnaphthalene type epoxy compound, an aromatic hydrocarbon formaldehyde type, from the viewpoint of improving the adhesion between the insulating layer and the conductor layer, the flame retardancy, and the like. It is preferable that it is 1 type, or 2 or more types chosen from the group which consists of an epoxy compound, an anthraquinone type epoxy compound, and a naphthol aralkyl type epoxy compound.

또한, 수지 조성물의 열팽창률을 보다 더 낮추는 관점에서, 에폭시 화합물 (A) 는, 비페닐아르알킬형 에폭시 수지, 나프탈렌형 에폭시 화합물, 비스나프탈렌형 에폭시 화합물 및 안트라퀴논형 에폭시 화합물로 이루어지는 군에서 선택되는 1 종 또는 2 종 이상인 것이 바람직하고, 비페닐아르알킬형 에폭시 수지가 보다 바람직하다.In addition, from the viewpoint of further lowering the coefficient of thermal expansion of the resin composition, the epoxy compound (A) is selected from the group consisting of a biphenyl aralkyl type epoxy resin, a naphthalene type epoxy compound, a bisnaphthalene type epoxy compound, and an anthraquinone type epoxy compound It is preferable that it is used 1 type, or 2 or more types, and a biphenyl aralkyl type epoxy resin is more preferable.

비페닐아르알킬형 에폭시 화합물로는, 특별히 한정되지 않는데, 예를 들어, 하기 식 (I) 로 나타내는 화합물이 바람직하다. 이와 같은 비페닐아르알킬형 에폭시 수지를 사용함으로써, 상기 외에, 성형성 및 표면 경도가 보다 향상되는 경향이 있다.Although it does not specifically limit as a biphenyl aralkyl type epoxy compound, For example, the compound represented by following formula (I) is preferable. By using such a biphenyl aralkyl type epoxy resin, there exists a tendency for a moldability and surface hardness to improve more other than the above.

[화학식 8] [Formula 8]

Figure pct00008
Figure pct00008

(식 (I) 중, n1 은 1 이상의 정수를 나타낸다. n1 의 상한치는, 바람직하게는 10 이고, 보다 바람직하게는 7 이다.) (In formula (I), n1 represents an integer greater than or equal to 1. The upper limit of n1 is preferably 10, and more preferably 7).

에폭시 화합물 (A) 의 함유량은, 에폭시 화합물 (A) 및 경화제 (B) 의 합계 함유량 100 질량부에 대해서, 바람직하게는 30 ∼ 70 질량부이고, 보다 바람직하게는 35 ∼ 65 질량부이며, 더욱 바람직하게는 40 ∼ 60 질량부이다. 에폭시 화합물 (A) 의 함유량이 상기 범위 내임으로써, 성형성 및 표면 경도가 보다 향상되는 경향이 있다. 또한, 2 종 이상의 에폭시 화합물 (A) 를 병용하는 경우에는, 이것들의 합계 함유량이 상기 값을 만족하는 것이 바람직하다.The content of the epoxy compound (A) is preferably 30 to 70 parts by mass, more preferably 35 to 65 parts by mass, with respect to 100 parts by mass of the total content of the epoxy compound (A) and the curing agent (B), further Preferably it is 40-60 mass parts. When content of an epoxy compound (A) exists in the said range, there exists a tendency for a moldability and surface hardness to improve more. Moreover, when using together 2 or more types of epoxy compounds (A), it is preferable that these total content satisfy|fills the said value.

〔경화제 (B)〕[curing agent (B)]

경화제 (B) 는, 에폭시 화합물 (A) 와 반응하는 관능기를 갖는 화합물이다. 이와 같은 경화제 (B) 로는, 특별히 제한되지 않는데, 예를 들어, 페놀 화합물 (E), 시안산에스테르 화합물 (F), 산 무수물, 아민 화합물 등을 들 수 있다. 경화제 (B) 는, 1 종을 단독으로 사용해도 되고, 2 종 이상을 임의의 조합 및 비율로 병용해도 된다.A hardening|curing agent (B) is a compound which has a functional group which reacts with an epoxy compound (A). Although it does not restrict|limit especially as such a hardening|curing agent (B), For example, a phenol compound (E), a cyanate ester compound (F), an acid anhydride, an amine compound, etc. are mentioned. A hardening|curing agent (B) may be used individually by 1 type, and may use 2 or more types together by arbitrary combinations and a ratio.

이 중에서도, 페놀 화합물 (E) 및/또는 시안산에스테르 화합물 (F) 가 바람직하다. 이와 같은 경화제 (B) 를 사용함으로써, 성형성 및 표면 경도가 보다 향상되는 경향이 있다.Among these, a phenol compound (E) and/or a cyanate ester compound (F) is preferable. By using such a hardening|curing agent (B), there exists a tendency for a moldability and surface hardness to improve more.

(페놀 화합물 (E)) (Phenolic compound (E))

페놀 화합물 (E) 는, 1 분자 중에 페놀성 수산기를 2 개 이상 갖는 화합물이면, 공지된 것을 적절히 사용할 수 있고, 그 종류는 특별히 한정되지 않는다.A well-known thing can be used suitably as long as a phenolic compound (E) is a compound which has two or more phenolic hydroxyl groups in 1 molecule, The kind in particular is not limited.

페놀 화합물 (E) 로는, 특별히 제한되지 않는데, 예를 들어, 크레졸 노볼락형 페놀 수지, 하기 식 (Ⅱ) 로 나타내는 비페닐아르알킬형 페놀 수지, 하기 식 (Ⅲ) 으로 나타내는 나프톨아르알킬형 페놀 수지, 아미노트리아진 노볼락형 페놀 수지, 나프탈렌형 페놀 수지, 페놀 노볼락 수지, 알킬페놀 노볼락 수지, 비스페놀 A 형 노볼락 수지, 디시클로펜타디엔형 페놀 수지, 자일록형 페놀 수지, 테르펜 변성 페놀 수지, 및 폴리비닐페놀류 등을 들 수 있다. 페놀 화합물 (E) 는, 1 종을 단독으로 사용해도 되고, 2 종 이상을 조합하여 사용해도 된다.Although it does not restrict|limit especially as a phenol compound (E), For example, cresol novolak-type phenol resin, the biphenyl aralkyl type phenol resin represented by the following formula (II), and a naphthol aralkyl type phenol represented by the following formula (III) Resin, aminotriazine novolak type phenol resin, naphthalene type phenol resin, phenol novolak resin, alkylphenol novolak resin, bisphenol A type novolac resin, dicyclopentadiene type phenol resin, xylok type phenol resin, terpene modified phenol Resin, polyvinyl phenols, etc. are mentioned. A phenol compound (E) may be used individually by 1 type, and may be used in combination of 2 or more type.

이 중에서도, 성형성 및 표면 경도의 관점에서, 크레졸 노볼락형 페놀 수지, 하기 식 (Ⅱ) 로 나타내는 비페닐아르알킬형 페놀 수지, 하기 식 (Ⅲ) 으로 나타내는 나프톨아르알킬형 페놀 수지, 아미노트리아진 노볼락형 페놀 수지, 및 나프탈렌형 페놀 수지가 바람직하고, 하기 식 (Ⅱ) 로 나타내는 비페닐아르알킬형 페놀 수지, 하기 식 (Ⅲ) 으로 나타내는 나프톨아르알킬형 페놀 수지가 보다 바람직하다.Among these, from the viewpoint of moldability and surface hardness, cresol novolak-type phenol resin, biphenyl aralkyl-type phenol resin represented by the following formula (II), naphthol aralkyl-type phenol resin represented by the following formula (III), aminotri An azine novolak-type phenol resin and a naphthalene-type phenol resin are preferable, and the biphenyl aralkyl-type phenol resin represented by the following formula (II) and a naphthol aralkyl-type phenol resin represented by the following formula (III) are more preferable.

[화학식 9] [Formula 9]

Figure pct00009
Figure pct00009

(식 (Ⅱ) 중, n2 는 1 이상의 정수를 나타낸다. n2 의 상한치는, 바람직하게는 10, 보다 바람직하게는 7 이고, 더욱 바람직하게는 6 이다.) (In formula (II), n2 represents an integer greater than or equal to 1. The upper limit of n2 is preferably 10, more preferably 7, still more preferably 6.)

[화학식 10] [Formula 10]

Figure pct00010
Figure pct00010

(식 (Ⅲ) 중, R1, R2 는, 각각 독립적으로, 수소 원자 또는 메틸기를 나타내고, n3 은 1 이상의 정수를 나타낸다. n3 의 상한치는, 바람직하게는 10, 보다 바람직하게는 7 이고, 더욱 바람직하게는 6 이다.) (In formula (III), R 1 and R 2 each independently represent a hydrogen atom or a methyl group, and n3 represents an integer of 1 or more. The upper limit of n3 is preferably 10, more preferably 7, More preferably, it is 6.)

페놀 화합물 (E) 의 함유량은, 에폭시 화합물 (A) 및 경화제 (B) 의 합계 함유량 100 질량부에 대해서, 바람직하게는 30 ∼ 70 질량부이고, 보다 바람직하게는 35 ∼ 65 질량부이며, 더욱 바람직하게는 40 ∼ 60 질량부이다. 페놀 화합물 (E) 의 함유량이 상기 범위 내임으로써, 성형성 및 표면 경도가 보다 향상되는 경향이 있다. 또한, 2 종 이상의 페놀 화합물 (E) 를 병용하는 경우에는, 이것들의 합계 함유량이 상기 값을 만족하는 것이 바람직하다.To [ content of a phenol compound (E) / 100 mass parts of total content of an epoxy compound (A) and a hardening|curing agent (B)), Preferably it is 30-70 mass parts, More preferably, it is 35-65 mass parts, More Preferably it is 40-60 mass parts. When content of a phenol compound (E) is in the said range, there exists a tendency for a moldability and surface hardness to improve more. Moreover, when using together 2 or more types of phenolic compounds (E), it is preferable that these total content satisfy|fills the said value.

(시안산에스테르 화합물 (F)) (Cyanic acid ester compound (F))

시안산에스테르 화합물 (F) 는, 1 분자 중에 방향 고리에 직접 결합된 시안산에스테르기를 2 개 이상 갖는 화합물이면, 공지된 것을 적절히 사용할 수 있고, 그 종류는 특별히 한정되지 않는다.As the cyanate ester compound (F), a known compound can be appropriately used as long as it is a compound having two or more cyanate ester groups directly bonded to an aromatic ring in one molecule, and the type thereof is not particularly limited.

시안산에스테르 화합물 (F) 로는, 특별히 제한되지 않는데, 예를 들어, 나프톨아르알킬형 시안산에스테르 화합물, 노볼락형 시안산에스테르 화합물, 방향족 탄화수소포름알데히드형 시안산에스테르 화합물, 및 비페닐아르알킬형 시안산에스테르 화합물을 들 수 있다. 시안산에스테르 화합물 (F) 는, 1 종을 단독으로 사용해도 되고, 2 종 이상을 조합하여 사용해도 된다.Although it does not restrict|limit especially as a cyanate ester compound (F), For example, a naphthol aralkyl type cyanate ester compound, a novolak type cyanate ester compound, an aromatic hydrocarbon formaldehyde type cyanate ester compound, and a biphenyl aralkyl A type cyanate ester compound is mentioned. A cyanate ester compound (F) may be used individually by 1 type, and may be used in combination of 2 or more type.

이 중에서도, 성형성 및 표면 경도의 관점에서, 나프톨아르알킬형 시안산에스테르 화합물 또는 노볼락형 시안산에스테르 화합물이 바람직하다.Among these, a naphthol aralkyl type cyanate ester compound or a novolak type cyanate ester compound is preferable from a viewpoint of a moldability and surface hardness.

상기 나프톨아르알킬형 시안산에스테르 화합물로는, 특별히 한정되지 않는데, 예를 들어, 하기 식 (VI) 으로 나타내는 화합물이 바람직하다.Although it does not specifically limit as said naphthol aralkyl type cyanate ester compound, For example, the compound represented by following formula (VI) is preferable.

[화학식 11] [Formula 11]

Figure pct00011
Figure pct00011

(상기 식 (VI) 중, R5 는, 각각 독립적으로, 수소 원자 또는 메틸기를 나타내고, 이 중에서도 수소 원자가 바람직하다. 또, 상기 식 (VI) 중, n6 은 1 이상의 정수를 나타낸다. n6 의 상한치는, 바람직하게는 10 이고, 보다 바람직하게는 6 이다.) (In the formula (VI), R 5 each independently represents a hydrogen atom or a methyl group, and among these, a hydrogen atom is preferable. In the formula (VI), n6 represents an integer of 1 or more. Upper limit of n6 is preferably 10, more preferably 6).

또, 노볼락형 시안산에스테르 화합물로는, 특별히 한정되지 않는데, 예를 들어, 하기 식 (Ⅶ) 로 나타내는 화합물이 바람직하다.Moreover, although it does not specifically limit as a novolak-type cyanate ester compound, For example, the compound represented by following formula (VII) is preferable.

[화학식 12] [Formula 12]

Figure pct00012
Figure pct00012

(상기 식 (Ⅶ) 중, R6 은, 각각 독립적으로, 수소 원자 또는 메틸기를 나타내고, 이 중에서도 수소 원자가 바람직하다. 또, 상기 식 (Ⅶ) 중, n7 은 1 이상의 정수를 나타낸다. n7 의 상한치는, 바람직하게는 10 이고, 보다 바람직하게는 7 이다.) (In the formula (VII), R 6 each independently represents a hydrogen atom or a methyl group, and among these, a hydrogen atom is preferable. In the formula (VII), n7 represents an integer of 1 or more. Upper limit of n7 is preferably 10, more preferably 7).

시안산에스테르 화합물 (F) 의 함유량은, 에폭시 화합물 (A) 및 경화제 (B) 의 합계 함유량 100 질량부에 대해서, 바람직하게는 30 ∼ 70 질량부이고, 보다 바람직하게는 35 ∼ 65 질량부이며, 더욱 바람직하게는 40 ∼ 60 질량부이다. 시안산에스테르 화합물 (F) 의 함유량이 상기 범위 내임으로써, 성형성 및 표면 경도가 보다 향상되는 경향이 있다. 또한, 2 종 이상의 시안산에스테르 화합물 (F) 를 병용하는 경우에는, 이것들의 합계 함유량이 상기 값을 만족하는 것이 바람직하다.To [ content of cyanate ester compound (F) / 100 mass parts of total content of an epoxy compound (A) and a hardening|curing agent (B)), Preferably it is 30-70 mass parts, More preferably, it is 35-65 mass parts, , More preferably, it is 40-60 mass parts. When content of a cyanate ester compound (F) exists in the said range, there exists a tendency for a moldability and surface hardness to improve more. Moreover, when using together 2 or more types of cyanate ester compounds (F), it is preferable that these total content satisfy|fills the said value.

시안산에스테르 화합물 (F) 및 페놀 화합물 (E) 는 양자 모두 수지 조성물에 있어서의 기능이 경화제 (B) 이기 때문에, 그 함유량은 합산하여 계산한다. 시안산에스테르 화합물 (F) 및 페놀 화합물 (E) 의 합계 함유량은, 에폭시 화합물 (A) 및 경화제 (B) 의 합계 함유량 100 질량부에 대해서, 바람직하게는 30 ∼ 70 질량부이고, 보다 바람직하게는 35 ∼ 65 질량부이며, 더욱 바람직하게는 40 ∼ 60 질량부이다. 시안산에스테르 화합물 (F) 및 페놀 화합물 (E) 의 합계 함유량이 상기 범위 내임으로써, 성형성 및 표면 경도가 보다 향상되는 경향이 있다.Since both a cyanate ester compound (F) and a phenol compound (E) have the function in a resin composition as a hardening|curing agent (B), the content adds up and calculates. The total content of the cyanate ester compound (F) and the phenol compound (E) is preferably 30 to 70 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the total content of the epoxy compound (A) and the curing agent (B), more preferably is 35 to 65 parts by mass, more preferably 40 to 60 parts by mass. When total content of a cyanate ester compound (F) and a phenol compound (E) exists in the said range, there exists a tendency for a moldability and surface hardness to improve more.

〔흑색 입자 (C)〕[Black Particles (C)]

흑색 입자 (C) 로는, 특별히 제한되지 않고, 예를 들어, 카본 블랙, 그라파이트 분말, 활성탄 분말, 인편상 흑연 분말, 아세틸렌 블랙, 케첸 블랙, 풀러렌, 단층 카본 나노 튜브, 복층 카본 나노 튜브, 카본 나노 콘 등의 탄소계 입자 (카본 입자) ; 티탄 블랙 등의 티탄계 입자를 들 수 있다. 이 중에서도, 카본 입자가 바람직하고, 카본 블랙이 보다 바람직하다. 흑색 입자 (C) 는, 1 종을 단독으로 사용해도 되고, 2 종 이상을 조합하여 사용해도 된다.The black particles (C) are not particularly limited, and include, for example, carbon black, graphite powder, activated carbon powder, flaky graphite powder, acetylene black, Ketjen black, fullerene, single-walled carbon nanotube, double-walled carbon nanotube, carbon nano carbon-based particles (carbon particles) such as cones; Titanium-type particle|grains, such as titanium black, are mentioned. Among these, carbon particles are preferable, and carbon black is more preferable. A black particle (C) may be used individually by 1 type, and may be used in combination of 2 or more type.

흑색 입자 (C) 는, 표면의 적어도 일부를 열경화성 수지로 피복된 것을 사용해도 된다. 이와 같은 흑색 입자 (C) 를 사용함으로써, 성형성 및 절연 신뢰성이 보다 향상되는 경향이 있다. 흑색 입자 (C) 의 표면을 피복하는 열경화성 수지로는, 특별히 제한되지 않는데, 예를 들어, 에폭시 수지, 폴리우레탄 수지, 아크릴 수지, 폴리에틸렌 수지, 폴리카보네이트 수지, 폴리아미드 수지를 들 수 있다.The black particle (C) may use what coat|covered at least one part of the surface with the thermosetting resin. By using such a black particle (C), there exists a tendency for a moldability and insulation reliability to improve more. Although it does not restrict|limit especially as a thermosetting resin which coat|covers the surface of black particle (C), For example, an epoxy resin, a polyurethane resin, an acrylic resin, a polyethylene resin, a polycarbonate resin, and a polyamide resin are mentioned.

흑색 입자 (C) 의 평균 입자경은, 바람직하게는 1 ㎛ 이하이고, 보다 바람직하게는 0.5 ㎛ 이하이다. 평균 입자경이 1 ㎛ 이하임으로써, 차광성, 성형성, 및 표면 경도가 보다 향상되는 경향이 있다. 또한, 흑색 입자 (C) 의 평균 입자경은, 흑색 입자 (C) 가 열경화성 수지로 피복된 것인 경우에는, 피복 후의 평균 입자경을 말하고, 흑색 입자 (C) 가 열경화성 수지로 피복된 것이 아닌 경우에는, 피복되어 있지 않은 상태의 평균 입자경을 말한다. 또한, 평균 입자경이란, 체적 기준의 평균 입자경 (모드 직경) 이고, 공지된 방법에 의해서 측정할 수 있다.The average particle diameter of black particle (C) becomes like this. Preferably it is 1 micrometer or less, More preferably, it is 0.5 micrometer or less. When an average particle diameter is 1 micrometer or less, there exists a tendency for light-shielding property, a moldability, and surface hardness to improve more. In addition, the average particle diameter of black particle (C) refers to the average particle diameter after coating when black particle (C) is coated with a thermosetting resin, When black particle (C) is not coated with a thermosetting resin, , refers to the average particle diameter of the uncoated state. In addition, an average particle diameter is a volume-based average particle diameter (mode diameter), and can measure with a well-known method.

흑색 입자 (C) 의 함유량은, 에폭시 화합물 (A) 와 경화제 (B) 의 합계 함유량 100 질량부에 대해서, 1 ∼ 25 질량부이고, 바람직하게는 1 ∼ 20 질량부이며, 보다 바람직하게는 3 ∼ 17 질량부이고, 더욱 바람직하게는 5 ∼ 15 질량부이다. 흑색 입자 (C) 의 함유량이 상기 범위 내임으로써, 차광성 및 성형성이 보다 향상되는 경향이 있다.Content of black particle (C) is 1-25 mass parts with respect to 100 mass parts of total content of an epoxy compound (A) and a hardening|curing agent (B), Preferably it is 1-20 mass parts, More preferably, it is 3 - 17 mass parts, More preferably, it is 5-15 mass parts. When content of a black particle (C) exists in the said range, there exists a tendency for light-shielding property and a moldability to improve more.

흑색 입자 (C) 의 함유량은, 무기 충전재 (D) 의 함유량 100 질량부에 대해서, 1 ∼ 20 질량부이고, 바람직하게는 2 ∼ 17 질량부이며, 보다 바람직하게는 3 ∼ 10 질량부이다. 무기 충전재 (D) 에 대한 흑색 입자 (C) 의 함유량이 상기 범위 내임으로써, 차광성 및 성형성이 보다 향상되는 경향이 있다.Content of a black particle (C) is 1-20 mass parts with respect to content 100 mass parts of an inorganic filler (D), Preferably it is 2-17 mass parts, More preferably, it is 3-10 mass parts. When content of the black particle (C) with respect to an inorganic filler (D) exists in the said range, there exists a tendency for light-shielding property and a moldability to improve more.

〔무기 충전재 (D)〕[Inorganic filler (D)]

무기 충전재 (D) 로는, 특별히 한정되지 않는데, 예를 들어, 카올린, 소성 카올린, 소성 클레이, 미소성 클레이, 실리카 (예를 들어 천연 실리카, 용융 실리카, 아모르퍼스 실리카, 중공 실리카, 습식 실리카, 합성 실리카, 아에로질 등), 알루미늄 화합물 (예를 들어 베마이트, 수산화알루미늄, 알루미나, 하이드로탈사이트, 붕산알루미늄, 질화알루미늄 등), 마그네슘 화합물 (예를 들어 탄산마그네슘, 산화마그네슘, 수산화마그네슘 등), 칼슘 화합물 (예를 들어 탄산칼슘, 수산화칼슘, 황산칼슘, 아황산칼슘, 붕산칼슘 등), 몰리브덴 화합물 (예를 들어 산화몰리브덴, 몰리브덴산아연 등), 탤크 (예를 들어 천연 탤크, 소성 탤크 등), 마이카 (운모), 유리 (예를 들어 A 유리, NE 유리, C 유리, L 유리, S 유리, M 유리 G20, E 유리, T 유리, D 유리, S 유리, Q 유리 등의, 단섬유상 유리, 구상 유리, 미분말 유리, 중공 유리 등), 산화티탄, 산화아연, 산화지르코늄, 황산바륨, 붕산아연, 붕산바륨, 붕산나트륨, 질화붕소, 응집 질화붕소, 질화규소, 질화탄소, 티탄산스트론튬, 티탄산바륨, 주석산아연 등의 주석산염 등을 들 수 있다. 무기 충전재 (D) 는, 1 종을 단독으로 사용해도 되고, 2 종 이상을 임의의 조합 및 비율로 병용해도 된다.The inorganic filler (D) is not particularly limited, but for example, kaolin, calcined kaolin, calcined clay, uncalcined clay, silica (e.g., natural silica, fused silica, amorphous silica, hollow silica, wet silica, synthetic Silica, aerosil, etc.), aluminum compounds (eg boehmite, aluminum hydroxide, alumina, hydrotalcite, aluminum borate, aluminum nitride, etc.), magnesium compounds (eg magnesium carbonate, magnesium oxide, magnesium hydroxide, etc.) ), calcium compounds (eg, calcium carbonate, calcium hydroxide, calcium sulfate, calcium sulfite, calcium borate, etc.), molybdenum compounds (eg, molybdenum oxide, zinc molybdate, etc.), talc (eg natural talc, calcined talc, etc.) ), mica (mica), glass (for example, A glass, NE glass, C glass, L glass, S glass, M glass G20, E glass, T glass, D glass, S glass, Q glass, etc., short fibers glass, spherical glass, fine powder glass, hollow glass, etc.), titanium oxide, zinc oxide, zirconium oxide, barium sulfate, zinc borate, barium borate, sodium borate, boron nitride, boron agglomeration, boron nitride, silicon nitride, carbon nitride, strontium titanate, titanic acid Tartrates, such as barium and zinc stannate, etc. are mentioned. An inorganic filler (D) may be used individually by 1 type, and may use 2 or more types together by arbitrary combinations and a ratio.

이 중에서도, 무기 충전재 (D) 로는, 실리카, 수산화알루미늄, 알루미나, 베마이트, 산화마그네슘, 및 수산화마그네슘으로 이루어지는 군에서 선택되는 1 종 또는 2 종 이상이 바람직하다. 이와 같은 무기 충전재 (D) 를 사용함으로써, 성형성 및 표면 경도가 보다 향상되는 경향이 있다.Among these, as an inorganic filler (D), the 1 type(s) or 2 or more types chosen from the group which consists of silica, aluminum hydroxide, alumina, a boehmite, magnesium oxide, and magnesium hydroxide is preferable. By using such an inorganic filler (D), there exists a tendency for a moldability and surface hardness to improve more.

무기 충전재 (D) 의 함유량은, 에폭시 화합물 (A) 와 경화제 (B) 의 합계 함유량 100 질량부에 대해서, 100 ∼ 200 질량부이고, 바람직하게는 105 ∼ 180 질량부이며, 보다 바람직하게는 110 ∼ 160 질량부이고, 더욱 바람직하게는 110 ∼ 155 질량부이다. 무기 충전재 (D) 의 함유량이 상기 범위 내임으로써, 성형성 및 표면 경도가 보다 향상되는 경향이 있다.Content of an inorganic filler (D) is 100-200 mass parts with respect to 100 mass parts of total content of an epoxy compound (A) and a hardening|curing agent (B), Preferably it is 105-180 mass parts, More preferably, it is 110 -160 mass parts, More preferably, it is 110-155 mass parts. When content of an inorganic filler (D) exists in the said range, there exists a tendency for a moldability and surface hardness to improve more.

무기 충전재 (D) 와 흑색 입자 (C) 의 합계 함유량은, 에폭시 화합물 (A) 와 경화제 (B) 의 합계 함유량 100 질량부에 대해서, 101 ∼ 180 질량부이고, 바람직하게는 105 ∼ 160 질량부이며, 보다 바람직하게는 110 ∼ 150 질량부이다. 무기 충전재 (D) 와 흑색 입자 (C) 의 합계 함유량이 상기 범위 내임으로써, 성형성 및 표면 경도가 보다 향상되는 경향이 있다.Total content of an inorganic filler (D) and black particle (C) is 101-180 mass parts with respect to 100 mass parts of total content of an epoxy compound (A) and a hardening|curing agent (B), Preferably it is 105-160 mass parts. and More preferably, it is 110-150 mass parts. When total content of an inorganic filler (D) and a black particle (C) exists in the said range, there exists a tendency for a moldability and surface hardness to improve more.

〔말레이미드 화합물 (G)〕[Maleimide Compound (G)]

말레이미드 화합물 (G) 는, 1 분자 중에 말레이미드기를 1 개 이상 갖는 화합물이면, 공지된 것을 적절히 사용할 수 있고, 그 종류는 특별히 한정되지 않는다. 말레이미드 화합물 (G) 의 1 분자당 말레이미드기의 수는, 1 이상이고, 바람직하게는 2 이상이다.A well-known thing can be used suitably as long as a maleimide compound (G) is a compound which has one or more maleimide groups in 1 molecule, The kind in particular is not limited. The number of maleimide groups per molecule of a maleimide compound (G) is 1 or more, Preferably it is 2 or more.

말레이미드 화합물 (G) 로는, 특별히 제한되지 않는데, 예를 들어, N-페닐말레이미드, N-하이드록시페닐말레이미드, 비스(4-말레이미드페닐)메탄, 2,2-비스{4-(4-말레이미드페녹시)-페닐}프로판, 비스(3,5-디메틸-4-말레이미드페닐)메탄, 비스(3-에틸-5-메틸-4-말레이미드페닐)메탄, 비스(3,5-디에틸-4-말레이미드페닐)메탄, 하기 식 (IV) 로 나타내는 말레이미드 화합물, 및 하기 식 (V) 로 나타내는 말레이미드 화합물, 이들 말레이미드 화합물의 프레폴리머, 및, 상기 말레이미드 화합물과 아민 화합물의 프레폴리머 등을 들 수 있다. 말레이미드 화합물 (G) 는, 1 종을 단독으로 사용해도 되고, 2 종 이상을 임의의 조합 및 비율로 병용해도 된다.Although it does not restrict|limit especially as a maleimide compound (G), For example, N-phenylmaleimide, N-hydroxyphenylmaleimide, bis(4-maleimidephenyl)methane, 2,2-biss4-( 4-maleimidephenoxy)-phenyl}propane, bis(3,5-dimethyl-4-maleimidephenyl)methane, bis(3-ethyl-5-methyl-4-maleimidephenyl)methane, bis(3, 5-diethyl-4-maleimidephenyl)methane, a maleimide compound represented by the following formula (IV), and a maleimide compound represented by the following formula (V), a prepolymer of these maleimide compounds, and the maleimide compound and the prepolymer of an amine compound, etc. are mentioned. A maleimide compound (G) may be used individually by 1 type, and may use 2 or more types together by arbitrary combinations and a ratio.

이 중에서도, 비스(4-말레이미드페닐)메탄, 2,2'-비스{4-(4-말레이미드페녹시)-페닐}프로판, 비스(3-에틸-5-메틸-4-말레이미드페닐)메탄, 하기 식 (IV) 로 나타내는 말레이미드 화합물, 및 하기 식 (V) 로 나타내는 말레이미드 화합물로 이루어지는 군에서 선택되는 1 종 이상이 바람직하다.Among these, bis(4-maleimidephenyl)methane, 2,2'-bisb4-(4-maleimidephenoxy)-phenylbpropane, and bis(3-ethyl-5-methyl-4-maleimidephenyl) ) At least one selected from the group consisting of methane, a maleimide compound represented by the following formula (IV), and a maleimide compound represented by the following formula (V) is preferable.

[화학식 13] [Formula 13]

Figure pct00013
Figure pct00013

(식 (IV) 중, R3 은, 각각 독립적으로, 수소 원자 또는 메틸기를 나타내고, n4 는 1 이상의 정수를 나타낸다. n4 의 상한치는, 바람직하게는 10 이고, 보다 바람직하게는 7 이며, 보다 바람직하게는 6 이다.) (In formula (IV) , each R 3 independently represents a hydrogen atom or a methyl group, and n4 represents an integer of 1 or more. The upper limit of n4 is preferably 10, more preferably 7, and more preferably It is usually 6.)

[화학식 14] [Formula 14]

Figure pct00014
Figure pct00014

(식 (V) 중, R4 는, 각각 독립적으로, 수소 원자, 탄소수 1 ∼ 5 의 알킬기 또는 페닐기를 나타내고, n5 는, 평균치이며, 1 < n5 ≤ 5 를 나타낸다.) (In the formula (V), R 4 each independently represents a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms, or a phenyl group, n5 is an average value, and 1 < n5 ≤ 5.)

말레이미드 화합물 (G) 의 함유량은, 에폭시 화합물 (A) 및 경화제 (B) 의 합계 함유량 100 질량부에 대해서, 바람직하게는 5 ∼ 35 질량부이고, 보다 바람직하게는 10 ∼ 30 질량부이며, 더욱 바람직하게는 15 ∼ 20 질량부이다. 말레이미드 화합물 (G) 의 함유량이 상기 범위 내임으로써, 성형성 및 표면 경도가 보다 향상되는 경향이 있다. 또한, 2 종 이상의 말레이미드 화합물 (G) 를 병용하는 경우에는, 이것들의 합계 함유량이 상기 값을 만족하는 것이 바람직하다.The content of the maleimide compound (G) is preferably 5 to 35 parts by mass, more preferably 10 to 30 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the total content of the epoxy compound (A) and the curing agent (B), More preferably, it is 15-20 mass parts. When content of a maleimide compound (G) is in the said range, there exists a tendency for a moldability and surface hardness to improve more. Moreover, when using together 2 or more types of maleimide compounds (G), it is preferable that these total content satisfy|fills the said value.

〔실란 커플링제 및 습윤 분산제〕[Silane coupling agent and wetting and dispersing agent]

제 1 실시형태의 수지 조성물은, 실란 커플링제나 습윤 분산제를 추가로 함유해도 된다. 실란 커플링제나 습윤 분산제를 함유함으로써, 상기 충전재의 분산성, 수지 성분, 충전재, 및 후술하는 기재의 접착 강도가 보다 향상되는 경향이 있다.The resin composition of 1st Embodiment may contain a silane coupling agent and a wet dispersing agent further. By containing a silane coupling agent or a wetting and dispersing agent, there exists a tendency for the dispersibility of the said filler, a resin component, a filler, and the adhesive strength of the base material mentioned later to improve more.

실란 커플링제로는, 일반적으로 무기물의 표면 처리에 사용되고 있는 실란 커플링제이면, 특별히 한정되지 않는데, 예를 들어, γ-아미노프로필트리에톡시실란, N-β-(아미노에틸)-γ-아미노프로필트리메톡시실란 등의 아미노실란계 화합물 ; γ-글리시독시프로필트리메톡시실란 등의 에폭시실란계 화합물 ; γ-아크릴록시프로필트리메톡시실란 등의 아크릴실란계 화합물 ; N-β-(N-비닐벤질아미노에틸)-γ-아미노프로필트리메톡시실란 염산염 등의 카티오닉 실란계 화합물 ; 페닐실란계 화합물 등을 들 수 있다. 실란 커플링제는, 1 종 단독으로 사용해도 되고, 2 종 이상을 병용해도 된다.The silane coupling agent is not particularly limited as long as it is a silane coupling agent generally used for surface treatment of inorganic substances. For example, γ-aminopropyltriethoxysilane, N-β-(aminoethyl)-γ-amino aminosilane-based compounds such as propyltrimethoxysilane; Epoxysilane-type compounds, such as (gamma)-glycidoxy propyl trimethoxysilane; acrylsilane-type compounds, such as (gamma)-acryloxypropyl trimethoxysilane; cationic silane compounds such as N-β-(N-vinylbenzylaminoethyl)-γ-aminopropyltrimethoxysilane hydrochloride; A phenylsilane type compound etc. are mentioned. A silane coupling agent may be used individually by 1 type, and may use 2 or more types together.

습윤 분산제로는, 도료용에 사용되고 있는 분산 안정제이면, 특별히 한정되지 않는데, 예를 들어, 빅크케미·재팬 (주) 제조의 DISPERBYK-110, 111, 118, 180, 161, BYK-W996, W9010, W903 등을 들 수 있다.Although it will not specifically limit if it is a dispersion stabilizer used for paints as a wetting and dispersing agent, For example, DISPERBYK-110, 111, 118, 180, 161, BYK-W996, W9010 manufactured by Bick Chemie Japan Co., Ltd., W903 etc. are mentioned.

〔경화 촉진제〕[curing accelerator]

제 1 실시형태의 수지 조성물은, 경화 촉진제를 추가로 함유해도 된다. 경화 촉진제로는, 특별히 한정되지 않는데, 예를 들어, 2-에틸-4-메틸이미다졸, 2,4,5-트리페닐이미다졸 등의 이미다졸류 ; 과산화벤조일, 라우로일퍼옥사이드, 아세틸퍼옥사이드, 파라클로로벤조일퍼옥사이드, 디-tert-부틸-디-퍼프탈레이트 등의 유기 과산화물 ; 아조비스니트릴 등의 아조 화합물 ; N,N-디메틸벤질아민, N,N-디메틸아닐린, N,N-디메틸톨루이딘, 2-N-에틸아닐리노에탄올, 트리-n-부틸아민, 피리딘, 퀴놀린, N-메틸모르폴린, 트리에탄올아민, 트리에틸렌디아민, 테트라메틸부탄디아민, N-메틸피페리딘 등의 제 3 급 아민류 ; 페놀, 자일레놀, 크레졸, 레조르신, 카테콜 등의 페놀류 ; 나프텐산납, 스테아르산납, 나프텐산아연, 옥틸산아연, 올레산주석, 디부틸주석말레이트, 나프텐산망간, 나프텐산코발트, 아세틸아세톤철 등의 유기 금속염 ; 이들 유기 금속염을 페놀, 비스페놀 등의 수산기 함유 화합물에 용해시켜 이루어지는 것 ; 염화주석, 염화아연, 염화알루미늄 등의 무기 금속염 ; 디옥틸주석옥사이드, 그 밖의 알킬주석, 알킬주석옥사이드 등의 유기 주석 화합물 등을 들 수 있다.The resin composition of 1st Embodiment may contain a hardening accelerator further. Although it does not specifically limit as a hardening accelerator, For example, Imidazole, such as 2-ethyl- 4-methylimidazole and 2,4,5- triphenylimidazole; organic peroxides such as benzoyl peroxide, lauroyl peroxide, acetyl peroxide, parachlorobenzoyl peroxide, and di-tert-butyl-di-perphthalate; azo compounds such as azobisnitrile; N,N-dimethylbenzylamine, N,N-dimethylaniline, N,N-dimethyltoluidine, 2-N-ethylanilinoethanol, tri-n-butylamine, pyridine, quinoline, N-methylmorpholine, triethanolamine , tertiary amines such as triethylenediamine, tetramethylbutanediamine and N-methylpiperidine; phenols such as phenol, xylenol, cresol, resorcinol, and catechol; organometallic salts such as lead naphthenate, lead stearate, zinc naphthenate, zinc octylate, tin oleate, dibutyltin maleate, manganese naphthenate, cobalt naphthenate, and iron acetylacetone; What is formed by dissolving these organometallic salts in hydroxyl-containing compounds, such as a phenol and bisphenol; inorganic metal salts such as tin chloride, zinc chloride, and aluminum chloride; Organotin compounds, such as a dioctyl tin oxide, other alkyl tin, and an alkyl tin oxide, etc. are mentioned.

〔제 2 실시형태 : 수지 조성물〕[Second embodiment: resin composition]

제 2 실시형태의 수지 조성물은, 에폭시 화합물 (A) 와, 경화제 (B) 와, 흑색 입자 (C) 와, 무기 충전재 (D) 를 함유하는 수지 조성물로서, 그 수지 조성물을 사용하여 얻어지는 금속박 피복 적층판의 바콜 경도가 60 ∼ 90 이고, 그 금속박 피복 적층판으로부터 금속박이 제거된 기판의 파장 400 ∼ 2000 ㎚ 의 범위에 있어서의 투과율이 0.1 % 이하이다.The resin composition of 2nd Embodiment is a resin composition containing an epoxy compound (A), a hardening|curing agent (B), black particle (C), and an inorganic filler (D), Comprising: Metal foil coating obtained using this resin composition. Barcol hardness of a laminated board is 60-90, and the transmittance|permeability in the range of 400-2000 nm wavelength of the board|substrate from which the metal foil was removed from this metal-foil-clad laminated board is 0.1 % or less.

제 2 실시형태의 수지 조성물을 사용하여 얻어지는 금속박 피복 적층판의 바콜 경도는, 60 ∼ 90 이고, 바람직하게는 65 ∼ 75 이며, 보다 바람직하게는 70 ∼ 80 이다. 바콜 경도가 상기 범위 내임으로써, 충분한 표면 경도를 갖는다. 바콜 경도는, 무기 충전재 (D) 의 함유량, 흑색 입자 (C) 와 무기 충전재 (D) 의 함유량 비율, 및 무기 충전재 (D) 의 종류 등에 의해서 조정할 수 있다. 바콜 경도는, 실시예에 기재된 측정 방법에 의해서 측정할 수 있다.The Barcol hardness of the metal foil clad laminated board obtained using the resin composition of 2nd Embodiment is 60-90, Preferably it is 65-75, More preferably, it is 70-80. When Barcol's hardness is in the said range, it has sufficient surface hardness. Barcol hardness can be adjusted with content of an inorganic filler (D), content ratio of a black particle (C) and an inorganic filler (D), the kind of inorganic filler (D), etc. Barcol hardness can be measured by the measuring method as described in an Example.

또, 제 2 실시형태의 수지 조성물을 사용하여 얻어지는 금속박 피복 적층판으로부터 금속박이 제거된 기판의 파장 400 ∼ 2000 ㎚ 의 범위에 있어서의 투과율은, 0.1 % 이하이고, 투과율의 하한은 특별히 제한되지 않지만, 검출 한계 이하인 것이 바람직하다. 투과율이 0.1 % 이하임으로써, 충분한 차광성을 갖는다. 투과율은, 흑색 입자 (C) 의 함유량, 흑색 입자 (C) 와 무기 충전재 (D) 의 함유량 비율, 및 흑색 입자 (C) 의 종류 등에 의해서 조정할 수 있다. 투과율은, 실시예에 기재된 측정 방법에 의해서 측정할 수 있다.In addition, the transmittance in a wavelength range of 400 to 2000 nm of the substrate from which the metal foil is removed from the metal foil-clad laminate obtained using the resin composition of the second embodiment is 0.1% or less, and the lower limit of the transmittance is not particularly limited, It is preferably below the detection limit. When the transmittance is 0.1% or less, it has sufficient light-shielding properties. The transmittance|permeability can be adjusted with content of a black particle (C), content ratio of a black particle (C) and an inorganic filler (D), the kind of black particle (C), etc. Transmittance can be measured by the measuring method described in an Example.

그 밖에, 에폭시 화합물 (A) 와, 경화제 (B) 와, 흑색 입자 (C) 와, 무기 충전재 (D) 의 종류 및 함유량 등에 관해서는, 제 1 실시형태와 동일한 것을 예시할 수 있다.In addition, about the kind, content, etc. of an epoxy compound (A), a hardening|curing agent (B), a black particle (C), and an inorganic filler (D), the thing similar to 1st Embodiment can be illustrated.

〔수지 조성물의 제조 방법〕[Method for Producing Resin Composition]

상기한 본 실시형태의 수지 조성물 (제 1 실시형태 및 제 2 실시형태의 수지 조성물) 의 제조 방법은, 특별히 한정되지 않는데, 예를 들어, 상기 서술한 각 성분을 순차적으로 용제에 배합하고, 충분히 교반하는 방법을 들 수 있다. 이 때, 각 성분을 균일하게 용해 혹은 분산시키기 위해서, 교반, 혼합, 혼련 처리 등의 공지된 처리를 행할 수 있다. 구체적으로는, 적절한 교반 능력을 갖는 교반기를 부설한 교반조를 사용하여 교반 분산 처리를 행함으로써, 수지 조성물에 대한 충전재의 분산성을 향상시킬 수 있다. 상기한 교반, 혼합, 혼련 처리는, 예를 들어, 볼 밀, 비드 밀 등의 혼합을 목적으로 한 장치, 또는, 공전 또는 자전형의 혼합 장치 등의 공지된 장치를 사용하여 적절히 행할 수 있다.Although the manufacturing method of the resin composition (resin composition of 1st Embodiment and 2nd embodiment) of this embodiment mentioned above is not specifically limited, For example, each component mentioned above is mix|blended with a solvent sequentially, and sufficient A method of stirring is mentioned. At this time, in order to melt|dissolve or disperse|distribute each component uniformly, well-known processes, such as stirring, mixing, a kneading|mixing process, can be performed. The dispersibility of the filler with respect to a resin composition can be improved by performing a stirring dispersion process using the stirring tank which specifically, attached the stirrer which has suitable stirring ability. The above-described stirring, mixing, and kneading treatment can be appropriately performed using, for example, an apparatus for the purpose of mixing such as a ball mill or a bead mill, or a known apparatus such as a revolving or autorotating mixing apparatus.

또, 수지 조성물의 조제시에 있어서는, 필요에 따라서 유기 용제를 사용할 수 있다. 유기 용제의 종류는, 조성물 중의 수지를 용해시킬 수 있는 것이면, 특별히 한정되지 않는다.Moreover, at the time of preparation of a resin composition, an organic solvent can be used as needed. The kind of organic solvent will not be specifically limited, if resin in a composition can be dissolved.

〔용도〕〔Usage〕

상기한 본 실시형태의 수지 조성물은, 프리프레그, 레진 시트, 적층판, 금속박 피복 적층판, 또는 프린트 배선판으로서 바람직하게 사용할 수 있다. 이하, 프리프레그, 레진 시트, 적층판, 금속박 피복 적층판, 또는 프린트 배선판에 대해서 설명한다.The resin composition of this embodiment mentioned above can be used suitably as a prepreg, a resin sheet, a laminated board, a metal foil clad laminated board, or a printed wiring board. Hereinafter, a prepreg, a resin sheet, a laminated board, a metal foil clad laminated board, or a printed wiring board is demonstrated.

〔프리프레그〕[Prepreg]

본 실시형태의 프리프레그는, 기재와, 그 기재에 함침 또는 도포된, 본 실시형태의 수지 조성물을 갖는다. 프리프레그의 제조 방법은, 통상적인 방법에 따라서 행할 수 있고, 특별히 한정되지 않는다. 예를 들어, 본 실시형태의 수지 조성물을 기재에 함침 또는 도포시킨 후, 100 ∼ 200 ℃ 의 건조기 중에서 1 ∼ 30 분 가열하는 등 반경화 (B 스테이지화) 시킴으로써, 본 실시형태의 프리프레그를 제작할 수 있다.The prepreg of this embodiment has a base material and the resin composition of this embodiment impregnated or apply|coated to the base material. The manufacturing method of a prepreg can be performed according to a conventional method, and is not specifically limited. For example, after impregnating or applying the resin composition of this embodiment to a substrate, semi-hardening (B-staging), such as heating in a dryer at 100 to 200 ° C. for 1 to 30 minutes, to produce the prepreg of this embodiment can

프리프레그에 있어서의 본 실시형태의 수지 조성물 (충전재를 포함한다.) 의 함유량은, 프리프레그의 총량에 대해서, 바람직하게는 30 ∼ 90 질량% 이고, 보다 바람직하게는 35 ∼ 85 질량% 이며, 바람직하게는 40 ∼ 80 질량% 이다. 수지 조성물의 함유량이 상기 범위 내임으로써, 성형성이 보다 향상되는 경향이 있다.The content of the resin composition (including filler) of the present embodiment in the prepreg is preferably 30 to 90 mass%, more preferably 35 to 85 mass%, with respect to the total amount of the prepreg, Preferably it is 40-80 mass %. When content of a resin composition exists in the said range, there exists a tendency for a moldability to improve more.

(기재) (write)

기재로는, 특별히 한정되지 않고, 각종 프린트 배선판 재료에 사용되고 있는 공지된 것을, 목적으로 하는 용도나 성능에 따라서 적절히 선택하여 사용할 수 있다. 기재를 구성하는 섬유의 구체예로는, 특별히 한정되지 않는데, 예를 들어, E 유리, D 유리, S 유리, Q 유리, 구상 유리, NE 유리, L 유리, T 유리 등의 유리 섬유 ; 쿼츠 등의 유리 이외의 무기 섬유 ; 폴리파라페닐렌테레프탈아미드 (케블러 (등록상표), 듀퐁 주식회사 제조), 코폴리파라페닐렌-3,4'-옥시디페닐렌테레프탈아미드 (테크노라 (등록상표), 테이진 테크노프로덕츠 주식회사 제조) 등의 전방향족 폴리아미드 ; 2,6-하이드록시나프토산-파라하이드록시벤조산 (벡트란 (등록상표), 주식회사 쿠라레 제조), 젝시온 (등록상표, KB 세이렌 제조) 등의 폴리에스테르 ; 폴리파라페닐렌벤즈옥사졸 (자일론 (등록상표), 토요 방적 주식회사 제조), 폴리이미드 등의 유기 섬유를 들 수 있다. 이 중에서도 저열팽창률의 관점에서, E 유리 클로스, T 유리 클로스, S 유리 클로스, Q 유리 클로스, 및 유기 섬유로 이루어지는 군에서 선택되는 적어도 1 종이 바람직하다. 이들 기재는, 1 종 단독으로 사용해도 되고, 2 종 이상을 병용해도 된다.It does not specifically limit as a base material, According to the target use and performance, the well-known thing used for various printed wiring board materials can be selected and used suitably. Although it does not specifically limit as a specific example of the fiber which comprises a base material, For example, Glass fibers, such as E glass, D glass, S glass, Q glass, spherical glass, NE glass, L glass, T glass; Inorganic fibers other than glass, such as quartz; Polyparaphenylene terephthalamide (Kevlar (registered trademark), manufactured by DuPont Co., Ltd.), copolyparaphenylene-3,4'-oxydiphenylene terephthalamide (Technora (registered trademark), manufactured by Teijin Techno Products Co., Ltd.) wholly aromatic polyamides, such as; polyesters such as 2,6-hydroxynaphthoic acid-parahydroxybenzoic acid (Vectran (registered trademark), manufactured by Kuraray Co., Ltd.) and Xexion (registered trademark, manufactured by KB Siren); Organic fibers, such as polyparaphenylene benzoxazole (Xylon (trademark), Toyo Spinning Co., Ltd. make) and polyimide, are mentioned. Among these, at least one selected from the group consisting of E glass cloth, T glass cloth, S glass cloth, Q glass cloth, and organic fiber is preferable from the viewpoint of a low coefficient of thermal expansion. These base materials may be used individually by 1 type, and may use 2 or more types together.

기재의 형상으로는, 특별히 한정되지 않는데, 예를 들어, 직포, 부직포, 로빙, 촙드 스트랜드 매트, 서피싱 매트 등을 들 수 있다. 직포의 짜는 방법으로는, 특별히 한정되지 않는데, 예를 들어, 평직, 사자직, 능직 등이 알려져 있고, 이들 공지된 것으로부터 목적으로 하는 용도나 성능에 따라서 적절히 선택하여 사용할 수 있다. 또, 이것들을 개섬 처리한 것이나 실란 커플링제 등으로 표면 처리한 유리 직포가 바람직하게 사용된다. 기재의 두께나 질량은, 특별히 한정되지 않지만, 통상적으로는 0.01 ∼ 0.3 ㎜ 정도의 것이 바람직하게 사용된다. 특히, 강도와 흡수성의 관점에서, 기재는, 두께 200 ㎛ 이하, 질량 250 g/㎡ 이하의 유리 직포가 바람직하고, E 유리, S 유리, 및 T 유리의 유리 섬유로 이루어지는 유리 직포가 보다 바람직하다.Although it does not specifically limit as a shape of a base material, For example, a woven fabric, a nonwoven fabric, roving, a chopped strand mat, a surfacing mat, etc. are mentioned. The method of weaving the woven fabric is not particularly limited, and for example, plain weave, lion weave, twill weave, etc. are known, and from these known ones, they can be appropriately selected and used according to the intended use and performance. Moreover, the thing which carried out the fiber opening treatment of these, the glass woven fabric surface-treated with the silane coupling agent etc. are used preferably. Although the thickness and mass of a base material are not specifically limited, Usually, the thing of about 0.01-0.3 mm is used preferably. In particular, from the viewpoint of strength and water absorption, the substrate is preferably a glass woven fabric having a thickness of 200 μm or less and a mass of 250 g/m 2 or less, and more preferably a woven glass fabric made of glass fibers of E glass, S glass, and T glass. .

〔레진 시트〕[resin sheet]

본 실시형태의 레진 시트는, 지지체와, 그 지지체 상에 배치된, 상기 수지 조성물을 갖는다. 레진 시트란, 박엽지화의 하나의 수단으로서 사용되는 것으로서, 예를 들어, 동박이나 수지 필름 등의 지지체에, 직접 수지 조성물을 도포 및 건조시켜 제조할 수 있다. 레진 시트는, 금속박 피복 적층판이나 프린트 배선판 등의 절연층을 형성하기 위해서 사용할 수 있다.The resin sheet of this embodiment has a support body and the said resin composition arrange|positioned on the support body. A resin sheet is used as one means of thin-leaf paper, For example, it can apply|coat and dry a resin composition directly to supports, such as copper foil and a resin film, and can manufacture it. A resin sheet can be used in order to form insulating layers, such as a metal foil clad laminated board and a printed wiring board.

지지체로는, 특별히 한정되지 않지만, 각종 프린트 배선판 재료에 사용되고 있는 공지된 것을 사용할 수 있다. 예를 들어, 폴리이미드 필름, 폴리아미드 필름, 폴리에스테르 필름, 폴리에틸렌테레프탈레이트 (PET) 필름, 폴리부틸렌테레프탈레이트 (PBT) 필름, 폴리프로필렌 (PP) 필름, 폴리에틸렌 (PE) 필름, 폴리카보네이트 필름, 에틸렌테트라플루오로에틸렌 공중합체 필름, 그리고 이들 필름의 표면에 이형제를 도포한 이형 필름 등의 유기계의 필름 기재, 동박 등의 도체박, 유리판, SUS 판, FPR 등의 판상의 무기계 필름을 들 수 있다. 그 중에서도 전해 동박, PET 필름이 바람직하다.Although it does not specifically limit as a support body, The well-known thing used for various printed wiring board materials can be used. For example, polyimide film, polyamide film, polyester film, polyethylene terephthalate (PET) film, polybutylene terephthalate (PBT) film, polypropylene (PP) film, polyethylene (PE) film, polycarbonate film , ethylene tetrafluoroethylene copolymer films, organic film substrates such as release films coated with a release agent on the surface of these films, conductor foils such as copper foil, glass plates, SUS plates, and plate-shaped inorganic films such as FPR. have. Among them, an electrolytic copper foil and a PET film are preferable.

도포 방법으로는, 예를 들어, 본 실시형태의 수지 조성물을 용제에 용해시킨 용액을, 바 코터, 다이 코터, 닥터 블레이드, 베이커 어플리케이터 등으로 지지체 상에 도포하는 방법을 들 수 있다.As a coating method, the method of apply|coating the solution which melt|dissolved the resin composition of this embodiment in the solvent on a support body with a bar coater, a die coater, a doctor blade, a baker applicator etc. is mentioned, for example.

레진 시트는, 상기 수지 조성물을 지지체에 도포 후, 반경화 (B 스테이지화) 시킨 것인 것이 바람직하다. 구체적으로는, 예를 들어, 상기 수지 조성물을 동박 등의 지지체에 도포한 후, 100 ∼ 200 ℃ 의 건조기 중에서, 1 ∼ 60 분 가열시키는 방법 등에 의해서 반경화시켜, 레진 시트를 제조하는 방법 등을 들 수 있다. 지지체에 대한 수지 조성물의 부착량은, 레진 시트의 수지 두께로 1 ∼ 300 ㎛ 의 범위가 바람직하다.It is preferable that the resin sheet apply|coats the said resin composition to a support body, and what made it semi-hardened (B-staging). Specifically, for example, after the resin composition is applied to a support such as copper foil, semi-cured by a method of heating for 1 to 60 minutes in a dryer at 100 to 200° C., a method for producing a resin sheet, etc. can be heard As for the adhesion amount of the resin composition with respect to a support body, the range of 1-300 micrometers is preferable in resin thickness of a resin sheet.

본 실시형태의 레진 시트의 다른 양태로서, 단층 수지 시트를 들 수 있다. 단층 수지 시트는, 본 실시형태의 수지 조성물을 함유한다. 단층 수지 시트는, 상기 수지 조성물을 시트상으로 성형하여 이루어지는 것이다. 단층 수지 시트의 제조 방법은, 통상적인 방법에 따라서 행할 수 있고, 특별히 한정되지 않는다. 예를 들어, 상기 레진 시트로부터, 지지체를 박리 또는 에칭함으로써 얻을 수 있다. 또는, 본 실시형태의 수지 조성물을 용제에 용해시킨 용액을, 시트 상의 캐비티를 갖는 금형 내에 공급하여 건조시키거나 하여 시트상으로 성형함으로써, 시트 기재를 사용하지 않고 단층 수지 시트를 얻을 수도 있다.As another aspect of the resin sheet of this embodiment, a single-layered resin sheet is mentioned. A single-layered resin sheet contains the resin composition of this embodiment. A single-layered resin sheet is formed by shape|molding the said resin composition into a sheet form. The manufacturing method of a single-layer resin sheet can be performed according to a conventional method, and is not specifically limited. For example, it can obtain by peeling or etching a support body from the said resin sheet. Alternatively, a solution obtained by dissolving the resin composition of the present embodiment in a solvent is supplied into a mold having a sheet-like cavity and dried to form a sheet, thereby obtaining a single-layered resin sheet without using a sheet substrate.

〔적층판〕[Laminate]

본 실시형태의 적층판은, 상기 프리프레그를 적층한 것이다. 적층판은 프리프레그를 1 층 이상 구비하는 것이면 특별히 한정되지 않고, 다른 어떠한 층을 갖고 있어도 된다. 적층판의 제조 방법으로는, 일반적으로 공지된 방법을 적절히 적용할 수 있고, 특별히 한정되지 않는다. 예를 들어, 상기한 프리프레그끼리나, 프리프레그와 다른 층을 적층하여, 가열 가압 성형함으로써 적층판을 얻을 수 있다. 이 때, 가열하는 온도는, 특별히 한정되지 않지만, 65 ∼ 300 ℃ 이 바람직하고, 120 ∼ 270 ℃ 가 보다 바람직하다. 또, 가압하는 압력은, 특별히 한정되지 않지만, 2 ∼ 5 ㎫ 가 바람직하고, 2.5 ∼ 4 ㎫ 가 보다 바람직하다. 본 실시형태의 적층판은, 금속박으로 이루어지는 층을 추가로 구비함으로써, 후술하는 금속박 피복 적층판으로서 바람직하게 사용할 수 있다.The laminated board of this embodiment laminates|stacks the said prepreg. A laminate will not be specifically limited if it is provided with one or more layers of prepreg, You may have any other layer. As a manufacturing method of a laminated board, a generally well-known method can be applied suitably, It does not specifically limit. For example, a laminated board can be obtained by laminating|stacking said prepreg or a prepreg and another layer, and heat-pressing-molding. Although the temperature to heat is not specifically limited at this time, 65-300 degreeC is preferable and 120-270 degreeC is more preferable. Moreover, the pressure to press is although it does not specifically limit, 2-5 Mpa is preferable and 2.5-4 Mpa is more preferable. The laminated board of this embodiment can be used suitably as a metal foil clad laminated board mentioned later by further providing the layer which consists of metal foil.

〔금속박 피복 적층판〕[Metal foil clad laminate]

본 실시형태의 금속박 피복 적층판은, 상기 프리프레그 및/또는 상기 레진 시트와, 당해 프리프레그 및/또는 당해 레진 시트 상에 적층된 금속박을 갖는다. 본 실시형태의 금속박 피복 적층판에 있어서, 프리프레그 및 레진 시트는 절연층을 형성하지만, 당해 절연층은, 1 층의 프리프레그 및/또는 레진 시트로 이루어지는 것이어도 되고, 상기 프리프레그 및/또는 레진 시트를 2 층 이상 적층한 것이어도 된다.The metal foil-clad laminate of this embodiment has the said prepreg and/or the said resin sheet, and the metal foil laminated|stacked on the said prepreg and/or the said resin sheet. In the metal foil-clad laminate of this embodiment, the prepreg and the resin sheet form an insulating layer, but the insulating layer may consist of one prepreg and/or a resin sheet, and the prepreg and/or the resin Two or more layers of sheets may be laminated.

금속박으로는, 구리나 알루미늄 등을 사용할 수 있다. 여기에서 사용하는 금속박은, 프린트 배선판 재료에 사용되는 것이면, 특별히 한정되지 않지만, 압연 동박이나 전해 동박 등의 공지된 동박이 바람직하다. 또, 금속박 (도체층) 의 두께는, 특별히 한정되지 않지만, 1 ∼ 70 ㎛ 가 바람직하고, 보다 바람직하게는 1.5 ∼ 35 ㎛ 이다.As metal foil, copper, aluminum, etc. can be used. Although the metal foil used here will not be specifically limited if used for a printed wiring board material, Well-known copper foils, such as a rolled copper foil and an electrolytic copper foil, are preferable. Moreover, although the thickness of metal foil (conductor layer) is not specifically limited, 1-70 micrometers is preferable, More preferably, it is 1.5-35 micrometers.

금속박 피복 적층판의 성형 방법 및 그 성형 조건은, 특별히 한정되지 않고, 일반적인 프린트 배선판용 적층판 및 다층판의 수법 및 조건을 적용할 수 있다. 예를 들어, 금속박 피복 적층판의 성형시에는 다단 프레스기, 다단 진공 프레스기, 연속 성형기, 오토클레이브 성형기 등을 사용할 수 있다. 또, 금속박 피복 적층판의 성형에 있어서, 온도는 100 ∼ 300 ℃, 압력은 면압 2 ∼ 100 ㎏f/㎠, 가열 시간은 0.05 ∼ 5 시간의 범위가 일반적이다. 또한, 필요에 따라서, 150 ∼ 300 ℃ 의 온도에서 후경화를 행할 수도 있다. 또, 상기 서술한 프리프레그나 레진 시트와, 별도로 제작된 내층용의 배선판을 조합하여 적층 성형함으로써, 다층판으로 할 수도 있다.The forming method of the metal foil-clad laminate and the forming conditions thereof are not particularly limited, and the methods and conditions of general laminates for printed wiring boards and multilayer boards are applicable. For example, a multistage press machine, a multistage vacuum press machine, a continuous molding machine, an autoclave molding machine, etc. can be used at the time of shaping|molding of a metal foil clad laminated board. Moreover, in shaping|molding of a metal foil clad laminated board, temperature is 100-300 degreeC, a pressure is 2-100 kgf/cm<2> of surface pressure, and the range of 0.05 to 5 hours is common for a heating time. Moreover, you can also post-cure at the temperature of 150-300 degreeC as needed. Moreover, it can also be set as a multilayer board by combining the above-mentioned prepreg or resin sheet, and the wiring board for inner layers produced separately and lamination|stacking.

본 실시형태의 금속박 피복 적층판의 바콜 경도는, 바람직하게는 60 ∼ 90 이고, 보다 바람직하게는 65 ∼ 75 이며, 더욱 바람직하게는 70 ∼ 80 이다. 바콜 경도가 상기 범위 내임으로써, 충분한 표면 경도를 갖는다. 바콜 경도는, 무기 충전재 (D) 의 함유량, 흑색 입자 (C) 와 무기 충전재 (D) 의 함유량 비율, 및 무기 충전재 (D) 의 종류 등에 의해서 조정할 수 있다. 바콜 경도는, 실시예에 기재된 측정 방법에 의해서 측정할 수 있다.The Barcol's hardness of the metal foil clad laminated board of this embodiment becomes like this. Preferably it is 60-90, More preferably, it is 65-75, More preferably, it is 70-80. When Barcol's hardness is in the said range, it has sufficient surface hardness. Barcol hardness can be adjusted with content of an inorganic filler (D), content ratio of a black particle (C) and an inorganic filler (D), the kind of inorganic filler (D), etc. Barcol hardness can be measured by the measuring method as described in an Example.

또, 상기 금속박 피복 적층판으로부터 금속박 (예를 들어 전해 동박) 이 제거된 기판의 파장 400 ∼ 2000 ㎚ 의 범위에 있어서의 투과율은, 바람직하게는 0.1 % 이하이다. 투과율의 하한은 특별히 제한되지 않지만, 검출 한계 이하인 것이 바람직하다. 투과율이 0.1 % 이하임으로써, 충분한 차광성을 갖는다. 투과율은, 흑색 입자 (C) 의 함유량, 흑색 입자 (C) 와 무기 충전재 (D) 의 함유량 비율, 및 흑색 입자 (C) 의 종류 등에 의해서 조정할 수 있다. 투과율은, 실시예에 기재된 측정 방법에 의해서 측정할 수 있다.Moreover, the transmittance|permeability in the range of 400-2000 nm wavelength of the board|substrate from which the metal foil (for example, electrolytic copper foil) was removed from the said metal foil clad laminated board becomes like this. Preferably it is 0.1 % or less. Although the lower limit in particular of the transmittance|permeability is not restrict|limited, It is preferable that it is below a detection limit. When the transmittance is 0.1% or less, it has sufficient light-shielding properties. The transmittance|permeability can be adjusted with content of a black particle (C), content ratio of a black particle (C) and an inorganic filler (D), the kind of black particle (C), etc. Transmittance can be measured by the measuring method described in an Example.

또한, 실시예에 있어서의 바콜 경도 및 투과율의 측정은, 측정 조건을 특정하는 관점에서, 하기 구성을 갖는 E 유리 직포를 사용한 금속박 피복 적층판을 사용하여 행했지만, 본 실시형태의 수지 조성물을 사용하여 프리프레그를 형성할 때의 유리 직포는, 하기 구성을 갖는 E 유리 직포에 한정되는 것이 아니고, 전술한 각종 기재를 사용할 수 있다.In addition, the measurement of the Barcol hardness and transmittance in an Example was performed using the metal foil clad laminated board using the E glass woven fabric which has the following structure from a viewpoint of specifying measurement conditions, but using the resin composition of this embodiment The glass woven fabric at the time of forming a prepreg is not limited to the E glass woven fabric which has the following structure, The various base materials mentioned above can be used.

IPC 해당 품종 : 2116IPC applicable varieties: 2116

밀도 (개/25 ㎜) 세로 : 62Density (pieces/25 mm) Length: 62

밀도 (개/25 ㎜) 가로 : 58Density (pieces/25 mm) Width: 58

두께 (㎜) : 0.100Thickness (mm): 0.100

질량 (g/㎡) : 108.5Mass (g/m2): 108.5

상기 구성을 갖는 E 유리 직포의 시판품으로는, 특별히 제한되지 않는데, 예를 들어, 아리사와 제작소 제조, 1031NT-1270-S640 을 들 수 있다.Although it does not restrict|limit as a commercial item in particular of the E glass woven fabric which has the said structure, For example, the Arisa Corporation make, 1031NT-1270-S640 is mentioned.

〔금속박 피복 적층판 (다른 실시형태)〕[Metal foil clad laminate (another embodiment)]

또, 다른 실시형태로서 프리프레그 및/또는 레진 시트와, 프리프레그 및/또는 레진 시트 상에 적층된 금속박을 갖는 금속박 피복 적층판으로서, 프리프레그가, 기재와, 그 기재에 함침 또는 도포된 수지 조성물을 갖고, 레진 시트가, 지지체와, 그 지지체의 편면 또는 양면에 적층된 수지 조성물을 가지며, 바콜 경도가 60 ∼ 90 이고, 금속박 피복 적층판으로부터 금속박이 제거된 기판의 파장 400 ∼ 2000 ㎚ 의 범위에 있어서의 투과율이 0.1 % 이하인, 금속박 피복 적층판을 제공할 수도 있다.In another embodiment, a metal foil-clad laminate having a prepreg and/or a resin sheet and a metal foil laminated on the prepreg and/or a resin sheet, wherein the prepreg is a substrate and a resin composition impregnated or coated on the substrate The resin sheet has a support and a resin composition laminated on one or both surfaces of the support, the Barcol hardness is 60 to 90, and the wavelength of the substrate from which the metal foil is removed from the metal foil clad laminate is in the range of 400 to 2000 nm. It is also possible to provide a metal foil-clad laminate having a transmittance of 0.1% or less.

다른 실시형태의 금속박 피복 적층판은, 상기 구성을 만족하는 것이면 특별히 제한되지 않고, 예를 들어, 프리프레그나 레진 시트를 구성하는 수지 조성물로서, 상기 제 1 또는 제 2 실시형태의 수지 조성물을 사용하지 않아도 된다. 이 중에서도, 제 1 또는 제 2 실시형태의 수지 조성물을 사용하는 것이 바람직하다. 또한, 그 경우의 수지 조성물에 있어서의 수지 성분이나 충전재 등의 종류 및 함유량 등에 관해서는, 제 1 실시형태와 동일한 것을 예시할 수 있다. 또, 바콜 경도와 투과율에 관해서도, 상기 서술한 것과 동일한 범위를 예시할 수 있다.The metal foil-clad laminate of another embodiment is not particularly limited as long as it satisfies the above configuration. For example, as a resin composition constituting a prepreg or a resin sheet, the resin composition of the first or second embodiment is not used. do. Among these, it is preferable to use the resin composition of 1st or 2nd Embodiment. In addition, about the kind, content, etc. of the resin component in the resin composition in that case, a filler, etc., the thing similar to 1st Embodiment can be illustrated. Moreover, also about Barcol hardness and transmittance|permeability, the range similar to what was mentioned above can be illustrated.

〔프린트 배선판〕[printed wiring board]

본 실시형태의 프린트 배선판은, 절연층과, 상기 절연층의 표면에 형성된 도체층을 갖고, 상기 절연층이, 본 실시형태의 수지 조성물을 함유한다. 이와 같은 프린트 배선판으로는, 프리프레그, 레진 시트 및 금속박 피복 적층판으로 이루어지는 군에서 선택되는 1 종 이상을 빌드업 재료로서 사용하여 제작된 것을 들 수 있다. 이 중에서도, 프리프레그 및 레진 시트로 이루어지는 군에서 선택되는 1 종 이상을 빌드업 재료로서 사용하여 제작된 프린트 배선판이 바람직하다. 상기한 금속박 피복 적층판은, 소정의 배선 패턴을 형성함으로써, 프린트 배선판으로서 바람직하게 사용할 수 있다. 그리고, 상기한 금속박 피복 적층판은, 낮은 열팽창률, 양호한 성형성 및 내약품성을 갖고, 그러한 성능이 요구되는 반도체 패키지용 프린트 배선판의 재료로서 특히 유효하게 사용할 수 있다.The printed wiring board of this embodiment has an insulating layer and the conductor layer formed in the surface of the said insulating layer, The said insulating layer contains the resin composition of this embodiment. As such a printed wiring board, what was produced using 1 or more types chosen from the group which consists of a prepreg, a resin sheet, and a metal foil clad laminated board as a buildup material is mentioned. Among these, the printed wiring board produced using 1 or more types chosen from the group which consists of a prepreg and a resin sheet as a buildup material is preferable. The above-described metal foil-clad laminate can be preferably used as a printed wiring board by forming a predetermined wiring pattern. And said metal foil clad laminated board has a low coefficient of thermal expansion, favorable moldability, and chemical-resistance, and can be used especially effectively as a material of the printed wiring board for semiconductor packages which such performance is calculated|required.

또, 다층 구조를 갖는 프린트 배선판으로는, 적층된 복수의 절연층과, 그 복수의 절연층 사이 및 최외층 표면에 배치된 복수의 도체층을 갖고, 상기 절연층이, 본 실시형태의 수지 조성물을 함유하는 것을 들 수 있다. 이와 같은 다층 프린트 배선판은, 그 밖의 구성으로서, 복수의 절연층을 관통하는 도금 스루홀 등, 다층 프린트 배선판으로서 공지된 구성을 가질 수 있다.Moreover, as a printed wiring board which has a multilayer structure, it has several laminated|stacked insulating layer, and the some conductor layer arrange|positioned between the several insulating layers and on the outermost layer surface, The said insulating layer is the resin composition of this embodiment and those containing Such a multilayer printed wiring board can have a well-known structure as a multilayer printed wiring board, such as a plating through-hole which penetrates several insulating layers as another structure.

또, 본 실시형태의 다층 프린트 배선판은, 절연층으로서의 코어 기판을 갖지 않고, 빌드업층만을 절연층으로서 적층한 코어리스 프린트 배선판이어도 된다. 이와 같은, 코어리스 프린트 배선판으로는, 적어도 하나의 절연층과, 그 절연층의 최외층 표면에 배치된 복수의 도체층을 갖는 것을 들 수 있다. 절연층이 복수 있을 경우, 복수의 절연층 사이에 추가로 도체층을 갖고 있어도 된다. 이 경우, 하나 또는 복수 있는 절연층 중 어느 것이 본 실시형태의 수지 조성물을 함유하는 것이 된다.Moreover, the multilayer printed wiring board of this embodiment does not have a core board|substrate as an insulating layer, but the coreless printed wiring board which laminated|stacked only the buildup layer as an insulating layer may be sufficient as it. As such a coreless printed wiring board, what has at least one insulating layer and the some conductor layer arrange|positioned on the outermost layer surface of this insulating layer is mentioned. When there are two or more insulating layers, you may have a conductor layer further between several insulating layers. In this case, one or more insulating layers contain the resin composition of the present embodiment.

종래의 빌드업 기판은, 지지 기판인 코어 기판의 상하에 절연층과 도체층을 중첩하여 쌓은 구조를 갖는다. 코어 기판의 상하에 중첩하여 쌓은 절연층과 도체층은, 빌드업층이라고도 불린다. 배선을 고밀도로 형성하는 관점에서, 빌드업층은 얇은 층의 적층에 의해서 구성된다. 이에 비해서, 코어 기판은, 절연층과 도체층을 적층하는 공정에 있어서 어느 정도의 강도 등을 갖는 지지 기판으로서의 역할도 갖는다. 그 때문에, 일반적으로 코어 기판은 빌드업층에 있어서의 절연층보다 두꺼운 것이다. 본 실시형태에 있어서의 코어리스 프린트 배선판이란, 이 코어 기판을 갖지 않는 프린트 배선판을 말한다.A conventional build-up substrate has a structure in which an insulating layer and a conductor layer are stacked on top and bottom of a core substrate serving as a support substrate. The insulating layer and the conductor layer stacked on top and bottom of the core substrate are also called a build-up layer. From the viewpoint of forming wirings with high density, the build-up layer is constituted by lamination of thin layers. On the other hand, the core substrate also has a role as a support substrate having a certain level of strength or the like in the step of laminating the insulating layer and the conductor layer. Therefore, in general, the core substrate is thicker than the insulating layer in the buildup layer. The coreless printed wiring board in this embodiment means a printed wiring board which does not have this core board.

다층 프린트 배선판의 제조 방법은, 특별히 제한되지 않고, 프린트 배선판을 적층하는 방법 등, 종래 공지된 방법을 이용할 수 있다.The manufacturing method in particular of a multilayer printed wiring board is not restrict|limited, Conventionally well-known methods, such as the method of laminating|stacking a printed wiring board, can be used.

〔프린트 배선판의 제조 방법〕[Method for manufacturing a printed wiring board]

본 실시형태의 프린트 배선판은, 구체적으로는, 예를 들어, 이하의 방법에 의해서 제조할 수 있다. 먼저, 상기 서술한 금속박 피복 적층판 (구리 피복 적층판 등) 을 준비한다. 금속박 피복 적층판의 표면을 에칭 처리하고, 내층 회로를 형성하여 내층 기판을 제작한다. 이 내층 기판의 내층 회로 표면에, 필요에 따라서 접착 강도를 높이기 위한 표면 처리를 행하고, 이어서 그 내층 회로 표면에 상기 서술한 프리프레그를 소요되는 장 수 중첩하고, 추가로 그 외측에 외층 회로용의 금속박을 적층하고, 가열 가압하여 일체로 성형한다. 이와 같이 하여, 내층 회로와 외층 회로용의 금속박 사이에, 기재 및 본 실시형태의 수지 조성물의 경화물로 이루어지는 절연층이 형성된 다층의 적층판이 제조된다. 이어서, 이 다층의 적층판에 스루홀이나 비어홀용의 천공 가공을 실시한 후, 경화물층에 함유되어 있는 수지 성분에서 유래하는 수지의 잔류물인 스미어를 제거하기 위해서 디스미어 처리가 행해진다. 그 후 이 구멍의 벽면에 내층 회로와 외층 회로용의 금속박을 도통시키는 도체층을 형성하고, 추가로 외층 회로용의 금속박에 에칭 처리를 실시하여 외층 회로를 형성하여, 프린트 배선판이 제조된다.The printed wiring board of this embodiment can be manufactured with the following method specifically, for example. First, the above-mentioned metal foil-clad laminated board (copper-clad laminated board etc.) is prepared. The surface of the metal foil-clad laminate is etched to form an inner-layer circuit to prepare an inner-layer substrate. The inner circuit surface of this inner layer substrate is subjected to surface treatment to increase adhesive strength as necessary, and then the above-mentioned prepreg is superimposed on the inner circuit surface for the required number of sheets, and further on the outer side of the inner circuit surface Metal foils are laminated, heated and pressed, and integrally molded. In this way, the multilayer laminated board in which the insulating layer which consists of a base material and the hardened|cured material of the resin composition of this embodiment was formed between the metal foil for inner-layer circuits and outer-layer circuits is manufactured. Next, after drilling for through-holes or via-holes is performed on this multilayer laminate, desmear processing is performed in order to remove the smear which is a residue of the resin derived from the resin component contained in the hardened|cured material layer. Thereafter, a conductor layer for conducting the inner circuit and the metal foil for the outer circuit is formed on the wall surface of the hole, and the metal foil for the outer circuit is further etched to form an outer circuit, and a printed wiring board is manufactured.

예를 들어, 상기 서술한 프리프레그 (기재 및 이것에 첨착된 상기 서술한 수지 조성물), 금속박 피복 적층판 중의 수지 조성물층 (상기 서술한 수지 조성물로 이루어지는 층) 이, 본 실시형태의 수지 조성물을 함유하는 절연층을 구성하는 것이 된다.For example, the above-mentioned prepreg (base material and the above-mentioned resin composition affixed thereto), the resin composition layer (layer consisting of the above-mentioned resin composition) in the metal foil-clad laminate contains the resin composition of this embodiment to constitute an insulating layer that

또, 금속박 피복 적층판을 사용하지 않는 경우에는, 상기 프리프레그 상에, 회로가 되는 도체층을 형성하여 프린트 배선판을 제작해도 된다. 이 때, 도체층의 형성에 무전해 도금의 수법을 이용할 수도 있다.Moreover, when not using a metal foil clad laminated board, you may form the conductor layer used as a circuit on the said prepreg, and may produce a printed wiring board. At this time, the method of electroless plating can also be used for formation of a conductor layer.

또한, 상기와 같이 하여 얻어진 프린트 배선판에 대해서, 솔더 레지스트를 도포하여, 회로 패턴을 보호하는 절연막을 형성하는 공정을 행해도 된다. 보다 구체적으로는, 프린트 배선판을 상기와 같이 준비하는 공정과, 프린트 배선판의 양면에 파장 350 ∼ 420 ㎚ 의 광으로 경화시키는 감광성 조성물층을 형성하는 공정과, 감광성 조성물층의 표면에 마스크 패턴을 배치하고, 그 마스크 패턴을 통하여 파장 350 ∼ 420 ㎚ 의 광으로 노광을 행하는 공정을 갖는 방법을 들 수 있다. 노광 후, 감광성 조성물층의 미경화 부분을 현상하여, 회로 패턴이 보호된 프린트 배선판을 얻을 수 있다. 또한, 감광성 조성물층으로는, 예를 들어, 솔더 레지스트층을 들 수 있다.Moreover, you may perform the process of forming the insulating film which apply|coats a soldering resist and protects a circuit pattern with respect to the printed wiring board obtained by making it above. More specifically, the step of preparing the printed wiring board as described above, the step of forming a photosensitive composition layer cured with light having a wavelength of 350 to 420 nm on both sides of the printed wiring board, and disposing a mask pattern on the surface of the photosensitive composition layer and the method of having the process of exposing with the light of wavelength 350-420 nm through the mask pattern is mentioned. After exposure, the non-hardened part of the photosensitive composition layer can be developed, and the printed wiring board in which the circuit pattern was protected can be obtained. Moreover, as a photosensitive composition layer, a soldering resist layer is mentioned, for example.

또, 코어리스 프린트 배선판의 제조 방법에서는, 예를 들어, 상기 프린트 배선판을 상기와 같이 준비하는 공정 대신에, 코어 기판을 준비하는 공정과, 코어 기판 상에, 본 실시형태의 수지 조성물을 함유하는, 적어도 하나의 절연층과, 그 절연층의 최외층 표면에 배치된 복수의 도체층을, 적층한 적층체를 얻는 공정을 거친다. 즉, 코어 기판 상에, 1 또는 복수의 절연층과 1 또는 복수의 도체층을 적층함으로써, 코어 기판 상에 빌드업층이 형성된 적층체를 얻을 수 있다. 그 후, 코어 기판을 제거 (박리) 함으로써, 코어리스 프린트 배선판 (코어리스 기판이라고도 한다) 을 형성한다.Moreover, in the manufacturing method of a coreless printed wiring board, for example, instead of the process of preparing the said printed wiring board as mentioned above, instead of the process of preparing a core board, on a core board|substrate, containing the resin composition of this embodiment , a step of obtaining a laminate in which at least one insulating layer and a plurality of conductor layers disposed on the surface of the outermost layer of the insulating layer are laminated. That is, by laminating|stacking 1 or some insulating layer and 1 or some conductor layer on a core board|substrate, the laminated body in which the buildup layer was formed on the core board|substrate can be obtained. Then, by removing (peeling) a core board|substrate, a coreless printed wiring board (it is also mentioned a coreless board|substrate) is formed.

그리고, 이 코어리스 기판에 대해서, 감광성 조성물층을 형성하는 공정, 노광하는 공정을 행함으로써, 회로 패턴이 형성된 코어리스 프린트 배선판을 얻을 수 있다.And by performing the process of forming a photosensitive composition layer, and the process of exposing with respect to this coreless board|substrate, the coreless printed wiring board with a circuit pattern can be obtained.

실시예Example

이하, 본 발명을 실시예 및 비교예를 이용하여 보다 구체적으로 설명한다. 본 발명은 이하의 실시예에 의해서 전혀 한정되지 않는다.Hereinafter, the present invention will be described in more detail using Examples and Comparative Examples. The present invention is not limited at all by the following examples.

〔합성예 1〕1-나프톨아르알킬형 시안산에스테르 수지 (SNCN) 의 합성[Synthesis Example 1] Synthesis of 1-naphthol aralkyl type cyanate ester resin (SNCN)

α-나프톨아르알킬 수지 (SN495V, OH 기 당량 : 236 g/eq., 신닛테츠 화학 (주) 제조) 300 g (OH 기 환산 1.28 ㏖) 및 트리에틸아민 194.6 g (1.92 ㏖) (하이드록실기 1 ㏖ 에 대해서 1.5 ㏖) 을 디클로로메탄 1800 g 에 용해시키고, 이것을 용액 1 로 하였다.300 g of α-naphthol aralkyl resin (SN495V, OH group equivalent: 236 g/eq., manufactured by Shin-Nitetsu Chemical Co., Ltd.) (1,28 mol in terms of OH groups) and 194.6 g (1.92 mol) of triethylamine (hydroxyl group) 1.5 mol) with respect to 1 mol) was dissolved in 1800 g of dichloromethane, and this was made into the solution 1.

염화시안 125.9 g (2.05 ㏖) (하이드록실기 1 ㏖ 에 대해서 1.6 ㏖), 디클로로메탄 293.8 g, 36 % 염산 194.5 g (1.92 ㏖) (하이드록실기 1 ㏖ 에 대해서 1.5 ㏖), 물 1205.9 g 을, 교반 하에서, 액온 -2 ∼ -0.5 ℃ 로 유지하면서, 용액 1 을 30 분에 걸쳐 적하하였다. 용액 1 의 적하 종료 후, 동 온도에서 30 분 교반한 후, 트리에틸아민 65 g (0.64 ㏖) (하이드록실기 1 ㏖ 에 대해서 0.5 ㏖) 을 디클로로메탄 65 g 에 용해시킨 용액 (용액 2) 을 10 분에 걸쳐 적하하였다. 용액 2 의 적하 종료 후, 동 온도에서 30 분 교반하여 반응을 완결시켰다.125.9 g (2.05 mol) of cyanogen chloride (1.6 mol per 1 mol of hydroxyl group), 293.8 g of dichloromethane, 194.5 g (1.92 mol) of 36% hydrochloric acid (1.5 mol per 1 mol of hydroxyl), 1205.9 g of water Under stirring, the solution 1 was dripped over 30 minutes, maintaining liquid temperature -2 - -0.5 degreeC. After completion of dripping of solution 1, after stirring at the same temperature for 30 minutes, the solution (solution 2) in which 65 g (0.64 mol) of triethylamine (0.5 mol with respect to 1 mol of hydroxyl groups) was dissolved in 65 g of dichloromethane It was dripped over 10 minutes. After completion of the dropwise addition of the solution 2, the mixture was stirred at the same temperature for 30 minutes to complete the reaction.

그 후 반응액을 정치 (靜置) 하여 유기상과 수상을 분리하였다. 얻어진 유기상을 물 1300 g 으로 5 회 세정하고, 수세 5 회째의 폐수의 전기 전도도는 5 μS/㎝ 로서, 물에 의한 세정에 의해서, 제거할 수 있는 이온성 화합물은 충분히 제거된 것을 확인하였다.After that, the reaction solution was allowed to stand to separate an organic phase and an aqueous phase. The obtained organic phase was washed 5 times with 1300 g of water, and the electrical conductivity of the wastewater at the 5th time of washing with water was 5 µS/cm, and it was confirmed that the ionic compound that can be removed by washing with water was sufficiently removed.

수세 후의 유기상을 감압 하에서 농축하고, 최종적으로 90 ℃ 에서 1 시간 농축 건고시켜 목적으로 하는 나프톨아르알킬형 시안산에스테르 화합물 (SNCN) (등색 (橙色) 점성물) 331 g 을 얻었다. 얻어진 SNCN 의 질량 평균 분자량 Mw 는 600 이었다. 또, SNCN 의 적외 흡수 스펙트럼은 2250 ㎝-1 (시안산에스테르기) 의 흡수를 나타내며, 또한, 하이드록실기의 흡수는 나타내지 않았다.The organic phase after washing with water was concentrated under reduced pressure, and finally concentrated to dryness at 90°C for 1 hour to obtain 331 g of the target naphthol aralkyl cyanate ester compound (SNCN) (orange viscous material). The mass average molecular weight Mw of the obtained SNCN was 600. Moreover, the infrared absorption spectrum of SNCN showed absorption of 2250 cm<-1> (cyanate ester group), and absorption of a hydroxyl group was not shown.

〔실시예 1〕[Example 1]

비페닐아르알킬형 에폭시 수지 (NC-3000-FH, 닛폰 화약사 제조) 50 질량부와, 비페닐아르알킬형 페놀 수지 (KAYAHARD GPH-103, 수산기 당량 : 231 g/eq., 닛폰 화약사 제조) 50 질량부와, 절연 피복 카본 블랙 (제품명 #B503, 미쿠니 색소 (주) 사 제조, 평균 입자경 0.1 ㎛) 10 질량부와, 비스(3-에틸-5-메틸-4-말레이미드페닐)메탄 (BMI-70, 다이와 화성 공업 (주) 제조) 20 질량부와, 실리카 (SC4500-SQ, 아드마텍스 (주) 제조, 평균 입자경 1.5 ㎛) 120 질량부와, 습윤 분산제 (Disperbyk-161, 빅크케미·재팬 (주) 제조) 1 질량부와, 몰리브덴산아연을 코트한 탤크 (켐 가드 911C, 몰리브덴산아연 담지 : 10 질량%, 셔윈·윌리엄스·케미컬즈) 10 질량부와, 경화 촉진제 (2,4,5-트리페닐이미다졸, 토쿄 화성 공업사 제조) 0.3 질량부를 혼합하고, 메틸에틸케톤으로 희석함으로써 바니시를 얻었다.50 parts by mass of a biphenyl aralkyl type epoxy resin (NC-3000-FH, manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.) and a biphenyl aralkyl type phenol resin (KAYAHARD GPH-103, hydroxyl equivalent: 231 g/eq., manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.) ) 50 parts by mass, insulating coating carbon black (product name #B503, manufactured by Mikuni Dyes Co., Ltd., average particle diameter of 0.1 µm) 10 parts by mass, bis(3-ethyl-5-methyl-4-maleimidephenyl)methane (BMI-70, manufactured by Daiwa Chemical Industry Co., Ltd.) 20 parts by mass, silica (SC4500-SQ, manufactured by Admatex Co., Ltd., average particle diameter of 1.5 µm) 120 parts by mass, wetting and dispersing agent (Disperbyk-161, Bick) 1 part by mass of Chemi Japan Co., Ltd.), 10 parts by mass of talc coated with zinc molybdate (Chem Guard 911C, zinc molybdate supported: 10% by mass, Sherwin Williams Chemicals), and a curing accelerator (2 ,4,5-triphenylimidazole, Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.) 0.3 mass part was mixed, and the varnish was obtained by diluting with methyl ethyl ketone.

이 바니시를, 두께 0.1 ㎜ 의 E 유리 직포 (아리사와 제작소 제조, 1031NT-1270-S640) 에 함침 도공하고, 165 ℃ 에서 3 분간 가열 건조시켜, 수지 함유량 46 질량% 의 프리프레그를 얻었다. 또한, 사용된 E 유리 직포의 특성은, 아래와 같다.This varnish was impregnated and coated on a 0.1 mm-thick E glass woven fabric (1031NT-1270-S640, manufactured by Arisawa Seisakusho), and heat-dried at 165°C for 3 minutes to obtain a prepreg having a resin content of 46% by mass. In addition, the characteristics of the E glass woven fabric used are as follows.

IPC 해당 품종 : 2116IPC applicable varieties: 2116

밀도 (개/25 ㎜) 세로 : 62Density (pieces/25 mm) Length: 62

밀도 (개/25 ㎜) 가로 : 58Density (pieces/25 mm) Width: 58

두께 (㎜) : 0.100Thickness (mm): 0.100

질량 (g/㎡) : 108.5Mass (g/m2): 108.5

〔실시예 2〕[Example 2]

절연 피복 카본 블랙의 사용량을 5 질량부로 한 것 이외에는, 실시예 1 과 동일하게 하여, 프리프레그를 얻었다.A prepreg was obtained in the same manner as in Example 1 except that the amount of the insulating coating carbon black used was 5 parts by mass.

〔실시예 3〕[Example 3]

절연 피복 카본 블랙의 사용량을 20 질량부로 한 것 이외에는, 실시예 1 과 동일하게 하여, 프리프레그를 얻었다.A prepreg was obtained in the same manner as in Example 1 except that the amount of the insulating coating carbon black used was 20 parts by mass.

〔실시예 4〕[Example 4]

실리카의 사용량을 100 질량부로 한 것 이외에는, 실시예 1 과 동일하게 하여, 프리프레그를 얻었다.Except having made the usage-amount of silica into 100 mass parts, it carried out similarly to Example 1, and obtained the prepreg.

〔실시예 5〕[Example 5]

실리카의 사용량을 150 질량부로 한 것 이외에는, 실시예 1 과 동일하게 하여, 프리프레그를 얻었다.Except having made the usage-amount of silica into 150 mass parts, it carried out similarly to Example 1, and obtained the prepreg.

〔실시예 6〕[Example 6]

비페닐아르알킬형 페놀 수지 대신에, SNCN50 질량부를 사용한 것 이외에는, 실시예 1 과 동일하게 하여, 프리프레그를 얻었다.A prepreg was obtained in the same manner as in Example 1 except that 50 parts by mass of SNCN was used instead of the biphenyl aralkyl-type phenol resin.

〔실시예 7〕[Example 7]

비페닐아르알킬형 페놀 수지 대신에, SNCN50 질량부를 사용하고, 비스(3-에틸-5-메틸-4-말레이미드페닐)메탄을 사용하지 않은 것 이외에는, 실시예 1 과 동일하게 하여, 프리프레그를 얻었다.A prepreg was prepared in the same manner as in Example 1 except that 50 parts by mass of SNCN was used instead of the biphenylaralkyl type phenol resin and bis(3-ethyl-5-methyl-4-maleimidephenyl)methane was not used. got

〔실시예 8〕[Example 8]

절연 피복 카본 블랙 대신에, 티탄 블랙 (제품명 13M-T, 미츠비시 메트리얼 주식회사 제조) 을 사용한 것 이외에는, 실시예 1 과 동일하게 하여, 프리프레그를 얻었다.A prepreg was obtained in the same manner as in Example 1 except that titanium black (product name: 13M-T, manufactured by Mitsubishi Materials Co., Ltd.) was used instead of the insulating coating carbon black.

〔비교예 1〕[Comparative Example 1]

절연 피복 카본 블랙을 사용하지 않은 것 이외에는, 실시예 1 과 동일하게 하여, 프리프레그를 얻었다.Except not using the insulating coating carbon black, it carried out similarly to Example 1, and obtained the prepreg.

〔비교예 2〕[Comparative Example 2]

실리카의 사용량을 50 질량부로 한 것 이외에는, 실시예 1 과 동일하게 하여, 프리프레그를 얻었다.Except having made the usage-amount of silica into 50 mass parts, it carried out similarly to Example 1, and obtained the prepreg.

〔비교예 3〕[Comparative Example 3]

실리카의 사용량을 70 질량부로 한 것 이외에는, 실시예 1 과 동일하게 하여, 프리프레그를 얻었다.Except having made the usage-amount of silica into 70 mass parts, it carried out similarly to Example 1, and obtained the prepreg.

〔비교예 4〕[Comparative Example 4]

실리카의 사용량을 250 질량부로 한 것 이외에는, 실시예 1 과 동일하게 하여, 프리프레그를 얻었다.Except having made the usage-amount of silica into 250 mass parts, it carried out similarly to Example 1, and obtained the prepreg.

〔비교예 5〕[Comparative Example 5]

절연 피복 카본 블랙의 사용량을 30 질량부로 한 것 이외에는, 실시예 1 과 동일하게 하여, 프리프레그를 얻었다.A prepreg was obtained in the same manner as in Example 1 except that the amount of the insulating coating carbon black used was 30 parts by mass.

〔참고예 1〕[Reference Example 1]

실시예 1 에 의해서 얻어진 바니시의 메틸에틸케톤을 증발 증류 제거함으로써 혼합 수지 분말을 얻었다. 얻어진 혼합 수지 분말을 1 변 100 ㎜, 두께 0.1 ㎜ 및 0.8 ㎜ 의 형에 충전하고, 압력 30 ㎏f/㎠, 온도 220 ℃ 에서 120 분간의 적층 성형을 행하여, 1 변 100 ㎜, 두께 0.1 ㎜ 및 0.8 ㎜ 의 경화물을 얻었다. 당해 경화물은, 유리 직포를 사용하지 않은 것이다.Mixed resin powder was obtained by evaporating and distilling the methyl ethyl ketone of the varnish obtained by Example 1. The obtained mixed resin powder was filled into a mold having a side of 100 mm, a thickness of 0.1 mm and 0.8 mm, and lamination molding was performed at a pressure of 30 kgf/cm 2 and a temperature of 220° C. for 120 minutes, and a side of 100 mm and a thickness of 0.1 mm and A 0.8 mm cured product was obtained. The said hardened|cured material does not use a glass woven fabric.

〔성형성〕[Formability]

실시예 또는 비교예에서 얻어진 프리프레그에, 12 ㎛ 두께의 전해 동박 (3EC-LPⅢ, 미츠이 금속 광업 (주) 제조) 을 상하로 배치하고, 압력 30 ㎏f/㎠, 온도 220 ℃ 에서 120 분간의 적층 성형을 행하여, 금속박 피복 적층판으로서, 절연층 두께 0.1 ㎜ 의 구리 피복 적층판을 얻었다. 구리 피복 적층판의 동박을 에칭에 의해서 제거한 후에, 표면을 관찰하여 보이드의 유무를 확인하고, 하기 평가 기준에 의해서 성형성을 평가하였다. 또한, 참고예 1 에 있어서는, 두께 0.1 ㎜ 및 0.8 ㎜ 의 경화물의 표면을 관찰하여 보이드의 유무를 확인하였다.Electrolytic copper foil (3EC-LPIII, manufactured by Mitsui Metal Mining Co., Ltd.) having a thickness of 12 µm was placed vertically on the prepreg obtained in the Example or Comparative Example, and the pressure was 30 kgf/cm 2 and the temperature was 220°C for 120 minutes. Lamination molding was performed to obtain a copper-clad laminate with an insulating layer thickness of 0.1 mm as a metal foil-clad laminate. After the copper foil of a copper clad laminated board was removed by etching, the surface was observed, the presence or absence of a void was confirmed, and the following evaluation criteria evaluated moldability. Moreover, in Reference Example 1, the surface of the hardened|cured material of thickness 0.1mm and 0.8mm was observed, and the presence or absence of a void was confirmed.

○ : 보이드의 발생이 확인되지 않은 경우○: When the occurrence of voids is not confirmed

× : 보이드의 발생이 확인된 경우×: When the occurrence of voids is confirmed

〔차광성〕[Light-shielding properties]

실시예 또는 비교예에서 얻어진 프리프레그에, 12 ㎛ 두께의 전해 동박 (3EC-LPⅢ, 미츠이 금속 광업 (주) 제조) 을 상하로 배치하고, 압력 30 ㎏f/㎠, 온도 220 ℃ 에서 120 분간의 적층 성형을 행하여, 금속박 피복 적층판으로서, 절연층 두께 0.1 ㎜ 의 구리 피복 적층판을 얻었다. 구리 피복 적층판의 동박을 에칭에 의해서 제거하여 얻어진 기판을 샘플로 하고, 파장 400 ∼ 2000 ㎚ 의 투과율을 측정하였다. 측정에는, 히타치 하이테크놀로지 제조, 분광 광도계 U-4100 을 사용하였다. 얻어진 투과율에 기초하여, 하기 평가 기준에 의해서 차광성을 평가하였다. 또한, 참고예 1 에 있어서는, 두께 0.1 ㎜ 의 경화물을 샘플로 하여, 파장 400 ∼ 2000 ㎚ 의 투과율을 측정하였다.Electrolytic copper foil (3EC-LPIII, manufactured by Mitsui Metal Mining Co., Ltd.) having a thickness of 12 µm was placed vertically on the prepreg obtained in the Example or Comparative Example, and the pressure was 30 kgf/cm 2 and the temperature was 220°C for 120 minutes. Lamination molding was performed to obtain a copper-clad laminate with an insulating layer thickness of 0.1 mm as a metal foil-clad laminate. The board|substrate obtained by removing the copper foil of a copper clad laminated board by etching was made into the sample, and the transmittance|permeability of wavelength 400-2000 nm was measured. The Hitachi High-Technology make, spectrophotometer U-4100 was used for the measurement. Based on the obtained transmittance|permeability, the following evaluation criteria evaluated light-shielding property. Moreover, in the reference example 1, the transmittance|permeability with a wavelength of 400-2000 nm was measured using the hardened|cured material of thickness 0.1mm as a sample.

○ : 파장 400 ∼ 2000 ㎚ 의 범위에 있어서의 투과율이 0.1 % 이하(circle): The transmittance|permeability in the range of wavelength 400-2000 nm is 0.1 % or less

× : 파장 400 ∼ 2000 ㎚ 의 범위에 있어서의 투과율이 0.1 % 초과x: The transmittance|permeability in the range of wavelength 400-2000 nm exceeds 0.1 %

〔표면 경도〕[Surface hardness]

실시예 또는 비교예에서 얻어진 프리프레그를 8 장 중첩하여, 12 ㎛ 두께의 전해 동박 (3EC-LPⅢ, 미츠이 금속 광업 (주) 제조) 을 상하로 배치하고, 압력 30 ㎏f/㎠, 온도 220 ℃ 에서 120 분간의 적층 성형을 행하여, 금속박 피복 적층판으로서, 절연층 두께 0.8 ㎜ 의 구리 피복 적층판을 얻었다. 얻어진 구리 피복 적층판을 샘플로 하고, JISK7060 에 준하여, COLMAN 사 제조 GYZJ935 를 사용하여 바콜 경도를 측정하였다. 또한, 참고예 1 에 있어서는, 두께 0.8 ㎜ 의 경화물을 샘플로 하고, JISK7060 에 준하여 바콜 경도를 측정하였다. 표면 경도 (바콜 경도) 가 높을수록 와이어 본딩성이 우수하다.Eight prepregs obtained in Examples or Comparative Examples were stacked on top of each other, and 12 μm thick electrolytic copper foil (3EC-LPIII, manufactured by Mitsui Metals Mining Co., Ltd.) was placed up and down, pressure 30 kgf/cm 2 , temperature 220° C. was laminated for 120 minutes to obtain a copper clad laminate having an insulating layer thickness of 0.8 mm as a metal foil clad laminate. The obtained copper clad laminate was used as a sample, and according to JISK7060, Barcol hardness was measured using GYZJ935 by COLMAN. In Reference Example 1, a cured product having a thickness of 0.8 mm was used as a sample, and Barcol hardness was measured according to JISK7060. It is excellent in wire bonding property, so that surface hardness (Barcol hardness) is high.

Figure pct00015
Figure pct00015

상기에 더하여 수지 피복되어 있지 않은 카본 블랙을 사용하여, 실시예 1 과 동일하게 프리프레그를 제작하였다. 결과적으로는, 수지 피복이 되어 있지 않기 때문에 분산성이 열등하고, 다른 실시예와 비교했을 경우에는 성형성이 약간 열등한 것이었다.In addition to the above, a prepreg was produced in the same manner as in Example 1 using carbon black not coated with resin. As a result, since the resin coating was not carried out, the dispersibility was inferior, and when compared with the other Example, the moldability was slightly inferior.

산업상 이용가능성Industrial Applicability

본 발명의 수지 조성물은, 리지드 기판의 제조에 사용하는 재료로서 산업상 이용 가능성을 갖는다.The resin composition of this invention has industrial applicability as a material used for manufacture of a rigid board|substrate.

Claims (17)

에폭시 화합물 (A) 와,
경화제 (B) 와,
흑색 입자 (C) 와,
무기 충전재 (D) 를 함유하고,
상기 흑색 입자 (C) 의 함유량이, 상기 에폭시 화합물 (A) 와 상기 경화제 (B) 의 합계 함유량 100 질량부에 대해서, 1 ∼ 25 질량부이며,
상기 무기 충전재 (D) 의 함유량이, 상기 에폭시 화합물 (A) 와 상기 경화제 (B) 의 합계 함유량 100 질량부에 대해서, 100 ∼ 200 질량부인,
수지 조성물.
an epoxy compound (A), and
a curing agent (B);
black particles (C) and
containing an inorganic filler (D),
Content of the said black particle (C) is 1-25 mass parts with respect to 100 mass parts of total content of the said epoxy compound (A) and the said hardening|curing agent (B),
Content of the said inorganic filler (D) is 100-200 mass parts with respect to 100 mass parts of total content of the said epoxy compound (A) and the said hardening|curing agent (B),
resin composition.
제 1 항에 있어서,
상기 흑색 입자 (C) 가, 표면의 적어도 일부가 열경화성 수지로 피복된, 평균 입자경 1 ㎛ 이하의 입자인, 수지 조성물.
The method of claim 1,
The resin composition wherein the black particles (C) are particles having an average particle diameter of 1 μm or less, at least a part of which is coated with a thermosetting resin on the surface.
제 1 항 또는 제 2 항에 있어서,
상기 에폭시 화합물 (A) 가, 하기 식 (I) 로 나타내는 화합물을 함유하는, 수지 조성물.
Figure pct00016

(식 (I) 중, n1 은 1 이상의 정수를 나타낸다.)
3. The method according to claim 1 or 2,
The resin composition in which the said epoxy compound (A) contains the compound represented by following formula (I).
Figure pct00016

(In formula (I), n1 represents an integer of 1 or more.)
제 1 항 내지 제 3 항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 경화제 (B) 로서, 페놀 화합물 (E) 및/또는 시안산에스테르 화합물 (F) 를 함유하는, 수지 조성물.
4. The method according to any one of claims 1 to 3,
The resin composition containing a phenol compound (E) and/or a cyanate ester compound (F) as said hardening|curing agent (B).
제 4 항에 있어서,
상기 페놀 화합물 (E) 가, 하기 식 (Ⅱ) 또는 식 (Ⅲ) 으로 나타내는 화합물을 함유하는, 수지 조성물.
Figure pct00017

(식 (Ⅱ) 중, n2 는 1 이상의 정수를 나타낸다.)
Figure pct00018

(식 (Ⅲ) 중, R1, R2 는, 각각 독립적으로, 수소 원자 또는 메틸기를 나타내고, n3 은 1 이상의 정수를 나타낸다.)
5. The method of claim 4,
The resin composition in which the said phenol compound (E) contains the compound represented by following formula (II) or Formula (III).
Figure pct00017

(In formula (II), n2 represents an integer of 1 or more.)
Figure pct00018

(In formula (III), R 1 and R 2 each independently represent a hydrogen atom or a methyl group, and n3 represents an integer of 1 or more.)
제 4 항에 있어서,
상기 시안산에스테르 화합물 (F) 가, 하기 식 (VI) 으로 나타내는 나프톨아르알킬형 시안산에스테르 화합물, 및/또는, 하기 식 (Ⅶ) 로 나타내는 노볼락형 시안산에스테르 화합물을 함유하는, 수지 조성물.
Figure pct00019

(상기 식 (VI) 중, R5 는, 각각 독립적으로, 수소 원자 또는 메틸기를 나타내고, n6 은 1 이상의 정수를 나타낸다.)
Figure pct00020

(상기 식 (Ⅶ) 중, R6 은, 각각 독립적으로, 수소 원자 또는 메틸기를 나타내고, n7 은 1 이상의 정수를 나타낸다.)
5. The method of claim 4,
A resin composition in which the cyanate ester compound (F) contains a naphthol aralkyl-type cyanate ester compound represented by the following formula (VI) and/or a novolac-type cyanate ester compound represented by the following formula (VII) .
Figure pct00019

(In the formula (VI), R 5 each independently represents a hydrogen atom or a methyl group, and n6 represents an integer of 1 or more.)
Figure pct00020

(In the formula (VII), R 6 each independently represents a hydrogen atom or a methyl group, and n7 represents an integer of 1 or more.)
제 1 항 내지 제 6 항 중 어느 한 항에 있어서,
말레이미드 화합물 (G) 를 추가로 함유하는, 수지 조성물.
7. The method according to any one of claims 1 to 6,
The resin composition which further contains a maleimide compound (G).
제 7 항에 있어서,
상기 말레이미드 화합물 (G) 가, 비스(4-말레이미드페닐)메탄, 2,2'-비스{4-(4-말레이미드페녹시)-페닐}프로판, 비스(3-에틸-5-메틸-4-말레이미드페닐)메탄, 하기 식 (IV) 로 나타내는 말레이미드 화합물, 및 하기 식 (V) 로 나타내는 말레이미드 화합물로 이루어지는 군에서 선택되는 1 종 이상을 함유하는, 수지 조성물.
Figure pct00021

(식 (IV) 중, R3 은, 각각 독립적으로, 수소 원자 또는 메틸기를 나타내고, n4 는 1 이상의 정수를 나타낸다.)
Figure pct00022

(식 (V) 중, R4 는, 각각 독립적으로, 수소 원자, 탄소수 1 ∼ 5 의 알킬기 또는 페닐기를 나타내고, n5 는, 평균치이며, 1 < n5 ≤ 5 를 나타낸다.)
8. The method of claim 7,
Said maleimide compound (G) is bis(4-maleimidephenyl)methane, 2,2'-bisb4-(4-maleimidephenoxy)-phenylbpropane, bis(3-ethyl-5-methyl A resin composition comprising at least one selected from the group consisting of -4-maleimidephenyl)methane, a maleimide compound represented by the following formula (IV), and a maleimide compound represented by the following formula (V).
Figure pct00021

(In formula (IV), R 3 each independently represents a hydrogen atom or a methyl group, and n4 represents an integer of 1 or more.)
Figure pct00022

(In the formula (V), R 4 each independently represents a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms, or a phenyl group, n5 is an average value, and 1 < n5 ≤ 5.)
제 1 항 내지 제 8 항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 무기 충전재 (D) 가, 실리카, 수산화알루미늄, 알루미나, 베마이트, 산화마그네슘, 및 수산화마그네슘으로 이루어지는 군에서 선택되는 1 종 이상을 함유하는, 수지 조성물.
9. The method according to any one of claims 1 to 8,
The resin composition in which the said inorganic filler (D) contains 1 or more types chosen from the group which consists of silica, aluminum hydroxide, alumina, boehmite, magnesium oxide, and magnesium hydroxide.
기재와,
그 기재에 함침 또는 도포된 제 1 항 내지 제 9 항 중 어느 한 항에 기재된 수지 조성물을 갖는,
프리프레그.
description and
Having the resin composition according to any one of claims 1 to 9 impregnated or applied to the base material,
prepreg.
지지체와,
그 지지체의 편면 또는 양면에 적층된 제 1 항 내지 제 9 항 중 어느 한 항에 기재된 수지 조성물을 갖는,
레진 시트.
support and
Having the resin composition according to any one of claims 1 to 9 laminated on one side or both sides of the support,
resin sheet.
제 10 항에 기재된 프리프레그 및 제 11 항에 기재된 레진 시트로 이루어지는 군에서 선택되는 1 종 이상을 적층한, 적층판.A laminate in which at least one selected from the group consisting of the prepreg according to claim 10 and the resin sheet according to claim 11 is laminated. 제 10 항에 기재된 프리프레그 및 제 11 항에 기재된 레진 시트로 이루어지는 군에서 선택되는 1 종 이상과,
상기 프리프레그 및/또는 상기 레진 시트 상에 적층된 금속박을 갖는,
금속박 피복 적층판.
At least one selected from the group consisting of the prepreg according to claim 10 and the resin sheet according to claim 11;
having a metal foil laminated on the prepreg and/or the resin sheet,
Metal foil clad laminate.
제 13 항에 있어서,
상기 금속박 피복 적층판의 바콜 경도가, 70 ∼ 80 이며, 또한,
상기 금속박 피복 적층판으로부터 금속박이 제거된 기판의 파장 400 ∼ 2000 ㎚ 의 범위에 있어서의 투과율이, 0.1 % 이하인, 금속박 피복 적층판.
14. The method of claim 13,
The Barcol hardness of the metal foil-clad laminate is 70 to 80, and
The metal foil-clad laminated board whose transmittance|permeability in the range of 400-2000 nm wavelength of the board|substrate from which the metal foil was removed from the said metal foil-clad laminated board is 0.1 % or less.
제 10 항에 기재된 프리프레그 및 제 11 항에 기재된 레진 시트로 이루어지는 군에서 선택되는 1 종 이상을 빌드업 재료로서 사용하여 제작된, 프린트 배선판.The printed wiring board produced using 1 or more types chosen from the group which consists of the prepreg of Claim 10 and the resin sheet of Claim 11 as a buildup material. 제 13 항 또는 제 14 항에 기재된 금속박 피복 적층판을 빌드업 재료로서 사용하여 제작된, 프린트 배선판.The printed wiring board produced using the metal foil clad laminated board of Claim 13 or 14 as a buildup material. 절연층과,
그 절연층의 표면에 형성된 도체층을 포함하고,
상기 절연층이 제 1 항 내지 제 9 항 중 어느 한 항에 기재된 수지 조성물을 함유하는,
프린트 배선판.
an insulating layer,
a conductor layer formed on the surface of the insulating layer;
The said insulating layer contains the resin composition in any one of Claims 1-9,
printed wiring board.
KR1020217033111A 2019-05-20 2020-05-01 A resin composition, a prepreg, a resin sheet, a laminated board, a metal foil-clad laminated board, and a printed wiring board KR20220011116A (en)

Applications Claiming Priority (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2019094211 2019-05-20
JPJP-P-2019-094211 2019-05-20
PCT/JP2020/018367 WO2020235329A1 (en) 2019-05-20 2020-05-01 Resin composition, prepreg, resin sheet, laminated plate, metal foil clad laminated plate, and printed wiring board

Publications (1)

Publication Number Publication Date
KR20220011116A true KR20220011116A (en) 2022-01-27

Family

ID=73458446

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020217033111A KR20220011116A (en) 2019-05-20 2020-05-01 A resin composition, a prepreg, a resin sheet, a laminated board, a metal foil-clad laminated board, and a printed wiring board

Country Status (5)

Country Link
JP (1) JPWO2020235329A1 (en)
KR (1) KR20220011116A (en)
CN (1) CN113853404A (en)
TW (1) TW202106795A (en)
WO (1) WO2020235329A1 (en)

Families Citing this family (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP6986212B1 (en) * 2020-02-07 2021-12-22 三菱瓦斯化学株式会社 Resin composition, prepreg, laminated board, metal foil-clad laminated board, and printed wiring board

Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2016047863A (en) 2013-01-25 2016-04-07 株式会社カネカ Black polyimide film

Family Cites Families (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2000281753A (en) * 1999-03-31 2000-10-10 Toshiba Corp Electrically conductive resin composition for shield
JP2005281625A (en) * 2004-03-30 2005-10-13 Kyocera Chemical Corp Epoxy resin composition for sealing and resin sealed semiconductor device
JP6044177B2 (en) * 2012-08-16 2016-12-14 三菱瓦斯化学株式会社 Thermosetting resin composition, prepreg, laminate and printed wiring board
JP7047257B2 (en) * 2017-03-29 2022-04-05 味の素株式会社 Resin composition
JP6849532B2 (en) * 2017-05-30 2021-03-24 積水化学工業株式会社 Fire resistant epoxy resin composition
JP7210901B2 (en) * 2017-06-26 2023-01-24 味の素株式会社 Resin composition layer

Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2016047863A (en) 2013-01-25 2016-04-07 株式会社カネカ Black polyimide film

Also Published As

Publication number Publication date
CN113853404A (en) 2021-12-28
JPWO2020235329A1 (en) 2020-11-26
TW202106795A (en) 2021-02-16
WO2020235329A1 (en) 2020-11-26

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP7121354B2 (en) Resin composition, prepreg, resin sheet, laminated resin sheet, laminate, metal foil-clad laminate, and printed wiring board
TWI701266B (en) Resin composition, prepreg, metal foil-clad laminate, and printed wiring board
KR102431012B1 (en) Resin composition for printed wiring boards, prepregs, resin sheets, laminates, metal foil-clad laminates, printed wiring boards, and multilayer printed wiring boards
TWI702128B (en) Prepreg, metal foil-clad laminate and printed wiring board
TWI698481B (en) Resin composition, prepreg and resin sheet using the resin composition, laminate and printed wiring board using the same
JP6910590B2 (en) Resin composition for printed wiring board, prepreg, metal foil-clad laminate, laminated resin sheet, resin sheet, and printed wiring board
TW202142621A (en) Resin composition, prepreg, resin sheet, laminate, metal foil-clad laminate, and printed wiring board
KR102480537B1 (en) Resin compositions, prepregs, metal clad laminates, printed wiring boards and flex-rigid printed wiring boards
CN107849361B (en) Resin composition, prepreg, resin sheet, metal foil-clad laminate, and printed wiring board
CN114096337B (en) Zinc ammonium molybdate hydrate for electronic material, resin composition for electronic material, prepreg, resin sheet, laminated sheet, metal foil-clad laminated sheet, and printed wiring board
KR102605758B1 (en) Resin composition, prepreg, resin sheet, laminate plate, and printed wiring board
KR20220011116A (en) A resin composition, a prepreg, a resin sheet, a laminated board, a metal foil-clad laminated board, and a printed wiring board
CN115052934B (en) Resin composition, prepreg, laminated board, metal foil-clad laminated board, and printed wiring board
KR102330406B1 (en) Resin composition, prepreg using same, resin sheet, laminate sheet, and printed wiring board
CN113166553A (en) Composition, prepreg, resin sheet, laminate, and printed wiring board
JP2020033493A (en) Mixture of cyanate compound and curable composition