KR102431012B1 - Resin composition for printed wiring boards, prepregs, resin sheets, laminates, metal foil-clad laminates, printed wiring boards, and multilayer printed wiring boards - Google Patents

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Abstract

명확한 유리 전이 온도가 존재하지 않고 (Tg 리스), 또한 프린트 배선판, 특히, 다층 코어리스 기판의 휨을 충분히 저감 (저휨을 달성) 시킬 수 있는 프린트 배선판용 수지 조성물, 프리프레그, 레진 시트, 적층판, 금속박 피복 적층판, 프린트 배선판, 및 다층 프린트 배선판을 제공하기 위해, 본 발명에 의한 수지 조성물은, 알릴페놀 화합물 (A) 와, 말레이미드 화합물 (B) 와, 시안산에스테르 화합물 (C) 및/또는 에폭시 화합물 (D) 를 함유한다. 또, 프린트 배선판용 수지 조성물 중의 수지 고형분 100 질량부에 대한 알릴페놀 화합물 (A) 의 함유량이 10 ∼ 50 질량부이고, 프린트 배선판용 수지 조성물 중의 수지 고형분 100 질량부에 대한 말레이미드 화합물 (B) 의 함유량이 40 ∼ 80 질량부이다.Resin composition for printed wiring boards, prepregs, resin sheets, laminates, and metal foils that do not have a clear glass transition temperature (Tg-less) and can sufficiently reduce (achieve low warpage) warpage of printed wiring boards, especially multilayer coreless boards In order to provide a clad laminated board, a printed wiring board, and a multilayer printed wiring board, the resin composition by this invention is an allylphenol compound (A), a maleimide compound (B), a cyanate ester compound (C), and/or an epoxy compound (D). Moreover, content of the allylphenol compound (A) with respect to 100 mass parts of resin solid content in the resin composition for printed wiring boards is 10-50 mass parts, The maleimide compound (B) with respect to 100 mass parts of resin solid content in the resin composition for printed wiring boards. The content of is 40 to 80 parts by mass.

Description

프린트 배선판용 수지 조성물, 프리프레그, 레진 시트, 적층판, 금속박 피복 적층판, 프린트 배선판, 및 다층 프린트 배선판Resin composition for printed wiring boards, prepregs, resin sheets, laminates, metal foil-clad laminates, printed wiring boards, and multilayer printed wiring boards

본 발명은, 프린트 배선판용 수지 조성물, 프리프레그, 레진 시트, 적층판, 금속박 피복 적층판, 프린트 배선판, 및 다층 프린트 배선판에 관한 것이다.The present invention relates to a resin composition for a printed wiring board, a prepreg, a resin sheet, a laminate, a metal foil-clad laminate, a printed wiring board, and a multilayer printed wiring board.

최근, 전자 기기나 통신기, 퍼스널 컴퓨터 등에 널리 사용되고 있는 반도체 패키지의 고기능화, 소형화가 진행됨에 따라, 반도체 패키지용의 각 부품의 고집적화나 고밀도 실장화가 최근 더욱 더 가속되고 있다. 이에 수반하여, 반도체 패키지용의 프린트 배선판에 요구되는 여러 특성은 더욱 더 엄격한 것이 되고 있다. 이러한 프린트 배선판에 요구되는 특성으로는, 예를 들어, 저흡수성, 흡습 내열성, 난연성, 저유전율, 저유전 정접, 저열팽창률, 내열성, 내약품성, 고도금 필 강도 등을 들 수 있다. 또, 그것들에 더하여, 프린트 배선판, 특히, 다층 코어리스 기판의 휨을 억제하는 (저휨을 달성하는) 것이 최근 중요한 과제가 되고 있으며, 여러 가지 대책이 강구되어 오고 있다.In recent years, as high-functionality and miniaturization of semiconductor packages widely used in electronic devices, communication devices, personal computers, and the like progress, high integration and high-density mounting of each component for semiconductor packages is accelerating in recent years. In connection with this, the various characteristics required for the printed wiring board for semiconductor packages are becoming more and more stringent. As a characteristic required for such a printed wiring board, low water absorption, moisture absorption heat resistance, a flame retardance, a low dielectric constant, a low dielectric loss tangent, a low thermal expansion coefficient, heat resistance, chemical resistance, high metal peel strength, etc. are mentioned, for example. Moreover, in addition to them, suppressing the curvature of a printed wiring board, especially a multilayer coreless board|substrate (achieving low warpage) has become an important subject in recent years, and various countermeasures have been taken.

그 대책의 하나로서, 프린트 배선판에 사용되는 절연층의 저열팽창화를 들 수 있다. 이것은, 프린트 배선판의 열팽창률을 반도체 소자의 열팽창률에 가깝게 함으로써 휨을 억제하는 수법이고, 현재 활발히 노력하고 있다 (예를 들어, 특허문헌 1 ∼ 3 참조).As one of the countermeasures, low thermal expansion of the insulating layer used for a printed wiring board is mentioned. This is the method of suppressing curvature by making the thermal expansion coefficient of a printed wiring board close to the thermal expansion coefficient of a semiconductor element, and is making an effort actively now (for example, refer patent documents 1 - 3).

반도체 플라스틱 패키지의 휨을 억제하는 수법으로는, 프린트 배선판의 저열팽창화 이외에도, 적층판의 강성을 높게 하는 것 (고강성화) 이나 적층판의 유리 전이 온도를 높게 하는 것 (고 Tg 화) 이 검토되고 있다 (예를 들어, 특허문헌 4 및 5 참조).As a method of suppressing the warpage of the semiconductor plastic package, in addition to lowering the thermal expansion of the printed wiring board, increasing the rigidity of the laminate (higher rigidity) and increasing the glass transition temperature of the laminate (higher Tg) are being considered ( For example, refer to Patent Documents 4 and 5).

일본 공개특허공보 2013-216884호Japanese Patent Laid-Open No. 2013-216884 일본 특허 제3173332호Japanese Patent No. 3173332 일본 공개특허공보 2009-035728호Japanese Patent Laid-Open No. 2009-035728 일본 공개특허공보 2013-001807호Japanese Patent Laid-Open No. 2013-001807 일본 공개특허공보 2011-178992호Japanese Patent Laid-Open No. 2011-178992

그러나, 본 발명자들의 상세한 검토에 의하면, 상기 종래의 기술을 가지고도, 프린트 배선판, 특히, 다층 코어리스 기판의 휨을 아직 충분히 저감시킬 수 없어, 추가적인 개량이 요망되고 있다.However, according to the detailed examination of the present inventors, even with the said prior art, the curvature of a printed wiring board, especially a multilayer coreless board|substrate cannot yet fully be reduced, and further improvement is desired.

즉, 본 발명은, 명확한 유리 전이 온도가 존재하지 않고 (이른바 Tg 리스), 또한, 프린트 배선판, 특히, 다층 코어리스 기판의 휨을 충분히 저감 (저휨을 달성) 시킬 수 있는 프린트 배선판용 수지 조성물, 그리고 그 프린트 배선판용 수지 조성물을 사용한 프리프레그, 레진 시트, 적층판, 금속박 피복 적층판, 프린트 배선판, 및 다층 프린트 배선판을 제공하는 것을 목적으로 한다.That is, the present invention provides a resin composition for a printed wiring board that does not have a clear glass transition temperature (so-called Tg-less) and can sufficiently reduce warpage (achieve low warpage) of a printed wiring board, particularly a multilayer coreless board, and It aims at providing the prepreg, resin sheet, laminated board, metal foil clad laminated board, printed wiring board, and multilayer printed wiring board using this resin composition for printed wiring boards.

본 발명자들은 상기 과제를 해결하기 위해 예의 검토를 실시한 결과, 종래, 반도체 플라스틱 패키지용의 프린트 배선판의 휨 거동에 관해서는, 프리프레그의 경화물에 있어서, 보다 큰 열시 (熱時) 저장 탄성률, 및 보다 높은 탄성률 유지율을 실현할 수 있는 수지 조성물이 유효하다고 생각되어 왔지만, 반드시 그렇다고는 할 수 없는 것이 판명되어 왔다. 또한 본 발명자들은 예의 연구를 진행시킨 결과, 알릴페놀 화합물 및 말레이미드 화합물에 더하여, 시안산에스테르 화합물 및/또는 에폭시 화합물을 사용함으로써, 상기 문제점을 해결할 수 있는 것을 알아내어, 본 발명을 완성하기에 이르렀다. As a result of intensive studies conducted by the present inventors in order to solve the above problems, conventionally, regarding the bending behavior of a printed wiring board for a semiconductor plastic package, in a cured product of a prepreg, a larger thermal storage modulus, and Although it has been thought that the resin composition which can implement|achieve a higher elastic modulus retention rate is effective, it has become clear that it is not necessarily the case. In addition, as a result of intensive research, the present inventors found that the above problems can be solved by using a cyanate ester compound and/or an epoxy compound in addition to an allylphenol compound and a maleimide compound, and to complete the present invention. reached

즉, 본 발명은 이하와 같다.That is, the present invention is as follows.

[1][One]

알릴페놀 화합물 (A) 와,Allylphenol compound (A) and

말레이미드 화합물 (B) 와,A maleimide compound (B), and

시안산에스테르 화합물 (C) 및/또는 에폭시 화합물 (D) 를 함유하는 프린트 배선판용 수지 조성물로서,As a resin composition for printed wiring boards containing a cyanate ester compound (C) and/or an epoxy compound (D),

상기 프린트 배선판용 수지 조성물 중의 수지 고형분 100 질량부에 대한 상기 알릴페놀 화합물 (A) 의 함유량이 10 ∼ 50 질량부이고,Content of the said allylphenol compound (A) with respect to 100 mass parts of resin solid content in the said resin composition for printed wiring boards is 10-50 mass parts,

상기 프린트 배선판용 수지 조성물 중의 수지 고형분 100 질량부에 대한 상기 말레이미드 화합물 (B) 의 함유량이 40 ∼ 80 질량부인,Content of the said maleimide compound (B) with respect to 100 mass parts of resin solid content in the said resin composition for printed wiring boards is 40-80 mass parts,

프린트 배선판용 수지 조성물.A resin composition for a printed wiring board.

[2][2]

상기 프린트 배선판용 수지 조성물 중의 수지 고형분 100 질량부에 대한 상기 시안산에스테르 화합물 (C) 및 상기 에폭시 화합물 (D) 의 합계 함유량이 5 ∼ 45 질량부인,Total content of the said cyanate ester compound (C) and the said epoxy compound (D) with respect to 100 mass parts of resin solid content in the said resin composition for printed wiring boards is 5-45 mass parts,

[1] 에 기재된 프린트 배선판용 수지 조성물.The resin composition for printed wiring boards as described in [1].

[3][3]

상기 프린트 배선판용 수지 조성물 중의 수지 고형분 100 질량부에 대한 상기 시안산에스테르 화합물 (C) 의 함유량이 0 ∼ 25 질량부인,Content of the said cyanate ester compound (C) with respect to 100 mass parts of resin solid content in the said resin composition for printed wiring boards is 0-25 mass parts,

[1] 또는 [2] 에 기재된 프린트 배선판용 수지 조성물.The resin composition for printed wiring boards as described in [1] or [2].

[4][4]

상기 프린트 배선판용 수지 조성물 중의 수지 고형분 100 질량부에 대한 상기 에폭시 화합물 (D) 의 함유량이 0 ∼ 25 질량부인,Content of the said epoxy compound (D) with respect to 100 mass parts of resin solid content in the said resin composition for printed wiring boards is 0-25 mass parts,

[1] 또는 [2] 에 기재된 프린트 배선판용 수지 조성물.The resin composition for printed wiring boards as described in [1] or [2].

[5][5]

충전재 (E) 를 추가로 함유하는,Further containing a filler (E),

[1] ∼ [4] 중 어느 하나에 기재된 프린트 배선판용 수지 조성물.The resin composition for printed wiring boards in any one of [1]-[4].

[6][6]

상기 충전재 (E) 가 실리카, 알루미나, 및 베마이트로 이루어지는 군에서 선택되는 적어도 1 종인,The filler (E) is at least one selected from the group consisting of silica, alumina, and boehmite,

[5] 에 기재된 프린트 배선판용 수지 조성물.The resin composition for printed wiring boards as described in [5].

[7][7]

상기 프린트 배선판용 수지 조성물 중의 수지 고형분 100 질량부에 대한 상기 충전재 (E) 의 함유량이 120 ∼ 250 질량부인,Content of the said filler (E) with respect to 100 mass parts of resin solid content in the said resin composition for printed wiring boards is 120-250 mass parts,

[5] 또는 [6] 에 기재된 프린트 배선판용 수지 조성물.The resin composition for printed wiring boards as described in [5] or [6].

[8][8]

상기 알릴페놀 화합물 (A) 가 하기 식 (I) ∼ (III) 중 어느 것으로 나타내는 화합물을 포함하는,The allylphenol compound (A) contains a compound represented by any of the following formulas (I) to (III),

[1] ∼ [7] 중 어느 하나에 기재된 프린트 배선판용 수지 조성물.The resin composition for printed wiring boards in any one of [1]-[7].

[화학식 1][Formula 1]

Figure 112019058495421-pct00001
Figure 112019058495421-pct00001

(식 (I) 중, R1 및 R2 는, 각각 독립적으로, 수소 원자, 메틸기, 에틸기, n-프로필기, i-프로필기, n-부틸기, i-부틸기, sec-부틸기, t-부틸기, 또는 페닐기를 나타낸다)(in formula (I), R 1 and R 2 are each independently a hydrogen atom, a methyl group, an ethyl group, n-propyl group, i-propyl group, n-butyl group, i-butyl group, sec-butyl group, represents a t-butyl group or a phenyl group)

[화학식 2][Formula 2]

Figure 112019058495421-pct00002
Figure 112019058495421-pct00002

[화학식 3][Formula 3]

Figure 112019058495421-pct00003
Figure 112019058495421-pct00003

[9][9]

상기 말레이미드 화합물 (B) 거, 비스(4-말레이미드페닐)메탄, 2,2-비스{4-(4-말레이미드페녹시)-페닐}프로판, 비스(3-에틸-5-메틸-4-말레이미드페닐)메탄 및 하기 식 (1) 로 나타내는 말레이미드 화합물로 이루어지는 군에서 선택되는 적어도 1 종을 포함하는,Said maleimide compound (B), bis(4-maleimidephenyl)methane, 2,2-bis{4-(4-maleimidephenoxy)-phenyl}propane, bis(3-ethyl-5-methyl- At least one selected from the group consisting of 4-maleimidephenyl)methane and a maleimide compound represented by the following formula (1) is included,

[1] ∼ [8] 중 어느 하나에 기재된 프린트 배선판용 수지 조성물.The resin composition for printed wiring boards in any one of [1]-[8].

[화학식 4][Formula 4]

Figure 112019058495421-pct00004
Figure 112019058495421-pct00004

(식 (1) 중, R5 는, 각각 독립적으로, 수소 원자 또는 메틸기를 나타내고, n1 은, 1 이상의 정수 (整數) 를 나타낸다)(In formula (1), R 5 each independently represents a hydrogen atom or a methyl group, and n 1 represents an integer of 1 or more)

[10][10]

상기 시안산에스테르 화합물 (C) 가 하기 식 (2) 및/또는 (3) 으로 나타내는 화합물을 포함하는,The said cyanate ester compound (C) contains the compound represented by following formula (2) and/or (3),

[1] ∼ [9] 중 어느 1 항에 기재된 프린트 배선판용 수지 조성물.The resin composition for a printed wiring board according to any one of [1] to [9].

[화학식 5][Formula 5]

Figure 112019058495421-pct00005
Figure 112019058495421-pct00005

(식 (2) 중, R6 은, 각각 독립적으로, 수소 원자 또는 메틸기를 나타내고, n2 는, 1 이상의 정수를 나타낸다)(In formula (2), R 6 each independently represents a hydrogen atom or a methyl group, and n 2 represents an integer of 1 or more)

[화학식 6][Formula 6]

Figure 112019058495421-pct00006
Figure 112019058495421-pct00006

(식 (3) 중, R7 은, 각각 독립적으로, 수소 원자 또는 메틸기를 나타내고, n3 은, 1 이상의 정수를 나타낸다)(In formula (3), R 7 each independently represents a hydrogen atom or a methyl group, and n 3 represents an integer of 1 or more)

[11][11]

상기 프린트 배선판용 수지 조성물과, 기재를 함유하는 프리프레그를 230 ℃ 및 100 분의 조건으로 열 경화시켜 얻어지는 경화물이, 하기 식 (4) ∼ (8) ;The hardened|cured material obtained by making the said resin composition for printed wiring boards thermoset the prepreg containing a base material on 230 degreeC and conditions for 100 minutes, following formula (4)-(8);

Figure 112019058495421-pct00007
Figure 112019058495421-pct00007

(각 식 중, E' 는, 괄호 내에 나타내는 온도에 있어서의 상기 경화물의 저장 탄성률을 나타내고, E''max 는, 30 ℃ 내지 330 ℃ 의 온도 범위에 있어서의 상기 경화물의 손실 탄성률의 최대값을 나타내고, E''min 은, 30 ℃ 내지 330 ℃ 의 온도 범위에 있어서의 상기 경화물의 손실 탄성률의 최소값을 나타낸다)(In each formula, E' represents the storage elastic modulus of the cured product at the temperature shown in parentheses, and E''max is the maximum value of the loss elastic modulus of the cured product in the temperature range of 30°C to 330°C. where E''min represents the minimum value of the loss modulus of the cured product in a temperature range of 30°C to 330°C)

로 나타내는 기계 특성에 관한 물성 파라미터의 수치 범위를 만족시키는,Satisfying the numerical range of the physical property parameters related to the mechanical properties represented by

[1] ∼ [10] 중 어느 1 항에 기재된 프린트 배선판용 수지 조성물.[1] The resin composition for a printed wiring board according to any one of [10].

[12][12]

기재와,description and

그 기재에 함침 또는 도포된 [1] ∼ [11] 중 어느 1 항에 기재된 프린트 배선판용 수지 조성물The resin composition for a printed wiring board according to any one of [1] to [11], impregnated or applied to the base material.

을 갖는 프리프레그.A prepreg with

[13][13]

상기 기재가, E 유리 섬유, D 유리 섬유, S 유리 섬유, T 유리 섬유, Q 유리 섬유, L 유리 섬유, NE 유리 섬유, HME 유리 섬유, 및 유기 섬유로 이루어지는 군에서 선택되는 1 종 이상의 섬유로 구성된 것인,The base material is at least one fiber selected from the group consisting of E glass fiber, D glass fiber, S glass fiber, T glass fiber, Q glass fiber, L glass fiber, NE glass fiber, HME glass fiber, and organic fiber. which is composed,

[12] 에 기재된 프리프레그.The prepreg according to [12].

[14][14]

지지체와,support and

그 지지체의 편면 또는 양면에 적층된 [1] ∼ [11] 중 어느 1 항에 기재된 프린트 배선판용 수지 조성물The resin composition for a printed wiring board according to any one of [1] to [11], which is laminated on one or both surfaces of the support.

을 갖는 레진 시트.A resin sheet with

[15][15]

적어도 1 장 이상 적층된 [12] 및 [13] 에 기재된 프리프레그, 그리고 [14] 에 기재된 레진 시트로 이루어지는 군에서 선택되는 적어도 1 종을 갖는,having at least one selected from the group consisting of the prepregs according to [12] and [13], and the resin sheet according to [14], laminated at least one or more sheets,

적층판.laminated plate.

[16][16]

적어도 1 장 이상 적층된 [12] 및 [13] 에 기재된 프리프레그, 그리고 [14] 에 기재된 레진 시트로 이루어지는 군에서 선택되는 적어도 1 종과,At least one selected from the group consisting of the prepreg according to [12] and [13], and the resin sheet according to [14], in which at least one or more sheets are laminated;

상기 프리프레그 및 상기 레진 시트로 이루어지는 군에서 선택되는 적어도 1 종의 편면 또는 양면에 배치된 금속박Metal foil disposed on one side or both sides of at least one selected from the group consisting of the prepreg and the resin sheet

을 갖는 금속박 피복 적층판.A metal foil-clad laminate having a.

[17][17]

절연층과,an insulating layer,

그 절연층의 표면에 형성된 도체층A conductor layer formed on the surface of the insulating layer

을 갖고,have,

상기 절연층이 [1] ∼ [11] 중 어느 1 항에 기재된 프린트 배선판용 수지 조성물을 포함하는,The said insulating layer contains the resin composition for printed wiring boards in any one of [1]-[11],

프린트 배선판.printed wiring board.

[18][18]

적어도 1 장 이상 적층된 [12] 및 [13] 에 기재된 프리프레그, 그리고 [14] 에 기재된 레진 시트로 이루어지는 군에서 선택되는 적어도 1 종으로 형성된 제 1 절연층, 및 상기 제 1 절연층의 편면 방향에 적어도 1 장 이상 적층된 [12] 및 [13] 에 기재된 프리프레그, 그리고 [14] 에 기재된 레진 시트로 이루어지는 군에서 선택되는 적어도 1 종으로 형성된 제 2 절연층으로 이루어지는 복수의 절연층과,A first insulating layer formed of at least one selected from the group consisting of the prepreg according to [12] and [13], and the resin sheet according to [14], which are laminated by at least one sheet, and one side of the first insulating layer A plurality of insulating layers consisting of a second insulating layer formed of at least one selected from the group consisting of the prepreg according to [12] and [13], and the resin sheet according to [14], laminated at least one or more sheets in the direction; ,

상기 복수의 절연층의 각각의 사이에 배치된 제 1 도체층, 및 상기 복수의 절연층의 최외층의 표면에 배치된 제 2 도체층으로 이루어지는 복수의 도체층A plurality of conductor layers comprising a first conductor layer disposed between each of the plurality of insulating layers, and a second conductor layer disposed on the surface of the outermost layer of the plurality of insulating layers

을 갖는 다층 프린트 배선판.A multilayer printed wiring board with

본 발명에 의하면, 명확한 유리 전이 온도가 존재하지 않고 (Tg 리스), 또한 프린트 배선판, 특히, 다층 코어리스 기판의 휨을 충분히 저감 (저휨을 달성) 시킬 수 있는 프린트 배선판용 수지 조성물, 그리고, 그 프린트 배선판용 수지 조성물을 사용한 프리프레그, 레진 시트, 적층판, 금속박 피복 적층판, 프린트 배선판, 및 다층 프린트 배선판을 제공할 수 있다.According to the present invention, a resin composition for a printed wiring board that does not have a clear glass transition temperature (Tg-less) and can sufficiently reduce (achieve low warpage) warpage of a printed wiring board, particularly a multilayer coreless board, and a print thereof A prepreg using the resin composition for wiring boards, a resin sheet, a laminated board, a metal foil-clad laminated board, a printed wiring board, and a multilayer printed wiring board can be provided.

도 1 은, 다층 코어리스 기판의 패널을 제조하는 순서의 일례를 나타내는 프로세스 플로우도이다 (단, 다층 코어리스 기판의 제조 방법은 이것에 한정되지 않는다. 이하의 도 2 ∼ 도 8 에 있어서 동일하다.).
도 2 는, 다층 코어리스 기판의 패널을 제조하는 순서의 일례를 나타내는 프로세스 플로우도이다.
도 3 은, 다층 코어리스 기판의 패널을 제조하는 순서의 일례를 나타내는 프로세스 플로우도이다.
도 4 는, 다층 코어리스 기판의 패널을 제조하는 순서의 일례를 나타내는 프로세스 플로우도이다.
도 5 는, 다층 코어리스 기판의 패널을 제조하는 순서의 일례를 나타내는 프로세스 플로우도이다.
도 6 은, 다층 코어리스 기판의 패널을 제조하는 순서의 일례를 나타내는 프로세스 플로우도이다.
도 7 은, 다층 코어리스 기판의 패널을 제조하는 순서의 일례를 나타내는 프로세스 플로우도이다.
도 8 은, 다층 코어리스 기판의 패널을 제조하는 순서의 일례를 나타내는 프로세스 플로우도이다.
도 9 는, 다층 코어리스 기판의 패널의 일례의 구성을 나타내는 부분 단면도이다.
1 is a process flow diagram showing an example of a procedure for manufacturing a panel of a multilayer coreless substrate (however, the method for manufacturing a multilayer coreless substrate is not limited thereto. It is the same as in FIGS. 2 to 8 below. .).
2 is a process flow diagram showing an example of a procedure for manufacturing a panel of a multilayer coreless substrate.
3 is a process flow diagram showing an example of a procedure for manufacturing a panel of a multilayer coreless substrate.
4 is a process flow diagram showing an example of a procedure for manufacturing a panel of a multilayer coreless substrate.
5 is a process flow diagram showing an example of a procedure for manufacturing a panel of a multilayer coreless substrate.
6 is a process flow diagram showing an example of a procedure for manufacturing a panel of a multilayer coreless substrate.
7 is a process flow diagram showing an example of a procedure for manufacturing a panel of a multilayer coreless substrate.
8 is a process flow diagram showing an example of a procedure for manufacturing a panel of a multilayer coreless substrate.
9 is a partial cross-sectional view showing a configuration of an example of a panel of a multilayer coreless substrate.

이하, 본 발명을 실시하기 위한 형태 (이하 「본 실시형태」 라고 한다) 에 대해 상세하게 설명하지만, 본 발명은 이것에 한정되는 것은 아니며, 그 요지를 일탈하지 않는 범위에서 여러 가지 변형이 가능하다. 또한, 본 실시형태에 있어서, 「수지 고형분」 이란, 특별히 언급하지 않는 한, 프린트 배선판용 수지 조성물에 있어서의 용제, 및 충전재를 제외한 성분을 말하고, 「수지 고형분 100 질량부」 란, 프린트 배선판용 수지 조성물에 있어서의 용제, 및 충전재를 제외한 성분의 합계가 100 질량부인 것을 말하는 것으로 한다. EMBODIMENT OF THE INVENTION Hereinafter, although the form for implementing this invention (hereinafter referred to as "the present embodiment") is described in detail, the present invention is not limited thereto, and various modifications are possible without departing from the gist thereof. . In addition, in this embodiment, "resin solid content" refers to the component except the solvent and filler in the resin composition for printed wiring boards, unless otherwise indicated, and "resin solid content 100 parts by mass" is for printed wiring boards It shall say that the sum total of the component except the solvent in a resin composition and a filler is 100 mass parts.

[프린트 배선판용 수지 조성물][Resin composition for printed wiring boards]

본 실시형태의 프린트 배선판용 수지 조성물은, 알릴페놀 화합물 (A) 와, 말레이미드 화합물 (B) 와, 시안산에스테르 화합물 (C) 및/또는 에폭시 수지 (D) 를 함유한다. 프린트 배선판용 수지 조성물이 이와 같은 조성을 함유함으로써, 예를 들어, 프리프레그를 경화시킨 경화물에 있어서, 명확한 유리 전이 온도가 존재하지 않고 (Tg 리스), 또한 프린트 배선판, 특히, 다층 코어리스 기판의 휨을 충분히 저감 (저휨을 달성) 시킬 수 있는 경향이 있다.The resin composition for printed wiring boards of this embodiment contains an allylphenol compound (A), a maleimide compound (B), a cyanate ester compound (C), and/or an epoxy resin (D). When the resin composition for a printed wiring board contains such a composition, for example, in a cured product obtained by curing a prepreg, a clear glass transition temperature does not exist (Tg-less), and a printed wiring board, in particular, a multilayer coreless substrate. There is a tendency that warpage can be sufficiently reduced (low warpage is achieved).

[알릴페놀 화합물 (A)][Allylphenol compound (A)]

알릴페놀 화합물 (A) 로는, 방향 고리에 적어도 알릴기와 하이드록실기가 각각 1 개 이상 직접 결합하고 있는 화합물이면, 특별히 한정되지 않지만, 예를 들어, 방향 고리의 수소 원자가 알릴기로 치환된 비스페놀을 들 수 있다. 이러한 비스페놀로는, 특별히 한정되지 않지만, 예를 들어, 비스페놀 A, 비스페놀 AP, 비스페놀 AF, 비스페놀 B, 비스페놀 BP, 비스페놀 C, 비스페놀 C, 비스페놀 E, 비스페놀 F, 비스페놀 G, 비스페놀 M, 비스페놀 S, 비스페놀 P, 비스페놀 PH, 비스페놀 TMC, 비스페놀 Z 를 들 수 있다. 이 중에서도, 비스페놀 A 가 바람직하고, 알릴페놀 화합물 (A) 로는, 디알릴비스페놀 A 가 보다 바람직하고, 하기 식 (I) 또는 식 (II) 로 나타내는 화합물이 더욱 바람직하다. 이와 같은 알릴페놀 화합물 (A) 를 사용함으로써, 굽힘 강도, 굽힘 탄성률, 열팽창률, 열전도율, 및 동박 필 강도가 보다 향상되는 경향이 있다.The allylphenol compound (A) is not particularly limited as long as it is a compound in which at least one or more allyl groups and one or more hydroxyl groups are directly bonded to the aromatic ring, for example, bisphenol in which the hydrogen atom of the aromatic ring is substituted with an allyl group. can Although it does not specifically limit as such a bisphenol, For example, bisphenol A, bisphenol AP, bisphenol AF, bisphenol B, bisphenol BP, bisphenol C, bisphenol C, bisphenol E, bisphenol F, bisphenol G, bisphenol M, bisphenol S, Bisphenol P, bisphenol PH, bisphenol TMC, and bisphenol Z are mentioned. Among these, bisphenol A is preferable, as an allylphenol compound (A), diallyl bisphenol A is more preferable, and the compound represented by a following formula (I) or a formula (II) is still more preferable. By using such an allylphenol compound (A), there exists a tendency for bending strength, bending elastic modulus, thermal expansion coefficient, thermal conductivity, and copper foil peeling strength to improve more.

[화학식 7][Formula 7]

Figure 112019058495421-pct00008
Figure 112019058495421-pct00008

여기서, 식 (I) 중, R1 및 R2 는, 각각 독립적으로, 수소 원자, 메틸기, 에틸기, n-프로필기, i-프로필기, n-부틸기, i-부틸기, sec-부틸기, t-부틸기, 또는 페닐기를 나타낸다.Here, in formula (I), R 1 and R 2 are each independently a hydrogen atom, a methyl group, an ethyl group, n-propyl group, i-propyl group, n-butyl group, i-butyl group, sec-butyl group , a t-butyl group, or a phenyl group.

[화학식 8][Formula 8]

Figure 112019058495421-pct00009
Figure 112019058495421-pct00009

[화학식 9][Formula 9]

Figure 112019058495421-pct00010
Figure 112019058495421-pct00010

여기서, 식 (I) 내지 (III) 중, 알릴기 및 수산기는, 벤젠 고리의 Bis 결합부를 제외한 위치에 각각 1 개씩 독립적으로 결합한다.Here, in formulas (I) to (III), one allyl group and one hydroxyl group are independently bonded to each other at positions excluding the Bis bonding portion of the benzene ring.

또, 알릴페놀 화합물 (A) 는, 알릴기 및 하이드록실기 이외의 반응성 관능기를 추가로 가져도 된다. 또, 방향 고리에 직접 결합한 하이드록실기가, 알릴기 및 하이드록실기 이외의 반응성 관능기로 변성된 화합물이어도 된다. 알릴기 및 하이드록실기 이외의 반응성 관능기로는, 특별히 한정되지 않지만, 예를 들어, 시아네이트기 (시안산에스테르기), 에폭시기, 아민기, 이소시아네이트기, 글리시딜기, 및 인산기를 들 수 있다. 이들을 가짐으로써, 굽힘 강도, 굽힘 탄성률, 열팽창률, 및 열전도율이 보다 한층 향상되는 경향이 있다. 알릴페놀 화합물 (A) 는, 1 종류를 단독으로 사용해도 되고, 2 종류 이상을 병용해도 된다. 2 종류 이상을 병용하는 경우에는, 알릴기 및 하이드록실기 이외의 반응성 관능기는 동일해도 되고, 상이해도 된다.Moreover, the allylphenol compound (A) may further have reactive functional groups other than an allyl group and a hydroxyl group. Moreover, the compound which modified|denatured the hydroxyl group directly couple|bonded with the aromatic ring by reactive functional groups other than an allyl group and a hydroxyl group may be sufficient. Although it does not specifically limit as a reactive functional group other than an allyl group and a hydroxyl group, For example, a cyanate group (cyanate ester group), an epoxy group, an amine group, an isocyanate group, a glycidyl group, and a phosphoric acid group are mentioned. . By having these, there exists a tendency for bending strength, bending elastic modulus, thermal expansion coefficient, and thermal conductivity to improve further. An allylphenol compound (A) may be used individually by 1 type, and may use 2 or more types together. When using two or more types together, reactive functional groups other than an allyl group and a hydroxyl group may be same or different.

알릴페놀 화합물 (A) 1 분자 중의 알릴기의 기수는, 바람직하게는 1 ∼ 5 이고, 보다 바람직하게는 2 ∼ 4 이고, 더욱 바람직하게는 2 이다. 알릴페놀 화합물 (A) 1 분자 중의 알릴기의 기수가 상기 범위 내임으로써, 굽힘 강도, 굽힘 탄성률, 및 동박 필 강도가 보다 향상되고, 열팽창 계수가 낮고, 열전도율이 우수한 경향이 있다.The number of allyl groups in one molecule of the allylphenol compound (A) is preferably 1 to 5, more preferably 2 to 4, still more preferably 2. When the number of bases of the allyl group in one molecule of the allylphenol compound (A) falls within the above range, the bending strength, the bending elastic modulus, and the copper foil peeling strength are more improved, the thermal expansion coefficient is low, and the thermal conductivity tends to be excellent.

알릴페놀 화합물 (A) 가 방향 고리에 직접 결합한 하이드록실기를 갖는 경우, 알릴페놀 화합물 (A) 1 분자 중의 당해 하이드록실기의 기수는, 바람직하게는 1 ∼ 5 이고, 보다 바람직하게는 2 ∼ 4 이고, 더욱 바람직하게는 2 이다. 알릴페놀 화합물 (A) 1 분자 중의 당해 하이드록실기의 기수가 상기 범위 내임으로써, 굽힘 강도, 굽힘 탄성률, 및 동박 필 강도가 보다 향상되고, 열팽창 계수가 낮고, 열전도율이 우수한 경향이 있다.When the allylphenol compound (A) has a hydroxyl group directly bonded to the aromatic ring, the number of the hydroxyl groups in one molecule of the allylphenol compound (A) is preferably 1 to 5, more preferably 2 to 4, more preferably 2. When the number of the hydroxyl groups in one molecule of the allylphenol compound (A) is within the above range, the bending strength, the bending elastic modulus, and the copper foil peeling strength are more improved, the thermal expansion coefficient is low, and the thermal conductivity tends to be excellent.

알릴페놀 화합물 (A) 가 상기 서술한 알릴기 및 하이드록실기 이외의 반응성 관능기를 갖는 경우, 알릴페놀 화합물 (A) 1 분자 중의 알릴기 및 하이드록실기 이외의 반응성 관능기수는, 바람직하게는 1 ∼ 5 이고, 보다 바람직하게는 2 ∼ 4 이고, 더욱 바람직하게는 2 이다. 알릴페놀 화합물 (A) 1 분자 중의 알릴기 및 하이드록실기 이외의 반응성 관능기수가 상기 범위 내임으로써, 굽힘 강도, 굽힘 탄성률, 및 동박 필 강도가 보다 향상되고, 열팽창 계수가 낮고, 열전도율이 우수한 경향이 있다.When the allylphenol compound (A) has a reactive functional group other than the above-described allyl group and hydroxyl group, the number of reactive functional groups other than the allyl group and hydroxyl group in one molecule of the allylphenol compound (A) is preferably 1 -5, More preferably, it is 2-4, More preferably, it is 2. When the number of reactive functional groups other than the allyl group and the hydroxyl group in one molecule of the allylphenol compound (A) is within the above range, the bending strength, the bending elastic modulus, and the copper foil peeling strength are further improved, the thermal expansion coefficient is low, and the tendency to be excellent in thermal conductivity have.

알릴페놀 화합물 (A) 의 함유량은, 프린트 배선판용 수지 조성물 중의 수지 고형분 100 질량부에 대하여 10 ∼ 50 질량부이고, 바람직하게는 10 ∼ 35 질량부이고, 보다 바람직하게는 15 ∼ 30 질량부이다. 알릴페놀 화합물 (A) 의 함유량이 상기 범위 내임으로써, 얻어지는 경화물의 유연성, 굽힘 강도, 굽힘 탄성률, 열팽창률, 열전도율, 및 동박 필 강도가 보다 한층 향상되는 경향이 있다.Content of an allyl phenol compound (A) is 10-50 mass parts with respect to 100 mass parts of resin solid content in the resin composition for printed wiring boards, Preferably it is 10-35 mass parts, More preferably, it is 15-30 mass parts. . When content of an allylphenol compound (A) is in the said range, there exists a tendency for the softness|flexibility of the hardened|cured material obtained, bending strength, bending elastic modulus, thermal expansion coefficient, thermal conductivity, and copper foil peeling strength to improve further.

[말레이미드 화합물 (B)][Maleimide Compound (B)]

말레이미드 화합물 (B) 로는, 분자 중에 1 개 이상의 말레이미드기를 갖는 화합물이면 특별히 한정되지 않지만, 예를 들어, N-페닐말레이미드, N-하이드록시페닐말레이미드, 비스(4-말레이미드페닐)메탄, 2,2-비스{4-(4-말레이미드페녹시)-페닐}프로판, 비스(3,5-디메틸-4-말레이미드페닐)메탄, 비스(3-에틸-5-메틸-4-말레이미드페닐)메탄, 비스(3,5-디에틸-4-말레이미드페닐)메탄, 하기 식 (1) 로 나타내는 말레이미드 화합물, 이들 말레이미드 화합물의 프레폴리머, 혹은 말레이미드 화합물과 아민 화합물의 프레폴리머를 들 수 있다. 이 중에서도, 비스(4-말레이미드페닐)메탄, 2,2-비스{4-(4-말레이미드페녹시)-페닐}프로판, 비스(3-에틸-5-메틸-4-말레이미드페닐)메탄, 및 하기 식 (1) 로 나타내는 말레이미드 화합물로 이루어지는 군에서 선택되는 적어도 1 종이 바람직하고, 명확한 유리 전이 온도가 존재하지 않는 (Tg 리스) 수지 조성물을 얻기 쉬운 점에서, 하기 식 (1) 로 나타내는 말레이미드 화합물이 특히 바람직하다. 상기 서술한 말레이미드 화합물 (B) 를 포함함으로써, 얻어지는 경화물의 열팽창률이 보다 저하되고, 내열성, 유리 전이 온도 (Tg) 가 보다 향상되는 경향이 있다. 말레이미드 화합물 (B) 는, 1 종류를 단독으로 사용해도 되고, 2 종류 이상을 병용해도 된다.Although it will not specifically limit as a maleimide compound (B), if it is a compound which has one or more maleimide groups in a molecule|numerator, For example, N-phenylmaleimide, N-hydroxyphenylmaleimide, bis(4-maleimidephenyl) Methane, 2,2-bis{4-(4-maleimidephenoxy)-phenyl}propane, bis(3,5-dimethyl-4-maleimidephenyl)methane, bis(3-ethyl-5-methyl-4 -maleimidephenyl)methane, bis(3,5-diethyl-4-maleimidephenyl)methane, a maleimide compound represented by the following formula (1), a prepolymer of these maleimide compounds, or a maleimide compound and an amine compound of prepolymers. Among these, bis(4-maleimidephenyl)methane, 2,2-bis{4-(4-maleimidephenoxy)-phenyl}propane, bis(3-ethyl-5-methyl-4-maleimidephenyl) At least one selected from the group consisting of methane and a maleimide compound represented by the following formula (1) is preferable, and a (Tg-less) resin composition having no clear glass transition temperature is easily obtained, and thus the following formula (1) A maleimide compound represented by is particularly preferred. By including the maleimide compound (B) mentioned above, there exists a tendency for the thermal expansion coefficient of the hardened|cured material obtained to fall more and to improve heat resistance and glass transition temperature (Tg) more. A maleimide compound (B) may be used individually by 1 type, and may use 2 or more types together.

[화학식 10][Formula 10]

Figure 112019058495421-pct00011
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여기서, 식 (1) 중, R5 는, 각각 독립적으로, 수소 원자 또는 메틸기를 나타내고, 바람직하게는 수소 원자를 나타낸다. 또, 식 (1) 중, n1 은, 1 이상의 정수를 나타내고, 바람직하게는 10 이하의 정수이고, 보다 바람직하게는 7 이하의 정수이다.Here, in Formula (1), R< 5 > represents a hydrogen atom or a methyl group each independently, Preferably a hydrogen atom is shown. Moreover, in Formula (1), n< 1 > represents 1 or more integer, Preferably it is an integer of 10 or less, More preferably, it is an integer of 7 or less.

말레이미드 화합물 (B) 의 함유량은, 프린트 배선판용 수지 조성물 중의 수지 고형분 100 질량부에 대하여 40 ∼ 80 질량부이고, 바람직하게는 40 ∼ 70 질량부이고, 보다 바람직하게는 45 ∼ 65 질량부이다. 말레이미드 화합물 (B) 의 함유량이 상기 범위 내임으로써, 얻어지는 경화물의 열팽창률이 보다 저하되고, 내열성이 보다 향상되는 경향이 있다.Content of a maleimide compound (B) is 40-80 mass parts with respect to 100 mass parts of resin solid content in the resin composition for printed wiring boards, Preferably it is 40-70 mass parts, More preferably, it is 45-65 mass parts. . When content of a maleimide compound (B) is in the said range, the thermal expansion coefficient of the hardened|cured material obtained falls more and there exists a tendency for heat resistance to improve more.

[시안산에스테르 화합물 (C) 및/또는 에폭시 화합물 (D)][Cyanic acid ester compound (C) and/or epoxy compound (D)]

본 실시형태의 프린트 배선판용 수지 조성물은, 시안산에스테르 화합물 (C) 및/또는 에폭시 화합물 (D) 를 함유한다. 시안산에스테르 화합물 (C) 및/또는 에폭시 화합물 (D) 를, 상기 서술한 알릴페놀 화합물 (A), 말레이미드 화합물 (B) 와 함께 사용함으로써, 예를 들어, 프리프레그를 경화시킨 경화물에 있어서, 명확한 유리 전이 온도가 존재하지 않고 (Tg 리스), 또한 프린트 배선판, 특히, 다층 코어리스 기판의 휨을 충분히 저감 (저휨을 달성) 시킬 수 있는 수지 조성물이 되는 경향이 있다.The resin composition for printed wiring boards of this embodiment contains a cyanate ester compound (C) and/or an epoxy compound (D). By using the cyanate ester compound (C) and/or the epoxy compound (D) together with the above-mentioned allylphenol compound (A) and maleimide compound (B), for example, in the cured product obtained by curing the prepreg. Therefore, there is a tendency to become a resin composition that does not have a clear glass transition temperature (Tg-less) and can sufficiently reduce warpage (achieve low warpage) of a printed wiring board, in particular, a multilayer coreless substrate.

(시안산에스테르 화합물 (C))(Cyanic acid ester compound (C))

시안산에스테르 화합물 (C) 로는, 특별히 한정되지 않지만, 예를 들어, 하기 식 (2) 로 나타내는 나프톨아르알킬형 시안산에스테르, 하기 식 (3) 으로 나타내는 노볼락형 시안산에스테르, 비페닐아르알킬형 시안산에스테르, 비스(3,5-디메틸4-시아나토페닐)메탄, 비스(4-시아나토페닐)메탄, 1,3-디시아나토벤젠, 1,4-디시아나토벤젠, 1,3,5-트리시아나토벤젠, 1,3-디시아나토나프탈렌, 1,4-디시아나토나프탈렌, 1,6-디시아나토나프탈렌, 1,8-디시아나토나프탈렌, 2,6-디시아나토나프탈렌, 2,7-디시아나토나프탈렌, 1,3,6-트리시아나토나프탈렌, 4,4'-디시아나토비페닐, 비스(4-시아나토페닐)에테르, 비스(4-시아나토페닐)티오에테르, 비스(4-시아나토페닐)술폰, 및 2,2'-비스(4-시아나토페닐)프로판 ; 이들 시안산에스테르의 프레폴리머 등을 들 수 있다. 이들 시안산에스테르 화합물 (C) 는, 1 종 단독으로, 또는 2 종 이상을 조합하여 사용해도 된다.Although it does not specifically limit as a cyanate ester compound (C), For example, naphthol aralkyl type cyanate ester represented by following formula (2), a novolac type cyanate ester represented by following formula (3), biphenyl are Alkyl-type cyanate ester, bis(3,5-dimethyl4-cyanatophenyl)methane, bis(4-cyanatophenyl)methane, 1,3-dicyanatobenzene, 1,4-dicyanatobenzene, 1 ,3,5-Tricyanatobenzene, 1,3-dicyanatonaphthalene, 1,4-dicyanatonaphthalene, 1,6-dicyanatonaphthalene, 1,8-dicyanatonaphthalene, 2,6-dicy Anatonaphthalene, 2,7-dicyanatonaphthalene, 1,3,6-tricyanatonaphthalene, 4,4'-dicyanatobiphenyl, bis(4-cyanatophenyl)ether, bis(4-cyanatophenyl) ) thioether, bis(4-cyanatophenyl)sulfone, and 2,2'-bis(4-cyanatophenyl)propane; The prepolymer of these cyanate esters, etc. are mentioned. You may use these cyanate ester compounds (C) individually by 1 type or in combination of 2 or more type.

[화학식 11][Formula 11]

Figure 112019058495421-pct00012
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식 (2) 중, R6 은, 각각 독립적으로, 수소 원자 또는 메틸기를 나타내고, 이 중에서도 수소 원자가 바람직하다. 또, 식 (2) 중, n2 는, 1 이상의 정수를 나타낸다. n2 의 상한값은, 통상은 10 이고, 바람직하게는 6 이다.In Formula (2), R< 6 > represents a hydrogen atom or a methyl group each independently, and a hydrogen atom is preferable among these. Moreover, in Formula (2), n< 2 > represents 1 or more integer. The upper limit of n2 is normally 10, Preferably it is 6.

[화학식 12][Formula 12]

Figure 112019058495421-pct00013
Figure 112019058495421-pct00013

식 (3) 중, R7 은 각각 독립적으로, 수소 원자 또는 메틸기를 나타내고, 이 중에서도 수소 원자가 바람직하다. 또, 식 (3) 중, n3 은, 1 이상의 정수를 나타낸다. n3 의 상한값은, 통상은 10 이고, 바람직하게는 7 이다.In Formula (3), R 7 each independently represents a hydrogen atom or a methyl group, and among these, a hydrogen atom is preferable. Moreover, in Formula (3), n< 3 > represents 1 or more integer. The upper limit of n3 is normally 10, Preferably it is 7.

이들 중에서도, 시안산에스테르 화합물 (C) 가, 식 (2) 로 나타내는 나프톨아르알킬형 시안산에스테르, 식 (3) 으로 나타내는 노볼락형 시안산에스테르, 및 비페닐아르알킬형 시안산에스테르로 이루어지는 군에서 선택되는 1 종 이상을 포함하는 것이 바람직하고, 식 (2) 로 나타내는 나프톨아르알킬형 시안산에스테르 및 식 (3) 으로 나타내는 노볼락형 시안산에스테르로 이루어지는 군에서 선택되는 1 종 이상을 포함하는 것이 보다 바람직하다. 이와 같은 시안산에스테르 화합물 (C) 를 사용함으로써, 난연성이 보다 우수하고, 경화성이 보다 높고, 또한 열팽창 계수가 보다 낮은 경화물이 얻어지는 경향이 있다.Among these, the cyanate ester compound (C) consists of a naphthol aralkyl-type cyanate ester represented by Formula (2), a novolac-type cyanate ester represented by Formula (3), and a biphenyl aralkyl-type cyanate ester. It is preferable to include at least one selected from the group It is more preferable to include By using such a cyanate ester compound (C), it exists in the tendency for the hardened|cured material to be obtained more excellent in a flame retardance, sclerosis|hardenability is higher, and a thermal expansion coefficient lower.

이들 시안산에스테르 화합물 (C) 의 제조 방법으로는, 특별히 한정되지 않고, 시안산에스테르 화합물의 합성 방법으로서 공지된 방법을 사용할 수 있다. 공지된 방법으로는, 특별히 한정되지 않지만, 예를 들어, 페놀 수지와 할로겐화 시안을 불활성 유기 용매 중에서, 염기성 화합물 존재하 반응시키는 방법, 페놀 수지와 염기성 화합물의 염을, 물을 함유하는 용액 중에서 형성시키고, 그 후, 얻어진 염과 할로겐화 시안을 2 상계 계면 반응시키는 방법을 들 수 있다.It does not specifically limit as a manufacturing method of these cyanate ester compound (C), A well-known method can be used as a synthesis|combining method of a cyanate ester compound. Although it does not specifically limit as a well-known method, For example, a method of reacting a phenol resin and a cyanide halide in an inert organic solvent in the presence of a basic compound, Formation of a salt of a phenol resin and a basic compound in the solution containing water and a method in which the obtained salt and cyan halide are subjected to a two-phase interface reaction thereafter.

이들 시안산에스테르 화합물 (C) 의 원료가 되는 페놀 수지로는, 특별히 한정되지 않지만, 예를 들어, 하기 식 (9) 로 나타내는 나프톨아르알킬형 페놀 수지, 노볼락형 페놀 수지, 비페닐아르알킬형 페놀 수지를 들 수 있다.Although it does not specifically limit as a phenol resin used as a raw material of these cyanate ester compound (C), For example, a naphthol aralkyl type phenol resin represented by following formula (9), a novolak type phenol resin, a biphenyl aralkyl A type phenol resin is mentioned.

[화학식 13][Formula 13]

Figure 112019058495421-pct00014
Figure 112019058495421-pct00014

식 (9) 중, R8 은, 각각 독립적으로, 수소 원자 또는 메틸기를 나타내고, 이 중에서도 수소 원자가 바람직하다. 또, 식 (9) 중, n4 는, 1 이상의 정수를 나타낸다. n4 의 상한값은, 통상은 10 이고, 바람직하게는 6 이다.In Formula (9), R< 8 > represents a hydrogen atom or a methyl group each independently, and a hydrogen atom is preferable among these. Moreover, in Formula (9), n4 represents 1 or more integer. The upper limit of n4 is normally 10, Preferably it is 6.

식 (9) 로 나타내는 나프톨아르알킬형 페놀 수지는, 나프톨아르알킬 수지와 시안산을 축합시켜 얻을 수 있다. 나프톨아르알킬형 페놀 수지로는, 특별히 한정되지 않지만, 예를 들어, α-나프톨 및 β-나프톨 등의 나프톨류와, p-자일릴렌글리콜, α,α'-디메톡시-p-자일렌, 및 1,4-디(2-하이드록시-2-프로필)벤젠 등의 벤젠류의 반응에 의해 얻어지는 것을 들 수 있다. 나프톨아르알킬형 시안산에스테르는, 상기와 같이 하여 얻어지는 나프톨아르알킬 수지와 시안산을 축합시켜 얻어지는 것에서 선택할 수 있다.The naphthol aralkyl type phenol resin represented by Formula (9) can be obtained by condensing a naphthol aralkyl resin and cyanic acid. Although it does not specifically limit as a naphthol aralkyl type phenol resin, For example, Naphthol, such as alpha-naphthol and beta-naphthol, p-xylylene glycol, alpha, alpha'- dimethoxy-p-xylene, and those obtained by reaction of benzenes such as 1,4-di(2-hydroxy-2-propyl)benzene. The naphthol aralkyl-type cyanate ester can be selected from those obtained by condensing cyanic acid with the naphthol aralkyl resin obtained as described above.

시안산에스테르 화합물 (C) 의 함유량은, 프린트 배선판용 수지 조성물 중의 수지 고형분 100 질량부에 대하여, 바람직하게는 0 ∼ 25 질량부이고, 보다 바람직하게는 0 ∼ 20 질량부이다. 시안산에스테르 화합물의 함유량이 상기 범위 내임으로써, 얻어지는 경화물의 내열성과 내약품성이 보다 향상되는 경향이 있다.To [ content of a cyanate ester compound (C) ] 100 mass parts of resin solid content in the resin composition for printed wiring boards, Preferably it is 0-25 mass parts, More preferably, it is 0-20 mass parts. When content of a cyanate ester compound exists in the said range, there exists a tendency for the heat resistance and chemical-resistance of the hardened|cured material obtained to improve more.

(에폭시 화합물 (D))(epoxy compound (D))

에폭시 화합물 (D) 로는, 1 분자 중에 2 개 이상의 에폭시기를 갖는 화합물이면 특별히 한정되지 않지만, 예를 들어, 비스페놀 A 형 에폭시 수지, 비스페놀 E 형 에폭시 수지, 비스페놀 F 형 에폭시 수지, 비스페놀 S 형 에폭시 수지, 페놀 노볼락형 에폭시 수지, 비스페놀 A 노볼락형 에폭시 수지, 크레졸 노볼락형 에폭시 수지, 비페닐형 에폭시 수지, 나프탈렌형 에폭시 수지, 안트라센형 에폭시 수지, 3 관능 페놀형 에폭시 수지, 4 관능 페놀형 에폭시 수지, 글리시딜에스테르형 에폭시 수지, 페놀아르알킬형 에폭시 수지, 비페닐아르알킬형 에폭시 수지, 아르알킬 노볼락형 에폭시 수지, 나프톨아르알킬형 에폭시 수지, 디시클로펜타디엔형 에폭시 수지, 폴리올형 에폭시 수지, 이소시아누레이트 고리 함유 에폭시 수지, 혹은 이들의 할로겐화물을 들 수 있다. 또, 에폭시 화합물 (D) 로는, 비할로겐화 에폭시 화합물 (비할로겐 함유 에폭시 화합물, 할로겐 불함유 에폭시 화합물) 이 보다 바람직하다. 또한, 알릴페놀 화합물 (A) 가 에폭시기를 갖는 경우, 에폭시 화합물 (D) 는, 에폭시기를 갖는 알릴페놀 화합물 (A) 이외의 것이다.Although it will not specifically limit if it is a compound which has two or more epoxy groups in 1 molecule as an epoxy compound (D), For example, bisphenol A epoxy resin, bisphenol E epoxy resin, bisphenol F epoxy resin, bisphenol S epoxy resin , Phenol novolak type epoxy resin, bisphenol A novolak type epoxy resin, cresol novolak type epoxy resin, biphenyl type epoxy resin, naphthalene type epoxy resin, anthracene type epoxy resin, trifunctional phenol type epoxy resin, tetrafunctional phenol type epoxy resin Epoxy resin, glycidyl ester type epoxy resin, phenol aralkyl type epoxy resin, biphenyl aralkyl type epoxy resin, aralkyl novolak type epoxy resin, naphthol aralkyl type epoxy resin, dicyclopentadiene type epoxy resin, polyol A type epoxy resin, an isocyanurate ring containing epoxy resin, or these halides are mentioned. Moreover, as an epoxy compound (D), a non-halogenated epoxy compound (a halogen-containing epoxy compound, a halogen-free epoxy compound) is more preferable. In addition, when an allylphenol compound (A) has an epoxy group, an epoxy compound (D) is things other than the allylphenol compound (A) which has an epoxy group.

에폭시 화합물 (D) 의 함유량은, 프린트 배선판용 수지 조성물 중의 수지 고형분 100 질량부에 대하여 바람직하게는 0 ∼ 25 질량부이고, 보다 바람직하게는 0 ∼ 20 질량부이다. 에폭시 화합물 (D) 의 함유량이 상기 범위 내임으로써, 얻어지는 경화물의 유연성, 동박 필 강도, 내약품성, 및 내디스미어성이 보다 향상되는 경향이 있다.To [ content of an epoxy compound (D) ] 100 mass parts of resin solid content in the resin composition for printed wiring boards, Preferably it is 0-25 mass parts, More preferably, it is 0-20 mass parts. When content of an epoxy compound (D) exists in the said range, there exists a tendency for the softness|flexibility of the hardened|cured material obtained, copper foil peeling strength, chemical-resistance, and desmear resistance to improve more.

또한, 상기 서술한 바와 같이, 본 실시형태의 프린트 배선판용 수지 조성물은, 시안산에스테르 화합물 (C) 및/또는 에폭시 화합물 (D) 를 함유하므로, 시안산에스테르 화합물 (C) 및 에폭시 화합물 (D) 의 양방을 함유하는 경우, 프린트 배선판용 수지 조성물 중의 수지 고형분 100 질량부에 대한 시안산에스테르 화합물 (C) 및 에폭시 화합물 (D) 의 합계 함유량은, 바람직하게는 5 ∼ 45 질량부이고, 한층 바람직하게는 5 ∼ 40 질량부이고, 보다 바람직하게는 10 ∼ 30 질량부이다. 시안산에스테르 화합물 (C) 및 에폭시 화합물 (D) 의 합계 함유량이 상기 범위 내임으로써, 얻어지는 경화물의 유연성, 동박 필 강도, 내열성, 내약품성, 및 내디스미어성이 보다 향상되는 경향이 있다. 또, 시안산에스테르 화합물 (C) 및 에폭시 화합물 (D) 의 합계 함유량이 상기 범위 내임으로써, 예를 들어, 프리프레그를 경화시킨 경화물에 있어서, 명확한 유리 전이 온도가 존재하지 않고 (Tg 리스), 또한 프린트 배선판, 특히, 다층 코어리스 기판의 휨을 보다 저감 (저휨을 달성) 시킬 수 있는 수지 조성물이 되는 경향이 있다.Moreover, as above-mentioned, since the resin composition for printed wiring boards of this embodiment contains a cyanate ester compound (C) and/or an epoxy compound (D), a cyanate ester compound (C) and an epoxy compound (D) ), the total content of the cyanate ester compound (C) and the epoxy compound (D) with respect to 100 parts by mass of the resin solid content in the resin composition for printed wiring boards is preferably 5 to 45 parts by mass, and further Preferably it is 5-40 mass parts, More preferably, it is 10-30 mass parts. When total content of a cyanate ester compound (C) and an epoxy compound (D) exists in the said range, there exists a tendency for the softness|flexibility of the hardened|cured material obtained, copper foil peeling strength, heat resistance, chemical-resistance, and desmear resistance to improve more. Moreover, when the total content of the cyanate ester compound (C) and the epoxy compound (D) is within the above range, for example, in the cured product obtained by curing the prepreg, there is no clear glass transition temperature (Tg lease) Moreover, there exists a tendency to become a resin composition which can further reduce the curvature of a printed wiring board, especially a multilayer coreless board|substrate (achieving low warpage).

[충전재 (E)][Filling material (E)]

본 실시형태의 프린트 배선판용 수지 조성물은, 충전재 (E) 를 추가로 함유하는 것이 바람직하다. 충전재 (E) 로는, 특별히 한정되지 않지만, 예를 들어, 무기 충전재 및 유기 충전재를 들 수 있고, 양자 중 무기 충전재를 함유하고 있는 것이 바람직하고, 유기 충전재는 무기 충전재와 함께 사용하는 것이 바람직하다. 무기 충전재로는, 특별히 한정되지 않지만, 예를 들어, 천연 실리카, 용융 실리카, 합성 실리카, 아모르퍼스 실리카, 아에로질, 중공 실리카 등의 실리카류 ; 화이트 카본 등의 규소 화합물 ; 티탄 화이트, 산화아연, 산화마그네슘, 산화지르코늄 등의 금속 산화물 ; 질화붕소, 응집 질화붕소, 질화규소, 질화알루미늄 등의 금속 질화물 ; 황산바륨 등의 금속 황산화물 ; 수산화알루미늄, 수산화알루미늄 가열 처리품 (수산화알루미늄을 가열 처리하여 결정수의 일부를 줄인 것), 베마이트, 수산화마그네슘 등의 금속 수화물 ; 산화몰리브덴, 몰리브덴산아연 등의 몰리브덴 화합물 ; 붕산아연, 주석산아연 등의 아연 화합물 ; 알루미나, 클레이, 카올린, 탤크, 소성 클레이, 소성 카올린, 소성 탤크, 마이카, E-유리, A-유리, NE-유리, C-유리, L-유리, D-유리, S-유리, M-유리 G20, 유리 단섬유 (E 유리, T 유리, D 유리, S 유리, Q 유리 등의 유리 미분말류를 포함한다), 중공 유리, 구상 유리 등을 들 수 있다. 또, 유기 충전재로는, 특별히 한정되지 않지만, 예를 들어, 스티렌형 파우더, 부타디엔형 파우더, 아크릴형 파우더 등의 고무 파우더 ; 코어 쉘형 고무 파우더 ; 실리콘 레진 파우더 ; 실리콘 고무 파우더 ; 실리콘 복합 파우더 등을 들 수 있다. 충전재 (E) 는, 1 종을 단독으로 사용해도 되고, 2 종 이상을 병용해도 된다.It is preferable that the resin composition for printed wiring boards of this embodiment further contains a filler (E). Although it does not specifically limit as a filler (E), For example, an inorganic filler and an organic filler are mentioned, It is preferable to contain an inorganic filler among both, It is preferable to use an organic filler together with an inorganic filler. Although it does not specifically limit as an inorganic filler, For example, Silicas, such as a natural silica, a fused silica, a synthetic silica, amorphous silica, aerosil, a hollow silica; silicon compounds such as white carbon; metal oxides such as titanium white, zinc oxide, magnesium oxide, and zirconium oxide; metal nitrides such as boron nitride, agglomerated boron nitride, silicon nitride, and aluminum nitride; metal sulfates such as barium sulfate; metal hydrates such as aluminum hydroxide, aluminum hydroxide heat-treated products (things in which aluminum hydroxide is heat-treated to reduce a part of crystal water), boehmite, and magnesium hydroxide; molybdenum compounds such as molybdenum oxide and zinc molybdate; zinc compounds such as zinc borate and zinc stannate; Alumina, clay, kaolin, talc, calcined clay, calcined kaolin, calcined talc, mica, E-glass, A-glass, NE-glass, C-glass, L-glass, D-glass, S-glass, M-glass G20, short glass fiber (including fine glass powders such as E glass, T glass, D glass, S glass and Q glass), hollow glass, spherical glass, and the like. Moreover, although it does not specifically limit as an organic filler, For example, Rubber powder, such as a styrene type powder, a butadiene type powder, and an acryl type powder; core-shell type rubber powder; silicone resin powder; silicone rubber powder; Silicone composite powder, etc. are mentioned. A filler (E) may be used individually by 1 type, and may use 2 or more types together.

이 중에서도, 무기 충전재인 실리카, 알루미나, 산화마그네슘, 수산화알루미늄, 베마이트, 질화붕소, 응집 질화붕소, 질화규소, 및 질화알루미늄으로 이루어지는 군에서 선택되는 적어도 1 종을 포함하는 것이 바람직하고, 실리카, 알루미나, 및 베마이트로 이루어지는 군에서 선택되는 적어도 1 종을 포함하는 것이 보다 바람직하다. 이와 같은 충전재 (E) 를 사용함으로써, 얻어지는 경화물의 고강성화, 저휨화가 보다 향상되는 경향이 있다.Among these, at least one selected from the group consisting of silica, alumina, magnesium oxide, aluminum hydroxide, boehmite, boron nitride, aggregated boron nitride, silicon nitride, and aluminum nitride as inorganic fillers is preferably included, silica, alumina It is more preferable to include at least one selected from the group consisting of , and boehmite. By using such a filler (E), there exists a tendency for high rigidity-ization of the hardened|cured material obtained and low warpage-ization to improve more.

프린트 배선판용 수지 조성물 중의 수지 고형분 100 질량부에 대한 충전재 (E) (특히 무기 충전재) 의 함유량은, 바람직하게는 120 ∼ 250 질량부이고, 보다 바람직하게는 150 ∼ 230 질량부이고, 더욱 바람직하게는 180 ∼ 220 질량부이다. 충전재 (E) 의 함유량이 상기 범위 내임으로써, 얻어지는 경화물의 고강성화, 저휨화가 보다 한층 향상되는 경향이 있다.Content of the filler (E) (especially inorganic filler) with respect to 100 mass parts of resin solid content in the resin composition for printed wiring boards becomes like this. Preferably it is 120-250 mass parts, More preferably, it is 150-230 mass parts, More preferably is 180 to 220 parts by mass. When content of a filler (E) is in the said range, it exists in the tendency which high-stiffness-ization of the hardened|cured material obtained and low warpage-ization improve further.

[실란 커플링제 및 습윤 분산제][Silane coupling agent and wetting and dispersing agent]

본 실시형태의 프린트 배선판용 수지 조성물은, 실란 커플링제나 습윤 분산제를 추가로 함유해도 된다. 실란 커플링제나 습윤 분산제를 포함함으로써, 상기 충전재 (E) 의 분산성, 수지 성분, 충전재 (E), 및 후술하는 기재의 접착 강도가 보다 향상되는 경향이 있다.The resin composition for printed wiring boards of this embodiment may further contain a silane coupling agent and a wet dispersing agent. By including a silane coupling agent or a wet dispersing agent, the dispersibility of the said filler (E), the resin component, the filler (E), and the adhesive strength of the base material mentioned later tend to improve more.

실란 커플링제로는, 일반적으로 무기물의 표면 처리에 사용되고 있는 실란 커플링제이면, 특별히 한정되지 않지만, 예를 들어, γ-아미노프로필트리에톡시실란, N-β-(아미노에틸)-γ-아미노프로필트리메톡시실란 등의 아미노실란계 화합물 ; γ-글리시독시프로필트리메톡시실란 등의 에폭시실란계 화합물 ; γ-아크릴옥시프로필트리메톡시실란 등의 아크릴실란계 화합물 ; N-β-(N-비닐벤질아미노에틸)-γ-아미노프로필트리메톡시실란염산염 등의 카티오닉실란계 화합물 ; 페닐실란계 화합물 등을 들 수 있다. 실란 커플링제는, 1 종을 단독으로 사용해도 되고, 2 종 이상을 병용해도 된다.The silane coupling agent is not particularly limited as long as it is a silane coupling agent generally used for surface treatment of inorganic substances, and for example, γ-aminopropyltriethoxysilane, N-β-(aminoethyl)-γ-amino aminosilane-based compounds such as propyltrimethoxysilane; Epoxysilane compounds, such as (gamma)-glycidoxy propyl trimethoxysilane; acrylsilane-based compounds such as γ-acryloxypropyltrimethoxysilane; cationic silane compounds such as N-β-(N-vinylbenzylaminoethyl)-γ-aminopropyltrimethoxysilane hydrochloride; A phenylsilane type compound etc. are mentioned. A silane coupling agent may be used individually by 1 type, and may use 2 or more types together.

습윤 분산제로는, 도료용으로 사용되고 있는 분산 안정제이면, 특별히 한정되지 않지만, 예를 들어, 빅케미·재팬 (주) 제조의 DISPER BYK-110, 111, 118, 180, 161, BYK-W996, W9010, W903 등을 들 수 있다.Although it will not specifically limit as a wetting and dispersing agent as long as it is a dispersion stabilizer used for paints, For example, DISPER BYK-110, 111, 118, 180, 161, BYK-W996, W9010 by Big Chemie Japan Co., Ltd. , W903, and the like.

[그 밖의 수지 등][Other resins, etc.]

본 실시형태의 프린트 배선판용 수지 조성물은, 필요에 따라, 상기 서술한 알릴페놀 화합물 (A) 이외의, 알릴기 함유 화합물 (이하, 「그 밖의 알릴기 함유 화합물」 이라고도 한다), 페놀 수지, 옥세탄 수지, 벤조옥사진 화합물, 및 중합 가능한 불포화기를 갖는 화합물로 이루어지는 군에서 선택되는 1 종 또는 2 종 이상을 추가로 함유해도 된다. 이와 같은 그 밖의 수지 등을 포함함으로써, 얻어지는 경화물의 동박 필 강도, 굽힘 강도, 및 굽힘 탄성률 등이 보다 향상되는 경향이 있다.The resin composition for printed wiring boards of the present embodiment, if necessary, includes allyl group-containing compounds (hereinafter also referred to as "other allyl group-containing compounds") other than the above-mentioned allylphenol compound (A), phenol resins, jade You may further contain the 1 type(s) or 2 or more types chosen from the group which consists of a cetane resin, a benzoxazine compound, and the compound which has a polymerizable unsaturated group. By including such other resin etc., there exists a tendency for the copper foil peeling strength of the hardened|cured material obtained, bending strength, bending elastic modulus, etc. to improve more.

[그 밖의 알릴기 함유 화합물][Other allyl group-containing compounds]

그 밖의 알릴기 함유 화합물로는, 특별히 한정되지 않지만, 예를 들어, 알릴클로라이드, 아세트산알릴, 알릴에테르, 프로필렌, 트리알릴시아누레이트, 트리알릴이소시아누레이트, 프탈산디알릴, 이소프탈산디알릴, 말레산디알릴 등을 들 수 있다.Although it does not specifically limit as another allyl group containing compound, For example, Allyl chloride, allyl acetate, allyl ether, propylene, triallyl cyanurate, triallyl isocyanurate, diallyl phthalate, diallyl isophthalate. , and diallyl maleate.

그 밖의 알릴기 함유 화합물의 함유량은, 프린트 배선판용 수지 조성물 중의 수지 고형분 100 질량부에 대하여, 바람직하게는 0 ∼ 50 질량부이고, 한층 바람직하게는 10 ∼ 45 질량부이고, 보다 바람직하게는 15 ∼ 45 질량부이고, 더욱 바람직하게는 20 ∼ 35 질량부이다. 그 밖의 알릴기 함유 화합물의 함유량이 상기 범위 내임으로써, 얻어지는 경화물의 굽힘 강도, 굽힘 탄성률, 내열성, 내약품성이 보다 향상되는 경향이 있다.To [ content of another allyl group containing compound / 100 mass parts of resin solid content in the resin composition for printed wiring boards ], Preferably it is 0-50 mass parts, More preferably, it is 10-45 mass parts, More preferably, it is 15 -45 mass parts, More preferably, it is 20-35 mass parts. When content of another allyl group containing compound is in the said range, there exists a tendency for the bending strength, bending elastic modulus, heat resistance, and chemical-resistance of the hardened|cured material obtained to improve more.

[페놀 수지][Phenolic resin]

페놀 수지로는, 1 분자 중에 2 개 이상의 하이드록실기를 갖는 페놀 수지이면, 일반적으로 공지된 것을 사용할 수 있고, 그 종류는 특별히 한정되지 않는다. 그 구체예로는, 비스페놀 A 형 페놀 수지, 비스페놀 E 형 페놀 수지, 비스페놀 F 형 페놀 수지, 비스페놀 S 형 페놀 수지, 페놀 노볼락 수지, 비스페놀 A 노볼락형 페놀 수지, 글리시딜에스테르형 페놀 수지, 아르알킬 노볼락형 페놀 수지, 비페닐아르알킬형 페놀 수지, 크레졸 노볼락형 페놀 수지, 다관능 페놀 수지, 나프톨 수지, 나프톨 노볼락 수지, 다관능 나프톨 수지, 안트라센형 페놀 수지, 나프탈렌 골격 변성 노볼락형 페놀 수지, 페놀아르알킬형 페놀 수지, 나프톨아르알킬형 페놀 수지, 디시클로펜타디엔형 페놀 수지, 비페닐형 페놀 수지, 지환식 페놀 수지, 폴리올형 페놀 수지, 인 함유 페놀 수지, 수산기 함유 실리콘 수지류 등을 들 수 있지만, 특별히 제한되는 것은 아니다. 이들 페놀 수지는, 1 종을 단독으로 또는 2 종 이상을 조합하여 사용할 수 있다. 이와 같은 페놀 수지를 포함함으로써, 얻어지는 경화물의 접착성이나 가요성 등이 보다 우수한 경향이 있다.As a phenol resin, if it is a phenol resin which has two or more hydroxyl groups in 1 molecule, a generally well-known thing can be used, The kind is not specifically limited. Specific examples thereof include bisphenol A phenol resin, bisphenol E phenol resin, bisphenol F phenol resin, bisphenol S phenol resin, phenol novolac resin, bisphenol A novolac phenol resin, and glycidyl ester phenol resin. , Aralkyl novolak type phenol resin, biphenyl aralkyl type phenol resin, cresol novolak type phenol resin, polyfunctional phenol resin, naphthol resin, naphthol novolak resin, polyfunctional naphthol resin, anthracene type phenol resin, naphthalene skeleton modification Novolak type phenol resin, phenol aralkyl type phenol resin, naphthol aralkyl type phenol resin, dicyclopentadiene type phenol resin, biphenyl type phenol resin, alicyclic phenol resin, polyol type phenol resin, phosphorus-containing phenol resin, hydroxyl group Although containing silicone resins etc. are mentioned, It is not restrict|limited in particular. These phenol resins can be used individually by 1 type or in combination of 2 or more type. By including such a phenol resin, there exists a tendency which is more excellent in adhesiveness, flexibility, etc. of the hardened|cured material obtained.

페놀 수지의 함유량은, 프린트 배선판용 수지 조성물 중의 수지 고형분 100 질량부에 대하여, 바람직하게는 0 ∼ 99 질량부이고, 보다 바람직하게는 1 ∼ 90 질량부이고, 더욱 바람직하게는 3 ∼ 80 질량부이다. 페놀 수지의 함유량이 상기 범위 내임으로써, 얻어지는 경화물의 접착성이나 가요성 등이 보다 한층 우수한 경향이 있다.To [ content of a phenol resin / 100 mass parts of resin solid content in the resin composition for printed wiring boards ], Preferably it is 0-99 mass parts, More preferably, it is 1-90 mass parts, More preferably, it is 3-80 mass parts. to be. When content of a phenol resin exists in the said range, there exists a tendency which is further excellent in the adhesiveness, flexibility, etc. of the hardened|cured material obtained.

[옥세탄 수지][Oxetane resin]

옥세탄 수지로는, 일반적으로 공지된 것을 사용할 수 있고, 그 종류는 특별히 한정되지 않는다. 그 구체예로는, 옥세탄, 2-메틸옥세탄, 2,2-디메틸옥세탄, 3-메틸옥세탄, 3,3-디메틸옥세탄 등의 알킬옥세탄, 3-메틸-3-메톡시메틸옥세탄, 3,3'-디(트리플루오로메틸)퍼플루옥세탄, 2-클로로메틸옥세탄, 3,3-비스(클로로메틸)옥세탄, 비페닐형 옥세탄, OXT-101 (토아 합성 제조 상품명), OXT-121 (토아 합성 제조 상품명) 등을 들 수 있다. 이들 옥세탄 수지는, 1 종 또는 2 종 이상을 조합하여 사용할 수 있다. 이와 같은 옥세탄 수지를 포함함으로써, 얻어지는 경화물의 접착성이나 가요성 등이 보다 우수한 경향이 있다.As oxetane resin, a generally well-known thing can be used, The kind in particular is not limited. Specific examples thereof include alkyloxetane such as oxetane, 2-methyloxetane, 2,2-dimethyloxetane, 3-methyloxetane and 3,3-dimethyloxetane, 3-methyl-3-methoxy Methyloxetane, 3,3'-di(trifluoromethyl)perfluoxetane, 2-chloromethyloxetane, 3,3-bis(chloromethyl)oxetane, biphenyl type oxetane, OXT-101 (Toa Synthetic product name), OXT-121 (Toa Synthetic product brand name), etc. are mentioned. These oxetane resins can be used 1 type or in combination of 2 or more type. By including such an oxetane resin, there exists a tendency which is more excellent in adhesiveness, flexibility, etc. of the hardened|cured material obtained.

옥세탄 수지의 함유량은, 프린트 배선판용 수지 조성물 중의 수지 고형분 100 질량부에 대하여 바람직하게는 0 ∼ 99 질량부이고, 보다 바람직하게는 1 ∼ 90 질량부이고, 더욱 바람직하게는 3 ∼ 80 질량부이다. 옥세탄 수지의 함유량이 상기 범위 내임으로써, 얻어지는 경화물의 밀착성이나 가요성 등이 보다 한층 우수한 경향이 있다.To [ content of oxetane resin / 100 mass parts of resin solid content in the resin composition for printed wiring boards ], Preferably it is 0-99 mass parts, More preferably, it is 1-90 mass parts, More preferably, it is 3-80 mass parts. to be. When content of an oxetane resin exists in the said range, there exists a tendency which is further excellent in the adhesiveness, flexibility, etc. of the hardened|cured material obtained.

[벤조옥사진 화합물][benzoxazine compound]

벤조옥사진 화합물로는, 1 분자 중에 2 개 이상의 디하이드로벤조옥사진 고리를 갖는 화합물이면, 일반적으로 공지된 것을 사용할 수 있고, 그 종류는 특별히 한정되지 않는다. 그 구체예로는, 비스페놀 A 형 벤조옥사진 BA-BXZ (코니시 화학 제조 상품명) 비스페놀 F 형 벤조옥사진 BF-BXZ (코니시 화학 제조 상품명), 비스페놀 S 형 벤조옥사진 BS-BXZ (코니시 화학 제조 상품명) 등을 들 수 있다. 이들 벤조옥사진 화합물은, 1 종 또는 2 종 이상 혼합하여 사용할 수 있다. 이와 같은 벤조옥사진 화합물을 포함함으로써, 얻어지는 경화물의 난연성, 내열성, 저흡수성, 저유전 등이 보다 우수한 경향이 있다.As a benzoxazine compound, if it is a compound which has two or more dihydrobenzoxazine rings in 1 molecule, a generally well-known thing can be used, The kind is not specifically limited. Specific examples thereof include bisphenol A-type benzoxazine BA-BXZ (trade name manufactured by Konishi Chemicals), bisphenol F-type benzooxazine BF-BXZ (trade name manufactured by Konishi Chemicals), and bisphenol S-type benzooxazine BS-BXZ (manufactured by Konishi Chemicals). brand name) and the like. These benzoxazine compounds can be used 1 type or in mixture of 2 or more types. By including such a benzoxazine compound, there exists a tendency for the flame retardance, heat resistance, low water absorption, low dielectric material, etc. of the hardened|cured material obtained to be more excellent.

벤조옥사진 화합물의 함유량은, 프린트 배선판용 수지 조성물 중의 수지 고형분 100 질량부에 대하여, 바람직하게는 0 ∼ 99 질량부이고, 보다 바람직하게는 1 ∼ 90 질량부이고, 더욱 바람직하게는 3 ∼ 80 질량부이다. 벤조옥사진 화합물의 함유량이 상기 범위 내임으로써, 얻어지는 경화물의 내열성 등이 보다 한층 우수한 경향이 있다.To [ content of a benzoxazine compound / 100 mass parts of resin solid content in the resin composition for printed wiring boards ], Preferably it is 0-99 mass parts, More preferably, it is 1-90 mass parts, More preferably, it is 3-80 mass parts. is the mass part. When content of a benzoxazine compound exists in the said range, there exists a tendency for the heat resistance etc. of the hardened|cured material obtained to be further excellent.

[중합 가능한 불포화기를 갖는 화합물][Compound having a polymerizable unsaturated group]

중합 가능한 불포화기를 갖는 화합물로는, 일반적으로 공지된 것을 사용할 수 있고, 그 종류는 특별히 한정되지 않는다. 그 구체예로는, 에틸렌, 프로필렌, 스티렌, 디비닐벤젠, 디비닐비페닐 등의 비닐 화합물 ; 메틸(메트)아크릴레이트, 2-하이드록시에틸(메트)아크릴레이트, 2-하이드록시프로필(메트)아크릴레이트, 폴리프로필렌글리콜디(메트)아크릴레이트, 트리메틸올프로판디(메트)아크릴레이트, 트리메틸올프로판트리(메트)아크릴레이트, 펜타에리트리톨테트라(메트)아크릴레이트, 디펜타에리트리톨헥사(메트)아크릴레이트 등의 1 가 또는 다가 알코올의 (메트)아크릴레이트류 ; 비스페놀 A 형 에폭시(메트)아크릴레이트, 비스페놀 F 형 에폭시(메트)아크릴레이트 등의 에폭시(메트)아크릴레이트류 ; 벤조시클로부텐 수지 ; (비스)말레이미드 수지 등을 들 수 있다. 이들 중합 가능한 불포화기를 갖는 화합물은, 1 종 또는 2 종 이상 혼합하여 사용할 수 있다. 이와 같은 중합 가능한 불포화기를 갖는 화합물을 포함함으로써, 얻어지는 경화물의 내열성이나 인성 등이 보다 우수한 경향이 있다.As a compound which has an unsaturated group which can be superposed|polymerized, a generally well-known thing can be used, The kind is not specifically limited. As the specific example, Vinyl compounds, such as ethylene, propylene, styrene, divinylbenzene, and divinyl biphenyl; Methyl (meth) acrylate, 2-hydroxyethyl (meth) acrylate, 2-hydroxypropyl (meth) acrylate, polypropylene glycol di (meth) acrylate, trimethylolpropane di (meth) acrylate, trimethyl (meth)acrylates of monohydric or polyhydric alcohols such as allpropane tri(meth)acrylate, pentaerythritol tetra(meth)acrylate, and dipentaerythritol hexa(meth)acrylate; epoxy (meth)acrylates such as bisphenol A epoxy (meth)acrylate and bisphenol F epoxy (meth)acrylate; benzocyclobutene resin; (bis) maleimide resin etc. are mentioned. The compound which has these superposition|polymerizable unsaturated groups can be used 1 type or in mixture of 2 or more types. By including a compound having such a polymerizable unsaturated group, the obtained cured product tends to be more excellent in heat resistance, toughness, and the like.

중합 가능한 불포화기를 갖는 화합물의 함유량은, 프린트 배선판용 수지 조성물 중의 수지 고형분 100 질량부에 대하여, 바람직하게는 0 ∼ 99 질량부이고, 보다 바람직하게는 1 ∼ 90 질량부이고, 더욱 바람직하게는 3 ∼ 80 질량부이다. 중합 가능한 불포화기를 갖는 화합물의 함유량이 상기 범위 내임으로써, 얻어지는 경화물의 내열성이나 인성 등이 보다 한층 우수한 경향이 있다.To [ content of the compound which has a superposable|polymerizable unsaturated group / 100 mass parts of resin solid content in the resin composition for printed wiring boards ], Preferably it is 0-99 mass parts, More preferably, it is 1-90 mass parts, More preferably, it is 3 - 80 parts by mass. When the content of the compound having a polymerizable unsaturated group is within the above range, the obtained cured product tends to be further excellent in heat resistance, toughness, and the like.

[경화 촉진제][curing accelerator]

본 실시형태의 프린트 배선판용 수지 조성물은, 경화 촉진제를 추가로 함유해도 된다. 경화 촉진제로는, 특별히 한정되지 않지만, 예를 들어, 트리페닐이미다졸 등의 이미다졸류 ; 과산화벤조일, 라우로일퍼옥사이드, 아세틸퍼옥사이드, 파라클로로벤조일퍼옥사이드, 디-tert-부틸-디-퍼프탈레이트 등의 유기 과산화물 ; 아조비스니트릴 등의 아조 화합물 ; N,N-디메틸벤질아민, N,N-디메틸아닐린, N,N-디메틸톨루이딘, N,N-디메틸피리딘, 2-N-에틸아닐리노에탄올, 트리-n-부틸아민, 피리딘, 퀴놀린, N-메틸모르폴린, 트리에탄올아민, 트리에틸렌디아민, 테트라메틸부탄디아민, N-메틸피페리딘 등의 제 3 급 아민류 ; 페놀, 자일레놀, 크레졸, 레조르신, 카테콜 등의 페놀류 ; 나프텐산납, 스테아르산납, 나프텐산아연, 옥틸산아연, 올레산주석, 디부틸주석말레이트, 나프텐산망간, 나프텐산코발트, 아세틸아세톤철 등의 유기 금속염 ; 이들 유기 금속염을 페놀, 비스페놀 등의 수산기 함유 화합물에 용해시켜 이루어지는 것 ; 염화주석, 염화아연, 염화알루미늄 등의 무기 금속염 ; 디옥틸주석옥사이드, 그 밖의 알킬주석, 알킬주석옥사이드 등의 유기 주석 화합물 등을 들 수 있다. 이들 중에서도, 트리페닐이미다졸이 경화 반응을 촉진시키고, 열팽창률이 우수한 경향이 있기 때문에, 특히 바람직하다.The resin composition for printed wiring boards of this embodiment may further contain a hardening accelerator. Although it does not specifically limit as a hardening accelerator, For example, Imidazole, such as triphenylimidazole; organic peroxides such as benzoyl peroxide, lauroyl peroxide, acetyl peroxide, parachlorobenzoyl peroxide, and di-tert-butyl-di-perphthalate; azo compounds such as azobisnitrile; N,N-dimethylbenzylamine, N,N-dimethylaniline, N,N-dimethyltoluidine, N,N-dimethylpyridine, 2-N-ethylanilinoethanol, tri-n-butylamine, pyridine, quinoline, N - tertiary amines, such as methylmorpholine, a triethanolamine, a triethylenediamine, tetramethylbutanediamine, and N-methylpiperidine; phenols such as phenol, xylenol, cresol, resorcinol, and catechol; organometallic salts such as lead naphthenate, lead stearate, zinc naphthenate, zinc octylate, tin oleate, dibutyltin maleate, manganese naphthenate, cobalt naphthenate, and iron acetylacetone; What is formed by dissolving these organometallic salts in hydroxyl-containing compounds, such as a phenol and bisphenol; inorganic metal salts such as tin chloride, zinc chloride, and aluminum chloride; Organotin compounds, such as a dioctyl tin oxide, other alkyl tin, and an alkyl tin oxide, etc. are mentioned. Among these, since triphenylimidazole accelerates|stimulates a hardening reaction and there exists a tendency which is excellent in thermal expansion coefficient, it is especially preferable.

[용제][solvent]

본 실시형태의 프린트 배선판용 수지 조성물은, 용제를 추가로 함유해도 된다. 용제를 포함함으로써, 프린트 배선판용 수지 조성물의 조제시에 있어서의 점도가 낮아지고, 핸들링성이 보다 향상됨과 함께 후술하는 기재에 대한 함침성이 보다 향상되는 경향이 있다.The resin composition for printed wiring boards of this embodiment may further contain a solvent. By including a solvent, the viscosity at the time of preparation of the resin composition for printed wiring boards becomes low, while handling property improves more, there exists a tendency for the impregnation property with respect to the base material mentioned later to improve more.

용제로는, 프린트 배선판용 수지 조성물 중의 수지 성분의 일부 또는 전부를 용해 가능한 것이면, 특별히 한정되지 않지만, 예를 들어, 아세톤, 메틸에틸케톤, 메틸셀로솔브 등의 케톤류 ; 톨루엔, 자일렌 등의 방향족 탄화수소류 ; 디메틸포름아미드 등의 아미드류 ; 프로필렌글리콜모노메틸에테르 및 그 아세테이트 등을 들 수 있다. 용제는, 1 종을 단독으로 사용해도 되고, 2 종 이상을 병용해도 된다.Although it will not specifically limit if it can melt|dissolve some or all of the resin components in the resin composition for printed wiring boards as a solvent, For example, Ketones, such as acetone, methyl ethyl ketone, and a methyl cellosolve; aromatic hydrocarbons such as toluene and xylene; amides such as dimethylformamide; Propylene glycol monomethyl ether, its acetate, etc. are mentioned. A solvent may be used individually by 1 type, and may use 2 or more types together.

[프린트 배선판용 수지 조성물의 제조 방법][Method for Producing Resin Composition for Printed Wiring Boards]

본 실시형태의 프린트 배선판용 수지 조성물의 제조 방법은, 특별히 한정되지 않지만, 예를 들어, 각 성분을 순차 용제에 배합하고, 충분히 교반하는 방법을 들 수 있다. 이 때, 각 성분을 균일하게 용해 혹은 분산시키기 위해, 교반, 혼합, 혼련 처리 등의 공지된 처리를 실시할 수 있다. 구체적으로는, 적절한 교반 능력을 갖는 교반기를 부설한 교반조를 사용하여 교반 분산 처리를 실시함으로써, 프린트 배선판용 수지 조성물에 대한 충전재 (E) 의 분산성을 향상시킬 수 있다. 상기의 교반, 혼합, 혼련 처리는, 예를 들어, 볼 밀, 비드 밀 등의 혼합을 목적으로 한 장치, 또는 공전 또는 자전형의 혼합 장치 등의 공지된 장치를 사용하여 적절히 실시할 수 있다.Although the manufacturing method of the resin composition for printed wiring boards of this embodiment is not specifically limited, For example, each component is mix|blended with a solvent one by one, and the method of fully stirring is mentioned. At this time, in order to melt|dissolve or disperse|distribute each component uniformly, well-known processes, such as stirring, mixing, a kneading|mixing process, can be implemented. The dispersibility of the filler (E) with respect to the resin composition for printed wiring boards can be improved by performing a stirring dispersion process specifically, using the stirring tank which attached the stirrer which has suitable stirring ability. Said stirring, mixing, and kneading|mixing process can be suitably implemented using well-known apparatuses, such as an apparatus for the purpose of mixing, such as a ball mill and a bead mill, or a revolving or autorotation type mixing apparatus, for example.

또, 본 실시형태의 프린트 배선판용 수지 조성물의 조제시에 있어서는, 필요에 따라 유기 용제를 사용할 수 있다. 유기 용제의 종류는, 프린트 배선판용 수지 조성물 중의 수지를 용해 가능한 것이면, 특별히 한정되지 않는다. 그 구체예는, 상기 서술한 바와 같다.Moreover, at the time of preparation of the resin composition for printed wiring boards of this embodiment, an organic solvent can be used as needed. The kind of organic solvent will not be specifically limited, if resin in the resin composition for printed wiring boards can be melt|dissolved. The specific example is as above-mentioned.

[프린트 배선판용 수지 조성물의 특성][Characteristics of the resin composition for printed wiring boards]

본 실시형태의 프린트 배선판용 수지 조성물은, 그것과 기재를 함유하는 프리프레그를 230 ℃ 및 100 분의 조건으로 열 경화시켜 얻어지는 경화물이, 하기 식 (4) ∼ (8) 로 나타내는 기계 특성에 관한 물성 파라미터의 수치 범위를 만족시키는 것이면 바람직하고, 하기 식 (4A) ∼ (8A) 로 나타내는 기계 특성에 관한 물성 파라미터의 수치 범위를 만족시키면 보다 바람직하다.In the resin composition for a printed wiring board of the present embodiment, the cured product obtained by thermosetting the prepreg containing it and the base material under the conditions of 230°C and 100 minutes has mechanical properties represented by the following formulas (4) to (8). It is preferable if it satisfies the numerical range of the physical-property parameter related to it, and it is more preferable to satisfy the numerical range of the physical-property parameter regarding the mechanical property shown by following formula (4A) - (8A).

Figure 112019058495421-pct00015
Figure 112019058495421-pct00015

여기서, 각 식 중, E' 는, 괄호 내에 나타내는 온도에 있어서의 경화물의 저장 탄성률을 나타내고, E''max 는, 30 ℃ 에서 330 ℃ 의 온도 범위에 있어서의 경화물의 손실 탄성률의 최대값을 나타내고, E''min 은, 30 ℃ 에서 330 ℃ 의 온도 범위에 있어서의 경화물의 손실 탄성률의 최소값을 나타낸다 (E'' 는 경화물의 손실 탄성률을 나타낸다).Here, in each formula, E' represents the storage elastic modulus of the cured product at the temperature shown in parentheses, and E''max represents the maximum value of the loss elastic modulus of the cured product in the temperature range of 30°C to 330°C, , E''min represents the minimum value of the loss elastic modulus of the cured product in a temperature range of 30°C to 330°C (E'' represents the loss elastic modulus of the cured product).

종래, 프린트 배선판의 휨 거동에 관해서는, 프리프레그의 경화물에 있어서, 보다 큰 열시 저장 탄성률, 및 보다 높은 탄성률 유지율을 실현할 수 있는 수지 조성물이 유효하다고 생각되어 왔지만, 반드시 그렇다고는 할 수 없고, 프리프레그를 230 ℃ 및 100 분의 조건으로 열 경화시켜 얻어지는 경화물의 기계 특성에 관한 물성 파라미터의 수치가 상기 식 (4) ∼ (8) 바람직하게는 식 (4A) ∼ (8A) 의 범위 내임으로써, 유리 전이 온도 (Tg) 를 충분히 높일 수 있고, 또한 적층판, 금속박 피복 적층판, 프린트 배선판, 특히 다층 코어리스 기판 자체의 휨량을 충분히 저감시키는 것이 가능해진다.Conventionally, regarding the bending behavior of a printed wiring board, in the cured product of a prepreg, a resin composition capable of realizing a larger thermal storage elastic modulus and a higher elastic modulus retention rate has been considered effective, but this is not necessarily the case, The numerical value of the physical property parameter relating to the mechanical properties of the cured product obtained by thermosetting the prepreg under the conditions of 230°C and 100 minutes is preferably within the range of the above formulas (4) to (8), and preferably the formulas (4A) to (8A). , it becomes possible to sufficiently increase the glass transition temperature (Tg), and to sufficiently reduce the amount of warpage of laminates, metal foil-clad laminates, printed wiring boards, and especially multilayer coreless substrates themselves.

바꾸어 말하면, 프리프레그를 230 ℃ 및 100 분의 조건으로 열 경화시켜 얻어지는 경화물의 기계 특성에 관한 물성 파라미터의 수치가 상기 식 (4) ∼ (8) 바람직하게는 식 (4A) ∼ (8A) 의 범위 내임으로써, 바람직하게, 명확한 유리 전이 온도가 존재하지 않고 (Tg 리스), 또한 프린트 배선판 (특히, 다층 코어리스 기판) 의 휨을 충분히 저감 (저휨을 달성) 시키는 것이 가능해진다. 즉, 손실 탄성률에 관련된 식 (7) 및 (8) 바람직하게는 식 (7A) 및 (8A) 를 만족시키는 것은, 명확한 유리 전이 온도가 존재하지 않는 것 (Tg 리스) 과 동일한 의미라고 할 수 있으므로, 경화물이 식 (7) 및 (8) 바람직하게는 식 (7A) 및 (8A) 만을 만족시키고, 식 (4) ∼ (6) 바람직하게는 식 (4A) ∼ (6A) 를 만족시키지 않는 것은, 손실 탄성률 자체는 작아서 잘 신장되지 않지만, 프린트 배선판으로 했을 때, 그 신장 어려움이 원인으로, 저휨을 달성하는 것이 곤란해진다. 이에 대해, 경화물이 식 (7) 및 (8) 바람직하게는 식 (7A) 및 (8A) 뿐만 아니라, 식 (4) ∼ (8) 바람직하게는 식 (4A) 및 (8A) 도 만족시키는 것은, Tg 리스에 의해 잘 신장되지 않고, 또한 프린트 배선판의 저휨을 달성하기 쉬워지는 경향이 있다.In other words, the numerical value of the physical property parameter relating to the mechanical properties of the cured product obtained by thermosetting the prepreg under the conditions of 230°C and 100 minutes is the formulas (4) to (8), preferably the formulas (4A) to (8A) By being in the range, it becomes possible to reduce the warpage of a printed wiring board (especially multilayer coreless board|substrate) sufficiently (achieving low warpage) preferably without a clear glass transition temperature (Tgless). That is, it can be said that the expression (7) and (8) related to the loss modulus, preferably satisfying the formulas (7A) and (8A), has the same meaning as the absence of a clear glass transition temperature (Tg-less). , the cured product preferably satisfies only formulas (7) and (8), preferably formulas (7A) and (8A), and preferably does not satisfy formulas (4) to (6), preferably formulas (4A) to (6A) The thing is, the loss elastic modulus itself is small and does not extend easily, but when it is set as a printed wiring board, the elongation difficulty is a cause, and it becomes difficult to achieve low warpage. On the other hand, the cured product preferably satisfies not only the formulas (7) and (8) but also the formulas (7A) and (8A), but also the formulas (4) to (8), preferably the formulas (4A) and (8A). It tends to become difficult to extend|stretch by a Tg lease, and to become easy to achieve low warpage of a printed wiring board.

프리프레그의 경화물의 기계 특성 (저장 탄성률 E' 및 손실 탄성률 E'') 의 측정 방법은, 특별히 한정되지 않고, 예를 들어, 이하의 방법에 의해 측정할 수 있다. 즉, 프리프레그 1 장의 상하 양면에, 동박 (3EC-VLP, 미츠이 금속 광업 (주) 제조, 두께 12 ㎛) 을 배치하고, 압력 30 ㎏f/㎠, 온도 230 ℃ 에서 100 분간의 적층 성형 (열 경화) 을 실시하여, 소정의 절연층 두께의 동박 피복 적층판을 얻는다. 이어서, 얻어진 동박 피복 적층판을 다이싱소로 사이즈 5.0 ㎜ × 20 ㎜ 로 절단 후, 표면의 동박을 에칭에 의해 제거하여, 측정용 샘플을 얻는다. 이 측정용 샘플을 사용하여, JIS C6481 에 준거하여 동적 점탄성 분석 장치 (TA 인스트루먼트 제조) 로 DMA 법에 의해, 기계 특성 (저장 탄성률 E' 및 손실 탄성률 E'') 을 측정할 수 있다. 이 때, n = 3 의 평균값을 구해도 된다.The measuring method of the mechanical properties (storage elastic modulus E' and loss elastic modulus E'') of the hardened|cured material of a prepreg is not specifically limited, For example, it can measure with the following method. That is, copper foil (3EC-VLP, manufactured by Mitsui Metals Mining Co., Ltd., thickness 12 µm) is placed on the upper and lower surfaces of one prepreg sheet, and lamination molding (heat) at a pressure of 30 kgf/cm 2 and a temperature of 230° C. for 100 minutes hardening) to obtain a copper-clad clad laminate having a predetermined insulating layer thickness. Next, after cut|disconnecting the obtained copper foil clad laminated board to size 5.0 mm x 20 mm with a dicing saw, the copper foil on the surface is removed by an etching, and the sample for a measurement is obtained. Using this sample for measurement, mechanical properties (storage elastic modulus E' and loss elastic modulus E'') can be measured by the DMA method with a dynamic viscoelasticity analyzer (manufactured by TA Instruments) in accordance with JIS C6481. At this time, you may obtain|require the average value of n=3.

[용도][purpose]

본 실시형태의 프린트 배선판용 수지 조성물은, 프리프레그, 레진 시트, 절연층, 적층판, 금속박 피복 적층판, 프린트 배선판, 또는 다층 프린트 배선판으로서 바람직하게 사용할 수 있다. 이하, 프리프레그, 레진 시트, 적층판, 금속박 피복 적층판, 및 프린트 배선판 (다층 프린트 배선판을 포함한다) 에 대해 설명한다.The resin composition for printed wiring boards of this embodiment can be used suitably as a prepreg, a resin sheet, an insulating layer, a laminated board, a metal foil clad laminated board, a printed wiring board, or a multilayer printed wiring board. Hereinafter, a prepreg, a resin sheet, a laminated board, a metal foil clad laminated board, and a printed wiring board (multilayer printed wiring board are included) are demonstrated.

[프리프레그][Prepreg]

본 실시형태의 프리프레그는, 기재와, 그 기재에 함침 또는 도포된 프린트 배선판용 수지 조성물을 함유한다. 프리프레그의 제조 방법은, 통상적인 방법에 따라 실시할 수 있고, 특별히 한정되지 않는다. 예를 들어, 본 실시형태에 있어서의 프린트 배선판용 수지 조성물을 기재에 함침 또는 도포시킨 후, 100 ∼ 200 ℃ 의 건조기 중에서 1 ∼ 30 분 가열하는 등을 하여 반경화 (B 스테이지화) 시킴으로써, 본 실시형태의 프리프레그를 제조할 수 있다.The prepreg of this embodiment contains a base material and the resin composition for printed wiring boards impregnated or apply|coated to the base material. The manufacturing method of a prepreg can be implemented according to a conventional method, and is not specifically limited. For example, after impregnating or apply|coating the resin composition for printed wiring boards in this embodiment to a base material, it heats for 1-30 minutes in a 100-200 degreeC dryer, etc., and semi-hardening (B-staging), The prepreg of an embodiment can be manufactured.

본 실시형태의 프리프레그에 있어서의 프린트 배선판용 수지 조성물 (충전재 (E) 를 포함한다) 의 함유량은, 프리프레그의 총량에 대하여, 바람직하게는 30 ∼ 90 체적% 이고, 보다 바람직하게는 35 ∼ 85 체적% 이고, 더욱 바람직하게는 40 ∼ 80 체적% 이다. 수지 조성물의 함유량이 상기 범위 내임으로써, 성형성이 보다 향상되는 경향이 있다.To [ content of the resin composition for printed wiring boards (a filler (E) is included) in the prepreg of this embodiment) with respect to the total amount of a prepreg, Preferably it is 30-90 volume%, More preferably, it is 35- It is 85 volume%, More preferably, it is 40-80 volume%. When content of a resin composition exists in the said range, there exists a tendency for a moldability to improve more.

기재로는, 특별히 한정되지 않고, 각종 프린트 배선판 재료에 사용되고 있는 공지된 것을, 목적으로 하는 용도나 성능에 따라 적절히 선택하여 사용할 수 있다. 기재로는, 예를 들어, 유리 기재, 유리 이외의 무기 기재, 유기 기재 등을 들 수 있고, 이들 중에서는, 고강성, 및 가열 치수 안정성의 관점에서, 유리 기재가 특히 바람직하다. 이들 기재를 구성하는 섬유의 구체예로는, 특별히 한정되지 않고, 유리 기재에서는, 예를 들어, E 유리, D 유리, S 유리, T 유리, Q 유리, L 유리, NE 유리, HME 유리로 이루어지는 군에서 선택되는 1 종 이상의 유리의 섬유를 들 수 있다. 또, 유리 이외의 무기 기재에서는, 쿼츠 등의 유리 이외의 무기 섬유를 들 수 있다. 또한 유기 기재에서는, 폴리파라페닐렌테레프탈아미드 (케블라 (등록상표), 듀퐁 주식회사 제조), 코폴리파라페닐렌·3,4'옥시디페닐렌·테레프탈아미드 (테크노라 (등록상표), 테이진 테크노 프로덕츠 주식회사 제조) 등의 전방향족 폴리아미드 ; 2,6-하이드록시나프토산·파라하이드록시벤조산 (벡트란 (등록상표), 주식회사 쿠라레 제조), 젝시온 (등록상표, KB 세이렌 제조) 등의 폴리에스테르 ; 폴리파라페닐렌벤즈옥사졸 (자이론 (등록상표), 토요 방적 주식회사 제조), 폴리이미드 등의 유기 섬유를 들 수 있다. 이들 기재는, 1 종을 단독으로 사용해도 되고, 2 종 이상을 병용해도 된다.It does not specifically limit as a base material, According to the target use and performance, the well-known thing used for various printed wiring board materials can be selected and used suitably. As a base material, a glass base material, inorganic base materials other than glass, organic base materials etc. are mentioned, for example, Among these, a glass base material is especially preferable from a viewpoint of high rigidity and heating dimensional stability. It does not specifically limit as a specific example of the fiber which comprises these base materials, In a glass base material, it consists of E glass, D glass, S glass, T glass, Q glass, L glass, NE glass, and HME glass, for example. and at least one glass fiber selected from the group. Moreover, in inorganic base materials other than glass, inorganic fibers other than glass, such as quartz, are mentioned. In addition, in organic substrates, polyparaphenylene terephthalamide (Kevlar (registered trademark), manufactured by DuPont Co., Ltd.), copolyparaphenylene 3,4'oxydiphenylene terephthalamide (Technora (registered trademark), Teijin) wholly aromatic polyamides such as Techno Products Co., Ltd.); polyesters such as 2,6-hydroxynaphthoic acid/parahydroxybenzoic acid (Vectran (registered trademark), manufactured by Kuraray Co., Ltd.) and Xexion (registered trademark, manufactured by KB Siren); Organic fibers, such as polyparaphenylene benzoxazole (Zyron (trademark), Toyo Spinning Co., Ltd. make) and polyimide, are mentioned. These base materials may be used individually by 1 type, and may use 2 or more types together.

기재의 형상으로는, 특별히 한정되지 않지만, 예를 들어, 직포, 부직포, 로빙, 촙드 스트랜드 매트, 서페이싱 매트 등을 들 수 있다. 직포의 직조 방법으로는, 특별히 한정되지 않지만, 예를 들어, 평직, 사자식, 능직 등이 알려져 있고, 이들 공지된 것으로부터 목적으로 하는 용도나 성능에 따라 적절히 선택하여 사용할 수 있다. 또, 이들을 개섬 (開纖) 처리한 것이나 실란 커플링제 등으로 표면 처리한 유리 직포가 바람직하게 사용된다. 기재의 두께나 질량은, 특별히 한정되지 않지만, 통상은 0.01 ∼ 0.3 ㎜ 정도의 것이 바람직하게 사용된다. 특히, 강도와 흡수성의 관점에서, 기재는, 두께 200 ㎛ 이하, 질량 250 g/㎡ 이하의 유리 직포가 바람직하고, E 유리, S 유리, 및 T 유리의 유리 섬유로 이루어지는 유리 직포가 보다 바람직하다.Although it does not specifically limit as a shape of a base material, For example, a woven fabric, a nonwoven fabric, roving, a chopped strand mat, a surfacing mat, etc. are mentioned. Although it does not specifically limit as a weaving method of a woven fabric, For example, plain weave, a lion type, a twill weave, etc. are known, From these well-known things, it can select suitably according to the intended use and performance, and can use it. Moreover, what carried out the fiber opening process, the glass woven fabric surface-treated with the silane coupling agent etc. are used preferably. Although the thickness and mass of a base material are not specifically limited, Usually, the thing of about 0.01-0.3 mm is used preferably. In particular, from the viewpoint of strength and water absorption, the substrate is preferably a glass woven fabric having a thickness of 200 μm or less and a mass of 250 g/m 2 or less, and more preferably a glass woven fabric made of glass fibers of E glass, S glass, and T glass. .

또, 상기 서술한 바와 같이, 본 실시형태의 프리프레그는, 그것을 230 ℃ 및 100 분의 조건으로 열 경화시켜 얻어지는 경화물이, 상기 식 (4) ∼ (8) 바람직하게는 식 (4A) ∼ (8A) 로 나타내는 기계 특성에 관한 물성 파라미터의 수치 범위를 만족시키는 것이면, 적층판, 금속박 피복 적층판, 프린트 배선판, 또는 다층 프린트 배선판이, 명확한 유리 전이 온도가 존재하지 않고 (Tg 리스), 또한 휨을 충분히 저감 (저휨을 달성) 시킬 수 있는 경향이 있으므로 바람직하다.Moreover, as above-mentioned, the hardened|cured material obtained by making the prepreg of this embodiment thermoset it on the conditions of 230 degreeC and 100 minutes is said Formula (4)-(8) Preferably Formula (4A)- If it satisfies the numerical range of the physical property parameters related to the mechanical properties represented by (8A), the laminated board, the metal foil-clad laminate, the printed wiring board, or the multilayer printed wiring board does not have a clear glass transition temperature (Tg-less), and the warpage is sufficiently suppressed. Since there exists a tendency which can make it reduce (achieving low warpage), it is preferable.

[레진 시트][resin sheet]

본 실시형태의 레진 시트는, 시트 기재 (지지체) 와, 그 시트 기재의 편면 또는 양면에 적층된, 상기 프린트 배선판용 수지 조성물을 갖는다. 레진 시트란, 박엽화의 하나의 수단으로서 사용되는 것으로, 예를 들어, 금속박이나 필름 등의 지지체에, 직접, 프리프레그 등에 사용되는 열 경화성 수지 (충전재 (E) 를 포함한다) 를 도포 및 건조시켜 제조할 수 있다.The resin sheet of this embodiment has a sheet base material (support body), and the said resin composition for printed wiring boards laminated|stacked on the single side|surface or both surfaces of this sheet base material. A resin sheet is used as one means of thinning, and for example, a thermosetting resin (including a filler (E)) used for a prepreg or the like is applied directly to a support such as a metal foil or a film and dried. can be manufactured by

시트 기재로는, 특별히 한정되지 않지만, 각종 프린트 배선판 재료에 사용되고 있는 공지된 것을 사용할 수 있다. 예를 들어 폴리이미드 필름, 폴리아미드 필름, 폴리에스테르 필름, 폴리에틸렌테레프탈레이트 (PET) 필름, 폴리부틸렌테레프탈레이트 (PBT) 필름, 폴리프로필렌 (PP) 필름, 폴리에틸렌 (PE) 필름, 알루미늄박, 동박, 금박 등을 들 수 있다. 그 중에서도 전해 동박, PET 필름이 바람직하다.Although it does not specifically limit as a sheet|seat base material, Well-known thing used for various printed wiring board materials can be used. For example, polyimide film, polyamide film, polyester film, polyethylene terephthalate (PET) film, polybutylene terephthalate (PBT) film, polypropylene (PP) film, polyethylene (PE) film, aluminum foil, copper foil , gold leaf, and the like. Especially, an electrolytic copper foil and a PET film are preferable.

도포 방법으로는, 예를 들어, 본 실시형태의 프린트 배선판용 수지 조성물을 용제에 용해시킨 용액을, 바 코터, 다이 코터, 닥터 블레이드, 베이커 애플리케이터 등으로 시트 기재 상에 도포하는 방법을 들 수 있다.As a coating method, for example, the method of apply|coating the solution which melt|dissolved the resin composition for printed wiring boards of this embodiment in the solvent on the sheet|seat base material with a bar coater, a die coater, a doctor blade, a baker applicator etc. is mentioned. .

레진 시트는, 상기 프린트 배선판용 수지 조성물을 시트 기재에 도포 후, 반경화 (B 스테이지화) 시킨 것임이 바람직하다. 구체적으로는, 예를 들어, 상기 프린트 배선판용 수지 조성물을 동박 등의 시트 기재에 도포한 후, 100 ∼ 200 ℃ 의 건조기 중에서, 1 ∼ 60 분 가열시키는 방법 등에 의해 반경화시켜, 레진 시트를 제조하는 방법 등을 들 수 있다. 시트 기재에 대한 프린트 배선판용 수지 조성물의 부착량은, 레진 시트의 수지 두께로 1 ∼ 300 ㎛ 의 범위가 바람직하다.After apply|coating the said resin composition for printed wiring boards to a sheet|seat base material, as for a resin sheet, it is preferable that semi-hardening (B-staging) was carried out. Specifically, for example, after apply|coating the said resin composition for printed wiring boards to sheet base materials, such as copper foil, it is made semi-hardened by the method of heating 1 to 60 minutes in a 100-200 degreeC dryer, etc., and a resin sheet is manufactured how to do it, etc. As for the adhesion amount of the resin composition for printed wiring boards with respect to a sheet|seat base material, the range of 1-300 micrometers is preferable in resin thickness of a resin sheet.

[적층판 및 금속박 피복 적층판][Laminated sheet and metal foil-clad laminate]

본 실시형태의 적층판은, 적어도 1 장 이상 적층된 본 실시형태의 상기 프리프레그 및/또는 본 실시형태의 상기 레진 시트를 갖는 것이다. 또, 본 실시형태의 금속박 피복 적층판은, 본 실시형태의 적층판 (즉, 적어도 1 장 이상 적층된 본 실시형태의 상기 프리프레그 및/또는 본 실시형태의 상기 레진 시트) 과, 그 적층판의 편면 또는 양면에 배치된 금속박 (도체층) 을 갖는 것이다.The laminated board of this embodiment has the said prepreg of this embodiment and/or the said resin sheet of this embodiment laminated|stacked at least 1 or more sheets. In addition, the metal foil-clad laminate of this embodiment includes the laminate of this embodiment (that is, the prepreg of this embodiment and/or the resin sheet of this embodiment laminated on at least one or more sheets), and one side of the laminate, or It has the metal foil (conductor layer) arrange|positioned on both surfaces.

도체층은, 구리나 알루미늄 등의 금속박으로 할 수 있다. 여기서 사용하는 금속박은, 프린트 배선판 재료에 사용되는 것이면, 특별히 한정되지 않지만, 압연 동박이나 전해 동박 등의 공지된 동박이 바람직하다. 또, 도체층의 두께는, 특별히 한정되지 않지만, 1 ∼ 70 ㎛ 가 바람직하고, 보다 바람직하게는 1.5 ∼ 35 ㎛ 이다.The conductor layer can be made of metal foil such as copper or aluminum. Although it will not specifically limit if the metal foil used here is used for a printed wiring board material, Well-known copper foils, such as a rolled copper foil and an electrolytic copper foil, are preferable. Moreover, although the thickness of a conductor layer is although it does not specifically limit, 1-70 micrometers is preferable, More preferably, it is 1.5-35 micrometers.

적층판 또는 금속박 피복 적층판의 성형 방법 및 그 성형 조건은, 특별히 한정되지 않고, 일반적인 프린트 배선판용 적층판 및 다층판의 수법 및 조건을 적용할 수 있다. 예를 들어, 적층판 또는 금속박 피복 적층판의 성형시에는 다단 프레스기, 다단 진공 프레스기, 연속 성형기, 오토클레이브 성형기 등을 사용할 수 있다. 또, 적층판 또는 금속박 피복 적층판의 성형 (적층 성형) 에 있어서, 온도는 100 ∼ 300 ℃, 압력은 면압 2 ∼ 100 ㎏f/㎠, 가열 시간은 0.05 ∼ 5 시간의 범위가 일반적이다. 또한 필요에 따라, 150 ∼ 300 ℃ 의 온도에서 후경화를 실시할 수도 있다. 특히 다단 프레스기를 사용한 경우에는, 프리프레그 및/또는 레진 시트의 경화를 충분히 촉진시키는 관점에서, 온도 200 ℃ ∼ 250 ℃, 압력 10 ∼ 40 ㎏f/㎠, 가열 시간 80 분 ∼ 130 분이 바람직하고, 온도 215 ℃ ∼ 235 ℃, 압력 25 ∼ 35 ㎏f/㎠, 가열 시간 90 분 ∼ 120 분이 보다 바람직하다. 또, 상기 서술한 프리프레그 및/또는 레진 시트와, 별도로 제조한 내층용의 배선판을 조합하여 적층 성형함으로써, 다층판으로 할 수도 있다.The forming method and the forming conditions for a laminated board or a metal foil-clad laminated board are not specifically limited, The method and conditions of the general laminated board for printed wiring boards and a multilayer board are applicable. For example, a multistage press machine, a multistage vacuum press machine, a continuous molding machine, an autoclave molding machine, etc. can be used at the time of shaping|molding a laminated board or a metal foil-clad laminated board. Moreover, in the shaping|molding (laminated molding) of a laminated board or a metal foil clad laminated board, the temperature is 100-300 degreeC, the pressure is 2-100 kgf/cm<2> of surface pressure, and the range of 0.05-5 hours is common for a heating time. Moreover, post-curing can also be performed at the temperature of 150-300 degreeC as needed. In particular, when a multi-stage press machine is used, from the viewpoint of sufficiently accelerating curing of the prepreg and/or resin sheet, a temperature of 200 ° C. to 250 ° C., a pressure of 10 to 40 kgf/cm 2 , and a heating time of 80 minutes to 130 minutes are preferable, A temperature of 215°C to 235°C, a pressure of 25 to 35 kgf/cm 2 , and a heating time of 90 minutes to 120 minutes are more preferable. Moreover, it can also be set as a multilayer board by combining and laminating|stacking the prepreg and/or resin sheet mentioned above and the wiring board for inner layers manufactured separately.

[프린트 배선판][Printed wiring board]

본 실시형태의 프린트 배선판은, 절연층과, 그 절연층의 표면에 형성된 도체층을 갖는 프린트 배선판으로서, 절연층이, 상기 프린트 배선판용 수지 조성물을 포함한다. 예를 들어, 상기 서술한 금속박 피복 적층판에, 소정의 배선 패턴을 형성함으로써, 프린트 배선판으로서 바람직하게 사용할 수 있다. 그리고, 본 실시형태의 프린트 배선판용 수지 조성물을 사용한 금속박 피복 적층판은, 명확한 유리 전이 온도가 존재하지 않고 (Tg 리스), 또한 휨을 충분히 저감 (저휨을 달성) 시킬 수 있는 경향이 있으므로, 그러한 성능이 요구되는 프린트 배선판으로서, 특히 유효하게 사용할 수 있다.The printed wiring board of this embodiment is a printed wiring board which has an insulating layer and the conductor layer formed in the surface of the insulating layer, The insulating layer contains the said resin composition for printed wiring boards. For example, it can be used suitably as a printed wiring board by forming a predetermined|prescribed wiring pattern in the metal foil clad laminated board mentioned above. In addition, since the metal foil-clad laminate using the resin composition for a printed wiring board of this embodiment does not have a clear glass transition temperature (Tg-less) and tends to sufficiently reduce warpage (achieve low warpage), such performance is It can be used especially effectively as a requested|required printed wiring board.

본 실시형태의 프린트 배선판은, 구체적으로는, 예를 들어, 이하의 방법에 의해 제조할 수 있다. 먼저, 상기 서술한 금속박 피복 적층판 (구리 피복 적층판 등) 을 준비한다. 금속박 피복 적층판의 표면에 에칭 처리를 실시하여 내층 회로의 형성을 실시하여, 내층 기판을 제조한다. 이 내층 기판의 내층 회로 표면에, 필요에 따라 접착 강도를 높이기 위한 표면 처리를 실시하고, 이어서, 그 내층 회로 표면에 상기 서술한 프리프레그 및/또는 레진 시트를 필요한 장수 겹치고, 추가로 그 외측에 외층 회로용의 금속박을 적층하고, 가열 가압하여 일체 성형 (적층 성형) 한다. 이와 같이 하여, 내층 회로와 외층 회로용의 금속박 사이에, 기재 및 열 경화성 수지 조성물의 경화물로 이루어지는 절연층이 형성된 다층의 적층판이 제조된다. 적층 성형의 방법 및 그 성형 조건은, 상기 서술한 적층판 또는 금속박 피복 적층판과 동일하다. 이어서, 이 다층의 적층판에 스루홀이나 비어홀용의 천공 가공을 실시한 후, 경화물층에 포함되어 있는 수지 성분에서 유래하는 수지의 잔사인 스미어를 제거하기 위해 디스미어 처리가 실시된다. 그 후 이 구멍의 벽면에 내층 회로와 외층 회로용의 금속박을 도통시키는 도금 금속 피막을 형성하고, 또한 외층 회로용의 금속박에 에칭 처리를 실시하여 외층 회로를 형성하여, 프린트 배선판이 제조된다.The printed wiring board of this embodiment can be manufactured with the following method specifically, for example. First, the above-mentioned metal foil clad laminated board (copper clad laminated board etc.) is prepared. The surface of the metal foil-clad laminate is etched to form an inner-layer circuit, and an inner-layer substrate is produced. The inner circuit surface of this inner layer substrate is subjected to surface treatment for increasing adhesive strength if necessary, and then the above-mentioned prepreg and/or resin sheet is laminated on the inner circuit surface for a necessary number of sheets, and further on the outside Metal foils for external circuits are laminated, heated and pressed, and integrally formed (laminated molding). In this way, the multilayer laminated board in which the insulating layer which consists of a base material and hardened|cured material of a thermosetting resin composition was formed between the metal foil for inner-layer circuits and outer-layer circuits is manufactured. The method of lamination molding and its molding conditions are the same as those of the above-described laminate or metal foil-clad laminate. Next, after drilling for through-holes or via-holes is performed on this multilayer laminated board, desmear processing is performed in order to remove the smear which is a residue of the resin derived from the resin component contained in the hardened|cured material layer. Thereafter, a plated metal film is formed on the wall surface of the hole to conduct the metal foil for the inner circuit and the outer circuit, and the metal foil for the outer circuit is etched to form an outer circuit, and a printed wiring board is manufactured.

예를 들어, 상기 서술한 프리프레그 (기재 및 이것에 첨착 (添着) 된 상기 서술한 프린트 배선판용 수지 조성물), 금속박 피복 적층판의 수지 조성물층 (상기 서술한 프린트 배선판용 수지 조성물로 이루어지는 층) 이, 상기 서술한 프린트 배선판용 수지 조성물을 포함하는 절연층을 구성하는 것이 된다.For example, the above-mentioned prepreg (a base material and the above-mentioned resin composition for a printed wiring board attached thereto), a resin composition layer of a metal foil-clad laminate (a layer made of the above-mentioned resin composition for a printed wiring board) , which constitutes the insulating layer containing the resin composition for printed wiring boards mentioned above.

또, 금속박 피복 적층판을 사용하지 않는 경우에는, 상기 프리프레그 또는 상기 프린트 배선판용 수지 조성물로 이루어지는 것에, 회로가 되는 도체층을 형성하여 프린트 배선판을 제조해도 된다. 이 때, 도체층의 형성에 무전해 도금의 수법을 사용할 수도 있다.Moreover, when not using a metal foil clad laminated board, you may form the conductor layer used as a circuit in what consists of the said prepreg or the said resin composition for printed wiring boards, and may manufacture a printed wiring board. At this time, the method of electroless plating can also be used for formation of a conductor layer.

또한 본 실시형태의 프린트 배선판은, 도 9 에 나타내는 바와 같이, 적어도 1 장 이상 적층된 상기 서술한 프리프레그 및 레진 시트로 이루어지는 군에서 선택되는 적어도 1 종으로 형성된 제 1 절연층 (1), 및 그 제 1 절연층 (1) 의 편면 방향 (도시 하면 방향) 에 적어도 1 장 이상 적층된 상기 서술한 프리프레그 및 레진 시트로 이루어지는 군에서 선택되는 적어도 1 종으로 형성된 제 2 절연층 (2) 으로 이루어지는 복수의 절연층과, 그들 복수의 절연층 (1, 2) 의 각각의 사이에 배치된 제 1 도체층 (3), 및 그들 복수의 절연층 (1, 2) 의 최외층에 배치된 제 2 도체층 (3) 으로 이루어지는 복수의 도체층을 가지면 바람직하다.Further, as shown in Fig. 9, the printed wiring board of the present embodiment includes a first insulating layer (1) formed of at least one selected from the group consisting of the above-described prepreg and resin sheet laminated at least one or more, and a second insulating layer (2) formed of at least one selected from the group consisting of the above-mentioned prepreg and resin sheet laminated at least one or more sheets in the direction of one side (lower surface direction as shown) of the first insulating layer (1) a plurality of insulating layers formed therein, a first conductor layer 3 disposed between each of the plurality of insulating layers 1 and 2, and a first conductor layer 3 disposed on the outermost layer of the plurality of insulating layers 1 and 2 It is preferable to have a some conductor layer which consists of two conductor layers (3).

본 발명자들의 지견에 의하면, 통상적인 적층판에서는, 예를 들어 하나의 코어 기판인 프리프레그 및 레진 시트로 이루어지는 군에서 선택되는 적어도 1 종의 양면 방향에 다른 프리프레그 및 레진 시트로 이루어지는 군에서 선택되는 적어도 1 종을 적층함으로써 다층 프린트 배선판을 형성하는 것이 실시되지만, 본 실시형태의 프리프레그 및 레진 시트로 이루어지는 군에서 선택되는 적어도 1 종은, 제 1 절연층 (1) 을 형성하는 하나의 프리프레그 및 레진 시트로 이루어지는 군에서 선택되는 적어도 1 종의 편면 방향에만, 제 2 절연층 (2) 을 형성하는 다른 프리프레그 및 레진 시트로 이루어지는 군에서 선택되는 적어도 1 종을 적층함으로써 제조되는 코어리스 타입의 다층 프린트 배선판 (다층 코어리스 기판) 에 특히 유효하다는 것이 확인되었다.According to the knowledge of the present inventors, in a conventional laminate, for example, at least one selected from the group consisting of a prepreg and a resin sheet serving as a single core substrate is selected from the group consisting of prepregs and resin sheets that differ in both directions. Although forming a multilayer printed wiring board is performed by laminating|stacking at least 1 type, at least 1 type selected from the group which consists of the prepreg and resin sheet of this embodiment is one prepreg which forms the 1st insulating layer 1 and a coreless type manufactured by laminating at least one selected from the group consisting of a resin sheet and another prepreg forming the second insulating layer 2 only in the single-sided direction of at least one selected from the group consisting of a resin sheet. It was confirmed that it is especially effective for the multilayer printed wiring board (multilayer coreless board|substrate) of.

바꾸어 말하면, 본 실시형태의 프리프레그, 레진 시트, 및 프린트 배선판용 수지 조성물은, 프린트 배선판에 사용한 경우에, 그 휨량을 유효하게 저감시킬 수 있고, 특별히 한정되는 것은 아니지만, 프린트 배선판 중에서도 다층 코어리스 기판에 있어서 특히 유효하다. 즉, 통상적인 프린트 배선판은, 일반적으로 양면 대칭의 구성이 되기 때문에 잘 휘어지지 않는 경향이 있는 것에 대해, 다층 코어리스 기판은, 양면 비대칭의 구성이 되기 쉽기 때문에, 통상적인 프린트 배선판에 비해 휘어지기 쉬운 경향이 있다. 따라서, 본 실시형태의 프리프레그, 레진 시트, 및 프린트 배선판용 수지 조성물을 사용함으로써, 종래 휘어지기 쉬운 경향이 있는 다층 코어리스 기판의 휨량을 특히 유효하게 저감시킬 수 있다.In other words, when the prepreg of this embodiment, a resin sheet, and the resin composition for printed wiring boards are used for a printed wiring board, the curvature amount can be reduced effectively, Although it is not specifically limited, Multilayer coreless among a printed wiring board It is especially effective in a board|substrate. In other words, a typical printed wiring board generally has a double-sided symmetrical configuration, so it tends not to bend easily, whereas a multilayer coreless board tends to have a double-sidedly asymmetrical configuration, so it is more warped than a conventional printed wiring board. tends to be easy. Therefore, by using the prepreg of this embodiment, a resin sheet, and the resin composition for printed wiring boards, the curvature amount of the multilayer coreless board|substrate which conventionally tends to warp easily can be reduced especially effectively.

또한, 도 9 에 있어서는, 1 장의 제 1 절연층 (1) 에 제 2 절연층 (2) 이 2 장 적층되어 있는 구성 (요컨대, 복수의 절연층이 3 층인 구성) 을 나타냈지만, 제 2 절연층 (2) 은 1 장이어도 되고 2 장 이상이어도 된다. 따라서, 제 1 도체층 (3) 도 1 층이어도 되고 2 층 이상이어도 된다.9 shows a configuration in which two second insulating layers 2 are laminated on one first insulating layer 1 (that is, a configuration in which a plurality of insulating layers are three layers), but the second insulating The number of layers (2) may be one or two or more sheets may be sufficient as them. Therefore, the number of 1st conductor layers 3 may also be one, and two or more layers may be sufficient as them.

이와 같이, 상기 서술한 구성을 갖는 본 실시형태의 프린트 배선판은, 상기 서술한 본 실시형태의 프린트 배선판용 수지 조성물이, 예를 들어, 프리프레그를 경화시킨 경화물에 있어서, 열시 저장 탄성률이나 손실 탄성률 등의 기계 특성을 저휨에 바람직한 특정한 범위로 제어할 수 있음으로써, 명확한 유리 전이 온도가 존재하지 않고 (Tg 리스), 또한 프린트 배선판, 특히, 다층 코어리스 기판의 휨을 충분히 저감 (저휨을 달성) 시키므로, 반도체 패키지용 프린트 배선판 및 다층 코어리스 기판으로서, 특히 유효하게 사용할 수 있다. Thus, as for the printed wiring board of this embodiment which has the structure mentioned above, the resin composition for printed wiring boards of this embodiment mentioned above is the hardened|cured material which hardened the prepreg, for example. WHEREIN: Storage elastic modulus and loss at the time of heat By being able to control mechanical properties such as elastic modulus in a specific range desirable for low warpage, there is no clear glass transition temperature (Tgless), and the warpage of printed wiring boards, especially multilayer coreless boards, is sufficiently reduced (low warpage is achieved) Therefore, it can be used particularly effectively as a printed wiring board for semiconductor packages and a multilayer coreless board.

실시예Example

이하, 본 발명을 실시예 및 비교예를 사용하여 보다 구체적으로 설명한다. 단, 본 발명은 이하의 실시예에 의해 전혀 한정되는 것은 아니다.Hereinafter, the present invention will be described in more detail using Examples and Comparative Examples. However, the present invention is not limited at all by the following examples.

[합성예 1] α-나프톨아르알킬형 시안산에스테르 화합물 (SN495VCN) 의 합성[Synthesis Example 1] Synthesis of α-naphthol aralkyl type cyanate ester compound (SN495VCN)

반응기 내에서, α-나프톨아르알킬 수지 (SN495V, OH 기 당량 : 236 g/eq., 신닛테츠 화학 (주) 제조 : 나프톨아르알킬의 반복 단위수 n 은 1 ∼ 5 의 것이 포함된다) 0.47 몰 (OH 기 환산) 을, 클로로포름 500 ㎖ 에 용해시키고, 이 용액에 트리에틸아민 0.7 몰을 첨가하였다. 온도를 -10 ℃ 로 유지하면서 반응기 내에 0.93 몰의 염화시안의 클로로포름 용액 300 g 을 1.5 시간에 걸쳐 적하하고, 적하 종료 후, 30 분 교반하였다. 그 후 추가로, 0.1 몰의 트리에틸아민과 클로로포름 30 g 의 혼합 용액을 반응기 내에 적하하고, 30 분 교반하여 반응을 완결시켰다. 부생한 트리에틸아민의 염산염을 반응액으로부터 여과 분리한 후, 얻어진 여과액을 0.1 N 염산 500 ㎖ 로 세정한 후, 물 500 ㎖ 에서의 세정을 4 회 반복하였다. 이것을 황산나트륨에 의해 건조시킨 후, 75 ℃ 에서 이배퍼레이트하고, 추가로 90 ℃ 에서 감압 탈기함으로써, 갈색 고형의 상기 식 (2) 로 나타내는 α-나프톨아르알킬형 시안산에스테르 화합물 (식 중의 R6 은 모두 수소 원자이다) 을 얻었다. 얻어진 α-나프톨아르알킬형 시안산에스테르 화합물을 적외 흡수 스펙트럼에 의해 분석한 결과, 2264 ㎝-1 부근에 시안산에스테르기의 흡수가 확인되었다.In the reactor, 0.47 mol of α-naphthol aralkyl resin (SN495V, OH group equivalent: 236 g/eq., manufactured by Shin-Nitetsu Chemical Co., Ltd.: naphthol aralkyl having a repeating unit number n of 1 to 5) (OH group conversion) was dissolved in 500 ml of chloroform, and 0.7 mol of triethylamine was added to this solution. While maintaining the temperature at -10°C, 300 g of a 0.93 mol cyanogen chloride solution in chloroform was added dropwise into the reactor over 1.5 hours, and after completion of the dropping, the mixture was stirred for 30 minutes. After that, the mixed solution of 0.1 mol of triethylamine and 30 g of chloroform was further dripped in a reactor, and it stirred for 30 minutes, and completed reaction. After the hydrochloric acid salt of triethylamine by-produced was separated by filtration from the reaction solution, the resulting filtrate was washed with 500 ml of 0.1 N hydrochloric acid, followed by washing with 500 ml of water 4 times. After drying this with sodium sulfate, evaporating at 75 degreeC, and also degassing under reduced pressure at 90 degreeC, the alpha-naphthol aralkyl type cyanate ester compound represented by the said Formula (2) as a brown solid (R 6 in the formula) are all hydrogen atoms). As a result of analyzing the obtained α-naphthol aralkyl-type cyanate ester compound by an infrared absorption spectrum, absorption of a cyanate ester group was confirmed in the vicinity of 2264 cm -1 .

[실시예 1][Example 1]

알릴페놀 화합물 (A) 인 디알릴비스페놀 A (DABPA, 다이와 화성 공업 (주) 제조, 하이드록실기 당량 : 154 g/eq.) 24.1 질량부, 말레이미드 화합물 (B) (BMI-2300, 다이와 화성 공업 (주) 제조, 말레이미드 당량 : 186 g/eq.) 60.9 질량부, 시안산에스테르 화합물 (C) 인 합성예 1 의 α-나프톨아르알킬형 시안산에스테르 화합물 (SN495VCN, 시아네이트 당량 : 261 g/eq.) 5.0 질량부, 에폭시 화합물 (D) (NC-3000FH, 닛폰 화약 (주) 제조, 에폭시 당량 : 328 g/eq.) 10.0 질량부, 충전재 (E) 인 슬러리 실리카 (SC-2050MB, 아도마텍스 (주) 제조) 200 질량부 및 동 실리콘 복합 파우더 (KMP-605M, 신에츠 화학 공업 (주) 제조) 25 질량부, 실란 커플링제 (KBM-403, 신에츠 화학 공업 (주) 제조) 5 질량부, 그리고 경화 촉진제인 트리페닐이미다졸 (도쿄 화성 공업 (주) 제조) 0.5 질량부를 혼합하고, 메틸에틸케톤으로 희석시킴으로써 바니시를 얻었다. 이 바니시를 E 유리 직포에 함침 도포하고, 160 ℃ 에서 3 분간 가열 건조시켜, 프린트 배선판용 수지 조성물 함유량 73 체적% 의 프리프레그를 얻었다.Allylphenol compound (A) diallylbisphenol A (DABPA, manufactured by Daiwa Chemical Industries, Ltd., hydroxyl group equivalent: 154 g/eq.) 24.1 parts by mass, maleimide compound (B) (BMI-2300, Daiwa Chemicals) Manufactured by Kogyo Co., Ltd., maleimide equivalent: 186 g/eq.) 60.9 parts by mass, α-naphthol aralkyl-type cyanate ester compound of Synthesis Example 1, which is cyanate ester compound (C) (SN495VCN, cyanate equivalent: 261) g/eq.) 5.0 parts by mass, epoxy compound (D) (NC-3000FH, manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd., epoxy equivalent: 328 g/eq.) 10.0 parts by mass, filler (E) phosphorus slurry silica (SC-2050MB) , Adomatex Co., Ltd.) 200 parts by mass and copper silicone composite powder (KMP-605M, manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.) 25 parts by mass, silane coupling agent (KBM-403, manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.) A varnish was obtained by mixing 5 mass parts and 0.5 mass parts of triphenylimidazole (Tokyo Chemical Industry Co., Ltd. product) which is a hardening accelerator, and diluting with methyl ethyl ketone. This varnish was impregnated and apply|coated to E-glass woven fabric, it heat-dried at 160 degreeC for 3 minute(s), and the prepreg with the resin composition content for printed wiring boards 73 volume% was obtained.

[실시예 2][Example 2]

알릴페놀 화합물 (A) (DABPA) 를 19.9 질량부로 한 것, 말레이미드 화합물 (B) (BMI-2300) 를 50.1 질량부로 한 것, 시안산에스테르 화합물 (C) (SN495VCN) 를 10.0 질량부로 한 것, 및 에폭시 화합물 (D) (NC-3000FH) 를 20.0 질량부로 한 것 이외에는, 실시예 1 과 동일한 방법에 의해, 프린트 배선판용 수지 조성물 함유량 73 체적% 의 프리프레그를 얻었다.Allylphenol compound (A) (DABPA) in 19.9 parts by mass, maleimide compound (B) (BMI-2300) in 50.1 parts by mass, and cyanate ester compound (C) (SN495VCN) in 10.0 parts by mass And the prepreg of 73 volume% of resin composition content for printed wiring boards was obtained by the method similar to Example 1 except having made the epoxy compound (D) (NC-3000FH) 20.0 mass parts.

[실시예 3][Example 3]

시안산에스테르 화합물 (C) (SN495VCN) 를 사용하지 않았던 것, 및 에폭시 화합물 (D) (NC-3000FH) 를 15.0 질량부로 한 것 이외에는, 실시예 1 과 동일한 방법에 의해, 프린트 배선판용 수지 조성물 함유량 73 체적% 의 프리프레그를 얻었다.Resin composition content for printed wiring boards by the method similar to Example 1 except having not used the cyanate ester compound (C) (SN495VCN), and having made the epoxy compound (D) (NC-3000FH) 15.0 mass parts. A prepreg of 73% by volume was obtained.

[실시예 4][Example 4]

시안산에스테르 화합물 (C) (SN495VCN) 를 15.0 질량부로 한 것, 및 에폭시 화합물 (D) (NC-3000FH) 를 사용하지 않았던 것 이외에는, 실시예 1 과 동일한 방법에 의해, 프린트 배선판용 수지 조성물 함유량 73 체적% 의 프리프레그를 얻었다.Resin composition content for printed wiring boards by the method similar to Example 1 except having made cyanate ester compound (C) (SN495VCN) 15.0 mass parts, and having not used epoxy compound (D) (NC-3000FH) A prepreg of 73% by volume was obtained.

[비교예 1][Comparative Example 1]

알릴페놀 화합물 (A) (DABPA) 를 28.4 질량부로 한 것, 말레이미드 화합물 (B) (BMI-2300) 를 71.6 질량부로 한 것, 시안산에스테르 화합물 (C) (SN495VCN) 를 사용하지 않았던 것, 및 에폭시 화합물 (D) (NC-3000FH) 를 사용하지 않았던 것 이외에는, 실시예 1 과 동일한 방법에 의해, 프린트 배선판용 수지 조성물 함유량 73 체적% 의 프리프레그를 얻었다.Allylphenol compound (A) (DABPA) was 28.4 parts by mass, maleimide compound (B) (BMI-2300) was 71.6 parts by mass, cyanate ester compound (C) (SN495VCN) was not used; And the prepreg of 73 volume% of resin composition content for printed wiring boards was obtained by the method similar to Example 1 except not having used the epoxy compound (D) (NC-3000FH).

[비교예 2][Comparative Example 2]

알릴페놀 화합물 (A) (DABPA) 를 60.0 질량부로 한 것, 말레이미드 화합물 (B) (BMI-2300) 를 32.1 질량부로 한 것, 시안산에스테르 화합물 (C) (SN495VCN) 를 2.6 질량부로 한 것, 및 에폭시 화합물 (D) (NC-3000FH) 를 5.3 질량부로 한 것 이외에는, 실시예 1 과 동일한 방법에 의해, 프린트 배선판용 수지 조성물 함유량 73 체적% 의 프리프레그를 얻었다.Allylphenol compound (A) (DABPA) in 60.0 parts by mass, maleimide compound (B) (BMI-2300) in 32.1 parts by mass, and cyanate ester compound (C) (SN495VCN) in 2.6 parts by mass And the prepreg of 73 volume% of resin composition content for printed wiring boards was obtained by the method similar to Example 1 except having made the epoxy compound (D) (NC-3000FH) 5.3 mass parts.

[비교예 3][Comparative Example 3]

알릴페놀 화합물 (A) (DABPA) 를 12.7 질량부로 한 것, 말레이미드 화합물 (B) (BMI-2300) 를 32.1 질량부로 한 것, 시안산에스테르 화합물 (C) (SN495VCN) 를 50.0 질량부로 한 것, 및 에폭시 화합물 (D) (NC-3000FH) 를 5.2 질량부로 한 것 이외에는, 실시예 1 과 동일한 방법에 의해, 프린트 배선판용 수지 조성물 함유량 73 체적% 의 프리프레그를 얻었다.Allylphenol compound (A) (DABPA) in 12.7 parts by mass, maleimide compound (B) (BMI-2300) in 32.1 parts by mass, and cyanate ester compound (C) (SN495VCN) in 50.0 parts by mass And the prepreg of 73 volume% of resin composition content for printed wiring boards was obtained by the method similar to Example 1 except having made the epoxy compound (D) (NC-3000FH) 5.2 mass parts.

[비교예 4][Comparative Example 4]

알릴페놀 화합물 (A) (DABPA) 를 5.0 질량부로 한 것, 말레이미드 화합물 (B) (BMI-2300) 를 85.0 질량부로 한 것, 시안산에스테르 화합물 (C) (SN495VCN) 를 5.0 질량부로 한 것, 및 에폭시 화합물 (D) (NC-3000FH) 를 5.0 질량부로 한 것 이외에는, 실시예 1 과 동일한 방법에 의해, 프린트 배선판용 수지 조성물 함유량 73 체적% 의 프리프레그를 얻었다.Allylphenol compound (A) (DABPA) in 5.0 parts by mass, maleimide compound (B) (BMI-2300) in 85.0 parts by mass, and cyanate ester compound (C) (SN495VCN) in 5.0 parts by mass And the prepreg of 73 volume% of resin composition content for printed wiring boards was obtained by the method similar to Example 1 except having made the epoxy compound (D) (NC-3000FH) 5.0 mass parts.

[물성 측정 평가][Evaluation of physical properties]

실시예 1 ∼ 4 및 비교예 1 ∼ 4 에서 얻어진 프리프레그를 사용하여, 이하의 각 항목에 나타내는 순서에 의해 물성 측정 평가용의 샘플을 제조하고, 기계 특성 (저장 탄성률, 및 손실 탄성률), 식 (4) ∼ (8) 및 식 (4A) ∼ (8A) 에 있어서의 기계 특성에 관한 물성 파라미터, 유리 전이 온도 (Tg), 그리고 휨량 (3 종류) 을 측정 평가하였다. 실시예의 결과를 정리하여 표 1 에, 비교예의 결과를 정리하여 표 2 에 나타낸다.Using the prepregs obtained in Examples 1 to 4 and Comparative Examples 1 to 4, samples for measurement evaluation of physical properties were prepared according to the procedure shown in each of the following items, and mechanical properties (storage elastic modulus, and loss elastic modulus), the formula (4) to (8) and the physical property parameters regarding the mechanical properties in the formulas (4A) to (8A), the glass transition temperature (Tg), and the amount of warpage (three types) were measured and evaluated. The results of Examples are summarized in Table 1, and the results of Comparative Examples are summarized in Table 2.

[기계 특성][Machine Characteristics]

실시예 1 ∼ 4 및 비교예 1 ∼ 4 에서 얻어진 프리프레그 1 장의 상하 양면에, 동박 (3EC-VLP, 미츠이 금속 광업 (주) 제조, 두께 12 ㎛) 을 배치하고, 압력 30 ㎏f/㎠, 온도 230 ℃ 에서 100 분간의 적층 성형 (열 경화) 을 실시하여, 절연층 두께 0.1 ㎜ 의 동박 피복 적층판을 얻었다. 얻어진 동박 피복 적층판을 다이싱소로 사이즈 20 ㎜ × 5 ㎜ 로 절단 후, 표면의 동박을 에칭에 의해 제거하여, 측정용 샘플을 얻었다. 이 측정용 샘플을 사용하여, JIS C6481 에 준거하여 동적 점탄성 분석 장치 (TA 인스트루먼트 제조) 로 DMA 법에 의해, 기계 특성 (저장 탄성률 E' 및 손실 탄성률 E'') 을 측정하였다 (n = 3 의 평균값).Copper foil (3EC-VLP, manufactured by Mitsui Metals Mining Co., Ltd., thickness 12 µm) was placed on both upper and lower surfaces of one prepreg obtained in Examples 1 to 4 and Comparative Examples 1 to 4, and the pressure was 30 kgf/cm 2 , Lamination molding (thermosetting) for 100 minutes was performed at the temperature of 230 degreeC, and the copper-clad laminated board with an insulating layer thickness of 0.1 mm was obtained. After cut|disconnecting the obtained copper foil clad laminated board to size 20 mm x 5 mm with a dicing saw, the copper foil on the surface was removed by etching, and the sample for a measurement was obtained. Using this measurement sample, mechanical properties (storage elastic modulus E' and loss elastic modulus E'') were measured by the DMA method with a dynamic viscoelasticity analyzer (manufactured by TA Instruments) in accordance with JIS C6481 (n = 3). medium).

[유리 전이 온도 (Tg)][Glass Transition Temperature (Tg)]

실시예 1 ∼ 4 및 비교예 1 ∼ 4 에서 얻어진 프리프레그 1 장의 상하 양면에, 동박 (3EC-VLP, 미츠이 금속 광업 (주) 제조, 두께 12 ㎛) 을 배치하고, 압력 30 ㎏f/㎠, 온도 230 ℃ 에서 100 분간의 적층 성형을 실시하여, 절연층 두께 0.1 ㎜ 의 동박 피복 적층판을 얻었다. 얻어진 동박 피복 적층판을 다이싱소로 사이즈 12.7 × 2.5 ㎜ 로 절단 후, 표면의 동박을 에칭에 의해 제거하여, 측정용 샘플을 얻었다. 이 측정용 샘플을 사용하여, JIS C6481 에 준거하여 동적 점탄성 분석 장치 (TA 인스트루먼트 제조) 로 DMA 법에 의해 유리 전이 온도 (Tg) 를 측정하였다 (n = 3 의 평균값).Copper foil (3EC-VLP, manufactured by Mitsui Metals Mining Co., Ltd., thickness 12 µm) was placed on both upper and lower surfaces of one prepreg obtained in Examples 1 to 4 and Comparative Examples 1 to 4, and the pressure was 30 kgf/cm 2 , Lamination molding for 100 minutes was performed at the temperature of 230 degreeC, and the copper-clad laminated board with an insulating layer thickness of 0.1 mm was obtained. After cut|disconnecting the obtained copper foil clad laminated board to size 12.7*2.5mm with a dicing saw, the copper foil on the surface was removed by etching, and the sample for a measurement was obtained. Using this sample for measurement, the glass transition temperature (Tg) was measured by the DMA method with a dynamic viscoelasticity analyzer (manufactured by TA Instruments) in accordance with JIS C6481 (average value of n=3).

[휨량 : 바이메탈법][Bending amount: bimetal method]

먼저, 실시예 1 ∼ 4 및 비교예 1 ∼ 4 에서 얻어진 프리프레그 1 장의 상하 양면에, 동박 (3EC-VLP, 미츠이 금속 광업 (주) 제조, 두께 12 ㎛) 을 배치하고, 압력 30 ㎏f/㎠, 온도 220 ℃ 에서 120 분간의 적층 성형형을 실시하여, 동박 피복 적층판을 얻었다. 다음으로, 얻어진 동박 피복 적층판으로부터 상기 동박을 제거하였다. 이어서, 동박을 제거한 적층판의 편면에, 실시예 1 ∼ 4 및 비교예 1 ∼ 4 에서 얻어진 프리프레그 1 장을 추가로 배치하고, 그 상하 양면에, 상기 동박 (3EC-VLP, 미츠이 금속 광업 (주) 제조, 두께 12 ㎛) 을 배치하고, 압력 30 ㎏f/㎠, 온도 220 ℃ 에서 120 분간의 적층 성형을 실시하여, 다시 동박 피복 적층판을 얻었다. 또한 얻어진 동박 피복 적층판으로부터 상기 동박을 제거하여, 적층판을 얻었다. 그리고, 얻어진 적층판으로부터 20 ㎜ × 200 ㎜ 의 단책상 (短冊狀) 판을 잘라내고, 2 장째에 적층한 프리프레그의 면을 위로 하여, 장척 방향 양단의 휨량의 최대값을 곱자로 측정하고, 그 평균값을 바이메탈법에 의한 「휨량」 으로 하였다.First, copper foil (3EC-VLP, Mitsui Metals Mining Co., Ltd. make, thickness 12 micrometers) is arrange|positioned on the upper and lower surfaces of 1 sheet of prepreg obtained in Examples 1-4 and Comparative Examples 1-4, pressure 30 kgf/ The laminate molding die for 120 minutes was implemented at cm<2> and the temperature of 220 degreeC, and the copper-clad laminated board was obtained. Next, the said copper foil was removed from the obtained copper foil clad laminated board. Next, on one side of the laminate from which the copper foil has been removed, one prepreg obtained in Examples 1 to 4 and Comparative Examples 1 to 4 is further placed, and on both upper and lower sides thereof, the copper foil (3EC-VLP, Mitsui Metals Mining Co., Ltd.) ) manufacture, thickness 12 micrometers) was arrange|positioned, the pressure of 30 kgf/cm<2>, and the temperature of 220 degreeC were laminated|mold for 120 minutes, and the copper foil clad laminated board was obtained again. Furthermore, the said copper foil was removed from the obtained copper-clad laminated board, and the laminated board was obtained. Then, a 20 mm × 200 mm strip plate is cut out from the obtained laminate, the surface of the prepreg laminated on the second sheet is turned up, and the maximum value of the amount of warpage at both ends in the long direction is measured with a multiplier, and the The average value was made into "the amount of warpage" by the bimetal method.

[휨량 : 다층 코어리스 기판][Amount of warpage: multi-layer coreless substrate]

먼저, 도 1 에 나타내는 바와 같이, 지지체 (a) 가 되는 프리프레그의 양면에, 캐리어 부착 극박 동박 (b1) (MT18Ex, 미츠이 금속 광업 (주) 제조, 두께 5 ㎛) 의 캐리어 동박면을 프리프레그측을 향하여 배치하고, 그 위에 실시예 1 ∼ 4 및 비교예 1 ∼ 4 에서 얻어진 프리프레그 (c1) 를 추가로 배치, 그 위에 동박 (d) (3EC-VLP, 미츠이 금속 광업 (주) 제조, 두께 12 ㎛) 을 배치하고, 압력 30 ㎏f/㎠, 온도 220 ℃ 에서 120 분간의 적층 성형을 실시하여 도 2 에 나타내는 동박 피복 적층판을 얻었다.First, as shown in FIG. 1, the carrier copper foil surface of the ultra-thin copper foil b1 with a carrier (MT18Ex, Mitsui Metals Mining Co., Ltd. product, thickness 5 micrometers) is prepreg on both surfaces of the prepreg used as the support body (a). side, the prepregs (c1) obtained in Examples 1-4 and Comparative Examples 1-4 are further disposed thereon, and copper foil (d) (3EC-VLP, manufactured by Mitsui Metals Mining Co., Ltd.) thereon; 12 micrometers in thickness), the pressure of 30 kgf/cm<2>, and the temperature of 220 degreeC were laminated|mold for 120 minutes, and the copper-clad laminated board shown in FIG. 2 was obtained.

이어서, 얻어진 도 2 에 나타내는 동박 피복 적층판의 상기 동박 (d) 을, 예를 들어 도 3 에 나타내는 바와 같이 소정의 배선 패턴으로 에칭하여 도체층 (d') 을 형성하였다. 다음으로, 도체층 (d') 이 형성된 도 3 에 나타내는 적층판 상에, 도 4 에 나타내는 바와 같이, 실시예 1 ∼ 4 및 비교예 1 ∼ 4 에서 얻어진 프리프레그 (c2) 를 배치하고, 그 위에 추가로, 캐리어 부착 극박 동박 (b2) (MT18Ex, 미츠이 금속 광업 (주) 제조, 두께 5 ㎛) 을 배치하고, 압력 30 ㎏f/㎠, 온도 220 ℃ 에서 120 분간의 적층 성형을 실시하여 도 5 에 나타내는 동박 피복 적층판을 얻었다.Next, as shown in FIG. 3, the said copper foil (d) of the obtained copper-clad laminated board shown in FIG. 2 was etched by predetermined wiring pattern, for example, and the conductor layer (d') was formed. Next, on the laminated board shown in FIG. 3 on which the conductor layer (d') was formed, as shown in FIG. 4, the prepreg (c2) obtained in Examples 1-4 and Comparative Examples 1-4 is arrange|positioned, and on it, Furthermore, ultra-thin copper foil (b2) with a carrier (MT18Ex, manufactured by Mitsui Metals Mining Co., Ltd., thickness 5 µm) is placed, and lamination molding is performed at a pressure of 30 kgf/cm 2 and a temperature of 220° C. for 120 minutes, FIG. 5 . The copper-clad laminated board shown in was obtained.

이어서, 도 5 에 나타내는 동박 피복 적층판에 있어서, 지지체 (a) (경화된 지지체용 프리프레그) 에 배치한 캐리어 부착 극박 동박 (b1) 의 캐리어 동박과 극박 동박을 박리함으로써, 도 6 에 나타내는 바와 같이, 지지체 (a) 로부터 2 장의 적층판을 박리하고, 또한 그들의 각 적층판에 있어서의 상부의 캐리어 부착 극박 동박 (b2) 으로부터 캐리어 동박을 박리하였다. 다음으로, 얻어진 각 적층판의 상하의 극박 동박 상에 레이저 가공기에 의한 가공을 실시하여, 도 7 에 나타내는 바와 같이, 화학 구리 도금으로 소정의 비아 (v) 를 형성하였다. 그리고, 예를 들어 도 8 에 나타내는 바와 같이, 소정의 배선 패턴으로 에칭하여 도체층을 형성하고, 다층 코어리스 기판의 패널 (사이즈 : 500 ㎜ × 400 ㎜) 을 얻었다. 그리고, 얻어진 패널의 4 개 각 (角) 및 4 변 중앙 부분의 합계 8 지점에 있어서의 휨량을 곱자로 측정하고, 그 평균값을 다층 코어리스 기판의 패널의 「휨량」 으로 하였다.Next, in the copper foil clad laminate shown in FIG. 5, as shown in FIG. 6 by peeling the carrier copper foil and ultra-thin copper foil of the ultra-thin copper foil (b1) with a carrier arrange|positioned on the support body (a) (hardened|cured prepreg for support bodies) , The laminated boards of 2 sheets were peeled from the support body (a), and also carrier copper foil was peeled from the ultra-thin copper foil with a carrier (b2) in the upper part in these laminated boards. Next, the processing by a laser processing machine was performed on the ultra-thin copper foil of the upper and lower sides of each obtained laminated board, and, as shown in FIG. 7, the predetermined|prescribed via (v) was formed by chemical copper plating. And, as shown in FIG. 8, for example, it etched by a predetermined wiring pattern, the conductor layer was formed, and the panel (size: 500 mm x 400 mm) of a multilayer coreless board|substrate was obtained. Then, the amount of warpage at 8 points in total of the four corners and the center portion of the four sides of the obtained panel was measured with a multiplier, and the average value was taken as the “deflection amount” of the panel of the multilayer coreless substrate.

[리플로우 공정 전후 기판 수축률][Substrate shrinkage before and after reflow process]

실시예 1 ∼ 4 및 비교예 1 ∼ 4 에서 얻어진 프리프레그 1 장의 상하 양면에, 동박 (3EC-VLP, 미츠이 금속 광업 (주) 제조, 두께 12 ㎛) 을 배치하고, 압력 30 ㎏f/㎠, 온도 220 ℃ 에서 120 분간의 적층 성형을 실시하여서, 동박 피복 적층판을 얻었다. 다음으로, 얻어진 동박 피복 적층판에 드릴로 격자상 균등하게 9 점의 천공 가공을 실시한 후, 상기 동박을 제거하였다.Copper foil (3EC-VLP, manufactured by Mitsui Metals Mining Co., Ltd., thickness 12 µm) was placed on both upper and lower surfaces of one prepreg obtained in Examples 1 to 4 and Comparative Examples 1 to 4, and the pressure was 30 kgf/cm 2 , Lamination molding for 120 minutes was performed at the temperature of 220 degreeC, and the copper-clad laminated board was obtained. Next, after drilling 9 points|pieces equally in grid shape to the obtained copper foil clad laminated board with a drill, the said copper foil was removed.

그리고, 먼저, 동박이 제거된 적층판에 있어서의 구멍간의 거리를 측정하였다 (거리 가). 다음으로, 그 적층판에 대해, 샐러맨더 리플로우 장치로 260 ℃ 를 최고 온도로 하여 리플로우 처리를 실시하였다. 그 후, 적층판에 있어서의 구멍간의 거리를 다시 측정하였다 (거리 나). 그리고, 측정된 거리 가와 거리 나를 하기 식 (I) 에 대입하고, 리플로우 처리에 있어서의 기판의 치수 변화율을 구하고, 그 값을 리플로우 공정 전후 기판 수축률로 하였다.And first, the distance between holes in the laminated board from which the copper foil was removed was measured (distance A). Next, with respect to the laminated board, the reflow process was performed by making 260 degreeC the maximum temperature with the Salamander reflow apparatus. Thereafter, the distance between the holes in the laminate was measured again (distance B). And the measured distance k and distance i were substituted into the following formula (I), the dimensional change rate of the board|substrate in a reflow process was calculated|required, and the value was made into the board|substrate shrinkage rate before and behind a reflow process.

((거리 가) - (거리 나))/거리 가 × 100 … 식 (I)((Distance A) - (Distance B))/Distance A × 100 … Formula (I)

Figure 112019058495421-pct00016
Figure 112019058495421-pct00016

Figure 112019058495421-pct00017
Figure 112019058495421-pct00017

본 실시형태의 프린트 배선판용 수지 조성물은, 프리프레그, 레진 시트, 적층판, 금속박 피복 적층판, 프린트 배선판, 또는 다층 프린트 배선판의 재료로서 산업상 이용 가능성을 갖는다. 또한, 본 출원은 2016년 12월 28일에 출원된 일본 특허출원번호 2016-255272 에 기초하는 것이고, 여기에 그 기재 내용을 원용한다.The resin composition for printed wiring boards of this embodiment has industrial applicability as a material of a prepreg, a resin sheet, a laminated board, a metal foil clad laminated board, a printed wiring board, or a multilayer printed wiring board. In addition, this application is based on the Japanese Patent Application No. 2016-255272 for which it applied on December 28, 2016, The description is used here.

Claims (18)

알릴페놀 화합물 (A) 와,
말레이미드 화합물 (B) 와,
시안산에스테르 화합물 (C) 및/또는 에폭시 화합물 (D) 를 함유하는 프린트 배선판용 수지 조성물로서,
상기 프린트 배선판용 수지 조성물 중의 수지 고형분 100 질량부에 대한 상기 알릴페놀 화합물 (A) 의 함유량이 10 ∼ 50 질량부이고,
상기 프린트 배선판용 수지 조성물 중의 수지 고형분 100 질량부에 대한 상기 말레이미드 화합물 (B) 의 함유량이 45 ∼ 80 질량부이고,
상기 프린트 배선판용 수지 조성물의 경화물에 있어서, 명확한 유리 전이 온도가 존재하지 않고, 상기 유리 전이 온도가, JIS C6481 에 준거하여 동적 점탄성 분석 장치로 DMA 법에 의해 측정한 것인, 프린트 배선판용 수지 조성물.
Allylphenol compound (A) and
a maleimide compound (B);
As a resin composition for printed wiring boards containing a cyanate ester compound (C) and/or an epoxy compound (D),
Content of the said allylphenol compound (A) with respect to 100 mass parts of resin solid content in the said resin composition for printed wiring boards is 10-50 mass parts,
Content of the said maleimide compound (B) with respect to 100 mass parts of resin solid content in the said resin composition for printed wiring boards is 45-80 mass parts,
In the cured product of the resin composition for a printed wiring board, there is no clear glass transition temperature, and the glass transition temperature is measured by the DMA method with a dynamic viscoelasticity analyzer in accordance with JIS C6481, the resin for a printed wiring board composition.
제 1 항에 있어서,
상기 프린트 배선판용 수지 조성물 중의 수지 고형분 100 질량부에 대한 상기 시안산에스테르 화합물 (C) 및 상기 에폭시 화합물 (D) 의 합계 함유량이 5 ∼ 45 질량부인, 프린트 배선판용 수지 조성물.
The method of claim 1,
The resin composition for printed wiring boards whose total content of the said cyanate ester compound (C) and the said epoxy compound (D) with respect to 100 mass parts of resin solid content in the said resin composition for printed wiring boards is 5-45 mass parts.
제 1 항에 있어서,
상기 프린트 배선판용 수지 조성물 중의 수지 고형분 100 질량부에 대한 상기 시안산에스테르 화합물 (C) 의 함유량이 0 ∼ 25 질량부인, 프린트 배선판용 수지 조성물.
The method of claim 1,
The resin composition for printed wiring boards whose content of the said cyanate ester compound (C) with respect to 100 mass parts of resin solid content in the said resin composition for printed wiring boards is 0-25 mass parts.
제 1 항에 있어서,
상기 프린트 배선판용 수지 조성물 중의 수지 고형분 100 질량부에 대한 상기 에폭시 화합물 (D) 의 함유량이 0 ∼ 25 질량부인, 프린트 배선판용 수지 조성물.
The method of claim 1,
The resin composition for printed wiring boards whose content of the said epoxy compound (D) with respect to 100 mass parts of resin solid content in the said resin composition for printed wiring boards is 0-25 mass parts.
제 1 항에 있어서,
충전재 (E) 를 추가로 함유하는, 프린트 배선판용 수지 조성물.
The method of claim 1,
The resin composition for printed wiring boards which further contains a filler (E).
제 5 항에 있어서,
상기 충전재 (E) 가, 실리카, 알루미나, 및 베마이트로 이루어지는 군에서 선택되는 적어도 1 종인, 프린트 배선판용 수지 조성물.
6. The method of claim 5,
The resin composition for printed wiring boards whose said filler (E) is at least 1 sort(s) chosen from the group which consists of silica, alumina, and a boehmite.
제 5 항에 있어서,
상기 프린트 배선판용 수지 조성물 중의 수지 고형분 100 질량부에 대한 상기 충전재 (E) 의 함유량이 120 ∼ 250 질량부인, 프린트 배선판용 수지 조성물.
6. The method of claim 5,
The resin composition for printed wiring boards whose content of the said filler (E) with respect to 100 mass parts of resin solid content in the said resin composition for printed wiring boards is 120-250 mass parts.
제 1 항에 있어서,
상기 알릴페놀 화합물 (A) 가 하기 식 (I) ∼ (III) 중 어느 것으로 나타내는 화합물을 포함하는, 프린트 배선판용 수지 조성물.
Figure 112022020261267-pct00018

(식 (I) 중, R1 및 R2 는, 각각 독립적으로, 수소 원자, 메틸기, 에틸기, n-프로필기, i-프로필기, n-부틸기, i-부틸기, sec-부틸기, t-부틸기, 또는 페닐기를 나타낸다)
Figure 112022020261267-pct00019

Figure 112022020261267-pct00020
The method of claim 1,
The resin composition for printed wiring boards in which the said allylphenol compound (A) contains the compound represented by any one of following formula (I)-(III).
Figure 112022020261267-pct00018

(in formula (I), R 1 and R 2 are each independently a hydrogen atom, a methyl group, an ethyl group, n-propyl group, i-propyl group, n-butyl group, i-butyl group, sec-butyl group, represents a t-butyl group or a phenyl group)
Figure 112022020261267-pct00019

Figure 112022020261267-pct00020
제 1 항에 있어서,
상기 말레이미드 화합물 (B) 가, 비스(4-말레이미드페닐)메탄, 2,2-비스{4-(4-말레이미드페녹시)-페닐}프로판, 비스(3-에틸-5-메틸-4-말레이미드페닐)메탄 및 하기 식 (1) 로 나타내는 말레이미드 화합물로 이루어지는 군에서 선택되는 적어도 1 종을 포함하는, 프린트 배선판용 수지 조성물.
Figure 112022020261267-pct00021

(식 (1) 중, R5 는, 각각 독립적으로, 수소 원자 또는 메틸기를 나타내고, n1 은, 1 이상의 정수를 나타낸다)
The method of claim 1,
Said maleimide compound (B) is bis(4-maleimidephenyl)methane, 2,2-bis{4-(4-maleimidephenoxy)-phenyl}propane, bis(3-ethyl-5-methyl- The resin composition for printed wiring boards containing at least 1 sort(s) chosen from the group which consists of 4-maleimidephenyl) methane and the maleimide compound represented by following formula (1).
Figure 112022020261267-pct00021

(In formula (1), R 5 each independently represents a hydrogen atom or a methyl group, and n 1 represents an integer of 1 or more)
제 1 항에 있어서,
상기 시안산에스테르 화합물 (C) 가 하기 식 (2) 및/또는 (3) 으로 나타내는 화합물을 포함하는, 프린트 배선판용 수지 조성물.
Figure 112022020261267-pct00022

(식 (2) 중, R6 은, 각각 독립적으로, 수소 원자 또는 메틸기를 나타내고, n2 는, 1 이상의 정수를 나타낸다)
Figure 112022020261267-pct00023

(식 (3) 중, R7 은, 각각 독립적으로, 수소 원자 또는 메틸기를 나타내고, n3 은, 1 이상의 정수를 나타낸다)
The method of claim 1,
The resin composition for printed wiring boards in which the said cyanate ester compound (C) contains the compound represented by following formula (2) and/or (3).
Figure 112022020261267-pct00022

(In formula (2), R 6 each independently represents a hydrogen atom or a methyl group, and n 2 represents an integer of 1 or more)
Figure 112022020261267-pct00023

(In formula (3), R 7 each independently represents a hydrogen atom or a methyl group, and n 3 represents an integer of 1 or more)
제 1 항에 있어서,
상기 프린트 배선판용 수지 조성물과, 기재를 함유하는 프리프레그를 230 ℃ 및 100 분의 조건으로 열 경화시켜 얻어지는 경화물이, 하기 식 (4) ∼ (8) ;
Figure 112022020261267-pct00024

(각 식 중, E' 는, 괄호 내에 나타내는 온도에 있어서의 상기 경화물의 저장 탄성률을 나타내고, E''max 는, 30 ℃ 에서 330 ℃ 의 온도 범위에 있어서의 상기 경화물의 손실 탄성률의 최대값을 나타내고, E''min 은, 30 ℃ 에서 330 ℃ 의 온도 범위에 있어서의 상기 경화물의 손실 탄성률의 최소값을 나타낸다)
로 나타내는 기계 특성에 관한 물성 파라미터의 수치 범위를 만족시키는, 프린트 배선판용 수지 조성물.
The method of claim 1,
The hardened|cured material obtained by making the said resin composition for printed wiring boards thermoset the prepreg containing a base material on 230 degreeC and conditions for 100 minutes, following formula (4)-(8);
Figure 112022020261267-pct00024

(In each formula, E' represents the storage elastic modulus of the cured product at the temperature shown in parentheses, and E''max is the maximum value of the loss elastic modulus of the cured product in the temperature range of 30°C to 330°C. where E''min represents the minimum value of the loss modulus of the cured product in the temperature range of 30°C to 330°C)
The resin composition for printed wiring boards which satisfy|fills the numerical range of the physical-property parameter regarding the mechanical characteristic represented by.
기재와,
그 기재에 함침 또는 도포된 제 1 항 내지 제 11 항 중 어느 한 항에 기재된 프린트 배선판용 수지 조성물을 갖는 프리프레그.
description and,
The prepreg which has the resin composition for printed wiring boards in any one of Claims 1-11 impregnated or apply|coated to the base material.
제 12 항에 있어서,
상기 기재가, E 유리 섬유, D 유리 섬유, S 유리 섬유, T 유리 섬유, Q 유리 섬유, L 유리 섬유, NE 유리 섬유, HME 유리 섬유, 및 유기 섬유로 이루어지는 군에서 선택되는 1 종 이상의 섬유로 구성된 것인, 프리프레그.
13. The method of claim 12,
The base material is at least one fiber selected from the group consisting of E glass fiber, D glass fiber, S glass fiber, T glass fiber, Q glass fiber, L glass fiber, NE glass fiber, HME glass fiber, and organic fiber. A prepreg, which is composed.
지지체와,
그 지지체의 편면 또는 양면에 적층된 제 1 항 내지 제 11 항 중 어느 한 항에 기재된 프린트 배선판용 수지 조성물을 갖는 레진 시트.
support and
The resin sheet which has the resin composition for printed wiring boards in any one of Claims 1-11 laminated|stacked on the single side|surface or both surfaces of this support body.
적어도 1 장 이상 적층된
기재와, 그 기재에 함침 또는 도포된 제 1 항 내지 제 11 항 중 어느 한 항에 기재된 프린트 배선판용 수지 조성물을 갖는 프리프레그, 그리고
지지체와, 그 지지체의 편면 또는 양면에 적층된 제 1 항 내지 제 11 항 중 어느 한 항에 기재된 프린트 배선판용 수지 조성물을 갖는 레진 시트
로 이루어지는 군에서 선택되는 적어도 1 종을 갖는, 적층판.
at least one stacked
A prepreg comprising a substrate and the resin composition for a printed wiring board according to any one of claims 1 to 11 impregnated or applied to the substrate, and
The resin sheet which has a support body and the resin composition for printed wiring boards in any one of Claims 1-11 laminated|stacked on the single side|surface or both surfaces of the support body.
A laminate having at least one selected from the group consisting of.
적어도 1 장 이상 적층된
기재와, 그 기재에 함침 또는 도포된 제 1 항 내지 제 11 항 중 어느 한 항에 기재된 프린트 배선판용 수지 조성물을 갖는 프리프레그, 그리고
지지체와, 그 지지체의 편면 또는 양면에 적층된 제 1 항 내지 제 11 항 중 어느 한 항에 기재된 프린트 배선판용 수지 조성물을 갖는 레진 시트
로 이루어지는 군에서 선택되는 적어도 1 종과,
상기 프리프레그 및 상기 레진 시트로 이루어지는 군에서 선택되는 적어도 1 종의 편면 또는 양면에 배치된 금속박을 갖는 금속박 피복 적층판.
at least one stacked
A prepreg comprising a substrate and the resin composition for a printed wiring board according to any one of claims 1 to 11 impregnated or applied to the substrate, and
The resin sheet which has a support body and the resin composition for printed wiring boards in any one of Claims 1-11 laminated|stacked on the single side|surface or both surfaces of the support body.
At least one selected from the group consisting of,
A metal foil-clad laminate having a metal foil disposed on one or both surfaces of at least one selected from the group consisting of the prepreg and the resin sheet.
절연층과,
그 절연층의 표면에 형성된 도체층을 갖고,
상기 절연층이, 제 1 항 내지 제 11 항 중 어느 한 항에 기재된 프린트 배선판용 수지 조성물을 포함하는, 프린트 배선판.
an insulating layer,
It has a conductor layer formed on the surface of the insulating layer,
The printed wiring board in which the said insulating layer contains the resin composition for printed wiring boards in any one of Claims 1-11.
적어도 1 장 이상 적층된
기재와, 그 기재에 함침 또는 도포된 제 1 항 내지 제 11 항 중 어느 한 항에 기재된 프린트 배선판용 수지 조성물을 갖는 프리프레그, 그리고
지지체와, 그 지지체의 편면 또는 양면에 적층된 제 1 항 내지 제 11 항 중 어느 한 항에 기재된 프린트 배선판용 수지 조성물을 갖는 레진 시트
로 이루어지는 군에서 선택되는 적어도 1 종으로 형성된 제 1 절연층, 및 상기 제 1 절연층의 편면 방향에 적어도 1 장 이상 적층된
기재와, 그 기재에 함침 또는 도포된 제 1 항 내지 제 11 항 중 어느 한 항에 기재된 프린트 배선판용 수지 조성물을 갖는 프리프레그, 그리고
지지체와, 그 지지체의 편면 또는 양면에 적층된 제 1 항 내지 제 11 항 중 어느 한 항에 기재된 프린트 배선판용 수지 조성물을 갖는 레진 시트
로 이루어지는 군에서 선택되는 적어도 1 종으로 형성된 제 2 절연층으로 이루어지는 복수의 절연층과,
상기 복수의 절연층의 각각의 사이에 배치된 제 1 도체층, 및 상기 복수의 절연층의 최외층의 표면에 배치된 제 2 도체층으로 이루어지는 복수의 도체층을 갖는 다층 프린트 배선판.
at least one stacked
A prepreg comprising a substrate and the resin composition for a printed wiring board according to any one of claims 1 to 11 impregnated or applied to the substrate, and
The resin sheet which has a support body and the resin composition for printed wiring boards in any one of Claims 1-11 laminated|stacked on the single side|surface or both surfaces of the support body.
A first insulating layer formed of at least one selected from the group consisting of
A prepreg comprising a substrate and the resin composition for a printed wiring board according to any one of claims 1 to 11 impregnated or applied to the substrate, and
The resin sheet which has a support body and the resin composition for printed wiring boards in any one of Claims 1-11 laminated|stacked on the single side|surface or both surfaces of the support body.
A plurality of insulating layers consisting of a second insulating layer formed of at least one selected from the group consisting of;
A multilayer printed wiring board having a plurality of conductor layers comprising a first conductor layer disposed between each of the plurality of insulating layers, and a second conductor layer disposed on the surface of an outermost layer of the plurality of insulating layers.
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