KR102402926B1

KR102402926B1 - 레올로지 조절용 조성물

Info

Publication number: KR102402926B1
Application number: KR1020167031423A
Authority: KR
Inventors: 다니엘라 로이트펠트; 마르크 에베르하르트; 레네 나겔스디크; 실비아 뷔네; 위르겐 오마이스; 야스민 루드너
Original assignee: 비와이케이-케미 게엠베하
Priority date: 2014-04-15
Filing date: 2015-02-11
Publication date: 2022-05-30
Also published as: CN106232698B; US10377906B2; CN106232698A; JP2017518398A; PL3131962T3; EP3131962B1; US20170240748A9; KR20160147811A; US20170044378A1; WO2015158407A1; EP3131962A1; JP6423000B2

Abstract

본 발명은 i) 15 내지 95 중량%의 아미드 화합물(A), ii) 5 내지 75 중량%의 우레아 화합물(B), iii) 0 내지 50 중량%의 이오노겐 화합물(C) 및 iv) 0 내지 35 중량%의 유기 용매(D)를 함유하는 레올로지 조절제에 관한 것이다.

Description

레올로지 조절용 조성물{COMPOSITION FOR RHEOLOGY CONTROL}

본 발명은 조성물 및 이의 용도, 및 상기 조성물을 함유하는 제제에 관한 것이다.

액체 시스템, 특히 액체 코팅 시스템의 레올로지를 조절하기 위하여, 유기적으로 개질된 벤토나이트, 실리카, 수소화된 피마자유 및 폴리아미드 왁스가 원칙적으로 사용된다.

이러한 유동 보조제의 사용에 대한 하나의 단점은 이들이 통상적으로 무수 고체의 형태로 이용가능한 것이다. 따라서, 결과적으로, 상기 유동 보조제는 세미피니싱(semifinishing)된 생성물을 형성하기 위하여 용매 및 전단력의 도움으로 사용 전에 분해되어야 한다. 다르게는, 유동 보조제는 또한, 분해되지 않은 채로, 표적화된 온도 조절에 의하여 이들을 액체 코팅 시스템에 도입함으로써 사용될 수 있다. 이러한 온도 조절이 표적 설정에 따라 일어나지 않는 경우, 전형적으로 미결정이 피니싱된 코팅 시스템에서 발생하고, 이들은 코팅제의 결함을 야기할 수 있다.

이러한 유동 보조제의 사용의 하나의 일반적인 단점은 이들이 깨끗하고 투명한 코팅제에서 흐림 및 헤이즈를 야기하는 것이다. 또한, 무수 분말 제품을 취급하는 것은, 이들이 가공 중에 더스트를 생성할 수 있으므로, 바람직하지 않다.

이러한 레올로지 조절제의 대안인 액체 적용례는 특정 우레아 화합물의 용액에 의해 제공된다. 이러한 용액이 종종 실무에서 사용되고, 예를 들어, 유럽특허공개 제1 188 779호에 기술되어 있다. 전형적인 용매 또는 담체 매질은 사실상 전형적인 용융된 염을 나타내는 극성/비양성자성 및/또는 소위 이온성 액체이고, 이는 중간 온도 조건(일반적으로 80℃ 미만, 이상적으로 실온) 하에 액체이다. 인정하건대, 용해된 우레아 화합물의 레올로지 조절 특성은 통상적으로 매우 양호하지만, 많은 경우, 더욱 최적화된 레올로지 조절 거동에 대한 요구가 존재한다. 최적의 거동은 개선된 유동 효능뿐만 아니라, 일부 경우에 적용례(예컨대, 결합제)와 관련된 제형에서의 개선된 상용성에서 종종 나타난다.

WO2011/091812호는 내화 코팅에서 우레아 화합물 및 아미드 화합물의 용도에 관한 것이다. 우레아 화합물 및 아미드 화합물은 상호 비상용성으로 인하여 서로 분리되어 내화 코팅에 투입되어야 하므로 코팅 제조자가 이들을 첨가제 혼합물로서 이용하지 못한다는 것이 단점이다.

따라서, 본 발명의 과제는 보편적 및 실용적으로 이용될 수 있고 질적으로 우수한 레올로지 조절제를 제공하는 것이다.

이 과제의 해결 수단은

i) 15 내지 95 중량%의 아미드 화합물(A),

ii) 5 내지 75 중량%의 우레아 화합물(B),

iii) 0 내지 50 중량%의 이오노겐 화합물(C) 및

iv) 0 내지 35 중량%의 유기 용매(D)

를 함유하는 조성물이며, 이때

상기 아미드 화합물(A)은 70 내지 600 g/mol의 몰질량을 가지며, 상기 아미드 화합물(A)은, 질소 원자에 수소가 결합된 최대 1개의 아미드기를 포함하고, 상기 아미드 화합물(A)은 우레아기, 인, 규소 및 할로겐을 갖지 않으며, 상기 아미드 화합물(A)은 하기 화학식 (I)로 나타내어지고:

[식 중,

Xx는 동일하거나 상이하고, 일반식 RzC(=O)-NRaRb (Xx1), RaC(=O)-NRzRb (Xx2) 및 RbC(=O)-NRzRa (Xx3) 중 하나에 따르며 Rz, Ra 및 Rb와 결합되는 아미드기 C(=O)-N이고,

Xy는 동일하거나 상이하고, 일반식 RzC(=O)-NRcRd (Xy1), RcC(=O)-NRzRd (Xy2) 및 RdC(=O)-NRzRc (Xy3) 중 하나에 따르며 Rz, Rc 및 Rd와 결합되는 아미드기 C(=O)-N이며,

Rz는 각각 동일하거나 상이하고, 헤테로원자를 함유하는 기로서 아미노기 및/또는 아미드기만을 함유할 수 있는, 분지 또는 비분지된 포화 또는 불포화 1 내지 32개의 탄소 원자를 갖는 탄화수소 라디칼이며,

Ra, Rb, Rc, 및 Rd는 각각 동일하거나 상이하고, 각각 서로 독립적으로, 수소 및/또는 분지 또는 비분지된 포화 또는 불포화 1 내지 16개의 탄소 원자를 함유하는 유기 라디칼이되, 단

Ra, Rb, Rc 및 Rd는 총 4개 이상의 탄소 원자를 갖고,

Ra, Rb, Rc 및 Rd 기에서 선택되는 잔기 중 최대 하나는 수소의 형태로 존재하며,

Ra 및 Rb 및/또는 Rc와 Rd는, Ra와 Rb 및/또는 Rc와 Rd에 결합하는 CO-N 기와 함께, 하기 화학식 (α-1)에 따르며 4 내지 10개의 고리 원자를 갖는 환을 형성할 수 있고/있거나:

,

Ra 및 Rb 및/또는 Rc와 Rd는, Ra와 Rb 및/또는 Rc와 Rd에 결합하는 N-원자와 함께, 하기 화학식 (ß-1)에 따르며 4 내지 7개의 고리 원자를 갖는 환을 형성할 수 있거나:

, 또는

Rb 및 Rc는 각각, Rb 및 Rc에 결합된 N-원자 및 Rz 잔기와 함께, 하기 화학식 (γ-1)에 따르며 5 내지 7개의 고리 원자를 갖는 환을 형성할 수 있고:

,

Ra, Rb, Rc, Rd 및 Rz는 총 최대 36개의 탄소 원자 및 N 및 O 군에서 선택되는 최대 8개의 헤테로원자를 가짐],

상기 우레아 화합물(B)은 적어도 350 g/mol의 분자량을 갖고 적어도 하나의 우레아기를 가지며,

상기 이오노겐 화합물(C)은 양이온성 및 음이온성 성분을 함유하고, 상기 아미드 화합물(A) 및 상기 우레아 화합물(B)과 상이하고,

상기 유기 용매(D)는 우레아기도 이온성 기도 함유하지 않고, 질소 및 산소로 이루어지는 군에서 선택되는 최대 2개의 헤테로 원자를 갖는다.

성분 (A), (B), (C) 및/또는 (D)는 각각 상이한 화학종의 형태로, 즉 혼합물로서 존재할 수 있다. 본 발명에 따른 조성물은 성분 (A), (B), (C) 및 (D) 외에 경우에 따라 다른 구성요소도 함유할 수 있다.

본 발명에 따른 관련 우레아 화합물(B)의 분자량은, 몰질량이 350 g/mol 미만인 우레아 화합물(B)은 일반적으로 레올로지 효과가 적거나 레올로지 효과가 전혀 없기 때문에, 저분자량 범위에서 한정된다. 이러한 350 g/mol 미만의 분자량을 갖는 저효과 또는 비효과 물질은 통상적으로 소정의 분자량을 갖는 특정 단량체 또는 저분자량 올리고머 화합물이어서, 이들 화합물은 일반적으로 분자 불균일성을 갖지 않기 때문에 중량 평균 분자량 또는 수 평균 분자량을 기재할 필요가 없다. 따라서, 필요에 따라 선택되는 350 g/mol의 하한은 화학종의 실제 분자량이고 예를 들어 NMR에 의해 구해질 수 있다.

우레아 화합물(B)의 분자량의 상한은, 우레아 화합물(B)과 레올로지 조절제의 다른 구성요소 및 우레아 화합물(B)이 사용되는 추후의 제제와의 상용성이 존재하는 한 중요하지 않다. 일반적인 상용성 한계는 통상 중합체 우레아 화합물(B)에 의해 도달되는데, 이 때문에 평균 분자량만이 기재될 수 있다. 통상 우레아 화합물(B)로서 60000 g/mol 미만의 중량 평균 분자량을 갖는 것이 적합하지만, 개개의 경우 해당 시스템에서 상용성이 보장되는 한 예를 들어 80000 또는 100000 g/mol과 같은 고분자량을 갖는 우레아 화합물도 사용될 수 있다. 상용성이 부족한 경우 당업자는 지체없이 중량 평균 분자량이 낮은 우레아 화합물(B)을 이용한다. 그러나, 100000 g/mol을 훨씬 넘는 중량 평균 분자량을 갖는 우레아 화합물(B)의 합성은 당업자에게 일반적인 문제가 아니다.

고분자량 범위에 대해서는 분자량 측정을 위한 NMR-분광분석 대신에 다른 방법이 바람직하다는 것은 당업자에게 공지이다. 1000 g/mol 초과의 몰질량을 갖는 우레아 화합물(B)의 중량 평균 분자량의 측정은, 이하의 개시에 따르면, 겔 투과 크로마토그래피(GPC)에 의해 측정된 몰질량 분포의 중량 평균으로서 이루어진다. GPC-몰질량 분포는 2008년 1월의 DIN 55672 2 파트에 따라 측정된다. 용리제로서 디메틸아세트아미드 중 브롬화리튬(함량 5 g/l) 용액이 사용된다. 눈금조정을 위해서는 1000000 내지 102 g/mol의 분자량을 갖는 협분산 선형 구조의 폴리메틸메타크릴레이트-표준이 사용된다. 전체 GPC-시스템(분사기, 샘플 분배기, 검출기 및 칼럼)의 온도는 80℃이다. 350 g/mol 내지 약 1000 g/mol의 우레아 화합물(B)의 중량 평균 몰질량은 해당 NMR-공명 신호의 적분을 고려하여 예를 들어 NMR에 의해 구해진다. 그러나, 본 발명에 따르면, 우레아 화합물(B)은 상기한 바와 같이 적어도 350 g/mol의 분자량을 가진다는 것만 보장되면 되므로 이 범위에서 측정 방법의 선택은 중요하지 않다.

따라서, 본 발명의 특히 바람직한 실시예에서 우레아 화합물(B)의 70 내지 100 중량%는 적어도 350 g/mol부터 최대 60000 g/mol까지의 분자량을 가진다.

본 발명에 따른 조성물은, 액상으로 제조될 수 있는, 도포하기 쉬운 제형이다. 최종 사용자(예컨대, 코트, 플라스틱 또는 접착제의 이용자 또는 제조자)는 더 적은 이용 오류 위험을 갖고 간단히 첨가제를 사용할 수 있다. 레올로지 효과 첨가제 성분 (A) 및 (B)가 혼합물로 존재하기 때문에, 보관자의 보관 비용이 감소하고((A) 및 (B)에 대하여 단 하나의 보관 장소), 더 적은 성분만 투여하면 되기 때문에 코팅 제조를 촉진시킬 수 있다. 본 발명에 따른 조성물은 양호한 보관 안정성 및 상이한 시스템에서(예컨대 상이한 유형의 결합제에서)의 보편적인 적용 가능성이 두드러진다.

본 발명에 따른 조성물은 특히 양호한 레올로지 효과를 보인다. 예를 들어 조성물의 레올로지 효과는 상응하는 코팅 제제의 겔 강도 또는 새그 내성(sag resistance)(새깅 한계)에 기초하여 측정될 수 있다. 또한, 본 발명에 따른 조성물은 적용되는 제제(예컨대 결합제)에서 광범위한 상용성(기준: 예컨대 제제에서 액적, 헤이징 및/또는 혼탁 형성)을 나타낸다.

레올로지 활성인 두 활성성분, 즉 아미드 화합물(A) 및 우레아 화합물(B)의 협력이 이론 용량 및 레올로지 조절제로서의 적합성에 결정적이다.

본 발명에 따른 조성물에는 앞서 기재한 성분 (A), (B), (C) 및 (D) 외에 이들 각각과 상이한 성분들도 함유될 수 있다. 실질적으로, 이들 성분(A, B, C 및 D 각각)과 상기 상이한 성분은 본 발명에 따른 조성물의 품질을 저하시키지 않는다. 상기한 저하는 (레올로지)첨가제로서의 적합성과 관련된다. 본 발명에 따른 조성물이 덜 비활성인 성분(예컨대 가교 반응을 일으킬 수 있는 작용기)을 지나치게 많은 비율로 갖는 경우, (예컨대 보관 안정성이 떨어지므로) 품질이 저하될 수 있다. 또한, 본 발명에 따른 조성물은 적용과 관련하여 용이하게 취급될 수 있어야 하고 첨가제로서 사용되기에 유용성이 없는 성분을 가능한 한 적게 함유하여야 한다. 이상에 근거하여 우선 A, B, C 및 D 각각과 상이한 성분에 관해 다음과 같이 기술한다:

- A, B, C 및 D 각각과 상기 상이한 성분은 본 발명에 따른 조성물 중에 바람직하게는 합계 최대 50 중량%까지, 특히 바람직하게는 최대 30 중량%까지, 매우 특히 바람직하게는 최대 20 중량%까지, 특별히 바람직하게는 최대 10 중량%까지로 함유된다. 다른 특정 실시형태에서 이것은 최대 5 중량%까지 및 최대 3 중량%까지로 함유된다. 다른 특히 바람직한 실시형태에서 상기 조성물은 실질적으로 A, B, C 및 D 각각과 상이한 성분을 함유하지 않는다.

- A, B, C 및 D 각각과 상기 상이한 성분은 총계로 바람직하게는 15 mg KOH/g 미만의 히드록실가(상응하는 히드록시기 함유 화학종이 존재하는 경우)를 가진다.

- A, B, C 및 D 각각과 상기 상이한 성분은 바람직하게는 소위 가교결합제로서 존재하지 않는다. 여기서 가교결합제는 예컨대 폴리이소시아네이트, 멜라민 수지와 같은 아미노 수지, 우레아-포름알데히드 수지 및 벤조구아나민 수지, 폴리아미드 및 폴리에폭시드이다.

- 본 발명에 따른 조성물은 바람직하게는 안료 및 고체 충전제를 함유하지 않는다.

- 본 발명에 따른 조성물은 바람직하게는 5 중량% 미만, 특히 바람직하게는 3 중량% 미만, 매우 특히 바람직하게는 1 중량% 미만의 물을 함유한다.

- 각각 성분 A, B, C 및 D에 포함되지 않고 800 g/mol 초과(바람직하게는 500 g/mol 초과)의 분자량을 갖는 본 발명에 따른 조성물의 유기 성분은, 바람직하게는 본 발명에 따른 조성물 중에 합계 최대 35 중량%의 중량 분율, 특히 바람직하게는 최대 8 중량%의 중량 분율을 가진다. 고분자량 성분은 통상 점도를 증가시키므로 조작성을 증가시킨다. 800 g/mol까지 (또는 500 g/mol까지)의 분자량을 갖는 성분의 몰질량은 해당 NMR-공명 신호의 적분을 고려하여 통상 NMR에 의해 구해진다. 특히 바람직한 실시형태에서 조성물은 800 g/mol 초과(바람직하게는 500 g/mol 초과)의 분자량을 갖는 이러한 추가의 성분을 실질적으로 포함하지 않는다.

본 발명의 한 실시양태에서, 본 발명에 따른 조성물은

i) 30 내지 90 중량%의 아미드 화합물(A),

ii) 8 내지 55 중량%의 우레아 화합물(B),

iii) 0 내지 15 중량%의 이오노겐 화합물(C) 및

iv) 2 내지 25 중량%의 유기 용매(D)

를 함유한다.

용매(D)의 존재는 경우에 따라 실용적이며, 흔히 별법으로 용매가 생략되기도 한다. 그래서, 이것은 일반적으로 아미드 화합물(A) 및 우레아 화합물(B)의 혼합물이 (경우에 따라 이오노겐 화합물(C)의 존재하에) 액체 또는 단일상 형태로 (D 없이) 제공되는 경우 적합하다.

더 높은 용매 분율은, 최종 적용에서 충분히 높은 농도의 레올로지 활성 성분 (A) 및 (B)를 얻기 위해 원치않게 더 많은 양의 해당 조성물을 적용 시스템에 도입하여야 한다는 것을 의미한다.

유기 용매는 특히 추후 (레올로지)첨가제로서의 사용을 고려하여 (특히 충분한 비활성 및 레올로지) 당업자가 선택한다. 상응하는 용매는 보통 최대 250 g/mol의 분자량을 가진다. 대개는 용매가 사용되므로, 최대 3종, 특히 바람직하게는 최대 2종의 서로 다른 용매를 사용하는 것이 바람직하다. 용매를 전혀 사용하지 않거나 최대 1종만의 용매를 사용하는 것이 매우 특히 바람직하다.

본 발명의 한 바람직한 실시양태에서, 본 발명에 따른 조성물은

(i) 40 내지 85 중량%의 아미드 화합물(A),

(ii) 15 내지 60 중량%의 우레아 화합물(B),

(iii) 0 내지 5 중량%의 이오노겐 화합물(C) 및

(iv) 0 내지 25 중량%의 유기 용매(D)

를 함유한다.

또한, A, B, C 및 D 각각과 상기 상이한 성분은 바람직하게는 본 발명에 따른 조성물 중에 합계로 0 내지 30 중량%의 분율로, 특히 바람직하게는 0 내지 20 중량%의 분율로, 매우 특히 바람직하게는 0 내지 10 중량%의 분율로, 특별히 바람직하게는 0 내지 5 중량%의 분율 또는 0 내지 3 중량%의 분율로 함유된다.

본 발명의 한 특히 바람직한 실시양태에서, 본 발명에 따른 조성물은

(i) 45 내지 82 중량%의 아미드 화합물(A),

(ii) 18 내지 55 중량%의 우레아 화합물(B),

(iii) 0 내지 4 중량%의 이오노겐 화합물(C) 및

(iv) 0 내지 10 중량%의 유기 용매(D)

를 함유한다.

본 발명의 한 매우 일반적인 실시양태에서, 본 발명에 따른 조성물은

(i) 50 내지 75 중량%의 아미드 화합물(A),

(ii) 25 내지 50 중량%의 우레아 화합물(B),

(iii) 0 내지 3 중량%의 이오노겐 화합물(C) 및

(iv) 0 내지 5 중량%의 유기 용매(D)

를 함유한다.

추가로 A, B, C 및 D 각각과 상이한 성분이 본 발명에 따른 조성물 중에 합계로 바람직하게는 0 내지 20 중량%의 분율로, 특히 바람직하게는 0 내지 10 중량%의 분율로, 매우 특히 바람직하게는 0 내지 5 중량%의 분율로, 특별히 바람직하게는 0 내지 3 중량%의 분율로 함유된다.

본 발명의 바람직한 실시형태에서, 아미드 화합물(A)의 50 내지 100 중량%는, 질소 원자에 수소가 결합된 아미드기를 갖지 않고, 아미드 화합물(A)의 50 내지 100 중량%는 또한, Ra, Rb, Rc 및 Rd 기로부터의 잔기 중 어느 것도 수소가 아닌 화학식 (I)로 나타내어진다.

흔히 상기 아미드 화합물(A)의 50 내지 100 중량%는 하기 화학식 (Ia)로 나타내어진다.

드물지 않게 아미드 화합물(A)의 50 내지 100 중량%는 화학식 (1a)로 나타내어지는데, 이때 Ra 및 Rb 및/또는 Rc와 Rd는, Ra와 Rb 및/또는 Rc와 Rd에 결합된 N-원자와 함께, 화학식 (ß-1)에 따르며 O 및 N으로 이루어지는 군에서 선택되는 최대 2개의 헤테로원자를 갖고 4 내지 7개의 고리 원자를 갖는 분지형 또는 비분지형 포화 또는 불포화 환을 형성한다.

상응하는 구조는 개략적으로 다음과 같을 수 있다:

또는

R-Ring1 및 R-Ring2는 일반적으로, 경우에 따라 치환기로서 에테르기를 포함하는, 4 내지 6개의 C-원자를 갖는 가교된 지방족 잔기로서 존재한다.

각각의 아미드 화합물(A)의 제조는 구조 유형에 따라 공지된 유기 화학 방법에 의거하여 이루어진다. 상기 구조 유형의 제조는 편의상 디카르복실산 또는 상응하는 더 고급 작용성의 카르복실산에서 출발하여 적합한 아민과의 반응을 통해 이루어진다. 상응하는 카르복실산에 대한 대체로서 그 반응성 유도체(예컨대, 무수물, 할로겐화물 또는 에스테르)도 아미드화를 위해 상응하는 아민과 반응될 수 있다. 가능한 합성 경로는 상응하는 카르복실산과 염화티오닐을 반응시켜 산 염화물을 얻는 것(일반 조건: 60℃에서 5 시간, 경우에 따라 염화티오닐은 과량으로 사용되고 반응 후 증류 제거됨), 물을 포함하지 않는 유기 용매(예컨대 톨루엔)에의 용해 및 거기서 일어나는 산 염화물과 적합한 아민의 반응(일반 조건: 0℃에서 반응 개시 및 6 시간 이내에 실온으로 가온)으로 이루어진다. 후속되는 정제는 예컨대 증류로 수행될 수 있다.

유형 (Ib)(이하 참조)의 화합물의 제조는 바람직하게는 상응하는 환식 아민, 예컨대 피페리딘, 피롤리딘 또는 모르폴린의 사용에 의해 이루어진다. 상응하는 아미드의 제조는 예를 들어 US 3,417,114호에 개시되어 있다. 또한, 모노카르복실산의 산 아미드의 제조에 이용될 수 있는 제조 방법도 마찬가지로 디카르복실산 및 더 고급 작용성 카르복실산의 산 아미드의 제조에 전용된다: 상응하는 제조 방법은 예컨대 US 2,667,511호, US 3,288,794호, US 3,751,465호 또는 US 3,674,851호에 개시되어 있다.

추가의 실시형태에서, 아미드 화합물(A)의 50 내지 100 중량%는, Ra, Rb, Rc 및/또는 Rd가 각각 환에 포함되어 있지 않은 화학식 (1a)로 나타내어진다.

본 발명의 다른 변형예에 따르면 아미드 화합물(A)의 50 내지 100 중량%의 화학식 (I)은 하기 화학식 (Ib)로 나타내어진다:

(Ib).

특정 실시형태에서, 아미드 화합물(A)의 50 내지 100 중량%의 화학식 (I)은 하기 화학식 (Ib)로 나타내어지며, 이때 Rb 및 Rc는, 각각 Rb 및 Rc에 결합되는 N-원자 및 Rz 잔기와 함께, 화학식 (γ-1)에 따르며 O 및 N으로 이루어지는 군에서 선택되는 최대 2개의 헤테로원자를 갖고 5 내지 7개의 고리 원자를 갖는 분지 또는 비분지된 포화 또는 불포화 환을 형성한다.

이 경우, 특히 바람직하게는 피페라진과 상응하는 카르복실산 (또는 이의 반응 유도체)의 반응에 의해 수득되는, 6개의 고리 원자를 갖는 환이 바람직하다:

다른 실시형태에서, 아미드 화합물(A)의 50 내지 100 중량%의 화학식 (I)은 화학식 (Ib)로 나타내어지며, 이때 Ra 및 Rb 및/또는 Rc와 Rd는, Ra와 Rb 및/또는 Rc와 Rd에 결합하는 CO-N 기와 함께, 화학식 (α-1)에 따르며 O 및 N으로 이루어지는 군에서 선택되는 최대 2개의 헤테로원자를 갖고 4 내지 10개의 고리 원자를 갖는 분지 또는 비분지된 포화 또는 불포화 환을 형성한다.

예시적으로 이것은 이하의 두 구조에 의해 명시된다:

흔히 Rz 잔기는 C2- 내지 C6-알킬렌 라디칼 또는 시클로헥실렌 라디칼 또는 크실릴렌 라디칼(-CH₂-C₆H₄-CH₂-)이다.

흔히 R-Ring3 및 R-Ring4는 -(CH₂)₃-로서 및/또는 -(CH₂)₄-로서 존재한다.

특히 일반적으로 R-Ring3 및 R-Ring4는 각각 -(CH₂)₃-로서 존재한다.

각각의 아미드 화합물(A)의 제조는 구조 유형에 따라 공지된 유기 화학 방법에 의거하여 이루어진다. 예를 들어 알킬렌디아민, 아릴렌디아민 및 알킬아릴렌디아민 또는 (폴리)에테르디아민(R이 추가의 아미노기 또는 아미드기를 갖지 않는 경우) 또는 상응하는 고급 작용성 폴리아민(R이 추가의 아미노기 또는 아미드기를 갖는 경우)과, 상응하는, 경우에 따라 치환된 카르복실산 또는 그 유도체(예컨대, 할로겐화물, 무수물, 에스테르, 및 에스테르의 특별한 경우로서 또한 락톤)의 반응에 의해 이루어진다. 다른 유형 구조는 바람직하게는 상응하는 디아민 또는 폴리아민과 상응하는 락톤의 반응에 의해서 제조된다. 다른 유형의 제조는 예컨대 US 5,326,880호, US 3,989,815호 및 US 6,497,886호에 개시되어 있다.

아미드 화합물(A)의 레올로지 효과는 우레아 화합물(B)이 존재함으로써 유의적으로 증가된다.

흔히 우레아 화합물(B)의 70 내지 100 중량%는 적어도 2개의 우레아기 또는 적어도 1개의 우레아기 및 적어도 1개의 우레탄기를 가진다.

하나의 실시양태에서, 우레아 화합물(B)의 50 내지 100 중량%는 하기 화학식 II의 형태로 존재한다:

[화학식 II]

상기 식에서,

R³¹ 및 R³²는 각각의 경우에 동일하거나 상이하고, 각각의 경우에 서로 독립적으로, 1 내지 100개의 탄소 원자를 함유하는 분지형 또는 비분지형 포화 또는 불포화 유기 라디칼(각각의 경우에 1개 이하의 우레아 기 및 1개 이하의 우레탄 기를 가짐)이고;

R³³ 및 R³⁴는 각각의 경우에 서로 독립적으로, 동일하거나 상이하고, 각각의 경우에 1 내지 300개의 탄소 원자 및 선택적으로 에터 라디칼을 함유하는 분지형 또는 비분지형 폴리에스터 라디칼, 2 내지 300개의 탄소 원자를 함유하는 분지형 또는 비분지형 폴리에터 라디칼, 1 내지 300개의 탄소 원자를 함유하는 분지형 또는 비분지형 폴리아미드 라디칼, 3 내지 100개의 규소 원자를 함유하는 폴리실록산 라디칼, 분지형 또는 비분지형 C₂-C₂₂ 알킬렌 라디칼, 분지형 또는 비분지형 C₃-C₁₈ 알케닐렌 라디칼, C₅-C₁₂ 아릴렌 라디칼 및/또는 분지형 또는 비분지형 C₇-C₂₂ 아릴알킬렌 라디칼이고;

Z 및 W는 각각의 경우에 동일하거나 상이하고, 각각의 경우에 서로 독립적으로, NH-CO-O 및/또는 NH-CO-NH이고;

n은 각각의 경우에 동일하거나 상이하고, 1 내지 150, 바람직하게는 2 내지 120이다.

본 발명의 특별한 양태에서, 우레아 화합물(B)의 50 내지 100 중량%는 각각의 경우에 2,000 내지 55,000의 몰 질량 및 4 내지 150개의 우레아 기를 갖는다.

본 발명의 전형적인 양태에서, 우레아 화합물(B)의 50 내지 100 중량%는 각각의 경우에 하기 화학식 IIIa, IIIb, IIIc 및 IIId로 이루어진 군으로부터 선택되는 하나의 화학식에 따른 형태로 존재한다:

[화학식 IIIa]

[화학식 IIIb]

[화학식 IIIc]

[화학식 IIId]

상기 식에서,

AM은 동일하거나 상이하고, 2 내지 50개의 탄소 원자를 갖는 선형 또는 분지형 포화 또는 불포화 지방족, 방향족 또는 지방족-방향족 유기 라디칼이고;

AM1 및 AM2는 각각의 경우에 동일하거나 상이하고, 각각의 경우에 서로 독립적으로, 1 내지 50개의 탄소 원자를 갖는 선형 또는 분지형 포화 또는 불포화 지방족, 방향족 또는 지방족-방향족 유기 라디칼이고;

IC1 및 IC2는 각각의 경우에 동일하거나 상이하고, 각각의 경우에 서로 독립적으로, 2 내지 40개의 탄소 원자를 갖는 선형 또는 분지형 포화 또는 불포화 지방족, 방향족 또는 지방족-방향족 탄화수소 라디칼이고;

IC3은 동일하거나 상이하고, 2 내지 24개의 탄소 원자를 갖는 선형 또는 분지형 포화 또는 불포화 지방족, 방향족 또는 지방족-방향족 탄화수소 라디칼이고;

RP1 및 RP2는 각각의 경우에 동일하거나 상이하고, 각각의 경우에 서로 독립적으로, 1 내지 24개의 탄소 원자를 갖는 선형 또는 분지형 포화 또는 불포화 지방족, 방향족 또는 지방족-방향족 유기 라디칼, 및/또는 1 내지 120개의 에터 산소 원자를 갖는 폴리에터 라디칼, 및/또는 선택적으로 에터 기를 함유하고 1 내지 100개의 에스터 기를 갖는 폴리에스터 라디칼, 및/또는 1 내지 100개의 아미드 기를 갖는 폴리아미드 라디칼, 및/또는 3 내지 100개의 규소 원자를 갖는 폴리실록산 라디칼이고;

RP3은 동일하거나 상이하고, 2 내지 24개의 탄소 원자를 갖는 선형 또는 분지형 포화 또는 불포화 지방족, 방향족 또는 지방족-방향족 탄화수소 라디칼, 및/또는 1 내지 120개의 에터 산소 원자를 갖는 폴리에터 라디칼, 및/또는 1 내지 100개의 아미드 기를 갖는 폴리아미드 라디칼, 및/또는 3 내지 100개의 규소 원자를 갖는 폴리실록산 라디칼, 및/또는 선택적으로 에터 기를 함유하고 1 내지 100개의 에스터 기를 갖는 폴리에스터 라디칼이고;

p는 동일하거나 상이하고, 0 및/또는 1이다.

이때, 바람직하게는 우레아 화합물(B)의 70 내지 100 중량%는 각각의 경우에 화학식 IIIa, IIIb, IIIc 및 IIId로 이루어진 군으로부터 선택되는 하나의 화학식을 갖고;

AM은 동일하거나 상이하고,

(CH₂)_q

로 이루어진 군으로부터 선택되고;

R_x 및 R_y는 동일하거나 상이하고, 각각의 경우에 독립적으로 CH₃ 및/또는 수소이고;

q는 동일하거나 상이하고, 2 내지 12의 정수이고;

AM1 및 AM2는 각각의 경우에 동일하거나 상이하고, n-프로필, 이소프로필, 부틸, 이소부틸, tert-부틸, 로릴, 올레일, 스테아릴, 폴리이소부틸렌, 2 내지 40개의 에터 산소 원자를 갖는 폴리에터, 벤질, 메틸벤질, 사이클로헥실, 카복시알킬, 하이드록시알킬 및 알킬알콕시실란으로 이루어진 군으로부터 선택되고;

IC1 및 IC2는 각각의 경우에 동일하거나 상이하고,

로 이루어진 군으로부터 선택되고;

IC3은 동일하거나 상이하고, 메틸, 에틸, 페닐, 벤질, 사이클로헥실 및 스테아릴로 이루어진 군으로부터 선택되고;

RP1 및 RP2는 각각의 경우에 동일하거나 상이하고, 분지형 또는 비분지형 C₁-C₁₈알킬, 올레일, 벤질, 알릴, 바람직하게는 에틸렌 옥사이드, 프로필렌 옥사이드 및/또는 부틸렌 옥사이드의 구조 단위를 함유하는 폴리에터 라디칼, 및 ε-카프로락톤 및/또는 δ-발레로락톤의 구조 단위를 함유하는 폴리에스터 라디칼로 이루어진 군으로부터 선택되고;

RP3은 동일하거나 상이하고, 선형 또는 분지형 C₁-C₁₈ 알킬, 선형 또는 분지형 C₂-C₁₈ 알케닐, 바람직하게는 에틸렌 옥사이드, 프로필렌 옥사이드 및/또는 부틸렌 옥사이드의 구조 단위를 함유하고 1 내지 25개의 에터 산소 원자를 갖는 폴리에터로 이루어진 군으로부터 선택된다.

특별한 양태에서, 우레아 화합물(B)의 70 내지 100 중량%는 각각의 경우에 이소시아누레이트 및/또는 우레트다이온 형성에 의해 올리고머화된 이소시아네이트를 일작용성 아민과 반응시킴으로써 제조된다.

본 발명의 특별한 양태에서, 우레아 화합물(B)의 95 내지 100 중량%, 바람직하게는 98 내지 100 중량%는 각각의 경우에 하나 이상의 하기 화학식 IVa의 부분을 함유하고, 각각의 경우에 하기 화학식 IVb의 분자 부분을 함유하지 않는다:

[화학식 IVa]

[화학식 IVb]

상기 식에서,

Y₁은 동일하거나 상이하고, 6 내지 20개의 탄소 원자를 함유하는 분지형 또는 비분지형 포화 또는 불포화 탄화수소 라디칼이고;

Y₂는 동일하거나 상이하고, 6 내지 20개의 탄소 원자를 함유하는 분지형 또는 비분지형 포화 또는 불포화 탄화수소 라디칼이다.

우레아 화합물(B)의 제조는 상응하는 이소시아네이트를 아민과 반응시킴으로써, 공지된 방식으로 수행될 수 있다. 이러한 우레아 화합물의 제조 방법은, 예를 들어, 유럽특허 제0 006 252호, 독일특허 제2822908호, 제10241853호, 제19919482호 및 제1188779호, 및 독일특허공개 제10 2008 059702호에 더욱 상세히 기술되어 있다. 특히 보다 높은 몰 질량의 폴리우레아 화합물의 제조는, 예를 들어, 유럽특허 제2 292 675호에 기술되어 있다.

본 발명의 한 실시형태에서, 본 발명에 따른 조성물은 이오노겐 화합물(C)을 함유한다. 이것은 대부분 염의 형태로, 바람직하게는 리튬-, 칼슘- 또는 마그네슘 염으로서, 특히 바람직하게는 리튬- 또는 칼슘 염으로서 존재한다. 음이온(카운터이온)으로서는 바람직하게는 할로겐화물, 유사할로겐화물, 포름산염, 아세트산염 및/또는 질산염, 특히 바람직하게는 염화물, 아세트산염 및/또는 질산염이다. 본 발명의 의미에서 유기 용매가 아닌 소위 이온성 액체도 이오노겐 화합물(C)에 포함된다.

본 발명의 한 실시형태에서 본 발명에 따른 조성물은 0.5 내지 4.0 중량%의 이오노겐 화합물(C)을 함유하며, 여기서 이오노겐 화합물(C)의 50 내지 100 중량%는 리튬- 또는 칼슘 염으로서, 바람직하게는 그 염화물, 아세트산염 및/또는 질산염으로서 존재한다.

본 발명 따른 조성물은 액체 시스템 또는 액체 혼합물의 바람직하게는 레올로지 조절, 특히 요변성에 적합하다.

이 액체 혼합물은 바람직하게는 코팅으로서, 특히 페인트 또는 바니시로서, 플라스틱 제제로서, 안료 페이스트로서, 씰링 제제로서, 화장품으로서, 세라믹 제제로서, 접착 제제로서, 캐스팅 화합물로서, 건축재 제제로서, 윤활제로서, 충전용 화합물로서, 인쇄 잉크로서 또는 액체 잉크로서(예컨대 잉크젯 잉크로서) 존재한다. 분무 공정에서 이동 감소 또는 이동 방지를 위한 보조제(소위 "표류 감소/증착 보조제")로서의 추가의 용도가 가능하다.

본 발명 따른 조성물은 액체 혼합물의 레올로지 조절, 특히 요변성에 적합하다.

본 발명은 또한 액체 혼합물의 레올로지 조절, 특히 요변성을 위한 본 발명에 따른 조성물의 용도에 관한 것이다.

상기 액체 혼합물은 코팅으로서, 특히 페인트 또는 바니시로서, 플라스틱 제제로서, 안료 페이스트로서, 씰링 제제로서, 화장품으로서, 세라믹 제제로서, 접착 제제로서, 캐스팅 화합물로서, 시추 유체로서, 건축재 제제로서, 윤활제로서, 충전용 화합물로서, 인쇄 잉크로서 또는 액체 잉크로서 존재할 수 있다.

마지막으로, 본 발명은, 0.1 내지 7.5 중량%의 본 발명에 따른 조성물이 첨가되는 제제로서, 페인트, 플라스틱 제형, 안료 페이스트, 밀봉제 제형, 화장품, 세라믹 제형, 접착제 제형, 포팅 조성물, 건설 재료 제형, 윤활제, 퍼티, 프린터용 잉크 또는 잉크로서 존재하는 제제에 관한 것이다.

페인트, 프린트용 잉크, 잉크(예컨대, 잉크젯 잉크), 플라스틱 제형, 화장품 제제, 건설 재료 제형, 윤활제 및/또는 접착제의 레올로지를 조절하기 위한, 레올로지 조절 물질, 바람직하게는 요변성화제로서 본 발명에 따른 조성물의 용도가 특히 바람직하다.

페인트, 프린터용 잉크 및 (잉크젯) 잉크는 용매계, 무용매 또는 수계 페인트, 프린터용 잉크 및 잉크젯 잉크일 수 있다. 페인트는 매우 다양한 적용 영역, 예컨대 자가용 페인트, 건설 페인트, 보호 페인트(예컨대, 배 및 교량의 페인팅), 캔 및 코일 페인트, 목재 및 가구 페인트, 산업용 페인트, 플라스틱 페인트, 와이어 페인트, 식품 및 종자 물질용 코팅제, 및 소위 칼라 레지스츠(Color Resists)(예컨대, LC 디스플레이에서 칼라 필터에 사용됨)의 영역에 사용될 수 있다. 페인트의 적용 영역은 또한 대체로 매우 높은 고체 분획 및 낮은 액체 성분 분획을 갖는 페이스트-형 물질, 예컨대 소위 안료 페이스트, 또는 미분된 금속 입자 또는 금속 분말(예를 들어, 은, 구리, 아연, 알루미늄, 청동, 황동)을 기제로 하는 페이스트를 포함할 수 있다.

플라스틱 제형은 바람직하게는 화학 가교 공정(듀로머로의 "경화")에 의해 전환되는 플라스틱을 제조하기 위한 (액체) 출발 물질일 수 있다. 따라서, 바람직한 플라스틱 제제는 불포화된 폴리에스터 수지, 비닐 에스터 수지, 아크릴레이트 수지, 에폭시 수지, 폴리우레탄 수지, 폼알데하이드 수지(예컨대, 멜라민-폼알데하이드 또는 우레아-폼알데하이드)이다. 이들은 매우 다양한 조건 하에, 예를 들어 실온에서(저온 경화 시스템) 또는 고온에서(고온 경화 시스템), 선택적으로 또는 압력의 적용 하에("밀폐된 주형" 적용, 시트 조형 화합물 또는 벌크 조형 화합물) 경화될 수 있다. 바람직한 플라스틱 제형은 또한 PVC 플라스티졸을 포함한다.

화장품 제제는 소위 퍼스널 케어 또는 헬스 케어 영역, 예를 들어 로션, 크림, 페이스트(예컨대, 치약), 포말(예컨대, 면도 폼), 겔(예컨대, 면도 겔, 샤워 겔, 겔 제형의 의학적 활성 성분), 두발 샴푸, 액체 비누, 네일 페인트, 립스틱, 두발 염색약에 사용되는 다양한 액체 조성물을 포함할 수 있다.

건설 재료 제형은 가공 시 액체 또는 페이스트-형이고, 건설 분야에 사용되고 경화 후 고체화되는 물질, 예를 들어 유압식 결합제, 예컨대 콘크리트, 세멘트, 모르타르, 타일 접착제, 석고를 포함할 수 있다.

윤활제는 윤활, 예컨대 마찰 및 연마의 감소, 및 송전, 냉각, 진동 감쇠, 및봉 및 부식 보호를 위해 사용되는 약품이고, 이때 액체 윤활제 및 윤활 그리스가 바람직하다. 마찰방지제 및 드릴용 유체(예컨대, 석유 생산에 사용되는 것)가 또한 윤활제의 정의에 포함된다.

접착제는, 연결될 부분들이 표면 부착 및 내부 강도에 의해 연결될 수 있는 공정 재료의 조건 하에서 임의의 액체일 수 있다. 접착제는 용매계, 무용매 또는 수계일 수 있다.

이하 본 발명을 실시예에 기초하여 더 상세히 설명한다.

이하의 실시예에서 아민가는 DIN 16945에 따라 측정되었다. 유사하게 OH가는 DIN / ISO 4629에 따라 측정되었다.

이하의 시판되는 원료 물질을 사용하였다:

실시예 1b:

반응 용기(교반기, 환류 냉각기, 수분 분리기 및 적하 깔때기를 구비하는 둥근바닥 플라스크)에 질소 분위기하 60℃에서 412.5 g(2.48 mol)의 헥사메틸렌 디아민을 70% 수계 용액의 형태로 넣었다. 교반하에 60분 이내에 430.0 g(5.0 mol)의 부티로락톤을 적가하였다. 발열 반응에 의해 온도가 90℃로 상승하였다. 이어서 0.4 g의 p-톨루엔술폰산을 첨가하였다.

그 후 20분간 약 10℃의 온도 구배에 의해 온도가 170℃까지 상승되었다. 이후 250℃의 최종 온도로 가열하고 18.5 시간 동안 유지하였다. 전체 반응 시간 동안 증류에 의해 반응 혼합물로부터 반응수를 제거하였다. 반응 생성물은 15.4 mg KOH/g의 아민가를 갖는 황색의 약간 점성의 액체이다.

잔존 반응물의 제거를 위해, 120℃ 및 1 mbar 미만에서 박막 증발기를 이용하여 증류에 의해 반응 생성물을 정제하였다. 이후 아민가는 1 mg KOH/g 미만이 되었다.

실시예 2b:

반응 용기(교반기, 환류 냉각기, 수분 분리기 및 적하 깔때기를 구비하는 둥근바닥 플라스크)에 질소 분위기하 60℃에서 42.0 g(0.7 mol)의 에틸렌 디아민을 넣었다. 교반하에 45분 이내에 132.6 g(1.54 mol)의 부티로락톤을 적가하였다. 발열 반응에 의해 온도가 140℃로 상승하였다.

그 후 45분간 약 10℃의 온도 구배에 의해 온도가 250℃까지 상승되었다. 이 최종 온도를 9 시간 동안 유지하였다. 전체 반응 시간 동안 증류에 의해 반응 혼합물로부터 반응수를 제거하였다. 최종 생성물은 결정질이다.

실시예 3b:

반응 용기(교반기, 환류 냉각기, 수분 분리기 및 적하 깔때기를 구비하는 둥근바닥 플라스크)에 질소 분위기하 60℃에서 74.1 g(1.0 mol)의 1,3-프로판디아민을 넣었다. 교반하에 75분 이내에 189.4 g(2.2 mol)의 부티로락톤을 적가하였다. 발열 반응에 의해 온도가 120℃로 상승하였다. 이어서 0.4 g의 p-톨루엔술폰산을 첨가하였다.

그 후 45분간 약 10℃의 온도 구배에 의해 온도가 250℃까지 상승되었다. 이 최종 온도를 9 시간 동안 유지하였다. 전체 반응 시간 동안 증류에 의해 반응 혼합물로부터 반응수를 제거하였다. 반응 생성물은 4.0의 히드록실가를 가졌다.

실시예 4b:

반응 용기(교반기, 환류 냉각기, 수분 분리기 및 적하 깔때기를 구비하는 둥근바닥 플라스크)에 질소 분위기하 60℃에서 37.1 g(0.5 mol)의 1,2-프로판 디아민을 넣었다. 교반하에 40분 이내에 94.7 g(1.1 mol)의 부티로락톤을 적가하였다. 발열 반응에 의해 온도가 110℃로 상승하였다.

실시예 5b:

반응 용기(교반기, 환류 냉각기, 수분 분리기 및 적하 깔때기를 구비하는 둥근바닥 플라스크)에 질소 분위기하 60℃에서 64.9 g(0.73 mol)의 1,4-디아미노부탄을 넣었다. 교반하에 30분 이내에 69.7 g(0.81 mol)의 부티로락톤을 적가하였다. 발열 반응에 의해 온도가 100℃로 상승하였다.

실시예 6b:

반응 용기(교반기, 환류 냉각기, 수분 분리기 및 적하 깔때기를 구비하는 둥근바닥 플라스크)에 질소 분위기하 100℃에서 72.1 g(0.5 mol)의 용융된 1,8-옥타메틸렌디아민을 넣었다. 교반하에 20분 이내에 94.7 g(1.1 mol)의 부티로락톤을 적가하였다. 발열 반응에 의해 온도가 160℃로 상승하였다.

그 후 45분간 약 10℃의 온도 구배에 의해 온도가 250℃까지 상승되었다. 이 최종 온도를 12 시간 동안 유지하였다. 전체 반응 시간 동안 증류에 의해 반응 혼합물로부터 반응수를 제거하였다. 최종 생성물은 액상이다.

실시예 7b:

반응 용기(교반기, 환류 냉각기, 수분 분리기 및 적하 깔때기를 구비하는 둥근바닥 플라스크)에 질소 분위기하 80℃에서 84.1 g(0.42 mol)의 용융된 도데칸디아민을 넣었다. 교반하에 20분 이내에 79.5 g(0.92 mol)의 부티로락톤을 적가하였다. 발열 반응에 의해 온도가 135℃로 상승하였다.

그 후 20분간 약 10℃의 온도 구배에 의해 온도가 250℃까지 상승되었다. 이 최종 온도를 11 시간 동안 유지하였다. 0.4 g의 p-톨루엔술폰산을 첨가하였다. 전체 반응 시간 동안 증류에 의해 반응 혼합물로부터 반응수를 제거하였다. 최종 생성물은 액상이다. 밝은 적색의 고체이다.

실시예 8b:

반응 용기(교반기, 환류 냉각기, 수분 분리기 및 적하 깔때기를 구비하는 둥근바닥 플라스크)에 질소 분위기하 30℃에서 68.1 g(0.5 mol)의 m-크실릴렌디아민을 넣었다. 교반하에 10분 이내에 94.1 g(1.1 mol)의 부티로락톤을 적가하였다. 혼합물을 먼저 100℃로 가열한 후 20분간 약 10℃의 온도 구배에 의해 온도를 상승시켰다. 120℃에서 발열 반응을 확인할 수 있었다. 온도가 170℃로 상승하였다. 그 후 다시 20분간 약 10℃의 온도 구배에 의해 온도를 250℃까지 상승시키고 7 시간 동안 유지하였다. 0.4 g의 p-톨루엔술폰산을 첨가하고 다시 6 시간 250℃에서 교반하였다.

전체 반응 시간 동안 증류에 의해 반응 혼합물로부터 반응수를 제거하였다. 반응 생성물은 아민가가 0.6 mg KOH/g인 고점성의 오렌지색 액체이다.

실시예 9b:

반응 용기(교반기, 환류 냉각기, 수분 분리기 및 적하 깔때기를 구비하는 둥근바닥 플라스크)에 질소 분위기하 30℃에서 57.1 g(0.5 mol)의 1,2-디아미노시클로헥산을 넣었다. 교반하에 10분 이내에 94.1 g(1.1 mol)의 부티로락톤을 적가하였다. 20분간 약 10℃의 온도 구배에 의해 온도를 상승시켰다. 90℃에서 발열 반응을 확인할 수 있었다. 온도가 104℃로 상승하였다. 그 후 다시 20분간 약 10℃의 온도 구배에 의해 온도를 250℃까지 상승시키고 6 시간 동안 유지하였다. 0.4 g의 p-톨루엔술폰산을 첨가하고 다시 6 시간 250℃에서 교반하였다. 전체 반응 시간 동안 증류에 의해 반응 혼합물로부터 반응수를 제거하였다. 최종 생성물은 고체이다.

실시예 10b:

반응 용기(교반기, 환류 냉각기, 수분 분리기 및 적하 깔때기를 구비하는 둥근바닥 플라스크)에 질소 분위기하 30℃에서 68.1 g(0.4 mol)의 이소포론디아민을 넣었다. 교반하에 10분 이내에 75.8 g(0.88 mol)의 부티로락톤을 적가하였다. 혼합물을 먼저 100℃로 가열한 후 20분간 약 10℃의 온도 구배에 의해 온도를 상승시켰다. 120℃에서 발열 반응을 확인할 수 있었다. 온도가 160℃로 상승하였다. 그 후 다시 20분간 약 10℃의 온도 구배에 의해 온도를 250℃까지 상승시키고 6 시간 동안 유지하였다. 0.4 g의 p-톨루엔술폰산을 첨가하고 다시 6 시간 250℃에서 교반하였다.

전체 반응 시간 동안 증류에 의해 반응 혼합물로부터 반응수를 제거하였다. 반응 생성물은 아민가가 15.6 mg KOH/g인 액체이다.

실시예 11b:

반응 용기(교반기, 환류 냉각기, 수분 분리기 및 적하 깔때기를 구비하는 둥근바닥 플라스크)에 질소 분위기하 30℃에서 92.0 g(0.4 mol)의 폴리에테르디아민(Huntsman사의 Jeffamine D230)을 넣었다. 교반하에 10분 이내에 75.8 g(0.88 mol)의 부티로락톤을 적가하였다. 20분간 약 10℃의 온도 구배에 의해 온도를 250℃로 상승시키고 6 시간 동안 이 온도에서 유지하였다. 0.4 g의 p-톨루엔술폰산을 첨가하고 다시 6 시간 250℃에서 교반하였다.

전체 반응 시간 동안 증류에 의해 반응 혼합물로부터 반응수를 제거하였다. 최종 생성물은 아민가가 6 mg KOH/g인 약간 점성의 액체이다.

실시예 12b:

반응 용기(교반기, 환류 냉각기, 수분 분리기 및 적하 깔때기를 구비하는 둥근바닥 플라스크)에 질소 분위기하 30℃에서 120.0 g(0.3 mol)의 폴리에테르디아민(Huntsman사의 Jeffamine D400)을 넣었다. 교반하에 10분 이내에 56.8 g(0.66 mol)의 부티로락톤을 적가하였다. 20분간 약 10℃의 온도 구배에 의해 온도를 250℃로 상승시키고 6 시간 동안 이 온도에서 유지하였다. 0.4 g의 p-톨루엔술폰산을 첨가하고 다시 6 시간 250℃에서 교반하였다. 전체 반응 시간 동안 증류에 의해 반응 혼합물로부터 반응수를 제거하였다. 최종 생성물은 아민가가 7.7 mg KOH/g인 약간 점성의 액체이다.

실시예 13b:

반응 용기(교반기, 환류 냉각기, 수분 분리기 및 적하 깔때기를 구비하는 둥근바닥 플라스크)에 질소 분위기하 80℃에서 200.0 g(0.1 mol)의 폴리에테르디아민(Huntsman사의 Jeffamine D2000)을 넣었다. 교반하에 10분 이내에 18.9 g(0.22 mol)의 부티로락톤을 적가하였다. 20분간 약 10℃의 온도 구배에 의해 온도를 200℃로 상승시키고 6 시간 동안 이 온도에서 유지하였다. 0.4 g의 p-톨루엔술폰산을 첨가하고 다시 6 시간 250℃에서 교반하였다. 전체 반응 시간 동안 증류에 의해 반응 혼합물로부터 반응수를 제거하였다. 최종 생성물은 아민가가 6.5 mg KOH/g인 점성 액체이다.

실시예 14b:

반응 용기(교반기, 환류 냉각기, 수분 분리기 및 적하 깔때기를 구비하는 둥근바닥 플라스크)에 질소 분위기하 80℃에서 81.7 g(0.39 mol)의 4,9-디옥사데칸-1,2-디아민을 넣었다. 교반하에 10분 이내에 75.7 g(0.87 mol)의 부티로락톤을 적가하였다. 20분간 약 10℃의 온도 구배에 의해 온도를 200℃로 상승시키고 6 시간 동안 이 온도에서 유지하였다. 0.4 g의 p-톨루엔술폰산을 첨가하고 다시 6 시간 250℃에서 교반하였다. 전체 반응 시간 동안 증류에 의해 반응 혼합물로부터 반응수를 제거하였다. 최종 생성물은 아민가가 3.5 mg KOH/g인 약간 점성의 액체이다.

실시예 15b:

반응 용기(교반기, 적하 깔때기 및 환류 냉각기를 구비하는 둥근바닥 플라스크)에 질소 분위기하에 315.0 g(1.9 mol)의 글루타르산 디메틸 에스테르 및 508.0 g(3.8 mol)의 디부틸아민을 넣었다. 반응 혼합물을 100℃에서 2 시간 교반하였다. 이어서, 수분 분리기를 장치에 연결하고 온도를 170℃로 상승시켰다. 이 때 200 g의 메탄올이 분리되었다. 반응 시간 종료 후 반응 혼합물은 아민가가 73 mg KOH/g이었다.

남은 반응물의 분리를 위해 반응 생성물을 박막 증발기를 이용하여 증류에 의해 120℃에서 1 mbar 미만에서 정제하였다. 그 후 아민가는 4.5 mg KOH/g이 되었다.

실시예 16b:

교반기, 온도계 및 수분 분리기를 구비하는 4구 플라스크에서 84.0 g의 펜탄산-5-(디메틸아미노)-2-메틸-5-옥소-메틸에스테르(0.449 mol) 및 116.0 g의 디부틸아민(0.898 mol)을 교반하에 150℃로 가온한다. 생성되는 메탄올을 수분 분리기에서 분리한다. 혼합물을 이 온도에서 16 시간 동안 가열한다. 이어서 170℃로 가온하고 2 시간 동안 0.8 mbar의 진공을 인가하여 휘발성 성분을 제거한다. 얻어지는 맑은 액상 생성물을 1711 cm^-1에서 에스테르 밴드가 존재하지 않는 IR-분광분석에 의해 제어한다: 에스테르 밴드는 전혀 검출되지 않았다. 수율: 119 g의 맑은 액체(= 이론 수율의 93%).

실시예 17b:

교반기, 온도계 및 수분 분리기를 구비하는 4구 플라스크에서 90.8 g의 펜탄산-5-(디메틸아미노)-2-메틸-5-옥소-메틸에스테르(0.485 mol) 및 130.0 g의 올레일아민(0.482 mol)을 교반하에 150℃로 가온한다. 생성되는 메탄올을 수분 분리기에서 분리한다. 혼합물을 이 온도에서 10 시간 동안 가열한다. 이어서 80℃로 냉각시키고 이 온도에서 2 시간 동안 0.8 mbar의 진공을 인가하여 잔존 휘발성 성분을 제거한다. 얻어지는 맑은 액상 생성물을 1711 cm^-1에서 에스테르 밴드가 존재하지 않는 IR-분광분석에 의해 제어한다: 에스테르 밴드는 전혀 검출되지 않았다. 수율: 198 g의 맑은 페이스트상 액체(= 이론 수율의 97%).

실시예 18t:

교반기, 적하 깔대기, 온도계 및 수분 분리기를 구비하는 4구 플라스크에서 140.8 g의 펜탄산-5-(디메틸아미노)-2-메틸-5-옥소-메틸에스테르(0.752 mol) 및 43.7 g의 1,6-헥사메틸렌디아민(0.376 mol)을 교반하에 180℃로 가온한다. 생성되는 메탄올을 수분 분리기에서 분리한다. 혼합물을 이 온도에서 10 시간 동안 가열한다. 이어서 150℃로 냉각시키고 이 온도에서 2 시간 동안 0.8 mbar의 진공을 인가하여 잔존 휘발성 성분을 제거한다.

얻어지는 맑은 액상 생성물을 1711 cm^-1에서 에스테르 밴드가 존재하지 않는 IR-분광분석에 의해 제어한다: 에스테르 밴드는 전혀 검출되지 않았다. 수율: 150 g의 점성 맑은 액체(= 이론 수율의 94%).

실시예 19t:

교반기, 적하 깔대기, 온도계 및 수분 분리기를 구비하는 4구 플라스크에서 150.3 g의 펜탄산-5-(디메틸아미노)-2-메틸-5-옥소-메틸에스테르(0.803 mol) 및 54.6 g의 메타-크실릴렌디아민(0.402 mol)을 교반하에 150℃로 가온한다. 생성되는 메탄올을 수분 분리기에서 분리한다. 혼합물을 이 온도에서 11 시간 동안 가열한다. 이어서 150℃로 냉각시키고 이 온도에서 2 시간 동안 0.8 mbar의 진공을 인가하여 잔존 휘발성 성분을 제거한다. 얻어지는 맑은 액상 생성물을 1711 cm^-1에서 에스테르 밴드가 존재하지 않는 IR-분광분석에 의해 제어한다: 에스테르 밴드는 전혀 검출되지 않았다.

실시예 20p:

교반기, 적하 깔대기, 온도계 및 수분 분리기를 구비하는 4구 플라스크에서 160.2 g의 펜탄산-5-(디메틸아미노)-2-메틸-5-옥소-메틸에스테르(0.856 mol) 및 44.2 g의 디에틸렌트리아민(0.428 mol)을 교반하에 180℃로 가온한다. 생성되는 메탄올을 수분 분리기에서 분리한다. 혼합물을 이 온도에서 15 시간 동안 가열한다. 이어서 150℃로 냉각시키고 이 온도에서 2 시간 동안 0.8 mbar의 진공을 인가하여 잔존 휘발성 성분을 제거한다. 얻어지는 맑은 액상 생성물을 1711 cm^-1에서 에스테르 밴드가 존재하지 않는 IR-분광분석에 의해 제어한다: 에스테르 밴드는 전혀 검출되지 않았다. 수율: 168 g의 고체 생성물(= 이론 수율의 95%).

반응 종료 후 생성되는 반응수를 회전 증발기에서 증류하였다. 아민가가 4 mg KOH/g인 밝은 황색의 액체가 수득되었다.

조성물 K1:

단계 1

먼저, 특허 문헌 EP 1188779호에 따른 64.4 g의 디이소시아네이트-단일부가물(monoadduct)을 220 mg KOH/g의 히드록실가(DIN / ISO 4629에 따라 측정)를 갖는 폴리에틸렌글리콜모노부틸에테르 및 35%의 2,4-톨루일렌디이소시아네이트 및 65%의 2,6-톨루일렌디이소시아네이트의 혼합물로부터 제조한다.

단계 2

교반기, 적하 깔때기, 온도계 및 환류 냉각기가 달린 4구 플라스를 준비한다. 118.2 g의 실시예 1b로부터의 반응 생성물을 넣고 질소 분위기하에서 교반하에 120℃로 가온한다. 4.2 g의 염화리튬을 첨가하고 이 온도에서 교반하에 1 시간 동안 용해시킨다. 이어서 온도가 80℃로 하강된다. 10.2 g의 m-크실릴렌디아민을 첨가하고 혼합물을 균질화한다.

앞서(단계 1) 제조한 이소시아네이트 부가물을 교반하에 1 시간 이내에 온도가 85℃를 초과하지 않도록 서서히 아민 용액에 적가한다. 반응의 완료를 위해 반응 혼합물을 다시 3 시간 동안 80℃에서 교반한다. 아민가는 3.6 mg KOH/g (DIN 16945에 따라 측정)이다. 생성물은 고점성 액체이고 38 중량%의 우레아 화합물을 함유한다.

조성물 K2:

단계 1

먼저, 특허 문헌 EP 1188779호에 따른 64.4 g의 디이소시아네이트-단일부가물을 220 mg KOH/g의 히드록실가(DIN / ISO 4629에 따라 측정)를 갖는 폴리에틸렌글리콜모노부틸에테르 및 35%의 2,4-톨루일렌디이소시아네이트 및 65%의 2,6-톨루일렌디이소시아네이트의 혼합물로부터 제조한다.

단계 2

교반기, 적하 깔때기, 온도계 및 환류 냉각기가 달린 4구 플라스를 준비한다. 188 g의 실시예 8b로부터의 반응 생성물을 넣고 질소 분위기하에서 교반하에 120℃로 가온한다. 5.1 g의 염화리튬을 첨가하고 이 온도에서 교반하에 1 시간 동안 용해시킨다. 이어서 온도가 80℃로 하강된다. 10.2 g의 m-크실릴렌디아민을 첨가하고 혼합물을 균질화한다.

앞서(단계 1) 제조한 이소시아네이트 부가물을 교반하에 1 시간 이내에 온도가 85℃를 초과하지 않도록 서서히 아민 용액에 적가한다. 반응의 완료를 위해 반응 혼합물을 다시 3 시간 동안 80℃에서 교반한다. 탁한 무색의 저점성 생성물이 얻어진다. 아민가는 3 mg KOH/g (DIN 16945에 따라 측정)이다. 생성물은 28 중량%의 우레아 화합물을 함유한다.

조성물 K3:

단계 1

먼저, 특허 문헌 EP 1188779호에 따른 64.4 g의 단일부가물을 450 g/mol의 몰질량을 갖는 폴리에틸렌글리콜모노메틸에테르 및 35%의 2,4-톨루일렌디이소시아네이트 및 65%의 2,6-톨루일렌디이소시아네이트의 혼합물로부터 제조한다.

단계 2

교반기, 적하 깔때기, 온도계 및 환류 냉각기가 달린 4구 플라스에 187.8 g의 실시예 7b로부터의 반응 생성물을 넣고 100℃로 가온하고 상기 온도에 도달할 때 5.9 g의 염화리튬을 첨가한다. 이후 염화리튬을 1 시간 이내에 100℃에서 교반하에 용해시킨다. 이어서 온도가 80℃로 하강된다.

10.2 g의 m-크실릴렌디아민을 첨가하고 혼합물을 균질화한다. 앞서(단계 1) 제조한 이소시아네이트 부가물을 교반하에 1 시간 이내에 온도가 85℃를 초과하지 않도록 서서히 아민 용액에 적가한다. 반응의 완료를 위해 반응 혼합물을 3 시간 동안 80℃에서 교반한다. 약간 갈색을 띤 납질 생성물이 얻어지며 이것은 80℃에서 액체이다. 생성물은 28 중량%의 우레아 화합물을 함유한다.

조성물 K4:

단계 1

단계 2

교반기, 적하 깔때기, 온도계 및 환류 냉각기가 달린 4구 플라스에 187.8 g의 실시예 11b로부터의 반응 생성물을 넣고 100℃로 가온하고 상기 온도에 도달할 때 4.2 g의 염화리튬을 첨가한다. 이후 염화리튬을 1 시간 이내에 100℃에서 교반하에 용해시킨다. 이어서 온도가 80℃로 하강된다.

10.2 g의 m-크실릴렌디아민을 첨가하고 혼합물을 균질화한다. 앞서 제조한 이소시아네이트 부가물(단계 1)을 교반하에 1 시간 이내에 온도가 85℃를 초과하지 않도록 서서히 아민 용액에 적가한다. 반응의 완료를 위해 반응 혼합물을 3 시간 동안 80℃에서 교반한다. 탁한 점성 생성물이 얻어진다. 생성물은 28 중량%의 우레아 화합물을 함유한다.

조성물 K5:

단계 1

단계 2

교반기, 적하 깔때기, 온도계 및 환류 냉각기가 달린 4구 플라스를 준비한다. 239.1 g의 실시예 15b로부터의 반응 생성물의 혼합물을 넣고 질소 분위기하에서 교반하에 120℃로 가온한다. 5.1 g의 염화리튬을 첨가하고 이 온도에서 교반하에 1 시간 동안 용해시킨다. 이어서 온도가 80℃로 하강된다. 10.2 g의 m-크실릴렌디아민을 첨가하고 혼합물을 균질화한다.

앞서(단계 1) 제조한 이소시아네이트 부가물을 교반하에 1 시간 이내에 온도가 85℃를 초과하지 않도록 서서히 아민 용액에 적가한다. 반응의 완료를 위해 반응 혼합물을 다시 3 시간 동안 80℃에서 교반한다. 탁한 점성 생성물이 얻어진다. 생성물은 23 중량%의 우레아 화합물을 함유한다.

조성물 K6:

단계 1

단계 2

교반기, 적하 깔때기, 온도계 및 환류 냉각기가 달린 4구 플라스를 준비한다. 31.2 g의 실시예 14b로부터의 반응 생성물을 넣고 질소 분위기하에서 교반하에 120℃로 가온한다. 0.7 g의 염화리튬을 첨가하고 이 온도에서 교반하에 1 시간 동안 용해시킨다. 이어서 온도가 80℃로 하강된다. 3.0 g의 m-크실릴렌디아민을 첨가하고 혼합물을 균질화한다.

17.1 g의 단계 1에서 제조한 이소시아네이트 부가물을 교반하에 1 시간 이내에 온도가 85℃를 초과하지 않도록 서서히 아민 용액에 적가한다. 반응의 완료를 위해 반응 혼합물을 다시 3 시간 동안 80℃에서 교반한다. 생성물은 39 중량%의 우레아 화합물을 함유한다.

조성물 K7:

단계 1

먼저, 특허 문헌 EP 1188779호에 따른 단일부가물을 2,4-톨루일렌디이소시아네이트(Desmodur T100, Bayer) 및 1-도데칸올로부터 제조한다.

단계 2

반응 용기(교반기, 환류 냉각기 및 적하 깔때기를 구비하는 둥근바닥 플라스크)에서 질소 분위기하에 교반하면서 12.6 g(0.3 mol)의 LiCl을 280 g의 실시예 1b의 반응 생성물에 용해시킨다. 이후 13.6 g(0.125 mol)의 메타-크실릴렌디아민을 첨가하고 맑은 혼합물을 80℃로 가온한다. 이어서 72.0 g(0.20 mol)의 상기한 이소시아네이트 부가물(단계 1)을 교반하에 1 시간 이내에 온도가 85℃를 초과하지 않도록 적가한다. 반응의 완료를 위해 반응 혼합물을 3 시간 동안 80℃에서 교반한다. 맑은 점성 생성물이 얻어진다. 얻어진 생성물 중의 우레아 화합물의 분율은 23 중량%이다.

조성물 K8:

단계 1

먼저, 특허 문헌 EP 1188779호에 따른 93.6 g의 단일부가물을 450 g/mol의 몰질량을 갖는 폴리에틸렌글리콜모노메틸에테르 및 35%의 2,4-톨루일렌디이소시아네이트 및 65%의 2,6-톨루일렌디이소시아네이트의 혼합물로부터 제조한다.

단계 2

교반기, 적하 깔때기, 온도계 및 환류 냉각기가 달린 4구 플라스에 162.0 g의 실시예 1b로부터의 반응 생성물을 넣고 100℃로 가온하고 상기 온도에 도달할 때 4.2 g의 염화리튬을 첨가한다. 이후 염화리튬을 1 시간 이내에 100℃에서 교반하에 용해시킨다. 이어서 온도가 80℃로 하강된다.

10.2 g의 m-크실릴렌디아민을 첨가하고 혼합물을 균질화한다. 앞서 제조한 이소시아네이트 부가물(단계 1)을 교반하에 1 시간 이내에 온도가 85℃를 초과하지 않도록 서서히 아민 용액에 적가한다. 반응의 완료를 위해 반응 혼합물을 3 시간 동안 80℃에서 교반한다. 점성의 약간 갈색을 띤 생성물이 얻어진다. 생성물은 38 중량%의 우레아 화합물을 함유한다.

조성물 K9:

단계 1

단계 2

교반기, 적하 깔때기, 온도계 및 환류 냉각기가 달린 4구 플라스에 252.0 g의 실시예 14b로부터의 반응 생성물을 넣고 100℃로 가온하고 상기 온도에 도달할 때 4.2 g의 염화리튬을 첨가한다. 이후 염화리튬을 1 시간 이내에 100℃에서 교반하에 용해시킨다. 이어서 온도가 80℃로 하강된다.

10.2 g의 m-크실릴렌디아민을 첨가하고 혼합물을 균질화한다. 앞서 제조한 이소시아네이트 부가물(단계 1)을 교반하에 1 시간 이내에 온도가 85℃를 초과하지 않도록 서서히 아민 용액에 적가한다. 반응의 완료를 위해 반응 혼합물을 3 시간 동안 80℃에서 교반한다. 탁한 약간 갈색을 띤 생성물이 얻어진다. 아민가는 3 mg KOH/g (DIN 16945에 따라 측정)이다. 생성물은 29 중량%의 우레아 화합물을 함유한다.

조성물 K10:

단계 1

단계 2

교반기, 적하 깔때기, 온도계 및 환류 냉각기가 달린 4구 플라스에 324.0 g의 실시예 16b로부터의 반응 생성물을 넣고 100℃로 가온하고 상기 온도에 도달할 때 4.2 g의 염화리튬을 첨가한다. 이후 염화리튬을 1 시간 이내에 100℃에서 교반하에 용해시킨다. 이어서 온도가 80℃로 하강된다.

10.2 g의 m-크실릴렌디아민을 첨가하고 혼합물을 균질화한다. 앞서 제조한 이소시아네이트 부가물(단계 1)을 교반하에 1 시간 이내에 온도가 85℃를 초과하지 않도록 서서히 아민 용액에 적가한다. 반응의 완료를 위해 반응 혼합물을 3 시간 동안 80℃에서 교반한다. 약간 갈색을 띤 생성물이 얻어진다. 생성물은 24 중량%의 우레아 화합물을 함유한다.

비교예(본 발명에 따르지 않음)

비교예 V1:

단계 1

단계 2

교반기, 적하 깔때기, 온도계 및 환류 냉각기가 달린 4구 플라스를 준비한다. 72.7 g의 1-에틸피롤리딘-2-온을 넣고 질소 분위기하에서 교반하에 120℃로 가온한다. 4.2 g의 염화리튬을 첨가하고 이 온도에서 교반하에 1 시간 동안 용해시킨다. 이어서 온도가 80℃로 하강된다. 10.2 g의 m-크실릴렌디아민을 첨가하고 혼합물을 균질화한다.

앞서(단계 1) 제조한 이소시아네이트 부가물을 교반하에 1 시간 이내에 온도가 85℃를 초과하지 않도록 서서히 아민 용액에 적가한다. 반응의 완료를 위해 반응 혼합물을 다시 3 시간 동안 80℃에서 교반한다. 맑은 황색 생성물이 얻어진다. 아민가는 1 mg KOH/g (DIN 16945에 따라 측정)이다. 생성물은 49 중량%의 우레아 화합물을 함유한다.

비교예 V2:

단계 1

단계 2

교반기, 적하 깔때기, 온도계 및 환류 냉각기가 달린 4구 플라스를 준비한다. 72.7 g의 디메틸술폭시드를 넣고 질소 분위기하에서 교반하에 120℃로 가온한다. 4.2 g의 염화리튬을 첨가하고 이 온도에서 교반하에 1 시간 동안 용해시킨다. 이어서 온도가 80℃로 하강된다. 10.2 g의 m-크실릴렌디아민을 첨가하고 혼합물을 균질화한다.

비교예 V3:

단계 1

단계 2

교반기, 적하 깔때기, 온도계 및 환류 냉각기가 달린 4구 플라스를 준비한다. 72.7 g의 N-메틸피롤리돈을 넣고 질소 분위기하에서 교반하에 120℃로 가온한다. 4.2 g의 염화리튬을 첨가하고 이 온도에서 교반하에 1 시간 동안 용해시킨다. 이어서 온도가 80℃로 하강된다. 10.2 g의 m-크실릴렌디아민을 첨가하고 혼합물을 균질화한다.

앞서(단계 1) 제조한 이소시아네이트 부가물을 교반하에 1 시간 이내에 온도가 85℃를 초과하지 않도록 서서히 아민 용액에 적가한다. 반응의 완료를 위해 반응 혼합물을 다시 3 시간 동안 80℃에서 교반한다. 맑은 황색 생성물이 얻어진다. 생성물은 49 중량%의 우레아 화합물을 함유한다.

비교예 V4:

먼저, 특허 문헌 EP 1188779호에 따른 단일부가물을 2,4-톨루일렌디이소시아네이트(Desmodur T100, Bayer) 및 라우릴알콜로부터 제조한다.

반응 용기(교반기, 환류 냉각기 및 적하 깔때기를 구비하는 둥근바닥 플라스크)에서 질소 분위기하에 교반하면서 1.7 g(0.039 mol)의 LiCl을 75 g의 N-메틸피롤리돈(시판품)에 용해시킨다. 이후 3.6 g(0.026 mol)의 메타-크실릴렌디아민을 첨가하고 맑은 혼합물을 80℃로 가온한다.

이어서 19.8 g(0.052 mol)의 Desmodur T100 및 라우릴알콜로부터의 단일부가물을 교반하에 1 시간 이내에 온도가 85℃를 초과하지 않도록 적가한다. 반응의 완료를 위해 반응 혼합물을 3 시간 동안 80℃에서 교반한다. 맑은 액상 생성물이 얻어진다. 얻어진 생성물 중의 우레아 화합물의 분율은 23 중량%이다.

비교예 V5:

반응 용기(교반기, 환류 냉각기 및 적하 깔때기를 구비하는 둥근바닥 플라스크)에서 질소 분위기하에 교반하면서 1.7 g(0.039 mol)의 LiCl을 75 g의 1-N-에틸피롤리돈(시판품)에 용해시킨다. 이후 3.6 g(0.026 mol)의 메타-크실릴렌디아민을 첨가하고 맑은 혼합물을 80℃로 가온한다.

이어서 19.8 g(0.052 mol)의 Desmodur T100 및 라우릴알콜로부터의 단일부가물을 교반하에 1 시간 이내에 온도가 85℃를 초과하지 않도록 적가한다. 반응의 완료를 위해 반응 혼합물을 3 시간 동안 80℃에서 교반한다. 맑은 저점성 생성물이 얻어진다. 얻어진 생성물 중의 우레아 화합물의 분율은 23 중량%이다.

비교예 V6:

단계 1

단계 2

교반기, 적하 깔때기, 온도계 및 환류 냉각기가 달린 4구 플라스에 99.7 g의 N-메틸피롤리돈(BASF 시판품)을 넣고 100℃로 가온하고 상기 온도에 도달할 때 4.2 g의 염화리튬을 첨가한다. 이후 염화리튬을 1 시간 이내에 100℃에서 교반하에 용해시킨다. 이어서 온도가 80℃로 하강된다.

10.2 g의 m-크실릴렌디아민을 첨가하고 혼합물을 균질화한다. 앞서 제조한 이소시아네이트 부가물(단계 1)을 교반하에 1 시간 이내에 온도가 85℃를 초과하지 않도록 서서히 아민 용액에 적가한다. 반응의 완료를 위해 반응 혼합물을 3 시간 동안 80℃에서 교반한다. 맑은 황색 생성물이 얻어진다. 생성물은 48 중량%의 우레아 화합물을 함유한다.

비교예 V7:

단계 1

단계 2

교반기, 적하 깔때기, 온도계 및 환류 냉각기가 달린 4구 플라스에 132.0 g의 디메틸술폭시드(Firma Sigma Aldrich 시판품)을 넣고 100℃로 가온하고 상기 온도에 도달할 때 4.2 g의 염화리튬을 첨가한다. 이후 염화리튬을 1 시간 이내에 100℃에서 교반하에 용해시킨다. 이어서 온도가 80℃로 하강된다.

10.2 g의 m-크실릴렌디아민을 첨가하고 혼합물을 균질화한다. 앞서 제조한 이소시아네이트 부가물(단계 1)을 교반하에 1 시간 이내에 온도가 85℃를 초과하지 않도록 서서히 아민 용액에 적가한다. 반응의 완료를 위해 반응 혼합물을 3 시간 동안 80℃에서 교반한다. 맑은 황색 생성물이 얻어진다. 생성물은 43 중량%의 우레아 화합물을 함유한다.

비교예 V8:

단계 1

단계 2

교반기, 적하 깔때기, 온도계 및 환류 냉각기가 달린 4구 플라스에 99.7 g의 N-에틸피롤리돈(BASF 시판품)을 넣고 100℃로 가온하고 상기 온도에 도달할 때 4.2 g의 염화리튬을 첨가한다. 이후 염화리튬을 1 시간 이내에 100℃에서 교반하에 용해시킨다. 이어서 온도가 80℃로 하강된다.

10.2 g의 m-크실릴렌디아민을 첨가하고 혼합물을 균질화한다. 앞서 제조한 이소시아네이트 부가물(단계 1)을 교반하에 1 시간 이내에 온도가 85℃를 초과하지 않도록 서서히 아민 용액에 적가한다. 반응의 완료를 위해 반응 혼합물을 3 시간 동안 80℃에서 교반한다. 맑은 황색 생성물이 얻어진다. 생성물은 50 중량%의 우레아 화합물을 함유한다.

비교예 V11:

단계 1

단계 2

교반기, 적하 깔때기, 온도계 및 환류 냉각기가 달린 4구 플라스를 준비한다. 118.2 g의 메틸-5-(디메틸아미노)-2-메틸-5-옥소펜타노에이트를 넣고 질소 분위기하에서 교반하에 120℃로 가온한다. 4.2 g의 염화리튬을 첨가하고 이 온도에서 교반하에 1 시간 동안 용해시킨다. 이어서 온도가 80℃로 하강된다. 10.2 g의 m-크실릴렌디아민을 첨가하고 혼합물을 균질화한다.

앞서(단계 1) 제조한 이소시아네이트 부가물을 교반하에 1 시간 이내에 온도가 85℃를 초과하지 않도록 서서히 아민 용액에 적가한다. 반응의 완료를 위해 반응 혼합물을 다시 3 시간 동안 80℃에서 교반한다. 맑은 황색 생성물이 얻어진다. 아민가는 1 mg KOH/g (DIN 16945에 따라 측정)이다. 생성물은 38 중량%의 우레아 화합물을 함유한다.

비교예 V12:

단계 1

단계 2

교반기, 적하 깔때기, 온도계 및 환류 냉각기가 달린 4구 플라스를 준비한다. 118.2 g의 1-(모르폴린-4-일)에타논을 넣고 질소 분위기하에서 교반하에 120℃로 가온한다. 4.2 g의 염화리튬을 첨가하고 이 온도에서 교반하에 1 시간 동안 용해시킨다.

이어서 온도가 80℃로 하강된다. 10.2 g의 m-크실릴렌디아민을 첨가하고 혼합물을 균질화한다.

비교예 V13: 본 발명에 따르지 않은 아미드 화합물과 우레아 화합물의 조합

이하의 조합 실험에서는 WO 2011/091812호와 유사하게 본 발명에 따르지 않는 아미드 화합물로서 BYK-430 (고분자량 변성 폴리아미드의 30% 용액, BYK-Chemie GmbH사 제조)을 사용한다. 이 아미드 성분을 비교예에 따라 상이한 우레아 화합물과 조합하였다(즉, 혼합 성분으로서 본 발명에 따른 아미드 성분을 함유하지 않는 용해된 우레아 화합물). 혼합물을 연속적으로 교반하였다.

상기 예는 본 발명에 따른 조성물이 해당 우레아 및 아미드 성분의 양호한 상용성을 보장함을 나타내고, 이것이 아미드 및 우레아를 함유하는 레올로지 효과 조성물의 양호한 생산성 및 동시에 더 양호한 보관 안정성을 유도하며, 반면 본 발명에 따르지 않는 아미드 화합물은 보관 안정성 조합물을 유도하지 못하므로 전체 조성물로서의 간단한 취급도 불가능하다. 따라서, 본 발명에 따르지 않는 조합에서는 시스템으로의 도입이 항상 별도로 이루어져야 하므로, 더 많은 작업 단계 및 생산 기술적으로 더 많은 비용이 필요하다.

레올로지 첨가제로서 적합한 조성물의 적용 기술적 검사

검사 시스템 1 : n-부틸아세테이트 및 메톡시프로판올로 이루어지는 용매 혼합물

이 검사 시리즈를 위해, 필요에 따라, 모든 검사되는 생성물의 조성물에 추가량의 각각의 아미드 화합물을 첨가함으로써 첨가제 조성물 중의 우레아 화합물의 함량을 28 중량%로 조절한다. 100 ml의 유리병에 50 g의 n-부틸아세테이트/Dowanol PM 75:25(w/w)의 용매 혼합물을 넣고 이어서 0.5% 중량%의 우레아 화합물에 상응하는 각각의 첨가제 조성물의 양을 첨가한다. 이를 위하여 교반하에 Dispermat CV(1000 U/min에서 톱니 니스크 d = 2.5 cm)에 의해 혼입한다. 첨가 종료 후 다시 1분간 재교반한다.

이어서 샘플을 1 시간 동안 교반하에 두고 혼탁도에 기초하여 첨가제의 상용성 및 레올로지 효과에 대한 측정으로서 겔 강도를 시각적으로 평가하였다.

평가 스케일:

겔 강도 1 매우 강함

2 강함

3 중간

4 매우 약함

5 겔 없음

혼탁도

(상용성): 1 맑음

2 약간 혼탁

3 혼탁

4 강한 혼탁

5 매우 강한 혼탁

결과:

상기 결과에 의하면, 본 발명에 따른 조성물이 비교예 V1에 비하여 상용성이 더 양호하거나(즉, 시스템 중의 혼탁이 더 적거나) 또는 겔 강도가 더 높거나(즉, 레올로지 효과가 더 양호하거나) 또는 양 이득 효과를 모두 나타낸다는 것이 명백하다.

검사 시스템 2: Setalux D A 870 BA 클리어코트

이 검사 시리즈를 위해, 필요에 따라, 모든 검사되는 생성물의 조성물에 추가량의 각각의 아미드 화합물을 첨가함으로써 첨가제 조성물 중의 우레아 화합물의 함량을 28 중량%로 조절한다. 100 ml의 유리병에 50 g의 Setalux D A 870 BA 클리어코트를 넣고 이어서 각각의 첨가제를 교반하에 Dispermat CV(1000 U/min에서 톱니 니스크 d = 2.5 cm)에 의해 혼입한다. 첨가제 조성물의 양은 각각 우레아 화합물을 기준으로 0.4 중량%에 상당하도록 선택된다. 첨가 종료 후 다시 1분간 재교반한다.

이어서 샘플을 1일 동안 교반하에 두고 먼저 레올로지 효과에 대한 측정으로서 겔 강도를 시각적으로 평가하고 혼탁도에 기초하여 첨가제의 상용성을 평가한다. 이후 도포 조건에서 레올로지 효과의 측정으로서 새그 내성을 검사한다.

이를 위하여 샘플을 스패츌라로 균일하게 교반한 다음 30∼300 ㎛ 닥터 블레이드 및 BYK Gardner사의 자동 권취기로 5 cm/s의 속도로 콘트라스트 카드에 도포한다. 도포 후 건조를 위해 콘트라스트 카드를 바로 수평으로 매단다. 건조 후 젖은 상태에서 ㎛의 층 두께가 측정되며, 이때 코트는 흐르지 않는다. 즉 흐르는 곳도 불록한 곳도 인식되지 않는다. 동일한 활성 물질의 사용시 새그 내성이 높을수록 레올로지 효과가 더 양호하다.

코팅 제제(중량부):

Setalux D A 870

BA 80.0

부틸아세테이트 9.9

Dowanol PMA 9.9

BYK-066 0.2

결과:

상기 결과에 의하면, 본 발명에 따른 조성물이 비교예 V3에 비하여 상용성이 더 양호하거나(즉, 시스템 중의 혼탁이 더 적거나) 또는 높은 겔 강도 및 매우 개선된 안정성(즉, 가능한 최대 층 두께)을 가능하게 하거나 또는 이득 효과들을 조합으로 나타낸다는 것이 명백하다.

검사 시스템 3: Epikote 1001-X75 - 클리어코트

이 검사 시리즈를 위해, 필요에 따라, 모든 검사되는 생성물의 조성물에 추가량의 각각의 아미드 화합물을 첨가함으로써 첨가제 조성물 중의 우레아 화합물의 함량을 38 중량%로 조절한다. 100 ml의 유리병에 50 g의 Epikote 1001-X75 클리어코트를 넣고 이어서 각각의 첨가제를 교반하에 Dispermat CV(1000 U/min에서 톱니 니스크 d = 2.5 cm)에 의해 혼입한다. 각각 0.8 중량%의 우레아 화합물에 상응하는 양을 선택한다. 첨가 종료 후 다시 1분간 재교반한다.

코팅 제제(중량부):

Epikote

1001-X75 75.3

메틸이소부틸케톤 17.3

이소부탄올 7.4

결과:

상기 결과에 의하면, 본 발명에 따른 조성물이 비교예 V3에 비하여 동일하게 양호한 상용성에서 더 높은 겔 강도 및 매우 개선된 새그 내성(즉, 가능한 최대 층 두께)을 가능하게 한다는 것이 명백하다.

검사 시스템 4: Worleekyd S 351 결합제

100 ml의 유리병에 50 g의 Worleekyd S351 결합제를 넣고 이어서 각각의 첨가제를 교반하에 Dispermat CV(1000 U/min에서 톱니 니스크 d = 2.5 cm)에 의해 혼입한다. 각각 0.7 중량%의 우레아 화합물에 상응하는 양을 선택한다. 첨가 종료 후 다시 1분간 재교반한다.

이어서 샘플을 1일 동안 교반하에 둔 다음 도포 조건에서 레올로지 효과의 측정으로서 새그 내성을 평가한다. 이를 위하여 샘플을 스패츌라로 균일하게 교반한 다음 50∼500 ㎛ 닥터 블레이드 및 BYK Gardner사의 자동 권취기로 5 cm/s의 속도로 콘트라스트 카드에 도포한다. 도포 후 건조를 위해 콘트라스트 카드를 바로 수평으로 매단다. 건조 후 젖은 상태에서 ㎛의 층 두께가 측정되며, 이때 코트는 흐르지 않는다. 즉 흐르는 곳도 불록한 곳도 인식되지 않는다. 동일한 활성 물질의 사용시 안정성이 높을수록 레올로지 효과가 더 양호하다.

결과:

상기 결과에 의하면, 본 발명에 따른 조성물이 비교예 V4 및 V5에 비하여 동일하게 양호한 상용성에서 더 높은 겔 강도 및 매우 개선된 새그 내성(즉, 가능한 최대 층 두께)을 가능하게 한다는 것이 명백하다.

검사 시스템 5: Worleekyd S 366 클리어코트

100 ml의 유리병에 50 g의 Worleekyd S366 클리어코트를 넣고 이어서 각각의 첨가제를 교반하에 Dispermat CV(1000 U/min에서 톱니 니스크 d = 2.5 cm)에 의해 혼입한다. 각각 0.5 중량%의 우레아 화합물에 상응하는 양을 선택한다. 첨가 종료 후 다시 1분간 재교반한다. 이어서 샘플을 1일 동안 교반하에 둔 다음 도포 조건에서 레올로지 효과의 측정으로서 안정성을 평가한다.

이를 위하여 샘플을 스패츌라로 균일하게 교반한 다음 50∼500 ㎛ 닥터 블레이드 및 BYK Gardner사의 자동 권취기로 5 cm/s의 속도로 콘트라스트 카드에 도포한다. 도포 후 건조를 위해 콘트라스트 카드를 바로 수평으로 매단다. 건조 후 젖은 상태에서 ㎛의 층 두께가 측정되며, 이때 코트는 흐르지 않는다. 즉 흐르는 곳도 불록한 곳도 인식되지 않는다. 동일한 활성 물질의 사용시 새그 내성이 높을수록 레올로지 효과가 더 양호하다.

코팅 제제(중량부):

Worleekyd S 366 60% in Isopar H 80.9

Isopar H 16.0

Nuodex Combi APB 2.6

Borchi Nox M 2 0.3

BYK-066 0.2

결과:

상기 결과에 의하면, 본 발명에 따른 조성물이 비교예 V4에 비하여 유의적으로 매우 높은 겔 강도 및 매우 개선된 새그 내성(즉, 가능한 최대 층 두께)을 가능하게 한다는 것이 명백하다.

검사 시스템 6: 폴리스티렌 Palapreg P17-02 / Palapreg H 814-01

175 ml-PE-컵에서 먼저 두 수지 성분 Palapreg P 17-02 및 Palapreg H 814-01을 Dispermat CV을 이용하여 1분간 1200 U/min에서 4 cm-톱니 디스크로 균질화한다. 이어서 50 g의 이 혼합물을 175 ml-PE-컵에 넣고 각각의 첨가제를 교반하에 Dispermat CV(1000 U/min에서 톱니 니스크 d = 2.5 cm)에 의해 혼입한다. 각각 0.8 중량%의 우레아 화합물에 상응하는 양을 선택한다. 첨가 종료 후 다시 2분간 재교반한다.

이어서 샘플을 직접 50 ml의 스냅 캡 유리병에 넣고 교반하에 둔다. 3일 후 전체 충전량을 기준으로 %로 샘플의 분리를 평가하고 레올로지 효과에 대한 측정으로서 겔 강도를 육안으로 평가한다. 샘플의 분리가 적을수록 샘플의 레올로지 효과가 더 양호한 것이다. 레올로지 효과 외에 첨가제에 의한 색 영향도 제제에 미치지만, 이것은 가능한 한 작아야 한다. 동시에 아미드 화합물의 비점은 시트 몰딩 컴파운드 분야에서의 적용을 위해 더 높은 것이 적절한데, 그렇지 않으면 고온 프레싱에서 실내 공기가 장입되고 그 결과 생성되는 기포가 프레스 가공된 화합물 중에 원치 않는 공기 혼입을 야기하기 때문이다.

수지 제제(중량부):

Palapreg P 17-02 70

Palapreg H 814-01 30

결과:

상기 결과에 의하면, 본 발명에 따른 조성물은 비교예 V11 및 V12에 비하여 원치않는 상분리에 유의적으로 영향을 미치며 겔 강도 증가의 결과로 분리가 효과적으로 완전히 방지된다는 것이 명백하다.

Claims

i) 15 내지 95 중량%의 아미드 화합물(A),
ii) 5 내지 75 중량%의 우레아 화합물(B),
iii) 0 내지 50 중량%의 이오노겐 화합물(C) 및
iv) 0 내지 35 중량%의 유기 용매(D)
를 함유하는 조성물로서,
상기 아미드 화합물(A)은 70 내지 600 g/mol의 몰질량을 가지며, 상기 아미드 화합물(A)은, 질소 원자에 수소가 결합된 최대 1개의 아미드기를 포함하고, 상기 아미드 화합물(A)은 우레아기, 인, 규소 및 할로겐을 갖지 않으며, 상기 아미드 화합물(A)은 하기 화학식 (I)로 나타내어지고:

[식 중,
Xx는 동일하거나 상이하고, 일반식 RzC(=O)-NRaRb (Xx1), RaC(=O)-NRzRb (Xx2) 및 RbC(=O)-NRzRa (Xx3) 중 하나에 따르며 Rz, Ra 및 Rb와 결합되는 아미드기 C(=O)-N이고,
Xy는 동일하거나 상이하고, 일반식 RzC(=O)-NRcRd (Xy1), RcC(=O)-NRzRd (Xy2) 및 RdC(=O)-NRzRc (Xy3) 중 하나에 따르며 Rz, Rc 및 Rd와 결합되는 아미드기 C(=O)-N이며,
Rz는 각각 동일하거나 상이하고, 헤테로원자를 함유하는 기로서 아미노기, 아미드기 또는 둘 모두를 함유할 수 있는, 분지 또는 비분지된 포화 또는 불포화 1 내지 32개의 탄소 원자를 갖는 탄화수소 라디칼이며,
Ra, Rb, Rc, 및 Rd는 각각 동일하거나 상이하고, 각각 서로 독립적으로, 수소, 또는 분지 또는 비분지된 포화 또는 불포화 1 내지 16개의 탄소 원자를 함유하는 유기 라디칼이되, 단
Ra, Rb, Rc 및 Rd는 총 4개 이상의 탄소 원자를 갖고,
Ra, Rb, Rc 및 Rd 기에서 선택되는 잔기 중 최대 하나는 수소의 형태로 존재하며,
i) Ra를 Rb에 결합하는 CO-N기와 함께하는 Ra 및 Rb, 및 ii) Rc를 Rd에 결합하는 CO-N기와 함께하는 Rc 및 Rd 중에서 적어도 하나는 하기 화학식 (α-1)에 따르며 4 내지 10개의 고리 원자를 갖는 환을 형성할 수 있거나:

,
iii) Ra를 Rb에 결합하는 N-원자와 함께하는 Ra 및 Rb, 및 iv) Rc를 Rd에 결합하는 N-원자와 함께하는 Rc 및 Rd 중에서 적어도 하나는 하기 화학식 (ß-1)에 따르며 4 내지 7개의 고리 원자를 갖는 환을 형성할 수 있거나:

, 또는
Rb 및 Rc는 각각, Rb 및 Rc에 결합된 N-원자 및 Rz 잔기와 함께, 하기 화학식 (γ-1)에 따르며 5 내지 7개의 고리 원자를 갖는 환을 형성할 수 있고:

,
Ra, Rb, Rc, Rd 및 Rz는 총 최대 36개의 탄소 원자 및 N 및 O 군에서 선택되는 최대 8개의 헤테로원자를 가짐],
상기 우레아 화합물(B)은 적어도 350 g/mol의 분자량을 갖고 적어도 하나의 우레아기를 가지며,
상기 이오노겐 화합물(C)은 양이온성 및 음이온성 성분을 함유하고 상기 아미드 화합물(A) 및 상기 우레아 화합물(B)과 상이하고,
상기 유기 용매(D)는 우레아기도 이온성 기도 함유하지 않고, 질소 및 산소로 이루어지는 군에서 선택되는 최대 2개의 헤테로 원자를 갖는, 조성물.
제1항에 있어서,
i) 30 내지 90 중량%의 아미드 화합물(A),
ii) 8 내지 55 중량%의 우레아 화합물(B),
iii) 0 내지 15 중량%의 이오노겐 화합물(C) 및
iv) 2 내지 25 중량%의 유기 용매(D)
를 함유하는 조성물.
제1항에 있어서, 아미드 화합물(A)의 50 내지 100 중량%는, 질소 원자에 수소가 결합되어 있는 아미드기를 갖지 않고, 아미드 화합물(A)의 50 내지 100 중량%는 또한, Ra, Rb, Rc 및 Rd 기로부터의 잔기 중 어느 것도 수소가 아닌 화학식 (I)로 나타내어지는 것을 특징으로 하는, 조성물.
제1항에 있어서, 아미드 화합물(A)의 50 내지 100 중량%가 하기 화학식 (Ia)로 나타내어지는 것을 특징으로 하는, 조성물:

.
◈청구항 5은(는) 설정등록료 납부시 포기되었습니다.◈

제4항에 있어서, 아미드 화합물(A)의 50 내지 100 중량%가 화학식 (Ia)로 나타내어지되, 이때 i) Ra를 Rb에 결합하는 N-원자와 함께하는 Ra 및 Rb, 및 ii) Rc를 Rd에 결합하는 N-원자와 함께하는 Rc 및 Rd 중에서 적어도 하나는 화학식 (ß-1)에 따르며 O 및 N으로 이루어지는 군에서 선택되는 최대 2개의 헤테로원자를 갖고 4 내지 7개의 고리 원자를 갖는 분지 또는 비분지된 포화 또는 불포화 환을 형성하는 것을 특징으로 하는, 조성물.
◈청구항 6은(는) 설정등록료 납부시 포기되었습니다.◈

제4항에 있어서, 아미드 화합물(A)의 50 내지 100 중량%는, Ra, Rb, Rc 및 Rd 중에서 하나 이상이 각각 환에 함유되지 않는 화학식 (Ia)로 나타내어지는 것을 특징으로 하는, 조성물.
제1항에 있어서, 아미드 화합물(A)의 50 내지 100 중량%의 화학식 (I)이 하기 화학식 (Ib)로 나타내어지는 것을 특징으로 하는, 조성물:

(Ib).
◈청구항 8은(는) 설정등록료 납부시 포기되었습니다.◈

제7항에 있어서, 아미드 화합물(A)의 50 내지 100 중량%의 화학식 (I)은 화학식 (Ib)로 나타내어지되, 이때 Rb 및 Rc는 각각, Rb 및 Rc에 결합되는 N-원자 및 Rz 잔기와 함께, 화학식 (γ-1)에 따르며 O 및 N으로 이루어지는 군에서 선택되는 최대 2개의 헤테로원자를 갖고 5 내지 7개의 고리 원자를 갖는 분지 또는 비분지된 포화 또는 불포화 환을 형성하는 것을 특징으로 하는, 조성물.
제7항에 있어서, 아미드 화합물(A)의 50 내지 100 중량%의 화학식 (I)은 화학식 (Ib)로 나타내어지되, 이때 i) Ra를 Rb에 결합하는 CO-N기와 함께하는 Ra 및 Rb, 및 ii) Rc를 Rd에 결합하는 CO-N기와 함께하는 Rc 및 Rd 중에서 적어도 하나는 화학식 (α-1)에 따르며 O 및 N으로 이루어지는 군에서 선택되는 최대 2개의 헤테로원자를 갖고 4 내지 10개의 고리 원자를 갖는 분지 또는 비분지된 포화 또는 불포화 환을 형성하는 것을 특징으로 하는, 조성물.
제1항에 있어서, 우레아 화합물(B)의 70 내지 100 중량%는 적어도 2개의 우레아기 또는 적어도 1개의 우레아기 및 적어도 1개의 우레탄기를 갖는 것을 특징으로 하는, 조성물.
제1항에 있어서, 우레아 화합물(B)의 50 내지 100 중량%는 하기 화학식 (II)로 나타내어지는 것을 특징으로 하는, 조성물:

[식 중,
R³¹ 및 R³²는 각각 동일하거나 상이하고, 각각 서로 독립적으로, 최대 각각 1개의 우레아기 및 최대 각각 1개의 우레탄기를 갖고 1 내지 100개의 탄소 원자를 함유하는 분지형 또는 비분지형 포화 또는 불포화 유기 라디칼이고,
R³³ 및 R³⁴는 각각 동일하거나 상이하고, 각각 서로 독립적으로, 1 내지 300개의 탄소 원자를 함유하는 분지 또는 비분지된 폴리에스테르 라디칼, 2 내지 300개의 탄소 원자를 함유하는 분지 또는 비분지된 폴리에테르 라디칼, 1 내지 300개의 탄소 원자를 함유하는 분지 또는 비분지된 폴리아미드 라디칼, 3 내지 100개의 규소 원자를 함유하는 폴리실록산 라디칼, 분지 또는 비분지된 C2-C22-알킬렌 라디칼, 분지 또는 비분지된 C3-C18-알케닐렌 라디칼, C5-C12-아릴렌 라디칼, 또는 분지 또는 비분지된 C7-C22 아릴알킬렌 라디칼이며,
Z 및 W는 각각 동일하거나 상이하고, 각각 서로 독립적으로, NH-CO-O 또는 NH-CO-NH로 나타내어지고,
n은 각각 동일하거나 상이하고, 1 내지 150, 또는 2 내지 120의 정수임].
◈청구항 12은(는) 설정등록료 납부시 포기되었습니다.◈

제1항에 있어서, 우레아 화합물(B)의 50 내지 100 중량%는 각각 2000 내지 55000의 분자량 및 4 내지 150개의 우레아기를 갖는 것을 특징으로 하는, 조성물.
제1항에 있어서, 우레아 화합물(B)의 50 내지 100 중량%는 각각 하기 화학식 (IIIa), (IIIb), (IIIc) 및 (IIId)로 이루어지는 군에서 선택되는 화학식 중 하나로 나타내어지는 것을 특징으로 하는, 조성물:

[식 중,
AM은 동일하거나 상이하고, 2 내지 50개의 C-원자를 갖는, 선형 또는 분지형, 포화 또는 불포화, 지방족, 방향족 또는 지방족-방향족 유기 라디칼이고,
AM1 및 AM2는 각각 동일하거나 상이하고, 각각 서로 독립적으로, 1 내지 50개의 C-원자를 갖는, 선형 또는 분지형, 포화 또는 불포화, 지방족, 방향족 또는 지방족-방향족 유기 라디칼이며,
IC1 및 IC2는 각각 동일하거나 상이하고, 각각 서로 독립적으로, 2 내지 40개의 C-원자를 갖는, 선형 또는 분지형, 포화 또는 불포화, 지방족, 방향족 또는 지방족-방향족 탄화수소 라디칼이고,
IC3은 동일하거나 상이하고, 2 내지 24개의 탄소 원자를 갖는, 선형 또는 분지형, 포화 또는 불포화, 지방족, 방향족 또는 지방족-방향족 탄화수소 라디칼이며,
RP1 및 RP2는 각각 동일하거나 상이하고, 각각 서로 독립적으로, 1 내지 24개의 C-원자를 갖는, 선형 또는 분지형, 포화 또는 불포화, 지방족, 방향족 또는 지방족-방향족 유기 라디칼, 1 내지 120개의 에테르 산소 원자를 갖는 폴리에테르 라디칼, 1 내지 100 에스테르기를 갖는 폴리에스테르 라디칼, 1 내지 100개의 아미드기를 갖는 폴리아미드 라디칼, 또는 3 내지 100개의 규소 원자를 갖는 폴리실록산 라디칼이며,
RP3은 동일하거나 상이하고, 2 내지 24개의 C-원자를 갖는, 선형 또는 분지형, 포화 또는 불포화, 지방족, 방향족 또는 지방족-방향족 탄화수소 라디칼, 1 내지 20개의 에테르 산소 원자를 갖는 (폴리)에테르 라디칼, 1 내지 100개의 아미드기를 갖는 폴리아미드 라디칼, 3 내지 100개의 규소 원자를 갖는 폴리실록산 라디칼, 또는 1 내지 100 에스테르기를 갖는 폴리에스테르 라디칼이고,
p 동일하거나 상이하고, 0 또는 1임].
◈청구항 14은(는) 설정등록료 납부시 포기되었습니다.◈

제13항에 있어서, 우레아 화합물(B)의 70 내지 100 중량%는, 각각 화학식 (IIIa), (IIIb), (IIIc) 및 (IIId)로 이루어지는 군에서 선택되는 화학식 중 하나로 나타내어지며, 여기서 AM은 동일하거나 상이하고,

및
(CH₂)_q
로 이루어진 군으로부터 선택되고;
R_x 및 R_y는 동일하거나 상이하고, 각각의 경우에 독립적으로 CH₃ 또는 수소이고;
q는 동일하거나 상이하고, 2 내지 12의 정수이고;
AM1 및 AM2는 각각 동일하거나 상이하고, n-프로필, 이소프로필, 부틸, 이소부틸, tert-부틸, 라우릴, 올레일, 스테아릴, 폴리이소부틸렌 및 2 내지 40개의 에테르 산소 원자를 갖는 폴리에테르, 벤질, 메틸벤질, 시클로헥실, 카르복시알킬, 히드록시알킬 및 알킬알콕시실란으로 이루어지는 군에서 선택되며.
IC1 및 IC2는 각각 동일하거나 상이하고,

및

로 이루어지는 군에서 선택되며,
IC3은 동일하거나 상이하고, 메틸, 에틸, 페닐, 벤질, 시클로헥실 및 스테아릴로 이루어지는 군에서 선택되며,
RP1 및 RP2는 각각 동일하거나 상이하고, 분지 또는 비분지형 C1- 내지 C18-알킬; 올레일; 벤질; 알릴; 폴리에테르 라디칼; 에틸렌 옥시드, 프로필렌 옥시드 또는 부틸렌 옥시드의 구조 단위를 함유하는 폴리에테르 라디칼; 및 ε-카프로락톤, δ-발레로락톤 또는 둘 모두의 구조 단위를 함유하는 폴리에스테르 라디칼로 이루어지는 군에서 선택되며,
RP3은 동일하거나 상이하고, 선형 또는 분지형 C1- 내지 C18-알킬렌; 선형 또는 분지형 C2- 내지 C18-알킬렌; 폴리에테르; 및 에틸렌 옥시드, 프로필렌 옥시드 및 부틸렌 옥시드의 구조 단위를 함유하고 1 내지 25개의 에테르 산소 원자를 갖는 폴리에테르로 이루어지는 군에서 선택되는 것을 특징으로 하는, 조성물.
◈청구항 15은(는) 설정등록료 납부시 포기되었습니다.◈

제1항에 있어서, 우레아 화합물(B)의 70 내지 100 중량%는, 각각 이소시아누레이트 형성, 우레트디온 형성 또는 둘 모두에 의해 올리고머화된 이소시아네이트와 일작용성 아민의 반응에 의해 제조될 수 있는 것을 특징으로 하는, 조성물.
◈청구항 16은(는) 설정등록료 납부시 포기되었습니다.◈

제1항에 있어서, 우레아 화합물(B)의 95 내지 100 중량%, 또는 98 내지 100 중량%는, 각각 적어도 하나의 하기 화학식 (IVa)의 분자 세그먼트를 함유하고, 각각 하기 화학식 (IVb)의 분자 세그먼트를 함유하지 않는 것을 특징으로 하는, 조성물:

(식 중, Y₁은 동일하거나 상이하고, 6 내지 20개의 탄소 원자를 함유하는 포화 또는 불포화 분지 또는 비분지형 탄화수소 라디칼임),

(식 중, Y₂는 동일하거나 상이하고, 6 내지 20개의 탄소 원자를 함유하는 포화 또는 불포화 분지 또는 비분지형 탄화수소 라디칼임).
◈청구항 17은(는) 설정등록료 납부시 포기되었습니다.◈

제1항에 있어서, 상기 조성물이 0.5 내지 4.0 중량%의 이오노겐 화합물(C)을 함유하되, 이때 이오노겐 화합물(C)의 50 내지 100 중량%는 리튬- 또는 칼슘염으로서, 또는 이의 염화물, 아세트산염 및 질산염 중 하나 이상으로서 존재하는 것을 특징으로 하는, 조성물.
제1항에 있어서, 액체 시스템의 레올로지 조절, 또는 요변성(thixotroping)을 위해 사용되는 조성물.
삭제
◈청구항 20은(는) 설정등록료 납부시 포기되었습니다.◈

제18항에 있어서, 상기 액체 시스템은, 코팅으로서, 페인트 또는 바니시로서, 플라스틱 제제로서, 안료 페이스트로서, 씰링 제제로서, 화장품으로서, 세라믹 제제로서, 접착 제제로서, 캐스팅 화합물로서, 시추 유체로서, 건축재 제제로서, 윤활제로서, 충전용 화합물로서, 인쇄 잉크로서 또는 액체 잉크로서 존재하는, 조성물.
페인트 또는 바니시로서, 플라스틱 제제로서, 안료 페이스트로서, 씰링 제제로서, 화장품으로서, 세라믹 제제로서, 접착 제제로서, 캐스팅 화합물로서, 건축재 제제로서, 윤활제로서, 시추 유체로서, 충전용 화합물로서, 인쇄 잉크로서 또는 액체 잉크로서 존재하고, 0.1 내지 7.5 중량%의 제1항 내지 제18항 중 어느 한 항에 따른 조성물이 첨가된 제제.