KR102350326B1 - 금속 코팅 방법 및 이에 의해 형성된 코팅층을 포함하는 금속 부재 - Google Patents

금속 코팅 방법 및 이에 의해 형성된 코팅층을 포함하는 금속 부재 Download PDF

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Abstract

금속 코팅 방법 및 이에 의해 형성된 코팅층을 포함하는 금속 부재가 개시된다. 본 발명의 일 실시예에 따른 금속 코팅 방법은, 금속 모재를 준비하는 단계 및 상기 금속 모재의 표면에 레이저를 조사하여 용융풀을 형성하고 상기 용융풀에 90Cr10Al, Si 및 SiC 중 어느 하나로 이루어진 파우더를 공급하여 적층 가공 방식으로 코팅층을 형성하는 단계를 포함한다.

Description

금속 코팅 방법 및 이에 의해 형성된 코팅층을 포함하는 금속 부재{METAL COATING METHOD AND METAL MEMBER COMPRISING COATING LAYER FORMED THEREBY}
본 발명은 금속 코팅 방법 및 이에 의해 형성된 코팅층을 포함하는 금속 부재에 관한 것으로 더욱 상세하게는, 적층 가공 방식에 의해 금속 모재에 코팅층을 형성시키는 방법 및 이에 의해 형성된 코팅층을 포함하는 금속 부재에 관한 것이다.
수소 연료전지용 분리판은 수소, 산소, 냉각수를 각각 분리하여 연료전지 셀의 전면적에 걸쳐 균일하게 공급해 주면서, 전기화학반응에 의해 생성되는 전류를 모아주는 역할을 수행한다.
종래에는 수요 연료전지용 분리판으로 흑연소재가 사용되었지만, 흑연소재는 강도가 낮고 가스 밀폐성 확보가 어려울 뿐만 아니라 제조 단가가 높아서 이를 대체할 수 있는 금속소재를 적용하기 위한 연구 개발이 활발히 이루어지고 있다. 금속계 분리판은 높은 강도와 스템핑과 같은 양산기술의 적용으로 상용화가 용이한 기술로 인식되고 있다.
그러나 금속소재는 연료전지 환경에서 부식에 의한 손상 및 산화피막 형성에 의한 저항값의 증가 등이 상용화에 있어 걸림돌로 작용하고 있다. 이러한 문제의 해결을 위해 금속소재 분리판의 표면에 내산화 코팅을 수행하는 방법이 제시되고 있다.
내산화 코팅은 크게 습식공정(Wet process)과 건식공정(Dry process)으로 구별될 수 있다. 습식공정으로는 전기도금, 고분자 또는 고분자와 전도성입자의 혼합코팅 기술이 선보이고 있으며, 건식공정으로는 CVD, PVD 및 플라즈마 코팅 기술을 활용한 각종 내산화, 고전도 물질 코팅 연구가 진행되고 있다.
이러한 다양한 코팅 기술에도 불구하고 아직까지 수소 연료전지용 금속분리판의 각종 성능을 만족시키고 경제성을 확보하는 데에는 어려움이 있는 실정이다. 이에 수소 연료전지용 금속분리판의 전기전도성, 열전도성, 가스밀폐성 및 내식성을 만족시키면서도 내구성 및 경제성을 확보하여 줄 수 있는 새로운 기술의 개발이 요구되고 있다.
대한민국 등록특허 제1609214호 "3D 레이저 프린팅용 파우더 공급노즐", 2016. 03. 30 등록
본 발명은 전술한 종래기술의 문제점을 해결하기 위한 것으로, 본 발명의 목적은, 수소 연료전지용 금속분리판의 내부식성 등의 성능을 만족시키면서도 내구성 및 경제성도 확보하여 주는 금속 코팅 방법 및 이에 의해 형성된 코팅층을 포함하는 금속 부재를 제공하는 것이다.
본 발명의 일 측면에 따르면, 금속 모재를 준비하는 단계 및 상기 금속 모재의 표면에 레이저를 조사하여 용융풀을 형성하고 상기 용융풀에 90Cr10Al, Si 및 SiC 중 어느 하나로 이루어진 파우더를 공급하여 적층 가공 방식으로 코팅층을 형성하는 단계를 포함하는 금속 코팅 방법이 제공된다.
이때, 상기 적층 가공은 레이저 파워 180~220W, 해칭 거리(hatching distance) 0.21~0.39㎜의 조건에서 진행될 수 있다.
또한, 상기 파우더는 90Cr10Al으로 이루어지고, 상기 적층 가공은 스캔 스피드 4~12㎜/s로 진행될 수 있다.
또한, 상기 파우더는 6.5~7.5L/min로 공급되는 파우더 가스와 함께 상기 용융풀로 토출될 수 있다.
또한, 상기 레이저의 조사 시 7~8L/min로 공급되는 이너가스가 함께 토출될 수 있다.
또한, 상기 파우더는 Si 또는 SiC으로 이루어지고, 상기 적층 가공은 스캔 스피드 4~8㎜/s로 진행될 수 있다.
또한, 상기 파우더는 6~7L/min로 공급되는 파우더 가스와 함께 상기 용융풀로 토출될 수 있다.
또한, 상기 레이저의 조사 시 6.5~7.5L/min로 공급되는 이너가스가 함께 토출될 수 있다.
또한, 상기 코팅층을 형성하는 단계는 상기 금속 모재의 배면을 냉각시켜 상기 금속 모재의 배면 온도를 100℃ 이하로 유지시키는 상태에서 수행될 수 있다.
본 발명의 다른 일 측면에 따르면, 금속 모재 및 상기 금속 코팅 방법을 통해 상기 금속 모재의 표면에 형성된 코팅층을 포함하는 금속 부재가 제공된다.
본 발명의 일 실시예에 따르면, 금속 모재의 표면에 90Cr10Al, Si 및 SiC 중 어느 하나로 이루어진 파우더를 공급하여 적층 가공 방식으로 코팅층을 형성시킬 수 있으며, 이를 통해 내부식성 등의 성능과 내구성 및 경제성을 갖춘 수소 연료전지용 금속분리판을 제공받을 수 있다.
도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 금속 코팅 방법의 순서도이다.
도 2는 본 발명의 일 실시예에 따른 금속 코팅 방법에 의해 금속 모재에 코팅층이 형성되는 과정을 나타낸 도면이다.
도 3은 90Cr10Al 파우더를 SUS304의 표면에 적층하되 스캔 스피드를 달리하여 제조한 시편들의 전자현미경 사진이다.
도 4는 SiC 파우더를 SUS304의 표면에 적층하되 스캔 스피드를 달리하여 제조한 시편들의 전자현미경 사진이다.
도 5는 본 발명의 일 실시예에 따른 금속 코팅 방법에 따라 제조된 시편들의 사진이다.
도 6은 본 발명의 일 실시예에 따라 90Cr10Al 파우더를 SUS304의 표면에 적층한 시편의 부식특성(분극시험) 평가 결과를 나타낸 그래프이다.
도 7은 본 발명의 일 실시예에 따라 Si 파우더를 SUS304의 표면에 적층한 시편의 부식특성(분극시험) 평가 결과를 나타낸 그래프이다.
도 8은 본 발명의 일 실시예에 따라 SiC 파우더를 SUS304의 표면에 적층한 시편의 부식특성(분극시험) 평가 결과를 나타낸 그래프이다.
도 9는 코팅층이 형성되지 않은 SUS304의 부식특성(분극시험) 평가 결과를 나타낸 그래프이다.
도 10은 분극시험 전 후 시편들의 표면 사진들을 나타낸 도면이다.
이하, 첨부한 도면을 참고로 하여 본 발명의 실시예에 대하여 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자가 용이하게 실시할 수 있도록 상세히 설명한다. 본 발명은 여러 가지 상이한 형태로 구현될 수 있으며 여기에서 설명하는 실시예에 한정되지 않는다. 본 발명을 명확하게 설명하기 위해서 도면에서 설명과 관계없는 부분은 생략하였으며, 명세서 전체를 통하여 동일 또는 유사한 구성요소에 대해서는 동일한 참조부호를 붙였다.
본 명세서에서, "포함하다" 또는 "가지다" 등의 용어는 명세서상에 기재된 특징, 숫자, 단계, 동작, 구성 요소, 부품 또는 이들을 조합한 것이 존재함을 설명하려는 것이지, 하나 또는 그 이상의 다른 특징들이나 숫자, 단계, 동작, 구성 요소, 부품 또는 이들을 조합한 것들의 존재 또는 부가 가능성을 미리 배제하지 않는 것으로 이해되어야 한다.
도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 금속 코팅 방법의 순서도이다. 도 2는 본 발명의 일 실시예에 따른 금속 코팅 방법에 의해 금속 모재에 코팅층이 형성되는 과정을 나타낸 도면이다.
본 발명의 일 실시예에 따른 금속 코팅 방법은 수소 연료전지용 금속분리판의 내산화 코팅과 유로형성 처리를 3D 프린팅 공정기술을 제공할 수 있다. 본 발명의 일 실시예에 따른 금속 코팅 방법에 따르면 금속 모재의 표면에 내산화 코팅층을 형성시킬 수 있다.
본 발명의 일 실시예에 따른 금속 코팅 방법은 내산화, 고전도 물질을 금속 모재와 강한 접합력이 유지되도록 코팅하여 내구성을 향상시킨다. 또한, 본 발명의 일 실시예에 의한 금속 코팅 방법에 따라 적층 가공(3D 프린팅)을 수행할 경우 표면 거칠기와 유로를 제어하여 금속분리판의 단위면적당 효율을 증가시키고 유로형성 처리를 할 수 있다.
도 1 및 도 2를 참조하면, 본 발명의 일 실시예에 따른 금속 코팅 방법은, 금속 모재를 준비하는 단계(S10) 및 코팅층을 형성하는 단계(S30)를 포함할 수 있다.
금속 모재(10)를 준비하는 단계(S10)에서 표면에 코팅층(30)이 형성될 금속 모재(10)가 준비된다. 본 발명의 일 실시예에서, 금속 모재(10)는 수소 연료전지용 금속분리판이 될 수 있다.
예를 들면, 금속 모재(10)의 재질은 스테인리스 강(SUS)이 될 수 있다. 더욱 상세하게, 금속 모재(10)의 재질은 SUS304, SUS316 등이 될 수 있다.
본 발명의 일 실시예에 의할 경우 금속 모재(10)의 표면에 내부식성을 가지는 코팅층(30)을 안정적으로 형성시킬 수 있으므로 SUS316에 비하여 상대적으로 가격이 낮은 SUS304 재질을 사용하더라도 수소 연료전지용 금속분리판의 내부식성을 비롯한 각종 성능을 충분히 확보할 수 있다.
코팅층(30)을 형성하는 단계(S30)에서 금속 모재(10)의 표면에 레이저를 조사하여 용융풀을 형성하고 상기 용융풀에 90Cr10Al, Si 및 SiC 중 어느 하나로 이루어진 파우더를 공급하여 적층 가공 방식으로 코팅층(30)을 형성한다.
이때, 적층 가공 방식은 DED(Direct Energy Deposition) 방식이 될 수 있다. 더욱 상세하게, 상기 적층 가공은 대한민국 등록특허 제1609214호에 개시된 3D 레이저 프린팅용 파우더 공급노즐을 이용하여 진행될 수 있다.
90Cr10Al, Si 및 SiC는 연료전지 환경에서 내산성이 우수하고 산화피막을 형성하지 않으면서 전기전도성이 우수한 성질을 가지고 있다. 코팅층(30)을 형성하는 단계(S30)에서 이와 같은 성질을 지닌 90Cr10Al, Si 및 SiC 조성의 불균질한 입자가 금속 모재(10)의 표면에 적층(코팅)된다.
코팅층(30)의 내산화성과 기밀성을 유지하기 위해서 열원으로 사용하는 레이저의 에너지 범위는 코팅 소재 파우더를 50% 이상 용융상태로 만들면서, 금속 모재 표면을 20~60% 범위로 용융되도록 하여 코팅소재 파우더와 금속 모재(10)가 일부 혼합되는 조성층의 형성으로 계면의 접합력을 향상시키는 것이 바람직하다.
이때, 금속 모재(10)의 배면(바닥)은 냉매를 접촉 순환시켜 온도가 100℃ 이하로 유지될 수 있도록 하는 것이 바람직하다. 금속 모재(10)의 온도가 지나치게 올라갈 경우 반응층 두께가 두꺼워지는 문제가 발생할 수 있기 때문이다.
한편, 코팅층(30)을 형성하는 단계(S30)에서 코팅층(30)은 패턴을 가지고 형성될 수 있다. 예를 들어, 금속 모재(10)가 연료전지 금속분리판인 경우 코팅층(30)은 금속 모재(10)의 표면에 유로가 형성되도록 패턴 구현이 가능하고 파우더 입자가 돌출되어 연료전지 환경에서 표면적이 극대화되도록 함으로써 단위면적당 효율을 증가시킬 수 있다. 이와 같이 본 발명의 일 실시예에 따라 형성되는 코팅층(30)에 의해 금속분리판의 고성능을 확보할 수 있다.
코팅층(30)을 형성하는 단계(S30)에서 상기 적층 가공은 레이저 파워 180~220W, 해칭 거리(hatching distance) 0.21~0.39㎜의 조건에서 진행될 수 있다. 이때, 레이저 조사의 포커스(Focous)는 0으로 설정될 수 있다.
도 2를 참조하면, 해칭 거리(D2)는 인접한 용융풀 사이의 중첩되는 거리에 해당한다. 본 발명의 일 실시예에서, 레이저가 조사되며 생성되는 용융풀의 직경(D1)은 1㎜이고, 해칭 거리(D2)는 0.21~0.39㎜로 설정될 수 있다.
상기 범위를 벗어나 해칭 거리(D2)를 과대하게 할 경우 코팅층(30) 형성의 효율이 저하되고, 해칭 거리(D2)를 과소하게 할 경우 코팅층(30)이 제대로 형성되지 않는 부분이 발생할 개연성이 있다.
코팅층(30)을 형성하는 단계(S30)에서 상기 파우더가 90Cr10Al으로 이루어지는 경우, 상기 적층 가공은 스캔 스피드 4~12㎜/s의 조건에서 진행될 수 있다.
이때, 상기 파우더는 6.5~7.5L/min로 공급되는 파우더 가스와 함께 상기 용융풀로 토출될 수 있다. 파우더 가스는 비활성 기체로 이루어질 수 있다. 예를 들면, 파우더 가스는 아르곤(Ar) 가스가 될 수 있다.
또한, 상기 레이저의 조사 시 7~8L/min로 공급되는 이너가스가 함께 토출될 수 있다. 이너 가스는 비활성 기체로 이루어질 수 있다. 이너 가스는 용융풀에서 파우더의 분산이 원활하게 이루어질 수 있게 해준다. 예를 들면, 이너 가스는 아르곤(Ar) 가스가 될 수 있다.
아래의 표 1은 90Cr10Al으로 이루어진 파우더를 SUS304로 이루어진 금속 모재 상에 적층 가공하여 코팅층을 형성시킬 때, 레이저 파워는 200W, 포커스는 0, 이너가스 공급속도는 7L/min, 파우더 가스 공급속도는 6.5L/min, 해칭 거리는 0.3㎜로 고정하고, 스캔 스피드를 달리하여 5개의 시편을 제작하는 공정 조건을 나타낸 것이다.
시편 레이저 파워
(Laser power)		 스캔 스피드
(Scan speed)		 포커스
(Focus)		 가스(Gas)
(이너 가스/
파우더 가스)		 해칭 거리
(Hatching distance)
1 200W 4㎜/s 0 7/6.5(L/min) 0.3㎜
2 200W 8㎜/s 0 7/6.5(L/min) 0.3㎜
3 200W 10㎜/s 0 7/6.5(L/min) 0.3㎜
4 200W 12㎜/s 0 7/6.5(L/min) 0.3㎜
5 200W 14㎜/s 0 7/6.5(L/min) 0.3㎜
도 3에는 표 1에 따른 적층 공정 조건에 따라 코팅층을 형성하는 단계(S30)가 진행된 후 금속 모재와 코팅층의 단면의 전자현미경 사진이 나타나 있다.
도 3을 참조하면, 90Cr10Al으로 이루어진 파우더를 SUS304로 이루어진 금속 모재 상에 적층 가공하여 코팅층을 형성시킬 때, 스캔 스피드가 12㎜/s를 넘어설 경우 코팅 두께가 감소하고 코팅이 간헐적으로 이루어지는 것이 확인된다. 따라서 90Cr10Al으로 이루어진 파우더를 금속 모재에 적층할 경우 적정한 스캔 스피드는 4~12㎜/s인 것으로 나타나며, 효율을 고려할 때 12㎜/s 스캔 스피드가 바람직하다고 판단된다.
코팅층(30)을 형성하는 단계(S30)에서 상기 파우더가 Si 또는 SiC으로 이루어지는 경우, 상기 적층 가공은 스캔 스피드 4~8㎜/s의 조건에서 진행될 수 있다.
이때, 상기 파우더는 6~7L/min로 공급되는 파우더 가스와 함께 상기 용융풀로 토출될 수 있다. 파우더 가스는 비활성 기체로 이루어질 수 있다. 예를 들면, 파우더 가스는 아르곤(Ar) 가스가 될 수 있다.
또한, 상기 레이저의 조사 시 6.5~7.5L/min로 공급되는 이너가스가 함께 토출될 수 있다. 이너 가스는 비활성 기체로 이루어질 수 있다. 이너 가스는 용융풀에서 파우더의 분산이 원활하게 이루어질 수 있게 해준다. 예를 들면, 이너 가스는 아르곤(Ar) 가스가 될 수 있다.
아래의 표 2는 SiC로 이루어진 파우더를 SUS304로 이루어진 금속 모재 상에 적층 가공하여 코팅층을 형성시킬 때, 레이저 파워는 220W, 포커스는 0, 이너가스 공급속도는 7L/min, 파우더 가스 공급속도는 6.5L/min, 해칭 거리는 0.3㎜로 고정하고, 스캔 스피드를 달리하여 5개의 시편을 제작하는 공정 조건을 나타낸 것이다.
시편 레이저 파워
(Laser power)		 스캔 스피드
(Scan speed)		 포커스
(Focus)		 가스(Gas)
(이너 가스/
파우더 가스)		 해칭 거리
(Hatching distance)
1 220W 4㎜/s 0 7/6.5(L/min) 0.3㎜
2 220W 6㎜/s 0 7/6.5(L/min) 0.3㎜
3 220W 8㎜/s 0 7/6.5(L/min) 0.3㎜
4 220W 10㎜/s 0 7/6.5(L/min) 0.3㎜
도 4에는 표 2에 따른 적층 공정 조건에 따라 코팅층을 형성하는 단계(S30)가 진행된 후 금속 모재와 코팅층의 단면의 전자현미경 사진이 나타나 있다.
도 4를 참조하면, SiC로 이루어진 파우더를 SUS304로 이루어진 금속 모재 상에 적층 가공하여 코팅층을 형성시킬 때, 스캔 스피드가 8㎜/s를 넘어설 경우 코팅 두께가 감소하고 코팅이 간헐적으로 이루어지는 것이 확인되었다. 따라서 SiC로 이루어진 파우더를 금속 모재에 적층할 경우 적정한 스캔 스피드는 4~8㎜/s인 것으로나타나며, 효율을 고려할 때 8㎜/s 스캔 스피드가 바람직한 것으로 판단된다.
SiC로 이루어진 파우더를 SUS304로 이루어진 금속 모재 상에 적층 가공하여 코팅층을 형성시킬 때의 위와 같은 시험 결과는 Si로 이루어진 파우더를 SUS304로 이루어진 금속 모재 상에 적층 가공하여 코팅층을 형성시킬 때에도 유사하게 나타나는 것으로 확인되었다.
한편, 상기 코팅층을 형성하는 단계(S30)에서 전술한 모든 공정들은 상기 금속 모재의 배면을 냉각시켜 상기 금속 모재의 배면 온도를 100℃ 이하로 유지시키는 상태에서 수행될 수 있다.
도 5는 본 발명의 일 실시예에 따른 금속 코팅 방법에 따라 제조된 시편들의 사진이다. 또한, 도 6은 본 발명의 일 실시예에 따라 90Cr10Al 파우더를 SUS304의 표면에 적층한 시편의 부식특성(분극시험) 평가 결과를 나타낸 그래프이고, 도 7은 본 발명의 일 실시예에 따라 Si 파우더를 SUS304의 표면에 적층한 시편의 부식특성(분극시험) 평가 결과를 나타낸 그래프이며, 도 8은 본 발명의 일 실시예에 따라 SiC 파우더를 SUS304의 표면에 적층한 시편의 부식특성(분극시험) 평가 결과를 나타낸 그래프이다. 한편, 도 9에는 코팅층이 형성되지 않은 SUS304의 부식특성(분극시험) 평가 결과를 나타낸 그래프가 도시되어 있다.
이를 토대로 각 시편 및 비교예의 부식전류(corrosion current) 및 부식률(corrosion rate)을 결정하면 아래의 표 3과 같다.
부식전류
(icorr, ㎂/㎠)		 부식률
(㎜/yr)
CrAl 코팅 시편 1.285 9.79×10-3
Si 코팅 시편 1.683 1.66×10-2
SiC 코팅 시편 1.555 1.58×10-2
금속 모재(비교예) 2.110 2.20×10-2
표 3을 살펴보면, 본 발명의 실시예에 따라 제조된 시편들의 부식특성이 비교예에 비하여 모두 우수하게 나타남을 확인할 수 있다. 한편, 도 10에는 분극시험 전 후 시편들의 표면 사진들이 나타나 있는데, 도 10을 참조하면 실제 시험 후에 시편의 표면에 부식이 거의 나타나지 않는다는 사실을 확인할 수 있다.
이와 같이 본 발명의 실시예에 따른 금속 코팅 방법에 의할 경우 금속 모재(10) 및 상기 금속 코팅 방법을 통해 금속 모재(10)의 표면에 형성된 코팅층(30)을 포함하는 금속 부재를 얻을 수 있다. 예를 들면, 금속 부재는 수소 연료전지의 금속분리판이 될 수 있다.
이와 같이 본 발명의 일 실시예에 의할 경우 금속 모재의 재질 및 형상에 관계없이 표면에 내산화 물질을 코팅하여 부식 특성을 향상시키면서 연료전지 분리판에 요구되는 유로형상 및 표면구조를 제어할 수 있게 된다.
본 발명의 일 실시예에 대하여 설명하였으나, 본 발명의 사상은 본 명세서에 제시되는 실시예에 의해 제한되지 아니하며, 본 발명의 사상을 이해하는 당업자는 동일한 사상의 범위 내에서, 구성요소의 부가, 변경, 삭제, 추가 등에 의해서 다른 실시예를 용이하게 제안할 수 있을 것이나, 이 또한 본 발명의 사상범위 내에 든다고 할 것이다.
10: 금속 모재
30: 코팅층

Claims (10)

  1. 스테인리스 강(SUS) 재질의 금속 모재를 준비하는 단계 및
    상기 금속 모재의 표면에 레이저를 조사하여 용융풀을 형성하고 상기 용융풀에 90Cr10Al, Si 및 SiC 중 어느 하나로 이루어진 파우더를 공급하여 적층 가공 방식으로 코팅층을 형성하는 단계를 포함하고,
    상기 적층 가공은 레이저 파워 180~220W, 해칭 거리(hatching distance) 0.21~0.39㎜의 조건에서 진행되며,
    상기 파우더가 90Cr10Al으로 이루어진 경우, 상기 적층 가공은 스캔 스피드 4~12㎜/s로 진행되고, 상기 파우더가 Si 또는 SiC으로 이루어진 경우, 상기 적층 가공은 스캔 스피드 4~8㎜/s로 진행되고,
    상기 코팅층을 형성하는 단계는 상기 금속 모재의 배면을 냉각시켜 상기 금속 모재의 배면 온도를 100℃ 이하로 유지시키는 상태에서 수행되는 금속 코팅 방법.
  2. 삭제
  3. 삭제
  4. 제 1 항에 있어서,
    상기 파우더가 90Cr10Al으로 이루어진 경우, 6.5~7.5L/min로 공급되는 파우더 가스와 함께 상기 용융풀로 토출되는 금속 코팅 방법.
  5. 제 4 항에 있어서,
    상기 파우더가 90Cr10Al으로 이루어진 경우, 상기 레이저의 조사 시 7~8L/min로 공급되는 이너가스가 함께 토출되는 금속 코팅 방법.
  6. 삭제
  7. 제 1 항에 있어서,
    상기 파우더가 Si 또는 SiC로 이루어진 경우, 6~7L/min로 공급되는 파우더 가스와 함께 상기 용융풀로 토출되는 금속 코팅 방법.
  8. 제 7 항에 있어서,
    상기 파우더가 Si 또는 SiC로 이루어진 경우, 상기 레이저의 조사 시 6.5~7.5L/min로 공급되는 이너가스가 함께 토출되는 금속 코팅 방법.
  9. 삭제
  10. 금속 모재 및
    제 1 항, 제 4 항, 제 5 항, 제 7 항 및 제 8 항 중 어느 한 항의 방법으로 상기 금속 모재의 표면에 형성된 코팅층을 포함하는 금속 부재.
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