KR102289097B1 - Pushing apparatus and match plate for test handler - Google Patents

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KR102289097B1 KR1020150000771A KR20150000771A KR102289097B1 KR 102289097 B1 KR102289097 B1 KR 102289097B1 KR 1020150000771 A KR1020150000771 A KR 1020150000771A KR 20150000771 A KR20150000771 A KR 20150000771A KR 102289097 B1 KR102289097 B1 KR 102289097B1
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노종기
유병우
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Abstract

본 발명은 테스트핸들러용 가압장치 및 매치플레이트에 관한 것이다.
본 발명에 따른 가압장치는, 테스트트레이와 가지런히 맞으며, 가지런히 맞았을 시에 테스트트레이에 적재된 반도체소자들을 가압하는 푸셔를 가지는 매치플레이트; 상기 매치플레이트가 설치되는 설치플레이트; 상기 설치플레이트를 전방으로 이동시키거나 후방으로 이동시킴으로써, 상기 매치플레이트가 테스트트레이에 가지런히 맞도록 하거나 가지런히 맞음을 해제시키는 구동원; 및 상기 설치플레이트와 열교환하기 위한 열교환판; 을 포함하고, 상기 구동원은 열교환 또는 열적 상태의 전환 시에 상기 설치플레이트와 상기 열교환판을 접촉시키거나 접촉을 해제시킨다.
본 발명에 따르면, 테스트모드 전환 시에 금속재질의 구성들에 의해 늘어졌던 전환 시간이 단축됨으로써 테스트핸들러의 가동률을 상승시킬 수 있는 효과가 있다.
The present invention relates to a pressure device for a test handler and a match plate.
A pressing device according to the present invention includes: a match plate having a pusher that is aligned with a test tray and presses semiconductor devices loaded on the test tray when aligned; an installation plate on which the match plate is installed; a driving source for moving the installation plate forward or backward so that the match plate fits evenly on the test tray or releases the alignment; and a heat exchange plate for exchanging heat with the installation plate. Including, the driving source makes contact or release of the contact between the installation plate and the heat exchange plate when heat exchange or conversion of a thermal state.
According to the present invention, there is an effect that the operation rate of the test handler can be increased by shortening the switching time, which was stretched by the metal components when switching the test mode.

Description

테스트핸들러용 가압장치 및 매치플레이트{PUSHING APPARATUS AND MATCH PLATE FOR TEST HANDLER}Pressurizing device and match plate for test handlers {PUSHING APPARATUS AND MATCH PLATE FOR TEST HANDLER}

본 발명은 생산된 반도체소자의 테스트에 지원되는 테스트핸들러에 관련된다. 특히 본 발명은 반도체소자를 테스터 측으로 가압(加壓)하거나 지지하는 가압장치에 관한 것이다.
The present invention relates to a test handler supported for testing of manufactured semiconductor devices. In particular, the present invention relates to a pressing device for pressing or supporting a semiconductor device toward a tester.

테스트핸들러는 소정의 제조공정을 거쳐 제조한 반도체소자들을 테스트하는 데 사용된다.The test handler is used to test semiconductor devices manufactured through a predetermined manufacturing process.

테스트핸들러는 반도체소자들을 고객트레이(CUSTOMER TRAY)로부터 테스트트레이(TEST TRAY)로 이동시키고, 테스트트레이에 적재되어 있는 반도체소자들이 동시에 테스터(TESTER)에 의해 테스트(TEST)될 수 있도록 지원하며, 테스트 결과에 따라 반도체소자를 등급별로 분류하면서 테스트트레이에서 고객트레이로 이동시킨다.The test handler moves semiconductor devices from the customer tray to the test tray, and supports the semiconductor devices loaded in the test tray to be simultaneously tested by the tester, According to the results, the semiconductor devices are sorted by grade and moved from the test tray to the customer tray.

위에 언급된 테스트트레이는 반도체소자가 테스트트레이로 로딩(LOADING)되는 위치(이하 '로딩위치'라 함), 테스트트레이에 적재된 반도체소자가 테스터에 전기적으로 연결되는 위치(이하 '테스트위치'라 함), 테스트가 완료된 반도체소자가 테스트트레이로부터 언로딩(UNLOADING)되는 위치(이하 '언로딩위치'라 함)를 거쳐 다시 로딩위치로 이어지는 일정한 순환 경로를 순환하게 된다.The above-mentioned test tray is the position where the semiconductor device is loaded into the test tray (hereinafter referred to as the 'loading position'), and the position where the semiconductor device loaded on the test tray is electrically connected to the tester (hereinafter referred to as the 'test position'). ), the semiconductor device that has been tested passes through a position where the semiconductor device is unloaded from the test tray (hereinafter referred to as an 'unloading position'), and then circulates through a constant circulation path leading back to the loading position.

일반적으로 테스트핸들러는 반도체소자의 사용 환경을 고려하여 반도체소자에 열적 자극(고온 또는 저온)을 가한 후, 테스트가 완료되면 반도체소자로부터 가해졌던 열적 자극을 제거하는 과정을 가진다. 이 때, 반도체소자에 열적 자극을 가하거나 제거하는 과정은 테스트트레이의 순환 경로 상에서 이루어진다.In general, a test handler applies a thermal stimulus (high or low temperature) to a semiconductor device in consideration of the usage environment of the semiconductor device, and then removes the applied thermal stimulus from the semiconductor device when the test is completed. At this time, the process of applying or removing the thermal stimulus to the semiconductor device is performed on the circulation path of the test tray.

도1은 종래의 테스트핸들러(TH)에 대한 개념적인 평면도이다.1 is a conceptual plan view of a conventional test handler (TH).

테스트핸들러(TH)는 테스트트레이(TT), 제1 픽킹장치(GU1), 제1 챔버(CB1), 테스트챔버(TC), 가압장치(PU), 제2 챔버(CB2), 제2 픽킹장치(GU2), 다수의 온도 조절기(TR1 내지 TR6) 및 제어기(CU)를 포함한다.The test handler TH includes a test tray TT, a first picking device GU1, a first chamber CB1, a test chamber TC, a pressurizing device PU, a second chamber CB2, and a second picking device. (GU2), a plurality of temperature controllers (TR1 to TR6) and a controller (CU).

테스트트레이(TT)에는 대한민국 등록 실용신안 20-0389824호 등에서 참조되는 바와 같이 다수의 반도체소자들이 적재될 수 있으며, 다수의 이송기들(미도시)에 의해 정해진 순환 경로(C)를 따라 순환한다.A plurality of semiconductor devices may be loaded in the test tray TT, as referenced in Republic of Korea Utility Model No. 20-0389824, and the like, and circulates along a circulation path C determined by a plurality of transporters (not shown). .

제1 픽킹장치(GU1)는 고객트레이에 적재되어 있는 테스트되어야 할 반도체소자를 로딩위치(LP : LOADING POSITION)에 있는 테스트트레이(TT)로 로딩시킨다. 이러한 제1 픽킹장치(GU1)는 대한민국 공개 실용신안 20-2010-0012620호에서와 같은 픽앤플레이스장치 단독으로 구성될 수도 있지만, 대한민국 공개특허 10-2007-0077905호에서 참조되는 바와 같이 복수의 픽앤플레이스장치와 기동형 로딩 테이블 등으로 구성될 수도 있다.The first picking device GU1 loads the semiconductor device to be tested loaded on the customer tray into the test tray TT at the loading position LP. The first picking device GU1 may be configured as a single pick-and-place device as in Korean Utility Model Publication No. 20-2010-0012620, but a plurality of pick-and-place devices as referenced in Korean Patent Application Laid-Open No. 10-2007-0077905 It may consist of a device and a movable loading table and the like.

제1 챔버(CB1)는 테스트트레이(TT)에 적재되어 있는 반도체소자를 테스트 온도 조건에 따라 테스트하기에 앞서 미리 열적 자극을 가하기 위해 마련된다. 즉 반도체소자는 테스트위치(TP : TEST POSITION)로 가기 전에 재1 챔버(CB1) 내부의 온도로 미리 동화된다. 따라서 전체 물류의 흐름이 빨라지고 처리 용량이 향상된다. 여기서 테스트트레이(TT)는 제1 챔버(CB1)의 내부에서 이송된다.The first chamber CB1 is provided to apply thermal stimulation in advance before testing the semiconductor device loaded on the test tray TT according to the test temperature condition. That is, the semiconductor device is assimilated to the temperature inside the first chamber CB1 before going to the test position (TP). Therefore, the flow of the whole logistics is accelerated and the processing capacity is improved. Here, the test tray TT is transferred inside the first chamber CB1.

테스트챔버(TC)는 제1 챔버(CB1)에서 열적 자극을 받은 후 테스트위치(TP)로 이송되어 온 테스트트레이(TT)에 있는 반도체소자를 테스트하기 위해 마련된다. 이러한 테스트챔버(TC)의 내부는 제1 챔버(CB1)의 내부와 열적인 상태가 항상 비슷하기 때문에 상호 연결되어 있다. 참고로 테스터(TESTER)는 테스트챔버(TC)의 윈도우 측으로 결합된다. The test chamber TC is provided to test the semiconductor device in the test tray TT that has been transferred to the test position TP after receiving the thermal stimulus from the first chamber CB1 . The interior of the test chamber TC is interconnected because the thermal state of the interior of the first chamber CB1 is always similar. For reference, the tester TESTER is coupled to the window side of the test chamber TC.

가압장치(PU)는 테스트챔버(TC) 내에 있는 테스트트레이(TT)에 있는 반도체소자를 테스터(TESTER) 측으로 가압한다(대한민국 공개 특허 10-2005-0055685호 등 참조). 이로 인해 테스트트레이(TT)에 있는 반도체소자가 테스터(TESTER)에 전기적으로 접속된다.The pressing device PU presses the semiconductor device in the test tray TT in the test chamber TC toward the tester TESTER (refer to Korean Patent Application Laid-Open No. 10-2005-0055685, etc.). Due to this, the semiconductor device in the test tray TT is electrically connected to the tester TESTER.

제2 챔버(CB2)에서는 테스트챔버(TC)로부터 이송되어 온 테스트트레이(TT)에 있는 반도체소자로부터 열적 자극을 제거시키기 위해 마련된다. 이렇게 제2 챔버(CB2)를 구성하는 이유는 테스트트레이(TT)로부터 테스트 완료된 반도체소자를 언로딩시킬 때, 정상적인 언로딩 작업이 이루어지도록 하기 위함과 제2 픽킹장치(GU2)가 손상되거나 반도체소자의 상품성이 손상되는 것을 방지하기 위함이다. 따라서 제2 챔버(CB2)의 내부 온도와 테스트챔버(TC)의 내부 온도가 서로 다르기 때문에 제2 챔버(CB2)와 테스트챔버(TC) 간을 개폐하기 위한 개폐 도어(DR)가 구비되어야 한다. 마찬가지로 테스트트레이(TT)는 제2 챔버(CB2)의 내부에서 이송된다.In the second chamber CB2, a thermal stimulus is removed from the semiconductor device in the test tray TT transferred from the test chamber TC. The reason for configuring the second chamber CB2 in this way is to allow a normal unloading operation to be performed when the tested semiconductor device is unloaded from the test tray TT, and the second picking device GU2 may be damaged or the semiconductor device may be damaged. This is to prevent damage to the commercial properties of Therefore, since the internal temperature of the second chamber CB2 and the internal temperature of the test chamber TC are different from each other, the opening/closing door DR for opening and closing the second chamber CB2 and the test chamber TC must be provided. Similarly, the test tray TT is transferred inside the second chamber CB2.

제2 픽킹장치(GU2)는 제2 챔버(CB2)에서 언로딩위치(UP : UNLOADING POSITION)로 온 테스트트레이(TT)에 있는 반도체소자를 언로딩하면서 테스트 등급별로 분류하여 빈 고객트레이로 적재시킨다. 마찬가지로 제2 픽킹장치(GU2)는 픽앤플레이스장치 단독으로 구성될 수도 있지만, 대한민국 공개특허 10-2007-0079223호에서 참조되는 바와 같이 복수의 픽앤플레이스장치와 소팅 테이블 등으로 구성될 수도 있다.The second picking device GU2 unloads the semiconductor devices in the test tray TT that are on from the second chamber CB2 to the UNLOADING POSITION UP, classifies them by test grade, and loads them into an empty customer tray. . Similarly, the second picking device GU2 may be configured as a single pick-and-place device, or may include a plurality of pick-and-place devices and a sorting table, as referred to in Korean Patent Laid-Open No. 10-2007-0079223.

다수의 온도 조절기(TR1 내지 TR6)는 제1 챔버(CB1), 테스트챔버(TC) 및 제2 챔버(CB2) 내부의 온도를 조절한다. 여기서 테스트챔버(TC)의 내부는 테스트되는 반도체소자의 온도 조건과 직접적으로 관련되기 때문에 정교한 온도 조절이 이루어져야하면서도 테스트 도중 발생하는 온도 변화를 신속하게 억제해야 되기 때문에 여러 개의 온도 조절기(TR3 내지 TR6)가 필요하다. The plurality of temperature controllers TR1 to TR6 control the internal temperatures of the first chamber CB1 , the test chamber TC, and the second chamber CB2 . Here, since the inside of the test chamber (TC) is directly related to the temperature condition of the semiconductor device being tested, it is necessary to quickly suppress the temperature change that occurs during the test while precise temperature control is required. is needed

제어기(CU)는 위에서 언급한 각 구성들 중 제어가 필요한 구성들을 제어한다.The controller CU controls the components that need to be controlled among the above-mentioned respective components.

한편, 반도체소자의 사용 환경은 다양하기 때문에 테스트 온도 조건은 저온(예를 들면 -40도)이나 고온(예를 들면 90도)일 수 있다. 따라서 저온 테스트 후 고온 테스트를 진행해야 되거나, 고온 테스트 후 저온 테스트를 진행해야 되는 경우가 발생한다. 예를 들어 제1 챔버(CB1)의 내부는 -40도의 온도로 조절되고 제2 챔버(CB2)의 내부는 70~80도의 온도로 조절된 상태에서 저온 테스트가 실시된 후, 90도의 온도 조건으로 고온 테스트를 진행해야 될 수 있다. 이러한 경우, 제1 챔버(CB1)와 테스트챔버(TC)의 내부 온도를 90도로 조절하고, 제2 챔버(CB2)의 내부 온도를 떨어뜨려야만 한다. 이 때, 제1 챔버(CB1) 내부 온도를 -40도에서 90도까지 높이는데 2시간 가량의 시간이 소요되기 때문에, 테스트핸들러(TH)의 대기 시간이 길어져 가동률 및 처리 용량이 하락하게 된다.Meanwhile, since the usage environment of the semiconductor device is diverse, the test temperature condition may be a low temperature (eg -40°C) or a high temperature (eg 90°C). Therefore, there are cases in which a high-temperature test must be performed after the low-temperature test, or a low-temperature test must be performed after the high-temperature test. For example, the inside of the first chamber (CB1) is adjusted to a temperature of -40 degrees, and the inside of the second chamber (CB2) is adjusted to a temperature of 70 to 80 degrees. A high-temperature test may be required. In this case, the internal temperatures of the first chamber CB1 and the test chamber TC must be adjusted to 90 degrees, and the internal temperatures of the second chamber CB2 must be decreased. At this time, since it takes about 2 hours to raise the internal temperature of the first chamber CB1 from -40 to 90 degrees, the standby time of the test handler TH is increased, and thus the operation rate and processing capacity are reduced.

따라서 본 발명의 출원인은 대한민국 특허출원 출원번호 10-2014-0025058호(이하 '선행기술'이라 함)를 통해 제1 픽킹장치(PU1)와 제2 픽킹장치(PU2)의 역할 및 제1 챔버(CB1)와 제2 챔버(CB2)의 역할을 상호 전환하고, 테스트트레이(TT)의 순환 방향을 반대로 전환함으로써 기존의 제1 챔버(CB1)와 제2 챔버(CB2)의 온도 환경을 활용할 수 있는 기술을 제안한 바 있다.Therefore, the applicant of the present invention, through the Republic of Korea Patent Application No. 10-2014-0025058 (hereinafter referred to as 'prior art'), the roles of the first picking device (PU1) and the second picking device (PU2) and the first chamber ( By reversing the roles of CB1) and the second chamber (CB2) and reversing the circulation direction of the test tray (TT), the existing temperature environment of the first chamber (CB1) and the second chamber (CB2) can be utilized. technology has been proposed.

선행기술에 의하면, 테스트모드의 전환이 신속하게 이루어지기 때문에 테스트핸들러(TH)의 가동률을 크게 향상시킬 수 있게 되었다. According to the prior art, since the test mode is changed quickly, the operation rate of the test handler TH can be greatly improved.

그런데 선행기술에 의하더라도 테스트모드 전환 시에 테스트챔버(TC)의 온도 환경은 그대로 사용할 수 없다. 따라서 테스트챔버(TC) 내부의 온도 환경은 전환시켜야만 한다.However, even according to the prior art, the temperature environment of the test chamber TC cannot be used as it is when the test mode is switched. Therefore, the temperature environment inside the test chamber TC must be switched.

테스트챔버(TC)의 내부 공간은 제1 챔버(CB1)나 제2 챔버(CB2)의 내부 공간에 비하여 작고, 여러 개의 온도 조절기(TR3 내지 TR6)가 구비되기 때문에 테스트챔버(TC)의 내부 공간에 있는 공기의 온도 전환은 비교적 빠른 시간 내에 이루어질 수는 있다.The internal space of the test chamber TC is smaller than the internal space of the first chamber CB1 or the second chamber CB2, and since several temperature controllers TR3 to TR6 are provided, the internal space of the test chamber TC The temperature change of the air in the air can be achieved in a relatively short time.

그러나 가압장치를 이루는 구성품들 중 테스트챔버(TC)의 내부 공간에 위치하는 금속재질의 구성품들은 다음과 같은 점에서 테스트모드의 전환 시간을 늘리는 역할을 한다.However, among the components constituting the pressurization device, the metal components located in the inner space of the test chamber (TC) serve to increase the test mode conversion time in the following respects.

첫째, 테스트챔버(TC)의 내부 공기가 테스트 환경 조건으로 전환되더라도, 금속재질의 구성품들이 테스트 환경 조건에 미치지 못할 수 있다. 이러한 경우 특히 구성품들 중 반도체소자와 접촉하는 푸셔에 의해 반도체소자의 온도가 테스트 온도 조건의 범위를 벗어날 수 있다. 따라서 테스트 환경 조건으로 전환된 테스트챔버(TC)의 내부 공기에 의해 구성품들의 온도가 테스트 환경 조건으로 전환될 대기 시간을 가져야만 한다.First, even if the internal air of the test chamber TC is converted to the test environment condition, metallic components may not meet the test environment condition. In this case, in particular, the temperature of the semiconductor device may be out of the range of the test temperature condition by the pusher in contact with the semiconductor device among the components. Therefore, it is necessary to have a waiting time for the temperature of the components to be converted to the test environment condition by the internal air of the test chamber (TC) converted to the test environment condition.

둘째, 구성품들은 자체 비열이 큰 금속재질로 이루어졌기 때문에 테스트챔버(TC)의 내부 공기에 의해 구성품들의 온도를 변화시키기 위한 대기 시간이 더 길어진다.Second, since the components are made of metal materials with high specific heat, the waiting time for changing the temperature of the components by the internal air of the test chamber (TC) is longer.

물론, 위에 언급한 문제점은 테스트트레이가 일 방향으로만 순환하는 기존의 테스트핸들러에서도 동일하게 발생한다.
Of course, the above-mentioned problem also occurs in the existing test handler in which the test tray circulates in only one direction.

본 발명의 목적은 가압장치를 이루는 구성품들 중 테스트챔버의 내부 공간에 위치하는 금속재질의 구성품들에 대한 온도 전환이 신속하게 이루어질 수 있는 기술을 제공하는 것이다.
SUMMARY OF THE INVENTION It is an object of the present invention to provide a technology capable of rapidly changing the temperature of the metal components located in the inner space of the test chamber among the components constituting the pressurization device.

상기한 바와 같은 목적을 달성하기 위한 본 발명에 따른 테스트핸들러용 가압장치는, 테스트트레이와 가지런히 맞으며, 가지런히 맞았을 시에 테스트트레이에 적재된 반도체소자들을 가압하는 푸셔를 가지는 매치플레이트; 상기 매치플레이트가 설치되는 설치플레이트; 상기 설치플레이트를 전방으로 이동시키거나 후방으로 이동시킴으로써, 상기 매치플레이트가 테스트트레이에 가지런히 맞도록 하거나 가지런히 맞음을 해제시키는 구동원; 및 상기 설치플레이트와 열교환하기 위한 열교환판; 을 포함하고, 상기 구동원은 열교환 또는 열적 상태의 전환 시에 상기 설치플레이트와 상기 열교환판을 접촉시키거나 접촉을 해제시킨다.According to an aspect of the present invention, there is provided a pressurizing device for a test handler for a test handler, comprising: a match plate having a pusher that is aligned with a test tray and presses semiconductor devices loaded on the test tray when aligned; an installation plate on which the match plate is installed; a driving source for moving the installation plate forward or backward so that the match plate fits evenly on the test tray or releases the alignment; and a heat exchange plate for exchanging heat with the installation plate. Including, the driving source makes contact or release of the contact between the installation plate and the heat exchange plate when heat exchange or conversion of a thermal state.

상기 열교환판은, 상기 설치플레이트와 면접촉하는 몸체부분; 상기 설치플레이트와 열교환판이 접촉할 때 상기 매치플레이트에 접촉하기 위해 적어도 일부가 상기 몸체부분으로부터 전방으로 돌출되는 돌출부분; 을 포함하며, 상기 설치플레이트에는 상기 돌출부분이 통과될 수 있는 통과구멍이 형성되어 있다.The heat exchange plate may include a body portion in surface contact with the installation plate; a protruding portion, at least a portion of which protrudes forward from the body portion, to contact the match plate when the installation plate and the heat exchange plate come into contact; Including, the installation plate is formed with a through hole through which the protruding portion can pass.

상기 매치플레이트는, 상기 푸셔; 상기 설치플레이트와 탈착 가능하게 결합되며, 상기 푸셔가 전후 방향으로 진퇴 가능하게 설치되는 설치프레임; 및 반도체소자를 가압하면서 후방으로 밀린 상기 푸셔를 반도체소자의 가압이 해제될 시에 복원시키는 탄성부재; 를 포함하고, 상기 돌출부분은 상기 푸셔에 접촉하거나 접촉이 해제된다.The match plate may include: the pusher; an installation frame detachably coupled to the installation plate, the pusher being installed so as to move forward and backward in the forward and backward directions; and an elastic member for restoring the pusher pushed backward while pressing the semiconductor device when the pressure of the semiconductor device is released. Including, the protruding portion is in contact with the pusher or the contact is released.

상기 매치플레이트는, 상기 돌출부분과 상기 푸셔가 접촉할 때 상기 푸셔가 상기 돌출부분에 의해 전방으로 밀릴 수 있게 설치되는 것을 가능하게 하고, 상기 돌출부분과 상기 푸셔의 접촉이 해제될 때 전방으로 밀린 상기 푸셔를 복원시키는 복원기; 를 더 포함한다.The match plate enables the pusher to be installed to be pushed forward by the protrusion when the protrusion and the pusher come into contact, and is pushed forward when the contact between the protrusion and the pusher is released. a restorer for restoring the pusher; further includes

상기 복원기는, 전후 방향으로 이동 가능한 이동판; 및 상기 이동판을 상기 설치프레임 측으로 탄성력을 가하는 복원부재;를 포함하고, 상기 탄성부재는 상기 푸셔를 상기 이동판에 대하여 탄성 지지한다.
The restorer, a movable plate movable in the front-rear direction; and a restoring member for applying an elastic force to the moving plate toward the installation frame, wherein the elastic member elastically supports the pusher with respect to the moving plate.

상기한 바와 같은 목적을 달성하기 위한 본 발명에 따른 테스트핸들러용 매치플레이트는, 테스트트레이에 적재된 반도체소자들을 가압하는 푸셔; 상기 푸셔가 전후 방향으로 진퇴 가능하게 설치되는 설치프레임; 반도체소자를 가압하면서 후방으로 밀린 상기 푸셔를 반도체소자의 가압이 해제될 시에 복원시키는 탄성부재; 및 후방에서 가해지는 외력에 의해 상기 푸셔가 전방으로 밀리는 것을 가능하게 하고, 외력이 제거되면 상기 푸셔를 후방으로 복원시키는 복원기; 를 포함한다.A match plate for a test handler according to the present invention for achieving the above object includes: a pusher for pressing semiconductor devices loaded on a test tray; an installation frame in which the pusher is installed to move forward and backward in the forward and backward directions; an elastic member for restoring the pusher pushed backward while pressing the semiconductor device when the pressure of the semiconductor device is released; and a restorer that enables the pusher to be pushed forward by an external force applied from the rear, and restores the pusher to the rear when the external force is removed. includes

상기 복원기는, 전후 방향으로 이동 가능한 이동판; 및 상기 이동판을 상기 설치프레임 측으로 탄성력을 가하는 복원부재; 를 포함하고, 상기 탄성부재는 상기 푸셔를 상기 이동판에 대하여 탄성 지지한다.
The restorer, a movable plate movable in the front-rear direction; and a restoring member for applying an elastic force to the moving plate toward the installation frame. Including, the elastic member elastically supports the pusher with respect to the moving plate.

위와 같은 본 발명에 따르면 가압장치를 이루면서 테스트챔버의 내부 공간에 위치하는 구성품들에 대한 온도 전환이 빠르게 이루어지기 때문에 테스트핸들러의 가동률을 상승시킬 수 있는 효과가 있다.
According to the present invention as described above, there is an effect that the operation rate of the test handler can be increased because the temperature of the components located in the internal space of the test chamber is rapidly changed while forming the pressurizing device.

도1은 일반적인 테스트핸들러에 대한 개념적인 평면도이다.
도2는 본 발명에 따른 테스트핸들러용 가압장치에 대한 개략적인 측단면도이다.
도3은 도2의 A부분을 발췌한 발췌도이다.
도4 내지 도6은 도2의 가압장치의 작동을 설명하기 위한 참조도이다.
1 is a conceptual plan view of a general test handler.
2 is a schematic side cross-sectional view of a pressurizing device for a test handler according to the present invention.
Fig. 3 is an excerpt from part A of Fig. 2;
4 to 6 are reference views for explaining the operation of the pressing device of FIG.

이하 상기한 바와 같은 본 발명에 따른 바람직한 실시예들을 첨부된 도면을 참조하여 설명한다.Hereinafter, preferred embodiments according to the present invention as described above will be described with reference to the accompanying drawings.

참고로, 설명의 간결함을 위해 중복되는 설명은 가급적 생략하거나 압축한다. 그리고 첨부된 도면상에서 동일 구성에 대한 중복적 부호 표기는 가급적 생략하였으며, 가압장치에 대하여 반도체소자가 위치하는 방향을 전방으로 정의하고 반대 방향을 후방으로 정의하였다.
For reference, overlapping descriptions are omitted or compressed as much as possible for the sake of brevity of description. In addition, in the accompanying drawings, overlapping reference numerals for the same components are omitted as much as possible, and the direction in which the semiconductor element is positioned with respect to the pressurizing device is defined as forward and the opposite direction is defined as rear.

도2는 본 발명의 일 실시예에 따른 테스트핸들러용 가압장치(PU, 이하에서는 '가압장치'라 약칭함)에 대한 개략적인 측단면도이고, 도3은 도2의 A부분을 확대하여 도시한 확대도이다.2 is a schematic side cross-sectional view of a pressing device for a test handler (PU, hereinafter abbreviated as 'pressing device') according to an embodiment of the present invention, and FIG. 3 is an enlarged view of part A of FIG. is an enlarged view.

도2에서 참조되는 바와 같이 본 실시예에 따른 가압장치(PU)는 매치플레이트(100), 설치플레이트(200), 구동원(300), 열교환판(400) 및 덕트(500)를 포함한다.As shown in FIG. 2 , the pressing device PU according to the present embodiment includes a match plate 100 , an installation plate 200 , a driving source 300 , a heat exchange plate 400 , and a duct 500 .

매치플레이트(100)는 테스트트레이와 가지런히 맞으며, 가지런히 맞을 시에 테스트트레이에 적재된 반도체소자들을 가압한다. 이를 위해 매치플레이트(100)는 다수개의 푸셔(110), 설치프레임(120), 제1 복원스프링(130) 및 복원기(140)를 포함한다.The match plate 100 is aligned with the test tray, and when aligned, presses the semiconductor devices loaded on the test tray. To this end, the match plate 100 includes a plurality of pushers 110 , an installation frame 120 , a first restoration spring 130 , and a restoration unit 140 .

푸셔(110)는, 가압 동작 시에, 그 전면(PF, 반도체소자에 대면하는 측의 끝 면 임)이 테스트트레이의 인서트(TI)에 안착된 반도체소자(D)에 접촉되면서 반도체소자(D)를 테스터의 테스트소켓 측으로 가압한다. 그리고 푸셔(110)는 설치프레임(120)에 대하여 전후 방향으로 상대적으로 진퇴 가능하게 설치된다. 이러한 푸셔(110)는 가압부분(111), 확장부분(112) 및 안내핀(113)을 포함한다.When the pusher 110 is pressed, the front surface (PF, which is the end surface of the side facing the semiconductor element) is in contact with the semiconductor element D seated on the insert TI of the test tray, and the semiconductor element D ) to the test socket side of the tester. And the pusher 110 is installed so as to move forward relatively in the front-rear direction with respect to the installation frame 120 . The pusher 110 includes a pressing portion 111 , an extended portion 112 , and a guide pin 113 .

가압부분(111)은 테스트트레이의 인서트(TI)에 안착된 반도체소자(D)를 가압하는 부분이다. 즉, 가압 동작 시에 가압부분(111)의 전면(PF)은 반도체소자(D)에 접촉된다. The pressing part 111 is a part for pressing the semiconductor device D seated on the insert TI of the test tray. That is, during the pressing operation, the front surface PF of the pressing portion 111 is in contact with the semiconductor device D. As shown in FIG.

확장부분(112)은 가압부분(111)보다 둘레가 확장되어 있다. 이러한 확장부분(112)은 인서트(TI)에 반도체소자(D)가 안착되지 아니한 상태에서 가압 동작이 이루어질 시에 인서트(TI)의 일면(푸셔와 대면하는 면)에 접촉된다. 이에 따라 가압부분(111)의 전면(PF)이 테스터의 테스트소켓에 직접 접촉되는 것을 방지한다.The expanded portion 112 has a perimeter larger than that of the pressing portion 111 . The extended portion 112 is in contact with one surface (a surface facing the pusher) of the insert TI when a pressing operation is performed in a state in which the semiconductor device D is not seated on the insert TI. Accordingly, the front surface PF of the pressing part 111 is prevented from directly contacting the test socket of the tester.

안내핀(113)은 가압부분(111)의 전면(PF)이 반도체소자(D)에 정교하게 접촉하도록 안내한다.The guide pin 113 guides the front surface PF of the pressing part 111 to precisely contact the semiconductor device D.

또한, 푸셔(110)에는 전후 방향으로 공기통과구멍(114)이 형성되어 있다. 이 공기통과구멍(114)을 통해 덕트(500)로부터 오는 온도조절용 공기가 푸셔(110)의 전면(PF)에 의해 가압되는 반도체소자로 분사된다.In addition, the pusher 110 is formed with an air passage hole 114 in the front-rear direction. The air for temperature control coming from the duct 500 through the air passage hole 114 is injected into the semiconductor element pressurized by the front surface PF of the pusher 110 .

설치프레임(120)은 설치플레이트(200)와 탈착 가능하게 결합되며, 푸셔(110)가 전후 방향으로 진퇴 가능하게 설치된다. 이를 위해 설치프레임(120)에는 푸셔(110)의 후단이 삽입될 수 있는 설치구멍(121)이 형성되어 있다. 또한, 설치프레임(120)에는 차후 설명될 복원기(140)의 제2 복원스프링(142)을 설치하기 위한 설치돌기(122)를 가진다. 여기서 설치돌기(122)는 볼트의 형태일 수 있다.The installation frame 120 is detachably coupled to the installation plate 200 , and the pusher 110 is installed to move forward and backward in the forward and backward directions. To this end, an installation hole 121 into which the rear end of the pusher 110 can be inserted is formed in the installation frame 120 . In addition, the installation frame 120 has an installation protrusion 122 for installing the second restoration spring 142 of the restoration unit 140 to be described later. Here, the installation protrusion 122 may be in the form of a bolt.

제1 복원스프링(130)은 궁극적으로 푸셔(110)를 설치프레임(110)에 대하여 탄성 지지하는 탄성부재로서 마련된다. 이러한 제1 복원스프링(130)은 푸셔(110)에 전방으로 탄성력을 가한다. 따라서 반도체소자(D)를 가압하면서 후방으로 밀린 푸셔(110)를 반도체소자(D)의 가압이 해제될 시에 전방으로 이동시킴으로써 원래의 위치로 복원시키는 기능을 한다. 제1 복원스프링(130)은 코일스프링으로 구비될 수 있다.The first restoration spring 130 is ultimately provided as an elastic member for elastically supporting the pusher 110 with respect to the installation frame 110 . The first restoring spring 130 applies an elastic force to the pusher 110 in the forward direction. Therefore, the pusher 110 pushed backward while pressing the semiconductor element D functions to restore the original position by moving the pusher 110 forward when the pressurization of the semiconductor element D is released. The first restoration spring 130 may be provided as a coil spring.

복원기(140)는 테스트모드의 전환에 따라 온도를 전환할 시에 푸셔(110)가 전방으로 밀릴 수 있도록 설치프레임(120)에 설치되는 것을 가능하게 하고, 온도의 전환 작동이 종료되면 전방으로 밀린 푸셔(110)를 원래의 위치로 복원시킨다. 이를 위해 복원기(140)는 이동판(141) 및 제2 복원스프링(142)을 포함한다.The restorer 140 makes it possible to be installed in the installation frame 120 so that the pusher 110 can be pushed forward when the temperature is switched according to the change of the test mode, and when the temperature switching operation is finished, it is moved forward. The pushed pusher 110 is restored to its original position. To this end, the restoration unit 140 includes a moving plate 141 and a second restoration spring 142 .

이동판(141)은 전후 방향으로 이동 가능하며, 푸셔(110)의 중단 부분이 삽입될 수 있는 삽입구멍(141a)이 형성되어 있다. 위에서 언급한 제1 복원스프링(130)은 푸셔(110)를 이동판(141)에 대하여 탄성 지지하지만, 설치프레임(120)과 이동판(141)이 밀착된 상태에서 푸셔(110)에 의한 반도체소자(D)의 가압 동작이 이루어지기 때문에 궁극적으로 푸셔(110)를 설치프레임(120)에 대하여 탄성 지지하는 것이 된다.The moving plate 141 is movable in the front-rear direction, and an insertion hole 141a into which the middle portion of the pusher 110 can be inserted is formed. The first restoration spring 130 mentioned above elastically supports the pusher 110 with respect to the moving plate 141, but the semiconductor by the pusher 110 in a state in which the installation frame 120 and the moving plate 141 are in close contact. Since the pressing operation of the element (D) is made, ultimately, the pusher 110 is elastically supported with respect to the installation frame 120 .

제2 복원스프링(142)은 설치돌기(122)에 의해 설치 및 유지되며, 이동판(141)에 후방으로 탄성력을 가한다. 따라서 후술하는 바와 같이 온도 전환 시에 전방으로 이동한 이동판(141) 및 푸셔(110)를 온도 전환이 종료된 후 후방으로 이동시킴으로써 원래의 위치로 복원시키는 복원부재로서 기능한다. 이러한 제2 복원스프링(142)은 코일스프링일 수 있다. The second restoration spring 142 is installed and maintained by the installation protrusion 122 , and applies an elastic force to the rearward of the moving plate 141 . Therefore, as will be described later, by moving the moving plate 141 and the pusher 110 moved forward during the temperature change to the rear after the temperature change is finished, it functions as a restoring member to restore the original position. The second restoration spring 142 may be a coil spring.

설치플레이트(200)는 전후 방향으로 이동 가능하게 마련된다. 이러한 설치플레이트(200)는 매치플레이트(100)의 양단을 지지할 수 있는 지지레일(210)을 가진다. 매치플레이트(100)는 그 양단이 지지레일(210)의 레일홈(RS)에 삽입된 상태를 유지하기 때문에, 설치플레이트(200)에 안정적으로 지지 및 결합 설치될 수 있다. 물론, 작업자가 매치플레이트(100)의 탈거나 장착을 위해 측방에서 매치플레이트(100)를 잡아당기거나 미는 경우 지지레일(RS)은 안내레일로서 기능한다. 또한, 설치플레이트(200)에는 후술할 열교환판(400)의 돌출부분(420)이 통과될 수 있는 통과구멍(220)이 푸셔(100)와 대응되는 위치에 형성되어 있다.The installation plate 200 is provided to be movable in the front-rear direction. The installation plate 200 has support rails 210 that can support both ends of the match plate 100 . Since both ends of the match plate 100 remain inserted into the rail grooves RS of the support rail 210 , the match plate 100 can be stably supported and coupled to the installation plate 200 . Of course, when the operator pulls or pushes the match plate 100 from the side for riding or mounting the match plate 100 , the support rail RS functions as a guide rail. In addition, a through hole 220 through which the protruding portion 420 of the heat exchange plate 400 to be described later can pass is formed in the installation plate 200 at a position corresponding to the pusher 100 .

구동원(300)은 정위치에 있는 설치플레이트(200)를 전방으로 이동시키거나 전방에서 후방의 정위치로 이동시킴으로써, 설치플레이트(200)에 결합된 매치플레이트(100)가 테스트트레이에 가지런히 맞도록 하거나 가지런히 맞는 것을 해제시킨다. 이에 따라, 매치플레이트(100)의 푸셔(110)가 테스트트레이의 인서트(TI)에 적재된 반도체소자(D)를 가압하거나 가압을 해제하게 된다. 또한, 구동원(300)은 정위치에 있는 설치플레이트(200)를 후방으로 이동시키거나 후방에서 전방의 정위치로 이동시킴으로써 설치플레이트(200)가 열교환판(400)에 접촉되도록 하거나 접촉을 해제시킨다. 이를 위해 구동원(300)의 구동축(310)의 전단은 설치플레이트(200)에 결합되어 있다.The driving source 300 moves the installation plate 200 in the original position forward or from the front to the rear in the normal position, so that the match plate 100 coupled to the installation plate 200 is aligned with the test tray. Put it on or remove what fits neatly. Accordingly, the pusher 110 of the match plate 100 presses or releases the pressurization of the semiconductor device D loaded on the insert TI of the test tray. In addition, the driving source 300 causes the installation plate 200 to come into contact with the heat exchange plate 400 or release the contact by moving the installation plate 200 in a fixed position to the rear or from the rear to the front fixed position. . To this end, the front end of the drive shaft 310 of the drive source 300 is coupled to the installation plate 200 .

열교환판(400)은 테스트모드의 전환에 따라 매치플레이트(100)의 온도를 전환하기 위해 마련된다. 이를 위해 열교환판(400)은 몸체부분(410)과 돌출부분(420)을 포함한다.The heat exchange plate 400 is provided to change the temperature of the match plate 100 according to the change of the test mode. To this end, the heat exchange plate 400 includes a body portion 410 and a protruding portion 420 .

몸체부분(410)은 설치플레이트(200)가 정위치에서 후방으로 이동할 때 그 전면이 설치플레이트(200)의 후면과 면접촉한다. 이러한 몸체부분(410)은 고온의 열을 발열시키기 위한 히터(411)를 가진다. 또한, 몸체부분(410)은 도시되지 않은 칠러에 의해 공급되는 저온의 냉매가 흐를 수 있는 냉각유로(412)가 형성되어 있다. 따라서 히터(411)가 동작할 시에는 몸체부분(410)이 고온 상태로 되고, 냉각유로(412)로 냉매가 흐를 때에는 몸체부분(410)이 저온 상태로 된다. The body portion 410 has a front surface in contact with the rear surface of the installation plate 200 when the installation plate 200 moves backward from the original position. The body portion 410 has a heater 411 for generating high-temperature heat. In addition, the body portion 410 is formed with a cooling passage 412 through which a low-temperature refrigerant supplied by a chiller (not shown) can flow. Therefore, when the heater 411 operates, the body portion 410 is in a high temperature state, and when the refrigerant flows into the cooling passage 412 , the body portion 410 is in a low temperature state.

돌출부분(420)은 전단 부위가 몸체부분(410)으로부터 전방으로 돌출되도록 설치된다. 이러한 돌출부분(420)의 전단 부위는 설치플레이트(200)의 통과구멍(220)에 삽입되어서 푸셔(110)의 후면과 접촉될 수 있다. 본 실시예에서는 돌출부분(420)이 핀의 구조로 몸체부분(410)에 설치되는 형태이지만, 실시하기에 따라서는 돌출부분이 몸체부분에서 일체로 돌출 형성될 수도 있다. 또한, 돌출부분(420)에는 덕트(500)로부터 오는 온도조절용 공기가 푸셔(110)의 후면으로 공급될 수 있도록 하는 공기공급구멍(421)이 형성되어 있다. The protruding portion 420 is installed such that the front end portion protrudes forward from the body portion 410 . The front end portion of the protruding portion 420 may be inserted into the through hole 220 of the installation plate 200 to be in contact with the rear surface of the pusher 110 . In the present embodiment, the protruding portion 420 is installed in the body portion 410 in the structure of a pin, but depending on the implementation, the protruding portion may be integrally formed to protrude from the body portion. In addition, the protrusion part 420 is formed with an air supply hole 421 through which the temperature control air coming from the duct 500 can be supplied to the rear surface of the pusher (110).

덕트(500)는 미도시된 온도조절유닛으로부터 오는 온도조절용 공기를 공기공급구멍(421) 및 공기통과구멍(114)을 거쳐 반도체소자로 공급하기 위해 마련되며, 공기공급구멍(421)에 대응되는 공기분사구멍(510)이 형성되어 있다. 따라서 온도조절유닛으로부터 공급되는 공기는 덕트의 내부에서 공기분사구멍(510)을 통해 분사되어서, 공기공급구멍(421) 및 공기통과구멍(114)을 순차적으로 거친 후, 반도체소자(D)로 분사된다. 그리고 반도체소자(D)로 분사된 공기는 테스트챔버의 내부에서 온도조절유닛으로 흡입되어서 온도가 조절된 후 덕트(500)로 공급되는 순환 경로를 따라 이동하게 된다. 참고로, 이와 같은 공기 흐름이 적절히 이루어지도록 설치플레이트(200)와 열교환판(400) 사이로 온도조절용 공기가 노출되는 것을 최소화시키기 위해, 설치플레이트(200)와 열교환판(400) 외측에 설치플레이트(200)에 결합되어서 설치플레이트(200)와 함께 이동하는 차단부재(600)와 차단부재(600)와 열교환판(400) 사이를 밀봉시키기 위한 밀봉부재(700)를 구비하는 것이 바람직하다.
The duct 500 is provided to supply air for temperature control coming from the temperature control unit, not shown, to the semiconductor device through the air supply hole 421 and the air passage hole 114 , and corresponds to the air supply hole 421 . An air injection hole 510 is formed. Therefore, the air supplied from the temperature control unit is injected through the air injection hole 510 inside the duct, passes through the air supply hole 421 and the air passage hole 114 sequentially, and then is injected into the semiconductor device (D). do. Then, the air injected to the semiconductor device D is sucked into the temperature control unit from the inside of the test chamber and moves along the circulation path supplied to the duct 500 after the temperature is adjusted. For reference, in order to minimize exposure of air for temperature control between the installation plate 200 and the heat exchange plate 400 so that the air flow is properly made, the installation plate 200 and the heat exchange plate 400 are installed outside the installation plate ( It is preferable to include a blocking member 600 coupled to the installation plate 200 and moving together with the installation plate 200 and a sealing member 700 for sealing between the blocking member 600 and the heat exchange plate 400 .

계속하여 상기한 바와 같은 본 실시예에 따른 가압장치(PU)의 작동에 대하여 설명한다.
Next, the operation of the pressing device PU according to the present embodiment as described above will be described.

<가압 작동><Pressure operation>

도3은 현재 반도체소자(D)에 대한 테스트가 이루어지기 전의 상태이다. 도3의 상태에서 구동원(300)은 정위치에 있는 설치플레이트(200)를 전방으로 밀어서 매치플레이트(100)를 전방으로 이동시킨다. 이에 따라 도4에서와 같이 푸셔(110)의 전면이 반도체소자(D)에 접촉하면서 반도체소자(D)를 테스터의 테스트소켓에 가압하게 된다. 따라서 반도체소자(D)와 테스트소켓이 전기적으로 연결되어서 테스트가 이루어질 수 있게 된다. 차후 테스트가 종료되면, 도3의 상태로 회귀된다. 도3 및 도4를 참조하면, 이동판(141)의 후면이 설치프레임(120)의 전면에 밀착된 상태로서 설치프레임(120)에 일체로 전후 이동함을 알 수 있다. 물론, 도4에서와 같이 가압 동작 시에 푸셔(110)는 반도체소자(D)의 반작용에 의해 이동판(141) 및 설치프레임(120)에 대하여 상대적으로 후방으로 밀리고, 가압 동작이 해제되면 제1 복원스프링(130)의 작용에 의해 푸셔(110)가 이동판(141) 및 설치프레임(120)에 대하여 원래의 위치로 복원된다. 3 is a state before the current semiconductor device D is tested. In the state of FIG. 3 , the driving source 300 moves the match plate 100 forward by pushing the installation plate 200 in a fixed position forward. Accordingly, as shown in FIG. 4 , the front surface of the pusher 110 contacts the semiconductor device D to press the semiconductor device D to the test socket of the tester. Accordingly, the semiconductor device D and the test socket are electrically connected to each other so that the test can be performed. When the subsequent test is finished, the state of FIG. 3 is returned. Referring to FIGS. 3 and 4 , it can be seen that the rear surface of the moving plate 141 moves forward and backward integrally with the installation frame 120 in a state in close contact with the front surface of the installation frame 120 . Of course, as shown in FIG. 4, during the pressing operation, the pusher 110 is pushed relatively backward with respect to the moving plate 141 and the installation frame 120 by the reaction of the semiconductor element D, and when the pressing operation is released, the 1 The pusher 110 is restored to its original position with respect to the moving plate 141 and the installation frame 120 by the action of the restoration spring 130 .

<열교환 작동><Heat exchange operation>

도3에서 테스트트레이의 인서트(TI)를 제거시키면 열교환 전의 상태일 수 있다. 테스트모드의 전환에 따라서 열교환 작동이 이루어지기 위해서는 도3의 상태에서 구동원이 작동하여 설치플레이트(200)를 후방으로 이동시킴으로써 도5의 상태가 되게 한다.When the insert TI of the test tray is removed in FIG. 3, it may be in a state before heat exchange. In order to perform the heat exchange operation according to the change of the test mode, the driving source operates in the state of FIG. 3 to move the installation plate 200 rearward to the state of FIG. 5 .

도5를 참조하면, 설치플레이트(200)가 열교환판(400)의 몸체부분(410)에 면접촉한 상태에서 몸체부분(410)의 상태(고온 상태 또는 저온 상태)에 따라 전도에 의해 열을 공급받거나 냉기를 공급받게 된다. 따라서 설치플레이트(200)의 온도가 테스트모드 전환에 따른 필요 온도로 급속하게 전환된다.5, in a state in which the installation plate 200 is in surface contact with the body portion 410 of the heat exchange plate 400, heat is supplied by conduction according to the state of the body portion 410 (high temperature state or low temperature state). or receive cold air. Therefore, the temperature of the installation plate 200 is rapidly converted to the required temperature according to the test mode conversion.

그리고 열교환판(400)의 돌출부분(420)은 설치플레이트(200)의 통과구멍(220)을 통과한 상태로 푸셔(110)의 후면에 접촉된다. 따라서 푸셔(110)의 온도도 전도에 의해 테스트모드 전환에 따른 필요 온도로 급속하게 전환된다.And the protruding portion 420 of the heat exchange plate 400 is in contact with the rear surface of the pusher 110 while passing through the through hole 220 of the installation plate (200). Therefore, the temperature of the pusher 110 is also rapidly converted to the required temperature according to the test mode conversion by conduction.

한편, 본 실시예에서는 각 구성들의 제작 공차 등을 감안하여 돌출부분(420)의 돌출 부위를 2mm 정도 더 길게 가져간다.Meanwhile, in the present embodiment, the protrusion portion of the protrusion portion 420 is taken longer by about 2 mm in consideration of the manufacturing tolerance of each configuration.

이상적으로는 설치플레이트(200)의 후방 이동에 의해 돌출부분(420)의 전면과 푸셔(110)의 후면이 정확하게 접촉하도록 설계되는 것이 바람직하다. 그러나 제작 공차나 열변형에 의한 미세한 휨 등에 의해 도6의 과장도에서와 같이 설치플레이트(200)가 후방 이동을 하더라도 돌출부분(420)들의 전면이 모두 푸셔(110)들의 후면에 접촉되지 않을 수 있다. 즉, 일부의 돌출부분(420)들과 푸셔(110)들이 서로 접촉된 경우에도, 나머지 일부의 돌출부분(420)들과 푸셔(110)들은 서로 접촉되지 못하거나 완전히 접촉되지 못할 수 있는 것이다(도6의 B부분 참조). 이러한 경우 돌출부분(420)과 접촉되는 못한 푸셔(110)의 온도 전환은 상대적으로 느려질 수 있다. 따라서 돌출 부위를 이상적인 길이보다 2mm 정도 더 길게 돌출되도록 가져감으로써 돌출부분(420)들의 전면이 모두 푸셔(110)들의 후면에 접촉될 수 있도록 하고 있다. 이로 인해, 푸셔(110)들에 따라서는 도5에서와 같이 돌출부분(420)들에 의해 전방으로 밀릴 수 있다. 이러한 경우, 제2 복원스프링(142)이 압축되면서 설치프레임(120)에 대하여 상대적으로 푸셔(110) 및 이동판(141)이 전방으로 밀리게 된다. 이 때, 이동판(141)은 설치프레임(120)으로부터 이격된다. 물론, 테스트모드의 전환 동작이 종료되면, 이동판(141) 및 푸셔(110)는 도3에서와 같이 원래의 위치로 복귀한다.
Ideally, it is preferable that the front surface of the protruding portion 420 and the rear surface of the pusher 110 are designed to precisely contact by the rear movement of the installation plate 200 . However, even if the installation plate 200 moves backward as in the exaggerated view of FIG. 6 due to manufacturing tolerance or fine bending due to thermal deformation, the front surfaces of all the protrusions 420 may not contact the rear surfaces of the pushers 110. there is. That is, even when some of the protruding parts 420 and the pusher 110 are in contact with each other, the remaining some of the protruding parts 420 and the pusher 110 may not contact each other or may not completely contact each other ( See part B of FIG. 6). In this case, the temperature conversion of the pusher 110 that is not in contact with the protrusion 420 may be relatively slow. Therefore, by taking the protruding portion to protrude longer than the ideal length by about 2 mm, the front surfaces of the protruding portions 420 are all in contact with the rear surfaces of the pushers 110 . For this reason, some pushers 110 may be pushed forward by the protrusions 420 as shown in FIG. 5 . In this case, the pusher 110 and the moving plate 141 are pushed forward relative to the installation frame 120 while the second restoration spring 142 is compressed. At this time, the moving plate 141 is spaced apart from the installation frame 120 . Of course, when the switching operation of the test mode is finished, the moving plate 141 and the pusher 110 return to their original positions as shown in FIG. 3 .

참고로, 상술한 실시예에서는 설치플레이트(200)가 전후 방향으로 이동함으로써 열교환판(400)에 접촉하는 구조를 가지지만, 실시하기에 따라서는 열교환판을 이동시킬 수 있는 별개의 구동원을 구비함으로써 열교환판의 이동에 의해 설치플레이트와 열교환판이 접촉하는 구조를 가질 수도 있다.For reference, in the above-described embodiment, the installation plate 200 has a structure in contact with the heat exchange plate 400 by moving in the front-rear direction, but in some implementations, by having a separate driving source capable of moving the heat exchange plate. It may have a structure in which the installation plate and the heat exchange plate are in contact by the movement of the heat exchange plate.

또한, 본 발명에 따른 독특한 구조의 매치플레이트(100)는 열교환 기술 외에서도 적용 가능하다. In addition, the match plate 100 having a unique structure according to the present invention can be applied in addition to heat exchange technology.

따라서 본 발명에 대한 구체적인 설명은 첨부된 도면을 참조한 실시예에 의해서 이루어졌지만, 상술한 실시예는 본 발명의 바람직한 예를 들어 설명하였을 뿐이기 때문에, 본 발명이 상기의 실시예에만 국한되는 것으로 이해되어져서는 아니 되며, 본 발명의 권리범위는 후술하는 청구범위 및 그 등가개념으로 이해되어져야 할 것이다.
Therefore, the detailed description of the present invention has been made by the embodiments with reference to the accompanying drawings, but since the above-described embodiments have only been described with preferred examples of the present invention, it is understood that the present invention is limited only to the above embodiments. It should not be done, and the scope of the present invention should be understood as the following claims and their equivalent concepts.

TU : 테스트핸들러용 가압장치
100 : 매치플레이트
110 : 푸셔 120 : 설치프레임
130 : 제1 복원스프링
140 : 복원기
141 : 이동판 142 : 제2 복원스프링
200 : 설치플레이트
220 : 통과구멍
300 : 구동원
400 : 열교환판
410 : 몸체부분 420 : 돌출부분
TU : Pressurizing device for test handler
100: match plate
110: pusher 120: installation frame
130: first restoration spring
140: restorer
141: moving plate 142: second restoration spring
200: installation plate
220: through hole
300: drive source
400: heat exchange plate
410: body part 420: protruding part

Claims (7)

테스트트레이와 가지런히 맞으며, 가지런히 맞았을 시에 테스트트레이에 적재된 반도체소자들을 가압하는 푸셔를 가지는 매치플레이트;
상기 매치플레이트가 설치되는 설치플레이트;
상기 설치플레이트를 전방으로 이동시키거나 후방으로 이동시킴으로써, 상기 매치플레이트가 테스트트레이에 가지런히 맞도록 하거나 가지런히 맞음을 해제시키는 구동원; 및
상기 설치플레이트와 열교환하기 위한 열교환판; 을 포함하고,
상기 구동원은 열교환 또는 열적 상태의 전환 시에 상기 설치플레이트와 상기 열교환판을 접촉시키거나 접촉을 해제시키고,
상기 열교환판은,
상기 설치플레이트와 면접촉하는 몸체부분;
상기 설치플레이트와 열교환판이 접촉할 때 상기 매치플레이트에 접촉하기 위해 적어도 일부가 상기 몸체부분으로부터 전방으로 돌출되는 돌출부분; 을 포함하며,
상기 설치플레이트에는 상기 돌출부분이 통과될 수 있는 통과구멍이 형성된 것을 특징으로 하는
테스트핸들러용 가압장치.
a match plate that is aligned with the test tray and has a pusher that presses the semiconductor devices loaded on the test tray when aligned;
an installation plate on which the match plate is installed;
a driving source for moving the installation plate forward or backward so that the match plate fits evenly on the test tray or releases the alignment; and
a heat exchange plate for heat exchange with the installation plate; including,
The driving source makes contact or release of the contact between the installation plate and the heat exchange plate during heat exchange or conversion of a thermal state,
The heat exchange plate,
a body portion in surface contact with the installation plate;
a protruding portion, at least a portion of which protrudes forward from the body portion, to contact the match plate when the installation plate and the heat exchange plate come into contact; includes,
The installation plate, characterized in that the through-hole through which the protrusion part can pass is formed.
Pressurizing device for test handler.
제1항에 있어서,
상기 매치플레이트는,
상기 푸셔;
상기 설치플레이트와 탈착 가능하게 결합되며, 상기 푸셔가 전후 방향으로 진퇴 가능하게 설치되는 설치프레임; 및
반도체소자를 가압하면서 후방으로 밀린 상기 푸셔를 반도체소자의 가압이 해제될 시에 복원시키는 탄성부재; 를 포함하고,
상기 돌출부분은 상기 푸셔에 접촉하거나 접촉이 해제되는 것을 특징으로 하는
테스트핸들러용 가압장치.
According to claim 1,
The match plate is
the pusher;
an installation frame detachably coupled to the installation plate, the pusher being installed so as to move forward and backward in the forward and backward directions; and
an elastic member for restoring the pusher pushed backward while pressing the semiconductor device when the pressure of the semiconductor device is released; including,
The protruding portion is in contact with the pusher, characterized in that the contact is released
Pressurizing device for test handler.
제2항에 있어서,
상기 매치플레이트는,
상기 돌출부분과 상기 푸셔가 접촉할 때 상기 푸셔가 상기 돌출부분에 의해 전방으로 밀릴 수 있게 설치되는 것을 가능하게 하고, 상기 돌출부분과 상기 푸셔의 접촉이 해제될 때 전방으로 밀린 상기 푸셔를 복원시키는 복원기; 를 더 포함하는 것을 특징으로 하는
테스트핸들러용 가압장치.
3. The method of claim 2,
The match plate is
It enables the pusher to be installed so as to be pushed forward by the protrusion when the protrusion and the pusher come into contact, and restores the pusher pushed forward when the contact between the protrusion and the pusher is released restorer; characterized in that it further comprises
Pressurizing device for test handler.
제3항에 있어서,
상기 복원기는,
전후 방향으로 이동 가능한 이동판; 및
상기 이동판을 상기 설치프레임 측으로 탄성력을 가하는 복원부재;를 포함하고,
상기 탄성부재는 상기 푸셔를 상기 이동판에 대하여 탄성 지지하는 것을 특징으로 하는
테스트핸들러용 가압장치.
4. The method of claim 3,
The restorer,
Moving plate movable in the forward and backward directions; and
and a restoration member for applying an elastic force to the moving plate toward the installation frame.
wherein the elastic member elastically supports the pusher with respect to the moving plate
Pressurizing device for test handler.
테스트트레이에 적재된 반도체소자들을 가압하는 푸셔;
상기 푸셔가 전후 방향으로 진퇴 가능하게 설치되는 설치프레임;
반도체소자를 가압하면서 후방으로 밀린 상기 푸셔를 반도체소자의 가압이 해제될 시에 복원시키는 탄성부재; 및
후방에서 가해지는 외력에 의해 상기 푸셔가 전방으로 밀리는 것을 가능하게 하고, 외력이 제거되면 상기 푸셔를 후방으로 복원시키는 복원기; 를 포함하는 것을 특징으로 하는
테스트핸들러용 매치플레이트.
a pusher for pressing the semiconductor devices loaded on the test tray;
an installation frame in which the pusher is installed to move forward and backward in the forward and backward directions;
an elastic member for restoring the pusher pushed backward while pressing the semiconductor device when the pressure of the semiconductor device is released; and
a restorer that enables the pusher to be pushed forward by an external force applied from the rear, and restores the pusher to the rear when the external force is removed; characterized by comprising
Matchplate for test handlers.
제5항에 있어서,
상기 복원기는,
전후 방향으로 이동 가능한 이동판; 및
상기 이동판을 상기 설치프레임 측으로 탄성력을 가하는 복원부재; 를 포함하고,
상기 탄성부재는 상기 푸셔를 상기 이동판에 대하여 탄성 지지하는 것을 특징으로 하는
테스트핸들러용 매치플레이트.
6. The method of claim 5,
The restorer,
Moving plate movable in the forward and backward directions; and
a restoring member for applying an elastic force to the moving plate toward the installation frame; including,
wherein the elastic member elastically supports the pusher with respect to the moving plate
Matchplate for test handlers.
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