KR20160084190A - Pushing apparatus and match plate for test handler - Google Patents

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KR20160084190A
KR20160084190A KR1020150000771A KR20150000771A KR20160084190A KR 20160084190 A KR20160084190 A KR 20160084190A KR 1020150000771 A KR1020150000771 A KR 1020150000771A KR 20150000771 A KR20150000771 A KR 20150000771A KR 20160084190 A KR20160084190 A KR 20160084190A
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노종기
유병우
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Abstract

The present invention relates to a pressurizing device and a match plate for a test handler. According to the present invention, the pressurizing device comprises: a match plate evenly matched with a test tray and including a pusher to pressurize semiconductor devices loaded on the test tray when the match plate is evenly matched with the test tray; an installation plate in which the match plate is installed; a driving source to evenly match the match plate with the test tray or to release matching between the match plate and the test tray by moving the installation plate to a front side or a rear side; and a heat exchanging board to exchange a heat with the installation plate. The driving source connects or disconnects the installation plate and the heat exchanging board when the heat is exchanged or the thermal state is changed. According to the present invention, the operation rate of the test handler is increased by reducing a change time which is increased by compositions of a metal material in changing a test mode.

Description

테스트핸들러용 가압장치 및 매치플레이트{PUSHING APPARATUS AND MATCH PLATE FOR TEST HANDLER}BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention [0001] The present invention relates to a pressure handler for a test handler,

본 발명은 생산된 반도체소자의 테스트에 지원되는 테스트핸들러에 관련된다. 특히 본 발명은 반도체소자를 테스터 측으로 가압(加壓)하거나 지지하는 가압장치에 관한 것이다.
The present invention relates to a test handler that is supported for testing of produced semiconductor devices. In particular, the present invention relates to a pressing device for pressing or supporting a semiconductor device toward a tester.

테스트핸들러는 소정의 제조공정을 거쳐 제조한 반도체소자들을 테스트하는 데 사용된다.The test handler is used to test semiconductor devices manufactured through a predetermined manufacturing process.

테스트핸들러는 반도체소자들을 고객트레이(CUSTOMER TRAY)로부터 테스트트레이(TEST TRAY)로 이동시키고, 테스트트레이에 적재되어 있는 반도체소자들이 동시에 테스터(TESTER)에 의해 테스트(TEST)될 수 있도록 지원하며, 테스트 결과에 따라 반도체소자를 등급별로 분류하면서 테스트트레이에서 고객트레이로 이동시킨다.The test handler moves the semiconductor devices from the customer tray to the test tray and supports the semiconductor devices loaded in the test tray to be tested by a tester at the same time, According to the result, semiconductor devices are classified into classes and moved from the test tray to the customer tray.

위에 언급된 테스트트레이는 반도체소자가 테스트트레이로 로딩(LOADING)되는 위치(이하 '로딩위치'라 함), 테스트트레이에 적재된 반도체소자가 테스터에 전기적으로 연결되는 위치(이하 '테스트위치'라 함), 테스트가 완료된 반도체소자가 테스트트레이로부터 언로딩(UNLOADING)되는 위치(이하 '언로딩위치'라 함)를 거쳐 다시 로딩위치로 이어지는 일정한 순환 경로를 순환하게 된다.The above-mentioned test tray refers to a position where a semiconductor device is loaded into a test tray (hereinafter referred to as a 'loading position'), a position where a semiconductor device loaded on a test tray is electrically connected to a tester ), The semiconductor device after the test is cycled through a certain circulation path leading to the loading position again via a position where the semiconductor device is unloaded from the test tray (hereinafter referred to as "unloading position").

일반적으로 테스트핸들러는 반도체소자의 사용 환경을 고려하여 반도체소자에 열적 자극(고온 또는 저온)을 가한 후, 테스트가 완료되면 반도체소자로부터 가해졌던 열적 자극을 제거하는 과정을 가진다. 이 때, 반도체소자에 열적 자극을 가하거나 제거하는 과정은 테스트트레이의 순환 경로 상에서 이루어진다.Generally, the test handler has a process of applying a thermal stimulus (high temperature or low temperature) to a semiconductor device in consideration of a use environment of the semiconductor device, and then removing a thermal stimulus applied from the semiconductor device when the test is completed. At this time, the process of applying or removing the thermal stimulus to the semiconductor device is performed on the circulation path of the test tray.

도1은 종래의 테스트핸들러(TH)에 대한 개념적인 평면도이다.Figure 1 is a conceptual top view of a conventional test handler (TH).

테스트핸들러(TH)는 테스트트레이(TT), 제1 픽킹장치(GU1), 제1 챔버(CB1), 테스트챔버(TC), 가압장치(PU), 제2 챔버(CB2), 제2 픽킹장치(GU2), 다수의 온도 조절기(TR1 내지 TR6) 및 제어기(CU)를 포함한다.The test handler TH includes a test tray TT, a first picking device GU1, a first chamber CB1, a test chamber TC, a pressurizing device PU, a second chamber CB2, (GU2), a plurality of temperature regulators (TR1 to TR6) and a controller (CU).

테스트트레이(TT)에는 대한민국 등록 실용신안 20-0389824호 등에서 참조되는 바와 같이 다수의 반도체소자들이 적재될 수 있으며, 다수의 이송기들(미도시)에 의해 정해진 순환 경로(C)를 따라 순환한다.A plurality of semiconductor elements can be loaded in the test tray TT as shown in Korean Registered Utility Model No. 20-0389824, and circulated along a circulation path C defined by a plurality of conveyors (not shown) .

제1 픽킹장치(GU1)는 고객트레이에 적재되어 있는 테스트되어야 할 반도체소자를 로딩위치(LP : LOADING POSITION)에 있는 테스트트레이(TT)로 로딩시킨다. 이러한 제1 픽킹장치(GU1)는 대한민국 공개 실용신안 20-2010-0012620호에서와 같은 픽앤플레이스장치 단독으로 구성될 수도 있지만, 대한민국 공개특허 10-2007-0077905호에서 참조되는 바와 같이 복수의 픽앤플레이스장치와 기동형 로딩 테이블 등으로 구성될 수도 있다.The first picking device GU1 loads a semiconductor device to be tested, which is loaded in a customer tray, into a test tray TT in a loading position LP. The first picking device GU1 may be constituted by a pick-and-place device alone as disclosed in Korean Utility Model Publication No. 20-2010-0012620, but as described in Korean Patent Publication No. 10-2007-0077905, Device and an activating loading table or the like.

제1 챔버(CB1)는 테스트트레이(TT)에 적재되어 있는 반도체소자를 테스트 온도 조건에 따라 테스트하기에 앞서 미리 열적 자극을 가하기 위해 마련된다. 즉 반도체소자는 테스트위치(TP : TEST POSITION)로 가기 전에 재1 챔버(CB1) 내부의 온도로 미리 동화된다. 따라서 전체 물류의 흐름이 빨라지고 처리 용량이 향상된다. 여기서 테스트트레이(TT)는 제1 챔버(CB1)의 내부에서 이송된다.The first chamber CB1 is provided for applying a thermal stimulus in advance before testing the semiconductor device loaded in the test tray TT according to the test temperature condition. In other words, the semiconductor device is pre-assimilated to the temperature inside the first chamber CB1 before going to the test position (TP: TEST POSITION). Thus, the flow of the whole logistics is accelerated and the processing capacity is improved. Here, the test tray TT is conveyed inside the first chamber CB1.

테스트챔버(TC)는 제1 챔버(CB1)에서 열적 자극을 받은 후 테스트위치(TP)로 이송되어 온 테스트트레이(TT)에 있는 반도체소자를 테스트하기 위해 마련된다. 이러한 테스트챔버(TC)의 내부는 제1 챔버(CB1)의 내부와 열적인 상태가 항상 비슷하기 때문에 상호 연결되어 있다. 참고로 테스터(TESTER)는 테스트챔버(TC)의 윈도우 측으로 결합된다. The test chamber TC is provided for testing the semiconductor device in the test tray TT which has been subjected to thermal stimulation in the first chamber CB1 and then transferred to the test position TP. The interior of the test chamber TC is interconnected because the thermal state of the interior of the first chamber CB1 is always similar. For reference, the tester TESTER is coupled to the window side of the test chamber TC.

가압장치(PU)는 테스트챔버(TC) 내에 있는 테스트트레이(TT)에 있는 반도체소자를 테스터(TESTER) 측으로 가압한다(대한민국 공개 특허 10-2005-0055685호 등 참조). 이로 인해 테스트트레이(TT)에 있는 반도체소자가 테스터(TESTER)에 전기적으로 접속된다.The pressurizing device PU presses the semiconductor element in the test tray TT in the test chamber TC toward the tester TESTER side (see, for example, Korean Patent Laid-Open No. 10-2005-0055685). As a result, the semiconductor element in the test tray TT is electrically connected to the tester TESTER.

제2 챔버(CB2)에서는 테스트챔버(TC)로부터 이송되어 온 테스트트레이(TT)에 있는 반도체소자로부터 열적 자극을 제거시키기 위해 마련된다. 이렇게 제2 챔버(CB2)를 구성하는 이유는 테스트트레이(TT)로부터 테스트 완료된 반도체소자를 언로딩시킬 때, 정상적인 언로딩 작업이 이루어지도록 하기 위함과 제2 픽킹장치(GU2)가 손상되거나 반도체소자의 상품성이 손상되는 것을 방지하기 위함이다. 따라서 제2 챔버(CB2)의 내부 온도와 테스트챔버(TC)의 내부 온도가 서로 다르기 때문에 제2 챔버(CB2)와 테스트챔버(TC) 간을 개폐하기 위한 개폐 도어(DR)가 구비되어야 한다. 마찬가지로 테스트트레이(TT)는 제2 챔버(CB2)의 내부에서 이송된다.The second chamber CB2 is provided to remove thermal stimuli from the semiconductor elements in the test tray TT that have been transferred from the test chamber TC. The reason for configuring the second chamber CB2 in this manner is that when the tested semiconductor device is unloaded from the test tray TT, a normal unloading operation is performed and the second picking device GU2 is damaged, In order to prevent the deterioration of the merchantability of the product. Therefore, since the internal temperature of the second chamber CB2 and the internal temperature of the test chamber TC are different from each other, the opening and closing door DR for opening and closing the second chamber CB2 and the test chamber TC must be provided. Likewise, the test tray TT is conveyed inside the second chamber CB2.

제2 픽킹장치(GU2)는 제2 챔버(CB2)에서 언로딩위치(UP : UNLOADING POSITION)로 온 테스트트레이(TT)에 있는 반도체소자를 언로딩하면서 테스트 등급별로 분류하여 빈 고객트레이로 적재시킨다. 마찬가지로 제2 픽킹장치(GU2)는 픽앤플레이스장치 단독으로 구성될 수도 있지만, 대한민국 공개특허 10-2007-0079223호에서 참조되는 바와 같이 복수의 픽앤플레이스장치와 소팅 테이블 등으로 구성될 수도 있다.The second picking device GU2 is categorized according to the test grade while unloading the semiconductor elements in the on test tray TT in the unloading position (UP: UNLOADING POSITION) in the second chamber CB2 and loaded into the empty customer tray . Likewise, the second picking device GU2 may be constituted by a pick-and-place device alone, but may also be constituted by a plurality of pick-and-place devices, a sorting table, and the like as described in Korean Patent Laid-Open No. 10-2007-0079223.

다수의 온도 조절기(TR1 내지 TR6)는 제1 챔버(CB1), 테스트챔버(TC) 및 제2 챔버(CB2) 내부의 온도를 조절한다. 여기서 테스트챔버(TC)의 내부는 테스트되는 반도체소자의 온도 조건과 직접적으로 관련되기 때문에 정교한 온도 조절이 이루어져야하면서도 테스트 도중 발생하는 온도 변화를 신속하게 억제해야 되기 때문에 여러 개의 온도 조절기(TR3 내지 TR6)가 필요하다. The plurality of temperature regulators TR1 to TR6 regulate the temperatures inside the first chamber CB1, the test chamber TC and the second chamber CB2. Since the inside of the test chamber TC is directly related to the temperature condition of the semiconductor device to be tested, it is necessary to perform precise temperature control while quickly suppressing the temperature change that occurs during the test. Therefore, the temperature regulators TR3 to TR6, .

제어기(CU)는 위에서 언급한 각 구성들 중 제어가 필요한 구성들을 제어한다.The controller (CU) controls the configurations requiring control among the above-mentioned respective configurations.

한편, 반도체소자의 사용 환경은 다양하기 때문에 테스트 온도 조건은 저온(예를 들면 -40도)이나 고온(예를 들면 90도)일 수 있다. 따라서 저온 테스트 후 고온 테스트를 진행해야 되거나, 고온 테스트 후 저온 테스트를 진행해야 되는 경우가 발생한다. 예를 들어 제1 챔버(CB1)의 내부는 -40도의 온도로 조절되고 제2 챔버(CB2)의 내부는 70~80도의 온도로 조절된 상태에서 저온 테스트가 실시된 후, 90도의 온도 조건으로 고온 테스트를 진행해야 될 수 있다. 이러한 경우, 제1 챔버(CB1)와 테스트챔버(TC)의 내부 온도를 90도로 조절하고, 제2 챔버(CB2)의 내부 온도를 떨어뜨려야만 한다. 이 때, 제1 챔버(CB1) 내부 온도를 -40도에서 90도까지 높이는데 2시간 가량의 시간이 소요되기 때문에, 테스트핸들러(TH)의 대기 시간이 길어져 가동률 및 처리 용량이 하락하게 된다.On the other hand, since the semiconductor devices are used in various environments, the test temperature condition may be a low temperature (for example, -40 degrees) or a high temperature (for example, 90 degrees). Therefore, it is necessary to conduct the high temperature test after the low temperature test, or to perform the low temperature test after the high temperature test. For example, the inside of the first chamber CB1 is controlled at a temperature of -40 degrees, the inside of the second chamber CB2 is controlled at a temperature of 70 to 80 degrees, a low temperature test is performed, High temperature testing may be required. In this case, the internal temperature of the first chamber CB1 and the test chamber TC must be adjusted to 90 degrees, and the internal temperature of the second chamber CB2 must be lowered. At this time, it takes about 2 hours to raise the internal temperature of the first chamber CB1 from -40 to 90 degrees, so that the waiting time of the test handler TH becomes longer and the operation rate and the processing capacity are lowered.

따라서 본 발명의 출원인은 대한민국 특허출원 출원번호 10-2014-0025058호(이하 '선행기술'이라 함)를 통해 제1 픽킹장치(PU1)와 제2 픽킹장치(PU2)의 역할 및 제1 챔버(CB1)와 제2 챔버(CB2)의 역할을 상호 전환하고, 테스트트레이(TT)의 순환 방향을 반대로 전환함으로써 기존의 제1 챔버(CB1)와 제2 챔버(CB2)의 온도 환경을 활용할 수 있는 기술을 제안한 바 있다.Accordingly, the applicant of the present invention has found that the role of the first picking device PU1 and the second picking device PU2 and the function of the first chamber PU2 are controlled through the Korean Patent Application No. 10-2014-0025058 The first chamber CB1 and the second chamber CB2 can be switched to each other and the circulating direction of the test tray TT can be reversed to utilize the temperature environment of the existing first chamber CB1 and the second chamber CB2 Technology.

선행기술에 의하면, 테스트모드의 전환이 신속하게 이루어지기 때문에 테스트핸들러(TH)의 가동률을 크게 향상시킬 수 있게 되었다. According to the prior art, since the test mode is switched quickly, the operation rate of the test handler TH can be greatly improved.

그런데 선행기술에 의하더라도 테스트모드 전환 시에 테스트챔버(TC)의 온도 환경은 그대로 사용할 수 없다. 따라서 테스트챔버(TC) 내부의 온도 환경은 전환시켜야만 한다.However, even in the prior art, the temperature environment of the test chamber TC can not be used as it is when the test mode is switched. Therefore, the temperature environment inside the test chamber (TC) must be switched.

테스트챔버(TC)의 내부 공간은 제1 챔버(CB1)나 제2 챔버(CB2)의 내부 공간에 비하여 작고, 여러 개의 온도 조절기(TR3 내지 TR6)가 구비되기 때문에 테스트챔버(TC)의 내부 공간에 있는 공기의 온도 전환은 비교적 빠른 시간 내에 이루어질 수는 있다.Since the internal space of the test chamber TC is smaller than the internal space of the first chamber CB1 and the second chamber CB2 and the plurality of temperature regulators TR3 to TR6 are provided, The temperature change of the air in the air can be achieved within a relatively short time.

그러나 가압장치를 이루는 구성품들 중 테스트챔버(TC)의 내부 공간에 위치하는 금속재질의 구성품들은 다음과 같은 점에서 테스트모드의 전환 시간을 늘리는 역할을 한다.However, among the components constituting the pressurizing device, the metallic components located in the internal space of the test chamber TC serve to increase the switching time of the test mode in the following points.

첫째, 테스트챔버(TC)의 내부 공기가 테스트 환경 조건으로 전환되더라도, 금속재질의 구성품들이 테스트 환경 조건에 미치지 못할 수 있다. 이러한 경우 특히 구성품들 중 반도체소자와 접촉하는 푸셔에 의해 반도체소자의 온도가 테스트 온도 조건의 범위를 벗어날 수 있다. 따라서 테스트 환경 조건으로 전환된 테스트챔버(TC)의 내부 공기에 의해 구성품들의 온도가 테스트 환경 조건으로 전환될 대기 시간을 가져야만 한다.First, even if the internal air of the test chamber (TC) is converted to the test environment condition, the metallic components may not meet the test environment conditions. In this case, the temperature of the semiconductor element may be out of the range of the test temperature condition, particularly by the pusher in contact with the semiconductor element among the components. Therefore, the internal air of the test chamber (TC) converted to the test environment condition must have a waiting time for the temperature of the components to be converted to the test environment condition.

둘째, 구성품들은 자체 비열이 큰 금속재질로 이루어졌기 때문에 테스트챔버(TC)의 내부 공기에 의해 구성품들의 온도를 변화시키기 위한 대기 시간이 더 길어진다.Second, since the components are made of a metal material having a large specific heat, the waiting time for changing the temperature of the components by the internal air of the test chamber (TC) becomes longer.

물론, 위에 언급한 문제점은 테스트트레이가 일 방향으로만 순환하는 기존의 테스트핸들러에서도 동일하게 발생한다.
Of course, the above problem also occurs with existing test handlers where test trays are rotated in one direction only.

본 발명의 목적은 가압장치를 이루는 구성품들 중 테스트챔버의 내부 공간에 위치하는 금속재질의 구성품들에 대한 온도 전환이 신속하게 이루어질 수 있는 기술을 제공하는 것이다.
It is an object of the present invention to provide a technique in which the temperature conversion can be rapidly performed on the metallic components located in the internal space of the test chamber among the components constituting the pressurizing apparatus.

상기한 바와 같은 목적을 달성하기 위한 본 발명에 따른 테스트핸들러용 가압장치는, 테스트트레이와 가지런히 맞으며, 가지런히 맞았을 시에 테스트트레이에 적재된 반도체소자들을 가압하는 푸셔를 가지는 매치플레이트; 상기 매치플레이트가 설치되는 설치플레이트; 상기 설치플레이트를 전방으로 이동시키거나 후방으로 이동시킴으로써, 상기 매치플레이트가 테스트트레이에 가지런히 맞도록 하거나 가지런히 맞음을 해제시키는 구동원; 및 상기 설치플레이트와 열교환하기 위한 열교환판; 을 포함하고, 상기 구동원은 열교환 또는 열적 상태의 전환 시에 상기 설치플레이트와 상기 열교환판을 접촉시키거나 접촉을 해제시킨다.In order to accomplish the above object, a pressure device for a test handler according to the present invention includes: a match plate having a pusher that presses the semiconductor elements loaded on a test tray, the match plate being aligned with the test tray; A mounting plate on which the match plate is installed; A driving source that aligns or unequals the match plate to the test tray by moving the mounting plate forward or rearward; And a heat exchange plate for heat exchange with the installation plate; Wherein the driving source brings the mounting plate and the heat exchange plate into contact with each other or releases the contact at the time of heat exchange or switching of the thermal state.

상기 열교환판은, 상기 설치플레이트와 면접촉하는 몸체부분; 상기 설치플레이트와 열교환판이 접촉할 때 상기 매치플레이트에 접촉하기 위해 적어도 일부가 상기 몸체부분으로부터 전방으로 돌출되는 돌출부분; 을 포함하며, 상기 설치플레이트에는 상기 돌출부분이 통과될 수 있는 통과구멍이 형성되어 있다.Wherein the heat exchange plate includes: a body portion in surface contact with the mounting plate; A protruding portion at least a portion protruding forward from the body portion to contact the match plate when the mounting plate and the heat exchange plate contact each other; And a through hole through which the protruding portion can pass is formed in the mounting plate.

상기 매치플레이트는, 상기 푸셔; 상기 설치플레이트와 탈착 가능하게 결합되며, 상기 푸셔가 전후 방향으로 진퇴 가능하게 설치되는 설치프레임; 및 반도체소자를 가압하면서 후방으로 밀린 상기 푸셔를 반도체소자의 가압이 해제될 시에 복원시키는 탄성부재; 를 포함하고, 상기 돌출부분은 상기 푸셔에 접촉하거나 접촉이 해제된다.Wherein the match plate comprises: a pusher; A mounting frame detachably coupled to the mounting plate, the mounting frame being installed to be movable forward and backward; And an elastic member for restoring the pusher pushed rearward while pressing the semiconductor element when the pressing of the semiconductor element is released; Wherein the projecting portion contacts or is disengaged from the pusher.

상기 매치플레이트는, 상기 돌출부분과 상기 푸셔가 접촉할 때 상기 푸셔가 상기 돌출부분에 의해 전방으로 밀릴 수 있게 설치되는 것을 가능하게 하고, 상기 돌출부분과 상기 푸셔의 접촉이 해제될 때 전방으로 밀린 상기 푸셔를 복원시키는 복원기; 를 더 포함한다.Wherein the match plate allows the pusher to be pushed forward by the projecting portion when the projecting portion and the pusher come into contact, and when the contact of the projecting portion and the pusher is released, A restorer for restoring the pusher; .

상기 복원기는, 전후 방향으로 이동 가능한 이동판; 및 상기 이동판을 상기 설치프레임 측으로 탄성력을 가하는 복원부재;를 포함하고, 상기 탄성부재는 상기 푸셔를 상기 이동판에 대하여 탄성 지지한다.
The restorer includes: a moving plate movable in the front-rear direction; And a restoring member for applying an elastic force to the moving plate toward the mounting frame, wherein the elastic member elastically supports the pusher against the moving plate.

상기한 바와 같은 목적을 달성하기 위한 본 발명에 따른 테스트핸들러용 매치플레이트는, 테스트트레이에 적재된 반도체소자들을 가압하는 푸셔; 상기 푸셔가 전후 방향으로 진퇴 가능하게 설치되는 설치프레임; 반도체소자를 가압하면서 후방으로 밀린 상기 푸셔를 반도체소자의 가압이 해제될 시에 복원시키는 탄성부재; 및 후방에서 가해지는 외력에 의해 상기 푸셔가 전방으로 밀리는 것을 가능하게 하고, 외력이 제거되면 상기 푸셔를 후방으로 복원시키는 복원기; 를 포함한다.According to an aspect of the present invention, there is provided a match plate for a test handler, including: a pusher for pressing semiconductor devices loaded on a test tray; An installation frame in which the pusher is installed so as to be movable forward and backward; An elastic member for restoring the pusher pushed rearward while pressing the semiconductor element when the pressing of the semiconductor element is released; And a restorer that allows the pusher to be pushed forward by an external force applied from the rear and restores the pusher backward when an external force is removed; .

상기 복원기는, 전후 방향으로 이동 가능한 이동판; 및 상기 이동판을 상기 설치프레임 측으로 탄성력을 가하는 복원부재; 를 포함하고, 상기 탄성부재는 상기 푸셔를 상기 이동판에 대하여 탄성 지지한다.
The restorer includes: a moving plate movable in the front-rear direction; And a restoring member for applying an elastic force to the moving plate toward the mounting frame side; And the elastic member elastically supports the pusher against the moving plate.

위와 같은 본 발명에 따르면 가압장치를 이루면서 테스트챔버의 내부 공간에 위치하는 구성품들에 대한 온도 전환이 빠르게 이루어지기 때문에 테스트핸들러의 가동률을 상승시킬 수 있는 효과가 있다.
According to the present invention, the temperature of the components located in the inner space of the test chamber can be rapidly changed while forming the pressurizing device, thereby increasing the operating rate of the test handler.

도1은 일반적인 테스트핸들러에 대한 개념적인 평면도이다.
도2는 본 발명에 따른 테스트핸들러용 가압장치에 대한 개략적인 측단면도이다.
도3은 도2의 A부분을 발췌한 발췌도이다.
도4 내지 도6은 도2의 가압장치의 작동을 설명하기 위한 참조도이다.
Figure 1 is a conceptual top view of a generic test handler.
2 is a schematic side cross-sectional view of a pressure device for a test handler according to the present invention.
Fig. 3 is an excerpt from an A portion of Fig.
4 to 6 are reference views for explaining the operation of the pressurizing device of Fig.

이하 상기한 바와 같은 본 발명에 따른 바람직한 실시예들을 첨부된 도면을 참조하여 설명한다.Hereinafter, preferred embodiments of the present invention will be described with reference to the accompanying drawings.

참고로, 설명의 간결함을 위해 중복되는 설명은 가급적 생략하거나 압축한다. 그리고 첨부된 도면상에서 동일 구성에 대한 중복적 부호 표기는 가급적 생략하였으며, 가압장치에 대하여 반도체소자가 위치하는 방향을 전방으로 정의하고 반대 방향을 후방으로 정의하였다.
For the sake of brevity, redundant descriptions are omitted or compressed as much as possible. In the accompanying drawings, the redundant code representation for the same configuration is omitted as much as possible, and the direction in which the semiconductor device is positioned with respect to the pressure device is defined as forward and the opposite direction is defined as rearward.

도2는 본 발명의 일 실시예에 따른 테스트핸들러용 가압장치(PU, 이하에서는 '가압장치'라 약칭함)에 대한 개략적인 측단면도이고, 도3은 도2의 A부분을 확대하여 도시한 확대도이다.FIG. 2 is a schematic side cross-sectional view of a pressurizing device (PU) for a test handler according to an embodiment of the present invention, and FIG. 3 is an enlarged view of a portion A of FIG. 2 Fig.

도2에서 참조되는 바와 같이 본 실시예에 따른 가압장치(PU)는 매치플레이트(100), 설치플레이트(200), 구동원(300), 열교환판(400) 및 덕트(500)를 포함한다.2, the pressing device PU according to the present embodiment includes a match plate 100, a mounting plate 200, a driving source 300, a heat exchange plate 400, and a duct 500.

매치플레이트(100)는 테스트트레이와 가지런히 맞으며, 가지런히 맞을 시에 테스트트레이의 에 적재된 반도체소자들을 가압한다. 이를 위해 매치플레이트(100)는 다수개의 푸셔(110), 설치프레임(120), 제1 복원스프링(130) 및 복원기(140)를 포함한다.The match plate 100 is aligned with the test tray and presses the semiconductor elements loaded onto the test tray when aligned. To this end, the match plate 100 includes a plurality of pushers 110, a mounting frame 120, a first restoring spring 130, and a restorer 140.

푸셔(110)는, 가압 동작 시에, 그 전면(PF, 반도체소자에 대면하는 측의 끝 면 임)이 테스트트레이의 인서트(TI)에 안착된 반도체소자(D)에 접촉되면서 반도체소자(D)를 테스터의 테스트소켓 측으로 가압한다. 그리고 푸셔(110)는 설치프레임(120)에 대하여 전후 방향으로 상대적으로 진퇴 가능하게 설치된다. 이러한 푸셔(110)는 가압부분(111), 확장부분(112) 및 안내핀(113)을 포함한다.The pusher 110 is pressed against the semiconductor element D mounted on the insert TI of the test tray while the front surface PF of the pusher 110 is in contact with the semiconductor element D ) To the test socket side of the tester. The pusher 110 is installed to be relatively movable forward and backward with respect to the mounting frame 120. The pusher 110 includes a pressing portion 111, an extension portion 112, and a guide pin 113.

가압부분(111)은 테스트트레이의 인서트(TI)에 안착된 반도체소자(D)를 가압하는 부분이다. 즉, 가압 동작 시에 가압부분(111)의 전면(PF)은 반도체소자(D)에 접촉된다. The pressing portion 111 is a portion for pressing the semiconductor element D that is seated on the insert TI of the test tray. That is, the front surface PF of the pressing portion 111 is brought into contact with the semiconductor element D in the pressing operation.

확장부분(112)은 가압부분(111)보다 둘레가 확장되어 있다. 이러한 확장부분(112)은 인서트(TI)에 반도체소자(D)가 안착되지 아니한 상태에서 가압 동작이 이루어질 시에 인서트(TI)의 일면(푸셔와 대면하는 면)에 접촉된다. 이에 따라 가압부분(111)의 전면(PF)이 테스터의 테스트소켓에 직접 접촉되는 것을 방지한다.The extension portion 112 is extended around the pressing portion 111. This extended portion 112 is brought into contact with one surface (surface facing the pusher) of the insert TI when the pressing operation is performed in a state in which the semiconductor element D is not seated in the insert TI. Thereby preventing the front surface PF of the pressing portion 111 from directly contacting the test socket of the tester.

안내핀(113)은 가압부분(111)의 전면(PF)이 반도체소자(D)에 정교하게 접촉하도록 안내한다.The guide pin 113 guides the front surface PF of the pressing portion 111 to make a precise contact with the semiconductor element D. [

또한, 푸셔(110)에는 전후 방향으로 공기통과구멍(114)이 형성되어 있다. 이 공기통과구멍(114)을 통해 덕트(500)로부터 오는 온도조절용 공기가 푸셔(110)의 전면(PF)에 의해 가압되는 반도체소자로 분사된다.Further, the pusher 110 is provided with an air passage hole 114 in the front-rear direction. The temperature control air from the duct 500 is injected through the air passage hole 114 into the semiconductor element which is pressed by the front face PF of the pusher 110. [

설치프레임(120)은 설치플레이트(200)와 탈착 가능하게 결합되며, 푸셔(110)가 전후 방향으로 진퇴 가능하게 설치된다. 이를 위해 설치프레임(120)에는 푸셔(110)의 후단이 삽입될 수 있는 설치구멍(121)이 형성되어 있다. 또한, 설치프레임(120)에는 차후 설명될 복원기(140)의 제2 복원스프링(142)을 설치하기 위한 설치돌기(122)를 가진다. 여기서 설치돌기(122)는 볼트의 형태일 수 있다.The mounting frame 120 is detachably coupled to the mounting plate 200, and the pusher 110 is installed to be movable forward and backward. To this end, a mounting hole 121 through which the rear end of the pusher 110 can be inserted is formed in the mounting frame 120. The mounting frame 120 also has mounting protrusions 122 for mounting the second restoring spring 142 of the restoring unit 140 which will be described later. The mounting protrusion 122 may be in the form of a bolt.

제1 복원스프링(130)은 궁극적으로 푸셔(110)를 설치프레임(110)에 대하여 탄성 지지하는 탄성부재로서 마련된다. 이러한 제1 복원스프링(130)은 푸셔(110)에 전방으로 탄성력을 가한다. 따라서 반도체소자(D)를 가압하면서 후방으로 밀린 푸셔(110)를 반도체소자(D)의 가압이 해제될 시에 전방으로 이동시킴으로써 원래의 위치로 복원시키는 기능을 한다. 제1 복원스프링(130)은 코일스프링으로 구비될 수 있다.The first restoring spring 130 is ultimately provided as an elastic member for elastically supporting the pusher 110 with respect to the mounting frame 110. [ The first restoring spring 130 applies an elastic force to the pusher 110 forward. Therefore, the pusher 110, which is pushed backward while pressing the semiconductor element D, moves forward to release the pressing of the semiconductor element D, thereby restoring the pusher 110 to its original position. The first restoration spring 130 may be a coil spring.

복원기(140)는 테스트모드의 전환에 따라 온도를 전환할 시에 푸셔(110)가 전방으로 밀릴 수 있도록 설치프레임(120)에 설치되는 것을 가능하게 하고, 온도의 전환 작동이 종료되면 전방으로 밀린 푸셔(110)를 원래의 위치로 복원시킨다. 이를 위해 복원기(140)는 이동판(141) 및 제2 복원스프링(142)을 포함한다.The restorer 140 can be installed on the mounting frame 120 so that the pusher 110 can be pushed forward when the temperature is switched according to the change of the test mode. When the temperature switching operation is completed, Thereby returning the pushed pusher 110 to its original position. To this end, the restorer 140 includes a moving plate 141 and a second restoring spring 142.

이동판(141)은 전후 방향으로 이동 가능하며, 푸셔(110)의 중단 부분이 삽입될 수 있는 삽입구멍(141a)이 형성되어 있다. 위에서 언급한 제1 복원스프링(130)은 푸셔(110)를 이동판(141)에 대하여 탄성 지지하지만, 설치프레임(120)과 이동판(141)이 밀착된 상태에서 푸셔(110)에 의한 반도체소자(D)의 가압 동작이 이루어지기 때문에 궁극적으로 푸셔(110)를 설치프레임(120)에 대하여 탄성 지지하는 것이 된다.The moving plate 141 is movable in forward and backward directions and has an insertion hole 141a into which a stop portion of the pusher 110 can be inserted. The first restoration spring 130 resiliently supports the pusher 110 with respect to the moving plate 141. The first restoring spring 130 elastically supports the pusher 110 in a state where the mounting frame 120 and the moving plate 141 are in close contact with each other, The pushing operation of the device D is performed so that the pusher 110 is elastically supported with respect to the mounting frame 120.

제2 복원스프링(142)은 설치돌기(122)에 의해 설치 및 유지되며, 이동판(141)에 후방으로 탄성력을 가한다. 따라서 후술하는 바와 같이 온도 전환 시에 전방으로 이동한 이동판(141) 및 푸셔(110)를 온도 전환이 종료된 후 후방으로 이동시킴으로써 원래의 위치로 복원시키는 복원부재로서 기능한다. 이러한 제2 복원스프링(142)은 코일스프링일 수 있다. The second restoring spring 142 is installed and held by the mounting protrusion 122 and exerts an elastic force on the moving plate 141 rearward. Therefore, as described later, it functions as a restoring member that restores the original to the original position by moving the moving plate 141 and the pusher 110 moved forward after the temperature change, to the original position after the temperature change is completed. The second restoring spring 142 may be a coil spring.

설치플레이트(200)는 전후 방향으로 이동 가능하게 마련된다. 이러한 설치플레이트(200)는 매치플레이트(100)의 양단을 지지할 수 있는 지지레일(210)을 가진다. 매치플레이트(100)는 그 양단이 지지레일(210)의 레일홈(RS)에 삽입된 상태를 유지하기 때문에, 설치플레이트(200)에 안정적으로 지지 및 결합 설치될 수 있다. 물론, 작업자가 매치플레이트(100)의 탈거나 장착을 위해 측방에서 매치플레이트(100)를 잡아당기거나 미는 경우 지지레일(RS)은 안내레일로서 기능한다. 또한, 설치플레이트(200)에는 후술할 열교환판(400)의 돌출부분(420)이 통과될 수 있는 통과구멍(220)이 푸셔(100)와 대응되는 위치에 형성되어 있다.The mounting plate 200 is movable in the front-rear direction. The mounting plate 200 has support rails 210 capable of supporting both ends of the match plate 100. [ The match plate 100 can be stably supported and attached to the mounting plate 200 because both ends of the match plate 100 are inserted into the rail groove RS of the support rail 210. [ Of course, the support rail RS functions as a guide rail when the operator pulls or pushes the match plate 100 at the side for riding or mounting the match plate 100. The through hole 220 through which the protrusion 420 of the heat exchange plate 400 to be described later passes is formed in the mounting plate 200 at a position corresponding to the pusher 100.

구동원(300)은 정위치에 있는 설치플레이트(200)를 전방으로 이동시키거나 전방에서 후방의 정위치로 이동시킴으로써, 설치플레이트(200)에 결합된 매치플레이트(100)가 테스트트레이에 가지런히 맞도록 하거나 가지런히 맞는 것을 해제시킨다. 이에 따라, 매치플레이트(100)의 푸셔(110)가 테스트트레이의 인서트(TI)에 적재된 반도체소자(D)를 가압하거나 가압을 해제하게 된다. 또한, 구동원(300)은 정위치에 있는 설치플레이트(200)를 후방으로 이동시키거나 후방에서 전방의 정위치로 이동시킴으로써 설치플레이트(200)가 열교환판(400)에 접촉되도록 하거나 접촉을 해제시킨다. 이를 위해 구동원(300)의 구동축(310)의 전단은 설치플레이트(200)에 결합되어 있다.The driving source 300 moves the mounting plate 200 in the forward position to the forward position or the forward position to the rear position so that the match plate 100 coupled to the mounting plate 200 is aligned with the test tray Or release the one that matches. The pusher 110 of the match plate 100 presses or releases the semiconductor element D loaded on the insert TI of the test tray. In addition, the driving source 300 moves the mounting plate 200 in the forward position to the rear position or moves it from the rear position to the front position in the forward direction, so that the mounting plate 200 contacts or releases the heat exchange plate 400 . To this end, the front end of the driving shaft 310 of the driving source 300 is coupled to the mounting plate 200.

열교환판(400)은 테스트모드의 전환에 따라 매치플레이트(100)의 온도를 전환하기 위해 마련된다. 이를 위해 열교환판(400)은 몸체부분(410)과 돌출부분(420)을 포함한다.The heat exchange plate 400 is provided for switching the temperature of the match plate 100 according to the switching of the test mode. To this end, the heat exchange plate 400 includes a body portion 410 and a protrusion portion 420.

몸체부분(410)은 설치플레이트(200)가 정위치에서 후방으로 이동할 때 그 전면이 설치플레이트(200)의 후면과 면접촉한다. 이러한 몸체부분(410)은 고온의 열을 발열시키기 위한 히터(411)를 가진다. 또한, 몸체부분(410)은 도시되지 않은 칠러에 의해 공급되는 저온의 냉매가 흐를 수 있는 냉각유로(412)가 형성되어 있다. 따라서 히터(411)가 동작할 시에는 몸체부분(410)이 고온 상태로 되고, 냉각유로(412)로 냉매가 흐를 때에는 몸체부분(410)이 저온 상태로 된다. The body portion 410 is in surface contact with the rear surface of the mounting plate 200 when the mounting plate 200 moves from the right position to the rear position. The body portion 410 has a heater 411 for generating heat at a high temperature. In addition, the body portion 410 is formed with a cooling channel 412 through which a low-temperature refrigerant supplied by a chiller (not shown) can flow. Therefore, when the heater 411 is operated, the body portion 410 is in a high temperature state, and when the refrigerant flows into the cooling flow path 412, the body portion 410 is in a low temperature state.

돌출부분(420)은 전단 부위가 몸체부분(410)으로부터 전방으로 돌출되도록 설치된다. 이러한 돌출부분(420)의 전단 부위는 설치플레이트(200)의 통과구멍(220)에 삽입되어서 푸셔(110)의 후면과 접촉될 수 있다. 본 실시예에서는 돌출부분(420)이 핀의 구조로 몸체부분(410)에 설치되는 형태이지만, 실시하기에 따라서는 돌출부분이 몸체부분에서 일체로 돌출 형성될 수도 있다. 또한, 돌출부분(420)에는 덕트(500)로부터 오는 온도조절용 공기가 푸셔(110)의 후면으로 공급될 수 있도록 하는 공기공급구멍(421)이 형성되어 있다. The protruding portion 420 is installed so that the front end portion protrudes forward from the body portion 410. The front end portion of the protruding portion 420 may be inserted into the through hole 220 of the mounting plate 200 and be in contact with the rear surface of the pusher 110. In this embodiment, the protruding portion 420 is provided on the body portion 410 with a pin structure. However, the protruding portion may protrude integrally from the body portion. The protruding portion 420 is formed with an air supply hole 421 through which the temperature control air from the duct 500 can be supplied to the rear surface of the pusher 110.

덕트(500)는 미도시된 온도조절유닛으로부터 오는 온도조절용 공기를 공기공급구멍(421) 및 공기통과구멍(114)을 거쳐 반도체소자로 공급하기 위해 마련되며, 공기공급구멍(421)에 대응되는 공기분사구멍(510)이 형성되어 있다. 따라서 온도조절유닛으로부터 공급되는 공기는 덕트의 내부에서 공기분사구멍(510)을 통해 분사되어서, 공기공급구멍(421) 및 공기통과구멍(114)을 순차적으로 거친 후, 반도체소자(D)로 분사된다. 그리고 반도체소자(D)로 분사된 공기는 테스트챔버의 내부에서 온도조절유닛으로 흡입되어서 온도가 조절된 후 덕트(500)로 공급되는 순환 경로를 따라 이동하게 된다. 참고로, 이와 같은 공기 흐름이 적절히 이루어지도록 설치플레이트(200)와 열교환판(400) 사이로 온도조절용 공기가 노출되는 것을 최소화시키기 위해, 설치플레이트(200)와 열교환판(400) 외측에 설치플레이트(200)에 결합되어서 설치플레이트(200)와 함께 이동하는 차단부재(600)와 차단부재(600)와 열교환판(400) 사이를 밀봉시키기 위한 밀봉부재(700)를 구비하는 것이 바람직하다.
The duct 500 is provided for supplying the temperature control air from the temperature regulating unit (not shown) to the semiconductor element via the air supply hole 421 and the air passage hole 114, An air injection hole 510 is formed. The air supplied from the temperature control unit is injected from the inside of the duct through the air injection hole 510 so as to sequentially pass through the air supply hole 421 and the air passage hole 114, do. The air injected into the semiconductor device (D) is sucked into the temperature control unit inside the test chamber and is moved along the circulation path supplied with the temperature after being adjusted to the duct (500). For the purpose of minimizing exposure of the temperature control air between the mounting plate 200 and the heat exchange plate 400 so that the air flow is appropriately performed, the mounting plate 200 and the mounting plate 400 And a sealing member 700 for sealing between the blocking member 600 and the heat exchange plate 400. The sealing member 600 may include a sealing member 600 that is coupled to the mounting plate 200 and moves together with the mounting plate 200.

계속하여 상기한 바와 같은 본 실시예에 따른 가압장치(PU)의 작동에 대하여 설명한다.
Subsequently, the operation of the pressurizing device PU according to the present embodiment as described above will be described.

<가압 작동><Pressurizing operation>

도3는 현재 반도체소자(D)에 대한 테스트가 이루어지기 전의 상태이다. 도3의 상태에서 구동원(300)은 정위치에 있는 설치플레이트(200)를 전방으로 밀어서 매치플레이트(100)를 전방으로 이동시킨다. 이에 따라 도4에서와 같이 푸셔(110)의 전면이 반도체소자(D)에 접촉하면서 반도체소자(D)를 테스터의 테스트소켓에 가압하게 된다. 따라서 반도체소자(D)와 테스트소켓이 전기적으로 연결되어서 테스트가 이루어질 수 있게 된다. 차후 테스트가 종료되면, 도3의 상태로 회귀된다. 도3 및 도4를 참조하면, 이동판(141)의 후면이 설치프레임(120)의 전면에 밀착된 상태로서 설치프레임(120)에 일체로 전후 이동함을 알 수 있다. 물론, 도4에서와 같이 가압 동작 시에 푸셔(110)는 반도체소자(D)의 반작용에 의해 이동판(141) 및 설치프레임(120)에 대하여 상대적으로 후방으로 밀리고, 가압 동작이 해제되면 제1 복원스프링(130)의 작용에 의해 푸셔(110)가 이동판(141) 및 설치프레임(120)에 대하여 원래의 위치로 복원된다.
3 shows a state before the test for the semiconductor element D is performed. In the state of FIG. 3, the driving source 300 moves the match plate 100 forward by pushing the mounting plate 200 in the forward position. Thus, as shown in FIG. 4, the front surface of the pusher 110 is brought into contact with the semiconductor element D, and the semiconductor element D is pressed against the test socket of the tester. Thus, the semiconductor device D and the test socket are electrically connected to each other so that the test can be performed. When the subsequent test is finished, the state returns to the state of FIG. 3 and 4, it can be seen that the rear surface of the moving plate 141 is in close contact with the front surface of the mounting frame 120, and moves back and forth integrally with the mounting frame 120. 4, the pusher 110 is pushed rearward relative to the moving plate 141 and the mounting frame 120 by the reaction of the semiconductor element D, and when the pressing operation is released, The pusher 110 is restored to its original position with respect to the moving plate 141 and the mounting frame 120 by the action of the one restoring spring 130. [

<열교환 작동><Heat exchange operation>

도3에서 테스트트레이의 인서트(TI)를 제거시키면 열교환 전의 상태일 수 있다. 테스트모드의 전환에 따라서 열교환 작동이 이루어지기 위해서는 도3의 상태에서 구동원이 작동하여 설치플레이트(200)를 후방으로 이동시킴으로써 도5의 상태가 되게 한다.Removal of the insert (TI) of the test tray in FIG. 3 may be the condition prior to heat exchange. In order to perform the heat exchange operation in accordance with the switching of the test mode, the driving source is operated in the state of FIG. 3 to move the mounting plate 200 backward, thereby bringing the state shown in FIG.

도5를 참조하면, 설치플레이트(200)가 열교환판(400)의 몸체부분(410)에 면접촉한 상태에서 몸체부분(410)의 상태(고온 상태 또는 저온 상태)에 따라 전도에 의해 열을 공급받거나 냉기를 공급받게 된다. 따라서 설치플레이트(200)의 온도가 테스트모드 전환에 따른 필요 온도로 급속하게 전환된다.5, when the mounting plate 200 contacts the body 410 of the heat exchange plate 400, the heat is supplied by conduction according to the state of the body 410 (high temperature state or low temperature state) And receive cold air. Therefore, the temperature of the mounting plate 200 rapidly changes to the required temperature according to the test mode switching.

그리고 열교환판(400)의 돌출부분(420)은 설치플레이트(200)의 통과구멍(220)을 통과한 상태로 푸셔(110)의 후면에 접촉된다. 따라서 푸셔(110)의 온도도 전도에 의해 테스트모드 전환에 따른 필요 온도로 급속하게 전환된다.The protruding portion 420 of the heat exchange plate 400 is in contact with the rear surface of the pusher 110 while passing through the through hole 220 of the mounting plate 200. Accordingly, the temperature of the pusher 110 is rapidly switched to the required temperature according to the test mode switching by conduction.

한편, 본 실시예에서는 각 구성들의 제작 공차 등을 감안하여 돌출부분(420)의 돌출 부위를 2mm 정도 더 길게 가져간다.On the other hand, in this embodiment, the protruding portion of the protruding portion 420 is taken longer by about 2 mm in view of manufacturing tolerances and the like of the respective structures.

이상적으로는 설치플레이트(200)의 후방 이동에 의해 돌출부분(420)의 전면과 푸셔(110)의 후면이 정확하게 접촉하도록 설계되는 것이 바람직하다. 그러나 제작 공차나 열변형에 의한 미세한 휨 등에 의해 도6의 과장도에서와 같이 설치플레이트(200)가 후방 이동을 하더라도 돌출부분(420)들의 전면이 모두 푸셔(110)들의 후면에 접촉되지 않을 수 있다. 즉, 일부의 돌출부분(420)들과 푸셔(110)들이 서로 접촉된 경우에도, 나머지 일부의 돌출부분(420)들과 푸셔(110)들은 서로 접촉되지 못하거나 완전히 접촉되지 못할 수 있는 것이다(도6의 B부분 참조). 이러한 경우 돌출부분(420)과 접촉되는 못한 푸셔(110)의 온도 전환은 상대적으로 느려질 수 있다. 따라서 돌출 부위를 이상적인 길이보다 2mm 정도 더 길게 돌출되도록 가져감으로써 돌출부분(420)들의 전면이 모두 푸셔(110)들의 후면에 접촉될 수 있도록 하고 있다. 이로 인해, 푸셔(110)들에 따라서는 도5에서와 같이 돌출부분(420)들에 의해 전방으로 밀릴 수 있다. 이러한 경우, 제2 복원스프링(142)이 압축되면서 설치프레임(120)에 대하여 상대적으로 푸셔(110) 및 이동판(141)이 전방으로 밀리게 된다. 이 때, 이동판(141)은 설치프레임(120)으로부터 이격된다. 물론, 테스트모드의 전환 동작이 종료되면, 이동판(141) 및 푸셔(110)는 도3에서와 같이 원래의 위치로 복귀한다.
Ideally, it is desirable that the front surface of the projecting portion 420 and the rear surface of the pusher 110 are designed to be in precise contact with each other by rearward movement of the mounting plate 200. However, even if the mounting plate 200 moves backward as shown in an exaggerated view of FIG. 6 due to manufacturing tolerances or thermal deformation, the entire surfaces of the protruding portions 420 may not contact the rear surface of the pushers 110 have. That is, even when the protrusions 420 and the pushers 110 are in contact with each other, the protrusions 420 and the pushers 110 may not be in contact with each other or may not be completely contacted with each other See part B of FIG. 6). In this case, the temperature change of the pusher 110 that is not in contact with the protruding portion 420 may be relatively slow. Therefore, the projecting portions are brought to protrude by about 2 mm longer than the ideal length so that the entire surfaces of the protruding portions 420 can be brought into contact with the rear surface of the pushers 110. For this reason, depending on the pushers 110, they can be pushed forward by the protruding portions 420 as in Fig. In this case, as the second restoring spring 142 is compressed, the pusher 110 and the moving plate 141 are pushed forward relative to the mounting frame 120. At this time, the moving plate 141 is spaced from the mounting frame 120. Of course, when the switching operation of the test mode is completed, the moving plate 141 and the pusher 110 return to their original positions as shown in FIG.

참고로, 상술한 실시예에서는 설치플레이트(200)가 전후 방향으로 이동함으로써 열교환판(400)에 접촉하는 구조를 가지지만, 실시하기에 따라서는 열교환판을 이동시킬 수 있는 별개의 구동원을 구비함으로써 열교환판의 이동에 의해 설치플레이트와 열교환판이 접촉하는 구조를 가질 수도 있다.For reference, in the above-described embodiment, the mounting plate 200 has a structure in which the mounting plate 200 contacts the heat exchange plate 400 by moving in the forward and backward direction. However, according to the embodiment, there is provided a separate drive source capable of moving the heat exchange plate It may have a structure in which the installation plate and the heat exchange plate contact each other by the movement of the heat exchange plate.

또한, 본 발명에 따른 독특한 구조의 매치플레이트(100)는 열교환 기술 외에서도 적용 가능하다. Further, the match plate 100 having a unique structure according to the present invention is applicable to other than the heat exchange technique.

따라서 본 발명에 대한 구체적인 설명은 첨부된 도면을 참조한 실시예에 의해서 이루어졌지만, 상술한 실시예는 본 발명의 바람직한 예를 들어 설명하였을 뿐이기 때문에, 본 발명이 상기의 실시예에만 국한되는 것으로 이해되어져서는 아니 되며, 본 발명의 권리범위는 후술하는 청구범위 및 그 등가개념으로 이해되어져야 할 것이다.
While the present invention has been particularly shown and described with reference to exemplary embodiments thereof, it is clearly understood that the same is by way of illustration and example only and is not to be taken by way of illustration, And the scope of the present invention should be understood as the scope of the following claims and their equivalents.

TU : 테스트핸들러용 가압장치
100 : 매치플레이트
110 : 푸셔 120 : 설치프레임
130 : 제1 복원스프링
140 : 복원기
141 : 이동판 142 : 제2 복원스프링
200 : 설치플레이트
220 : 통과구멍
300 : 구동원
400 : 열교환판
410 : 몸체부분 420 : 돌출부분
TU: Pressure device for test handler
100: Match plate
110: pusher 120: installation frame
130: first restoration spring
140: Restore
141: moving plate 142: second restoring spring
200: mounting plate
220: through hole
300: driving source
400: Heat exchange plate
410: body part 420: protruding part

Claims (7)

테스트트레이와 가지런히 맞으며, 가지런히 맞았을 시에 테스트트레이에 적재된 반도체소자들을 가압하는 푸셔를 가지는 매치플레이트;
상기 매치플레이트가 설치되는 설치플레이트;
상기 설치플레이트를 전방으로 이동시키거나 후방으로 이동시킴으로써, 상기 매치플레이트가 테스트트레이에 가지런히 맞도록 하거나 가지런히 맞음을 해제시키는 구동원; 및
상기 설치플레이트와 열교환하기 위한 열교환판; 을 포함하고,
상기 구동원은 열교환 또는 열적 상태의 전환 시에 상기 설치플레이트와 상기 열교환판을 접촉시키거나 접촉을 해제시키는 것을 특징으로 하는
테스트핸들러용 가압장치.
A match plate having a pusher that aligns with the test tray and presses the semiconductor elements loaded in the test tray when aligned;
A mounting plate on which the match plate is installed;
A driving source that aligns or unequals the match plate to the test tray by moving the mounting plate forward or rearward; And
A heat exchange plate for heat exchange with the installation plate; / RTI &gt;
Characterized in that the drive source contacts or releases the mounting plate and the heat exchange plate at the time of heat exchange or switching of the thermal state
Pressurizing device for test handler.
제1항에 있어서,
상기 열교환판은,
상기 설치플레이트와 면접촉하는 몸체부분;
상기 설치플레이트와 열교환판이 접촉할 때 상기 매치플레이트에 접촉하기 위해 적어도 일부가 상기 몸체부분으로부터 전방으로 돌출되는 돌출부분; 을 포함하며,
상기 설치플레이트에는 상기 돌출부분이 통과될 수 있는 통과구멍이 형성된 것을 특징으로 하는
테스트핸들러용 가압장치.
The method according to claim 1,
The heat exchanging plate may include:
A body portion in surface contact with the mounting plate;
A protruding portion at least a portion protruding forward from the body portion to contact the match plate when the mounting plate and the heat exchange plate contact each other; / RTI &gt;
And a through hole through which the protruding portion can pass is formed in the mounting plate
Pressurizing device for test handler.
제2항에 있어서,
상기 매치플레이트는,
상기 푸셔;
상기 설치플레이트와 탈착 가능하게 결합되며, 상기 푸셔가 전후 방향으로 진퇴 가능하게 설치되는 설치프레임; 및
반도체소자를 가압하면서 후방으로 밀린 상기 푸셔를 반도체소자의 가압이 해제될 시에 복원시키는 탄성부재; 를 포함하고,
상기 돌출부분은 상기 푸셔에 접촉하거나 접촉이 해제되는 것을 특징으로 하는
테스트핸들러용 가압장치.
3. The method of claim 2,
The match plate includes:
The pusher;
A mounting frame detachably coupled to the mounting plate, the mounting frame being installed to be movable forward and backward; And
An elastic member for restoring the pusher pushed rearward while pressing the semiconductor element when the pressing of the semiconductor element is released; Lt; / RTI &gt;
Characterized in that the projecting portion is in contact with or released from the pusher
Pressurizing device for test handler.
제3항에 있어서,
상기 매치플레이트는,
상기 돌출부분과 상기 푸셔가 접촉할 때 상기 푸셔가 상기 돌출부분에 의해 전방으로 밀릴 수 있게 설치되는 것을 가능하게 하고, 상기 돌출부분과 상기 푸셔의 접촉이 해제될 때 전방으로 밀린 상기 푸셔를 복원시키는 복원기; 를 더 포함하는 것을 특징으로 하는
테스트핸들러용 가압장치.
The method of claim 3,
The match plate includes:
The pusher being configured to be pushed forward by the projecting portion when the projecting portion and the pusher come into contact with each other, and to restore the pusher pushed forward when the pushing portion is released from contact with the projecting portion Restorer; &Lt; RTI ID = 0.0 &gt;
Pressurizing device for test handler.
제4항에 있어서,
상기 복원기는,
전후 방향으로 이동 가능한 이동판; 및
상기 이동판을 상기 설치프레임 측으로 탄성력을 가하는 복원부재;를 포함하고,
상기 탄성부재는 상기 푸셔를 상기 이동판에 대하여 탄성 지지하는 것을 특징으로 하는
테스트핸들러용 가압장치.
5. The method of claim 4,
The reconstructor includes:
A moving plate movable in the forward and backward directions; And
And a restoring member for applying an elastic force to the moving plate on the side of the mounting frame,
Characterized in that the elastic member elastically supports the pusher with respect to the moving plate
Pressurizing device for test handler.
테스트트레이에 적재된 반도체소자들을 가압하는 푸셔;
상기 푸셔가 전후 방향으로 진퇴 가능하게 설치되는 설치프레임;
반도체소자를 가압하면서 후방으로 밀린 상기 푸셔를 반도체소자의 가압이 해제될 시에 복원시키는 탄성부재; 및
후방에서 가해지는 외력에 의해 상기 푸셔가 전방으로 밀리는 것을 가능하게 하고, 외력이 제거되면 상기 푸셔를 후방으로 복원시키는 복원기; 를 포함하는 것을 특징으로 하는
테스트핸들러용 매치플레이트.
A pusher for pressing the semiconductor elements loaded in the test tray;
An installation frame in which the pusher is installed so as to be movable forward and backward;
An elastic member for restoring the pusher pushed rearward while pressing the semiconductor element when the pressing of the semiconductor element is released; And
A restorer that allows the pusher to be pushed forward by an external force applied from the rear and restores the pusher backward when an external force is removed; &Lt; RTI ID = 0.0 &gt;
Match plate for test handlers.
제6항에 있어서,
상기 복원기는,
전후 방향으로 이동 가능한 이동판; 및
상기 이동판을 상기 설치프레임 측으로 탄성력을 가하는 복원부재; 를 포함하고,
상기 탄성부재는 상기 푸셔를 상기 이동판에 대하여 탄성 지지하는 것을 특징으로 하는
테스트핸들러용 매치플레이트.






The method according to claim 6,
The reconstructor includes:
A moving plate movable in the forward and backward directions; And
A restoring member for applying an elastic force to the moving plate toward the mounting frame; Lt; / RTI &gt;
Characterized in that the elastic member elastically supports the pusher with respect to the moving plate
Match plate for test handlers.






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