KR102279390B1 - 접착제 배리어 필름 구조물 - Google Patents

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Abstract

본 발명은 결합 층과 인접 배리어 층 사이에 고 박리 저항성을 갖는 결합부를 형성하는 것에 관한 것이다. 그러한 물품은 장치, 특히 발광 장치의 제조에 특히 유용하고, 발광 장치의 조립을 위한 방법이 기술된다. 발광 장치는 가요성 투명 배리어 필름 및 자외 (UV) 방사선 경화성 (메트)아크릴레이트 매트릭스를 사용하는 봉지 시스템을 포함한다. 감습성 발광 재료는, 예를 들어 필름, 또는 OLED 구조를 포함하는 필름 구조물 내에 배치된 양자점 재료일 수 있다.

Description

접착제 배리어 필름 구조물{ADHESIVE BARRIER FILM CONSTRUCTION}
유기 발광 다이오드 (OLED) 및 양자점(quantum dot)과 같은, 발광 장치(luminescent device)의 제조에 유용한 소정 재료는 공기 및 습기에 노출될 경우 산화적 손상을 겪어, 종종 발광 손실을 유발한다. 공기 및 습기의 침투에 대해 효과적인 배리어 층(barrier layer)의 제조가 공지되어 있지만, 민감성 재료를 포함하는 편리한 중합체성 매트릭스에 그러한 층을 결합하려는 시도는 불량한 층간 접착력을 야기하였다.
본 발명은 결합 층(bonding layer)과 인접 배리어 층 사이에 고 박리 저항성을 갖는 결합부를 형성하는 것에 관한 것이다. 그러한 물품은 장치, 특히 발광 장치의 제조에 특히 유용하고, 발광 장치의 조립을 위한 방법이 기술된다. 발광 장치는 가요성 투명 배리어 필름 및 자외 (UV) 방사선 경화성 (메트)아크릴레이트 매트릭스를 사용하는 봉지 시스템(encapsulation system)을 포함한다. 감습성(moisture sensitive) 발광 재료는, 예를 들어 필름, 또는 OLED 구조를 포함하는 필름 구조물 내에 배치된 양자점 재료일 수 있다. 하나의 태양에서, 본 발명은 적어도 외측 중합체 층을 각각 포함하는 제1 및 제2 배리어 층 - 각각의 외측 중합체 층은 접착제 접촉 표면을 가짐 -; 및 중합체 매트릭스를 갖는 발광 층(luminescent layer) - 발광 층은 각자의 접착제 접촉 표면이 발광 층과 접촉하는 상태로 제1 배리어 층과 제2 배리어 층 사이에 배치됨 - 을 포함하며, 제1 및 제2 배리어 층과 발광 층 사이의 박리 접착력이 100 그램/인치 이상인, 장치를 제공한다. 다른 태양에서, 본 발명은 장치; 장치를 조명하도록 배치된 발광체(light); 및 발광체와 장치 사이에 배치된 액정 디스플레이 패널을 포함하는, 디스플레이를 제공한다.
또 다른 태양에서, 본 발명은 배리어 필름 및 결합 층을 포함하는, 장치를 제공한다. 배리어 필름은 대향하는 제1 및 제2 주 표면(major surface)을 갖는 중합체성 기재(substrate); 제2 주 표면에 인접한 무기 산화물 층; 제2 주 표면과 무기 산화물 층 사이의 평탄화 중합체성 층(smoothing polymeric layer); 및 평탄화 중합체성 층 반대편에, 무기 산화물 층 상에 배치된 외측 중합체 층을 포함한다. 결합 층은 외측 중합체 층에 인접하게 배치되며, 여기서 배리어 필름과 결합 층 사이의 박리 접착력이 100 그램/인치 이상이다. 또 다른 태양에서, 본 발명은 장치; 장치를 조명하도록 배치된 발광체; 및 발광체와 장치 사이에 배치된 액정 디스플레이 패널을 포함하는, 디스플레이를 제공한다.
또 다른 태양에서, 본 발명은 배리어 필름 및 결합 층을 포함하는, 장치를 제공한다. 배리어 필름은 대향하는 제1 및 제2 주 표면을 갖는 중합체성 기재; 제2 주 표면에 인접한 무기 산화물 층; 제2 주 표면과 무기 산화물 층 사이의 평탄화 중합체성 층; 및 평탄화 중합체성 층 반대편에, 무기 산화물 층 상에 배치된 외측 중합체 층을 포함한다. 결합 층은 외측 중합체 층에 인접하게 배치되며, 여기서 배리어 필름과 결합 층 사이의 박리 접착력이 100 그램/인치 이상이다. 장치는 대향하는 제3 및 제4 주 표면을 갖는 제2 중합체성 기재; 제4 주 표면에 인접한 제2 무기 산화물 층; 제4 주 표면과 제2 무기 산화물 층 사이의 제2 평탄화 중합체성 층; 및 제2 평탄화 중합체성 층 반대편에, 제2 무기 산화물 층 상에 배치된 제2 외측 중합체 층을 갖는 제2 배리어 필름을 추가로 포함하며, 여기서 결합 층은 제2 무기 산화물 층에 인접하게, 그리고 제2 평탄화 중합체성 층 반대편에 배치된다. 또 다른 태양에서, 본 발명은 장치; 장치를 조명하도록 배치된 발광체; 및 발광체와 장치 사이에 배치된 액정 디스플레이 패널을 포함하는, 디스플레이를 제공한다.
또 다른 태양에서, 본 발명은 진공 챔버(evacuated chamber) 내에서 배리어 필름을 형성하는 단계 - 배리어 필름은 외측 방사선 경화성 중합체 층을 포함함 -; 배리어 필름 상에 접착제 접촉 표면을 형성하도록, 외측 방사선 경화성 중합체 층을 적어도 부분적으로 경화시키는 단계; 및 접착제 접촉 표면 상에 결합 층을 형성하는 단계를 포함하는, 장치를 형성하는 방법을 제공한다.
또 다른 태양에서, 본 발명은 진공 챔버 내에서 배리어 필름을 형성하는 단계 - 배리어 필름은 외측 방사선 경화성 중합체 층을 가짐 -; 배리어 필름 상에 접착제 접촉 표면을 형성하도록, 외측 방사선 경화성 중합체 층을 적어도 부분적으로 경화시키는 단계; 경화성 중합체 매트릭스를 포함하는 결합 층과 접착제 접촉 표면이 접촉하도록, 배리어 필름을 결합 층에 라미네이팅(laminating)하는 단계; 및 라미네이트(laminate)를 경화시키는 단계를 포함하는, 장치를 형성하는 방법을 제공한다.
상기 요약은 본 발명의 각각의 개시된 실시 형태 또는 모든 구현예를 기술하고자 하는 것은 아니다. 이하의 도면 및 상세한 설명은 예시적인 실시 형태를 보다 구체적으로 예시한다.
명세서 전체에 걸쳐 첨부 도면을 참조하며, 첨부 도면에서 동일한 도면 부호는 동일한 요소를 지시한다.
도 1은 장치의 개략 단면도를 도시하는 도면.
도 2는 장치를 형성하기 위한 공정을 도시하는 도면.
도면은 반드시 일정한 축척으로 작성된 것은 아니다. 도면에 사용된 동일한 도면 부호는 동일한 구성요소를 지시한다. 그러나, 주어진 도면에서 소정 구성요소를 지시하기 위한 도면 부호의 사용은 동일한 도면 부호로 표기된 다른 도면의 그 구성요소를 제한하도록 의도되지 않음이 이해될 것이다.
본 발명은 장치, 특히 발광 장치의 구조, 및 발광 장치의 조립을 위한 방법을 제공한다. 발광 장치는 가요성 투명 배리어 필름 및 자외 (UV) 방사선 경화성 (메트)아크릴레이트 매트릭스를 사용하는 봉지 시스템을 포함한다. 감습성 발광 재료는, 예를 들어 필름, 또는 OLED 구조를 포함하는 필름 구조물 내에 배치된 양자점 재료일 수 있다. 하나의 특정 실시 형태에서, 발광 장치는 고 광학 투과율 배리어 필름, 양자점을 함유하는 UV 경화성 (메트)아크릴레이트 매트릭스의 고 배리어 특성, 및 변환 및 제품 사용 동안의 내구성을 위한 배리어 필름에 대한 UV 경화성 아크릴레이트 매트릭스의 고 접착력을 포함한다. 하나의 특정 실시 형태에서, 제조되는 배리어 필름은 다른 재료, 예컨대 중합체성 핫 멜트 재료, 감압 접착제, 하드 코트(hard coat) 등에 대한 결합에 유용할 수 있다.
대부분은 잘 알려져 있지만 어떤 설명을 필요로 할 수 있는 소정 용어들이 상세한 설명 및 청구범위 전체에 걸쳐 사용된다. 이들 용어는, 본 명세서에 사용되는 바와 같이, 다음과 같이 이해되어야 한다.
단량체에 관한 용어 "(메트)아크릴레이트"는 알코올과 아크릴산 또는 메타크릴산, 예를 들어 아크릴산 또는 메타크릴산의 반응 생성물로서 형성되는 비닐-작용성 알킬 에스테르를 의미한다.
용어 "(공)중합체"는 단일중합체 또는 공중합체를 의미한다.
용어 "균질한"은 거시적인 규모에서 관찰될 때 물질의 단일 상만을 나타냄을 의미한다.
이제 본 발명의 다양한 예시적 실시 형태가 특히 도면을 참조하여 기술될 것이다. 본 발명의 예시적인 실시 형태는 본 발명의 사상 및 범주로부터 벗어남이 없이 다양한 변형 및 변경을 취할 수 있다. 따라서, 본 발명의 실시 형태는 하기에 기술된 예시적인 실시 형태로 제한되는 것이 아니라, 청구범위에 기재된 제한 및 그것의 임의의 등가물에 의해 제한되어야 한다는 것이 이해되어야 한다.
하기 설명에서, 그것의 일부를 이루며 예시로서 도시된 첨부 도면을 참조한다. 다른 실시 형태가 고려되며 본 발명의 범주 또는 사상으로부터 벗어남이 없이 이루어질 수 있다는 것이 이해되어야 한다. 따라서, 하기의 상세한 설명은 제한적인 의미로 받아들여지지 않아야 한다.
달리 지시되지 않는 한, 본 명세서 및 청구범위에 사용되는 특징부 크기, 양 및 물리적 특성을 표현하는 모든 수치는 모든 경우에 용어 "약"에 의해 수식되는 것으로 이해되어야 한다. 따라서, 반대로 지시되지 않는 한, 상기의 명세서 및 첨부된 청구범위에 기재된 수치 파라미터는, 본 명세서에 개시된 교시를 이용하는 당업자가 얻고자 하는 원하는 특성에 따라 변할 수 있는 근사치이다.
본 명세서 및 첨부된 청구범위에 사용되는 바와 같이, 단수 형태 ("a", "an" 및 "the")는, 그 내용이 명백하게 달리 지시하지 않는 한, 복수의 지시 대상을 갖는 실시 형태를 포함한다. 본 명세서 및 첨부된 청구범위에 사용되는 바와 같이, 용어 "또는"은 일반적으로, 그 내용이 명백하게 달리 지시하지 않는 한, 그것의 의미에 있어서 "및/또는"을 포함하는 것으로 사용된다.
본 명세서에 사용되는 경우, "하부", "상부", "밑", "아래", "위", 및 "상부에"를 포함하지만 이로 제한되지 않는, 공간적으로 관련된 용어는 설명의 용이함을 위해 다른 요소에 대한 소정 요소(들)의 공간적 관계를 기술하는 데 이용된다. 그러한 공간적으로 관련된 용어는 도면에 도시되고 본 명세서에 기술된 특정 배향에 더하여, 사용 또는 작동 시의 장치의 상이한 배향을 포함한다. 예를 들어, 도면에 도시된 물체가 반전되거나 뒤집히면, 다른 요소 아래에 또는 밑에 있는 것으로 이전에 기술된 부분이 이들 다른 요소 위에 있을 것이다.
본 명세서에 사용되는 바와 같이, 예를 들어 요소, 구성요소 또는 층이 다른 요소, 구성요소 또는 층과 "일치하는 계면"을 형성하는 것으로, 또는 "그것 상에" 있거나, "그것에 연결"되거나, "그것과 결합"되거나, "그것과 접촉"하는 것으로 기술되는 경우, 그것이, 예를 들어 그 특정 요소, 구성요소 또는 층 상에 직접 있거나, 그것에 직접 연결되거나, 그것과 직접 결합되거나, 그것과 직접 접촉할 수 있거나, 개재되는 요소, 구성요소 또는 층이 그 특정 요소, 구성요소 또는 층 상에 있거나, 그것에 연결되거나, 그것과 결합되거나, 그것과 접촉할 수 있다. 예를 들어 요소, 구성요소 또는 층이 다른 요소 "상에 직접" 있거나 "그것에 직접 연결"되거나, "그것과 직접 결합"되거나, "그것과 직접 접촉"하는 것으로 지칭되는 경우, 예를 들어 개재되는 요소, 구성요소 또는 층은 없다.
현재의 액정 디스플레이 (LCD)는 NTSC 표준의 50%만을 나타낼 수 있다. 경쟁 기술인 OLED 디스플레이는 NTSC 표준의 100% 초과를 나타낼 수 있다. 양자점 방출 필름(quantum dot emitting film, QDEF)의 사용은 LCD 제조자가, 그의 공급망 또는 기술 플랫폼에 대한 상당한 변화 없이, 그의 현재의 기술 플랫폼으로 색역(color gamut)을 증가시키도록 허용한다.
몇몇 경우에, 텔레비전, 모니터, 노트북, 및 핸드헬드(handheld) 장치를 포함한 광범위한 응용에 걸쳐 LCD의 색역을 증가시키기 위해 QDEF가 사용될 수 있다. 증가된 스루풋(throughput) 속도를 포함하는 풀(full)-UV QDEF 시스템이 요구된다. 몇몇 경우에, 소정의 양자점 화학은 전통적인 열 경화된 에폭시-아민 중합체 매트릭스와 양립 불가능하여, QDEF 구조물에 사용될 수 있는 양자점의 유형을 제한할 수 있다.
양자점 필름 및 요소는 디스플레이 및 다른 광학 구조물에 이용된다. 양자점은 산소 및 물로부터 밀봉될 필요가 있고, 전형적으로 중합체 매트릭스 중에 분산되며, 이는 이어서 가요성 투명 배리어 필름들 사이에 밀봉될 수 있다. 중합체 매트릭스는 핫 멜트 매트릭스, 열 경화된 매트릭스, 예컨대 에폭시, 하이브리드 매트릭스, 예컨대 (메트)아크릴레이트의 방사선 경화를 겪어 후속 열 경화 동안 매트릭스를 안정화시키는, 에폭시 아민과 블렌딩된 방사선 경화성 (메트)아크릴레이트일 수 있거나, 중합체 매트릭스는 후속 열 경화가 필요하지 않도록 방사선 경화성 (메트)아크릴레이트 재료일 수 있다.
고 광학 투과율을 요구하는 산소 민감성 및 감습성 응용을 위해 가요성 투명 배리어 필름의 연속적인 롤-대-롤(roll-to-roll) 제조가 개발되었다. 그러한 롤-대-롤 제조 방법 및 이들 방법에 의해 제조되는 배리어 필름의 예가, 예를 들어 발명의 명칭이 "아크릴레이트 코팅 재료(ACRYLATE COATING MATERIAL)"인 미국 특허 제5,440,446호 (쇼(Shaw) 등); 발명의 명칭이 "아크릴레이트 복합 배리어 코팅 공정(ACRYLATE COMPOSITE BARRIER COATING PROCESS)"인 미국 특허 제5,725,909호 (쇼 등); 발명의 명칭이 "아크릴레이트 복합 배리어 코팅(ACRYLATE COMPOSITE BARRIER COATING)"인 미국 특허 제6,231,939호 (쇼 등); 및 발명의 명칭이 "가요성 고온 울트라배리어(FLEXIBLE HIGH-TEMPERATURE ULTRABARRIER)"인 미국 특허 제7,018,713호 (패디야쓰(Padiyath) 등)에서, 그리고 또한 발명의 명칭이 "구배 조성물 배리어(GRADIENT COMPOSITION BARRIER)"인 미국 특허 공개 제2011/0223434호 (뢰리히(Roehrig) 등); 및 발명의 명칭이 "배리어 필름을 위한 내습성 코팅(MOISTURE RESISTANT COATING FOR BARRIER FILMS)"인 미국 특허 공개 제2012/0003484호 (뢰리히 등)에서; 그리고 또한 발명의 명칭이 "양자점 필름(QUANTUM DOT FILM)"인 미국 특허 출원 제61/754786호 (넬슨(Nelson) 등)에서 확인될 수 있다.
배리어 필름 제조는 전형적으로 근-진공 환경에서 수행되고, 고 Tg 중합체성 기재를 사용하는데, 이 중합체성 기재 상에는 제1 방사선 경화성 수지가 평탄화 층으로서 적용되고, 이러한 제1 층은 예를 들어 UV 또는 전자 빔 방사선을 사용하여 경화될 수 있다. 다음에, 무기 산화물 배리어 층이 (예를 들어, 스퍼터링(sputtering)에 의해) 평탄화 층의 표면 상에 코팅되고, 제2 방사선 경화성 수지가 보호 층으로서 적용되는데, 이 보호 층은 이어서 유사한 기술을 사용하여 역시 경화된다. 무기 산화물 배리어 층/보호 층의 쌍들 각각은 종종 "다이애드(dyad)"로 지칭되며, 배리어 필름의 배리어 특성을 개선하기 위해 임의의 원하는 다수의 다이애드가 서로의 상부에 적용될 수 있다. 전자 빔 경화의 이익은 고도의 가교결합 및 단량체 공급물 중의 광개시제(photo-initiator) 없이 고 선속도로 경화시키는 능력을 포함한다.
e-빔 경화에 대한 대안은 UV 경화이다. 전형적으로 그러한 시스템의 경우, 전구로부터 방출되는 특정 UV 광이 액체 단량체 내로 블렌딩된 특정 광개시제와 결합된다. 광개시제는 UV 광으로부터의 방출 파장과 정합하도록 선택된다. 몇몇 경우에, e-빔 경화에 대한 다른 대안은 가시광 경화이며, 여기서 특정 광개시제가 액체 단량체 내로 블렌딩되고, 가시광으로부터의 방출 파장과 정합하도록 선택된다. 적합한 UV 또는 가시광 광원이 당업계에 잘 알려져 있으며, UV LED; UV 레이저; 저압 살균 램프, 중간압 및 고압 램프를 비롯한 UV 램프; 가시광 램프, 플래시램프 등을 포함한다.
추가의 변환, 취급, 및 긴 제품 수명을 위해 고 내구성 QDEF 제품이 바람직하며, 봉지 배리어 필름에 대한 양자점 중합체 매트릭스의 고 접착력이 QDEF의 내구성을 개선한다. UV 경화성 양자점 매트릭스 제형은 전형적으로 전자 빔 경화된 배리어 필름에 대한 불량한 접착력을 나타낸다. 본 발명자들은, 배리어 스택(barrier stack) 중의 최상부 아크릴레이트 층 (즉, 보호 층)이 배리어 필름 구조물에서의 전형적인 전자 빔 경화를 사용하는 대신에 UV 경화될 때, 양자점 매트릭스에 대한 배리어 층의 접착력이 크게 증가한다는 놀랍고도 예기치 못한 결과를 발견하였다. 게다가, 본 발명자들은 에틸렌 비닐 아세테이트 (EVA) 핫 멜트와 유사한 핫 멜트 접착제와 같은 다른 재료에 대한 배리어 층 접착력이 UV 경화된 배리어 스택을 사용하여 개선될 수 있다는 놀랍고도 예기치 못한 결과를 발견하였다. 또 게다가, 본 발명자들은 UV 경화된 외측 중합체 층에 소정의 자유 라디칼 억제제를 포함시키는 것이 또한 UV 경화된 수지 및 핫 멜트와 같은 다른 재료에 대한 접착력을 개선하는 동시에, 또한 배리어 필름의 롤 중의 인접 층들이 서로 접착되는 경향을 감소시킬 수 있다는 놀랍고도 예기치 못한 결과를 발견하였다.
도 1은 본 발명의 일 태양에 따른 발광 장치(100)의 개략 단면도를 도시한다. 발광 장치(100)는 제1 배리어 필름(110), 선택적인 제2 배리어 필름(120), 및 제1 배리어 필름(110)과 선택적인 제2 배리어 필름(120) 사이에 배치된 발광 층(130)을 포함한다. 이어지는 설명에서, 제1 및 제2 배리어 필름(110, 120) 둘 모두가 포함되지만, 몇몇 경우에 하나의 배리어 필름만이 사용될 수 있는 것이 이해되어야 한다.
제1 배리어 필름(110)은 제1 기재(112), 제1 기재(112) 상에 배치된 제1 중합체성 평탄화 층(114), 제1 중합체성 평탄화 층(114) 상에 배치된 제1 배리어 층(116), 및 제1 배리어 층(116) 상에 배치된 제1 외측 중합체 층(118)을 포함한다. 선택적인 제2 배리어 필름(120)은 제2 기재(122), 제2 기재(122) 상에 배치된 제2 중합체성 평탄화 층(124), 제2 중합체성 평탄화 층(124) 상에 배치된 제2 배리어 층(126), 및 제2 배리어 층(126) 상에 배치된 제2 외측 중합체 층(128)을 포함한다.
발광 층(130)은 제1 배리어 필름(110)과 제2 배리어 필름(120) 사이에 배치되어, 제1 외측 중합체 층(118) 및 제2 외측 중합체 층(128) 각각이 발광 층(130)의, 각각, 제1 주 표면(131) 및 반대편의 제2 주 표면(132)과 접촉한다. 제1 배리어 층(116) 및 제2 배리어 층(126)은 산소 및 수증기의 투과에 대해 저항성이다. 훨씬 더 높은 수준의 배리어 특성이 요구되는 몇몇 실시 형태에서, 보다 많은 쌍의 배리어 층 및 추가 중합체 층 (즉, 다이애드)을 갖는 스택이 제공될 수 있다.
제1 및 제2 기재(112, 122) 각각은 동일하거나 상이할 수 있으며, 유리, 예컨대 가요성 유리, 예를 들어 코닝(Corning)으로부터 입수가능한 윌로우 글래스(Willow Glass), 및 쇼트(Schott) 및 아사히(Asahi) 둘 모두로부터 입수가능한 초박형 유리(Ultra Thin glass); 금속 포일; 및 중합체, 예컨대 폴리에틸렌 테레프탈레이트 (PET), 열-안정화된 폴리에틸렌 테레프탈레이트 (HSPET), 폴리에틸렌 나프탈레이트 (PEN), 폴리메틸 메타크릴레이트 (PMMA), 스티렌/아크릴로니트릴 (SAN), 스티렌/말레산 무수물 (SMA), 폴리옥시메틸렌 (POM), 폴리비닐나프탈렌 (PVN), 폴리에테르에테르케톤 (PEEK), 폴리아릴에테르케톤 (PAEK), 고 Tg 플루오로중합체 (예를 들어, 헥사플루오로프로필렌, 테트라플루오로에틸렌, 및 에틸렌의 다이네온(DYNEON)™ HTE 삼원공중합체), 폴리카르보네이트 (PC), 폴리 α-메틸 스티렌, 폴리아릴레이트 (PAR), 폴리설폰 (PSul), 폴리페닐렌 옥사이드 (PPO), 폴리에테르이미드 (PEI), 폴리아릴설폰 (PAS), 폴리 에테르 설폰 (PES), 폴리아미드이미드 (PAI), 폴리이미드, 폴리프탈아미드, 환형 올레핀 중합체 (COP), 환형 올레핀 공중합체 (COC), 및 트라이아세테이트 셀룰로오스 (TAC)로부터 선택될 수 있다. 재료 비용이 중요한 응용의 경우, PET, HSPET 및 PEN으로 제조된 기재가 특히 바람직하다. 바람직하게는, 기재는 두께가 약 0.01 내지 약 1 mm이고, 보다 바람직하게는 약 0.05 내지 약 0.25 mm이다. 하나의 특정 실시 형태에서, 제1 및 제2 기재 각각은 PET이다.
제1 및 제2 중합체성 평탄화 층(114, 124) 각각은 동일하거나 상이할 수 있으며, 우레탄 아크릴레이트 (예를 들어, CN-968 및 CN-983, 둘 모두 사토머 컴퍼니(Sartomer Co.)로부터 구매가능함), 아이소보르닐 아크릴레이트 (예를 들어, SR-506, 사토머 컴퍼니로부터 구매가능함), 다이펜타에리트리톨 펜타아크릴레이트 (예를 들어, SR-399, 사토머 컴퍼니로부터 구매가능함), 스티렌과 블렌딩된 에폭시 아크릴레이트 (예를 들어, CN-120S80, 사토머 컴퍼니로부터 구매가능함), 다이-트라이메틸올프로판 테트라아크릴레이트 (예를 들어, SR-355, 사토머 컴퍼니로부터 구매가능함), 다이에틸렌 글리콜 다이아크릴레이트 (예를 들어, SR-230, 사토머 컴퍼니로부터 구매가능함), 1,3-부틸렌 글리콜 다이아크릴레이트 (예를 들어, SR-212, 사토머 컴퍼니로부터 구매가능함), 펜타아크릴레이트 에스테르 (예를 들어, SR-9041, 사토머 컴퍼니로부터 구매가능함), 펜타에리트리톨 테트라아크릴레이트 (예를 들어, SR-295, 사토머 컴퍼니로부터 구매가능함), 펜타에리트리톨 트라이아크릴레이트 (예를 들어, SR-444, 사토머 컴퍼니로부터 구매가능함), 에톡실화된 (3) 트라이메틸올프로판 트라이아크릴레이트 (예를 들어, SR-454, 사토머 컴퍼니로부터 구매가능함), 에톡실화된 (3) 트라이메틸올프로판 트라이아크릴레이트 (예를 들어, SR-454HP, 사토머 컴퍼니로부터 구매가능함), 알콕실화된 3작용성 아크릴레이트 에스테르 (예를 들어, SR-9008, 사토머 컴퍼니로부터 구매가능함), 다이프로필렌 글리콜 다이아크릴레이트 (예를 들어, SR-508, 사토머 컴퍼니로부터 구매가능함), 네오펜틸 글리콜 다이아크릴레이트 (예를 들어, SR-247, 사토머 컴퍼니로부터 구매가능함), 에톡실화된 (4) 비스페놀 A 다이메타크릴레이트 (예를 들어, CD-450, 사토머 컴퍼니로부터 구매가능함), 사이클로헥산 다이메탄올 다이아크릴레이트 에스테르 (예를 들어, CD-406, 사토머 컴퍼니로부터 구매가능함), 환형 다이아크릴레이트, 이를테면 예를 들어 트라이사이클로데칸 다이메탄올 다이아크릴레이트 (예를 들어, SR-833S, 사토머 컴퍼니로부터 구매가능함), 아이소보르닐 메타크릴레이트 (예를 들어, SR-423, 사토머 컴퍼니로부터 구매가능함), 및 트리스 (2-하이드록시 에틸) 아이소시아누레이트 트라이아크릴레이트 (예를 들어, SR-368, 사토머 컴퍼니로부터 구매가능함), 상기 메타크릴레이트의 아크릴레이트 및 상기 아크릴레이트의 메타크릴레이트를 포함한 중합체로부터 선택될 수 있다.
제1 및 제2 중합체성 평탄화 층(114, 124) 각각은, 각자의 제1 및 제2 기재(112, 122)에 단량체 또는 올리고머의 층을 적용하고, 예를 들어 방사선-가교결합성 단량체의 플래시 증발 및 증착에 이어서, 예를 들어 전자 빔 장치, UV 광원, 전기 방전 장치 또는 다른 적합한 장치를 사용한 가교결합에 의해, 원위치에서 상기 층을 가교결합하여 중합체를 형성함으로써 형성될 수 있다. 코팅 효율은 지지체를 냉각함으로써 개선될 수 있다. 단량체 또는 올리고머는 또한 종래의 코팅 방법, 예컨대 롤 코팅 (예를 들어, 그라비어 롤 코팅) 또는 분무 코팅 (예를 들어, 정전기 분무 코팅)을 사용하여 기재에 적용되고, 이어서 상기에 기술된 바와 같이 가교결합될 수 있다. 제1 중합체 층은 또한 용매 중에 올리고머 또는 중합체를 함유하는 층을 적용하고 이와 같이 적용된 층을 건조시켜 용매를 제거함으로써 형성될 수 있다. 플라즈마 중합이 또한 채용될 수 있다. 가장 바람직하게는, 제1 중합체 층은, 예를 들어 미국 특허 제4,696,719호 (비쇼프(Bischoff)), 제4,722,515호 (햄(Ham)), 제4,842,893호 (이알리지스(Yializis) 등), 제4,954,371호 (이알리지스), 제5,018,048호 (쇼 등), 제5,032,461호 (쇼 등), 제5,097,800호 (쇼 등), 제5,125,138호 (쇼 등), 제5,440,446호 (쇼 등), 제5,547,908호 (후루자와(Furuzawa) 등), 제6,045,864호 (라이언스(Lyons) 등), 제6,231,939호 (쇼 등) 및 제6,214,422호 (이알리지스); 공개된 PCT 출원 WO 00/26973호 (델타 브이 테크놀로지스, 인크.(Delta V Technologies, Inc.)); 문헌[D. G. Shaw and M. G. Langlois, "A New Vapor Deposition Process for Coating Paper and Polymer Webs", 6th International Vacuum Coating Conference (1992)]; 문헌[D. G. Shaw and M. G. Langlois, "A New High Speed Process for Vapor Depositing Acrylate Thin Films: An Update", Society of Vacuum Coaters 36th Annual Technical Conference Proceedings (1993)]; 문헌[D. G. Shaw and M. G. Langlois, "Use of Vapor Deposited Acrylate Coatings to Improve the Barrier Properties of Metallized Film", Society of Vacuum Coaters 37th Annual Technical Conference Proceedings (1994)]; 문헌[D. G. Shaw, M. Roehrig, M. G. Langlois and C. Sheehan, "Use of Evaporated Acrylate Coatings to Smooth the Surface of Polyester and Polypropylene Film Substrates", RadTech (1996)]; 문헌[J. Affinito, P. Martin, M. Gross, C. Coronado and E. Greenwell, "Vacuum deposited polymer/metal multilayer films for optical application", Thin Solid Films 270, 43 - 48 (1995)]; 및 문헌[J.D. Affinito, M. E. Gross, C. A. Coronado, G. L. Graff, E. N. Greenwell and P. M. Martin, "Polymer-Oxide Transparent Barrier Layers", Society of Vacuum Coaters 39th Annual Technical Conference Proceedings (1996)]에 기술된 바와 같이 플래시 증발 및 증착에 이어서 원위치에서 가교결합함으로써 형성된다.
제1 및 제2 중합체성 평탄화 층(114, 124)의 평탄도 및 연속성과, 밑에 있는 기재에 대한 그것의 접착력은 바람직하게는 적절한 사전처리에 의해 향상된다. 바람직한 사전처리 계획은 적합한 반응성 또는 비반응성 분위기의 존재하에서의 전기 방전 (예를 들어, 플라즈마, 글로우 방전(glow discharge), 코로나 방전, 유전체 배리어 방전 또는 대기압 방전); 화학적 사전처리 또는 화염 사전처리를 채용한다. 이들 사전처리는 밑에 있는 층의 표면을 후속하여 적용되는 중합체성 층의 형성에 대해 더 수용적으로 만드는 것을 돕는다. 플라즈마 사전처리가 특히 바람직하다. 고 Tg 중합체 층과는 상이한 조성을 가질 수 있는 별개의 접착력 촉진 층이 또한 층간 접착력을 개선하기 위해 밑에 있는 층 위에서 이용될 수 있다. 접착력 촉진 층은, 예를 들어 별개의 중합체성 층 또는 금속-함유 층, 예컨대 금속, 금속 산화물, 금속 질화물 또는 금속 산질화물의 층일 수 있다. 접착력 촉진 층은 두께가 수 nm (예를 들어, 1 또는 2 nm) 내지 약 50 nm일 수 있고, 원한다면 더 두꺼울 수 있다.
제1 및 제2 중합체성 평탄화 층(114, 124)의 원하는 화학 조성 및 두께는 각자의 제1 및 제2 기재(112, 122)의 속성 및 표면 토포그래피(surface topography)에 부분적으로 좌우될 것이다. 그러한 두께는 바람직하게는 후속의 제1 무기 배리어 층이 적용될 수 있는 평탄한 무결점 표면을 제공하기에 충분하다. 예를 들어, 제1 중합체 층은 두께가 수 nm (예를 들어, 2 또는 3 nm) 내지 약 5 마이크로미터일 수 있으며, 원한다면 더 두꺼울 수 있다.
제1 및 제2 배리어 층(116, 126)은 "제1 무기 배리어 층" 및 "제2 무기 배리어 층"으로 각각 지칭될 수 있다. 원한다면, 추가의 무기 배리어 층 및 중합체 층이 존재할 수 있다. 제1 및 제2 배리어 층(116, 126)은 동일할 필요는 없다. 다양한 무기 배리어 재료가 채용될 수 있다. 바람직한 무기 배리어 재료에는 금속 산화물, 금속 질화물, 금속 탄화물, 금속 산질화물, 금속 산붕화물, 및 이들의 조합, 예를 들어 산화규소, 예컨대 실리카, 산화알루미늄, 예컨대 알루미나, 산화티타늄, 예컨대 티타니아, 산화인듐, 산화주석, 산화인듐주석 ("ITO"), 산화탄탈륨, 산화지르코늄, 산화니오븀, 탄화붕소, 탄화텅스텐, 탄화규소, 질화알루미늄, 질화규소, 질화붕소, 산질화알루미늄, 산질화규소, 산질화붕소, 산붕화지르코늄, 산붕화티타늄, 및 이들의 조합이 포함된다. 산화인듐주석, 산화규소, 산화알루미늄 및 이들의 조합이 특히 바람직한 무기 배리어 재료이다. ITO는 각각의 원소 성분의 상대 비율의 적절한 선택에 의해 전기 전도성으로 될 수 있는 특정 부류의 세라믹 재료의 예이다. 무기 배리어 층은 바람직하게는 필름 금속화 분야에서 채용되는 기술, 예컨대 스퍼터링 (예를 들어, 캐소드 스퍼터링 또는 평판형 마그네트론 스퍼터링(planar magnetron sputtering)), 증발 (예를 들어, 저항 또는 전자 빔 증발), 화학 증착, 플라즈마 침착, 원자층 침착 (atomic layer deposition; ALD), 도금 등을 사용하여 형성된다. 가장 바람직하게는, 무기 배리어 층은 스퍼터링, 예를 들어 반응성 스퍼터링을 사용하여 형성된다. 종래의 화학 증착 공정과 같은 보다 낮은 에너지 기술과 비교하여 스퍼터링과 같은 높은 에너지의 증착 기술에 의해 무기 층이 형성될 때 향상된 배리어 특성이 관찰되었다. 이론에 의해 구애됨이 없이, 향상된 특성은 보다 큰 운동 에너지로 기재에 도달하는 응축 화학종(condensing species) - 이는 압밀의 결과로서 보다 낮은 공극 분율로 이어짐 - 으로 인한 것으로 여겨진다. 각각의 무기 배리어 층의 평탄도 및 연속성과, 밑에 있는 층에 대한 그것의 접착력은 제1 중합체 층에 관하여 상기에 기술된 것과 같은 사전처리 (예를 들어, 플라즈마 사전처리)에 의해 향상될 수 있다.
제1 및 제2 배리어 층(116, 126)은 동일한 두께를 가질 필요는 없다. 각각의 무기 배리어 층의 원하는 화학 조성 및 두께는 밑에 있는 층의 속성 및 표면 토포그래피에, 그리고 배리어 조립체에 대한 원하는 광학 특성에 부분적으로 좌우될 것이다. 무기 배리어 층은 바람직하게는 연속적이도록 충분히 두껍고, 배리어 조립체 및 조립체를 포함하는 물품이 원하는 정도의 가시광 투과율 및 가요성을 가질 것을 보장하도록 충분히 얇다. 바람직하게는, 각각의 무기 배리어 층의 (광학적 두께와는 대조적인) 물리적 두께는 약 3 내지 약 150 nm, 보다 바람직하게는 약 4 내지 약 75 nm이다.
제1 및 제2 외측 중합체 층(118, 128)은 동일하거나 상이할 수 있고, 제1 및 제2 중합체성 평탄화 층(114, 124)과 동일한 재료를 포함할 수 있다. 하나의 특정 실시 형태에서, 제1 및 제2 외측 중합체 층(118, 128)은 각각 발광 층(130)에서와 동일한 중합체성 재료 중 적어도 일부를 포함할 수 있다. 제1 및 제2 외측 중합체 층(118, 128)은, UV 또는 가시광과 상호작용하여 각각의 층에서 중합을 개시할 수 있는 적어도 하나의 광개시제를 추가로 포함한다. 제1 및 제2 외측 중합체 층(118, 128)은, 제1 및 제2 외측 중합체성 층(118, 128)이 UV 또는 가시광 광원을 사용하여 가교결합되는 것을 제외하고는, 제1 및 제2 중합체성 평탄화 층(114, 124)을 각자의 제1 및 제2 기재 상에 형성하기 위한, 상기에 기술된 것과 동일한 기술들 중 임의의 것을 사용하여, 각자의 제1 및 제2 배리어 층(116, 126)의 상부에 형성될 수 있다.
하나의 특정 실시 형태에서, 사용되는 UV 광원의 노출 파장은, 254 nm에서 강한 방출을 갖고 220 nm 미만에서는 방출이 본질적으로 없는 저압 아말감 램프에 의해 생성되는 254 nm일 수 있다. 사용되는 광개시제는 254 nm에서 강하게 흡수할 수 있다. UV 광원의 피크 출력 밀도(peak power density)는 0.5 mW/㎠일 수 있고, 선량 (경화 노출)은 약 0.05 내지 약 4 mJ/㎠, 또는 약 0.1 내지 약 2 mJ/㎠, 또는 약 0.1 내지 약 1 mJ/㎠의 범위일 수 있다. 몇몇 경우에, 선량은 전형적인 공정 조건하에서 램프 아래에서 EIT UV 파워맵(PowerMAP) (등록상표) (미국 버지니아주 스터링 소재의 이아이티 인크.(EIT Inc.)로부터 입수가능함)을 실행함으로써 결정될 수 있다.
몇몇 경우에, 보다 긴 파장 범위의 UV가 중합에 유용할 수 있지만, 보다 짧은 파장의 방사선은 일반적으로 피해야 한다. 예를 들어, LED-램프는 385 nm의 광을 방출할 수 있고, TPO계 (예를 들어, 2,4,6-트라이메틸벤조일다이페닐 포스핀 옥사이드) 광개시제가 사용될 수 있는데, 그 이유는 TPO 광개시제가 UV-A 광을 이용하여 자유 라디칼을 개시할 수 있기 때문이다. 이러한 경우에, 에너지 밀도는 아말감 램프와 유사할 것이지만; 이는 아마도 덜 실용적일 수 있는데, 그 이유는 TPO가 또한 가시광을 흡수하고 그것을 이용하여 중합을 개시 - 이는 제조에 있어서 덜 바람직할 수 있음 - 할 수 있기 때문이다. 당업자에게 알려진 바와 같이, 광의 다양한 파장에서, 그리고 일반적으로 최대 약 3 중량%의 농도에서 사용하기에 적합한 다른 광개시제, 예를 들어 에사큐어 원(ESACURE ONE) 및 에사큐어 KB1 (둘 모두 이탈리아 소재의 람베르티 에스.피.에이.(Lamberti S.p.A.)로부터 입수가능함); 이르가큐어(Irgacure) 184, 다로큐르(Darocur) 4265, 및 다로큐르 1173 (바스프 레진스(BASF Resins)로부터 입수가능함) 등이 사용될 수 있다.
하나의 특정 실시 형태에서, 선택적인 중합 억제제가 가교결합성 중합체 층에 첨가될 수 있다. 억제제의 존재는 배리어 필름이 처리 동안 롤링될 때 중합체 층이 인접 층에 접착되는 경향을 감소시킬 수 있다. 중합에 요구되는 매우 낮은 선량으로 인해, 그리고 배리어 필름이 진공에서 처리 증기 코팅된 아크릴레이트를 포함하기 때문에, 롤 내에서 약간의 "블로킹(blocking)" (즉, 그 자체에 들러붙음)이 관찰되었다. "블로킹"되는 이러한 경향을 극복하기 위해, 억제제가 대략 250 ppm의 농도로 아크릴레이트 층 내로 블렌딩될 수 있다. 억제제의 첨가는 즉시 처리되어야 하는 배리어 필름 롤에 필요하지 않을 수 있지만, 긴 보존 수명(shelf life) 저장을 위해 그리고 또한 보다 큰 롤을 위해 필요할 수 있다. 하나의 경우에, 억제제는 예를 들어 4-하이드록시-TEMPO (4-하이드록시-2,2,6,6-테트라메틸피페리딘-1-옥실, 시그마-알드리치(Sigma-Aldrich)로부터 입수가능함)일 수 있지만, 당업자에게 공지된 바와 같이, 다른 억제제가 또한 사용될 수 있다. 다른 억제제의 예에는, 예를 들어 페놀류, 예컨대 하이드로퀴논 (HQ), 메톡시 페놀 (MEHQ), 카테콜, 피로카테콜, 레소르시놀, 피로갈롤, 프로필 갈레이트, 및 이들 모두의 유도체; 퀴닌류, 예컨대 벤조퀴논, 안트라퀴논 등; 금속 염류, 예컨대 구리 분말, CuCl, MnAc (4-하이드록시 TEMPO와 조합됨); 니트로소류, 예컨대 NPAL [트리스 (N-니트로소, N-페닐 하이드록실아민) 알루미늄 염, 퍼스트 케미칼 코포레이션(First Chemical Corp.)으로부터 입수가능함], NPHA 또는 쿠페론 (상기의 수용성 암모늄 염); 페노티아진 (PTZ), N,N,N',N'-테트라메틸 페닐렌다이아민, 인듈린 및 유사체를 비롯한 방향족 아민류; 하이드록실아민류, 예컨대 다이에틸 하이드록실아민 및 유사체, 및 살리실알독심; 및 자유-라디칼류, 예컨대 4-하이드록시 TEMPO (시바 프로스탭(CIBA Prostab)) 및 갈비녹실; 및 이들의 유도체가 포함된다. 몇몇 경우에, 억제제들의 조합, 예컨대 다이에틸하이드록실 아민과 테트라메틸 페닐렌 다이아민 (각각 5 내지 50 ppm); 살리실알독심과 테트라메틸 페닐렌 다이아민 (각각 5 내지 50 ppm); 아세트산망간과 4-하이드록시 TEMPO (각각 5 내지 10 ppm); 및 NPAL과 PTZ의 조합이 유리할 수 있다.
게다가, 4-하이드록시-TEMPO는 혐기성 조건(anaerobic condition)하에서 자유-라디칼 억제에 효과적인 억제제인 것으로 인식되고 있다. 단량체 중에 억제제, MeHQ가 이미 존재하지만, 이러한 억제제는 효과적이기 위해서는 산소를 필요로 하고, 따라서 대기에서 처리 직후에 롤을 푸는 것이 또한 블로킹을 방지하는 데 효과적일 수 있다.
하나의 특정 실시 형태에서, 실란 커플링제(coupling agent)와 같은 커플링제가 선택적으로 제1 및/또는 제2 배리어 필름(110, 120)의 제1 및/또는 제2 중합체성 평탄화 층(114, 124), 및 제1 및/또는 제2 외측 중합체 층(118, 128)에 첨가되어, 배리어 스택 내의 접착력을 개선할 수 있다. 유용한 커플링제가, 예를 들어 공계류 중인 미국 특허 공개 제2012/0208033호 및 제2012/003484호에, 그리고 또한 발명의 명칭이 "배리어 필름을 위한 증착된 코팅 및 이를 제조 및 사용하는 방법(Vapor-deposited Coating for Barrier Films and Methods of Making and Using the Same)"인 미국 특허 출원 제61/437850호 (대리인 문서 번호 67034US002, 2011년 1월 31일자로 출원됨); 발명의 명칭이 "우레탄 (멀티)-(메트)아크릴레이트 (멀티)-실란의 (공)중합체 반응 생성물을 포함하는 복합 필름(Composite Films Including a (Co)polymer Reaction Product of a Urethane (Multi)-(meth)acrylate (Multi)-silane)"인 미국 특허 출원 제61/680995호 (대리인 문서 번호 70143US002, 2012년 8월 8일자로 출원됨); 발명의 명칭이 "배리어 필름, 배리어 필름을 제조하는 방법, 및 배리어 필름을 포함하는 물품(Barrier Film, Method of Making the Barrier Film, and Articles Including the Barrier Film)"인 미국 특허 출원 제61/680955호 (대리인 문서 번호 70169US002, 2012년 8월 8일자로 출원됨); 및 발명의 명칭이 "배리어 필름 구조물 및 이를 제조하는 방법(Barrier Film Constructions and Methods of Making Same)"인 미국 특허 출원 제61/680963호 (대리인 문서 번호 70168US003, 2012년 8월 8일자로 출원됨)에 기술된다. 몇몇 경우에, 환형 아자실란, 예컨대 미국 펜실베니아주 모리스빌 소재의 질레스트, 인크.(Gelest, Inc.)로부터 입수가능한 N-n-부틸-아자-2,2-다이메톡시실라사이클로펜탄이 특히 유용한 것으로 밝혀졌지만, 당업자에게 공지된 다른 커플링제가 또한 사용될 수 있다.
발광 층(130)은, 당업자에게 공지된 바와 같이, 양자점 재료와 중합체 매트릭스를 조합하고, 매트릭스를 중합 및/또는 가교결합함으로써 제조될 수 있다. 양자점 재료는 양자점 재료의 하나 이상의 집단(population)을 포함할 수 있다. 예시적인 양자점 또는 양자점 재료는 청색 LED로부터의 청색 1차 광의, 양자점에 의해 방출되는 2차 광으로의 다운-변환(down-conversion) 시에 녹색 광 및 적색 광을 방출한다. 적색, 녹색, 및 청색 광의 각자의 부분은 양자점 필름 물품을 포함하는 디스플레이 장치에 의해 방출되는 백색 광을 위해 원하는 백색 점을 달성하도록 제어될 수 있다. 본 명세서에 기술된 양자점 필름 물품에 사용하기 위한 예시적인 양자점은 ZnS 쉘(shell)을 갖는 CdSe를 포함한다. 본 명세서에 기술된 양자점 필름 물품에 사용하기에 적합한 양자점은 CdSe/ZnS, InP/ZnS, PbSe/PbS, CdSe/CdS, CdTe/CdS 또는 CdTe/ZnS를 비롯한 코어/쉘 발광 나노결정을 포함한다. 예시적인 실시 형태에서, 발광 나노결정은 외부 리간드 코팅을 포함하고 중합체 매트릭스 중에 분산된다. 양자점 및 양자점 재료는 미국 캘리포니아주 팔로 알토 소재의 나노시스 인크.(Nanosys Inc.)로부터 구매가능하다. 양자점 층은 임의의 유용한 양의 양자점을 가질 수 있다. 많은 실시 형태에서, 양자점 층은 0.1 내지 1 중량%의 양자점을 가질 수 있다.
하나 이상의 실시 형태에서, 양자점 재료는 산란 비드(bead) 또는 입자를 포함할 수 있다. 이러한 산란 비드 또는 입자는 에폭시 중합체의 굴절률과는, 예컨대 0.05 이상 만큼 또는 0.1 이상 만큼, 상이한 굴절률을 갖는다. 이러한 산란 비드 또는 입자는 실리콘, 아크릴, 나일론 등과 같은 중합체를 포함할 수 있다. 이러한 산란 비드 또는 입자는 TiO2, SiOx, AlOx 등과 같은 무기류를 포함할 수 있다. 산란 입자의 포함은 보다 긴 광학 경로 길이와 개선된 양자점 흡수 및 효율을 야기할 수 있다. 많은 실시 형태에서, 입자 크기는 1 내지 10 마이크로미터, 또는 2 내지 6 마이크로미터의 범위이다. 많은 실시 형태에서, 양자점 재료는 건식 실리카(fumed silica)와 같은 충전제를 포함할 수 있다.
발광 층(130) 내의 중합체 매트릭스는 양자점 재료와 양립가능한 임의의 적합한 중합체일 수 있고, 예를 들어 제1 및 제2 중합체 평탄화 층(114, 124), 및 제1 및 제2 외측 중합체 층(118, 128)에 대해 다른 곳에서 기술된 (메트)아크릴레이트 중 임의의 것일 수 있다. 하나의 특정 실시 형태에서, 제1 및 제2 외측 중합체 층(118, 128)과 발광 층(130) 둘 모두 내의 중합체들 중 적어도 하나가 동일하다.
도 2는 본 발명의 일 태양에 따른, 발광 장치(200)를 형성하기 위한 공정(201)을 도시한다. 도 2에 도시된 요소(200 내지 232) 각각은 앞서 기술된, 도 1에 도시된 유사한 도면부호의 요소(100 내지 132)에 대응한다. 발광 층(230)이 롤로부터 풀리거나, 다이로부터 압출 또는 코팅되거나, 달리 제공될 수 있고 (발광 층(230)을 제공하는 기술은 도시되지 않음), 대향하는 제1 및 제2 라미네이션 롤러(242, 244)를 갖는 라미네이터(240)를 통해 방향(202)으로 이동한다. 제1 및 선택적인 제2 배리어 필름(210, 220)이 또한 롤 (도시되지 않음)로부터 풀리고, 라미네이터(240)에 진입하고, 발광 층(230)의, 각각, 제1 및 대향하는 제2 주 표면(231, 232)과 접촉하도록 가압되어, 비경화된 라미네이트(203)을 형성한다. 비경화된 라미네이트(203)가 경화 장치(250)를 통과하며, 여기서 하나 이상의 방사선원(radiation source)(252, 254), 바람직하게는 UV 광원이 비경화된 라미네이트(203)를 조사하여 발광 장치(200)를 형성한다.
실시예
실시예 1
미국 특허 제5,440,446호 (쇼 등) 및 제7,018,713호 (패디야쓰 등)에 기술된 코팅기와 유사한 진공 코팅기를 사용하여 다음과 같이 배리어 필름을 제조하였다. 트라이사이클로데칸 다이메탄올 다이아크릴레이트 (SR833S, 사토머)의 코팅 전구체 용액을 초음파 분무(ultrasonic atomization) 및 플래시 증발(flash evaporation)을 사용하여 기화시키고 2 밀(mil) (50 마이크로미터) 두께 x 14 인치 (36 cm) 폭의 PET 기재 상에 코팅하여, 12.5 인치 (32 cm)의 코팅 폭을 형성하였다. 이러한 베이스 아크릴레이트 층을 16 fpm (5 m/분)의 일정한 선속도로 코팅하였다. 후속적으로, 이 코팅을 7.0 ㎸ 및 4.0 mA에서 작동하는 전자 빔을 이용하여 바로 하류에서 경화시켰다. 증발기 내로의 액체의 유동은 1.33 ml/분이었고, 기체 유량은 60 sccm이었고, 증발기 온도는 260℃ 다. 처리 드럼 온도는 0℃ 다. 경화 공정의 바로 하류에서, 후속적인 반응성 AC 스퍼터링 공정이 5 kW 전력에서 30 nm 산화규소알루미늄 코팅을 침착하였다. 3번째 일렬식 공정이, 미국 특허 출원 공개 제2012/0208033호에 기술된 바와 같은 분무기/플래시 증발 공정을 사용하는 것을 제외하고는, 제1 층과 유사한 방식으로 제2 (상부) 아크릴레이트 층을 침착하였다. 이러한 제2 아크릴레이트 층은 SR833S와 3 중량%의 아자실란 (미국 펜실베니아주 모리스빌 소재의 질레스트, 인크.로부터의 N-n-부틸-아자-2,2-다이메톡시실라사이클로펜탄) 및 1 중량%의 이르가큐어 184 (미국 뉴저지주 플로럼 파크 소재의 바스프(BASF)로부터 입수가능한 광개시제)의 혼합물을 함유하였다. 액체 유량은 1.33 ml/분이었고, 기체 유량은 60 sccm이었고, 증발기 온도는 260℃였다. 후속적으로, 코팅을, 254 nm에서 고 방출 (약 0.5 W/m2)을 갖고 220 nm 미만에서 최소 방출을 갖는 300 W 수은 아말감 자외선 광원을 이용하여 바로 하류에서 경화시켰다. 경화 동안 선속도를 다르게 함으로써 UV 방사선의 노출 시간을 다르게 하였다.
라미네이팅된 필름 구조물을 다음과 같이 제조하였다. 표 1에 나타낸 100 μm 두께의 비스페놀-A계 다이아크릴레이트 혼합물 (미국 뉴저지주 우드랜드 파크 소재의 사이텍 인더스트리즈, 인크.(Cytec Industries, Inc.)로부터 모두 입수가능한 에베크릴(EBECRYL) 3600, 114 및 130과, 미국 뉴저지주 플로럼 파크 소재의 바스프로부터 입수가능한 다로큐르 4265)의 층을, 배리어 필름의 2개의 층 사이에 코팅하였다. 후속적으로, 이 구조물을 30 fpm (9.1 m/분)에서 고 출력 퓨전(Fusion) F600 D 전구 (미국 메릴랜드주 게이더스버그 소재의 퓨전 유브이 시스템스, 인크.(Fusion UV Systems, Inc.)로부터 구매가능함)를 이용하여 UV 경화시켰다.
[표 1]
Figure 112016016487816-pct00001
배리어 필름을 50℃ 에서 모콘 퍼마트란(MOCON PERMATRAN)-W(R) 모델 700 WVTR 시험 시스템 (미국 미네소타주 미니애폴리스 소재의 모콘, 인크.(MOCON, Inc.)로부터 구매가능함) 상에서 수증기 투과에 대해 시험하였다. 이 실시예를 0.005 g/m2/일(day)의 검출 한계 아래에서 시험하였다.
퍼킨엘머 람다(PerkinElmer Lambda) 900 (미국 매사추세츠주 월섬 소재의 퍼킨엘머, 인크.(PerkinElmer, Inc.)로부터 입수가능함)을 사용하여 라미네이트 필름 구조물을 측정하였고, 400 내지 800 nm에서 평균 90% 투과율을 나타냈다. ASTM D1876-08 "접착제의 박리 저항에 대한 표준 시험 방법(Standard Test Method for Peel Resistance of Adhesives) (T-박리 시험)"에 따라 박리 강도에 대해 라미네이트 필름 구조물을 시험하였다. 박리 강도는 300 W 수은 아말감 UV 광원에의 노출 시간이 약 0.1 내지 약 0.5초일 때 약 200 g/인치 (200 g/25 mm) 초과였고, 노출 시간이 약 1.5초 초과일 때 100 g/인치 (100 g/25 mm) 이하였다.
비교예 C-1
배리어 필름의 제2 (상부) 아크릴레이트 층의 경화에 전자 빔 (EB) 방사선을 사용한 것을 제외하고는, 실시예 1에 기술된 것과 유사한 방법으로 배리어 필름을 구성하였다. 100 μm 두께의 아크릴레이트 코팅을 갖는 이러한 배리어 필름의 샘플을 사용하여 라미네이트 필름 구조물을 실시예 1에서와 같이 제조하였다. 표 2에 나타낸 바와 같이, 이러한 구조물은 양호한 배리어 성능을 제공하였지만, e-빔 경화된 배리어 필름과 100 μm 두께의 아크릴레이트 코팅 사이의 낮은 층간 접착력을 가졌다.
비교예 C-2
배리어 필름의 제2 (상부) 아크릴레이트 층을 경화시키는 데 185 nm 및 254 nm에서 고 출력을 갖는 300 W UV 방사선원을 사용한 것을 제외하고는, 실시예 1에 기술된 것과 유사한 방법으로 배리어 필름을 구성하였다. 100 μm 두께의 아크릴레이트 코팅을 갖는 이러한 배리어 필름의 샘플을 사용하여 라미네이트 필름 구조물을 실시예 1에서와 같이 제조하였다. 표 2에 나타낸 바와 같이, 이러한 구조물은 양호한 배리어 성능을 제공하였지만, 185 nm UV 경화된 배리어 필름과 100 μm 두께의 아크릴레이트 코팅 사이의 낮은 층간 접착력을 가졌다.
비교예 C-3
제2 (상부) 아크릴레이트 경화 지속 시간(duration)이 약 2초 이상인 것을 제외하고는, 실시예 1에 기술된 것과 유사한 방법으로 배리어 필름을 구성하였다. 100 μm 두께의 아크릴레이트 코팅을 갖는 이러한 배리어 필름의 샘플을 사용하여 라미네이트 필름 구조물을 실시예 1에서와 같이 제조하였다. 표 2에 나타낸 바와 같이, 이러한 구조물은 양호한 배리어 성능을 제공하였지만, 긴 지속 시간 UV 경화된 배리어 필름과 100 μm 두께의 아크릴레이트 코팅 사이의 낮은 층간 접착력을 가졌다.
실시예 1과 비교예 C-2 및 비교예 C-3의 샘플에 대해, ASTM D1876-08 "접착제의 박리 저항에 대한 표준 시험 방법 (T-박리 시험)"에 따라 박리 강도를 시험하였고, 수증기 투과 속도(water vapor transmission rate; WVTR)를 50℃ 에서 모콘 퍼마트란-W(R) 모델 700 WVTR 시험 시스템 상에서 시험하였다. 결과가 하기 표 2 및 표 3에 보고된다.
[표 2]
Figure 112016016487816-pct00002
접착력과 선량의 반비례 관계가 관찰되었다. 전형적인 e-빔 경화로부터의 데이터는 5 g/인치 미만의 박리력 결과를 제공하였다. 하기 표 3은 220 nm 미만에서 최소 출력을 갖는 실시예 1 및 비교예 C-3의 UV 광원에 대한, 그리고 185 nm에서 상당한 출력을 갖는 비교예 C-2의 UV 광원에 대한 박리력 대 노출 시간을 보여준다.
[표 3]
Figure 112016016487816-pct00003
실시예 2
실시예 1에 기술된 것과 유사한 방법으로 배리어 필름을 구성하였다. 이어서, 이 배리어 필름을 약 2 밀 (50 마이크로미터)의 핫 멜트 에틸렌 비닐 아세테이트 (EVA) 접착제로 코팅하였다. 실시예 1에서 사용된 PET 기재를 EVA 접착제 층에 부착하고, 이어서 ASTM D1876-08 "접착제의 박리 저항에 대한 표준 시험 방법 (T-박리 시험)"에 따라 박리 강도를 시험함으로써 접착력을 시험하였다. 고려되는 인가된 선량들 모두에 대해 e-빔 경화된 아크릴레이트에 대한 코팅 공정에서 낮은 접착력이 관찰되었다. 높은 254 nm 출력 및 220 nm 미만에서의 최소 출력을 갖는 실시예 1의 UV 광원을 사용하여 0.1 내지 0.5초의 노출 시간으로 UV 경화된 배리어 필름에 대해 우수한 접착력 (약 200 g/인치 초과의 박리 강도)이 관찰되었다.
하기는 본 발명의 실시 형태들의 목록이다.
항목 1은, 적어도 외측 중합체 층을 각각 포함하는 제1 및 제2 배리어 층 - 각각의 외측 중합체 층은 접착제 접촉 표면을 가짐 -; 및 중합체 매트릭스를 포함하는 발광 층 - 발광 층은 각자의 접착제 접촉 표면이 발광 층과 접촉하는 상태로 제1 배리어 층과 제2 배리어 층 사이에 배치됨 - 을 포함하며, 제1 및 제2 배리어 층과 발광 층 사이의 박리 접착력이 100 그램/인치 이상인, 장치이다.
항목 2는, 제1 및 제2 배리어 층과 발광 층 사이의 박리 접착력은 200 그램/인치 이상인, 항목 1의 장치이다.
항목 3은, 제1 및 제2 배리어 층 각각은 적어도 하나의 무기 산화물 층을 추가로 포함하는, 항목 1 또는 항목 2의 장치이다.
항목 4는, 제1 및 제2 배리어 층 중 적어도 하나는 가요성 유리, 금속 포일, 또는 중합체 필름으로부터 선택되는 기재를 추가로 포함하는, 항목 1 내지 항목 3의 장치이다.
항목 5는, 발광 층은 적어도 하나의 양자점을 추가로 포함하는, 항목 1 내지 항목 4의 장치이다.
항목 6은, 중합체 매트릭스는 경화성 (메트)아크릴레이트, 경화성 에폭시, 또는 이들의 조합을 포함하는, 항목 1 내지 항목 5의 장치이다.
항목 7은, 발광 층, 및 외측 중합체 층들 각각은 서로 접촉하는 동안 경화되는, 항목 1 내지 항목 6의 장치이다.
항목 8은, 외측 중합체 층들 각각은 방사선 경화된 (메트)아크릴레이트 및 선택적으로 실란 커플링제를 포함하는, 항목 1 내지 항목 7의 장치이다.
항목 9는, 발광 층, 및 외측 중합체 층들 각각은 자외선 (UV) 광원, 가시광선 광원, 열원(thermal source), 또는 이들의 조합을 사용하여 함께 경화되는, 항목 1 내지 항목 8의 장치이다.
항목 10은, 대향하는 제1 및 제2 주 표면을 갖는 기재, 제2 주 표면에 인접한 무기 산화물 층, 제2 주 표면과 무기 산화물 층 사이의 평탄화 중합체성 층, 평탄화 중합체성 층 반대편에, 무기 산화물 층 상에 배치된 외측 중합체 층을 포함하는 배리어 필름; 및 외측 중합체 층에 인접하게 배치된 결합 층을 포함하며, 배리어 필름과 결합 층 사이의 박리 접착력이 100 그램/인치 이상인, 장치이다.
항목 11은, 평탄화 중합체성 층은 전자 빔 경화된 (메트)아크릴레이트를 포함하는, 항목 10의 장치이다.
항목 12는, 결합 층은 방사선 경화된 (메트)아크릴레이트 및 선택적으로 실란 커플링제를 포함하는, 항목 10 또는 항목 11의 장치이다.
항목 13은, 외측 중합체 층은 UV 방사선 경화된 (메트)아크릴레이트 및 선택적으로 실란 커플링제를 포함하는, 항목 10 내지 항목 12의 장치이다.
항목 14는, 배리어 필름과 결합 층 사이의 박리 접착력은 200 그램/인치 이상인, 항목 10 내지 항목 13의 장치이다.
항목 15는, 기재는 가요성 유리, 금속 포일, 또는 중합체 필름으로부터 선택되는, 항목 10 내지 항목 14의 장치이다.
항목 16은, 대향하는 제3 및 제4 주 표면을 갖는 제2 기재, 제4 주 표면에 인접한 제2 무기 산화물 층, 제4 주 표면과 제2 무기 산화물 층 사이의 제2 평탄화 중합체성 층, 및 제2 평탄화 중합체성 층 반대편에, 제2 무기 산화물 층 상에 배치된 제2 외측 중합체 층을 포함하는 제2 배리어 필름을 추가로 포함하며, 결합 층은 제2 무기 산화물 층에 인접하게, 그리고 제2 평탄화 중합체성 층 반대편에 배치되는, 항목 10 내지 항목 15의 장치이다.
항목 17은, 제2 평탄화 중합체성 층은 전자 빔 경화된 (메트)아크릴레이트를 포함하는, 항목 16의 장치이다.
항목 18은, 제2 외측 중합체 층은 UV 방사선 경화된 (메트)아크릴레이트 및 선택적으로 실란 커플링제를 포함하는, 항목 16 또는 항목 17의 장치이다.
항목 19는, 제2 기재는 가요성 유리, 금속 포일, 또는 중합체 필름으로부터 선택되는, 항목 16 내지 항목 18의 장치이다.
항목 20은, 결합 층은 발광 층을 포함하는, 항목 10 내지 항목 19의 장치이다.
항목 21은, 발광 층은 적어도 하나의 양자점을 추가로 포함하는, 항목 20의 장치이다.
항목 22는, 결합 층은 핫 멜트 접착제를 포함하는, 항목 10 내지 항목 21의 장치이다.
항목 23은, 핫 멜트 접착제는 에틸렌 비닐 아세테이트를 포함하는, 항목 22의 장치이다.
항목 24는, 진공 챔버 내에서 배리어 필름을 형성하는 단계 - 배리어 필름은 외측 방사선 경화성 중합체 층을 포함함 -; 배리어 필름 상에 접착제 접촉 표면을 형성하도록, 외측 방사선 경화성 중합체 층을 적어도 부분적으로 경화시키는 단계; 및 접착제 접촉 표면 상에 결합 층을 형성하는 단계를 포함하는, 장치를 형성하는 방법이다.
항목 25는, 접착제 접촉 표면 상에 결합 층을 형성하는 단계 전에, 배리어 필름은 진공 챔버로부터 제거되는, 항목 24의 방법이다.
항목 26은, 결합 층은 핫 멜트 접착제 층이고, 결합 층을 형성하는 단계는 접착제 접촉 표면 상에 핫 멜트 접착제 층을 라미네이팅하거나 코팅하는 단계를 포함하는, 항목 24 또는 항목 25의 방법이다.
항목 27은, 적어도 부분적으로 경화시키는 단계는 자외 (UV) 방사선 경화를 포함하는, 항목 24 내지 항목 26의 방법이다.
항목 28은, 외측 방사선 경화성 중합체 층은 방사선 경화성 (메트)아크릴레이트를 포함하는, 항목 24 내지 항목 27의 방법이다.
항목 29는, 외측 방사선 경화성 중합체 층은 실란 커플링제를 추가로 포함하는, 항목 24 내지 항목 28의 방법이다.
항목 30은, 외측 방사선 경화성 중합체 층은 중합 억제제를 추가로 포함하는, 항목 24 내지 항목 29의 방법이다.
항목 31은, 중합 억제제는 혐기성 중합 억제제를 포함하는, 항목 30의 방법이다.
항목 32는, 혐기성 중합 억제제는 다이에틸하이드록실 아민, 테트라메틸 페닐렌 다이아민, 살리실알독심, 테트라메틸 페닐렌 다이아민, 아세트산망간, 4-하이드록시 TEMPO, NPAL, 또는 페노티아진, 및 이들의 조합으로부터 선택되는, 항목 31의 방법이다.
항목 33은, 결합 층 및 외측 방사선 경화성 중합체 층이 추가로 자외선 (UV) 광원, 가시광선 광원, 열원, 또는 이들의 조합을 사용하여 함께 경화되는, 항목 24 내지 항목 32의 방법이다.
항목 34는, 배리어 필름은 외측 방사선 경화성 중합체 층 반대편에 있는 기재를 포함하며, 기재는 가요성 유리, 금속 포일, 또는 중합체 필름으로부터 선택되는, 항목 24 내지 항목 33의 방법이다.
항목 35는, 진공 챔버 내에서 배리어 필름을 형성하는 단계 - 배리어 필름은 외측 방사선 경화성 중합체 층을 포함함 -; 배리어 필름 상에 접착제 접촉 표면을 형성하도록, 외측 방사선 경화성 중합체 층을 적어도 부분적으로 경화시키는 단계; 경화성 중합체 매트릭스를 포함하는 결합 층과 접착제 접촉 표면이 접촉하도록, 배리어 필름을 결합 층에 라미네이팅하는 단계; 및 라미네이트를 경화시키는 단계를 포함하는, 장치를 형성하는 방법이다.
항목 36은, 배리어 필름을 결합 층에 라미네이팅하는 단계 전에, 배리어 필름은 진공 챔버로부터 제거되는, 항목 35의 방법이다.
항목 37은, 적어도 부분적으로 경화시키는 단계는 자외 (UV) 방사선 경화를 포함하는, 항목 35 또는 항목 36의 방법이다.
항목 38은, 라미네이트를 경화시키는 단계는 열 경화, 자외 (UV) 방사선 경화, 가시광 방사선 경화, 전자 빔 경화, 또는 이들의 조합을 포함하는, 항목 35 내지 항목 37의 방법이다.
항목 39는, 결합 층은 대향하는 제1 및 제2 주 표면을 포함하고, 배리어 필름을 라미네이팅하는 단계는 배리어 필름을 결합 층의 제1 및 제2 주 표면 각각에 라미네이팅하는 단계를 포함하는, 항목 35 내지 항목 38의 방법이다.
항목 40은, 외측 방사선 경화성 중합체 층은 방사선 경화성 (메트)아크릴레이트를 포함하는, 항목 35 내지 항목 39의 방법이다.
항목 41은, 외측 방사선 경화성 중합체 층은 실란 커플링제를 추가로 포함하는, 항목 35 내지 항목 40의 방법이다.
항목 42는, 외측 방사선 경화성 중합체 층은 중합 억제제를 추가로 포함하는, 항목 35 내지 항목 41의 방법이다.
항목 43은, 중합 억제제는 혐기성 중합 억제제를 포함하는, 항목 35 내지 항목 42의 방법이다.
항목 44는, 혐기성 중합 억제제는 다이에틸하이드록실 아민, 테트라메틸 페닐렌 다이아민, 살리실알독심, 테트라메틸 페닐렌 다이아민, 아세트산망간, 4-하이드록시 TEMPO, NPAL, 또는 페노티아진, 및 이들의 조합으로부터 선택되는, 항목 35 내지 항목 43의 방법이다.
항목 45는, 결합 층 및 외측 방사선 경화성 중합체 층은 자외선 (UV) 광원, 가시광선 광원, 열원, 또는 이들의 조합을 사용하여 함께 경화되는, 항목 35 내지 항목 44의 방법이다.
항목 46은, 경화성 중합체 매트릭스는 (메트)아크릴레이트 단량체 및 적어도 하나의 양자점을 포함하는, 항목 35 내지 항목 45의 방법이다.
항목 47은, 배리어 필름은 적어도 하나의 무기 산화물 층을 추가로 포함하는, 항목 35 내지 항목 46의 방법이다.
항목 48은, 적어도 부분적으로 경화시키는 단계는, 약 254 nm를 중심으로 하는 파장 스펙트럼을 갖고 220 nm 미만의 파장을 갖는 출력이 실질적으로 없는 UV 방사선을 사용하는 단계를 포함하는, 항목 35 내지 항목 47의 방법이다.
항목 49는, 적어도 부분적으로 경화시키는 단계는 0.1초 내지 1.5초 동안 약 0.5 W/m2 미만의 세기(intensity)의 UV 방사선에 노출시키는 단계를 포함하는, 항목 35 내지 항목 48의 방법이다.
항목 50은, 적어도 부분적으로 경화시키는 단계는 약 0.1 내지 약 1.5초의 지속 시간 동안 약 0.5 W/m2의 254 nm UV 세기에 노출시키는 단계를 포함하는, 항목 35 내지 항목 49의 방법이다.
항목 51은, 적어도 부분적으로 경화시키는 단계는 가시광 방사선 경화를 사용하는 단계를 포함하는, 항목 35 내지 항목 50의 방법이다.
항목 52는, 배리어 필름은 외측 방사선 경화성 중합체 층 반대편에 있는 기재를 포함하며, 기재는 가요성 유리, 금속 포일, 또는 중합체 필름으로부터 선택되는, 항목 35 내지 항목 51의 방법이다.
항목 53은, 항목 1 내지 항목 23 중 어느 한 항목에 따른 장치; 장치를 조명하도록 배치된 발광체; 및 발광체와 장치 사이에 배치된 액정 디스플레이 패널을 포함하는, 디스플레이이다.
달리 지시되지 않는 한, 명세서 및 청구범위에 사용되는 특징부 크기, 양 및 물리적 특성을 표현하는 모든 수치는 용어 "약"에 의해 수식되는 것으로 이해되어야 한다. 따라서, 반대로 지시되지 않는 한, 상기의 명세서 및 첨부된 청구범위에 기재된 수치 파라미터는, 본 명세서에 개시된 교시를 이용하는 당업자가 얻고자 하는 원하는 특성에 따라 변할 수 있는 근사치이다.
본 명세서에 인용된 모든 참고 문헌 및 공보는, 그것들이 본 개시 내용과 직접적으로 모순될 수 있는 경우를 제외하고는, 명백히 본 명세서에서 전체적으로 본 개시 내용에 참고로 포함된다. 특정 실시 형태가 본 명세서에 예시 및 기술되었지만, 본 발명의 범주로부터 벗어남이 없이 다양한 대안 및/또는 등가의 구현예가 도시 및 기술된 특정 실시 형태를 대신할 수 있다는 것이 당업자에 의해 인식될 것이다. 본 출원은 본 명세서에 논의된 특정 실시 형태의 임의의 개조 또는 변형을 포함하도록 의도된다. 따라서, 본 발명은 청구범위 및 그것의 등가물에 의해서만 제한되는 것으로 의도된다.

Claims (53)

  1. 적어도 외측 중합체 층을 각각 포함하는 제1 및 제2 배리어 층(barrier layer) - 각각의 외측 중합체 층은 접착제 접촉 표면을 가짐 -; 및
    중합체 매트릭스를 포함하는 발광 층(luminescent layer) - 발광 층은 각자의 접착제 접촉 표면이 발광 층과 접촉하는 상태로 제1 배리어 층과 제2 배리어 층 사이에 배치됨 -
    을 포함하며,
    제1 및 제2 배리어 층과 발광 층 사이의 박리 접착력이 100 그램/인치 이상인, 장치.
  2. 제1항에 있어서, 발광 층은 적어도 하나의 양자점(quantum dot)을 추가로 포함하는, 장치.
  3. 제1항에 있어서, 외측 중합체 층들 각각은 방사선 경화된 (메트)아크릴레이트를 포함하는, 장치.
  4. 대향하는 제1 및 제2 주 표면(major surface)을 갖는 기재,
    제2 주 표면에 인접한 무기 산화물 층,
    제2 주 표면과 무기 산화물 층 사이의 평탄화 중합체성 층(smoothing polymeric layer),
    평탄화 중합체성 층 반대편에, 무기 산화물 층 상에 배치된 외측 중합체 층
    을 포함하는 배리어 필름; 및
    외측 중합체 층에 인접하게 배치된 결합 층(bonding layer)
    을 포함하며,
    배리어 필름과 결합 층 사이의 박리 접착력이 100 그램/인치 이상인, 장치.
  5. 제4항에 있어서, 외측 중합체 층은 UV 방사선 경화된 (메트)아크릴레이트를 포함하는, 장치.
  6. 진공 챔버(evacuated chamber) 내에서 배리어 필름을 형성하는 단계 - 배리어 필름은 외측 방사선 경화성 중합체 층을 포함함 -;
    배리어 필름 상에 접착제 접촉 표면을 형성하도록, 중합 억제제를 포함하는 외측 방사선 경화성 중합체 층을 적어도 부분적으로 경화시키는 단계; 및
    접착제 접촉 표면 상에 결합 층을 형성하는 단계
    를 포함하는, 장치를 형성하는 방법.
  7. 진공 챔버 내에서 배리어 필름을 형성하는 단계 - 배리어 필름은 외측 방사선 경화성 중합체 층을 포함함 -;
    배리어 필름 상에 접착제 접촉 표면을 형성하도록, 중합 억제제를 포함하는 외측 방사선 경화성 중합체 층을 적어도 부분적으로 경화시키는 단계;
    경화성 중합체 매트릭스를 포함하는 결합 층과 접착제 접촉 표면이 접촉하도록, 배리어 필름을 결합 층에 라미네이팅하는 단계; 및
    라미네이트(laminate)를 경화시키는 단계
    를 포함하는, 장치를 형성하는 방법.
  8. 제6항 또는 제7항에 있어서, 적어도 부분적으로 경화시키는 단계는 자외 (UV) 방사선 경화를 포함하는, 방법.
  9. 제3항 또는 제5항에 있어서, 외측 중합체 층들이 실란 커플링제(coupling agent)를 추가로 포함하는, 장치.
  10. 제1항 또는 제4항에 따른 장치;
    장치를 조명하도록 배치된 발광체(light); 및
    발광체와 장치 사이에 배치된 액정 디스플레이 패널
    을 포함하는, 디스플레이.
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