JP2016525234A - 接着バリアフィルム構造体 - Google Patents

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本開示は、結合層と隣接するバリア層との間の耐剥離性が高い結合の形成に関する。かかる物品は、装置（特に、発光装置）の調製に特に有用であり、発光装置のアセンブリに関する方法が記載されている。発光装置は、可撓性の透明なバリアフィルム及び紫外線（ＵＶ）硬化性（メタ）アクリレートマトリクスを使用する封入システムを備える。感湿性発光材料は、例えば、フィルム又はＯＬＥＤ構造を備えるフィルム構造体中に配設される量子ドットであり得る。

Description

有機発光ダイオード（ＯＬＥＤ）及び量子ドットなどの発光装置の調製に有用な特定の材料は、空気及び湿気にさらされる際に酸化的障害を受け、発光が損失することがしばしばある。バリア層を調製することは、空気及び湿気の侵入防止に有効であることが知られているが、かかる層を感光材料を組み込んでいる利便性の高いポリマーマトリクスに結合する試みによって中間層の接着性が不十分となっていた。
本開示は、結合層と隣接するバリア層との間での耐剥離性が高い結合の形成に関する。かかる物品は、装置、特に発光装置、の調製に特に有用であり、発光装置のアセンブリに関する方法が記載されている。発光装置は、可撓性の透明なバリアフィルム及び紫外線（ＵＶ）硬化性（メタ）アクリレートマトリクスを使用する封入システムを備える。感湿性発光材料は、例えば、フィルム、又はＯＬＥＤ構造を備えるフィルム構造体中に配設される量子ドットであり得る。１つの態様では、本開示は、第１バリア層及び第２バリア層であって、各々が少なくとも１つの外部ポリマー層を含み、各外部ポリマー層は接着剤接触面を有する、第１バリア層及び第２バリア層と、第１バリア層と第２バリア層との間に配設されたポリマーマトリクスを含む発光層であって、それぞれの接着剤接触面と発光層とが接触している、発光層と、を含み、第１バリア層及び第２バリア層と発光層との間の剥離接着力が、少なくとも１００グラム／インチ（０．４ニュートン／センチメートル）である、装置を提供する。別の態様では、本開示は、装置と、装置を照らすために配設される光と、光と装置との間に配設される液晶ディスプレイパネルと、を含む、ディスプレイを提供する。
更に別の態様では、本開示は、バリアフィルムと、結合層と、を含む装置を提供する。バリアフィルムは、対向する第１主表面及び第２主表面を有するポリマー基材と、第２主表面に隣接する無機酸化物層と、第２主表面と無機酸化物層との間の平滑化ポリマー層と、無機酸化物層上、平滑化ポリマー層に対向して配設される外部ポリマー層と、を含む。結合層は、外部ポリマー層と隣接して配設され、バリアフィルムと結合層との間の剥離接着力は、少なくとも１００グラム／インチ（０．４ニュートン／センチメートル）である。更に別の態様では、本開示は、装置と、装置を照らすために配設される光と、光と装置との間に配設される液晶ディスプレイパネルと、を含む、ディスプレイを提供する。
更に別の態様では、本開示は、バリアフィルムと、結合層と、を含む装置を提供する。バリアフィルムは、対向する第１主表面及び第２主表面を有するポリマー基材と、第２主表面に隣接する無機酸化物層と、第２主表面と無機酸化物層との間の平滑化ポリマー層と、無機酸化物層上、平滑化ポリマー層に対向して配設される外部ポリマー層と、を含む。結合層は、外部ポリマー層と隣接して配設され、バリア層と結合層との間の剥離接着力は、少なくとも１００グラム／インチ（０．４ニュートン／センチメートル）である。装置は、対向する第３主表面及び第４主表面を有する第２ポリマー基材と、第４主表面に隣接する第２無機酸化物層と、第４主表面と第２無機酸化物層との間の第２平滑化ポリマー層と、第２無機酸化物層上に、第２平滑化ポリマー層に対向して配設される第２外部ポリマー層と、を有する第２バリアフィルムを更に含み、ここで結合層は、第２無機酸化物層に隣接し、第２平滑化ポリマー層に対向して配設される。更に別の態様では、本開示は、装置と、装置を照らすために配設される光と、光と装置との間に配設される液晶ディスプレイパネルと、を含む、ディスプレイを提供する。
別の態様では、本開示は、減圧チャンバ中で外部放射線硬化性ポリマー層を有するバリアフィルムを形成する工程と、外部放射線硬化性ポリマー層を少なくとも部分的に硬化し、バリアフィルム上に接着剤接触面を形成する工程と、接着剤接触面上に結合層を形成する工程と、を含む、装置の形成方法を提供する。
更に別の態様では、本開示は、減圧チャンバ中で外部放射線硬化性ポリマー層を有するバリアフィルムを形成する工程と、外部放射線硬化性ポリマー層を少なくとも部分的に硬化し、バリアフィルム上に接着剤接触面を形成する工程と、バリアフィルムを硬化性ポリマーマトリクスを含む結合層に積層して、接着剤接触面を結合層に接触させる工程と、積層体を硬化する工程と、を含む、装置の形成方法を提供する。
上記の概要は、本開示の各々の開示される実施形態又は全ての実現形態を説明することを目的としたものではない。以下の図面及び詳細な説明により、実例となる実施形態をより具体的に例示する。
本明細書を通して、添付の図面を参照し、同じ参照番号は同じ要素を示す。
装置の概略断面図を示す。 装置を形成するためのプロセスを示す。
図は、必ずしも原寸に比例していない。図中で用いられる同様の数字は、同様の構成要素を示す。しかしながら、所与の図中の構成要素を指す数字の使用は、同一数字を付された別の図中の構成要素を限定するものではないことが理解されよう。
本開示は、装置、特に発光装置、の構造体、及び発光装置のアセンブリに関する方法を提供する。発光装置は、可撓性の透明なバリアフィルム及び紫外線（ＵＶ）硬化性（メタ）アクリレートマトリクスを使用する封入システムを備える。感湿性発光材料は、例えば、フィルム又はＯＬＥＤ構造を備えるフィルム構造体中に配設される量子ドットであり得る。１つの特定の実施形態では、発光装置は、光透過性が高いバリアフィルム、量子ドットを含有するバリア特性が高いＵＶ硬化性（メタ）アクリレートマトリクスを含み、加工中及び製品使用中の耐久性のために、ＵＶ硬化性アクリレートマトリクスとバリアフィルムとの接着性が高い。１つの特定の実施形態では、作製されるバリアフィルムは、ポリマーホットメルト材料、感圧性接着剤、ハードコートなどの他の材料との結合に有用であり得る。
説明及び特許請求の範囲の全体を通して特定の用語が使用されており、大部分は周知であるが、若干の説明を必要とする場合がある。本明細書で使用される場合：
モノマーに関する用語「（メタ）アクリレート」とは、アルコールとアクリルの酸又はメタクリルの酸、例えばアクリル酸又はメタクリル酸との反応生成物として形成されたビニル官能性アルキルエステルを意味する。
用語「（コ）ポリマー」は、ホモポリマー又はコポリマーを意味する。
用語「均質」とは、巨視的スケールで観察される場合、物質の単一相のみを呈することを意味する。
次に本開示の様々な例示的実施形態について、具体的に図面を参照しながら説明する。本開示の例示的実施形態は、開示の趣旨及び範囲から逸脱することなく、様々な修正や変更が可能である。したがって、本開示の実施形態は以下に記述する代表的な実施形態に限定されず、請求項及びそれと同等の任意のものに定められた制限によって支配されるものと理解されたい。
以下の記述において、本明細書の一部を構成し、例示の目的で示されている添付図面を参照する。本開示の範囲又は趣旨から逸脱することなく、他の実施形態が想到され実施される場合がある点を理解されたい。したがって、以下の発明を実施するための形態は、限定的な意味で解釈されるべきではない。
特に断らない限り、本明細書並びに特許請求の範囲で使用される特徴のサイズ、量、及び物理特性を表す全ての数字は、全事例において「約」という用語によって修飾されるものとして理解されるべきである。したがって、それと反対の指示がない限り、前述の明細書及び添付の特許請求の範囲内に示される数値パラメータは、本明細書に開示される教示を用いて当業者が得ようとする所望の特性に応じて変動し得る近似値である。
本明細書及び添付の特許請求の範囲において使用するとき、「１つの（a）」、「１つの（an）」、及び「その（the）」という単数形は、文脈による明確な別段の指示がない限り、複数の指示対象を有する実施形態を包含する。本明細書及び添付の特許請求の範囲において使用するとき、用語「又は」は、概して、文脈による明確な別段の指示がない限り、「及び／又は」を含む意味で用いられる。
これらに限定されるものではないが、「下側」、「上側」、「下」、「下方」、「上方」、及び「〜の上」などの空間的に関連した語は、本明細書において用いられる場合、ある要素の別の要素に対する空間的関係を述べる上で説明を容易にする目的で用いられる。このような空間的に関連した語には、図に示され本明細書に述べられる特定の向き以外に、使用中又は作動中の装置の異なる向きが含まれる。例えば、図中で示される対象物が反転又は裏返されている場合、他の要素の下方又は下として前に説明された部分は、その後はこれらの他の要素の上となるであろう。
本明細書で使用される場合、例えば、要素、構成要素、若しくは層が、別の要素、構成要素、若しくは層との「一致する界面」を形成する、又は「上にある」、「接続されている」、「結合されている」、又は「接触する」として説明されている場合、それは、例えば、特定の要素、構成要素、若しくは層の、直接上にあるか、これらと直接接続されるか、直接結合されるか、直接接触している可能性があり、あるいは介在する要素、構成要素、又は層が、特定の要素、構成要素若しくは層の上にあるか、これらと連結されているか、結合しているか、又は接触している可能性がある。例えばある要素、構成要素、又は層が、別の要素の「直接上にある」、別の要素に「直接接続される」、「直接結合する」、又は「直接接触する」ものとして表される場合、介在する要素、構成要素、又は層は存在しない。
現行の液晶ディスプレイ（ＬＣＤ）は、ＮＴＳＣ規格の５０％のみを示し得る。競合技術であるＯＬＥＤディスプレイは、ＮＴＳＣ規格の１００％を超えて示し得る。量子ドット放出フィルム（ＱＤＥＦ）を使用することによって、ＬＣＤ製造業者は、サプライチェーン又は技術プラットフォームを著しく変化させることなく、色域を増加させることが可能となる。
いくつかの場合では、ＱＤＥＦは、テレビ、モニター、ノートブック型パソコン、及びハンドヘルドデバイスなどの幅広い適用範囲でＬＣＤの色域を増加するのに使用され得る。増加したスループットスピードを含む全紫外線ＱＤＥＦ系が望ましい。いくつかの場合では、特定の量子ドット化学物質は、典型的な熱硬化エポキシ−アミンポリマーマトリクスと不適合であるために、ＱＤＥＦ構造体に使用され得る量子ドットの種類が制限され得る。
量子ドットフィルム及び要素は、ディスプレイ及び他の光学構造体に用いられる。量子ドットは、酸素及び水から封止される必要があり、典型的にはポリマーマトリクス中に分散した後、可撓性の透明なバリアフィルムの間で封止され得る。ポリマーマトリクスは、ホットメルトマトリクス、エポキシなどの熱硬化マトリクス、後続の熱硬化中にマトリクスを安定化させるための（メタ）アクリレートを放射線硬化したエポキシアミンとブレンドされた放射線硬化性（メタ）アクリレートなどのハイブリッドマトリクスであり得るか、又はポリマーマトリクスは、後続の熱硬化が不必要となるような放射線硬化性（メタ）アクリレート材料であり得る。
可撓性の透明なバリアフィルムの連続ロールツーロール製造法は、高光透過性を要する酸素感受性及び感湿性での適用のために開発されている。かかるロールツーロール製造法及びこれらの方法によって作製されるバリアフィルムの例は、例えば、「ＡＣＲＹＬＡＴＥ ＣＯＡＴＩＮＧ ＭＡＴＥＲＩＡＬ」という題目の米国特許第５，４４０，４４６号（Ｓｈａｗら）；「ＡＣＲＹＬＡＴＥ ＣＯＭＰＯＳＩＴＥ ＢＡＲＲＩＥＲ ＣＯＡＴＩＮＧ ＰＲＯＣＥＳＳ」という題目の米国特許第５，７２５，９０９号（Ｓｈａｗら）；「ＡＣＲＹＬＡＴＥ ＣＯＭＰＯＳＩＴＥ ＢＡＲＲＩＥＲ ＣＯＡＴＩＮＧ」という題目の米国特許第６，２３１，９３９号（Ｓｈａｗら）；及び「ＦＬＥＸＩＢＬＥ ＨＩＧＨ−ＴＥＭＰＥＲＡＴＵＲＥ ＵＬＴＲＡＢＡＲＲＩＥＲ」という題目の米国特許第７，０１８，７１３号（Ｐａｄｉｙａｔｈら）；及びまた 「ＧＲＡＤＩＥＮＴ ＣＯＭＰＯＳＩＴＩＯＮ ＢＡＲＲＩＥＲ」という題目の米国特許出願公開第２０１１／０２２３４３４号（Ｒｏｅｈｒｉｇら）；及び「ＭＯＩＳＴＵＲＥ ＲＥＳＩＳＴＡＮＴ ＣＯＡＴＩＮＧ ＦＯＲ ＢＡＲＲＩＥＲ ＦＩＬＭＳ」という題目の米国特許出願公開第２０１２／０００３４８４号（Ｒｏｅｈｒｉｇら）；及び「ＱＵＡＮＴＵＭ ＤＯＴ ＦＩＬＭ」という題目の米国特許出願第６１／７５４７８６号（Ｎｅｌｓｏｎら）で見出すことができる。
バリアフィルムの作製は、典型的には、ほぼ真空の環境で行われ、平滑化層として第１放射線硬化性樹脂が塗布される高Ｔｇポリマー基材を使用し、この第１層は、例えば、ＵＶ又は電子ビーム放射を使用して硬化され得る。次に、無機酸化物バリア層は、平滑化層の表面にコーティング（例えば、スパッタリング）され、第２放射線硬化性樹脂は、保護層として塗布された後、同様の技術を使用して再び硬化される。無機酸化物バリア層／保護層の各対は、しばしば「ダイアド」と呼ばれ、任意所望の複数のダイアドが互いの表面に塗布され、バリアフィルムのバリア特性を向上させる。電子ビーム硬化法の利点には、架橋の度合いが高く、モノマー供給中に光開始剤を含まずに、高速で硬化可能であることが挙げられる。
電子ビーム法の代替としては、ＵＶ硬化法がある。典型的には、かかる系において、バルブから照射される特定のＵＶ光は、液体モノマーにブレンドされた特定の光開始剤と結合する。光開始剤は、ＵＶ光からの発光波長と合致するように選択される。場合によっては、電子ビーム硬化の別の代替としては、可視光硬化があり、これは、特定の光開始剤が液体モノマーにブレンドされ、可視光からの発光波長と合致するように選択される。好適なＵＶ又は可視光源は、当該技術分野において周知であり、ＵＶ ＬＥＤ；ＵＶレーザー；低圧殺菌灯、中圧ランプ及び高圧ランプなどのＵＶランプ；可視光ランプ、フラッシュランプなどが挙げられる。
高耐久性ＱＤＥＦ製品は、更なる変換、操作、及び長い製品寿命のために望ましく、量子ドットポリマーマトリクスと封入バリアフィルムとの接着性が高いことで、ＱＤＥＦの耐久性が向上する。ＵＶ硬化性量子ドットマトリクス配合物は、典型的には、電子ビーム硬化バリアフィルムへの低い接着性を示す。本発明者らは、バリアフィルム構造体中で典型的な電子ビーム硬化を使用する代わりに、バリアスタック中の最上アクリレート層（すなわち、保護層）がＵＶ硬化される際に、バリア層と量子ドットマトリクスとの接着性が著しく向上するという驚くべき予想外の結果を発見した。更に、本発明者らは、ＵＶ硬化バリアスタックを使用して、バリア層とエチレン酢酸ビニル（ＥＶＡ）ホットメルトと同様のホットメルト接着剤などの他の材料との接着性が向上し得る驚くべき予想外の結果を発見した。なお更に、本発明者らは、ＵＶ硬化外部ポリマー層に特定のフリーラジカル阻害剤を加えることで、バリアフィルムのロール中の隣接層が互いに接着する傾向も減少させつつ、ＵＶ硬化樹脂とホットメルトなどの他の材料との接着性を向上もさせ得る驚くべき予想外の結果を発見した。
図１は、本開示の１つの態様による発光装置１００の概略断面図を示している。発光装置１００は、第１バリアフィルム１１０、任意の第２バリアフィルム１２０、及び第１バリアフィルム１１０と任意の第２バリアフィルム１２０との間に配設される発光層１３０とを備える。以下に記載において、第１及び第２バリアフィルム１１０、１２０が含まれるが、場合によっては、１つのバリアフィルムのみが使用され得る。
第１バリアフィルム１１０は、第１基材１１２、第１基材１１２上に配設された第１ポリマー平滑化層１１４、第１ポリマー平滑化層１１４上に配設された第１バリア層１１６、及び第１バリア層１１６上に配設された第１外部ポリマー層１１８を備える。任意の第２バリアフィルム１２０は、第２基材１２２、第２基材１２２上に配設された第２ポリマー平滑化層１２４、第２ポリマー平滑化層１２４上に配設された第２バリア層１２６、及び第２バリア層１２６上に配設された第２外部ポリマー層１２８を備える。
発光層１３０は、第１外部ポリマー層１１８及び第２外部ポリマー層１２８の各々が、それぞれ発光層１３０の第１主表面１３１及び対向する第２主表面１３２に接触するように、第１バリアフィルム１１０と第２バリアフィルム１２０との間に配設されている。第１バリア層１１６及び第２バリア層１２６は、酸素及び水蒸気に透過抵抗性である。バリア特性が更に高レベルであることが望まれるいくつかの実施形態では、より多くのバリア層対及び追加のポリマー層（すなわち、ダイアド）のスタックが提供され得る。
第１基材１１２及び第２基材１２２は、同じであっても異なっていてもよく、例えば、Ｗｉｌｌｏｗ Ｇｌａｓｓ（Ｃｏｒｎｉｎｇから入手可能）、Ｕｌｔｒａ Ｔｈｉｎ ｇｌａｓｓｅｓ（Ｓｃｈｏｔｔ及びＡｓａｈｉの双方から入手可能）などの可撓性ガラスなどのガラス；金属ホイル；及び、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、熱安定化ポリエチレンテレフタレート（ＨＳＰＥＴ）、ポリエチレンナフタレート（ＰＥＮ）、ポリメチルメタクリレート（ＰＭＭＡ）、スチレン／アクリロニトリル（ＳＡＮ）、スチレン／無水マレイン酸（ＳＭＡ）、ポリオキシメチレン（ＰＯＭ）、ポリビニルナフタレン（ＰＶＮ）、ポリエーテルエーテルケトン（ＰＥＥＫ）、ポリアリールエーテルケトン（ＰＡＥＫ）、高Ｔｇフルオロポリマー（例えば、ＤＹＮＥＯＮ（登録商標）（ヘキサフルオロポリマー、テトラフルオロエチレン、及びエチレンのＨＴＥターポリマー））、ポリカーボネート（ＰＣ）、ポリα−メチルスチレン、ポリアクリレート（ＰＡＲ）、ポリスルホン（ＰＳｕｌ）、ポリフェニレンオキシド（ＰＰＯ）、ポリエーテルイミド（ＰＥＩ）、ポリアリールスルホン（ＰＡＳ）、ポリエーテルスルホン（ＰＥＳ）、ポリアミドイミド（ＰＡＩ）、ポリイミド、ポリフタルアミド、環状オレフィンポリマー（ＣＯＰ）、環状オレフィンコポリマー（ＣＯＣ）、及びトリアセテートセルロース（ＴＡＣ）などのポリマーから選択され得る。材料費が重要である用途の場合、ＰＥＴ、ＨＳＰＥＴ及びＰＥＮから作成される基材が特に好ましい。好ましくは、基材は、約０．０１〜約１ｍｍ、より好ましくは約０．０５〜約０．２５ｍｍの厚さを有する。１つの特定の実施形態では、第１基材及び第２基材の各々はＰＥＴである。
第１ポリマー平滑化層１１４及び第２ポリマー平滑化層１２４は同じであっても異なっていてもよく、ウレタンアクリレート（例えばＣＮ−９６８及びＣＮ−９８３（いずれもＳａｒｔｏｍｅｒ Ｃｏ．から市販されている））、イソボルニルアクリレート（例えばＳＲ−５０６（Ｓａｒｔｏｍｅｒ Ｃｏ．から市販されている））、ジペンタエリスリトールペンタアクリレート（例えばＳＲ−３９９（Ｓａｒｔｏｍｅｒ Ｃｏ．から市販されている））、スチレンとブレンドされたエポキシアクリレート（例えばＣＮ−１２０Ｓ８０（Ｓａｒｔｏｍｅｒ Ｃｏ．から市販されている））、ジ−トリメチロールプロパンテトラアクリレート（例えばＳＲ−３５５（Ｓａｒｔｏｍｅｒ Ｃｏ．から市販されている））、ジエチレングリコールジアクリレート（例えばＳＲ−２３０（Ｓａｒｔｏｍｅｒ Ｃｏ．から市販されている））、１，３−ブチレングリコールジアクリレート（例えばＳＲ−２１２（Ｓａｒｔｏｍｅｒ Ｃｏ．から市販されている））、ペンタアクリレートエステル（例えばＳＲ−９０４１（Ｓａｒｔｏｍｅｒ Ｃｏ．から市販されている））、ペンタエリスリトールテトラアクリレート（例えばＳＲ−２９５（Ｓａｒｔｏｍｅｒ Ｃｏ．から市販されている））、ペンタエリスリトールトリアクリレート（例えばＳＲ−４４４（Ｓａｒｔｏｍｅｒ Ｃｏ．から市販されている））、エトキシル化（３）トリメチロールプロパントリアクリレート（例えばＳＲ−４５４（Ｓａｒｔｏｍｅｒ Ｃｏ．から市販されている））、エトキシル化（３）トリメチロールプロパントリアクリレート（例えばＳＲ−４５４ＨＰ（Ｓａｒｔｏｍｅｒ Ｃｏ．から市販されている））、アルコキシル化三官能性アクリレートエステル（例えばＳＲ−９００８（Ｓａｒｔｏｍｅｒ Ｃｏ．から市販されている））、ジプロピレングリコールジアクリレート（例えばＳＲ−５０８（Ｓａｒｔｏｍｅｒ Ｃｏ．から市販されている））、ネオペンチルグリコールジアクリレート（例えばＳＲ−２４７（Ｓａｒｔｏｍｅｒ Ｃｏ．から市販されている））、エトキシル化（４）ビスフェノールＡジメタクリレート（例えばＣＤ−４５０（Ｓａｒｔｏｍｅｒ Ｃｏ．から市販されている））、シクロヘキサンジメタノールジアクリレートエステル（例えばＣＤ−４０６（Ｓａｒｔｏｍｅｒ Ｃｏ．から市販されている））、例えば、トリシクロデカンジメタノールジアクリレート（例えばＳＲ−８３３Ｓ（Ｓａｒｔｏｍｅｒ Ｃｏ．から市販されている））などの環状ジアクリレート、イソボルニルメタクリレート（例えばＳＲ−４２３（Ｓａｒｔｏｍｅｒ Ｃｏ．から市販されている））、及びトリス（２−ヒドロキシエチル）イソシアヌレートトリアクリレート（例えばＳＲ−３６８（Ｓａｒｔｏｍｅｒ Ｃｏ．から市販されている））、前述のメタクリレートのアクリレート、並びに前述のアクリレートのメタクリレートから選択され得る。
第１ポリマー平滑化層１１４及び第２ポリマー平滑化層１２４は、それぞれ第１基材１１２及び第２基材１２２にモノマー又はオリゴマーの層を適用し、モノマー又はオリゴマーの層を基材に塗布し、例えば、放射線架橋性モノマーのフラッシュ蒸発及び蒸着によってその位置でポリマーを形成し、続いて、例えば、電子ビーム機器、ＵＶ光源、放電装置、又は他の好適な装置を使用して架橋することによって形成され得る。コーティング効率は、支持体を冷却することによって向上し得る。モノマー又はオリゴマーは、上記に明確に記載されるように、ロールコーティング（例えば、グラビアロールコーティング）、又はスプレーコーティング（例えば、静電気スプレーコーティング）などの従来のコーティング方法を使用して基材に塗布され、続いて架橋され得る。第１ポリマー層は、溶媒中にオリゴマー又はポリマーを含有する層を塗布し、その塗布された層を乾燥して溶媒を除去することによって形成され得る。プラズマ重合を用いてもよい。最も好ましくは、第１ポリマー層は、例えば、米国特許第４，６９６，７１９号（Ｂｉｓｃｈｏｆｆ）、同第４，７２２，５１５号（Ｈａｍ）、同第４，８４２，８９３号（Ｙｉａｌｉｚｉｓら）、同第４，９５４，３７１号（Ｙｉａｌｉｚｉｓ）、同第５，０１８，０４８号（Ｓｈａｗら）、同第５，０３２，４６１号（Ｓｈａｗら）、同第５，０９７，８００号（Ｓｈａｗら）、同第５，１２５，１３８号（Ｓｈａｗら）、同第５，４４０，４４６号（Ｓｈａｗら）、同第５，５４７，９０８号（Ｆｕｒｕｚａｗａら）、同第６，０４５，８６４号（Ｌｙｏｎｓら）、同第６，２３１，９３９号（Ｓｈａｗら）及び同第６，２１４，４２２号（Ｙｉａｌｉｚｉｓ）；国際公開第００／２６９７３号（Ｄｅｌｔａ Ｖ Ｔｅｃｈｎｏｌｏｇｉｅｓ，Ｉｎｃ．）；Ｄ．Ｇ．Ｓｈａｗ及びＭ．Ｇ．Ｌａｎｇｌｏｉｓによる「Ａ Ｎｅｗ Ｖａｐｏｒ Ｄｅｐｏｓｉｔｉｏｎ Ｐｒｏｃｅｓｓ ｆｏｒ Ｃｏａｔｉｎｇ Ｐａｐｅｒ ａｎｄ Ｐｏｌｙｍｅｒ Ｗｅｂｓ」（６ｔｈ Ｉｎｔｅｒｎａｔｉｏｎａｌ Ｖａｃｕｕｍ Ｃｏａｔｉｎｇ Ｃｏｎｆｅｒｅｎｃｅ（１９９２））；Ｄ．Ｇ．Ｓｈａｗ及びＭ．Ｇ．Ｌａｎｇｌｏｉｓによる「Ａ Ｎｅｗ Ｈｉｇｈ Ｓｐｅｅｄ Ｐｒｏｃｅｓｓ ｆｏｒ Ｖａｐｏｒ Ｄｅｐｏｓｉｔｉｎｇ Ａｃｒｙｌａｔｅ Ｔｈｉｎ Ｆｉｌｍｓ：Ａｎ Ｕｐｄａｔｅ」（Ｓｏｃｉｅｔｙ ｏｆ Ｖａｃｕｕｍ Ｃｏａｔｅｒｓ ３６ｔｈ Ａｎｎｕａｌ Ｔｅｃｈｎｉｃａｌ Ｃｏｎｆｅｒｅｎｃｅ Ｐｒｏｃｅｅｄｉｎｇｓ（１９９３））；Ｄ．Ｇ．Ｓｈａｗ及びＭ．Ｇ．Ｌａｎｇｌｏｉｓによる「Ｕｓｅ ｏｆ Ｖａｐｏｒ Ｄｅｐｏｓｉｔｅｄ Ａｃｒｙｌａｔｅ Ｃｏａｔｉｎｇｓ ｔｏ Ｉｍｐｒｏｖｅ ｔｈｅ Ｂａｒｒｉｅｒ Ｐｒｏｐｅｒｔｉｅｓ ｏｆ Ｍｅｔａｌｌｉｚｅｄ Ｆｉｌｍ」（Ｓｏｃｉｅｔｙ ｏｆ Ｖａｃｕｕｍ Ｃｏａｔｅｒｓ ３７ｔｈ Ａｎｎｕａｌ Ｔｅｃｈｎｉｃａｌ Ｃｏｎｆｅｒｅｎｃｅ Ｐｒｏｃｅｅｄｉｎｇｓ（１９９４））；Ｄ．Ｇ．Ｓｈａｗ、Ｍ．Ｒｏｅｈｒｉｇ、Ｍ．Ｇ．Ｌａｎｇｌｏｉｓ及びＣ．Ｓｈｅｅｈａｎによる「Ｕｓｅ ｏｆ Ｅｖａｐｏｒａｔｅｄ Ａｃｒｙｌａｔｅ Ｃｏａｔｉｎｇｓ ｔｏ Ｓｍｏｏｔｈ ｔｈｅ Ｓｕｒｆａｃｅ ｏｆ Ｐｏｌｙｅｓｔｅｒ ａｎｄ Ｐｏｌｙｐｒｏｐｙｌｅｎｅ Ｆｉｌｍ Ｓｕｂｓｔｒａｔｅｓ」（ＲａｄＴｅｃｈ（１９９６））；Ｊ．Ａｆｆｉｎｉｔｏ、Ｐ．Ｍａｒｔｉｎ、Ｍ．Ｇｒｏｓｓ、Ｃ．Ｃｏｒｏｎａｄｏ及びＥ．Ｇｒｅｅｎｗｅｌｌによる「Ｖａｃｕｕｍ ｄｅｐｏｓｉｔｅｄ ｐｏｌｙｍｅｒ／ｍｅｔａｌ ｍｕｌｔｉｌａｙｅｒ ｆｉｌｍｓ ｆｏｒ ｏｐｔｉｃａｌ ａｐｐｌｉｃａｔｉｏｎ」（Ｔｈｉｎ Ｓｏｌｉｄ Ｆｉｌｍｓ ２７０，４３〜４８（１９９５））；及びＪ．Ｄ．Ａｆｆｉｎｉｔｏ、Ｍ．Ｅ．Ｇｒｏｓｓ、Ｃ．Ａ．Ｃｏｒｏｎａｄｏ、Ｇ．Ｌ．Ｇｒａｆｆ、Ｅ．Ｎ．Ｇｒｅｅｎｗｅｌｌ及びＰ．Ｍ．Ｍａｒｔｉｎ「Ｐｏｌｙｍｅｒ−Ｏｘｉｄｅ Ｔｒａｎｓｐａｒｅｎｔ Ｂａｒｒｉｅｒ Ｌａｙｅｒｓ」（Ｓｏｃｉｅｔｙ ｏｆ Ｖａｃｕｕｍ Ｃｏａｔｅｒｓ ３９ｔｈ Ａｎｎｕａｌ Ｔｅｃｈｎｉｃａｌ Ｃｏｎｆｅｒｅｎｃｅ Ｐｒｏｃｅｅｄｉｎｇｓ（１９９６））：に記載されるように、フラッシュ蒸発及び蒸着に続けて、その場で架橋することによって形成される。
第１ポリマー平滑化層１１４及び第２ポリマー平滑化層１２４の潤滑性及び連続性、及びそれらの下地基材への接着性は、好ましくは適切な前処理によって向上する。好ましい前処理レジメンは、好適な反応性又は非反応性雰囲気の存在下での放電（例えば、プラズマ、グロー放電、コロナ放電、誘電体バリア放電又は大気圧放電）、化学的前処理又はフレーム前処理を用いる。これらの前処理は、続いて塗布されるポリマー層の形成に対する、下地表面の受容力を高めるのを助ける。プラズマによる前処理が特に好ましい。高Ｔｇポリマー層とは異なる組成を有し得る別個の接着促進層は、下地層の頂面に使用されて層間接着が向上し得る。接着促進層は、例えば別個のポリマー層、又は金属、金属酸化物、金属窒化物又は金属酸窒化物の層などの金属含有層であり得る。接着促進層は、数ｎｍ（例えば、１又は２ｎｍ）〜約５０ｎｍの厚さを有してもよく、所望であれば、より厚くてもよい。
第１ポリマー平滑化層１１４及び第２ポリマー平滑化層１２４の望ましい化学組成及び厚さは、それぞれ第１基材１１２及び第２基材１２２の性質及び表面トポグラフィーに部分的に依存するであろう。厚さは、続けて第１無機バリア層に塗布できる、潤滑であって、欠陥のない表面を提供するのに十分であることが好ましい。例えば、第１ポリマー層は、数ｎｍ（例えば、２又は３ｎｍ）〜約５マイクロメートルの厚さを有し、所望であれば、それより厚くてもよい。
第１バリア層１１６及び第２バリア層１２６は、それぞれ「第１無機バリア層」及び「第２無機バリア層」と呼ぶことができる。所望であれば、追加の無機バリア層及びポリマー層が存在し得る。第１バリア層１１６及び第２バリア層１２６は同一でなくてもよい。様々な無機バリア材料を用いることができる。好ましい無機バリア材料には、例えば、シリカなどの酸化ケイ素、アルミナなどの酸化アルミニウム、チタニアなどの酸化チタン、酸化インジウム、酸化スズ、酸化インジウムスズ（「ＩＴＯ」）、酸化タンタル、酸化ジルコニウム、酸化ニオビウム、炭化ホウ素、炭化タングステン、炭化ケイ素、窒化アルミニウム、窒化ケイ素、窒化ホウ素、酸化窒化アルミニウム、酸化窒化ケイ素、酸化窒化ホウ素、酸化ホウ化ジルコニウム、酸化ホウ化チタン、及びこれらの組み合わせなどの金属酸化物、金属窒化物、金属炭化物、金属酸化窒化物、金属酸化ホウ化物、及びこれらの組み合わせが挙げられる。酸化インジウムスズ、酸化ケイ素、酸化アルミニウム、及びこれらの組み合わせは、特に好ましい無機バリア材料である。ＩＴＯは、それぞれの元素成分の相対的比率を適切に選択することによって導電性になり得るセラミック材料の特別な種類の一例である。無機バリア層は、好ましくは、スパッタリング（例えば、カソード又は平面マグネトロンスパッタリング）、蒸着（例えば、抵抗又は電子ビーム蒸着）、化学蒸着、プラズマ蒸着、原子層蒸着（ＡＬＤ）、めっきなどのフィルム金属化技術に採用される技術を使用して形成される。最も好ましくは、無機バリア層は、例えば反応性スパッタリングなどのスパッタリングを使用して形成される。従来の化学蒸着プロセスなどの低エネルギー技術と比較して、スパッタリングなどの高エネルギー蒸着技術によって無機層が形成される際のバリア特性の向上が観察されている。理論に束縛されるものではないが、向上した特性は、凝縮種が基材により大きな運動エネルギーで到達し、圧縮の結果として空隙率の低下が得られることによると考えられる。各無機バリア層の潤滑性及び連続性、並びにそれらの下地層に対する接着性は、第１ポリマー層において参照して記載されるような前処理（例えば、プラズマ前処理）により向上され得る。
第１バリア層１１６及び第２バリア層１２６は同じ厚さでなくてもよい。各無機バリア層の望ましい化学組成及び厚さは、下地層の性質及び表面トポグラフィーに部分的に依存し、バリアアセンブリの望ましい光学特性に依存するであろう。無機バリア層は、バリアアセンブリとアセンブリを含む物品とが、所望の程度の可視光透過度及び可撓性を有するように連続しかつ十分薄いことが好ましい。好ましくは、各無機バリア層の物理的厚さ（光学的厚さとは対称的に）は約３〜約１５０ｎｍ、より好ましくは約４〜約７５ｎｍである。
第１外部ポリマー層１１８及び第２外部ポリマー層１２８は、同じであっても異なっていてもよく、第１ポリマー平滑化層１１４及び第２ポリマー平滑化層１２４と同じ材料を含み得る。１つの特定の実施形態では、第１外部ポリマー層１１８及び第２外部ポリマー層１２８は、各々が発光層１３０と同じポリマー材料を少なくともいくつか含み得る。第１外部ポリマー層１１８及び第２外部ポリマー層１２８は、各層にＵＶ又は可視光と相互作用して重合を開始し得る少なくとも１つの光開始剤を更に含む。第１外部ポリマー層１１８及び第２外部ポリマー層１２８は、それぞれ第１バリア層１１６及び第２バリア層１２６の表面に、第１外部ポリマー層１１８及び第２外部ポリマー層１２８が、ＵＶ又は可視光源を使用して架橋される以外は、それぞれ第１基材及び第２基材上への第１ポリマー平滑化層１１４及び第２ポリマー平滑化層１２４の形成に関して上述されているのと同じ技術のいずれかを使用して、形成され得る。
１つの特定の実施形態では、使用されるＵＶ源の露光波長は、２５４ｎｍにおける発光が強く、２２０ｎｍ未満では実質的に発光がない低圧アマルガムランプによって生成される２５４ｎｍであり得る。使用される光開始剤は、２５４ｎｍで強く吸収され得る。ＵＶ源のピークパワー密度は、０．５ｍＷ／ｃｍ２であってよく、用量（硬化における露光）は、約０．０５〜約４ｍＪ／ｃｍ２、又は約０．１〜約２ｍＪ／ｃｍ２、又は約０．１〜約１ｍＪ／ｃｍ２であり得る。ある場合では、用量は、典型的なプロセス条件のもと、ＥＩＴ ＵＶ ＰｏｗｅｒＭＡＰ（登録商標）（ＥＩＴ Ｉｎｃ．（Ｓｔｅｒｌｉｎｇ ＶＡ）から入手可能）を作動することで測定され得る。
いくつかの場合では、長波長域のＵＶが重合には有用であり得るが、短波長照射は一般的には避けるべきである。例えば、ＬＥＤランプは３８５ｎｍにおいて発光し、ＴＰＯ系（例えば、２，４，６−トリメチルベンゾイルジフェニルホスフィンオキシド）光開始剤は、ＵＶ−Ａ光とのフリーラジカル反応を開始するＴＰＯ光開始剤（potoinitiator）として使用され得る。この場合、エネルギー密度はアマルガムランプと同様となるが、これはＴＰＯが可視光も吸収し、重合を開始することがあるためにあまり実用的でなく、製造においては望ましくない。他の光開始剤、例えば、ＥＳＡＣＵＲＥ ＯＮＥ及びＥＳＡＣＵＲＥ ＫＢ１（いずれもＬａｍｂｅｒｔｉ Ｓ．ｐ．Ａ．，Ｉｔａｌｙから入手可能）；Ｉｒｇａｃｕｒｅ １８４、Ｄａｒｏｃｕｒ ４２６５、及びＤａｒｏｃｕｒ １１７３（ＢＡＳＦ Ｒｅｓｉｎｓから入手可能）などを使用することが可能であり、当業者に既知である異なる光波長及び一般的には最大約３重量％の濃度で使用するのに好適である。
１つの特定の実施形態では、任意の光開始剤が架橋性ポリマー層に付加され得る。阻害剤が存在することで、ポリマー層が、加工中に巻き上げられるバリア層である隣接層に接着する傾向が削減され得る。重合に必要な量が非常に少ないため、並びに、バリアフィルムは真空中での蒸着アクリレートの加工を含むため、ロール内に若干の「ブロッキング」（すなわち、自身への固着）が観察された。この「ブロック」する傾向を克服するために、阻害剤は約２５０ｐｐｍの濃度でアクリレート層にブレンドされ得る。阻害剤の付加は、すぐに加工されうるバリアフィルムロールには必要ではないかもしれないが、より長い貯蔵期間及びより長いロールにも必要であり得る。ある場合では、阻害剤は、例えば、４−ヒドロキシ−ＴＥＭＰＯ（４−ヒドロキシ−２，２，６，６−テトラメチルピペリジン−１−オキシル（Ｓｉｇｍａ−Ａｌｄｒｉｃｈから入手可能）であり得るが、当業者に既知である他の阻害剤が使用されても良い。他の阻害剤としては、例えば、ヒドロキノン（ＨＱ）、メトキシフェノール（ＭＥＨＱ）、カテコール、ピロカテコール、レゾルシノール、ピロガロール、没食子酸プロピルなどのフェノール類、及びこれら全ての誘導体；ベンゾキノン、アントラキノンなどのキニーネ類；銅粉末、ＣｕＣｌ、ＭｎＡｃなどの金属塩（４−ヒドロキシＴＥＭＰＯとの組み合わせ）；ＮＰＡＬ［トリス（Ｎ−ニトロソ、Ｎ−フェニルヒドロキシルアミン）アルミニウム塩（Ｆｉｒｓｔ Ｃｈｅｍｉｃａｌ Ｃｏｒｐ．から入手可能）］、ＮＰＨＡ又はクペロン（上述の水溶性アンモニウム塩）などのニトロソ類；フェノチアジン（ＰＴＺ）、Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラメチルフェニレンジアミン、インジュリン及び類似体などの芳香族アミン；ジエチルヒドロキシルアミン及び類似体、並びにサリチルアルドキシムなどのヒドロキシルアミン；及び４−ヒドロキシＴＥＭＰＯ（ＣＩＢＡ Ｐｒｏｓｔａｂ）及びガルビノキシルなどのフリーラジカル類；及びこれらの誘導体が挙げられる。いくつかの場合では、阻害剤の組み合わせは、ジエチルヒドロキシルアミン及びテトラメチルフェニレンジアミン（各５〜５０ｐｐｍ）；サリチルアルドキシム及びテトラメチルフェニレンジアミン（各５〜５０ｐｐｍ）；酢酸マンガン及び４−ヒドロキシＴＥＭＰＯ（各５〜１０ｐｐｍ）；及びＮＰＡＬ及びＰＴＺなどが有利であり得る。
更には、４−ヒドロキシ−ＴＥＭＰＯは、嫌気条件下において、フリーラジカルを阻害するのに効果的な阻害剤であるように見える。すでにモノマー中に阻害剤（ＭｅＨＱ）が存在するが、この阻害剤は効果的であるためには酸素を必要とするために、大気での加工直後のロールの包装を解くことはブロッキングを防ぐのにも効果的であり得る。
１つの特定の実施形態では、シランカップリング剤などのカップリング剤は、第１バリアフィルム１１０及び／又は第２バリアフィルム１２０の第１ポリマー平滑化層１１４及び／又は第２ポリマー平滑化層１２４並びに第１外部ポリマー層１１８及び／第２外部ポリマー層１２８に任意に付加されて、バリアスタック内の接着性が向上する。有用なカップリング剤は、例えば、同時継続中の米国特許出願公開第２０１２／０２０８０３３号及び同第２０１２／００３４８４号に記載され、並びに「Ｖａｐｏｒ−ｄｅｐｏｓｉｔｅｄ Ｃｏａｔｉｎｇ ｆｏｒ Ｂａｒｒｉｅｒ Ｆｉｌｍｓ ａｎｄ Ｍｅｔｈｏｄｓ ｏｆ Ｍａｋｉｎｇ ａｎｄ Ｕｓｉｎｇ ｔｈｅ Ｓａｍｅ」という題目の米国特許出願第６１／４３７８５０号（代理人整理番号：６７０３４ＵＳ００２（２０１１年１月３１日出願））；「Ｃｏｍｐｏｓｉｔｅ Ｆｉｌｍｓ Ｉｎｃｌｕｄｉｎｇ ａ（Ｃｏ）ｐｏｌｙｍｅｒ Ｒｅａｃｔｉｏｎ Ｐｒｏｄｕｃｔ ｏｆ ａ Ｕｒｅｔｈａｎｅ（Ｍｕｌｔｉ）−（ｍｅｔｈ）ａｃｒｙｌａｔｅ（Ｍｕｌｔｉ）−ｓｉｌａｎｅ」という題目の米国特許出願第６１／６８０９９５号（代理人整理番号：７０１４３ＵＳ００２（２０１２年８月８日出願））；「Ｂａｒｒｉｅｒ Ｆｉｌｍ，Ｍｅｔｈｏｄ ｏｆ Ｍａｋｉｎｇ ｔｈｅ Ｂａｒｒｉｅｒ Ｆｉｌｍ，ａｎｄ Ａｒｔｉｃｌｅｓ Ｉｎｃｌｕｄｉｎｇ ｔｈｅ Ｂａｒｒｉｅｒ Ｆｉｌｍ」という題目の米国特許出願第６１／６８０９５５号（代理人整理番号：７０１６９ＵＳ００２（２０１２年８月８日））；及び「Ｂａｒｒｉｅｒ Ｆｉｌｍ Ｃｏｎｓｔｒｕｃｔｉｏｎｓ ａｎｄ Ｍｅｔｈｏｄｓ ｏｆ Ｍａｋｉｎｇ Ｓａｍｅ」という題目の米国特許出願第６１／６８０９６３号（代理人整理番号：７０１６８ＵＳ００３（２０１２年８月８日出願））にも記載されている。いくつかの場合では、Ｎ−ｎ−ブチル−アザ−２，２−ジメトキシシラシクロペンタン（Ｇｅｌｅｓｔ，Ｉｎｃ．，（Ｍｏｒｒｉｓｖｉｌｌｅ，ＰＡ）から入手可能）などの環状アザシランが特に有用であることが見出されているが、当業者に既知の他のカップリング剤も使用され得る。
発光層１３０は、当業者に既知であるように、量子ドット材料とポリマーマトリクスとを混和し、マトリクスを重合及び／又は架橋することで調製され得る。量子ドット材料は、１つ以上の量子ドット材料の集団を含み得る。例示的な量子ドット又は量子ドット材料は、青色ＬＥＤからの青原色光のダウンコンバージョンの際に、緑色光及び赤色光を発光し、量子ドットによって二次発光する。赤色光、緑色光、及び青色光のそれぞれの部分は、量子ドットフィルム物品を組み込んだディスプレイ装置によって発光される白色光のための所望の白色点を達成するように調節され得る。本明細書に記載される量子ドットフィルム物品に使用する例示的な量子ドットは、ＺｎＳシェルを有するＣｄＳｅを含む。本明細書に記載される量子ドットフィルム物品に使用するのに好適な量子ドットとしては、ＣｄＳｅ／ＺｎＳ、ＩｎＰ／ＺｎＳ、ＰｂＳｅ／ＰｂＳ、ＣｄＳｅ／ＣｄＳ、ＣｄＴｅ／ＣｄＳ又はＣｄＴｅ／ＺｎＳを含むコア／シェル発光性ナノクリスタルを含む。例示的な実施形態では、発光性ナノクリスタルは、外部リガンドコーティングを含み、ポリマーマトリクス中に分散されている。量子ドット及び量子ドット材料は、Ｎａｎｏｓｙｓ Ｉｎｃ．（Ｐａｌｏ Ａｌｔｏ，ＣＡ）から市販されている。量子ドット層は、任意の有用な量の量子ドットを有し得る。多くの実施形態では、量子ドット層は、０．１〜１重量％の量子ドットを有し得る。
１つ以上の実施形態では、量子ドット材料は、拡散ビーズ又は粒子を含み得る。これらの拡散ビーズ又は粒子は、少なくとも０．０５又は少なくとも０．１など、エポキシポリマーの屈折率とは異なる屈折率を有する。これらの拡散ビーズ又は粒子は、シリコーン、アクリル、ナイロンなどのポリマーを含み得る。これらの拡散ビーズ又は粒子は、ＴｉＯ２，ＳｉＯｘ，ＡｌＯｘなどの無機物を含み得る。拡散粒子を含有することで、光路長が長くなり、量子ドット吸収及び効率が向上し得る。多くの実施形態では、粒径は、１〜１０マイクロメートル、又は２〜６マイクロメートルの範囲である。多くの実施形態では、量子ドット材料は、ヒュームドシリカなどのフィルターを含み得る。
発光層１３０中のポリマーマトリクスは、量子ドット材料と適合性のある任意の好適なポリマーであってよく、例えば、第１ポリマー平滑化層１１４及び第２ポリマー平滑化層１２４、及び第１外部ポリマー層１１８及び第２外部ポリマー層１２８に関して他で記載される任意の（メタ）アクリレートであり得る。１つの特定の実施形態では、第１外部ポリマー層１１８及び第２外部ポリマー層１２８の両方におけるポリマーのうち少なくとも１つと発光層１３０とは同じである。
図２は、本開示の１つの態様による、発光蔵置２００を形成するためのプロセス２０１を示す。図２に示される要素２００〜２３２の各々は、前述されている図１に示される同様に番号付けされた要素１００〜１３２に対応する。発光層２３０は、ロールから解かれるか、ダイから延伸されるか又はコーティングされるか、あるいは他の方法で提供（発光層２３０を提供する技術は図示せず）されてよく、対向する第１積層ローラー２４２及び第２積層ローラー２４４を有するラミネーター２４０を通って方向２０２に進む。第１バリアフィルム及び任意の第２バリアフィルム２１０、２２０も、ロールから解かれ（図示せず）、ラミネーター２４０に入り、発光層２３０のそれぞれ第１主表面２３１と対向する第２主表面２３２とが接触するように押圧され、未硬化積層体２０３を形成する。未硬化積層体２０３は硬化装置２５０を通過し、ここで、好ましくはＵＶ源である１つ以上の照射源２５２、２５４が未硬化積層体２０３に照射され、発光装置２００を形成する。
（実施例１）
米国特許第５，４４０，４４６号（Ｓｈａｗら）及び同第７，０１８，７１３号（Ｐａｄｉｙａｔｈら）に記載されている塗布機と同様の真空塗布機上でバリアアセンブリを調製した。超音波霧化法及びフラッシュ蒸発法を使用して、トリシクロデカンジメタノールジアクリレート（ＳＲ８３３Ｓ、Ｓａｒｔｏｍｅｒ）のコーティング前駆体溶液を気化し、２ミル（５０マイクロメートル）厚×１４インチ（３６ｃｍ）幅のＰＥＴ基材上にコーティングして、コーティング幅を１２．５インチ（３２ｃｍ）にした。このベースアクリレート層を、１６ｆｐｍ（５ｍ／分）の一定のライン速度でコーティングした。続けて、コーティングを７．０ｋＶ及び４．０ｍＡで電子ビームを作動させた直下流で硬化した。エバポレーターへの液体の流速は１．３３ｍＬ／分であり、ガスの流速は６０ｓｃｃｍであり、エバポレーターの温度は２６０℃であった。加工ドラム温度は０℃であった。硬化プロセスの直下流、続く反応性ＡＣスパッタリングプロセスで、３０ｎｍのケイ素／アルミニウム酸化物コーティングを蒸着した（５ｋＷの電力）。米国特許出願公開第２０１２／０２０８０３３号に記載される霧化器／フラッシュ蒸発プロセスを使用する以外は、三次インライン処理によって、第１層と同様の方法で第２アクリレート（表面）層を蒸着した。第２アクリレート層は、３重量％のアザシラン（Ｎ−ｎ−ブチル−アザ−２，２−ジメトキシシラシクロペンタン（Ｇｅｌｅｓｔ，Ｉｎｃ．，Ｍｏｒｒｉｓｖｉｌｌｅ，ＰＡ）を含むＳＲ８３３Ｓと１重量％のＩＲＧＡＣＵＲＥ １８４（ＢＡＳＦ（Ｆｌｏｒｈａｍ Ｐａｒｋ，ＮＪ）から入手可能な光開始剤）との混合物を含有するものであった。液体の流速は、１．３３ｍＬ／分であって、ガス流速は６０ｓｃｃｍであって、エバポレーター温度は２６０℃であった。続けて、コーティングを２５４ｎｍでの高発光（約０．５Ｗ／ｍ２）と２２０ｎｍ以下の最小発光の３００Ｗの水銀アマルガム紫外線源を含む直下流で硬化した。硬化中のラインスピードを変更させることで、ＵＶ放射の露光時間を変更した。
積層フィルム構造体を次のように調製した。表１に示されるビスフェノール−Ａ系ジアクリレート混合物（ＥＢＥＣＲＹＬ ３６００、１１４及び１３０（全てＣｙｔｅｃ Ｉｎｄｕｓｔｒｉｅｓ，Ｉｎｃ．（Ｗｏｏｄｌａｎｄ Ｐａｒｋ，ＮＪ）から入手可能）及びＤＡＲＯＣＵＲ ４２６５（ＢＡＳＦ（Ｆｌｏｒｈａｍ Ｐａｒｋ，ＮＪ）から入手可能）の１００μｍ厚の層を、２つのバリアフィルム層の間にコーティングした。続けて、この構造体を、３０ｆｐｍ（９．１ｍ／分）で高出力Ｆｕｓｉｏｎ Ｆ６００ Ｄバルブ（Ｆｕｓｉｏｎ ＵＶ Ｓｙｓｔｅｍｓ，Ｉｎｃ．（Ｇａｉｔｈｅｒｓｂｕｒｇ，ＭＤ）から市販されている）でＵＶ硬化した。
Figure 2016525234
ＭＯＣＯＮ ＰＥＲＭＡＴＲＡＮ−Ｗ（Ｒ）Ｍｏｄｅｌ ７００ ＷＶＴＲ試験システム（ＭＯＣＯＮ，Ｉｎｃ．（Ｍｉｎｎｅａｐｏｌｉｓ，ＭＮ）から市販されている）によって、バリアフィルムの５０℃における水蒸気透過を試験した。以下で試験される本実施例の検出制限は、０．００５ｇ／ｍ２／日である。
積層フィルム構造体を、ＰｅｒｋｉｎＥｌｍｅｒ Ｌａｍｂｄａ ９００（ＰｅｒｋｉｎＥｌｍｅｒ，Ｉｎｃ．（Ｗａｌｔｈａｍ，ＭＡ）から入手可能）を使用して測定し、４００〜８００ｎｍで９０％の平均透過率を示した。ＡＳＴＭ Ｄ１８７６−０８「Ｓｔａｎｄａｒｄ Ｔｅｓｔ Ｍｅｔｈｏｄ ｆｏｒ Ｐｅｅｌ Ｒｅｓｉｓｔａｎｃｅ ｏｆ Ａｄｈｅｓｉｖｅｓ（Ｔ−Ｐｅｅｌ Ｔｅｓｔ）」にしたがって、積層フィルム構造体の剥離強度を試験した。３００Ｗ水銀アマルガムＵＶ源への露光時間が約０．１〜約０．５秒である際、剥離強度は約２００ｇ／インチ（２００ｇ／２５ｍｍ）を超え、露光時間が約１．５秒を超える際、剥離強度は１００ｇ／インチ（１００ｇ／２５ｍｍ）以下であった。
比較例Ｃ−１
バリアフィルムの第２（表面）アクリレート層の硬化に電子ビーム（ＥＢ）照射を使用する以外、実施例１に記載されるのと同様の方法でバリアフィルムを構成した。１００μｍ厚のアクリレートコーティングを有する、このバリアフィルムのサンプルを使用して、実施例１と同じように積層フィルム構造体を調製した。表２に示されるように、この構造体は良好なバリア性能を与えるが、電子ビーム硬化バリアフィルム間での相互接着性が低く、１００μｍ厚のアクリレートコーティングを有していた。
比較例Ｃ−２
１８５ｎｍ及び２５４ｎｍで高出力を有する３００ＷのＵＶ照射源を使用してバリアフィルムの第２（表面）アクリレート層を硬化する以外、実施例１に記載されるのと同様の方法でバリアフィルムを構成した。１００μｍ厚のアクリレートコーティングを有する、このバリアフィルムのサンプルを使用して、実施例１と同じように積層フィルム構造体を調製した。表２に示されるように、この構造体は良好なバリア性能を与えるが、１８５ｎｍのＵＶ硬化バリアフィルム間での相互接着性が低く、１００μｍ厚のアクリレートコーティングを有していた。
比較例Ｃ−３
第２（表面）アクリレートの硬化持続時間が約２秒以下である以外、実施例１に記載されるのと同じ方法でバリアフィルムを構成した。１００μｍ厚のアクリレートコーティングを有する、このバリアフィルムのサンプルを使用して、実施例１と同じように積層フィルム構造体を調製した。表２に示されるように、この構造体は良好なバリア性能を与えるが、長持続時間ＵＶ硬化バリアフィルム間での相互接着性が低く、１００μｍ厚のアクリレートコーティングを有していた。
実施例１及び比較例Ｃ−２〜Ｃ−３のサンプルにおいて、ＡＳＴＭ Ｄ１８７６−０８「Ｓｔａｎｄａｒｄ Ｔｅｓｔ Ｍｅｔｈｏｄ ｆｏｒ Ｐｅｅｌ Ｒｅｓｉｓｔａｎｃｅ ｏｆ Ａｄｈｅｓｉｖｅｓ（Ｔ−Ｐｅｅｌ Ｔｅｓｔ）」にしたがって剥離強度を試験し、ＭＯＣＯＮ ＰＥＲＭＡＴＲＡＮ−Ｗ（Ｒ）Ｍｏｄｅｌ ７００ ＷＶＴＲ試験システムによって、５０℃における水蒸気透過率を試験した。結果を以下の表２及び３に記録した。
Figure 2016525234
接着力と用量とに、反比例関係が観察された。典型的な電子ビーム硬化からのデータから、５ｇ／インチ（０．０２Ｎ／ｃｍ）未満の剥離力という結果が得られた。以下の表３は、実施例１及び比較例Ｃ−３における剥離力対ＵＶ源における露光時間を示し、２２０ｎｍ未満の最小出力であり、実施例Ｃ−２のＵＶ源は、１８５ｎｍにおいて著しい出力を有するものであった。
Figure 2016525234
（実施例２）
実施例１に記載するのと同様の方法でバリアフィルムを構成した。次に、約２ミル（５０マイクロメートル）のホットメルトエチレン酢酸アセテート（ＥＶＡ）接着剤でバリアフィルムを塗布した。実施例１で使用されるＰＥＴ基材をＥＶＡ接着層に接着した後、ＡＳＴＭ Ｄ１８７６−０８「Ｓｔａｎｄａｒｄ Ｔｅｓｔ Ｍｅｔｈｏｄ ｆｏｒ Ｐｅｅｌ Ｒｅｓｉｓｔａｎｃｅ ｏｆ Ａｄｈｅｓｉｖｅｓ（Ｔ−Ｐｅｅｌ Ｔｅｓｔ）」にしたがって剥離強度を試験することで、接着力を試験した。検討される全塗布用量において、電子ビーム硬化アクリレートのコーティングプロセス中では、低接着力が観察された。２５４ｎｍの高出力及び２２０ｎｍ未満の最小出力を有する実施例１のＵＶ源を使用して、０．１〜０．５秒の露光時間でＵＶ硬化したバリアフィルムにおいて、良好な接着力（約２００ｇ／インチ（０．８Ｎ／ｃｍ）を超える剥離強度）が観察された。
以下は、本開示の実施形態のリストである。
項目１は、装置であって、第１バリア層及び第２バリア層であって、各々が少なくとも１つの外部ポリマー層を含み、各外部ポリマー層は接着剤接触面を有する、第１バリア層及び第２バリア層と、第１バリア層と第２バリア層との間に配設されたポリマーマトリクスを含む発光層であって、それぞれの接着剤接触面と発光層とが接触している、発光層と、を含み、第１バリア層及び第２バリア層と発光層との間の剥離接着力が、少なくとも１００グラム／インチ（０．４ニュートン／センチメートル）である、装置である。
項目２は、第１バリア層及び第２バリア層と発光層との間の剥離接着力が、少なくとも２００グラム／インチ（０．８ニュートン／センチメートル）である、項目１に記載の装置である。
項目３は、第１バリア層及び第２バリア層の各々が、少なくとも１つの無機酸化物層を更に含む、項目１又は項目２に記載の装置。
項目４は、第１バリア層及び第２バリア層のうちの少なくとも１つが、可撓性ガラス、金属箔、又はポリマーフィルムから選択される基材を更に含む、項目１〜項目３に記載の装置である。
項目５は、発光層が、少なくとも１つの量子ドットを更に含む、項目１〜項目４に記載の装置である。
項目６は、ポリマーマトリクスが、硬化性（メタ）アクリレート、硬化性エポキシ、又はこれらの組み合わせを含む、項目１〜項目５に記載の装置である。
項目７は、発光層及び各外部ポリマー層が、互いに接触しながら硬化される、項目１〜項目６に記載の装置である。
項目８は、各外部ポリマー層が、放射線硬化（メタ）アクリレート、及び任意にシランカップリング剤を含む、項目１〜項目７に記載の装置である。
項目９は、紫外線（ＵＶ）光源、可視光源、熱源、又はこれらの組み合わせを使用して、発光層及び各外部ポリマー層が一緒に硬化される、項目１〜項目８に記載の装置である。
項目１０は、装置であって、対向する第１主表面及び第２主表面を有する基材と、第２主表面に隣接する無機酸化物層と、第２主表面と無機酸化物層との間の平滑化ポリマー層と、無機酸化物層上に、平滑化ポリマー層に対向して配設される外部ポリマー層と、を含むバリアフィルムと、外部ポリマー層に隣接して配設される結合層と、を含み、バリアフィルムと結合層との間の剥離接着力が、少なくとも１００グラム／インチ（０．４ニュートン／センチメートル）である、装置である。
項目１１は、平滑化ポリマー層は、電子ビーム硬化（メタ）アクリレートを含む、項目１０に記載の装置である。
項目１２は、結合層が、放射線硬化（メタ）アクリレート、及び任意にシランカップリング剤を含む、項目１０又は項目１１に記載の装置である。
項目１３は、外部ポリマー層が、ＵＶ硬化（メタ）アクリレート、及び任意にシランカップリング剤を含む、項目１０〜項目１２に記載の装置である。
項目１４は、バリアフィルムと結合層との間の剥離接着力が、少なくとも２００グラム／インチ（０．８ニュートン／センチメートル）である、項目１０〜項目１３に記載の装置である。
項目１５は、基材が、可撓性ガラス、金属箔、又はポリマーフィルムから選択される、項目１０〜項目１４に記載の装置である。
項目１６は、第２バリアフィルムを更に含み、第２バリアフィルムは、対向する第３主表面及び第４主表面を有する第２基材と、第４主表面に隣接する第２無機酸化物層と、第４主表面と第２無機酸化物層との間の第２平滑化ポリマー層と、第２無機酸化物層上に、第２平滑化ポリマー層に対向して配設される第２外部ポリマー層と、を含み、結合層が、第２無機酸化物層に隣接し、第２平滑化ポリマー層に対向して配設される、項目１０〜項目１５に記載の装置である。
項目１７は、第２平滑化ポリマー層が、電子ビーム硬化（メタ）アクリレートを含む、項目１６に記載の装置である。
項目１８は、第２外部ポリマー層が、ＵＶ硬化（メタ）アクリレート、及び任意にシランカップリング剤を含む、項目１６又は項目１７に記載の装置である。
項目１９は、第２基材が、可撓性ガラス、金属箔、又はポリマーフィルムから選択される、項目１６〜項目１８に記載の装置である。
項目２０は、結合層が、発光層を含む、項目１０〜１９に記載の装置である。
項目２１は、発光層が、少なくとも１つの量子ドットを更に含む、項目２０に記載の装置である。
項目２２は、結合層が、ホットメルト接着剤を含む、項目１０〜２１に記載の装置である。
項目２３は、ホットメルト接着剤が、エチレン酢酸ビニルを含む、項目２２の装置である。
項目２４は、減圧チャンバ中で外部放射線硬化性ポリマー層を含むバリアフィルムを形成する工程と、外部放射線硬化性ポリマー層を少なくとも部分的に硬化し、バリアフィルム上に接着剤接触面を形成する工程と、接着剤接触面上に結合層を形成する工程と、を含む、装置の形成方法である。
項目２５は、バリアフィルムが、接着剤接触面上に結合層を形成する前に、減圧チャンバから取り除かれる、項目２４に記載の方法である。
項目２６は、結合層がホットメルト接着層であり、結合層を形成する工程が、接着剤接触面上にホットメルト接着層を積層することか、又はコーティングすることを含む、項目２４又は項目２５に記載の方法である。
項目２７は、少なくとも部分的に硬化する工程には、紫外線（ＵＶ）硬化を含む、項目２４〜項目２６に記載の方法である。
項目２８は、外部放射線硬化性ポリマー層が、放射線硬化性（メタ）アクリレートを含む、項目２４〜項目２７に記載の方法である。
項目２９は、外部放射線硬化性ポリマー層が、シランカップリング剤を更に含む、項目２４〜項目２８に記載の方法である。
項目３０は、外部放射線硬化性ポリマー層が、重合阻害剤を更に含む、項目２４〜項目２９に記載の方法である。
項目３１は、重合開始剤が、嫌気性重合阻害剤を含む、項目３０に記載の方法である。
項目３２は、嫌気性重合阻害剤が、ジエチルヒドロキシアミン、テトラメチルフェニレンジアミン、サリチルアルドキシム、テトラメチルフェニレンジアミン、酢酸マンガン、４−ヒドロキシＴＥＭＰＯ、ＮＰＡＬ、又はフェノチアジン、及びこれらの組み合わせから選択される、項目３１に記載の方法である。
項目３３は、結合層及び外部放射線硬化性ポリマー層が、紫外線（ＵＶ）光源、可視光源、熱源、又はこれらの組み合わせを使用して、更に一緒に硬化される、項目２４〜項目３２に記載の方法である。
項目３４は、バリアフィルムが、外部放射線硬化性ポリマー層に対向する基材を含み、基材は、可撓性ガラス、金属箔、又はポリマーフィルムから選択される、項目２４〜項目３３に記載の方法である。
項目３５は、減圧チャンバ中で外部放射線硬化性ポリマー層を含むバリアフィルムを形成する工程と、外部放射線硬化性ポリマー層を少なくとも部分的に硬化し、バリアフィルム上に接着剤接触面を形成する工程と、バリアフィルムを硬化性ポリマーマトリクスを含む結合層に積層して、接着剤接触面を結合層に接触させる工程と、積層体を硬化する工程と、を含む、装置の形成方法である。
項目３６は、バリアフィルムが、結合層にバリアフィルムを積層する前に、減圧チャンバから取り除かれる、項目３５に記載の方法である。
項目３７は、少なくとも部分的に硬化する工程が、紫外線（ＵＶ）硬化を含む、項目３５又は項目３６に記載の方法である。
項目３８は、積層体を硬化する工程が、紫外線（ＵＶ）硬化、可視光放射硬化、電子ビーム硬化、又はこれらの組み合わせを含む、項目３５〜項目３７に記載の方法である。
項目３９は、結合層が、対向する第１主表面及び第２主表面を含み、バリアフィルムを積層する工程が、バリアフィルムを結合層の第１主表面及び第２主表面の各々に積層することを含む、項目３５〜項目３８に記載の方法である。
項目４０は、外部放射線硬化性ポリマー層が、放射線硬化性（メタ）アクリレートを含む、項目３５〜項目３９に記載の方法である。
項目４１は、外部放射線硬化性ポリマー層が、シランカップリング剤を更に含む、項目３５〜項目４０に記載の方法である。
項目４２は、外部放射線硬化性ポリマー層が、重合阻害剤を更に含む、項目３５〜項目４１に記載の方法である。
項目４３は、重合開始剤が、嫌気性重合阻害剤を含む、項目３５〜項目４２に記載の方法である。
項目４４は、嫌気性重合阻害剤が、ジエチルヒドロキシアミン、テトラメチルフェニレンジアミン、サリチルアルドキシム、テトラメチルフェニレンジアミン、酢酸マンガン、４−ヒドロキシＴＥＭＰＯ、ＮＰＡＬ、又はフェノチアジン、及びこれらの組み合わせから選択される、項目３５〜４３に記載の方法である。
項目４５は、結合層及び外部放射線硬化性ポリマー層が、紫外線（ＵＶ）光源、可視光源、熱源、又はこれらの組み合わせを使用して、一緒に硬化される、項目３５〜項目４４に記載の方法である。
項目４６は、硬化性ポリマーマトリクスが、（メタ）アクリレートモノマー及び少なくとも１つの量子ドットを含む、項目３５〜項目４５に記載の方法である。
項目４７は、バリアフィルムが、少なくとも１つの無機酸化物層を含む、項目３５〜項目４６に記載の方法である。
項目４８は、少なくとも部分的に硬化する工程が、約２５４ｎｍ付近を中心とする波長スペクトルを有し、２２０ｎｍ未満の波長で実質的に出力しない紫外線を使用することを含む、項目３５〜項目４７に記載の方法である。
項目４９は、少なくとも部分的に硬化する工程が、約０．５Ｗ／ｍ２未満の強度の紫外線に０．１秒〜１．５秒間露光することを含む、項目３５〜項目４８に記載の方法である。
項目５０は、少なくとも部分的に硬化する工程が、約０．５Ｗ／ｍ２の２５４ｎｍのＵＶ強度に約０．１秒〜約１．５秒間露光することを含む、項目３５〜項目４９に記載の方法である。
項目５１は、少なくとも部分的に硬化する工程が、可視光放射線硬化を使用することを含む、項目３５〜項目５０に記載の方法である。
項目５２は、バリアフィルムが、外部放射線硬化性ポリマー層に対向する基材を含み、基材は、可撓性ガラス、金属箔、又はポリマーフィルムから選択される、項目３５〜項目５１に記載の方法である。
項目５３は、項目１〜項目２３のうちのいずれか１つに記載の装置と、装置を照らすために配設される光と、光と装置との間に配設される液晶ディスプレイパネルと、を含む、ディスプレイである。
特に断らない限り、本明細書及び特許請求の範囲において使用される特徴の大きさ、量、及び物理特性を表す数値は全て、「約」という語によって修飾されているものとして理解すべきである。したがって、それと反対の指示がない限り、前述の明細書及び添付の特許請求の範囲内に示される数値パラメータは、本明細書に開示される教示を用いて当業者が得ようとする所望の特性に応じて変動し得る近似値である。
本明細書に引用される全ての参考文献及び刊行物は、それらが本開示と直接矛盾し得る場合を除き、それらの全容を参照によって本開示に明確に援用するものである。以上、本明細書において具体的な実施形態を図示、及び説明してきたが、示されかつ説明された具体的な実施形態を、様々な代替的かつ／又は等価的な実現形態で、本開示の範囲を逸脱することなく置き換えることができる点を、当業者であれば認識するであろう。本出願は、本明細書で考察された具体的な実施形態のいかなる適合例又は変形例をも網羅することを意図するものである。したがって、本開示は、特許請求の範囲及びその等価物によってのみ限定することが意図される。

Claims (53)

  1. 装置であって、
    第１バリア層及び第２バリア層であって、各々が少なくとも１つの外部ポリマー層を含み、各外部ポリマー層は接着剤接触面を有する、第１バリア層及び第２バリア層と、
    前記第１バリア層と前記第２バリア層との間に配設されたポリマーマトリクスを含む発光層であって、前記それぞれの接着剤接触面と前記発光層とが接触している、発光層と、を含み、
    前記第１バリア層及び前記第２バリア層と前記発光層との間の剥離接着力が、少なくとも１００グラム／インチ（０．４ニュートン／センチメートル）である、装置。
  2. 前記第１バリア層及び前記第２バリア層と発光層との間の剥離接着力が、少なくとも２００グラム／インチ（０．８ニュートン／センチメートル）である、請求項１に記載の装置。
  3. 前記第１バリア層及び第２バリア層の各々が、少なくとも１つの無機酸化物層を更に含む、請求項１に記載の装置。
  4. 前記第１バリア層及び第２バリア層のうちの少なくとも１つが、可撓性ガラス、金属箔、又はポリマーフィルムから選択される基材を更に含む、請求項１に記載の装置。
  5. 前記発光層が、少なくとも１つの量子ドットを更に含む、請求項１に記載の装置。
  6. 前記ポリマーマトリクスが、硬化性（メタ）アクリレート、硬化性エポキシ、又はこれらの組み合わせを含む、請求項１に記載の装置。
  7. 前記発光層及び前記各外部ポリマー層が、互いに接触しながら硬化される、請求項１に記載の装置。
  8. 前記各外部ポリマー層が、放射線硬化（メタ）アクリレート、及び任意にシランカップリング剤を含む、請求項１に記載の装置。
  9. 紫外線（ＵＶ）光源、可視光源、熱源、又はこれらの組み合わせを使用して、前記発光層及び前記各外部ポリマー層が一緒に硬化される、請求項１に記載の装置。
  10. 装置であって、
    対向する第１主表面及び第２主表面を有する基材と、
    前記第２主表面に隣接する無機酸化物層と、
    前記第２主表面と前記無機酸化物層との間の平滑化ポリマー層と、
    前記無機酸化物層上に、前記平滑化ポリマー層に対向して配設される外部ポリマー層と、
    を含むバリアフィルムと、
    前記外部ポリマー層に隣接して配設される結合層と、
    を含み、
    前記バリアフィルムと前記結合層との間の剥離接着力が、少なくとも１００グラム／インチ（０．４ニュートン／センチメートル）である、装置。
  11. 前記平滑化ポリマー層は、電子ビーム硬化（メタ）アクリレートを含む、請求項１０に記載の装置。
  12. 前記結合層が、放射線硬化（メタ）アクリレート、及び任意にシランカップリング剤を含む、請求項１０に記載の装置。
  13. 前記外部ポリマー層が、ＵＶ硬化（メタ）アクリレート、及び任意にシランカップリング剤を含む、請求項１０に記載の装置。
  14. 前記バリアフィルムと前記結合層との間の剥離接着力が、少なくとも２００グラム／インチ（０．８ニュートン／センチメートル）である、請求項１０に記載の装置。
  15. 前記基材が、可撓性ガラス、金属箔、又はポリマーフィルムから選択される、請求項１０に記載の装置。
  16. 第２バリアフィルムを更に含み、前記第２バリアフィルムは、
    対向する第３主表面及び第４主表面を有する第２基材と、
    前記第４主表面に隣接する第２無機酸化物層と、
    前記第４主表面と前記第２無機酸化物層との間の第２平滑化ポリマー層と、
    前記第２無機酸化物層上に、前記第２平滑化ポリマー層に対向して配設される第２外部ポリマー層と、を含み、
    前記結合層が、前記第２無機酸化物層に隣接し、前記第２平滑化ポリマー層に対向して配設される、請求項１０に記載の装置。
  17. 前記第２平滑化ポリマー層が、電子ビーム硬化（メタ）アクリレートを含む、請求項１６に記載の装置。
  18. 前記第２外部ポリマー層が、ＵＶ硬化（メタ）アクリレート、及び任意にシランカップリング剤を含む、請求項１６に記載の装置。
  19. 前記第２基材が、可撓性ガラス、金属箔、又はポリマーフィルムから選択される、請求項１６に記載の装置。
  20. 前記結合層が、発光層を含む、請求項１０に記載の装置。
  21. 前記発光層が、少なくとも１つの量子ドットを更に含む、請求項２０に記載の装置。
  22. 前記結合層が、ホットメルト接着剤を含む、請求項１０に記載の装置。
  23. 前記ホットメルト接着剤が、エチレン酢酸ビニルを含む、請求項２２に記載の装置。
  24. 減圧チャンバ中で外部放射線硬化性ポリマー層を含むバリアフィルムを形成する工程と、
    前記外部放射線硬化性ポリマー層を少なくとも部分的に硬化し、前記バリアフィルム上に接着剤接触面を形成する工程と、
    前記接着剤接触面上に結合層を形成する工程と、を含む、装置の形成方法。
  25. 前記バリアフィルムが、前記接着剤接触面上に前記結合層を形成する前に、前記減圧チャンバから取り除かれる、請求項２４に記載の方法。
  26. 前記結合層がホットメルト接着層であり、前記結合層を形成する工程が、前記接着剤接触面上に前記ホットメルト接着層を積層することか、又はコーティングすることを含む、請求項２４に記載の方法。
  27. 前記少なくとも部分的に硬化する工程が、紫外線（ＵＶ）硬化を含む、請求項２４に記載の方法。
  28. 前記外部放射線硬化性ポリマー層が、放射線硬化性（メタ）アクリレートを含む、請求項２４に記載の方法。
  29. 前記外部放射線硬化性ポリマー層が、シランカップリング剤を更に含む、請求項２４に記載の方法。
  30. 前記外部放射線硬化性ポリマー層が、重合阻害剤を更に含む、請求項２４に記載の方法。
  31. 前記重合阻害剤が、嫌気性重合阻害剤を含む、請求項３０に記載の方法。
  32. 前記嫌気性重合阻害剤が、ジエチルヒドロキシアミン、テトラメチルフェニレンジアミン、サリチルアルドキシム、テトラメチルフェニレンジアミン、酢酸マンガン、４−ヒドロキシＴＥＭＰＯ、ＮＰＡＬ、又はフェノチアジン、及びこれらの組み合わせから選択される、請求項３１に記載の方法。
  33. 前記結合層及び前記外部放射線硬化性ポリマー層が、紫外線（ＵＶ）光源、可視光源、熱源、又はこれらの組み合わせを使用して、更に一緒に硬化される、請求項２４に記載の方法。
  34. 前記バリアフィルムが、前記外部放射線硬化性ポリマー層に対向する基材を含み、前記基材は、可撓性ガラス、金属箔、又はポリマーフィルムから選択される、請求項２４に記載の方法。
  35. 減圧チャンバ中で外部放射線硬化性ポリマー層を含むバリアフィルムを形成する工程と、
    前記外部放射線硬化性ポリマー層を少なくとも部分的に硬化し、前記バリアフィルム上に接着剤接触面を形成する工程と、
    前記バリアフィルムを硬化性ポリマーマトリクスを含む結合層に積層して、前記接着剤接触面を前記結合層に接触させる工程と、
    前記積層体を硬化する工程と、を含む、装置の形成方法。
  36. 前記バリアフィルムが、前記結合層に前記バリアフィルムを積層する前に、前記減圧チャンバから取り除かれる、請求項３５に記載の方法。
  37. 前記少なくとも部分的に硬化する工程が、紫外線（ＵＶ）硬化を含む、請求項３５に記載の方法。
  38. 前記積層体を硬化する工程は、紫外線（ＵＶ）硬化、可視光放射硬化、電子ビーム硬化、又はこれらの組み合わせを含む、請求項３５に記載の方法。
  39. 前記結合層が、対向する第１主表面及び第２主表面を含み、前記バリアフィルムを積層する工程が、前記バリアフィルムを前記結合層の前記第１主表面及び前記第２主表面の各々に積層することを含む、請求項３５に記載の方法。
  40. 前記外部放射線硬化性ポリマー層が、放射線硬化性（メタ）アクリレートを含む、請求項３５に記載の方法。
  41. 前記外部放射線硬化性ポリマー層が、シランカップリング剤を更に含む、請求項３５に記載の方法。
  42. 前記外部放射線硬化性ポリマー層が、重合阻害剤を更に含む、請求項３５に記載の方法。
  43. 前記重合阻害剤が、嫌気性重合阻害剤を含む、請求項４２に記載の方法。
  44. 前記嫌気性重合阻害剤が、ジエチルヒドロキシアミン、テトラメチルフェニレンジアミン、サリチルアルドキシム、テトラメチルフェニレンジアミン、酢酸マンガン、４−ヒドロキシＴＥＭＰＯ、ＮＰＡＬ、又はフェノチアジン、及びこれらの組み合わせから選択される、請求項４３に記載の方法。
  45. 前記結合層及び前記外部放射線硬化性ポリマー層が、紫外線（ＵＶ）光源、可視光源、熱源、又はこれらの組み合わせを使用して、一緒に硬化される、請求項３５に記載の方法。
  46. 前記硬化性ポリマーマトリクスが、（メタ）アクリレートモノマー及び少なくとも１つの量子ドットを含む、請求項３５に記載の方法。
  47. 前記バリアフィルムが、少なくとも１つの無機酸化物層を含む、請求項３５に記載の方法。
  48. 前記少なくとも部分的に硬化する工程が、約２５４ｎｍ付近を中心とする波長スペクトルを有し、２２０ｎｍ未満の波長で実質的に出力しない紫外線を使用することを含む、請求項３５に記載の方法。
  49. 前記少なくとも部分的に硬化する工程が、約０．５Ｗ／ｍ２未満の強度の紫外線に０．１秒〜１．５秒間露光することを含む、請求項３５に記載の方法。
  50. 前記少なくとも部分的に硬化する工程が、約０．５Ｗ／ｍ２の２５４ｎｍのＵＶ強度に約０．１秒〜約１．５秒間露光することを含む、請求項３５に記載の方法。
  51. 前記少なくとも部分的に硬化する工程が、可視光放射線硬化を使用することを含む、請求項３５に記載の方法。
  52. 前記バリアフィルムが、前記外部放射線硬化性ポリマー層に対向する基材を含み、前記基材は、可撓性ガラス、金属箔、又はポリマーフィルムから選択される、請求項３５に記載の方法。
  53. 請求項１、請求項１０、又は請求項１６に記載の装置と、
    前記装置を照らすために配設される光と、
    前記光と前記装置との間に配設される液晶ディスプレイパネルと、を含む、ディスプレイ。
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