CN108987610B - 粘性阻挡膜构造 - Google Patents

粘性阻挡膜构造 Download PDF

Info

Publication number
CN108987610B
CN108987610B CN201810883226.9A CN201810883226A CN108987610B CN 108987610 B CN108987610 B CN 108987610B CN 201810883226 A CN201810883226 A CN 201810883226A CN 108987610 B CN108987610 B CN 108987610B
Authority
CN
China
Prior art keywords
layer
item
barrier film
barrier
polymer layer
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Active
Application number
CN201810883226.9A
Other languages
English (en)
Other versions
CN108987610A (zh
Inventor
约瑟夫·M·彼佩尔
埃里克·W·纳尔逊
弗雷德·B·麦考密克
卡里萨·L·埃克特
亚当·M·内布拉斯卡
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
3M Innovative Properties Co
Original Assignee
3M Innovative Properties Co
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 3M Innovative Properties Co filed Critical 3M Innovative Properties Co
Publication of CN108987610A publication Critical patent/CN108987610A/zh
Application granted granted Critical
Publication of CN108987610B publication Critical patent/CN108987610B/zh
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Images

Classifications

    • H—ELECTRICITY
    • H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
    • H10K50/00—Organic light-emitting devices
    • H10K50/80—Constructional details
    • H10K50/84—Passivation; Containers; Encapsulations
    • H10K50/844—Encapsulations
    • H10K50/8445—Encapsulations multilayered coatings having a repetitive structure, e.g. having multiple organic-inorganic bilayers
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08J—WORKING-UP; GENERAL PROCESSES OF COMPOUNDING; AFTER-TREATMENT NOT COVERED BY SUBCLASSES C08B, C08C, C08F, C08G or C08H
    • C08J7/00—Chemical treatment or coating of shaped articles made of macromolecular substances
    • C08J7/04—Coating
    • C08J7/042—Coating with two or more layers, where at least one layer of a composition contains a polymer binder
    • C08J7/0423—Coating with two or more layers, where at least one layer of a composition contains a polymer binder with at least one layer of inorganic material and at least one layer of a composition containing a polymer binder
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08J—WORKING-UP; GENERAL PROCESSES OF COMPOUNDING; AFTER-TREATMENT NOT COVERED BY SUBCLASSES C08B, C08C, C08F, C08G or C08H
    • C08J7/00—Chemical treatment or coating of shaped articles made of macromolecular substances
    • C08J7/04—Coating
    • C08J7/043—Improving the adhesiveness of the coatings per se, e.g. forming primers
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08J—WORKING-UP; GENERAL PROCESSES OF COMPOUNDING; AFTER-TREATMENT NOT COVERED BY SUBCLASSES C08B, C08C, C08F, C08G or C08H
    • C08J7/00—Chemical treatment or coating of shaped articles made of macromolecular substances
    • C08J7/04—Coating
    • C08J7/048—Forming gas barrier coatings
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09J—ADHESIVES; NON-MECHANICAL ASPECTS OF ADHESIVE PROCESSES IN GENERAL; ADHESIVE PROCESSES NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE; USE OF MATERIALS AS ADHESIVES
    • C09J5/00—Adhesive processes in general; Adhesive processes not provided for elsewhere, e.g. relating to primers
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
    • G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
    • G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
    • G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
    • G02F1/1333—Constructional arrangements; Manufacturing methods
    • G02F1/1335—Structural association of cells with optical devices, e.g. polarisers or reflectors
    • G02F1/1336—Illuminating devices
    • H—ELECTRICITY
    • H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
    • H10K50/00—Organic light-emitting devices
    • H10K50/10—OLEDs or polymer light-emitting diodes [PLED]
    • H10K50/11—OLEDs or polymer light-emitting diodes [PLED] characterised by the electroluminescent [EL] layers
    • H10K50/115—OLEDs or polymer light-emitting diodes [PLED] characterised by the electroluminescent [EL] layers comprising active inorganic nanostructures, e.g. luminescent quantum dots
    • H—ELECTRICITY
    • H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
    • H10K50/00—Organic light-emitting devices
    • H10K50/80—Constructional details
    • H10K50/84—Passivation; Containers; Encapsulations
    • H10K50/842—Containers
    • H10K50/8426—Peripheral sealing arrangements, e.g. adhesives, sealants
    • H—ELECTRICITY
    • H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
    • H10K50/00—Organic light-emitting devices
    • H10K50/80—Constructional details
    • H10K50/85—Arrangements for extracting light from the devices
    • H—ELECTRICITY
    • H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
    • H10K59/00—Integrated devices, or assemblies of multiple devices, comprising at least one organic light-emitting element covered by group H10K50/00
    • H10K59/10—OLED displays
    • H10K59/12—Active-matrix OLED [AMOLED] displays
    • H—ELECTRICITY
    • H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
    • H10K59/00—Integrated devices, or assemblies of multiple devices, comprising at least one organic light-emitting element covered by group H10K50/00
    • H10K59/80—Constructional details
    • H10K59/87—Passivation; Containers; Encapsulations
    • H10K59/873—Encapsulations
    • H10K59/8731—Encapsulations multilayered coatings having a repetitive structure, e.g. having multiple organic-inorganic bilayers
    • H—ELECTRICITY
    • H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
    • H10K71/00—Manufacture or treatment specially adapted for the organic devices covered by this subclass
    • H—ELECTRICITY
    • H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
    • H10K85/00—Organic materials used in the body or electrodes of devices covered by this subclass
    • H10K85/10—Organic polymers or oligomers
    • H10K85/141—Organic polymers or oligomers comprising aliphatic or olefinic chains, e.g. poly N-vinylcarbazol, PVC or PTFE
    • H—ELECTRICITY
    • H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
    • H10K85/00—Organic materials used in the body or electrodes of devices covered by this subclass
    • H10K85/40—Organosilicon compounds, e.g. TIPS pentacene
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08J—WORKING-UP; GENERAL PROCESSES OF COMPOUNDING; AFTER-TREATMENT NOT COVERED BY SUBCLASSES C08B, C08C, C08F, C08G or C08H
    • C08J2367/00—Characterised by the use of polyesters obtained by reactions forming a carboxylic ester link in the main chain; Derivatives of such polymers
    • C08J2367/02—Polyesters derived from dicarboxylic acids and dihydroxy compounds
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08J—WORKING-UP; GENERAL PROCESSES OF COMPOUNDING; AFTER-TREATMENT NOT COVERED BY SUBCLASSES C08B, C08C, C08F, C08G or C08H
    • C08J2433/00—Characterised by the use of homopolymers or copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and only one being terminated by only one carboxyl radical, or of salts, anhydrides, esters, amides, imides, or nitriles thereof; Derivatives of such polymers
    • C08J2433/04—Characterised by the use of homopolymers or copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and only one being terminated by only one carboxyl radical, or of salts, anhydrides, esters, amides, imides, or nitriles thereof; Derivatives of such polymers esters
    • C08J2433/06—Characterised by the use of homopolymers or copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and only one being terminated by only one carboxyl radical, or of salts, anhydrides, esters, amides, imides, or nitriles thereof; Derivatives of such polymers esters of esters containing only carbon, hydrogen, and oxygen, the oxygen atom being present only as part of the carboxyl radical
    • C08J2433/08—Homopolymers or copolymers of acrylic acid esters
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09J—ADHESIVES; NON-MECHANICAL ASPECTS OF ADHESIVE PROCESSES IN GENERAL; ADHESIVE PROCESSES NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE; USE OF MATERIALS AS ADHESIVES
    • C09J2301/00—Additional features of adhesives in the form of films or foils
    • C09J2301/40—Additional features of adhesives in the form of films or foils characterized by the presence of essential components
    • C09J2301/416—Additional features of adhesives in the form of films or foils characterized by the presence of essential components use of irradiation
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
    • G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
    • G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
    • G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
    • G02F1/1333—Constructional arrangements; Manufacturing methods
    • G02F1/1335—Structural association of cells with optical devices, e.g. polarisers or reflectors
    • G02F1/1336—Illuminating devices
    • G02F1/133614—Illuminating devices using photoluminescence, e.g. phosphors illuminated by UV or blue light
    • H—ELECTRICITY
    • H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
    • H10K59/00—Integrated devices, or assemblies of multiple devices, comprising at least one organic light-emitting element covered by group H10K50/00
    • H10K59/10—OLED displays
    • H10K59/12—Active-matrix OLED [AMOLED] displays
    • H10K59/1201—Manufacture or treatment

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Medicinal Chemistry (AREA)
  • Polymers & Plastics (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • Inorganic Chemistry (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Nonlinear Science (AREA)
  • Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Mathematical Physics (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Nanotechnology (AREA)
  • Laminated Bodies (AREA)
  • Electroluminescent Light Sources (AREA)
  • Optical Filters (AREA)

Abstract

本公开涉及在粘合层和相邻阻挡层之间形成具有高抗剥离性的粘结。此类制品特别适用于制备装置，特别是发光装置，并且本公开描述了发光装置的组装方法。发光装置包括使用柔性透明阻挡膜和紫外(UV)辐射可固化(甲基)丙烯酸酯基体的封装系统。例如，湿气敏感的发光材料可以是设置在膜上的量子点材料，或是包括OLED结构的膜构造。

Description

粘性阻挡膜构造
本专利申请是申请号为201480041676.3、申请日为2014年7月22日、发明名称为“粘性阻挡膜构造”的专利申请的分案申请。
背景技术
某些用于制备发光装置的材料诸如有机发光二极管(OLED)和量子点，在暴露于空气和湿气时会受到氧化损伤，通常导致发光损耗。虽然已知制备阻挡层可有效阻止空气和湿气渗入，但尝试将此类阻挡层粘结至包含敏感材料的方便聚合物基体时所得的层间粘附力较差。
发明内容
本公开涉及在粘合层和相邻阻挡层之间形成具有高抗剥离性的粘结。此类制品特别适用于制备装置，特别是发光装置，本公开描述了发光装置的组装方法。发光装置包括使用柔性透明阻挡膜和紫外(UV)辐射可固化(甲基)丙烯酸酯基体的封装系统。例如，湿气敏感的发光材料可以是设置在膜上的量子点材料，或是包括OLED结构的膜构造。在一个方面，本公开提供了包括第一阻挡层、第二阻挡层和发光层的装置，各阻挡层至少包括外部聚合物层，各外部聚合物层具有粘附接触表面；该发光层具有设置在第一阻挡层和第二阻挡层之间的聚合物基体，其中各粘附接触表面与发光层接触，其中第一阻挡层和第二阻挡层与发光层之间的剥离强度为至少100克/英寸。在另一方面，本公开提供了包括该装置、设置用于照明该装置的灯；和设置在灯与装置之间的液晶显示面板的显示器。
在又一方面，本公开提供了包括阻挡膜和粘合层的装置。阻挡膜包括：具有相对的第一主表面和第二主表面的聚合物基材；与第二主表面相邻的无机氧化物层；第二主表面和无机氧化物层之间的光滑聚合物层；和设置在无机氧化物层上、与光滑聚合物层相对的外部聚合物层。粘合层被与外部聚合物层相邻设置，其中阻挡膜和粘合层之间的剥离强度为至少100克/英寸。在又一个方面，本公开提供了包括该装置、设置用于照明该装置的灯；和设置在灯与装置之间的液晶显示面板。
在又一方面，本公开提供了包括阻挡膜和粘合层的装置。阻挡膜包括：具有相对的第一主表面和第二主表面的聚合物基材；与第二主表面相邻的无机氧化物层；第二主表面和无机氧化物层之间的光滑聚合物层；和设置在无机氧化物层上、与光滑聚合物层相对的外部聚合物层。粘合层与外部聚合物层相邻设置，其中阻挡膜和粘合层之间的剥离强度为至少100克/英寸。装置还包括第二阻挡膜，该第二阻挡膜具有：具有相对的第三主表面和第四主表面的第二聚合物基材；与第四主表面相邻的第二无机氧化物层；第四主表面和第二无机氧化物层之间的第二光滑聚合物层；和设置在第二无机氧化物层上、与第二光滑聚合物层相对的第二外部聚合物层，其中粘合层与第二无机氧化物层相邻设置且与第二光滑聚合物层相对。在又一个方面，本公开提供了包括该装置、设置用于照明该装置的灯；和设置在灯与装置之间的液晶显示面板。
在又一个方面，本公开提供了形成装置的方法，该方法包括：在真空室中形成阻挡膜，该阻挡膜具有外部辐射可固化聚合物层；至少部分固化外部辐射可固化聚合物层以在阻挡膜上形成粘附接触表面；以及在粘附接触表面形成粘合层。
在又一个方面，本公开提供了形成装置的方法，该方法包括：在真空室中形成阻挡膜，该阻挡膜具有外部辐射可固化聚合物层；至少部分固化外部辐射可固化聚合物层以在阻挡膜上形成粘附接触表面；将阻挡膜层压至包含可固化聚合物基体的粘合层，使得粘附接触表面与粘合层接触；以及固化层压体。
上述发明内容并非旨在描述本公开所公开的每个公开的实施例或每种实施方式。以下附图和具体实施方式更具体地说明示例性实施例。
附图说明
整个说明书都参考了附图，其中类似的附图标号表示类似的元件，并且其中：
图1示出了装置的示意性剖视图；并且
图2示出了用于形成装置的过程。
附图未必按比例绘制。附图中使用的类似标号是指类似的组分。然而，应当理解，在给定的附图中使用标号指示组分并非旨在限制另一附图中用相同标号标记的组分。
具体实施方式
本公开提供了装置，特别是发光装置的构造，以及发光装置的组装方法。发光装置包括使用柔性透明阻挡膜和紫外(UV)辐射可固化(甲基)丙烯酸酯基体的封装系统。例如，湿气敏感的发光材料可以是设置在膜上的量子点材料，或是包括OLED结构的膜构造。在一个具体实施例中，发光装置包括高光学透射率阻挡膜、包含量子点的UV可固化(甲基)丙烯酸酯基体的高阻隔特性、以及UV可固化丙烯酸酯基体对阻挡膜的高粘附力，该粘附力针对在转换和产品使用期间的耐久性。在一个具体实施例中，所制备的阻挡膜可用于粘结至其他材料，诸如聚合物热熔融材料、压敏粘合剂、硬质涂层等等。
虽然贯穿说明书和权利要求书使用的某些术语很大程度上是本领域技术人员所熟知的，但可能需要一些解释。应当理解，如本文所用：
关于单体的术语“(甲基)丙烯酸酯”是指作为醇与丙烯酸或甲基丙烯酸，例如丙烯酸或甲基丙烯酸的反应产物形成的乙烯基官能化的烷基酯。
术语“(共)聚物”是指均聚物或共聚物。
术语“均聚物”是指当在宏观尺度下观察时仅表现出单相物质。
现在将具体参照附图对本发明的各种示例性实施例进行描述。可以在不脱离本发明的实质和范围的前提下，对本公开的示例性实施例进行各种变型和更改。因此，应当理解，本公开的实施例并不限于下文描述的示例性实施例，而应受权利要求书及其任何等同物中示出的限制因素控制。
在以下说明中参考附图，附图形成说明的一部分，并且其中通过举例说明的方式示出。应当理解，在不脱离本公开的范围或实质的情况下，设想并可进行其他实施例。因此，以下的具体实施方式不应被视为具有限制意义。
除非另外指明，否则说明书和权利要求书中所使用的所有表达特征尺寸、量和物理特性的数值在所有情况下均应理解成由术语“约”修饰。因此，除非有相反的说明，否则在上述说明书和所附权利要求书中列出的数值参数均为近似值，这些近似值可根据本领域技术人员利用本文所公开的教导内容来寻求获得的期望性能而变化。
除非本文内容明确指示另外的情况，本说明书和所附权利要求书中所用的单数形式“一种”、“一个”和“所述”均涵盖具有多个指代物的实施例。除非本文内容以其他方式明确指出，否则本说明书和所附权利要求中使用的术语“或”通常采用包括“和/或”的意义。
若在本文中使用空间相关的术语，包括但不限于“下部”、“上部”、“下面”、“下方”、“上方”、和“在顶部”，则用于方便描述一个或多个元件相对于另一个元件的空间关系。除了图中描述的或本文所述的具体方向外，此类空间相关术语涵盖装置在使用或操作时的不同方向。例如，如果附图中所描绘的对象翻转过来或翻转过来，那么然后先前描述的在其他元件下方或下面的部分就在那些其他元件上方。
如本文所用，例如当元件、部件或层被描述为与另一元件、部件或层形成“一致界面”，或在另一元件、部件或层“上”、“连接到”、“偶联到”或“接触”另一元件、部件或层时，其意为例如直接在元件、部件或层上，直接连接到，直接偶联到、直接接触、或居间的元件、部件或层可能在特定元件、部件或层上、连接到、偶联到或接触特定元件、部件或层。例如，当元件、部件或层被称为“直接在”另一元件“上”、“直接连接到”另一元件、“直接偶联到”另一元件或“直接接触”另一元件时，则不存在例如居间的元件、部件或层。
目前的液晶显示器(LCD)可呈现NTSC标准的仅50％。而OLED显示器作为一项目竞争性技术，可呈现大于NTSC标准的100％。采用量子点发射膜(QDEF)使LCD制造商能够利用其现有技术平台增大色域，而无需对其供应链或技术平台做出重大改变。
在一些情况下，QDEF可用于增大LCD在多种应用中的色域，包括电视、监视器、笔记本电脑和手持装置。期望具有增大的吞吐量的全UVQDEF系统。在一些情况下，某些量子点的化学性质可能与传统热固化的环氧胺聚合物基体不兼容，从而会限制可用于QDEF构造的量子点类型。
量子点膜和元件被利用于显示器和其他光学构造中。量子点需要与氧气和水隔离，并且通常分散在聚合物基体中，该聚合物基体随后可密封在柔性透明阻挡膜之间。聚合物基体可以是热熔性基体、环氧树脂之类的热固化基体，也可以是混合基体，例如辐射可固化(甲基)丙烯酸酯与环氧胺共混得到的混合基体，这种混合基体需要辐射固化其中的(甲基)丙烯酸酯，才能在后续的热固化过程期间保持稳定；或者聚合物基体也可以是辐射可固化(甲基)丙烯酸酯材料，这种基体无需再执行后续热固化过程。
已针对要求高光学透射率的氧气和湿气敏感应用开发了柔性透明阻挡膜的连续卷对卷制造方法。这类卷对卷制造方法的示例以及通过这些方法生产的阻挡膜的示例可见于例如标题为ACRYLATE COATING MATERIAL(丙烯酸酯涂层材料)的美国专利5,440,446(Shaw等人)；标题为ACRYLATE COMPOSITE BARRIER COATING PROCESS(丙烯酸酯复合阻隔涂层工艺)的美国专利5,725,909(Shaw等人)；标题为ACRYLATE COMPOSITE BARRIERCOATING(丙烯酸酯复合阻隔涂层)的美国专利6,231,939(Shaw等人)；和标题为FLEXIBLEHIGH-TEMPERATURE ULTRABARRIER(柔性高温超阻隔)的美国专利7,018,713(Padiyath等人)；和标题为GRADIENT COMPOSITION BARRIER(梯度组合物阻隔)的美国专利公布2011/0223434(Roehrig等人)；和标题为MOISTURE RESISTANT COATING FOR BARRIER FILMS(用于阻挡膜的抗湿涂层)的美国专利公布2012/0003484(Roehrig等人)；以及标题为QUANTUMDOT FILM(量子点膜)的美国专利申请61/754786(Nelson等人)。
阻挡膜生产通常在接近真空的环境中使用高Tg聚合物基材进行，在高Tg聚合物基材上以光滑层的形式施用第一辐射可固化树脂，该第一层可使用例如UV或电子束辐射固化。接下来，将无机氧化物阻挡层(例如通过溅射)涂覆于光滑层的表面，并以保护层的形式施用第二辐射可固化树脂，然后使用相同的技术再次进行固化。各对无机氧化物阻挡层/保护层通常称为“成对层”，并且可将任意期望的多个成对层彼此堆叠以改善阻挡膜的阻隔性能。电子束固化的益处包括高交联度，和在单体进料中没有光引发剂而以高线速度进行固化的能力。
电子束固化的替代形式是UV固化。通常，对于此类系统来说，灯泡发出的特定紫外光与混入液体单体的特定光引发剂偶联。选择匹配紫外光发射波长的光引发剂。在一些情况下，电子束固化的另一个替代形式是可见光固化，在可见光固化中，在液体单体中混合入特定光引发剂并且选择匹配可见光发射波长的光引发剂。合适的UV光源或可见光源是本领域中熟知的，并且包括UV LED；UV激光；UV灯(包括低压杀菌灯、中压和高压灯)；可见光灯；闪光灯等等。
为了进行进一步转换、加工、并实现较长产品寿命，期望高耐久性的QDEF产品，并且量子点聚合物基体对封装阻挡膜的高粘附力改善了QDEF的耐久性。UV可固化量子点基体配方通常对电子束固化的阻挡膜表现出较差的粘附力。本发明令人惊讶并出人意料地发现，当在阻挡膜构造中对阻挡层叠件中最上面的丙烯酸酯层(即保护层)使用UV固化替代通常使用的电子束固化时，阻挡层对量子点基体的粘附力显著增加。另外，本发明还令人惊讶并出人意料地发现，使用UV固化阻挡层叠件可改善阻挡层对其他材料，诸如类似于乙烯-乙酸乙烯酯(EVA)热熔胶的热熔性粘合剂)的粘附力。另外，本发明还令人惊讶并出人意料地发现，在UV固化的外部聚合物层中加入某种自由基抑制剂也可改善对UV固化树脂和热熔胶等其他材料的粘附力，同时还降低了阻挡膜卷中相邻层彼此粘附的趋势。
图1示出了根据本发明的一个方面的发光装置100的示意性剖视图。发光装置100包括第一阻挡膜110、任选的第二阻挡膜120、和设置在第一阻挡膜110和任选的第二阻挡膜120之间的发光层130。应当理解，在下文的描述中包括第一阻挡膜110和第二阻挡膜120两者；然而，在一些情况下，可能仅使用一个阻挡膜。
第一阻挡膜110包括第一基材112、设置在第一基材112上的第一聚合物光滑层114、设置在第一聚合物光滑层114上的第一阻挡层116、和设置在第一阻挡层116上的第一外部聚合物层118。任选的第二阻挡膜120包括第二基材122、设置在第二基材122上的第二聚合物光滑层124、设置在第二聚合物光滑层124上的第二阻挡层126、和设置在第二阻挡层126上的第二外部聚合物层128。
发光层130设置在第一阻挡膜110和第二阻挡膜120之间，使得第一外部聚合物层118和第二外部聚合物层128分别与发光层130的第一主表面131和与之相对的第二主表面132接触。第一阻挡层116和第二阻挡层126耐受氧气和水蒸气透过。在一些需要甚至更高水平的阻隔性能的实施例中，可提供具有更多对阻挡层和附加聚合物层(即成对层)的层叠件。
第一基材112和第二基材122各自可以是相同的或不同的，并且可选自玻璃诸如柔性玻璃，例如购自康宁(Corning)公司的Willow Glass以及肖特(Schott)和旭硝子(Asahi)公司的Ultra Thin玻璃；金属箔；以及聚合物，诸如聚对苯二甲酸乙二醇酯(PET)、热稳定的聚对苯二甲酸乙二醇酯(HSPET)、聚萘二甲酸乙二醇酯(PEN)、聚甲基丙烯酸甲酯(PMMA)、苯乙烯丙烯腈(SAN)、苯乙烯马来酸酐(SMA)、聚甲醛(POM)、聚乙烯基萘(PVN)、聚醚醚酮(PEEK)、聚芳醚酮(PAEK)、高Tg含氟聚合物(例如六氟丙烯、四氟乙烯和乙烯的DYNEONTMHTE三元共聚物)、聚碳酸酯(PC)、聚α-甲基苯乙烯、聚芳酯(PAR)、聚砜(PSul)、聚苯醚(PPO)、聚醚酰亚胺(PEI)、聚芳砜(PAS)、聚醚砜(PES)、聚醚酰亚胺(PAI)、聚酰亚胺、聚邻苯二甲酰胺、环烯烃聚合物(COP)、环烯烃共聚物(COC)以及三醋酸纤维素(TAC)。对于物料成本重要的应用，由PET、HSPET和PEN制成的基材是特别优选的。优选地，基材具有的厚度约0.01mm至约1mm，更优选地约0.05mm至约0.25mm。在一个具体实施例中，第一基材和第二基材各自为PET。
第一聚合物光滑层114和第二聚合物光滑层124各自可以是相同的或不同的，并且可以选自以下聚合物：聚氨酯丙烯酸酯(例如，均可从沙多玛公司(Sartomer Co.)商购获得的CN-968和CN-983)、丙烯酸异冰片酯(例如，可从沙多玛公司(Sartomer Co.)商购获得的SR-506)、五丙烯酸二戊赤藓醇酯(例如，可从沙多玛公司(Sartomer Co.)商购获得的SR-399)、环氧丙烯酸酯与苯乙烯的混合物(例如可从沙多玛公司(Sartomer Co.)商购获得的CN-120S80，)、双三羟甲基丙烷四丙烯酸酯(例如可从沙多玛公司(Sartomer Co.)商购获得的SR-355，)、二乙二醇二丙烯酸酯(例如可从沙多玛公司(Sartomer Co.)商购获得的SR-230，)、1,3-丁二醇二丙烯酸酯(例如，可从沙多玛公司(Sartomer Co.)商购获得的SR-212)、五丙烯酸酯(例如，可从沙多玛公司(Sartomer Co.商购获得)的SR-9041)、季戊四醇四丙烯酸酯(例如，可从沙多玛公司(Sartomer Co.)商购获得的SR-295)、季戊四醇三丙烯酸酯(例如，可从沙多玛公司(Sartomer Co.)商购获得的SR-444)、乙氧基化(3)三羟甲基丙烷三丙烯酸酯(例如，可从沙多玛公司(Sartomer Co.)商购获得的SR-454)、乙氧基化(3)三羟甲基丙烷三丙烯酸酯(例如，可从沙多玛公司(Sartomer Co.)商购获得的SR-454HP)、烷氧化三官能团丙烯酸酯(例如，可从沙多玛公司(Sartomer Co.)商购获得的SR-9008)、二丙二醇二丙烯酸酯(例如，可从沙多玛公司(Sartomer Co.)商购获得的SR-508)、新戊二醇二丙烯酸酯(例如，可从沙多玛公司(Sartomer Co.)商购获得的SR-247)、乙氧基化(4)双酚A二甲基丙烯酸酯(例如，可从沙多玛公司(Sartomer Co.)商购获得的CD-450)、环己烷二甲醇二丙烯酸酯(例如，可从沙多玛公司(Sartomer Co.)商购获得的CD-406)、环丙烯酸酯，诸如三环癸烷二甲醇二丙烯酸酯(例如，可从沙多玛公司(Sartomer Co.)商购获得的SR-833S)、甲基丙烯酸异冰片酯(例如，可从沙多玛公司(Sartomer Co.)商购获得的SR-423)以及三(2-羟乙基)异氰脲酸酯三丙烯酸酯(例如，可从沙多玛公司(Sartomer Co.)商购获得的SR-368)、前述甲基丙烯酸酯的丙烯酸酯和前述丙烯酸酯的甲基丙烯酸酯。
第一聚合物光滑层114和第二聚合物光滑层124各自可通过以下方法形成：将一层单体或低聚物施用至各第一基材112和第二基材122，并且使该层交联以原位形成聚合物，例如，通过辐射可交联单体的闪蒸和气相沉积，然后使用例如电子束设备、UV光源、放电设备或其他合适的装置来交联。可通过冷却载体来改善涂布效率。也可以使用常规的涂布方法诸如辊涂(例如，凹版辊涂布)或喷涂(例如，静电喷雾涂布)将单体或低聚物施用至基材，然后如上文所述进行交联。第一聚合物层也可通过施用溶剂中包含低聚物或聚合物的层以及干燥这样施用的层以取出溶剂来形成。也可以采用等离子聚合作用。更优选地，第一聚合物层通过闪蒸和气相沉积以及之后进行原位交联而形成，例如，如以下参考文献中所述：美国专利4,696,719(Bischoff)、美国专利4,722,515(Ham)、美国专利4,842,893(Yializis等人)、美国专利4,954,371(Yializis)、美国专利5,018,048(Shaw等人)、美国专利5,032,461(Shaw等人)、美国专利5,097,800(Shaw等人)、美国专利5,125,138(Shaw等人)、美国专利5,440,446(Shaw等人)、美国专利5,547,908(Furuzawa等人)、美国专利6,045,864(Lyons等人)、美国专利6,231,939(Shaw等人)以及美国专利6,214,422(Yializis)；已公布的PCT专利申请WO 00/26973(Delta V Technologies公司)；D.G.Shaw和M.G.Langlois的“A NewVapor Deposition Process for Coating Paper and Polymer Webs”,6thInternational Vacuum Coating Conference(1992)(“用于涂布纸和聚合物幅材的新气相沉积工艺”，第6届国际真空镀膜会议，1992年)；D.G.Shaw和M.G.Langlois的“A New HighSpeed Process for Vapor Depositing Acrylate Thin Films:An Update”,Society ofVacuum Coaters 36th Annual Technical Conference Proceedings(1993)(“用于气相沉积丙烯酸酯薄膜的新型高速工艺：最新版”，真空镀膜机协会第36届年度技术会议录，1993年)；D.G.Shaw和M.G.Langlois的“Use of Vapor Deposited Acrylate Coatings toImprove the Barrier Properties of Metallized Film”,Society of Vacuum Coaters37th Annual Technical Conference Proceedings(1994)(“用以改善金属化的膜的阻隔特性的气相沉积丙烯酸酯涂层的用途”，真空镀膜机协会第37届年度技术会议录，1994年)；D.G.Shaw、M.Roehrig、M.G.Langlois和C.Sheehan的“Use of Evaporated AcrylateCoatings to Smooth the Surface of Polyester and Polypropylene FilmSubstrates”,RadTech(1996)(“用以平整聚酯和聚丙烯膜基材表面的蒸发丙烯酸酯涂层的用途”，辐射固化年会，1996年)；J.Affinito、P.Martin、M.Gross、C.Coronado和E.Greenwell的“Vacuum deposited polymer/metal multilayer films for opticalapplication”,Thin Solid Films 270,43-48(1995)(“用于光学应用的真空沉积聚合物/金属多层膜”，《固体薄膜》，第270卷，第43-48页，1995年)；以及J.D.Affinito、M.E.Gross、C.A.Coronado、G.L.Graff、E.N.Greenwell和P.M.Martin的“Polymer-Oxide TransparentBarrier Layers”,Society of Vacuum Coaters 39th Annual Technical ConferenceProceedings(1996)(“聚合物-氧化物透明阻挡层”，真空镀膜机协会第39届年度技术会议录，1996年)。
第一聚合物光滑层114和第二聚合物光滑层124的光滑度和连续性，以及其对下面的基材的粘附力可通过适当的预处理优选地增大。优选的预处理方案采用在存在适合反应性或非反应性大气环境的情况下进行的放电(例如等离子体、辉光放电、电晕放电、电介质阻隔放电或大气压放电)；化学预处理或火焰预处理。这些预处理有助于使下面层的表面更加易于接受随后所施用的聚合物层的形成。等离子体预处理是特别优选的。也可在下面层顶上使用可具有与高Tg聚合物层不同组成的单独的粘附促进层以改善层间粘附力。例如，粘附促进层可为单独的聚合物层或含金属层，诸如金属层、金属氧化物层、金属氮化物层、或金属氧氮化物层。粘附促进层可具有数纳米(例如1nm或2nm)至约50nm的厚度，并且如果需要可以更厚。
第一聚合物光滑层114和第二聚合物光滑层124所需的化学组成和厚度将部分地取决于各第一基材112和第二基材122的性质和表面形貌。优选地为足以提供光滑、无缺陷的表面，随后可施用第一无机阻挡层至该表面的厚度。例如，第一聚合物层可以具有数纳米(例如2nm或3nm)至约5微米的厚度，并且如果需要可以更厚。
第一阻挡层116和第二阻挡层126可分别称为“第一无机阻挡层”和“第二无机阻挡层”。如果需要，可以存在附加的无机阻挡层和聚合物层。第一阻挡层116和第二阻挡层126无需相同。可以采用多种无机阻隔材料。优选的无机阻隔材料包括金属氧化物、金属氮化物、金属碳化物、金属氮氧化物、金属硼氧化物以及它们的组合，例如，氧化硅诸如二氧化硅、氧化铝诸如矾土、氧化钛诸如二氧化钛、氧化铟、氧化锡、铟锡氧化物(“ITO”)、氧化钽、氧化锆、氧化铌、碳化硼，碳化钨、碳化硅、氮化铝、氮化硅、氮化硼、氮氧化铝、氧化硅、氮氧化硼、硼氧化锆、硼氧化钛以及它们的组合。氧化铟锡、氧化硅、氧化铝以及它们的组合是特别优选的无机阻隔材料。ITO是正确选择各元素组分的相对比例以变得导电的特殊类别陶瓷材料的一个示例。无机阻挡层优选地通过使用膜金属化领域中所采用的诸如溅射(例如阴极或平面磁控溅射)、蒸镀(例如电阻式或电子束蒸镀)、化学气相沉积、等离子体沉积、原子层沉积(ALD)等技术形成。最优选使用溅射，例如，反应性溅射来形成无机阻挡层。当无机层通过相比较低能量技术诸如常规化学气相沉积工艺而言的高能量沉积技术诸如溅射而形成时，已经观察到增强的阻隔特性。不受理论的约束，据信增强的特性是由于到达基材的冷凝物质具有更大动能，从而导致由于压实而造成的更低的空隙率。可以通过预处理(例如，等离子体预处理)诸如以上参照第一聚合物层所描述的方法来提高各无机阻挡层的光滑度和连续性以及其对下面层的粘附力。
第一阻挡层116和第二阻挡层126无需具有相同的厚度。各无机阻挡层所需的化学组成和厚度将部分地取决于下面层的性质和表面形貌以及阻隔组件所需的光学性质。优选的无机阻挡层足够厚以连续，并且足够薄以保证阻隔组件和包含组件的制品包含所需程度的可见光透射和柔韧性。各无机阻挡层优选的物理厚度(相对于光学厚度)为约3nm至约150nm，更优选地为约4nm至约75nm。
第一外部聚合物层118和第二外部聚合物层128可以是相同的或不同的，并且可包含与第一聚合物光滑层114和第二聚合物光滑层124相同的材料。在一个具体实施例中，第一外部聚合物层118和第二外部聚合物层128可各自包含至少一些与发光层130相同的聚合物材料。第一外部聚合物层118和第二外部聚合物层128还至少包括一种可与UV或可见光进行相互作用从而在各层引发聚合反应的光引发剂。可使用如上所述的任一与用于在各第一基材和第二基材上形成第一聚合物光滑层114和第二聚合物光滑层124相同的技术，在各第一阻挡层116和第二阻挡层126的顶部上形成第一外部聚合物层118和第二外部聚合物层128，不同的是第一外部聚合物层118和第二外部聚合物层128使用UV光源或可见光源进行交联。
在一个具体实施例中，使用的UV光源的曝光波长可为254nm，该波长由在254nm处具有强发射且低于220nm基本上没有发射的低压汞合金灯产生。使用的光引发剂可在254nm进行强效吸收。UV光源的峰值功率密度可为0.5mW/cm2，并且剂量(固化暴露)可在约0.05mJ/cm2至约4mJ/cm2的范围内，或约0.1mJ/cm2至约2mJ/cm2的范围内，或约0.1mJ/cm2至约1mJ/cm2的范围内。在一些情况下，可在典型的工艺条件下，通过在汞合金灯下运行EITUV
Figure BDA0001754969820000111
(购自弗吉尼亚州斯特林EIT公司(EIT Inc.,Sterling VA))来确定剂量。
在一些情况下，较长的UV波长范围可有助于聚合反应，然而通常应避免较短的波长辐射。例如，由于TPO光引发剂可以UV-A光引发自由基，因此LED灯可发出385nm的光，并且可使用基于TPO(例如2,4,6-三甲基苯甲酰基二苯基氧化膦)的光引发剂。在这种情况下，LED灯的能量密度可与汞合金灯类似；然而这可能不太实用，因为TPO还会吸收可见光并且可通过可见光引发聚合反应，这是制造中不太期望发生的。如本领域技术人员已知，可在光引发剂浓度通常高达约3重量％的条件下使用其他适用于不同光波长处的光引发剂，例如ESACURE ONE和ESACURE KB1(均购自意大利蓝宝迪有限公司(Lamberti S.p.A.,Italy))、Irgacure 184、Darocur4265和Darocur 1173(购自巴斯夫树脂公司(BASF Resins))，以及其他光引发剂。
在一个具体实施例中，可将任选的聚合抑制剂添加至可交联的聚合物层。由于阻挡膜在加工过程期间是卷起来的，抑制剂的存在可减少聚合物层粘附到相邻层的趋势。由于聚合反应所需的剂量非常低，并且阻挡膜的真空中包含加工蒸气涂布的丙烯酸酯，因此会观察到卷中有一些“结块”(即自身粘附)。为克服这种“结块”的趋势，可将约250ppm浓度的抑制剂混合入丙烯酸酯层。加入抑制剂对于待立即加工的阻挡膜卷来说可能不是必要的，但对于长期储存，以及对于更大的卷来说可能是需要的。在一种情况下，如本领域技术人员已知，虽然抑制剂可以是例如4-羟基-TEMPO(购自西格玛-奥德里奇公司(Sigma-Aldrich)的4-羟基-2,2,6,6-四甲基哌啶-1–氧自由基)，但也可使用其他抑制剂。例如，其他抑制剂的示例包括酚类诸如对苯二酚(HQ)、间甲氧基苯酚(MEHQ)、儿茶酚、焦儿茶酚、间苯二酚、连苯三酚、没食子酸丙酯和所有这些物质的衍生物；醌类诸如苯醌、蒽醌等；金属盐类诸如铜粉、CuCl、MnAc(与4-羟基TEMPO结合使用)；亚硝基类诸如NPAL(购自第一化学品公司(First Chemical Corp.)的三(N-亚硝基-N-苯基羟胺)铝盐)、NPHA或铜铁灵(上述物质的水溶性铵盐)；芳香胺类包括吩噻嗪(PTZ)、N,N,N',N'-四甲基苯二胺、引杜林和类似物；羟胺类诸如二乙基羟胺和类似物以及水杨醛肟；和自由基类诸如4-羟基TEMPO(CIBAProstab)和加尔万氧基自由基；以及上述物质的衍生物。在一些情况下，抑制剂的组合是有利的，诸如二乙基羟胺和四甲基苯二胺(各5-50ppm)的组合；水杨醛肟和四甲基苯二胺(各-50ppm)的组合；乙酸锰和4-羟基TEMPO(各5-10ppm)的组合；以及NPAL和PTZ的组合。
另外，已看出4-羟基-TEMPO是在厌氧条件下抑制自由基的有效抑制剂。虽然单体中已存在抑制剂MeHQ，但这种抑制剂需要氧气才可起效，因此加工后立即在大气环境中展开卷也能有效防止结块。
在一个具体实施例中，可将偶联剂诸如硅烷偶联剂，任选地加入第一阻挡膜110和/或第二阻挡膜120的第一聚合物光滑层114和/或第二聚合物光滑层124以及第一外部聚合物层118和/或第二外部聚合物层128，以改善阻挡层叠件内的粘附力。可用的偶联剂在例如共同未决的美国专利公布Nos.2012/0208033和2012/003484中，以及还在以下美国专利申请中有所描述：标题为“Vapor-deposited Coating for Barrier Films and Methodsof Making and Using the Same”(用于阻挡膜的气相沉积涂层以及制造和使用气相沉积涂层的方法)的美国专利申请序列号61/437850(代理人档案号67034US002，于2011年1月31日提交)；标题为“Composite Films Including a(Co)polymer Reaction Product of aUrethane(Multi)-(meth)acrylate(Multi)-silane”(包括氨基甲酸酯(多)-(甲基)丙烯酸酯(多)-硅烷的共聚物反应产物的复合膜)的61/680995(代理人档案号70143US002，于2012年8月8日提交)；标题为“Barrier Film,Method of Making the Barrier Film,andArticles Including the Barrier Film”(阻挡膜，制造阻挡膜的方法以及包括阻挡膜的制品)的61/680955(代理人档案号70169US002，于2012年8月8日提交)，以及标题为“Barrier Film Constructions and Methods of Making Same”(阻挡膜构造与制造阻挡膜的方法)的61/680963(代理人档案号70168US003，于2012年8月8日提交)。在一些情况下，已发现诸如N-正丙基-氮杂-2,2-二曱氧基硅杂环戊烷(购自宾夕法尼亚州莫里斯维尔的盖勒斯特有限公司(Gelest,Inc.,Morrisville,PA))的环氮杂硅烷类特别有用，但也可使用本领域技术人员已知的其他偶联剂。
如本领域技术人员已知，可通过将量子点材料与聚合物基体结合，并聚合和/或交联该基体来制备发光层130。量子点材料可包括一个或多个量子点材料群体。在将蓝光LED发出的蓝基色光下转换为量子点发出的二次光时，示例性量子点或量子点材料发出绿光和红光。可控制红光、绿光和蓝光相应的比例来实现由组装了量子点膜制品的显示器装置发射的白光所期望的白点。用于本发明所述的量子点膜制品的示例性量子点包括具有ZnS壳的CdSe。用于本发明所述的量子点膜制品的合适的量子点包括核/壳发光纳米晶体，包括CdSe/ZnS、InP/ZnS、PbSe/PbS、CdSe/CdS、CdTe/CdS或CdTe/ZnS。在示例性实施例中，发光纳米晶体包括外部配体涂层，并且该发光纳米晶体分散于聚合物基体中。量子点和量子点材料可从加利福尼亚州帕罗奥图的Nanosys公司(Nanosys Inc.,Palo Alto,CA)商购获得。量子点层可具有任意可用量的量子点。在许多实施例中，量子点层可具有0.1重量％至1重量％的量子点。
在一个或多个实施例中，量子点材料可包括散射小珠或散射颗粒。这些散射小珠或散射颗粒具有不同于环氧聚合物的折射率，诸如折射率差异为至少0.05或至少0.1。这些散射小珠或散射颗粒可包括诸如硅氧烷、丙烯酸、尼龙等聚合物。这些散射小珠或散射颗粒可包括诸如TiO2、SiOx、AlOx等无机物。加入散射颗粒可使得光学路径长度更长，并使量子点吸收和效率得到改善。在许多实施例中，上述颗粒的颗粒尺寸在1微米至10微米或2微米至6微米的范围内。在许多实施例中，量子点材料可包含填料诸如热解法二氧化硅。
发光层130中的聚合物基体可以是与量子点材料兼容的任意合适的聚合物，并且可以是例如在别处所描述的用于第一聚合物光滑层114和第二聚合物光滑层124以及第一外部聚合物层118和第二外部聚合物层128的任意(甲基)丙烯酸酯。在一个具体实施例中，第一外部聚合物层118和第二外部聚合物层128两者中的至少一种聚合物与发光层130中的至少一种聚合物是相同的。
图2示出了根据本发明的一个方面的用于形成发光装置200的过程201。图2中所示出的各元件200-232对应于图1中所示出的先前已描述的类似编号的元件100-132。可将成卷的发光层230展开、从模具挤出或涂布，或以其他方式进行提供(未示出提供发光层230的技术)，并且沿方向202移动经过具有相对设置的第一层压辊242和第二层压辊244的层压机240。同样，将成卷的第一阻挡膜210和第二阻挡膜220展开(未示出)，使其进入层压机240，并对其进行压制以便其分别与发光层230的第一主表面231和相对的第二主表面232相接触，形成未固化的层压体203。未固化的层压体203通过固化装置250，在固化装置250处，由一个或多个辐射源252,254(优选地为UV光源)对其进行照射，以形成发光装置200。
实例
实例1
在真空涂布机上按如下所述制备阻挡膜，该真空涂布机类似于美国专利5,440,446(Shaw等人)和7,018,713(Padiyath等人)中所述的涂布机。使用超声雾化和闪蒸将三环癸烷二甲醇二丙烯酸酯(SR833S，沙多玛(Sartomer))的涂层前体溶液蒸发并涂布到2密耳(50微米)厚、14英寸(36cm)宽的PET基材上，制成12.5英寸(32cm)宽的涂层。以恒定的线速度16fpm(5m/min)涂布该基材丙烯酸酯层。随后立即在下游使用以7.0kV和4.0mA操作的电子束将涂层固化。液体流入蒸发器的流速是1.33ml/min，气体的流量是60sccm并且蒸发器的温度是260℃。加工卷筒温度是0℃。固化处理之后立即进行后续的反应性AC溅射处理，在5kW功率下设置30nm硅氧化铝涂层。第三线上处理以类似的方式对第一层设置第二(顶部)丙烯酸酯层，不同的是使用如美国专利申请公布2012/0208033中所述的雾化器/闪蒸处理。第二丙烯酸酯层包含具有3重量％杂硅烷(购自宾夕法尼亚州莫里斯维尔的盖勒斯特有限公司(Gelest,Inc.,Morrisville,PA)的N-正丙基-氮杂-2,2-二曱氧基硅杂环戊烷)和1重量％IRGACURE 184(购自新泽西州弗洛勒姆帕克巴斯夫公司(BASF,Florham Park,NJ)的光引发剂)的SR833S混合物。液体流量是1.33ml/min，气体流量是60sccm，蒸发器温度是260℃。随后立即使用在254nm处具有高发射量(约0.5W/m2)且在低于220nm具有最小发射量的300W汞合金紫外光源对涂层进行固化。UV辐射的暴露时间根据固化过程期间不同的线速度而变化。
如下所述制备层压的膜构造。将表1中所示的100μm厚的基于双酚A的二丙烯酸酯混合物(EBECRYL 3600、114和130，所有购自新泽西州伍德兰帕克的氰特工业有限公司(Cytec Industries,Inc.,Woodland Park,NJ)，而DAROCUR 4265购自新泽西州弗洛勒姆帕克的巴斯夫公司(BASF,Florham Park,NJ))层涂布到两层阻挡膜之间。随后使用高输出Fusion F600D灯泡(购自马里兰州盖瑟斯堡的辐深紫外系统有限公司(Fusion UVSystems,Inc.,Gaithersburg,MD))在30fpm(9.1m/min)下对该构造进行UV固化。
表1
材料 商品名 重量％
胺改性的双酚A二丙烯酸酯 EBECRYL 3600 59.4％
丙烯酸苯氧基乙基酯 EBECRYL 114 19.80％
三环癸烷二甲醇二丙烯酸酯 EBECRYL 130 19.8％
光引发剂 DAROCUR 4265 1％
使用MOCON PERMATRAN-W(R)700WVTR型测试系统(购自明尼苏达州明尼阿波利斯的膜康公司(MOCON,Inc.,Minneapolis,MN))在50℃下对阻挡膜的水蒸气渗透率进行测试。本实例的测试值低于0.005g/m2/天的检测限。
使用PerkinElmer Lambda 900(购自马萨诸塞州沃尔瑟姆的珀金埃尔默公司(PerkinElmer,Inc.,Waltham,MA))对层压体膜构造进行测量，并且层压体膜构造在400nm-800nm的范围内示出平均90％的透射率。根据ASTM D1876-08“粘合剂抗剥离性的标准测试方法(T-剥离测试)”(Standard Test Method for Peel Resistance of Adhesives(T-Peel Test))测试层压体膜构造的剥离强度。当在300W汞合金UV光源下的暴露时间介于约0.1秒至约0.5秒之间时，剥离强度大于约200g/in(200g/25mm)，当暴露时间大于约1.5秒时，剥离强度为100g/in(100g/25mm)或更低。
比较例C-1
按照与实例1中所述方法类似的方法构造阻挡膜，不同的是使用电子束(EB)辐射来固化阻挡膜的第二(顶部)丙烯酸酯层。如实例1所述，使用具有100μm厚的丙烯酸酯涂层的阻挡膜样品来制备层压体膜构造。如表2所示，该构造赋予良好的阻隔性能，但电子束固化的阻挡膜和100μm厚的丙烯酸酯涂层之间具有较低的层间粘附力。
比较例C-2
按照与实例1中所述方法类似的方法构造阻挡膜，不同的是使用在185nm和254nm处具有高输出的300W UV辐射源来固化阻挡膜的第二(顶部)丙烯酸酯层。如实例1所述，使用具有100μm厚的丙烯酸酯涂层的阻挡膜样品来制备层压体膜构造。如表2所示，该构造赋予良好的阻隔性能，但185nm UV固化的阻挡膜和100μm厚的丙烯酸酯涂层之间具有较低的层间粘附力。
比较例C-3
按照与实例1中所述方法类似的方法构造阻挡膜，不同的是第二(顶部)丙烯酸酯的固化持续时间为约2秒或更长。如实例1所述，使用具有100μm厚的丙烯酸酯涂层的阻挡膜样品来制备层压体膜构造。如表2所示，该构造赋予良好的阻隔性能，但持续长时间UV固化的阻挡膜和100μm厚的丙烯酸酯涂层之间具有较低的层间粘附力。
对于实例1、比较例C-2和比较例C-3的样品，根据ASTM D1876-08“粘合剂抗剥离性的标准测试方法(T-剥离测试)”(Standard Test Method for Peel Resistance ofAdhesives(T-Peel Test))来测试剥离强度，并且使用MOCON PERMATRAN-W(R)700WVTR型测试系统在50℃下测试水蒸气传输速率(WVTR)。结果列于下表2和表3中。
表2
Figure BDA0001754969820000161
Figure BDA0001754969820000171
观察到粘附力与剂量呈反比关系。来自典型电子束固化赋予剥离力的数据结果小于5g/in。下表3示出了实例1和比较例C-3中的UV光源以及比较例C-2中的UV光源的剥离力与暴露时间的关系，其中实例1和比较例C-3中的UV光源具有低于220nm的最小输出，而比较例C-2中的UV光源具有低至185nm的高输出。
表3
Figure BDA0001754969820000172
实例2
按照与实例1中所述方法类似的方法构造阻挡膜。然后将约2密耳(50微米)的热熔乙烯-乙酸乙烯酯(EVA)粘合剂涂布于该阻挡膜上。通过将实例1中使用的PET基材附接到EVA粘合剂层来测试粘附力，然后根据ASTM D1876-08“粘合剂抗剥离性的标准测试方法(T-剥离测试)”(Standard Test Method for Peel Resistance of Adhesives(T-PeelTest))来测试剥离强度。在涂布过程中观察到，对于电子束固化的丙烯酸酯，所有被考虑施用的剂量都具有较低粘附力。观察到使用具有254nm高输出和低于220nm最小输出的实例1的UV光源并使用0.1秒–0.5秒暴露时间进行UV固化的阻挡膜具有良好的粘附力(剥离强度大于约200g/in)。
以下为本公开的实施例的列表。
项目1为一种装置，包括第一阻挡层、第二阻挡层和发光层，各阻挡层至少包括外部聚合物层，各外部聚合物层具有粘附接触表面；所述发光层包括设置在所述第一阻挡层和所述第二阻挡层之间的聚合物基体，其中各粘附接触表面与发光层接触，其中所述第一阻挡层和所述第二阻挡层与所述发光层之间的剥离强度为至少100克/英寸。
项目2为项目1所述的装置，其中所述第一阻挡层和所述第二阻挡层与所述发光层之间的剥离强度为至少200克/英寸。
项目3为项目1或项目2所述的装置，其中各所述第一阻挡层和所述第二阻挡层还包括至少一个无机氧化物层。
项目4为项目1至项目3所述的装置，其中所述第一阻挡层和所述第二阻挡层中的至少一个阻挡层还包括选自柔性玻璃、金属箔、或聚合物膜的基材。
项目5为项目1至项目4所述的装置，其中所述发光层还包含至少一个量子点。
项目6为项目1至项目5所述的装置，其中所述聚合物基体包含可固化(甲基)丙烯酸酯、可固化环氧物或它们的组合。
项目7为项目1至项目6所述的装置，其中所述发光层和各所述外部聚合物层在彼此接触时进行固化。
项目8为项目1至项目7所述的装置，其中各所述外部聚合物层包含辐射固化的(甲基)丙烯酸酯和任选地包含硅烷偶联剂。
项目9为项目1至项目8所述的装置，其中使用紫外(UV)光源、可见光源、热源或它们的组合将所述发光层和各所述外部聚合物层固化在一起。
项目10是一种装置，包括：阻挡膜，所述阻挡膜包括：具有相对的第一主表面和第二主表面的基材；与所述第二主表面相邻的无机氧化物层；在所述第二主面板和所述无机氧化物层之间的光滑聚合物层；设置在所述无机氧化物层上、与所述光滑聚合物层相对的外部聚合物层；和与所述外部聚合物层相邻设置的粘合层，其中所述阻挡膜与所述粘合层之间的剥离强度为至少100克/英寸。
项目11为项目10所述的装置，其中所述光滑聚合物层包含电子束固化的(甲基)丙烯酸酯。
项12为项目10或项目11所述的装置，其中所述粘合层包含辐射固化的(甲基)丙烯酸酯和任选地包含硅烷偶联剂。
项目13为项目10至项目12所述的装置，其中所述外部聚合物层包含UV辐射固化的(甲基)丙烯酸酯和任选地包含硅烷偶联剂。
项目14为项目10至项目13所述的装置，其中所述阻挡膜和所述粘合层之间的剥离强度为至少200克/英寸。
项目15为项目10至项目14所述的装置，其中所述基材选自柔性玻璃、金属箔或聚合物膜。
项目16为项目10至项目15所述的装置，还包括第二阻挡膜，所述第二阻挡膜具有：具有相对的第三主表面和第四主表面的第二基材、与所述第四主表面相邻的第二无机氧化物层、所述第四主表面和所述第二无机氧化物层之间的第二光滑聚合物层，和设置在所述第二无机氧化物层上、与所述第二光滑聚合物层相对的第二外部聚合物层，其中所述粘合层与所述第二无机氧化物层相邻设置且与所述第二光滑聚合物层相对。
项目17为项目16所述的装置，其中所述第二光滑聚合物层包含电子束固化的(甲基)丙烯酸酯。
项目18为项目16或项目17所述的装置，其中所述第二外部聚合物层包含UV辐射固化的(甲基)丙烯酸酯和任选地包含硅烷偶联剂。
项目19为项目16至项目18所述的装置，其中所述第二基材选自柔性玻璃、金属箔或聚合物膜。
项目20为项目10至项目19所述的装置，其中所述粘合层包括发光层。
项目21为项目20所述的装置，其中所述发光层还包含至少一个量子点。
项目22为项目10至项目21所述的装置，其中所述粘合层包含热熔性粘合剂。
项目23为项目22所述的装置，其中所述热熔性粘合剂包含乙烯-乙酸乙烯酯。
项目24为一种形成装置的方法，包括：在真空室中形成阻挡膜，所述阻挡膜具有外部辐射可固化聚合物层；至少部分固化所述外部辐射可固化聚合物层以在所述阻挡膜上形成粘附接触表面；以及在所述粘附接触表面形成粘合层。
项目25为项目24所述的方法，其中在所述粘附接触表面上形成所述粘合层之前，从所述真空室取出所述阻挡膜。
项目26为项目24或项目25所述的方法，其中所述粘合层是热熔性粘合剂层，并且形成所述粘合层包括将所述热熔性粘合剂层层压或涂布到所述粘附接触表面上。
项目27为项目24至项目26所述的方法，其中至少部分固化包括紫外(UV)辐射固化。
项目28为项目24至项目27所述的方法，其中所述外部辐射可固化聚合物层包含辐射可固化(甲基)丙烯酸酯。
项目29为项目24至项目28所述的方法，其中所述外部辐射可固化聚合物层还包含硅烷偶联剂。
项目30为项目24至项目29所述的方法，其中所述外部辐射可固化聚合物层还包含聚合抑制剂。
项目31为项目30所述的方法，其中所述聚合抑制剂包括厌氧聚合抑制剂。
项目32为项目31所述的方法，其中所述厌氧聚合抑制剂选自二乙基羟胺、四甲基苯二胺、水杨醛肟、四甲基苯二胺、乙酸锰、4-羟基TEMPO、NPAL或吩噻嗪、以及它们的组合。
项目33为项目24至项目32所述的方法，其中使用紫外(UV)光源、可见光源、热源或它们的组合将所述粘合层和所述外部辐射可固化聚合物层进一步固化在一起。
项目34为项目24至项目33所述的方法，其中所述阻挡膜包括与所述外部辐射可固化聚合物层相对的基材，所述基材选自柔性玻璃、金属箔或聚合物膜。
项目35为一种形成装置的方法，包括：在真空室中形成阻挡膜，所述阻挡膜具有外部辐射可固化聚合物层；至少部分固化所述外部辐射可固化聚合物层以在所述阻挡膜上形成粘附接触表面；将所述阻挡膜层压至包含可固化聚合物基体的粘合层，使所述粘附接触表面与所述粘合层接触；以及固化所述层压体。
项目36为项目35所述的方法，其中在将所述阻挡膜层压至所述粘合层之前，将所述阻挡膜从所述真空室取出。
项目37为项目35或项目36所述的方法，其中至少部分固化包括紫外(UV)辐射固化。
项目38为项目35至项目37所述的方法，其中固化所述层压体包括热固化、紫外(UV)辐射固化、可见光辐射固化、电子束固化或它们的组合。
项目39为项目35至项目38所述的方法，其中所述粘合层包括相对的第一主表面和第二主表面，并且层压所述阻挡膜包括将所述阻挡膜层压至所述粘合层的各个所述第一主表面和第二主表面。
项目40为项目35至项目39所述的方法，其中所述外部辐射可固化聚合物层包含辐射可固化(甲基)丙烯酸酯。
项目41为项目35至项目40所述的方法，其中所述外部辐射可固化聚合物层还包含硅烷偶联剂。
项目42为项目35至项目41所述的方法，其中所述外部辐射可固化聚合物层还包含聚合抑制剂。
项目43为项目35至项目42所述的方法，其中所述聚合抑制剂包括厌氧聚合抑制剂。
项目44为项目35至项目43所述的方法，其中所述厌氧聚合抑制剂选自二乙基羟胺、四甲基苯二胺、水杨醛肟、四甲基苯二胺、乙酸锰、4-羟基TEMPO、NPAL或吩噻嗪、以及它们的组合。
项目45为项目35至项目44所述的方法，其中使用紫外(UV)光源、可见光源、热源或它们的组合，将所述粘合层和所述外部辐射可固化聚合物层固化在一起。
项目46为项目35至项目45所述的方法，其中所述可固化聚合物基体包含(甲基)丙烯酸酯单体和至少一个量子点。
项目47为项目35至项目46所述的方法，其中所述阻挡膜还包括至少一个无机氧化物层。
项目48为项目35至项目47所述的方法，其中至少部分固化包括使用UV辐射，该UV辐射具有在约254nm中心周围的波长谱，并且基本上不具有低于220nm波长的输出。
项目49为项目35至项目48所述的方法，其中至少部分固化包括暴露于强度低于约0.5W/m2的UV辐射达0.1秒至1.5秒。
项目50为项目35至项目49所述的方法，其中至少部分固化包括暴露于约0.5W/m2的254nm的UV强度达约0.1秒至约1.5秒的持续时间。
项目51为项目35至项目50所述的方法，其中至少部分固化包括使用可见光辐射固化。
项目52为项目35至项目51所述的方法，其中所述阻挡膜包括与所述外部辐射可固化聚合物层相对的基材，所述基材选自柔性玻璃、金属箔或聚合物膜。
项目53为一种显示器，所述显示器包括：根据项目1至项目23中任一项目所述的装置；设置用于照明所述装置照明的灯；和设置在所述灯和所述装置之间的液晶显示面板。
除非另外指明，否则说明书和权利要求中使用的表示特征尺寸、数量和物理性能的所有数字应当被理解为由术语“约”来修饰。因此，除非有相反的说明，否则在上述说明书和所附权利要求书中列出的数值参数均为近似值，这些近似值可根据本领域技术人员利用本文所公开的教导内容来寻求获得的期望性能而变化。
除能够与本公开直接冲突的部分之外，本文中引用的所有参考文献及出版物全文以引用方式明确地并入本文中。虽然本文已经举例说明并描述了具体实施例，但本领域的普通技术人员将会知道，在不脱离本公开的范围的情况下，可用多种另选和/或等同形式的具体实施来代替所示出的和所描述的具体实施例。本专利申请旨在涵盖本文所讨论的具体实施例的任何调整或变型。因此，本公开旨在仅受权利要求书及其等同形式的内容限制。

Claims (11)

1.一种包括阻挡膜的装置，所述阻挡膜包括：
基材，所述基材具有相对的第一主表面和第二主表面；
无机氧化物层，所述无机氧化物层设置在所述第二主表面上；
光滑聚合物层，所述光滑聚合物层在所述第二主表面和所述无机氧化物层之间；和
外部聚合物层，所述外部聚合物层设置在所述无机氧化物层上、与所述光滑聚合物层相对；
所述装置还包括粘合层，所述粘合层直接设置在所述外部聚合物层上，
其中所述阻挡膜和所述粘合层之间的剥离强度为至少100克/英寸，其中所述外部聚合物层包含UV辐射固化的(甲基)丙烯酸酯以及任选地包含硅烷偶联剂，并且
其中所述粘合层包含辐射固化的(甲基)丙烯酸酯以及任选地包含硅烷偶联剂，或者所述粘合层包含热熔性粘合剂。
2.根据权利要求1所述的装置，其中所述光滑聚合物层包含电子束固化的(甲基)丙烯酸酯。
3.根据权利要求1所述的装置，其中所述阻挡膜和所述粘合层之间的剥离强度为至少200克/英寸。
4.根据权利要求1所述的装置，其中所述基材选自柔性玻璃、金属箔或聚合物膜。
5.根据权利要求1所述的装置，还包括第二阻挡膜，所述第二阻挡膜包括：
第二基材，所述第二基材具有相对的第三主表面和第四主表面；
第二无机氧化物层，所述第二无机氧化物层设置在所述第四主表面上；
第二光滑聚合物层，所述第二光滑聚合物层在所述第四主表面和所述第二无机氧化物层之间；和
第二外部聚合物层，所述第二外部聚合物层设置在所述第二无机氧化物层上、与所述第二光滑聚合物层相对，
其中所述粘合层设置在所述第二无机氧化物层上，并且与所述第二光滑聚合物层相对。
6.根据权利要求5所述的装置，其中所述第二光滑聚合物层包含电子束固化的(甲基)丙烯酸酯。
7.根据权利要求5所述的装置，其中所述第二外部聚合物层包含UV辐射固化的(甲基)丙烯酸酯和任选地包含硅烷偶联剂。
8.根据权利要求5所述的装置，其中所述第二基材选自柔性玻璃、金属箔或聚合物膜。
9.根据权利要求1所述的装置，其中所述粘合层包括发光层。
10.根据权利要求9所述的装置，其中所述发光层还包含至少一个量子点。
11.根据权利要求1所述的装置，其中所述热熔性粘合剂包含乙烯-乙酸乙烯酯。
CN201810883226.9A 2013-07-24 2014-07-22 粘性阻挡膜构造 Active CN108987610B (zh)

Applications Claiming Priority (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
US201361857831P 2013-07-24 2013-07-24
US61/857,831 2013-07-24
CN201480041676.3A CN105431477B (zh) 2013-07-24 2014-07-22 粘性阻挡膜构造

Related Parent Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CN201480041676.3A Division CN105431477B (zh) 2013-07-24 2014-07-22 粘性阻挡膜构造

Publications (2)

Publication Number Publication Date
CN108987610A CN108987610A (zh) 2018-12-11
CN108987610B true CN108987610B (zh) 2021-08-10

Family

ID=51266451

Family Applications (2)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CN201810883226.9A Active CN108987610B (zh) 2013-07-24 2014-07-22 粘性阻挡膜构造
CN201480041676.3A Active CN105431477B (zh) 2013-07-24 2014-07-22 粘性阻挡膜构造

Family Applications After (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CN201480041676.3A Active CN105431477B (zh) 2013-07-24 2014-07-22 粘性阻挡膜构造

Country Status (7)

Country Link
US (1) US10199603B2 (zh)
EP (1) EP3024883A1 (zh)
JP (1) JP2016525234A (zh)
KR (1) KR102279390B1 (zh)
CN (2) CN108987610B (zh)
TW (1) TW201522073A (zh)
WO (1) WO2015013225A1 (zh)

Families Citing this family (40)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
GB2514139A (en) 2013-05-14 2014-11-19 Aghababaie Lin & Co Ltd Apparatus for fabrication of three dimensional objects
US10166725B2 (en) 2014-09-08 2019-01-01 Holo, Inc. Three dimensional printing adhesion reduction using photoinhibition
JP6305319B2 (ja) * 2014-11-14 2018-04-04 富士フイルム株式会社 波長変換部材及びそれを備えたバックライトユニット、液晶表示装置並びに波長変換部材の製造方法
KR102230594B1 (ko) * 2014-12-26 2021-03-22 엔에스 마테리얼스 아이엔씨. 파장 변환 부재 및 그 제조 방법
EP3070109B1 (en) * 2015-03-16 2018-12-05 Rohm and Haas Electronic Materials LLC Multilayer polymer composite for encapsulating quantum dots
KR20160136696A (ko) * 2015-05-20 2016-11-30 삼성에스디아이 주식회사 광학 필름, 이의 제조 방법 및 상기 광학 필름을 포함하는 백라이트 유닛 및 소자
KR20170011724A (ko) * 2015-07-24 2017-02-02 코오롱인더스트리 주식회사 배리어필름 및 그 제조방법
CN107850700B (zh) 2015-08-05 2021-04-13 3M创新有限公司 光学漫射膜层压体及其制造方法
KR102673419B1 (ko) * 2015-09-07 2024-06-07 도판 홀딩스 가부시키가이샤 파장 변환 시트용 보호 필름 및 그 제조 방법, 그리고 파장 변환 시트 및 백라이트 유닛
US11141919B2 (en) 2015-12-09 2021-10-12 Holo, Inc. Multi-material stereolithographic three dimensional printing
JP2019504783A (ja) * 2016-02-01 2019-02-21 スリーエム イノベイティブ プロパティズ カンパニー バリア複合体
JP6679969B2 (ja) * 2016-02-10 2020-04-15 大日本印刷株式会社 光波長変換シート、バックライト装置、画像表示装置、および光波長変換シートの製造方法
JP2017152256A (ja) * 2016-02-25 2017-08-31 株式会社ジャパンディスプレイ 表示装置
WO2017165522A1 (en) 2016-03-25 2017-09-28 3M Innovative Properties Company Multilayer barrier films
TWI796290B (zh) * 2016-04-12 2023-03-21 美商羅門哈斯電子材料有限公司 聚合物複合物及其製造方法
CN109476865B (zh) * 2016-07-22 2022-08-19 3M创新有限公司 结构化膜及其制品
DE102016213911A1 (de) * 2016-07-28 2018-02-01 Tesa Se OLED kompatible Klebemassen mit cyclischen Azasilanwasserfängern
CN108389982B (zh) * 2016-08-23 2020-03-27 苏州星烁纳米科技有限公司 发光二极管装置及显示装置
CN106292073A (zh) * 2016-10-09 2017-01-04 纷响新材料科技（上海）有限公司 一种长寿命量子点膜及其制备方法
US10804417B2 (en) 2016-10-12 2020-10-13 Kateeva, Inc. Display devices utilizing quantum dots and inkjet printing techniques thereof
CN106590663A (zh) * 2016-12-05 2017-04-26 纳晶科技股份有限公司 量子点膜及含其的背光模组
CN110225820B (zh) * 2017-01-25 2022-01-28 东洋纺株式会社 高分子膜层叠基板以及柔性电子设备的制造方法
US10935891B2 (en) 2017-03-13 2021-03-02 Holo, Inc. Multi wavelength stereolithography hardware configurations
GB2564956B (en) 2017-05-15 2020-04-29 Holo Inc Viscous film three-dimensional printing systems and methods
US10274416B2 (en) * 2017-05-18 2019-04-30 The Boeing Company Peel adhesion test specimens and method for their preparation
US10245785B2 (en) 2017-06-16 2019-04-02 Holo, Inc. Methods for stereolithography three-dimensional printing
US10919770B2 (en) * 2017-06-23 2021-02-16 Nanosys, Inc. Homogeneous anaerobically stable quantum dot concentrates
DE102017114266B9 (de) * 2017-06-27 2020-09-17 Certoplast Technische Klebebänder Gmbh Verfahren zur Herstellung eines Wickelbandes
CN107238973A (zh) * 2017-07-19 2017-10-10 苏州星烁纳米科技有限公司 量子点膜及其制备方法
CN107329319A (zh) * 2017-07-21 2017-11-07 苏州星烁纳米科技有限公司 量子点膜片及其制备方法、背光模组
CN110549706A (zh) * 2018-05-31 2019-12-10 可隆工业株式会社 光学片、光学片的制造方法及显示装置
KR20210042929A (ko) 2018-08-15 2021-04-20 쓰리엠 이노베이티브 프로퍼티즈 컴파니 마이크로렌즈 어레이를 포함하는 광학 요소
CN111819259B (zh) * 2018-11-12 2021-03-16 日东电工株式会社 偏振膜、层叠偏振膜、图像显示面板、以及图像显示装置
CN117067579A (zh) 2018-12-26 2023-11-17 霍洛公司 用于三维打印系统和方法的传感器
CN110239117B (zh) * 2019-06-04 2021-06-29 苏州星烁纳米科技有限公司 一种量子点膜的制作方法及量子点膜
CN113122050B (zh) * 2019-12-30 2022-11-04 Tcl科技集团股份有限公司 量子点墨水及量子点薄膜的制备方法
KR20210126202A (ko) * 2020-04-09 2021-10-20 삼성디스플레이 주식회사 표시 장치 및 그 제조 방법
CN113764598A (zh) * 2020-06-03 2021-12-07 咸阳彩虹光电科技有限公司 一种薄膜封装结构、oled显示面板及显示器
CN112768614A (zh) * 2020-12-28 2021-05-07 华灿光电（浙江）有限公司 量子点发光二极管及其制备方法
CN114935849B (zh) * 2022-05-13 2023-05-05 福耀玻璃工业集团股份有限公司 调光组件及其制备方法、车辆

Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN102985255A (zh) * 2010-07-02 2013-03-20 3M创新有限公司 用于阻挡膜的防潮涂层
CN103079818A (zh) * 2010-07-02 2013-05-01 3M创新有限公司 阻挡组件

Family Cites Families (40)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5125138A (en) 1983-12-19 1992-06-30 Spectrum Control, Inc. Miniaturized monolithic multi-layer capacitor and apparatus and method for making same
US5032461A (en) 1983-12-19 1991-07-16 Spectrum Control, Inc. Method of making a multi-layered article
US5097800A (en) 1983-12-19 1992-03-24 Spectrum Control, Inc. High speed apparatus for forming capacitors
US5018048A (en) 1983-12-19 1991-05-21 Spectrum Control, Inc. Miniaturized monolithic multi-layer capacitor and apparatus and method for making
US4842893A (en) 1983-12-19 1989-06-27 Spectrum Control, Inc. High speed process for coating substrates
US4722515A (en) 1984-11-06 1988-02-02 Spectrum Control, Inc. Atomizing device for vaporization
EP0242460A1 (en) 1985-01-18 1987-10-28 SPECTRUM CONTROL, INC. (a Pennsylvania corporation) Monomer atomizer for vaporization
US4954371A (en) 1986-06-23 1990-09-04 Spectrum Control, Inc. Flash evaporation of monomer fluids
JP2825736B2 (ja) 1993-07-30 1998-11-18 京セラ株式会社 誘電体磁器組成物および半導体素子収容用パッケージ
AU694143B2 (en) 1993-10-04 1998-07-16 3M Innovative Properties Company Cross-linked acrylate coating material useful for forming capacitor dielectrics and oxygen barriers
US5440446A (en) 1993-10-04 1995-08-08 Catalina Coatings, Inc. Acrylate coating material
US6083628A (en) 1994-11-04 2000-07-04 Sigma Laboratories Of Arizona, Inc. Hybrid polymer film
US6045864A (en) 1997-12-01 2000-04-04 3M Innovative Properties Company Vapor coating method
CA2353506A1 (en) 1998-11-02 2000-05-11 3M Innovative Properties Company Transparent conductive oxides for plastic flat panel displays
CA2401459A1 (en) * 2000-03-06 2001-09-13 Teledyne Lighting And Display Products, Inc. Lighting apparatus having quantum dot layer
US7018713B2 (en) * 2003-04-02 2006-03-28 3M Innovative Properties Company Flexible high-temperature ultrabarrier
TWI404448B (zh) 2006-12-27 2013-08-01 Ind Tech Res Inst 有機電激發光裝置
JP2008238541A (ja) * 2007-03-27 2008-10-09 Toppan Printing Co Ltd 透明導電膜付ガスバリアフィルムおよびその製造方法
JP2010006039A (ja) * 2007-09-05 2010-01-14 Fujifilm Corp ガスバリアフィルムおよびガスバリアフィルムを用いて表示素子を封止する方法。
JP5267009B2 (ja) 2007-09-28 2013-08-21 大日本印刷株式会社 発光デバイス
US20090169904A1 (en) * 2007-12-27 2009-07-02 Makoto Yamada Barrier laminate, gas-barrier film, device and optical component
EP2281420B1 (en) * 2008-04-09 2014-10-15 Agency for Science, Technology And Research Multilayer film for encapsulating oxygen and/or moisture sensitive electronic devices
US8099949B2 (en) 2008-05-15 2012-01-24 Ford Global Technologies, Llc Engine exhaust temperature regulation
JP5093049B2 (ja) * 2008-10-27 2012-12-05 コニカミノルタホールディングス株式会社 有機エレクトロニクス素子、その製造方法、及び製造装置
US20110223434A1 (en) 2008-11-17 2011-09-15 Roehrig Mark A Gradient composition barrier
JP5281986B2 (ja) * 2009-08-26 2013-09-04 富士フイルム株式会社 積層フィルムおよび複合フィルム
JP5414426B2 (ja) 2009-09-01 2014-02-12 富士フイルム株式会社 複合フィルム
JP5485624B2 (ja) * 2009-09-14 2014-05-07 富士フイルム株式会社 バリア性積層体およびこれを用いたガスバリアフィルム
JP5523382B2 (ja) * 2010-03-19 2014-06-18 富士フイルム株式会社 ガスバリアフィルムの製造方法及びガスバリアフィルム
JP2012020409A (ja) 2010-07-12 2012-02-02 Fujifilm Corp バリア性積層体、ガスバリアフィルムおよびこれらを用いたデバイス、ならびに、バリア性積層体の製造方法
US20130323519A1 (en) 2011-01-31 2013-12-05 3M Innovative Properties Company Coatings for barrier films and methods of making and using the same
US20130302627A1 (en) 2011-01-31 2013-11-14 3M Innovative Properties Company Vapor-deposited coating for barrier films and methods of making and using the same
US20140124813A1 (en) 2011-07-05 2014-05-08 Dexerials Corporation Phosphor sheet-forming resin composition
JP5631822B2 (ja) * 2011-08-24 2014-11-26 富士フイルム株式会社 バリア性積層体およびガスバリアフィルム
JP6193245B2 (ja) * 2011-10-24 2017-09-06 テラ‐バリア フィルムズ プライベート リミテッド カプセル化バリアスタック
KR101437142B1 (ko) * 2011-10-28 2014-09-02 제일모직주식회사 그라핀 층을 함유하는 배리어 필름과 이를 포함하는 플렉시블 기판 및 그 제조방법
US20150213990A1 (en) 2012-08-08 2015-07-30 3M Innovative Properties Company Barrier film constructions and methods of making same
JP2015532663A (ja) 2012-08-08 2015-11-12 スリーエム イノベイティブ プロパティズ カンパニー 尿素（マルチ）−ウレタン（メタ）アクリレート−シラン組成物及びこれを含む物品
TWI610806B (zh) 2012-08-08 2018-01-11 ３Ｍ新設資產公司 障壁膜，製造該障壁膜之方法，及包含該障壁膜之物件
US10316245B2 (en) 2013-01-21 2019-06-11 3M Innovative Properties Company Quantum dot film

Patent Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN102985255A (zh) * 2010-07-02 2013-03-20 3M创新有限公司 用于阻挡膜的防潮涂层
CN103079818A (zh) * 2010-07-02 2013-05-01 3M创新有限公司 阻挡组件

Also Published As

Publication number Publication date
WO2015013225A1 (en) 2015-01-29
KR102279390B1 (ko) 2021-07-21
CN105431477B (zh) 2019-09-17
CN105431477A (zh) 2016-03-23
CN108987610A (zh) 2018-12-11
KR20160034364A (ko) 2016-03-29
TW201522073A (zh) 2015-06-16
JP2016525234A (ja) 2016-08-22
US10199603B2 (en) 2019-02-05
EP3024883A1 (en) 2016-06-01
US20160164031A1 (en) 2016-06-09

Similar Documents

Publication Publication Date Title
CN108987610B (zh) 粘性阻挡膜构造
TWI517976B (zh) 濕氣障壁塗層
EP2882591B1 (en) Barrier film, method of making the barrier film, and articles including the barrier film
US8846169B2 (en) Flexible encapsulating film systems
JP6527053B2 (ja) ガスバリアフィルムおよびガスバリアフィルムの転写方法
CN108156813B (zh) 多层阻隔涂层
US10982064B2 (en) Multilayer barrier films
US20150243816A1 (en) Methods of making barrier assemblies
JP2009226718A (ja) バリア性積層体とその製造方法、バリア性フィルム基板、デバイスおよび光学部材
JP6377541B2 (ja) フレキシブルデバイスの製造方法、および、フレキシブルデバイス積層体
JP6850285B2 (ja) プライマー層形成用硬化性組成物、ガスバリア性積層フィルムおよびガスバリア性積層体
WO2015198991A1 (ja) 電子デバイスの製造方法および複合フィルム
EP3337848A1 (en) Composite article including a multilayer barrier assembly and methods of making the same
CN108137832B (zh) 多层阻隔叠堆
WO2017031298A1 (en) Composite article and methods of making the same
CN108137204B (zh) 多层阻挡叠堆

Legal Events

Date Code Title Description
PB01 Publication
PB01 Publication
SE01 Entry into force of request for substantive examination
SE01 Entry into force of request for substantive examination
GR01 Patent grant
GR01 Patent grant