KR20170011724A - 배리어필름 및 그 제조방법 - Google Patents

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KR20170011724A
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Abstract

본 발명은 기재; 상기 기재 상에 형성된 언더코팅층; 상기 언더코팅층 상에 형성된 무기물층; 및 상기 무기물층 상에 형성되며 열가소성 수지 및 열경화성 수지를 함께 포함하는 오버코팅층;을 포함하는 배리어필름 및 서로 대향하는 상기 2장의 배리어필름; 및 상기 2장의 배리어필름의 오버코팅층 사이에 형성되는 양자점이 분산된 고분자 수지층;을 포함하는 광학시트에 관한 것으로서, 본 발명의 광학시트는 고온·고습 조건 하에서 안정성이 뛰어난 오버코팅층을 포함함으로써 고온·고습 조건 하에서 무기물층 및 고분자 수지층과의 충분한 접착력을 유지하고, 또한 언더코팅층을 포함함으로써 고온·고습 조건 하에서 무기물층에 크랙이 발생하는 것을 방지하여 배리어성능을 지속적으로 유지하고 나아가 광학시트의 휘도 저하를 방지한다.

Description

배리어필름 및 그 제조방법{Barrier film and preparing the same}
본 발명은 배리어필름 및 그 제조방법에 관한 것이다.
양자점(quantum dot)은 수 나노 크기의 결정 구조를 가진 반도체 물질로서, 그 크기에 따라 방출하는 파장이 다른 특성을 지니며, 이러한 양자점을 형광물질 또는 발광물질로 사용하여, 디스플레이의 특성을 향상시키거나 디스플레이 자체로 활용할 수 있음이 알려져 있다. 한편, 상기 양자점은 예를 들어 백라이트 유닛(BLU)에 들어가는 고분자 광학시트 내에 소량으로 결합되어 사용되고 있다.
그러나 상기 양자점은 공기 중의 수분과 산소에 노출되면 표면산화에 의한 산화 문제점이 있어, 이를 보완하기 위한 방법으로 2장의 배리어필름 사이에 양자점이 분산된 고분자 수지를 분산시킨 후 경화시켜 광학시트로 제조하는 것이 일반적이며, 상기 광학시트는 청색 BLU 모듈의 도광판 위에 배치(on-surface 방식)되고 있다. 한편 상기 광학시트는 소형부터 대형까지 다양한 디스플레이 화면 크기에 대응할 수 있다.
한편, 상기와 같은 광학시트는 배리어필름으로 인하여 수분과 산소에 대한 어느 정도의 배리어성능은 가지고 있으나, 고온·고습 조건에 노출 시 배리어필름의 배리어성능이 급격히 떨어지게 되는 문제점이 있고, 이에 따라 광학시트의 휘도를 안정적으로 유지할 수 없는 문제점이 있다. 또한, 배리어필름의 주요 구성인 무기물층은 일반적으로 친수성을 가지고, 양자점이 분산된 고분자 수지층은 일반적으로 소수성을 가지므로, 상기 무기물층과 고분자 수지층 사이에 삽입되는 오버코팅층은 무기물층 및 고분자 수지층 양쪽 모두에 대한 접착력을 필요로 한다. 한편, 상기 오버코팅층 조성의 완성도가 떨어지는 경우 충분한 접착력을 확보하기 어렵고, 이에 따라 고온·고습 조건에 노출 시 고분자 수지층으로부터 무기물층을 비롯한 배리어층이 박리되는 문제점이 있으며, 이는 광학시트의 수명과 안정성에 악영향을 미치기 때문에 이를 개선하기 위한 노력이 필요한 실정이다.
대한민국 공개특허 제2010-0029519호(2010.03.17)
본 발명은 고온·고습 조건 하에서 안정성이 뛰어난 오버코팅층을 포함함으로써 고온·고습 조건 하에서 무기물층 및 고분자 수지층과의 충분한 접착력을 유지하는 배리어필름을 제공하고자 한다. 더 나아가, 언더코팅층을 포함함으로써 고온·고습 조건 하에서 무기물층에 크랙(crack)이 발생하는 것을 방지하여 배리어 성능을 지속적으로 유지하고, 나아가 광학시트의 휘도 저하를 방지하는 배리어필름을 제공한다.
상기 과제를 달성하기 위한 본 발명의 일실시예에서, 기재; 상기 기재 상에 형성된 언더코팅층; 상기 언더코팅층 상에 형성된 무기물층; 및 상기 무기물층 상에 형성되며 열가소성 수지 및 열경화성 수지를 함께 포함하는 오버코팅층;을 포함하는 배리어필름을 제공한다.
본 발명의 또 다른 일실시예에서, 서로 대향하는 상기 2장의 배리어필름; 및 상기 2장의 배리어필름의 오버코팅층 사이에 형성되는 양자점이 분산된 고분자 수지층;을 포함하는 광학시트를 제공한다.
본 발명의 또 다른 일실시예에서, a) 준비된 기재 상에 언더코팅 조성물을 도포하여 언더코팅층을 형성하는 단계; b) 상기 언더코팅층 상에 무기물층을 형성하는 단계; c) 열가소성 수지 및 열경화성 수지를 포함하는 오버코팅 조성물을 상기 무기물층 상에 도포하여 오버코팅층을 형성하고, 열경화하여 배리어필름을 제조하는 단계; 및 d) 상기 2장의 배리어필름 사이에 양자점이 분산된 고분자 조성물을 도포하고 UV 경화하는 단계;를 더 포함하는 광학시트 제조방법을 제공한다.
본 발명에 따른 배리어필름은 고온·고습 조건 하에서 안정성이 뛰어난 오버코팅층을 포함함으로써 고온·고습 조건 하에서 무기물층 및 고분자 수지층과의 충분한 접착력을 유지하게 된다.
또한, 본 발명에 따른 배리어필름은 언더코팅층을 포함함으로써 고온·고습 조건 하에서 무기물층에 크랙(crack)이 발생하는 것을 방지하여 배리어 성능을 지속적으로 유지하고, 나아가 광학시트의 휘도 저하를 방지한다.
도 1은 본 발명의 일실시예에 따른 배리어필름의 구조를 도식화한 것이다.
도 2는 본 발명의 일실시예에 따른 광학시트의 구조를 도식화한 것이다.
본 발명에 따른 배리어필름은 도 1에 도시된 바와 같이 기재(10); 상기 기재 상에 형성된 언더코팅층(20); 상기 언더코팅층 상에 형성된 무기물층(30); 및 상기 무기물층 상에 형성되며 열가소성 수지 및 열경화성 수지를 함께 포함하는 오버코팅층(40);을 포함한다(도 1 참조).
종래의 기술에 따른 배리어필름의 경우 일반적으로 UV 경화 타입의 오버코팅층을 적용함으로써, 경화 시 급격한 수축에 의해 무기물층에 크랙(crack)이 발생하거나 미반응 모노머(monomer)의 표면 마이그레이션(migration)에 의한 접착불량 등의 문제점이 있었다.
반면, 본 발명에 따른 배리어필름은 열가소성 수지와 열경화성 수지의 혼합 조성을 적용하여 오버코팅층을 구성하였는 바, 상기 오버코팅층은 고온·고습 조건 하에서 무기물층 및 고분자 수지층과 양호한 접착력을 지속적으로 가진다. 또한, 내열성이 우수한 언더코팅층을 포함함으로써 고온·고습 조건 하에서도 배리어 성능을 지속적으로 유지할 수 있게 된다.
한편, 본 발명에 있어서, 층이라 함은 단층 혹은 1층 이상의 다층 구조로 형성되는 것을 의미하는 것일 수 있다.
이하, 본 발명을 상세히 살펴본다.
배리어필름
기재
본 발명의 배리어필름에 있어서 기재는 화학적 내지 물리적 강도가 우수하고, 무기물층을 형성하는 조건에 견디며, 상기 형성되는 무기물층 등의 특성을 손상시키지 않고 양호하게 보존할 수 있는 것일 수 있고, 또한 투명성을 가지는 것일 수 있다.
본 발명의 일실시예에서, 상기 기재는 환상 폴리올레핀계 수지; 폴리스티렌계 수지; 아크릴로니트릴-스티렌 공중합체(AS 수지); 아크릴로니트릴-부타디엔-스티렌 공중합체(ABS 수지); 폴리(메타)아크릴계 수지; 폴리카보네이트계 수지, 폴리에틸렌테레프탈레이트 및 폴리에틸렌나프탈레이트를 포함하는 폴리에스테르계 수지; 나일론을 포함하는 폴리아마이드계 수지; 폴리우레탄계 수지; 아세탈계 수지; 및 셀룰로오스계 수지;로 이루어지는 군에서 선택되는 1종 이상의 수지로 제조된 필름 또는 시트 형태일 수 있다.
한편, 기재는 상기 고분자 수지 1종 또는 그 이상을 이용하여 압출법, 캐스트 성형법, T다이법, 절삭법, 인플레이션법 등의 제막화법을 이용하여 상기 각종 수지를 단독으로 제막화하는 방법, 또는 2종 이상의 고분자 수지를 사용하여 다층 공압출 제막화하는 방법, 더 나아가 2종 이상의 수지를 사용하여 제막화하기 전에 혼합하여 제막화하는 방법 등에 의해 제조된 것일 수 있고, 또한 텐터(tenter) 방식 또는 튜블러(tubular) 방식 등을 이용하여 1축 혹은 2축 방향으로 연신하여 제조된 것일 수 있다.
또한, 상기 기재는 필요에 따라 필름 제막 공정 및 제막 공정 이후에 표면 처리된 것일 수 있는데, 상기 표면 처리는 코로나 처리, 플라즈마 처리, 이온 빔 처리, 스퍼터링 처리 또는 코팅 처리일 수 있다. 코팅 수지로는 우레탄계, 아크릴계, 폴리에스테르계 중 기재의 양면에 선택적으로 적용할 수 있다.
한편, 상기 기재의 두께는 예를 들어 25 내지 188 ㎛, 더욱 상세하게는 50 내지 125 ㎛ 일 수 있으며, 상기 범위 내에서 충분한 내열 성능, 기계적 물성 및 가스 차단성능을 확보하도록 조절 가능하다.
한편, 본 발명의 일실시예에 따른 기재는 일면 혹은 양면에 매트코팅(Matt coating) 처리된 것일 수 있으며, 상세하게는 기재의 표면 중 언더코팅층과 접촉하는 면의 반대면에 매트코팅 처리된 것일 수 있다.
상기 기재가 매트코팅 처리되면 다른 광학시트와 접촉 시 접촉 면적이 줄어들어 wet-out이 발생하는 것을 줄일 수 있으며, 매트코팅에 의해 부여되는 헤이즈(haze)로 인하여, 기재 자체 혹은 외부 요인에 의한 기재의 디펙트(defect)를 육안으로 보이지 않게 하는 효과를 부여할 수 있다. 또한, 상기 매트코팅은 빛의 확산을 높여줌으로써 위치별 광 효율을 균일하게 만들 수 있게 된다.
언더코팅층
일반적으로 배리어필름에 있어서 언더코팅층은 평탄화층 역할을 수행하여 기재의 조도를 낮춤으로써 무기물층 성막 시, 치밀한 구조로서 defect가 없는 무기물층을 형성할 수 있도록 한다.
본 발명에서 상기 언더코팅층은 평탄화 기능 이외에도 유리전이온도(Tg) 조절을 통해 고온·고습 조건 하에서 열팽창 또는 열수축으로 인한 무기물층 하단의 유동 및 이로 인하여 발생되는 무기물층의 크랙(crack) 발생을 방지하는 역할 또한 수행한다. 이를 통하여 본 발명의 배리어필름은 고온·고습 조건 하에서도 배리어 성능을 균일하게 유지하며, 광학시트의 휘도 감소가 효과적으로 방지된다.
특히 본 발명에 있어서 상기 언더코팅층을 형성하는 언더코팅 조성물에 포함되는 고분자 수지는 기재를 구성하는 고분자 수지 대비 상대적으로 높은 유리전이 온도(Tg)를 가지는 것을 특징으로 한다. 예를 들어 PET 기재를 사용하는 경우, 언더코팅층 조성물에 포함되는 고분자 수지는 80 내지 250℃의 유리전이 온도, 더욱 상세하게는 80 내지 200℃의 유리전이 온도를 가지는 것일 수 있다.
언더코팅층에 포함되는 고분자 수지가 상기와 같이 기재를 구성하는 고분자 수지 대비 상대적으로 높은 유리전이 온도를 가짐으로써 고온에서 무기물층 성막 시 언더코팅층의 수축을 방지하여 무기물층에 크랙이 발생하는 것을 최소화할 수 있고, 이에 따라 배리어 성능이 감소하는 것을 방지할 수 있으며, 또한 고온 신뢰성 평가 시 내열성을 확보해 무기물층에 크랙이 발생하는 것을 방지할 수 있게 된다.
본 발명의 일실시예에서, 상기 언더코팅층은 비스페놀 A계 아크릴레이트, 나프탈렌계 아크릴레이트, 아이소보닐계 아크릴레이트 및 아마만틸계 아크릴레이트를 포함하는 우레탄 아크릴레이트; 비스페놀 A, 비스페놀 F, 메틸렌 비스(4-하이드록시페닐) 등의 비스페놀계열, 레조르시놀, 디히드록시 나프탈렌, 디히드록시 바이페닐, 디히드록시 페닐 에탄올, 디히드록시 피리딘, 디히드록시퀴노살린, 디히드록시 테트라히드로나프탈렌 및 디히드록시피리미딘를 포함하는 방향족 폴리올 화합물; 및 1,3-프로페인 다이올, 1,4-부테인 다이올, 1,5-펜테인 다이올, 1,6-헥세인 다이올, 3-메틸-1,5-펜테인 다이올, 1,8-옥테인 다이올, 2-메틸-1,8-옥테인 다이올, 1,9-노네인 다이올 및 1,10-데케인 다이올을 포함하는 지방족 폴리올 화합물;로 이루어지는 군에서 선택되는 1종 이상의 고분자 수지 또는 이들의 조합을 포함할 수 있다.
또한, 상기 언더코팅층은 우레탄 아크릴레이트 올리고머, 디펜타에리스리톨펜타아크릴레이트 및 트리히드록시에틸 이소시아누레이트 트리아크릴레이트로 이루어지는 군에서 선택되는 1종 이상의 고분자 수지 또는 이들의 조합을 포함할 수 있다.
한편, 상기 형성되는 언더코팅층의 두께는 0.01 내지 100㎛범위를 가질 수 있고, 더욱 상세하게는 0.1 내지 10 ㎛ 범위를 가질 수 있다. 상기 언더코팅층의 두께가 상기 범위 이내로 형성되는 경우, 평탄화 기능 및 내열성을 동시에 확보 할 수 있게 된다.
무기물층
본 발명의 배리어필름에 있어서 무기물층은 수분 및 산소 차폐성이 있는 것이어야 한다. 본 발명의 광학시트에 포함되는 양자점은 수분 및 산소에 취약하여 수분 및 산소에 노출 시 표면이 산화하여 광학시트의 수명을 단축시키고 휘도가 감소하는 문제점이 있으므로, 상기 무기물층은 수분 및 산소를 차단하여 양자점이 산화되는 것을 방지한다.
본 발명의 일실시예에서, 상기 무기물층에 포함되는 무기물은 규소(Si), 알루미늄(Al), 인듐(In), 주석(Sn), 아연(Zn), 지르코늄(Zr), 티타늄(Ti), 구리(Cu), 세륨(Ce), 이트륨(Yt), 란탄(La), 바륨(Ba), 마그네슘(Mg), 플루오르(F2), 안티몬(Sb), 스트론튬(Sr) 및 탄탈륨(Ta)으로 이루어지는 군에서 선택되는 1종 이상의 금속을 포함하는 산화물, 질화물, 탄화물, 산화질화물, 산화탄화물, 질화탄화물, 또는 산화질화탄화물일 수 있다.
한편, 상기 형성되는 무기물층의 두께는 예를 들어 10 내지 1000㎚일 수 있으며, 상기 설명한 바와 같이 언더코팅층으로 인하여 무기물층의 두께가 종래의 배리어필름 대비 상대적으로 얇을 수 있다. 또한, 상기 무기물층은 1층 이상의 다층 구조일 수 있으며, 다층 구조로 형성 시 접착력 향상을 위하여 Tie-layer 또는 투과도 향상을 위한 층이 더 포함될 수 있다.
오버코팅층
본 발명에 있어서, 오버코팅층은 무기물층을 스크래치 등으로부터 보호하는 동시에, 상기 오버코팅층의 하단과 접촉하는 무기물층 및 상기 오버코팅층의 상단과 접촉하는 양자점을 포함하는 고분자 수지층과의 충분한 접착력을 확보하기 위한 것이다. 또한, 무기물층에 존재하는 미세한 핀홀을 막아 배리어 성능을 향상시킨다.
특히, 본 발명의 일실시예에서, 상기와 같은 과제를 달성하기 위하여 오버코팅층에는 열가소성 수지와 열경화성 수지를 함께 포함한다.
본 발명의 일실시예에서, 상기 열가소성 수지는 폴리에테르계 수지, 폴리우레탄계 수지, 폴리에스테르계 수지, 폴리비닐부티랄계 수지 및 폴리비닐알콜계 수지로 이루어지는 군에서 선택되는 1종 이상의 고분자 수지일 수 있다. 상기 열가소성 수지는 양자점이 분산된 고분자 수지층과의 접착력 확보를 위하여 적용된다.
한편, 본 발명의 일실시예에서, 상기 열경화성 수지는 에폭시 수지, 불포화 폴리에스테르 수지, 폴리우레탄 수지, 폴리카보네이트 폴리우레탄, 폴리에스테르 폴리우레탄, 페놀 수지, 멜라민 수지, 요소 수지 및 규소 수지로 이루어지는 군에서 선택되는 1종 이상의 고분자 수지일 수 있다. 상기 열경화성 수지는 고온·고습 조건 하에서 장기 신뢰성 확보를 위하여 적용된다.
한편, 상기 오버코팅층 내에 포함되는 열가소성 수지 대 열경화성 수지의 고형분 중량비는 2 : 8 내지 8 : 2의 범위를 가질 수 있다. 보다 상세하게 설명하면, 열가소성 수지가 상기 범위를 초과하여 포함되는 경우 양자점이 분산된 고분자 수지층과의 접착력은 향상되나 고온·고습 조건 하에서 접착력 및 장기 신뢰성 확보가 어려워지며, 열경화성 수지가 상기 범위를 초과하여 포함되는 경우 고온·고습 조건 하에서 장기 신뢰성 확보는 용이하나, 양자점이 분산된 고분자 수지와의 접착력이 떨어질 수 있어 문제된다.
한편, 상기 오버코팅층의 형성 방법은 특별히 제한되지 않으나, 바 코터, 롤 코터 또는 다이 코터와 같은 코터를 이용하여 무기물층 상에 오버코팅 조성물을 적용하여 형성하는 것일 수 있으며, 선택적으로 무기물층에 플라즈마 처리, 코로나 처리, 산처리 등과 같이 전처리한 후 오버코팅 조성물을 적용한 것일 수 있다. 상기 오버코팅 조성물은 열가소성 수지 및 열경화성 수지를 용매에 넣고 교반하여 형성한 것일 수 있고, 필요에 따라 반응촉진제, 대전 방지제, 광선 차단제, 자외선 흡수제, 가소제, 활제, 필러, 착색제, 안정제, 윤활제, 가교제, 블로킹 방지제, 산화 방지제, 접착증진제 등과 같은 첨가제를 추가로 넣어 제조한 것일 수 있다.
한편, 본 발명의 일실시예에서 상기 오버코팅층은 투과도, 헤이즈 조절 등과 같은 추가적인 기능을 구현하기 위하여 패턴화된 것일 수도 있으며 1층 이상의 다층으로 구성될 수도 있다. 예를 들어 오버코팅층은 무기물층 상에 격자 형태로 도포되어 형성되거나, 라인 형태 혹은 다양한 형상으로 패턴화된 것일 수 있으며, 상기 패턴화의 경우 경제성과 오버코팅층의 투과도 및 헤이즈 조절을 고려하여 필요에 따라 다양한 형태로 형성될 수 있다.
한편, 본 발명의 일실시예에서, 상기 오버코팅 조성물에는 커플링제 및 가수분해 방지제 및 접착증진제 중 선택되는 1종 이상의 첨가제를 더 포함할 수 있다.
상기 커플링제는 오버코팅층과 무기물층 간의 접착력을 추가적으로 향상시키는 역할을 수행하며, 보다 상세하게는 무기물층의 표면에 존재하는 하이드록시 그룹과 반응하여 표면을 개질함으로써 오버코팅층과 무기물층 간의 접착력을 향상시키게 된다.
본 발명의 일실시예에서 상기 커플링제는 메톡시(Methoxy), 에톡시(Ethoxy), 아미노(Amino), 에폭시(Epoxy), 아크릴(Acryl), 머캅토(Mercapto), 비닐(Vinyl) 및 메타크릴(Methacryl)계 실란 커플링제로 이루어지는 군에서 선택되는 1종 이상의 물질 또는 이들의 조합일 수 있다.
한편, 상기 가수분해 방지제는 폴리머의 안정한 상태 화합물을 생성하여 고온·고습 접착력 신뢰성을 개선하는 역할을 하며, 보다 상세하게는 가수분해 방지제가 수분과 반응하여, 우레아(urea)구조를 만들게 되므로, 수분에 의한 노화를 방지해서 접착력과 내구성이 보다 우수해진다.
본 발명의 일실시예에서, 상기 가수분해 방지제는 방향족 카르보디이미드(aromatic carbodiimide) 계열로 이루어지는 군에서 선택되는 1종 이상의 물질 또는 이들의 조합일 수 있다.
한편, 상기 접착증진제는 고분자 수지층과의 접착력 확보 혹은 무기물층과의 접착력 확보에 도움을 줄 수 있는 것이라면 특별히 제한되지 않으며, 당해 분야에서 일반적으로 사용되는 것일 수 있다.
한편, 상기 오버코팅층의 두께는 예를 들어 0.1 내지 10㎛, 더욱 상세하게는 0.5 내지 2㎛일 수 있다. 오버코팅층의 두께가 0.1㎛ 미만인 경우 고분자 수지층과의 접착력에 문제가 있을 수 있으며, 10㎛를 초과하면 수분 및 가스가 사이드로 침투하여 배리어 성능이 나빠지는 문제가 있을 수 있다.
상기 설명한 바와 같이 본 발명의 배리어필름은, 고온·고습 조건 하에서 안정성이 뛰어난 오버코팅층을 포함함으로써 고온·고습 조건 하에서 무기물층 및 고분자 수지층과의 충분한 접착력을 유지하게 되며, 또한 언더코팅층을 포함함으로써 고온·고습 조건 하에서 무기물층에 크랙(crack)이 발생하는 것을 방지하여 배리어 성능을 지속적으로 유지하고, 나아가 광학시트의 휘도 저하를 방지한다.
광학시트
한편, 상기와 같은 배리어필름을 포함하는 광학시트는 오버코팅층이 무기물층 및 고분자 수지층과 충분한 접착력을 확보하고, 언더코팅층이 고온·고습 조건 하에서 배리어 성능을 유지해 고온·고습 조건에서 신뢰성이 향상되며, 또한 추가적인 배리어성능을 기대할 수 있어 광학시트의 광학성능 유지 및 신뢰특성이 향상되는 효과가 있다.
본 발명의 일실시예에 따른 광학시트는, 서로 대향하는 상기 2장의 배리어필름; 및 상기 2장의 배리어필름의 오버코팅층(40) 사이에 형성되는 양자점이 분산된 고분자 수지층(50);을 포함한다(도 2 참조).
먼저 기재를 준비하고, 상기 기재 상에 언더코팅 조성물을 도포하여 언더코팅층을 형성한다(단계 a).
상기 기재는 앞서 설명한 바와 같으며, 언더코팅층의 형성 방법은 특별히 제한되지 않으나, 롤 코터와 같은 코터를 이용하여 기재 상에 언더코팅 조성물을 적용하여 형성하는 것일 수 있으며, 상기 언더코팅 조성물은 고분자 수지 및 중합개시제를 용매에 넣고 교반하여 형성한 것일 수 있다.
상기 언더코팅 조성물에 포함되는 고분자 수지는 앞서 설명한 바와 같이 언더코팅층에 포함되는 고분자 수지에 해당하며, 필요에 따라 중합개시제와 같은 첨가제를 더 포함할 수 있다.
다음으로, 상기 언더코팅층 상에 무기물층을 형성한다(단계 b).
상기 무기물층을 형성하는 방법은 증착법, 코팅법 등 다양한 방법을 사용할 수 있으나, 가스 배리어성을 충분히 확보하고 균일한 박막을 얻기 위해서는 증착법을 사용할 수 있다. 상기 증착법은 진공 증착, 이온 플레이팅, 스퍼터링 등의 물리적 기상 증착법(PVD), 화학적 기상 증착법(CVD) 등의 방법을 모두 포함할 수 있다. 한편, 스퍼터링 방법으로서 진공 챔버 내에 타깃을 설치하고, 고전압을 가하여 이온화한 희가스 원소(통상 아르곤)를 타깃에 충돌시켜 타깃 표면의 원자를 떨어뜨리고, 기재에 부착시키는 방법이다. 이때, 챔버 내에 질소 가스 또는 산소 가스를 흘림으로써 아르곤 가스에 의해 타깃으로부터 떨어진 원소와 질소 또는 산소를 반응시켜 가스 배리어성층을 형성하는 반응성 스퍼터링 방법을 사용할 수도 있다.
한편, 상기 무기물층 형성 후에는 전처리 과정을 추가적으로 거칠 수 있는데, 상기 전처리 과정은 플라즈마 처리, 코로나 처리 혹은 산처리 등일 수 있고, 흡착된 각종 불순물을 제거하는 과정으로서, 상기 과정을 통하여 무기물층과 오버코팅층 간의 접착력을 더욱 향상시킬 수 있다. 특히, 플라즈마 처리 또는 코로나 처리는 무기물층 상에 존재하는 저분자량 불순물을 효과적으로 제거할 수 있다.
다음으로, 열가소성 수지 및 열경화성 수지를 포함하는 오버코팅 조성물을 상기 무기물층 상에 도포하여 오버코팅층을 형성하고, 열경화하면 배리어필름이 제조된다(단계 c).
한편, 상기 배리어필름 제조 직후에 필요에 따라 후경화 공정을 추가로 거칠 수도 있다.
상기 오버코팅 조성물에는 앞서 설명한 바와 같이, 열가소성 수지 및 열경화성 수지 이외에 커플링제, 가수분해 방지제 및 접착증진제로 이루어지는 군에서 선택되는 1종 이상의 첨가제를 더 포함할 수 있다.
한편, 본 발명의 또 다른 실시예에서는 상기 오버코팅 조성물 내에 반응촉진제, 대전 방지제, 광선 차단제, 자외선 흡수제, 가소제, 활제, 필러, 착색제, 안정제, 윤활제, 가교제, 블로킹 방지제, 산화 방지제 또는 접착증진제 등과 같은 첨가제를 추가로 넣어 제조한 것일 수 있다.
한편, 상기 오버코팅 조성물에 포함되는 열가소성 수지 대 열경화성 수지의 고형분 중량비는 2 : 8 내지 8 : 2일 수 있다.
한편, 상기 커플링제는 조성물 전체 중량을 기준으로 1 내지 20wt%로 포함될 수 있고, 더욱 상세하게는 1 내지 10wt%로 포함될 수 있다.
한편, 상기 가수분해 방지제는 조성물 전체 중량을 기준으로 1 내지 20wt%로 포함될 수 있고, 더욱 상세하게는 1 내지 5wt%로 포함될 수 있다.
한편, 상기 접착증진제는 조성물 전체 중량을 기준으로 1 내지 20wt%로 포함될 수 있고, 더욱 상세하게는 1 내지 5wt%로 포함될 수 있다.
한편, 상기 오버코팅층 형성 전 혹은 오버코팅층 형성 시 무기물층 표면의 불순물을 제거하기 위한 화학적 처리를 추가적으로 할 수 있으며, 상기 화학 처리는 소듐 하이드록사이드(sodium hydroxide) 및 포타슘 하이드록사이드(potassium hydrdoxide)를 포함하는 커스틱(caustics); 소듐 메타 실리케이트(sodium meta silicate)를 포함하는 실리케이트(silicate); 트리에탄올아민(triethanolamine) 및 모노에탄올아민아민(monoethanolamine)를 포함하는 아민(amine); 트리소듐 포스페이트(trisodium phophate), 테트라 포타슘 파이로 포스페이트(tetra potaasium pyro phosphate)를 포함하는 포스페이트(phosphate); 포스포릭(phosphoric), 하이드로플루오릭(hydrofluoric), 시트릭(citric)을 포함하는 산(acids); 및 EDTA를 포함하는 킬레이트(chelates);를 포함하는 군에서 선택되는 1종 이상의 화학적 클리너(chemical cleaner)를 사용하여 이루어지는 것일 수 있다.
한편, 상기 열경화 과정은 오버코팅 조성물 내의 열가소성 및 열경화성 수지를 열을 가하여 경화시키는 과정이며, 열경화를 위한 구체적인 조건은 80 내지 150 ℃의 온도 조건에서 30초 내지 5분 동안 용매(Solvent)를 건조 및 경화시킨 후, 30 내지 60 ℃의 온도 조건에서 1일 내지 3일 동안 후경화가 수행되는 것일 수 있다. 더욱 상세하게는 100 내지 120℃의 온도 조건에서 30초 내지 60초 동안 용매(Solvent)를 건조 및 경화시킨 후, 40 내지 60 ℃의 온도 조건에서 24 내지 72 시간 동안 후경화가 수행되는 것일 수 있다.
상기의 방법으로 제조한 2장의 배리어필름을 준비하고, 상기 배리어필름의 오버코팅층을 서로 마주보게 배치한 다음, 상기 2장의 배리어필름 사이에 양자점이 분산된 고분자 조성물을 도포하여 UV 경화하면 광학시트가 제조된다(단계 d).
상기 양자점이 분산된 고분자 조성물에 포함되는 고분자 수지는 양자점을 포함하는 매트릭스 역할을 하는 것으로서, 1층 이상의 층구조를 가지는 것일 수 있으며, 낮은 산소 및 수분투과성을 가지는 것이 바람직하고, 또한 높은 광 안정성 및 화학적 안정성을 가지는 것이 바람직하다.
본 발명의 일실시예에서, 상기 고분자 수지는 예를 들어, 에폭시, 에폭시 아크릴레이트, 라우릴 아크릴레이트, 노르보렌, 폴리에틸렌, 폴리스타이렌, 에틸렌-스타이렌 공중합체, 비스페놀 A 및 비스페놀 A유도체가 포함된 아크릴레이트, 플루오렌 유도체가 포함된 아크릴레이트, 이소보닐아크릴레이트, 폴리페닐알킬실록산, 폴리디페닐실록산, 폴리디알킬실록산, 실세스퀴옥산, 플루오르화 실리콘, 비닐 및 수소화물 치환 실리콘으로 이루어지는 군에서 선택되는 1종 이상의 고분자 수지일 수 있다.
한편, 상기 양자점은 실질적으로 단결정질인 나노구조들을 지칭하는 것으로서, 상기 양자점은 광원으로부터 방출된 1차 광을 흡수한 다음, 2차 광을 방출할 수 있으며, 상기 양자점의 크기에 따라 파장이 다른 광을 방출할 수 있다. 한편, 상기 양자점의 전형적인 크기는 1 내지 10 ㎚일 수 있는데, 상기 양자점의 크기가 4 내지 5㎚ 인 경우 광원으로부터 1차 광을 흡수한 후 적색을 가지는 2차 광을 방출할 수 있고, 2 내지 3㎚ 인 경우 광원으로부터 1차 광을 흡수한 후 녹색을 가지는 2차 광을 방출할 수 있다.
한편, 상기 양자점은 고분자 매트릭스 내에 균일하게 분산될 수 있으며, 상기 고분자 레진층이 다층 구조인 경우, 층층마다 다른 크기의 양자점이 배치될 수도 있으며, 단일 층 내에 서로 다른 크기의 양자점이 혼재되어 분산된 형태를 가질 수도 있다.
한편, 본 발명의 일실시예에 따른 양자점은 비카드뮴계 양자점일 수도 있으며, 본 발명에 사용하기 위한 양자점들은 임의의 적합한 무기 재료를 포함할 수 있다.
본 발명의 일실시예에서, 상기 비카드뮴계 양자점은 II-VI 족, III-V족, IV-VI 족 및 IV 족 반도체로 이루어지는 군에서 선택되는 무기 재료를 포함할 수 있다.
본 발명의 일실시예에서, 상기 비카드뮴계 양자점은 Si, Ge, Sn, Se, Te, B, C, P, BN, BP, BAs, AlN, AlP, AlAs, AlSb, GaN, GaP, GaAs, GaSb, InN, InP, InAs, InSb, AlN, AlP, AlAs, AlSb, GaN, GaP, GaAs, GaSb, ZnO, ZnS, ZnSe, ZnTe, HgS, HgSe, HgTe, BeS, BeSe, BeTe, MgS, MgSe, GeS, GeSe, GeTe, SnS, SnSe, SnTe, PbO, PbS, PbSe, PbTe, CuF, CuCl, CuBr, CuI, Si3N4, Ge3N4 및 이들의 조합으로 이루어지는 군에서 선택되는 1종 이상의 무기 재료를 포함할 수 있다.
상기와 같은 고분자 조성물을 배리어필름 사이에 도포하고 UV 경화하는 단계를 거치면 광학시트를 제조할 수 있다. 한편, 상기 UV 경화 단계는 100 내지 5000mJ/cm2의 노광 조건에서 수행되는 것일 수 있다. UV 경화 시 상기 범위 이외의 노광 조건에서는 UV 경화가 효과적으로 이루어지지 않아 배리어필름과 고분자 수지층 간에 피착파괴될 정도의 접착력을 가지지 못할 수 있다.
또한 IR　Peak (Acrylate, 810 or 1635cm-1)에서 UV 노광에너지에 따른 data를 보면 경화도(노광되지 않을 상태를 100% 로 볼 때 Peak 가 감소되는 비율)가 60 내지 80%가 되는 것이 바람직할 수 있다.
한편, 상기 고분자 조성물을 배리어필름 사이에 도포하는 과정은 특별히 제한되지 않으며, 예를 들어 롤투롤(Roll-to-roll) 공정으로 수행되는 것일 수 있다.
상기 일련의 과정을 거쳐 제조되는 광학시트는 접착력 평가 시 피착재가 파괴되며, 이는 종래의 기술에 따라 제조된 광학시트 대비 배리어필름과 고분자 수지층 간의 접착력이 현저히 향상된 것이다.
한편, 본 발명에 따라 제조된 광학시트는 60℃의 고온, 상대습도 90%의 고습 조건 하에서 장시간 방치하여도 동일한 접착력을 유지하는 바, 신뢰성 측면에서도 종래 기술에 따라 제조된 광학시트 대비 현저한 개선효과가 있다.
이하에서 실시예 등을 통해 본 발명을 더욱 상세히 설명하고자 하며, 다만 이하에 실시예 등에 의해 본 발명의 범위와 내용이 축소되거나 제한되어 해석될 수 없다. 또한, 이하의 실시예를 포함한 본 발명의 개시 내용에 기초한다면, 구체적으로 실험 결과가 제시되지 않은 본 발명을 통상의 기술자가 용이하게 실시할 수 있음은 명백한 것이며, 이러한 변형 및 수정이 첨부된 특허청구범위에 속하는 것도 당연하다.
실시예
실시예 1
언더코팅 조성물의 제조
아크릴레이트 수지(Aica Kogyo사, Z-711 grade)를 메틸에틸케톤(Methyl Ethyl Ketone) 용제로 희석한 후 광개시제(Igacure 184)를 아크릴레이트 수지 고형분의 3파트 추가해 충분히 용해시켜 고형분 20wt%의 언더코팅 조성물을 제조하였다.
오버코팅 조성물의 제조
오버코팅 조성물의 전체 고형분 중량을 기준으로 열가소성 폴리우레탄(Polyurethane, Ellas/KOLON)을 50wt%, 열경화성 폴리우레탄(Polyurethane, PCB3200/필텍)을 45wt%, 경화제(isocyanate, P300/필텍)를 5 wt%로 하여 용매인 메틸에틸케톤(Methyl Ethyl Ketone)에 섞은 후, 교반하여 고형분 20wt%의 오버코팅 조성물을 제조하였다.
배리어필름의 제조
두께 125㎛인 폴리에틸렌 테레프탈레이트(Polyethylene terephthalate, KOLON사 U43R grade)의 일면에 상기 언더코팅 조성물을 도포하고, 80℃ 오븐에서 3분 동안 건조한 다음, 자외선 조사장치(Fusion 社)에 type-D bulb를 장착하여 언더코팅 조성물을 도포한 방향에서 500mJ/㎝2의 노광량으로 조사하여 기재 상에 언더코팅층을 형성하였다. 이때 언더코팅층의 두께는 5㎛로 제조하였다.
다음으로 상기 언더코팅층 상에 롤투롤 스퍼터(Roll to Roll Sputter)를 이용해 플라즈마 전처리를 한 후 SiNx 10㎚/SiOx 70㎚ 총 80㎚두께로 드라이코팅(Dry Coating)하여 무기물층을 형성하고, 상기 무기물층 상단에 코로나 처리를 실시하였다.
상기 오버코팅 조성물을 무기물층이 형성된 기재 위에 마이크로 그라비아를 이용하여 형성하였다. 다음으로 120℃에서 1분 동안 건조 및 경화시켜 1㎛ 두께로 오버코팅층을 형성하였다. 이 후 40℃에서 3일 동안 후경화시켜 최종 배리어필름을 제조하였다.
광학시트의 제조
다음으로, 상기 제조된 2장의 배리어필름 사이에 비카드뮴계 양자점이 분산된 우레탄 아크릴 수지 고분자 조액을 100㎛ 두께로 도포하고 1000mJ/㎝2 노광 조건에서 UV 경화시켜 광학시트를 제작하였다.
실시예 2
상기 실시예 1과 동일한 조건으로 광학시트를 제조하되, 오버코팅 조성물의 전체 고형분 중량을 기준으로 열가소성 폴리우레탄(Polyurethane, Ellas/KOLON)을 80wt%, 열경화성 폴리우레탄(Polyurethane, PCB3200/필텍)을 18wt%, 경화제(isocyanate, P300/필텍)를 2 wt%로 하여 용매인 메틸에틸케톤(Methyl Ethyl Ketone)에 섞은 후, 교반하여 제조한 고형분 20wt%의 오버코팅 조성물을 적용한 것만 달리하였다.
실시예 3
상기 실시예 1과 동일한 조건으로 광학시트를 제조하되, 오버코팅 조성물의 전체 고형분 중량을 기준으로 열가소성 폴리우레탄(Polyurethane, Ellas/KOLON)을 20wt%, 열경화성 폴리우레탄(Polyurethane, PCB3200/필텍)을 72wt%, 경화제(isocyanate, P300/필텍)를 8 wt%로 하여 용매인 메틸에틸케톤(Methyl Ethyl Ketone)에 섞은 후, 교반하여 제조한 고형분 20wt%의 오버코팅 조성물을 적용한 것만 달리하였다.
실시예 4
상기 실시예 1과 동일한 조건으로 광학시트를 제조하되, 오버코팅 조성물의 전체 고형분 중량을 기준으로 열가소성 폴리우레탄(Polyurethane, Ellas/KOLON)을 45wt%, 열경화성 폴리우레탄(Polyurethane, PCB3200/필텍)을 41wt%, 경화제(isocyanate, P300/필텍)를 4 wt%, 실란 커플링제(silan coupling agent, OFS6020/DOW)를 10wt%로 하여 용매인 메틸에틸케톤(Methyl Ethyl Ketone)에 섞은 후, 교반하여 제조한 고형분 20wt%의 오버코팅 조성물을 적용한 것만 달리하였다.
실시예 5
상기 실시예 1과 동일한 조건으로 광학시트를 제조하되, 오버코팅 조성물의 전체 고형분 중량을 기준으로 열가소성 폴리우레탄(Polyurethane, Ellas/KOLON)을 49wt%, 열경화성 폴리우레탄(Polyurethane, PCB3200/필텍)을 45wt%, 경화제(isocyanate, P300/필텍)를 5wt%, 접착증진제(Lubrizol 2061, /Lubrizol)를 1wt%로 하여 용매인 메틸에틸케톤(Methyl Ethyl Ketone)에 섞은 후, 교반하여 제조한 고형분 20wt%의 오버코팅 조성물을 적용한 것만 달리하였다.
실시예 6
상기 실시예 1과 동일한 조건으로 광학시트를 제조하되, 오버코팅 조성물의 전체 고형분 중량을 기준으로 열가소성 폴리우레탄(Polyurethane, Ellas/KOLON)을 39wt%, 열경화성 폴리우레탄(Polyurethane, PCB3200/필텍)을 54.6wt%, 경화제(isocyanate, P300/필텍)를 4.4 wt%, 가수분해 방지제(Altfona5151/Green Chem)를 2 wt%로 하여 용매인 메틸에틸케톤(Methyl Ethyl Ketone)에 섞은 후, 교반하여 제조한 고형분 20wt%의 오버코팅 조성물을 적용한 것만 달리하였다.
실시예 7
상기 실시예 1과 동일한 조건으로 광학시트를 제조하되, 오버코팅 조성물의 전체 고형분 중량을 기준으로 열가소성 폴리우레탄(Polyurethane, Ellas/KOLON)을 47wt%, 열경화성 폴리우레탄(Polyurethane, PCB3200/필텍)을 36wt%, 경화제(isocyanate, P300/필텍)를 4wt%, 실란 커플링제(Silan coupling gent, OFS6020/DOW)를 10wt%, 가수분해 방지제(Altfona5151/Green Chem)를 1wt%, 접착증진제(Lubrizol 2061, /Lubrizol)를 2 wt%로 하여 용매인 메틸에틸케톤(Methyl Ethyl Ketone)에 섞은 후, 교반하여 제조한 오버코팅 조성물을 적용한 것만 달리하였다.
실시예 8
상기 실시예 1과 동일한 조건으로 광학시트를 제조하되, 언더코팅층 상에 롤투롤 스퍼터(Roll to Roll Sputter)를 이용해 플라즈마 전처리를 한 후 SiNx 10㎚/SiOx 30㎚ 총 40㎚ 두께로 드라이코팅(Dry Coating)하여 무기물층을 형성한 것만 달리하였다.
실시예 9
상기 실시예 1과 동일한 조건으로 광학시트를 제조하되, 언더코팅층 조성물을 달리하였다. 언더코팅층 조성물은 Negami사 UN9000grade 아크릴레이트와 아크릴레이트 수지(Aica Kogyo사, Z-711 grade)를 고형분비 5 : 5로 혼합한 후 메틸에틸케톤(Methyl Ethyl Ketone) 용제로 희석한 후, 광개시제(Igacure 184)를 아크릴레이트 수지 고형분의 3파트 추가해 충분히 용해시켜 제조한 고형분 20wt% 언더코팅 조성물이었다.
비교예 1
상기 실시예 1과 동일한 조건으로 광학시트를 제조하되, 오버코팅 조성물의 전체 고형분 중량을 기준으로 열가소성 폴리우레탄(Polyurethane, Ellas/KOLON)을 100wt%, 열경화성 폴리우레탄(Polyurethane, PCB3200/필텍)을 0wt%로 하여 용매인 메틸에틸케톤(Methyl Ethyl Ketone)에 섞은 후, 교반하여 제조한 오버코팅 조성물을 적용한 것만 달리하였다.
비교예 2
상기 실시예 1과 동일한 조건으로 광학시트를 제조하되, 오버코팅 조성물의 전체 고형분 중량을 기준으로 열가소성 폴리우레탄(Polyurethane, Ellas/KOLON)을 95wt%, 열경화성 폴리우레탄(Polyurethane, PCB3200/필텍)을 4.5wt%, 경화제(isocyanate, P300/필텍)를 0.5wt%로 하여 용매인 메틸에틸케톤(Methyl Ethyl Ketone)에 섞은 후, 교반하여 제조한 오버코팅 조성물을 적용한 것만 달리하였다.
비교예 3
상기 실시예 1과 동일한 조건으로 광학시트를 제조하되, 오버코팅 조성물의 전체 고형분 중량을 기준으로 열가소성 폴리우레탄(Polyurethane, Ellas/KOLON)을 5wt%, 열경화성 폴리우레탄(Polyurethane, PCB3200/필텍)을 85.5wt%, 경화제(isocyanate, P300/필텍)를 9.5wt%로 하여 용매인 메틸에틸케톤(Methyl Ethyl Ketone)에 섞은 후, 교반하여 제조한 오버코팅 조성물을 적용한 것만 달리하였다.
비교예 4
언더코팅층이 없는 것을 제외하고는 상기 실시예 1과 동일한 조건으로 광학시트를 제조하였다.
비교예 5
상기 실시예 1과 동일한 조건으로 광학시트를 제조하되, 언더코팅층 조성물을 달리하였다. 언더코팅층 조성물은 Negami사 KY-11grade 아크릴레이트에 광개시제(Igacure 184)를 아크릴레이트 수지 고형분의 3파트 추가해 충분히 용해시켜 제조한 고형분 20wt% 의 언더코팅 조성물이었다.
비교예 6
상기 실시예 1과 동일한 조건으로 광학시트를 제조하되, 언더코팅층이 없고, 무기물층을 롤투롤 스퍼터(Roll to Roll Sputter)를 이용해 플라즈마 전처리를 한 후 SiNx 10㎚/SiOx 30㎚ 총 40㎚ 두께로 드라이코팅(Dry Coating)하여 무기물층을 형성하였다.
실험
상기 실시예 및 비교예에서 제조된 광학시트를 아래의 평가방법을 통해 평가하고 그 결과를 표 1에 나타내었다.
1. 초기 접착력 평가
광학시트 제조 후 폭 25㎜ 길이 200㎜의 시편을 5개 제조 후 UTM(INSTRON)을 이용해 분당 300㎜의 속도로 T-peel 테스트 실시한다.
양호 : 5개 시편중 4개이상의 시편에서 기재필름이 찢어짐.(피착재 파괴)
불량 : 피착재 파괴 시편이 4개 미만
2. 배리어성 측정
WVTR 값을 측정하기 위해 MOCON Permatran-W700 장비를 이용하여 온도 37.8℃, 습도 100% 조건에서 측정한다.
양호 : WVTR 값이 0.1g/m2/day 보다 우수하면 양호
불량 : WVTR 값이 0.1g/m2/day 보다 나쁘면 불량
3. 고온 고습 접착 신뢰성
광학 시트를 고온 고습 챔버(60℃, 90%)에 넣어둔 후 24시간 마다 꺼내어 위의 접착력 평가를 진행한다.
양호 : 500시간 이상 피착재 파괴 유지
불량 : 500시간 미만 피착재 파괴 유지
4. 언더코팅층의 유리전이온도 측정
PET이형코팅필름 원단에 언더코팅층 조성을 두께 100㎛으로 제작한다. 제작된 샘플에서 PET이형필름을 제거하고 언더코팅층만을 샘플로 취해 유리전이온도를 측정하였다. 측정은 TA사 AR G2 rheometer 장비를 활용해 Tanδ값이 최대값을 나타내는 온도를 유리전이온도로 하였다.
5. 고온방치 후 배리어성 평가
85℃오븐에 배리어필름을 500시간 동안 보관된 샘플을 상온(25℃)에서 1시간 동안 방치한다. 고온방치 전 샘플의 배리어성과 고온방치 후 배리어성은 MOCON Permatran-W700 장비를 이용하여 WVTR 값을 온도 37.8℃, 습도 100% 조건에서 측정한다.
양호 : 고온방치 후 WVTR값 ≥고온방치 전 WVTR값×2를 만족하고, 고온 방치 후 WVTR값이 0.1g/m2/day 이하의 값을 가짐.
불량 : 고온방치 후 WVTR값 <고온방치 전 WVTR값×2
6. 적용성 평가
위의 평가 항목 중 초기 접착력, 고온 고습 접착 신뢰성, 배리어성, 고온 방치 후 배리어성 총 4개 항목을 모두 만족하면 적용 가능, 4개 항목 중 한 개 항목이라도 만족하지 못하면 적용 불가
Figure pat00001
상기 표 1의 결과를 참조하면, 본 발명의 실시예에 따라 제조된 광학시트의 경우 고온·고습 조건 하에서 500h 이상 피착파괴 수준을 나타내며, 고온에서 500시간 방치 후에도 안정적인 배리어 성능을 발현한다.
반면, 비교예에 따라 제조된 광학시트의 경우 500h 이하에서 접착력 문제가 발생하거나, 배리어 성능이 나빠지는 것을 확인하였다.
즉, 실시예의 경우, 초기 및 고온 고습 접착 신뢰성 확보를 위해서는 열가소성 수지 : 열경화성(경화제포함) 수지의 고형분 중량비가 2 : 8 내지 8 : 2 의 범위에 포함되어야 하며, 고온 방치 후에도 배리어 성능을 안정적으로 유지하기 위해서는 기재인 PET 필름의 일반적인 유리전이온도인 76℃ 이상의 유리전이온도를 가지는 언더코팅층을 가져야 함을 확인할 수 있었다.
10: 기재
20: 언더코팅층
30: 무기물층
40: 오버코팅층
50: 양자점이 분산된 고분자 수지층

Claims (16)

  1. 기재; 상기 기재 상에 형성된 언더코팅층; 상기 언더코팅층 상에 형성된 무기물층; 및 상기 무기물층 상에 형성되며 열가소성 수지 및 열경화성 수지를 함께 포함하는 오버코팅층;을 포함하는 배리어필름.
  2. 제 1 항에 있어서,
    상기 기재는 환상 폴리올레핀계 수지; 폴리스티렌계 수지; 아크릴로니트릴-스티렌 공중합체(AS 수지); 아크릴로니트릴-부타디엔-스티렌 공중합체(ABS 수지); 폴리(메타)아크릴계 수지; 폴리카보네이트계 수지, 폴리에틸렌테레프탈레이트 및 폴리에틸렌나프탈레이트를 포함하는 폴리에스테르계 수지; 나일론을 포함하는 폴리아마이드계 수지; 폴리우레탄계 수지; 아세탈계 수지; 및 셀룰로오스계 수지;로 이루어지는 군에서 선택되는 1종 이상의 수지로 제조된 필름 또는 시트인 배리어필름.
  3. 제 1 항에 있어서,
    상기 기재는 매트코팅(Matt coating) 처리된 것인 배리어필름.
  4. 제 1 항에 있어서,
    상기 언더코팅층은 비스페놀 A계 아크릴레이트, 나프탈렌계 아크릴레이트, 아이소보닐계 아크릴레이트 및 아마만틸계 아크릴레이트를 포함하는 우레탄 아크릴레이트; 비스페놀 A, 비스페놀 F, 메틸렌 비스(4-하이드록시페닐) 등의 비스페놀계열, 레조르시놀, 디히드록시 나프탈렌, 디히드록시 바이페닐, 디히드록시 페닐 에탄올, 디히드록시 피리딘, 디히드록시퀴노살린, 디히드록시 테트라히드로나프탈렌 및 디히드록시피리미딘를 포함하는 방향족 폴리올 화합물; 및 1,3-프로페인 다이올, 1,4-부테인 다이올, 1,5-펜테인 다이올, 1,6-헥세인 다이올, 3-메틸-1,5-펜테인 다이올, 1,8-옥테인 다이올, 2-메틸-1,8-옥테인 다이올, 1,9-노네인 다이올 및 1,10-데케인 다이올을 포함하는 지방족 폴리올 화합물;로 이루어지는 군에서 선택되는 1종 이상의 고분자 수지 또는 이들의 조합을 포함하는 배리어필름.
  5. 제 1 항에 있어서,
    상기 언더코팅층은 우레탄 아크릴레이트 올리고머, 디펜타에리스리톨펜타아크릴레이트 및 트리히드록시에틸 이소시아누레이트 트리아크릴레이트로 이루어지는 군에서 선택되는 1종 이상의 고분자 수지 또는 이들의 조합을 포함하는 배리어필름.
  6. 제 1 항에 있어서,
    상기 언더코팅층에 포함되는 고분자 수지는 기재를 구성하는 고분자 수지 대비 상대적으로 높은 유리전이 온도(Tg)를 가지는 배리어필름.
  7. 제 6 항에 있어서,
    상기 언더코팅층에 포함되는 고분자 수지의 유리전이 온도(Tg)는 80 내지 250℃ 의 온도 범위를 가지는 배리어필름.
  8. 제 1 항에 있어서,
    상기 무기물층은 규소(Si), 알루미늄(Al), 인듐(In), 주석(Sn), 아연(Zn), 지르코늄(Zr), 티타늄(Ti), 구리(Cu), 세륨(Ce), 이트륨(Yt), 란탄(La), 바륨(Ba), 마그네슘(Mg), 플루오르(F2), 안티몬(Sb), 스트론튬(Sr) 및 탄탈륨(Ta)으로 이루어지는 군에서 선택되는 1종 이상의 금속을 포함하는 산화물, 질화물, 탄화물, 산화질화물, 산화탄화물, 질화탄화물, 또는 산화질화탄화물로 이루어지는 군에서 선택되는 1종 이상의 무기물을 포함하는 배리어필름.
  9. 제 1 항에 있어서,
    상기 열가소성 수지는 폴리에테르계 수지, 폴리우레탄계 수지, 폴리에스테르계 수지, 폴리비닐부티랄계 수지 및 폴리비닐알콜계 수지로 이루어지는 군에서 선택되는 1종 이상의 고분자 수지인 배리어필름.
  10. 제 1 항에 있어서,
    상기 열경화성 수지는 에폭시 수지, 불포화 폴리에스테르 수지, 폴리우레탄 수지, 폴리카보네이트 폴리우레탄, 폴리에스테르 폴리우레탄, 페놀 수지, 멜라민 수지, 요소 수지 및 규소 수지로 이루어지는 군에서 선택되는 1종 이상의 고분자 수지인 배리어필름.
  11. 제 1 항에 있어서,
    상기 오버코팅층 내에 포함되는 열가소성 수지 대 열경화성 수지의 고형분 중량비는 2 : 8 내지 8 : 2의 범위를 가지는 배리어필름.
  12. 서로 대향하는 제 1 항에 따른 2장의 배리어필름; 및 상기 2장의 배리어필름의 오버코팅층 사이에 형성되는 양자점이 분산된 고분자 수지층;을 포함하는 광학시트.
  13. a) 준비된 기재 상에 언더코팅 조성물을 도포하여 언더코팅층을 형성하는 단계;
    b) 상기 언더코팅층 상에 무기물층을 형성하는 단계;
    c) 열가소성 수지 및 열경화성 수지를 포함하는 오버코팅 조성물을 상기 무기물층 상에 도포하여 오버코팅층을 형성하고, 열경화하여 배리어필름을 제조하는 단계; 및
    d) 상기 2장의 배리어필름 사이에 양자점이 분산된 고분자 조성물을 도포하고 UV 경화하는 단계;를 더 포함하는 광학시트 제조방법.
  14. 제 13 항에 있어서,
    상기 c) 단계의 오버코팅 조성물에는 커플링제, 가수분해 방지제 및 접착증진제로 이루어지는 군에서 선택되는 1종 이상의 첨가제가 더 포함되는 광학시트 제조방법.
  15. 제 13 항에 있어서,
    상기 c) 단계의 열경화는 80 내지 150℃의 온도에서 30초 내지 5분 동안 용매를 건조 및 경화시킨 후, 30 내지 60℃ 온도 조건에서 1일 내지 3일 동안 후경화가 수행되는 것인 광학시트 제조방법.
  16. 제 13 항에 있어서,
    상기 d) 단계의 UV 경화는 100 내지 5000mJ/cm2 의 노광 조건에서 수행되는 광학시트 제조방법.
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