KR102252477B1 - Light emittimng device and light emitting device including the same - Google Patents

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Abstract

실시예는 제1 도전형 반도체층과 활성층 및 제2 도전형 반도체층을 포함하는 발광 구조물; 상기 제2 도전형 반도체층의 하부에 배치되는 제2 도전층; 절연층을 사이에 두고 상기 제2 도전층의 하부에 배치되는 제1 도전층; 상기 제1 도전층으로부터 상기 제2 도전층과 제2 도전형 반도체층과 활성층을 관통하고, 상기 제1 도전형 반도체층의 일부에까지 형성된 관통 전극들; 상기 제1 도전층의 하부에 배치되는 도전성 지지 기판; 및 상기 제2 도전층의 가장 자리 영역에서, 상기 제2 도전형 반도체층의 가장 자리와 대응하여 배치되는 제2 전극을 포함하는 발광소자를 제공한다.The embodiment includes a light emitting structure including a first conductivity-type semiconductor layer, an active layer, and a second conductivity-type semiconductor layer; A second conductive layer disposed under the second conductive type semiconductor layer; A first conductive layer disposed under the second conductive layer with an insulating layer therebetween; Through electrodes penetrating the second conductive layer, the second conductive type semiconductor layer and the active layer from the first conductive layer, and formed up to a portion of the first conductive type semiconductor layer; A conductive support substrate disposed under the first conductive layer; And a second electrode disposed in an edge region of the second conductive layer to correspond to an edge of the second conductive type semiconductor layer.

Description

발광소자 및 이를 포함하는 발광소자 패키지{LIGHT EMITTIMNG DEVICE AND LIGHT EMITTING DEVICE INCLUDING THE SAME}A light emitting device and a light emitting device package including the same {LIGHT EMITTIMNG DEVICE AND LIGHT EMITTING DEVICE INCLUDING THE SAME}

실시예는 발광소자에 관한 것이다.The embodiment relates to a light emitting device.

GaN, AlGaN 등의 3-5 족 화합물 반도체는 넓고 조정이 용이한 밴드 갭 에너지를 가지는 등의 많은 장점으로 인해 광 전자 공학 분야(optoelectronics)와 전자 소자를 위해 등에 널리 사용된다. Group 3-5 compound semiconductors such as GaN and AlGaN are widely used in optoelectronics and electronic devices due to their many advantages, such as having a wide and easily adjustable band gap energy.

특히, 반도체의 3-5족 또는 2-6족 화합물 반도체 물질을 이용한 발광 다이오드(Light Emitting Diode)나 레이저 다이오드와 같은 발광 소자는 박막 성장 기술 및 소자 재료의 개발로 적색, 녹색, 청색 및 자외선 등 다양한 색을 구현할 수 있으며, 형광 물질을 이용하거나 색을 조합함으로써 효율이 좋은 백색 광선도 구현이 가능하며, 형광등, 백열등 등 기존의 광원에 비해 저소비전력, 반영구적인 수명, 빠른 응답속도, 안전성, 환경친화성의 장점을 가진다.In particular, light emitting devices such as light emitting diodes and laser diodes using a group 3-5 or group 2-6 compound semiconductor material of semiconductors are developed in thin film growth technology and device materials, such as red, green, blue, and ultraviolet rays. Various colors can be implemented, and efficient white light can be realized by using fluorescent materials or by combining colors. Low power consumption, semi-permanent life, fast response speed, safety, and environment compared to conventional light sources such as fluorescent lamps and incandescent lamps. It has the advantage of affinity.

따라서, 광 통신 수단의 송신 모듈, LCD(Liquid Crystal Display) 표시 장치의 백라이트를 구성하는 냉음극관(CCFL: Cold Cathode Fluorescence Lamp)을 대체하는 발광 다이오드 백라이트, 형광등이나 백열 전구를 대체할 수 있는 백색 발광 다이오드 조명 장치, 자동차 헤드 라이트 및 신호등에까지 응용이 확대되고 있다.Therefore, the transmission module of the optical communication means, a light-emitting diode backlight that replaces the Cold Cathode Fluorescence Lamp (CCFL) that constitutes the backlight of the LCD (Liquid Crystal Display) display, and white light that can replace a fluorescent lamp or incandescent light bulb. Applications are expanding to diode lighting devices, automobile headlights and traffic lights.

발광 소자는 제1 도전형 반도체층과 활성층 및 제2 도전형 반도체층을 포함하는 발광구조물이 형성되고, 제1 도전형 반도체층과 제2 도전형 반도체층 상에 각각 제1 전극과 제2 전극이 배치된다. 발광 소자는 제1 도전형 반도체층을 통해서 주입되는 전자와 제2 도전형 반도체층을 통해서 주입되는 정공이 서로 만나서 활성층을 이루는 물질 고유의 에너지 밴드에 의해서 결정되는 에너지를 갖는 빛을 방출한다. 활성층에서 방출되는 빛은 활성층을 이루는 물질의 조성에 따라 다를 수 있으며, 청색광이나 자외선(UV) 또는 심자외선(Deep UV) 등일 수 있다.In the light emitting device, a light emitting structure including a first conductive type semiconductor layer, an active layer, and a second conductive type semiconductor layer is formed, and a first electrode and a second electrode are respectively formed on the first conductive type semiconductor layer and the second conductive type semiconductor layer. Is placed. In the light emitting device, electrons injected through the first conductivity type semiconductor layer and holes injected through the second conductivity type semiconductor layer meet each other to emit light having energy determined by an energy band inherent to a material constituting the active layer. The light emitted from the active layer may vary depending on the composition of the material constituting the active layer, and may be blue light, ultraviolet light (UV), or deep ultraviolet light.

도 1은 종래의 발광소자를 나타낸 도면이다.1 is a view showing a conventional light emitting device.

도 1에 도시된 수직형 발광소자는 제2 전극(136) 위에, 제1 도전형 반도체층(122)과 활성층(124) 및 제2 도전형 반도체층(126)을 포함하는 발광 구조물(120)이 배치되고, 상기 제1 도전형 반도체층(122) 상에 제1 전극(132)이 배치된다.The vertical light emitting device shown in FIG. 1 is a light emitting structure 120 including a first conductivity type semiconductor layer 122, an active layer 124, and a second conductivity type semiconductor layer 126 on a second electrode 136 Is disposed, and the first electrode 132 is disposed on the first conductivity type semiconductor layer 122.

수직형 발광소자는 상부 방향으로 방출되는 광량이 대부분인데, 도 1에서 활성층(124)에서 방출된 빛이 방출될 때 제1 전극(132)에 의하여 일부가 반사되어 광추출 효율이 저하될 수 있다. The vertical light emitting device has most of the amount of light emitted in the upper direction, and when light emitted from the active layer 124 in FIG. 1 is emitted, a part of the light extraction efficiency may be reduced by being partially reflected by the first electrode 132. .

실시예는 발광소자의 광추출 효율과 발광효율을 향상시키고자 한다.The embodiment aims to improve light extraction efficiency and light emission efficiency of a light emitting device.

실시예는 제1 도전형 반도체층과 활성층 및 제2 도전형 반도체층을 포함하는 발광 구조물; 상기 제2 도전형 반도체층의 하부에 배치되는 제2 도전층; 절연층을 사이에 두고 상기 제2 도전층의 하부에 배치되는 제1 도전층; 상기 제1 도전층으로부터 상기 제2 도전층과 제2 도전형 반도체층과 활성층을 관통하고, 상기 제1 도전형 반도체층의 일부에까지 형성된 관통 전극들; 상기 제1 도전층의 하부에 배치되는 도전성 지지 기판; 및 상기 제2 도전층의 가장 자리 영역에서, 상기 제2 도전형 반도체층의 가장 자리와 대응하여 배치되는 제2 전극을 포함하는 발광소자를 제공한다.The embodiment includes a light emitting structure including a first conductivity-type semiconductor layer, an active layer, and a second conductivity-type semiconductor layer; A second conductive layer disposed under the second conductive type semiconductor layer; A first conductive layer disposed under the second conductive layer with an insulating layer therebetween; Through electrodes penetrating the second conductive layer, the second conductive type semiconductor layer and the active layer from the first conductive layer, and formed up to a portion of the first conductive type semiconductor layer; A conductive support substrate disposed under the first conductive layer; And a second electrode disposed in an edge region of the second conductive layer to correspond to an edge of the second conductive type semiconductor layer.

절연층은, 상기 관통 전극의 둘레에 연장되어 배치될 수 있다.The insulating layer may be disposed to extend around the through electrode.

제2 전극은, 상기 제2 도전형 반도체층의 가장 자리를 둘러싸고 배치될 수 있다.The second electrode may be disposed surrounding the edge of the second conductivity type semiconductor layer.

관통 전극들은 상기 제1 도전형 반도체층과 접촉하는 영역에 요철이 형성될 수 있다.The through electrodes may have unevenness formed in a region in contact with the first conductivity type semiconductor layer.

제1 도전형 반도체층 상에, 상기 관통 전극들과 대응되어 패턴이 형성될 수 있다.A pattern may be formed on the first conductivity type semiconductor layer in correspondence with the through electrodes.

패턴은 요부들과 철부들을 포함하고, 상기 철부들은 상기 관통 전극들과 대응될 수 있다.The pattern includes concave portions and convex portions, and the convex portions may correspond to the through electrodes.

철부는 상기 관통 전극들의 사이에 배치될 수 있다.The convex portion may be disposed between the through electrodes.

요부들과 철부들의 표면에 요철이 형성될 수 있다.Unevenness may be formed on the surfaces of the concave portions and convex portions.

철부의 폭은 상기 관통 전극의 폭보다 넓을 수 있다.The width of the convex portion may be wider than the width of the through electrode.

다른 실시예는 홈이 형성된 도전성 기판; 및 상기 도전성 기판의 홈에 적어도 일부가 삽입되어 배치되는 상술한 발광소자를 포함하고, 상기 발광소자의 측면 중 적어도 일부와 바닥면이 상기 도전성 기판에 결합된 발광소자 패키지를 제공한다.Another embodiment is a conductive substrate in which grooves are formed; And a light emitting device including at least a portion of the light emitting device disposed in a groove of the conductive substrate, wherein at least a portion of a side surface and a bottom surface of the light emitting device are coupled to the conductive substrate.

본 실시예들에 따른 발광소자들은 제1 도전형 반도체층에 제1 도전층으로부터 연결된 관통 전극이 전영역에 고르게 배치되어, 제1 도전형 반도체층의 전 영역에 고르게 전류가 공급되고, 따라서 발광 구조물의 전 영역에서 전자와 정공의 결합이 원활하게 이루어져서 발광 효율이 향상될 수 있다.In the light-emitting devices according to the present embodiments, the through electrode connected from the first conductive layer is evenly disposed in the first conductive type semiconductor layer, so that current is evenly supplied to the entire area of the first conductive type semiconductor layer, thus emitting light. Since electrons and holes are smoothly combined in all areas of the structure, luminous efficiency can be improved.

도 1은 종래의 발광소자를 나타낸 도면이고,
도 2는 발광소자의 제1 실시예를 나타낸 도면이고,
도 3은 발광소자의 제2 실시예를 나타낸 도면이고,
도 4는 도 3의 발광 구조물을 상세히 나타낸 도면이고,
도 5a 및 도 5b는 도 2 및 도 3의 발광소자의 상면도이고,
도 6은 발광소자 패키지의 일실시예를 나타낸 도면이고,
도 7은 발광 소자가 배치된 영상표시장치의 일 실시예를 나타낸 도면이고,
도 8은 발광 소자 패키지가 배치된 조명장치의 일 실시예를 나타낸 도면이다.
1 is a view showing a conventional light emitting device,
2 is a view showing a first embodiment of a light emitting device,
3 is a view showing a second embodiment of a light emitting device,
4 is a view showing in detail the light emitting structure of FIG. 3,
5A and 5B are top views of the light emitting device of FIGS. 2 and 3,
6 is a view showing an embodiment of a light emitting device package,
7 is a diagram showing an embodiment of an image display device in which a light emitting element is disposed,
8 is a diagram illustrating an embodiment of a lighting device in which a light emitting device package is disposed.

이하 상기의 목적을 구체적으로 실현할 수 있는 본 발명의 실시예를 첨부한 도면을 참조하여 설명한다.Hereinafter, embodiments of the present invention capable of realizing the above object will be described with reference to the accompanying drawings.

본 발명에 따른 실시예의 설명에 있어서, 각 element의 " 상(위) 또는 하(아래)(on or under)"에 형성되는 것으로 기재되는 경우에 있어, 상(위) 또는 하(아래)(on or under)는 두개의 element가 서로 직접(directly)접촉되거나 하나 이상의 다른 element가 상기 두 element사이에 배치되어(indirectly) 형성되는 것을 모두 포함한다. 또한 “상(위) 또는 하(아래)(on or under)”으로 표현되는 경우 하나의 element를 기준으로 위쪽 방향 뿐만 아니라 아래쪽 방향의 의미도 포함할 수 있다.In the description of the embodiment according to the present invention, in the case where it is described as being formed in "on or under" of each element, the upper (upper) or lower (lower) (on or under) includes both elements in direct contact with each other or in which one or more other elements are indirectly formed between the two elements. In addition, when expressed as “on or under”, it may include not only an upward direction but also a downward direction based on one element.

실시예들에 따른 발광소자는 수직형 발광소자이되, 제1 도전형 반도체층에 전류를 공급하는 제1 전극이 발광 구조물의 하부에 배치되어 발광 구조물 상부로 방출되는 빛의 반사량을 줄일 수 있으며, 제1 전극은 제2 도전형 반도체층과 활성층을 관통하여 제1 도전형 반도체층에 전기적으로 연결될 수 있다.The light emitting device according to the embodiments is a vertical light emitting device, and the first electrode for supplying current to the first conductivity type semiconductor layer is disposed under the light emitting structure to reduce the amount of reflection of light emitted to the top of the light emitting structure, The first electrode may pass through the second conductivity type semiconductor layer and the active layer to be electrically connected to the first conductivity type semiconductor layer.

도 2는 발광소자의 제1 실시예를 나타낸 도면이다.2 is a view showing a first embodiment of a light emitting device.

본 실시예에 따른 발광소자(200a)는 발광 구조물(220)의 하부에 제2 도전층(236)이 배치되고, 제2 전극의 하부에는 절연층(285)과 제1 도전층(232)이 배치되며, 제1 도전층(232)으로부터 연장된 관통 전극(233)이 발광 구조물(220) 내의 제2 도전형 반도체층(222)과 전기적으로 접촉할 수 있다. 그리고, 제2 도전층(236)의 가장 자리 영역에서 제2 전극(236a, 236b)이 발광 구조물(220)의 가장 자리와 대응하여 배치될 수 있다.In the light emitting device 200a according to the present embodiment, the second conductive layer 236 is disposed under the light emitting structure 220, and the insulating layer 285 and the first conductive layer 232 are disposed under the second electrode. The through electrode 233 which is disposed and extends from the first conductive layer 232 may electrically contact the second conductive type semiconductor layer 222 in the light emitting structure 220. In addition, in the edge region of the second conductive layer 236, the second electrodes 236a and 236b may be disposed to correspond to the edge of the light emitting structure 220.

발광 구조물(220)은 제1 도전형 반도체층(222)과 활성층(224) 및 제2 도전형 반도체층(226)을 포함하여 이루어진다.The light emitting structure 220 includes a first conductivity type semiconductor layer 222, an active layer 224 and a second conductivity type semiconductor layer 226.

제1 도전형 반도체층(222)은 Ⅲ-Ⅴ족, Ⅱ-Ⅵ족 등의 화합물 반도체로 구현될 수 있으며, 제1 도전형 도펀트가 도핑될 수 있다. 제1 도전형 반도체층(222)은 AlxInyGa(1-x-y)N (0≤x≤1, 0≤y≤1, 0≤x+y≤1)의 조성식을 갖는 반도체 물질, AlGaN, GaN, InAlGaN, AlGaAs, GaP, GaAs, GaAsP, AlGaInP 중 어느 하나 이상으로 형성될 수 있다.The first conductivity type semiconductor layer 222 may be implemented as a compound semiconductor such as a III-V group or a II-VI group, and may be doped with a first conductivity type dopant. The first conductivity type semiconductor layer 222 is a semiconductor material having a composition formula of Al x In y Ga (1-xy) N (0≤x≤1, 0≤y≤1, 0≤x+y≤1), AlGaN , GaN, InAlGaN, AlGaAs, GaP, GaAs, GaAsP, AlGaInP may be formed of any one or more.

제1 도전형 반도체층(222)이 n형 반도체층인 경우, 제1 도전형도펀트는 Si, Ge, Sn, Se, Te 등과 같은 n형 도펀트를 포함할 수 있다. 제1 도전형 반도체층(222)은 단층 또는 다층으로 형성될 수 있으며, 이에 대해 한정하지는 않는다.When the first conductivity-type semiconductor layer 222 is an n-type semiconductor layer, the first conductivity-type dopant may include an n-type dopant such as Si, Ge, Sn, Se, and Te. The first conductivity-type semiconductor layer 222 may be formed as a single layer or multiple layers, but is not limited thereto.

활성층(224)은 제1 도전형 반도체층(222)과 제2 도전형 반도체층(226) 사이에 배치되며, 단일 우물 구조(Double Hetero Structure), 다중 우물 구조, 단일 양자 우물 구조, 다중 양자 우물(MQW:Multi Quantum Well) 구조, 양자점 구조 또는 양자선 구조 중 어느 하나를 포함할 수 있다.The active layer 224 is disposed between the first conductivity type semiconductor layer 222 and the second conductivity type semiconductor layer 226, and is a single well structure, a multiple well structure, a single quantum well structure, and a multiple quantum well. It may include any one of a (MQW: Multi Quantum Well) structure, a quantum dot structure, or a quantum line structure.

활성층(224)은 Ⅲ-Ⅴ족 원소의 화합물 반도체 재료를 이용하여 우물층과 장벽층, 예를 들면 AlGaN/AlGaN, InGaN/GaN, InGaN/InGaN, AlGaN/GaN, InAlGaN/GaN, GaAs(InGaAs)/AlGaAs, GaP(InGaP)/AlGaP 중 어느 하나 이상의 페어 구조로 형성될 수 있으나 이에 한정되지는 않는다. 이때, 우물층은 장벽층의 에너지 밴드 갭보다 작은 에너지 밴드 갭을 갖는 물질로 형성될 수 있다. The active layer 224 is a well layer and a barrier layer, such as AlGaN/AlGaN, InGaN/GaN, InGaN/InGaN, AlGaN/GaN, InAlGaN/GaN, GaAs (InGaAs), using a compound semiconductor material of group III-V element /AlGaAs, GaP (InGaP) / AlGaP may be formed in any one or more pair structure, but is not limited thereto. In this case, the well layer may be formed of a material having an energy band gap smaller than the energy band gap of the barrier layer.

제2 도전형 반도체층(226)은 반도체 화합물로 형성될 수 있다. 제2 도전형 반도체층(226)은 Ⅲ-Ⅴ족, Ⅱ-Ⅵ족 등의 화합물 반도체로 구현될 수 있으며, 제2 도전형 도펀트가 도핑될 수 있다. 제2 도전형 반도체층(226)은 예컨대, InxAlyGa1 -x- yN (0≤x≤1, 0≤y≤1, 0≤x+y≤1)의 조성식을 갖는 반도체 물질, AlGaN, GaNAlInN, AlGaAs, GaP, GaAs, GaAsP, AlGaInP 중 어느 하나 이상으로 형성될 수 있다.The second conductivity type semiconductor layer 226 may be formed of a semiconductor compound. The second conductivity type semiconductor layer 226 may be implemented as a compound semiconductor such as Group III-V or Group II-VI, and may be doped with a second conductivity type dopant. The second conductivity type semiconductor layer 226 is, for example, a semiconductor material having a composition formula of In x Al y Ga 1 -x- y N (0≤x≤1, 0≤y≤1, 0≤x+y≤1) , AlGaN, GaNAlInN, AlGaAs, GaP, GaAs, GaAsP, AlGaInP may be formed of any one or more.

제2 도전형 반도체층(226)이 p형 반도체층인 경우, 제2 도전형 도펀트는 Mg, Zn, Ca, Sr, Ba 등과 같은 p형 도펀트일 수 있다. 제2 도전형 반도체층(226)은 단층 또는 다층으로 형성될 수 있으며, 이에 대해 한정하지는 않는다.When the second conductivity-type semiconductor layer 226 is a p-type semiconductor layer, the second conductivity-type dopant may be a p-type dopant such as Mg, Zn, Ca, Sr, Ba, or the like. The second conductivity-type semiconductor layer 226 may be formed as a single layer or multiple layers, but is not limited thereto.

도시되지는 않았으나, 활성층(224)과 제2 도전형 반도체층(226)의 사이에는 전자 차단층(Electron blocking layer)가 배치될 수 있다. 전자 차단층은 초격자(superlattice) 구조로 이루어질 수 있는데, 초격자는 예를 들어 제2 도전형 도펀트로 도핑된 AlGaN이 배치될 수 있고, 알루미늄의 조성비를 달리하는 GaN이 층(layer)을 이루어 복수 개 서로 교번하여 배치될 수도 있다.Although not shown, an electron blocking layer may be disposed between the active layer 224 and the second conductivity type semiconductor layer 226. The electron blocking layer may have a superlattice structure, for example, AlGaN doped with a second conductivity type dopant may be disposed, and GaN having a different composition ratio of aluminum is formed as a layer. A plurality of them may be arranged alternately with each other.

제1 도전형 반도체층(222)의 표면이 도시된 바와 같이 요철을 이루어 광추출 효율을 향상시킬 수 있다.As illustrated, the surface of the first conductivity type semiconductor layer 222 is uneven to improve light extraction efficiency.

제2 도전형 반도체층(226)의 하부에는 제2 도전층(236)이 배치될 수 있다. 제2 도전층(236)은 제2 도전형 반도체층(226)과 면접촉하며 배치되되, 관통 전극(233)이 형성된 영역에서는 그러하지 않을 수 있다. 그리고, 제2 도전층(236)의 가장 자리는 제2 도전형 반도체층(226)의 가장 자리보다 더 외곽에 배치될 수 있는데, 제2 전극 패드(236a, 236b)가 배치될 영역을 확보하기 위함이다.A second conductive layer 236 may be disposed under the second conductive type semiconductor layer 226. The second conductive layer 236 is disposed in surface contact with the second conductive semiconductor layer 226, but may not be in the region where the through electrode 233 is formed. In addition, the edge of the second conductive layer 236 may be disposed further outside the edge of the second conductivity type semiconductor layer 226, to secure a region in which the second electrode pads 236a and 236b are to be disposed. It is for sake.

제2 전극(236)은 도전성 물질로 이루어질 수 있고, 상세하게는 금속으로 이루어질 수 있으며, 보다 상세하게는 은(Ag), 알루미늄(Al), 티타늄(Ti), 크롬(Cr), 니켈(Ni), 구리(Cu), 금(Au) 중 적어도 하나를 포함하여 단층 또는 다층 구조로 형성될 수 있다.The second electrode 236 may be made of a conductive material, specifically metal, and more specifically, silver (Ag), aluminum (Al), titanium (Ti), chromium (Cr), nickel (Ni ), copper (Cu), gold (Au) may be formed in a single-layer or multi-layered structure including at least one.

발광 구조물(220)의 둘레에는 패시베이션층(280)이 형성될 수 있는데, 패시베이션층(280)은 절연물질로 이루어질 수 있으며, 절연물질은 비전도성인 산화물이나 질화물로 이루어질 수 있다. 일 예로서, 패시베이션층(280)은 실리콘 산화물(SiO2)층, 산화 질화물층, 산화 알루미늄층으로 이루어질 수 있다.A passivation layer 280 may be formed around the light emitting structure 220. The passivation layer 280 may be made of an insulating material, and the insulating material may be made of a non-conductive oxide or nitride. As an example, the passivation layer 280 may be formed of a silicon oxide (SiO 2 ) layer, an oxynitride layer, and an aluminum oxide layer.

패시베이션층(280)은 발광 구조물(200)의 둘레와, 상술한 제2 도전형 반도체층(226)의 가장 자리보다 더 외곽에 배치된 제2 도전층(236)의 가장 자리 상에도 배치될 수 있다. 제2 도전층(236)의 가장 자리 상에 배치된 패시베이션층(280)은 제2 전극 패드(236a, 236b)가 형성된 영역에서는 오픈(open)될 수 있다.The passivation layer 280 may be disposed on the periphery of the light emitting structure 200 and on the edge of the second conductive layer 236 disposed further outside the edge of the second conductive semiconductor layer 226 described above. have. The passivation layer 280 disposed on the edge of the second conductive layer 236 may be open in a region in which the second electrode pads 236a and 236b are formed.

제2 도전층(236)의 하부에는 절연층(285)을 사이에 두고 제1 도전층(232)이 배치될 수 있으며, 제1 도전층(232)은 도전성 물질로 이루어질 수 있고, 상세하게는 금속으로 이루어질 수 있으며, 보다 상세하게는 은(Ag), 알루미늄(Al), 티타늄(Ti), 크롬(Cr), 니켈(Ni), 구리(Cu), 금(Au) 중 적어도 하나를 포함하여 단층 또는 다층 구조로 형성될 수 있다.The first conductive layer 232 may be disposed under the second conductive layer 236 with the insulating layer 285 interposed therebetween, and the first conductive layer 232 may be made of a conductive material, and in detail, It may be made of metal, and more specifically, including at least one of silver (Ag), aluminum (Al), titanium (Ti), chromium (Cr), nickel (Ni), copper (Cu), and gold (Au). It may be formed in a single-layer or multi-layer structure.

제1 전극(232)으로부터 상부로 연장되어 복수 개의 관통 전극(233)들이 배치되는데, 관통 전극(233)들은 절연층(285)과 제2 전극(236)과 제2 도전형 반도체층(226)과 활성층(234)을 관통하고, 제1 도전형 반도체층(222)의 일부에까지 연장되어, 관통 전극(233)의 상부면이 제1 도전형 반도체층(222)과 면접촉할 수 있다.A plurality of through electrodes 233 are disposed extending upward from the first electrode 232, and the through electrodes 233 include an insulating layer 285, a second electrode 236, and a second conductivity type semiconductor layer 226. It penetrates through the active layer 234 and extends to a part of the first conductivity type semiconductor layer 222, so that an upper surface of the through electrode 233 may make surface contact with the first conductivity type semiconductor layer 222.

각각의 관통 전극(233)의 단면은 원형이거나 다각형일 수 있다. 상술한 절연층(285)은 관통 전극(233)의 둘레에 연장되어 배치되어, 관통 전극(233)을 제2 도전층(226), 제2 도전형 반도체층(226) 및 활성층(224)과 전기적으로 절연시킬 수 있다.The cross section of each through electrode 233 may be circular or polygonal. The above-described insulating layer 285 is disposed to extend around the through electrode 233, so that the through electrode 233 is connected to the second conductive layer 226, the second conductive semiconductor layer 226, and the active layer 224. It can be electrically insulated.

제1 도전층(232)의 하부에는 오믹층(240)이 배치될 수 있다.An ohmic layer 240 may be disposed under the first conductive layer 232.

오믹층(240)은 약 200 옹스트롱의 두께일 수 있다. 오믹층(240)은 ITO(indium tin oxide), IZO(indium zinc oxide), IZTO(indium zinc tin oxide), IAZO(indium aluminum zinc oxide), IGZO(indium gallium zinc oxide), IGTO(indium gallium tin oxide), AZO(aluminum zinc oxide), ATO(antimony tin oxide), GZO(gallium zinc oxide), IZON(IZO Nitride), AGZO(Al-GaZnO), IGZO(In-GaZnO), ZnO, IrOx, RuOx, NiO, RuOx/ITO, Ni/IrOx/Au, 및 Ni/IrOx/Au/ITO, Ag, Ni, Cr, Ti, Al, Rh, Pd, Ir, Sn, In, Ru, Mg, Zn, Pt, Au, Hf 중 적어도 하나를 포함하여 형성될 수 있으며, 이러한 재료에 한정되는 않는다.The ohmic layer 240 may be about 200 angstroms thick. The ohmic layer 240 includes indium tin oxide (ITO), indium zinc oxide (IZO), indium zinc tin oxide (IZTO), indium aluminum zinc oxide (IAZO), indium gallium zinc oxide (IGZO), indium gallium tin oxide (IGTO) ), AZO(aluminum zinc oxide), ATO(antimony tin oxide), GZO(gallium zinc oxide), IZON(IZO Nitride), AGZO(Al-GaZnO), IGZO(In-GaZnO), ZnO, IrOx, RuOx, NiO , RuOx/ITO, Ni/IrOx/Au, and Ni/IrOx/Au/ITO, Ag, Ni, Cr, Ti, Al, Rh, Pd, Ir, Sn, In, Ru, Mg, Zn, Pt, Au, It may be formed to include at least one of Hf, but is not limited to such a material.

오믹층의 하부에는 반사 전극으로 작용할 수 있는 반사층(250)이 배치될 수 있다. 반사층(250)은 텅스텐(W), 티타늄(Ti), 몰리브덴(Mo), 알루미늄(Al), 은(Ag), 니켈(Ni), 백금(Pt), 로듐(Rh), 혹은 Al이나 Ag이나 Pt나 Rh를 포함하는 합금을 포함하는 금속층으로 이루어질 수 있다. 알루미늄이나 은 등은 활성층(224)에서 도 2의 하부 방향으로 진행한 빛을 효과적으로 반사하여 반도체 소자의 광추출 효율을 크게 개선할 수 있다.A reflective layer 250 that can act as a reflective electrode may be disposed under the ohmic layer. The reflective layer 250 is tungsten (W), titanium (Ti), molybdenum (Mo), aluminum (Al), silver (Ag), nickel (Ni), platinum (Pt), rhodium (Rh), or Al or Ag It may be made of a metal layer containing an alloy containing Pt or Rh. Aluminum or silver can effectively reflect light traveling from the active layer 224 in the lower direction of FIG. 2 to greatly improve light extraction efficiency of the semiconductor device.

반사층(250)의 폭은 오믹층(240)의 폭보다 좁을 수 있으며, 반사층(250)의 하부에는 채널층(260)이 배치될 수 있다. 채널층(260)의 폭은 반사층(250)의 폭보다 커서 반사층(250)을 감싸며 배치될 수 있다. 채널층(260)은 도전성 물질로 이루어질 수 있으며, 예를 들면 금(Au)이나 주석(Sn)으로 이루어질 수 있다.The width of the reflective layer 250 may be narrower than the width of the ohmic layer 240, and a channel layer 260 may be disposed under the reflective layer 250. The width of the channel layer 260 is larger than the width of the reflective layer 250 and may be disposed surrounding the reflective layer 250. The channel layer 260 may be made of a conductive material, for example, gold (Au) or tin (Sn).

도전성 지지 기판(support substrate, 270)은 금속 또는 반도체 물질 등 도전성 물질로 형성될 수 있다. 전기 전도도 내지 열전도도가 우수한 금속을 사용할 수 있고, 반도체 소자 작동시 발생하는 열을 충분히 발산시킬 수 있어야 하므로 열 전도도가 높은 물질(ex. 금속 등)로 형성될 수 있다. 예를 들어, 몰리브덴(Mo), 실리콘(Si), 텅스텐(W), 구리(Cu) 및 알루미늄(Al)로 구성되는 군으로부터 선택되는 물질 또는 이들의 합금으로 이루어질 수 있으며, 또한, 금(Au), 구리합금(Cu Alloy), 니켈(Ni), 구리-텅스텐(Cu-W), 캐리어웨이퍼(예: GaN, Si, Ge, GaAs, ZnO, SiGe, SiC, SiGe, Ga2O3 등) 등을 선택적으로 포함할 수 있다.The conductive support substrate 270 may be formed of a conductive material such as a metal or a semiconductor material. A metal having excellent electrical conductivity or thermal conductivity can be used, and since it must be able to sufficiently dissipate heat generated during operation of a semiconductor device, it may be formed of a material having high thermal conductivity (eg, metal). For example, it may be made of a material selected from the group consisting of molybdenum (Mo), silicon (Si), tungsten (W), copper (Cu), and aluminum (Al), or an alloy thereof, and gold (Au ), copper alloy (Cu Alloy), nickel (Ni), copper-tungsten (Cu-W), carrier wafer (e.g. GaN, Si, Ge, GaAs, ZnO, SiGe, SiC, SiGe, Ga 2 O 3, etc.) And the like may be optionally included.

상기 지지 기판(270)은 전체 질화물 반도체에 휨을 가져오지 않으면서, 스크라이빙(scribing) 공정 및 브레이킹(breaking) 공정을 통하여 별개의 칩으로 잘 분리시키기 위한 정도의 기계적 강도를 가지기 위하여 50 내지 200 마이크로 미터의 두께로 이루어질 수 있다.The support substrate 270 is 50 to 200 in order to have a mechanical strength sufficient to separate chips into separate chips through a scribing process and a breaking process without causing warpage to the entire nitride semiconductor. It can be made to a thickness of micrometers.

도시되지는 않았으나, 접합층(236) 채널층(260)과 도전성 지지 기판(270)을 결합하는데, 금(Au), 주석(Sn), 인듐(In), 알루미늄(Al), 실리콘(Si), 은(Ag), 니켈(Ni) 및 구리(Cu)로 구성되는 군으로부터 선택되는 물질 또는 이들의 합금으로 형성할 수 있다.Although not shown, the bonding layer 236, the channel layer 260, and the conductive support substrate 270 are combined. Gold (Au), tin (Sn), indium (In), aluminum (Al), and silicon (Si) , Silver (Ag), nickel (Ni) and copper (Cu) may be formed of a material selected from the group consisting of, or an alloy thereof.

본 실시예에 따른 발광소자(200a)에서 제1 도전층(236)으로부터 관통 전극(233)을 통하여 제1 도전형 반도체층(222)의 전체 영역에 고루 전류가 공급되며, 제2 전극(236)과 면접촉하는 제2 도전형 반도체층(226)에도 전류가 전체 영역에 전류가 고루 공급될 수 있다. 또한, 전극 패드(236a, 236b)가 발광 구조물(220)의 둘레에서 제2 도전층(236)의 상부에 배치되어, 제2 도전층(236)의 전체 영역에 고루 전류가 공급될 수 있다. 따라서, 제1 도전형 반도체층(222)을 통해서 주입되는 전자와 제2 도전형 반도체층(226)을 통해서 주입되는 정공이 활성층(224) 내에서 결합하는 빈도가 증가하여, 활성층(224)으로부터 방출되는 광량이 증가할 수 있다.In the light emitting device 200a according to the present embodiment, even current is supplied from the first conductive layer 236 to the entire area of the first conductive type semiconductor layer 222 through the through electrode 233, and the second electrode 236 ) And the second conductivity-type semiconductor layer 226 in surface contact may also supply current to the entire area. In addition, the electrode pads 236a and 236b are disposed on the second conductive layer 236 around the light emitting structure 220, so that current can be evenly supplied to the entire area of the second conductive layer 236. Accordingly, the frequency at which electrons injected through the first conductivity-type semiconductor layer 222 and holes injected through the second conductivity-type semiconductor layer 226 are combined in the active layer 224 increases, The amount of light emitted may increase.

도 3은 발광소자의 제2 실시예를 나타낸 도면이다.3 is a view showing a second embodiment of a light emitting device.

본 실시예에 따른 발광소자(200b)는 도 2의 실시예와 유사하되, 제1 도전형 반도체층(222)에 패턴이 형성되는 차이점이 있다. 패턴은 제1 도전형 반도체층(222)의 표면에 요부(concave)와 철부(convex)가 형성되어 이루어지며, 철부들은 상술한 관통 전극(233)과 대응하며 배치되고, 요부들은 관통 전극(233) 사이의 영영과 대등하며 형성될 수 있다.The light emitting device 200b according to the present exemplary embodiment is similar to the exemplary embodiment of FIG. 2, except that a pattern is formed on the first conductivity type semiconductor layer 222. The pattern is formed by forming concave and convex on the surface of the first conductivity-type semiconductor layer 222, and the convex portions are arranged to correspond to the through electrode 233 described above, and the concave portions are the through electrode 233 ) Can be formed on the same level as the Young Young between.

도 4는 도 3의 발광 구조물을 상세히 나타낸 도면이다.4 is a diagram showing the light emitting structure of FIG. 3 in detail.

관통 전극(233)이 제1 도전형 반도체층(222)과 접촉하는 영역(C)에는 요철이 형성될 수 있다.An unevenness may be formed in the region C where the through electrode 233 contacts the first conductivity type semiconductor layer 222.

관통 전극(233)과 대응하여 제1 도전형 반도체층(222)의 표면에 철부가 형성되고, 관통 전극(233)들 사이의 영역과 대응하여 제1 도전형 반도체층(222)의 표면에 요부가 형성될 수 있다. 이때, 요부와 철부들의 표면(B, A)에도 각각 요철이 형성될 수 있다.Convex portions are formed on the surface of the first conductivity-type semiconductor layer 222 corresponding to the through electrode 233, and a concave portion on the surface of the first conductivity-type semiconductor layer 222 corresponds to the region between the through electrodes 233 Can be formed. At this time, irregularities may be formed on the surfaces B and A of the concave portions and convex portions, respectively.

제1 도전형 반도체층(222)의 표면의 요부와 철부로 이루어지는 패턴은 규칙성을 가지나, 각각의 요부와 철부의 표면에 형성되는 요철은 불규칙한 러프니스(roughness)일 수 있다.The pattern consisting of concave portions and convex portions on the surface of the first conductivity type semiconductor layer 222 has regularity, but irregularities formed on the surfaces of the concave portions and convex portions may be irregular roughness.

도 4에서 철부의 폭은 관통 전극(233)의 폭보다 클 수 있다. 보다 상세하게는, 관통 전극(233)의 표면의 제1 폭(W21)은 관통 전극(233)이 제1 도전층(232)과 접촉하는 영역의 제2 폭(W22)보다 작을 수 있고, 철부의 표면의 제1 폭(W11)은 인접한 요부의 표면에 대응하는 높이에서의 철부의 제2 폭(W12)보다 작을 수 있다.In FIG. 4, the width of the convex portion may be larger than the width of the through electrode 233. More specifically, the first width W 21 of the surface of the through electrode 233 may be smaller than the second width W 22 of the region in which the through electrode 233 contacts the first conductive layer 232, and , The first width W 11 of the surface of the convex portion may be smaller than the second width W 12 of the convex portion at a height corresponding to the surface of the adjacent concave portion.

그리고, 관통 전극(233)의 표면의 제1 폭(W21)보다 철부의 표면의 제1 폭(W11)이 더 넓을 수 있고, 관통 전극(233)이 제1 도전층(232)과 접촉하는 영역의 제2 폭(W22)보다 인접한 요부의 표면에 대응하는 높이에서의 철부의 제2 폭(W12)이 더 넓을 수 있다. In addition, the first width (W 11 ) of the surface of the convex portion may be wider than the first width (W 21 ) of the surface of the through electrode 233, and the through electrode 233 is in contact with the first conductive layer 232 The second width W 12 of the convex portion at a height corresponding to the surface of the adjacent concave portion may be wider than the second width W 22 of the region.

도 5a 및 도 5b는 도 2 및 도 3의 발광소자의 상면도이다.5A and 5B are top views of the light emitting device of FIGS. 2 and 3.

도 5a에서 제1 도전형 반도체층(222)의 하부에 관통 전극(233)들이 배치되는데, 각각의 관통 전극(233)의 둘레에는 절연층(285)이 배치된다. 관통 전극(233)과 절연층(285)은 제1 도전형 반도체층(222)의 하부에 배치되어 상면도에서 보이지 않을 수 있으나, 이해의 편의를 위하여 도시하고 있다.In FIG. 5A, through electrodes 233 are disposed under the first conductivity type semiconductor layer 222, and an insulating layer 285 is disposed around each through electrode 233. The through electrode 233 and the insulating layer 285 are disposed under the first conductivity type semiconductor layer 222 and may not be visible from the top view, but are shown for convenience of understanding.

패시베이션층(280)보다 외부에 제2 전극(236a, 236b)이 배치된다. 'D' 영역에 배치된 제2 전극(236b)은 폭이 다른 영역에 배치된 제2 전극(236a)보다 큰데, 와이어가 본딩될 영역일 수 있다.Second electrodes 236a and 236b are disposed outside the passivation layer 280. The second electrode 236b disposed in the'D' area has a width greater than that of the second electrode 236a disposed in the other area, and may be an area to which the wire is to be bonded.

도 5b에 도시된 상면도는 제2 도전형 반도체층(222)의 표면의 'B' 영역에 요부가 배치되며, 상술한 요부는 관통 전극(233) 들의 사이에 배치될 수 있다.In the top view illustrated in FIG. 5B, a concave portion is disposed in a region'B' of the surface of the second conductivity type semiconductor layer 222, and the concave portion may be disposed between the through electrodes 233.

상술한 실시예들에 따른 발광소자(200a, 200b)들은 제1 도전형 반도체층(222)에 제1 도전층(232)으로부터 연결된 관통 전극(233)이 전영역에 고르게 배치되어, 제1 도전형 반도체층(222)의 전 영역에 고르게 전류가 공급되고, 따라서 발광 구조물(220)의 전 영역에서 전자와 정공의 결합이 원활하게 이루어져서 발광 효율이 향상될 수 있다.In the light emitting devices 200a and 200b according to the above-described embodiments, the through electrode 233 connected from the first conductive layer 232 to the first conductivity type semiconductor layer 222 is evenly disposed over the entire area, Electric current is evenly supplied to all regions of the type semiconductor layer 222, and thus electrons and holes are smoothly combined in all regions of the light emitting structure 220, thereby improving luminous efficiency.

도 6은 발광소자 패키지의 일실시예를 나타낸 도면이다.6 is a view showing an embodiment of a light emitting device package.

본 실시예에 따른 발광소자 패키지는 도전성 기판(300)에 홈이 형성되고, 상술한 홈에 상술한 실시예들에 따른 발광소자(200b)가 배치될 수 있다. 발광소자(200b)의 측면 중 적어도 일부와 바닥면은 도전성 기판(300)에 결합될 수 있는데, 솔더(310, solder) 등으로 결합될 수 있다.In the light emitting device package according to the present embodiment, a groove may be formed in the conductive substrate 300, and the light emitting device 200b according to the above-described embodiments may be disposed in the above-described groove. At least a portion of the side surface and the bottom surface of the light emitting device 200b may be coupled to the conductive substrate 300, and may be coupled with a solder 310, or the like.

도전성 기판(300)의 상부면에는 유전층(320)이 배치되고, 유전층(320)의 상부에는 본딩을 위한 패드(330)가 배치되어, 발광소자(200b)의 하나의 전극과 와이어(340)로 본딩될 수 있다. 그리고, 발광소자(200b)의 다른 전극은 도전성 기판(300)과 결합되며 전기적으로 연결될 수 있다.A dielectric layer 320 is disposed on the upper surface of the conductive substrate 300, and a pad 330 for bonding is disposed on the dielectric layer 320 to form one electrode and a wire 340 of the light emitting device 200b. Can be bonded. Further, the other electrode of the light emitting device 200b is coupled to the conductive substrate 300 and may be electrically connected.

발광소자(200b)의 둘레에는 몰딩부(350)가 형성되는데, 몰딩부(350)는 발광소자(200b)를 보호하고 발광소자(350)로부터 방출되는 광의 경로를 변경할 수 있다.A molding part 350 is formed around the light emitting device 200b, and the molding part 350 protects the light emitting device 200b and may change a path of light emitted from the light emitting device 350.

상술한 발광 소자 패키지에는 발광 소자가 하나 또는 복수 개로 탑재할 수 있으며, 이에 대해 한정하지는 않는다.One or a plurality of light-emitting elements may be mounted in the above-described light-emitting device package, but the embodiment is not limited thereto.

이하에서는 상술한 발광 소자 패키지가 배치된 조명 시스템의 일실시예로서, 영상표시장치와 조명장치를 설명한다.Hereinafter, an image display device and a lighting device will be described as an embodiment of a lighting system in which the above-described light emitting device package is disposed.

도 7은 발광 소자 패키지를 포함하는 영상표시장치의 일실시예를 나타낸 도면이다.7 is a diagram illustrating an embodiment of an image display device including a light emitting device package.

도시된 바와 같이, 본 실시예에 따른 영상표시장치(500)는 광원 모듈과, 바텀 커버(510) 상의 반사판(520)과, 상기 반사판(520)의 전방에 배치되며 상기 광원모듈에서 방출되는 빛을 영상표시장치 전방으로 가이드하는 도광판(540)과, 상기 도광판(540)의 전방에 배치되는 제1 프리즘시트(550)와 제2 프리즘시트 (560)와, 상기 제2 프리즘시트(560)의 전방에 배치되는 패널(570)과 상기 패널 (570)의 전반에 배치되는 컬러필터(580)를 포함하여 이루어진다.As shown, the image display device 500 according to the present embodiment includes a light source module, a reflector 520 on the bottom cover 510, and light emitted from the light source module disposed in front of the reflector 520. The first prism sheet 550 and the second prism sheet 560 and the second prism sheet 560 are arranged in front of the light guide plate 540 to guide the image display device in front of the light guide plate 540. It includes a panel 570 disposed in front and a color filter 580 disposed in front of the panel 570.

광원 모듈은 회로 기판(530) 상의 발광 소자 패키지(535)를 포함하여 이루어진다. 여기서, 회로 기판(530)은 PCB 등이 사용될 수 있다.The light source module includes a light emitting device package 535 on the circuit board 530. Here, the circuit board 530 may be a PCB or the like.

바텀 커버(510)는 영상표시장치(500) 내의 구성 요소들을 수납할 수 있다. 반사판(520)은 본 도면처럼 별도의 구성요소로 마련될 수도 있고, 도광판(540)의 후면이나, 상기 바텀 커버(510)의 전면에 반사도가 높은 물질로 코팅되는 형태로 마련되는 것도 가능하다.The bottom cover 510 may accommodate components in the image display device 500. The reflector 520 may be provided as a separate component as shown in this drawing, or may be provided in a form coated with a material having high reflectivity on the rear surface of the light guide plate 540 or the front surface of the bottom cover 510.

반사판(520)은 반사율이 높고 초박형으로 사용 가능한 소재를 사용할 수 있고, 폴리에틸렌테레프탈레이트(PolyEthylene Terephtalate; PET)를 사용할 수 있다.The reflective plate 520 may be made of a material that has high reflectivity and can be used in an ultra-thin type, and may use PolyEthylene Terephtalate (PET).

도광판(540)은 발광 소자 패키지 모듈에서 방출되는 빛을 산란시켜 그 빛이 액정 표시 장치의 화면 전 영역에 걸쳐 균일하게 분포되도록 한다. 따라서, 도광판(530)은 굴절률과 투과율이 좋은 재료로 이루어지는데, 폴리메틸메타크릴레이트(PolyMethylMethAcrylate; PMMA), 폴리카보네이트 (PolyCarbonate; PC), 또는 폴리에틸렌(PolyEthylene; PE) 등으로 형성될 수 있다. 또한, 도광판(540)이 생략되면 에어 가이드 방식의 표시장치가 구현될 수 있다.The light guide plate 540 scatters light emitted from the light emitting device package module so that the light is uniformly distributed over the entire screen area of the liquid crystal display. Accordingly, the light guide plate 530 is made of a material having a good refractive index and transmittance, and may be formed of polymethylmethacrylate (PMMA), polycarbonate (PC), or polyethylene (PolyEthylene; PE). In addition, when the light guide plate 540 is omitted, an air guide type display device may be implemented.

상기 제1 프리즘 시트(550)는 지지필름의 일면에, 투광성이면서 탄성을 갖는 중합체 재료로 형성되는데, 상기 중합체는 복수 개의 입체구조가 반복적으로 형성된 프리즘층을 가질 수 있다. 여기서, 상기 복수 개의 패턴은 도시된 바와 같이 마루와 골이 반복적으로 스트라이프 타입으로 구비될 수 있다.The first prism sheet 550 is formed of a light-transmitting and elastic polymer material on one surface of the support film, and the polymer may have a prism layer in which a plurality of three-dimensional structures are repeatedly formed. Here, the plurality of patterns may be repeatedly provided in a stripe type of floors and valleys as shown.

상기 제2 프리즘 시트(560)에서 지지필름 일면의 마루와 골의 방향은, 상기 제1 프리즘 시트(550) 내의 지지필름 일면의 마루와 골의 방향과 수직할 수 있다. 이는 광원 모듈과 반사시트로부터 전달된 빛을 상기 패널(570)의 전방향으로 고르게 분산하기 위함이다.In the second prism sheet 560, a direction of a floor and a valley on one side of the support film may be perpendicular to a direction of a floor and a valley on one surface of the support film in the first prism sheet 550. This is to evenly distribute the light transmitted from the light source module and the reflective sheet in all directions of the panel 570.

본 실시예에서 상기 제1 프리즘시트(550)과 제2 프리즘시트(560)가 광학시트를 이루는데, 상기 광학시트는 다른 조합 예를 들어, 마이크로 렌즈 어레이로 이루어지거나 확산시트와 마이크로 렌즈 어레이의 조합 또는 하나의 프리즘 시트와 마이크로 렌즈 어레이의 조합 등으로 이루어질 수 있다.In this embodiment, the first prism sheet 550 and the second prism sheet 560 form an optical sheet, and the optical sheet is formed of a different combination, for example, a microlens array, or a diffusion sheet and a microlens array. It may be made of a combination or a combination of a single prism sheet and a micro lens array.

상기 패널(570)은 액정 표시 패널(Liquid crystal display)가 배치될 수 있는데, 액정 표시 패널(560) 외에 광원을 필요로 하는 다른 종류의 디스플레이 장치가 구비될 수 있다.The panel 570 may include a liquid crystal display. In addition to the liquid crystal display panel 560, other types of display devices requiring a light source may be provided.

상기 패널(570)은, 유리 바디 사이에 액정이 위치하고 빛의 편광성을 이용하기 위해 편광판을 양 유리바디에 올린 상태로 되어있다. 여기서, 액정은 액체와 고체의 중간적인 특성을 가지는데, 액체처럼 유동성을 갖는 유기분자인 액정이 결정처럼 규칙적으로 배열된 상태를 갖는 것으로, 상기 분자 배열이 외부 전계에 의해 변화되는 성질을 이용하여 화상을 표시한다.The panel 570 is in a state in which a liquid crystal is placed between the glass bodies and a polarizing plate is placed on both glass bodies in order to utilize the polarization of light. Here, the liquid crystal has an intermediate characteristic between a liquid and a solid, and the liquid crystal, which is an organic molecule having fluidity like a liquid, has a state that is regularly arranged like a crystal, and the molecular arrangement is changed by an external electric field. Display an image.

표시장치에 사용되는 액정 표시 패널은, 액티브 매트릭스(Active Matrix) 방식으로서, 각 화소에 공급되는 전압을 조절하는 스위치로서 트랜지스터를 사용한다.A liquid crystal display panel used in a display device is an active matrix type, and uses a transistor as a switch for controlling a voltage supplied to each pixel.

상기 패널(570)의 전면에는 컬러 필터(580)가 구비되어 상기 패널(570)에서 투사된 빛을, 각각의 화소마다 적색과 녹색 및 청색의 빛만을 투과하므로 화상을 표현할 수 있다.A color filter 580 is provided on the front surface of the panel 570 to transmit light projected from the panel 570 and transmit only red, green, and blue light for each pixel, thereby displaying an image.

도 8은 발광 소자 패키지가 배치된 조명장치의 일 실시예를 나타낸 도면이다.8 is a diagram illustrating an embodiment of a lighting device in which a light emitting device package is disposed.

본 실시예에 따른 조명 장치는 커버(1100), 광원 모듈(1200), 방열체(1400), 전원 제공부(1600), 내부 케이스(1700), 소켓(1800)을 포함할 수 있다. 또한, 실시 예에 따른 조명 장치는 부재(1300)와 홀더(1500) 중 어느 하나 이상을 더 포함할 수 있고, 광원 모듈(1200)은 상술한 실시예들에 따른 발광 소자 패키지를 포함할 수 있다.The lighting device according to the present embodiment may include a cover 1100, a light source module 1200, a radiator 1400, a power supply unit 1600, an inner case 1700, and a socket 1800. In addition, the lighting device according to the embodiment may further include any one or more of the member 1300 and the holder 1500, and the light source module 1200 may include a light emitting device package according to the above-described embodiments. .

커버(1100)는 벌브(bulb) 또는 반구의 형상을 가지며, 속이 비어 있고, 일 부분이 개구된 형상으로 제공될 수 있다. 상기 커버(1100)는 상기 광원 모듈(1200)과 광학적으로 결합될 수 있다. 예를 들어, 상기 커버(1100)는 상기 광원 모듈(1200)로부터 제공되는 빛을 확산, 산란 또는 여기시킬 수 있다. 상기 커버(1100)는 일종의 광학 부재일 수 있다. 상기 커버(1100)는 상기 방열체(1400)와 결합될 수 있다. 상기 커버(1100)는 상기 방열체(1400)와 결합하는 결합부를 가질 수 있다.The cover 1100 has a shape of a bulb or a hemisphere, is hollow, and may be provided in an open shape. The cover 1100 may be optically coupled to the light source module 1200. For example, the cover 1100 may diffuse, scatter, or excite light provided from the light source module 1200. The cover 1100 may be a kind of optical member. The cover 1100 may be coupled to the radiator 1400. The cover 1100 may have a coupling portion coupled to the radiator 1400.

커버(1100)의 내면에는 유백색 도료가 코팅될 수 있다. 유백색의 도료는 빛을 확산시키는 확산재를 포함할 수 있다. 상기 커버(1100)의 내면의 표면 거칠기는 상기 커버(1100)의 외면의 표면 거칠기보다 크게 형성될 수 있다. 이는 상기 광원 모듈(1200)로부터의 빛이 충분히 산란 및 확산되어 외부로 방출시키기 위함이다.A milky white paint may be coated on the inner surface of the cover 1100. The milky white paint may include a diffuser that diffuses light. The surface roughness of the inner surface of the cover 1100 may be greater than the surface roughness of the outer surface of the cover 1100. This is to allow the light from the light source module 1200 to be sufficiently scattered and diffused to be emitted to the outside.

커버(1100)의 재질은 유리(glass), 플라스틱, 폴리프로필렌(PP), 폴리에틸렌(PE), 폴리카보네이트(PC) 등일 수 있다. 여기서, 폴리카보네이트는 내광성, 내열성, 강도가 뛰어나다. 상기 커버(1100)는 외부에서 상기 광원 모듈(1200)이 보이도록 투명할 수 있고, 불투명할 수 있다. 상기 커버(1100)는 블로우(blow) 성형을 통해 형성될 수 있다.The material of the cover 1100 may be glass, plastic, polypropylene (PP), polyethylene (PE), polycarbonate (PC), or the like. Here, polycarbonate is excellent in light resistance, heat resistance, and strength. The cover 1100 may be transparent or opaque so that the light source module 1200 can be seen from the outside. The cover 1100 may be formed through blow molding.

광원 모듈(1200)은 상기 방열체(1400)의 일면에 배치될 수 있다. 따라서, 광원 모듈(1200)로부터의 열은 상기 방열체(1400)로 전도된다. 상기 광원 모듈(1200)은 발광 소자 패키지(1210), 연결 플레이트(1230), 커넥터(1250)를 포함할 수 있다.The light source module 1200 may be disposed on one surface of the radiator 1400. Accordingly, heat from the light source module 1200 is conducted to the radiator 1400. The light source module 1200 may include a light emitting device package 1210, a connection plate 1230, and a connector 1250.

부재(1300)는 상기 방열체(1400)의 상면 위에 배치되고, 복수의 발광 소자 패키지(1210)들과 커넥터(1250)가 삽입되는 가이드홈(1310)들을 갖는다. 가이드홈(1310)은 상기 발광 소자 패키지(1210)의 기판 및 커넥터(1250)와 대응된다.The member 1300 is disposed on the upper surface of the radiator 1400 and has guide grooves 1310 into which a plurality of light emitting device packages 1210 and a connector 1250 are inserted. The guide groove 1310 corresponds to the substrate and the connector 1250 of the light emitting device package 1210.

부재(1300)의 표면은 빛 반사 물질로 도포 또는 코팅된 것일 수 있다. 예를 들면, 부재(1300)의 표면은 백색의 도료로 도포 또는 코팅된 것일 수 있다. 이러한 상기 부재(1300)는 상기 커버(1100)의 내면에 반사되어 상기 광원 모듈(1200)측 방향으로 되돌아오는 빛을 다시 상기 커버(1100) 방향으로 반사한다. 따라서, 실시 예에 따른 조명 장치의 광 효율을 향상시킬 수 있다.The surface of the member 1300 may be coated or coated with a light reflective material. For example, the surface of the member 1300 may be coated or coated with a white paint. The member 1300 reflects light reflected on the inner surface of the cover 1100 and returned toward the light source module 1200 toward the cover 1100. Therefore, it is possible to improve the light efficiency of the lighting device according to the embodiment.

부재(1300)는 예로서 절연 물질로 이루어질 수 있다. 상기 광원 모듈(1200)의 연결 플레이트(1230)는 전기 전도성의 물질을 포함할 수 있다. 따라서, 상기 방열체(1400)와 상기 연결 플레이트(1230) 사이에 전기적인 접촉이 이루어질 수 있다. 상기 부재(1300)는 절연 물질로 구성되어 상기 연결 플레이트(1230)와 상기 방열체(1400)의 전기적 단락을 차단할 수 있다. 상기 방열체(1400)는 상기 광원 모듈(1200)로부터의 열과 상기 전원 제공부(1600)로부터의 열을 전달받아 방열한다.The member 1300 may be made of an insulating material, for example. The connection plate 1230 of the light source module 1200 may include an electrically conductive material. Accordingly, electrical contact may be made between the radiator 1400 and the connection plate 1230. The member 1300 is made of an insulating material to block an electrical short between the connection plate 1230 and the radiator 1400. The radiator 1400 receives heat from the light source module 1200 and heat from the power supply unit 1600 to radiate heat.

홀더(1500)는 내부 케이스(1700)의 절연부(1710)의 수납홈(1719)을 막는다. 따라서, 상기 내부 케이스(1700)의 상기 절연부(1710)에 수납되는 상기 전원 제공부(1600)는 밀폐된다. 홀더(1500)는 가이드 돌출부(1510)를 갖는다. 가이드 돌출부(1510)는 상기 전원 제공부(1600)의 돌출부(1610)가 관통하는 홀을 갖는다.The holder 1500 blocks the receiving groove 1919 of the insulating part 1710 of the inner case 1700. Accordingly, the power supply unit 1600 accommodated in the insulating unit 1710 of the inner case 1700 is sealed. The holder 1500 has a guide protrusion 1510. The guide protrusion 1510 has a hole through which the protrusion 1610 of the power supply unit 1600 passes.

전원 제공부(1600)는 외부로부터 제공받은 전기적 신호를 처리 또는 변환하여 상기 광원 모듈(1200)로 제공한다. 전원 제공부(1600)는 상기 내부 케이스(1700)의 수납홈(1719)에 수납되고, 상기 홀더(1500)에 의해 상기 내부 케이스(1700)의 내부에 밀폐된다. 상기 전원 제공부(1600)는 돌출부(1610), 가이드부(1630), 베이스(1650), 연장부(1670)를 포함할 수 있다.The power supply unit 1600 processes or converts an electrical signal provided from the outside and provides it to the light source module 1200. The power supply unit 1600 is accommodated in the storage groove 1719 of the inner case 1700 and is sealed inside the inner case 1700 by the holder 1500. The power supply unit 1600 may include a protrusion 1610, a guide unit 1630, a base 1650, and an extension 1670.

상기 가이드부(1630)는 상기 베이스(1650)의 일측에서 외부로 돌출된 형상을 갖는다. 상기 가이드부(1630)는 상기 홀더(1500)에 삽입될 수 있다. 상기 베이스(1650)의 일면 위에 다수의 부품이 배치될 수 있다. 다수의 부품은 예를 들어, 외부 전원으로부터 제공되는 교류 전원을 직류 전원으로 변환하는 직류변환장치, 상기 광원 모듈(1200)의 구동을 제어하는 구동칩, 상기 광원 모듈(1200)을 보호하기 위한 ESD(ElectroStatic discharge) 보호 소자 등을 포함할 수 있으나 이에 대해 한정하지는 않는다.The guide part 1630 has a shape protruding outward from one side of the base 1650. The guide part 1630 may be inserted into the holder 1500. A number of components may be disposed on one surface of the base 1650. A number of components include, for example, a DC converter that converts AC power provided from an external power source to DC power, a driving chip that controls driving of the light source module 1200, and an ESD for protecting the light source module 1200. (ElectroStatic discharge) may include a protection element, but is not limited thereto.

상기 연장부(1670)는 상기 베이스(1650)의 다른 일측에서 외부로 돌출된 형상을 갖는다. 상기 연장부(1670)는 상기 내부 케이스(1700)의 연결부(1750) 내부에 삽입되고, 외부로부터의 전기적 신호를 제공받는다. 예컨대, 상기 연장부(1670)는 상기 내부 케이스(1700)의 연결부(1750)의 폭과 같거나 작게 제공될 수 있다. 상기 연장부(1670)에는 "+ 전선"과 "- 전선"의 각 일단이 전기적으로 연결되고, "+ 전선"과 "- 전선"의 다른 일단은 소켓(1800)에 전기적으로 연결될 수 있다.The extension part 1670 has a shape protruding outward from the other side of the base 1650. The extension part 1670 is inserted into the connection part 1750 of the inner case 1700 and receives an electrical signal from the outside. For example, the extension part 1670 may be provided equal to or smaller than the width of the connection part 1750 of the inner case 1700. Each end of the "+ wire" and "- wire" may be electrically connected to the extension part 1670, and the other ends of the "+ wire" and the "- wire" may be electrically connected to the socket 1800.

내부 케이스(1700)는 내부에 상기 전원 제공부(1600)와 함께 몰딩부를 포함할 수 있다. 몰딩부는 몰딩 액체가 굳어진 부분으로서, 상기 전원 제공부(1600)가 상기 내부 케이스(1700) 내부에 고정될 수 있도록 한다.The inner case 1700 may include a molding unit together with the power supply unit 1600 therein. The molding part is a part where the molding liquid is solidified, and allows the power supply part 1600 to be fixed inside the inner case 1700.

이상에서 실시예를 중심으로 설명하였으나 이는 단지 예시일 뿐 본 발명을 한정하는 것이 아니며, 본 발명이 속하는 분야의 통상의 지식을 가진 자라면 본 실시예의 본질적인 특성을 벗어나지 않는 범위에서 이상에 예시되지 않은 여러 가지의 변형과 응용이 가능함을 알 수 있을 것이다. 예를 들어, 실시예에 구체적으로 나타난 각 구성 요소는 변형하여 실시할 수 있는 것이다. 그리고 이러한 변형과 응용에 관계된 차이점들은 첨부된 청구 범위에서 규정하는 본 발명의 범위에 포함되는 것으로 해석되어야 할 것이다.Although the embodiments have been described above, these are only examples and do not limit the present invention, and those of ordinary skill in the field to which the present invention belongs are not exemplified above without departing from the essential characteristics of the present embodiment. It will be seen that various modifications and applications are possible. For example, each component specifically shown in the embodiment can be modified and implemented. And differences related to these modifications and applications should be construed as being included in the scope of the present invention defined in the appended claims.

100, 200a, 200b: 발광소자 120, 220: 발광 구조물
122, 222: 제1 도전형 반도체층 124, 224: 활성층
126, 226: 제2 도전형 반도체층 132: 제1 전극
136: 제2 전극 232: 제1 도전층
233: 관통 전극 236: 제2 도전층
236a, 236b: 제2 전극 240: 오믹층
250: 반사층 260: 채널
270: 도전성 지지기판 280: 패시베이션층
285: 절연층 300: 도전성 기판
310: 솔더 320: 유전층
330: 패드 340: 와이어
350: 몰딩부 500: 영상표시장치
100, 200a, 200b: light emitting device 120, 220: light emitting structure
122, 222: first conductivity type semiconductor layer 124, 224: active layer
126, 226: second conductivity type semiconductor layer 132: first electrode
136: second electrode 232: first conductive layer
233: through electrode 236: second conductive layer
236a, 236b: second electrode 240: ohmic layer
250: reflective layer 260: channel
270: conductive support substrate 280: passivation layer
285: insulating layer 300: conductive substrate
310: solder 320: dielectric layer
330: pad 340: wire
350: molding part 500: image display device

Claims (10)

제1 도전형 반도체층과 활성층 및 제2 도전형 반도체층을 포함하는 발광 구조물;
상기 제2 도전형 반도체층의 하부에 배치되는 제2 도전층;
절연층을 사이에 두고 상기 제2 도전층의 하부에 배치되는 제1 도전층;
상기 발광 구조물과 상기 제1 도전층과 상기 제2 도전층 및 상기 절연층의 주변에 배치되는 패시베이션층;
상기 제1 도전층으로부터 상기 제2 도전층과 제2 도전형 반도체층과 활성층을 관통하고, 상기 제1 도전형 반도체층의 일부에까지 형성된 관통 전극들;
상기 제1 도전층의 하부에 배치되는 도전성 지지 기판; 및
상기 제2 도전층의 가장 자리 영역에서, 상기 제2 도전형 반도체층의 가장 자리와 대응하여 배치되는 제2 전극을 포함하고,
상기 제1 도전형 반도체층의 상면에, 상기 관통 전극들과 대응되어 패턴이 형성되고,
상기 패턴은 요부들과 철부들을 포함하고, 상기 철부들은 상기 관통 전극들과 수직 방향으로 중첩되고,상기 절연층은 상기 관통 전극의 둘레에 연장되어 배치되고,
상기 제2 전극은, 상기 제2 도전형 반도체층의 가장 자리를 둘러싸고 배치되고,
상기 관통 전극들의 상면에 불규칙한 요철이 형성되고,
상기 패턴의 요부들과 철부들의 표면에 불규칙한 요철이 형성되고,
상기 관통 전극은 상부의 폭이 하부의 폭보다 작고,
상기 패턴의 철부는 상부의 폭이 하부의 폭보다 작고,
상기 관통 전극의 상부의 폭보다 상기 철부의 상부의 폭이 더 크고,
상기 관통 전극의 하부의 폭보다 상기 철부의 하부의 폭이 더 크고,
상기 제1 도전층은 상기 제2 도전층 및 상기 절연층보다 외부로 돌출되고, 상기 패시베이션층은 상기 제1 도전층의 돌출된 부분의 상면과 외측면에 배치되는 발광소자.
A light emitting structure including a first conductivity type semiconductor layer, an active layer, and a second conductivity type semiconductor layer;
A second conductive layer disposed under the second conductive type semiconductor layer;
A first conductive layer disposed under the second conductive layer with an insulating layer therebetween;
A passivation layer disposed around the light emitting structure, the first conductive layer, the second conductive layer, and the insulating layer;
Through electrodes penetrating the second conductive layer, the second conductive type semiconductor layer and the active layer from the first conductive layer, and formed up to a portion of the first conductive type semiconductor layer;
A conductive support substrate disposed under the first conductive layer; And
In the edge region of the second conductive layer, comprising a second electrode disposed to correspond to the edge of the second conductivity type semiconductor layer,
On the upper surface of the first conductivity type semiconductor layer, a pattern is formed in correspondence with the through electrodes,
The pattern includes concave portions and convex portions, the convex portions overlap the through electrodes in a vertical direction, and the insulating layer is disposed to extend around the through electrode,
The second electrode is disposed surrounding an edge of the second conductivity type semiconductor layer,
Irregular irregularities are formed on the upper surfaces of the through electrodes,
Irregular irregularities are formed on the surfaces of the concave portions and convex portions of the pattern,
The through electrode has an upper width smaller than a lower width,
The convex portion of the pattern has an upper width smaller than a lower width,
The width of the upper portion of the convex portion is larger than the width of the upper portion of the through electrode,
The width of the lower portion of the convex portion is larger than the width of the lower portion of the through electrode,
The first conductive layer protrudes outward from the second conductive layer and the insulating layer, and the passivation layer is disposed on an upper surface and an outer surface of a protruding portion of the first conductive layer.
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