KR102250912B1 - 투명 도전성 시트, 및 투명 도전성 시트를 사용한 터치 패널 - Google Patents

투명 도전성 시트, 및 투명 도전성 시트를 사용한 터치 패널 Download PDF

Info

Publication number
KR102250912B1
KR102250912B1 KR1020167005218A KR20167005218A KR102250912B1 KR 102250912 B1 KR102250912 B1 KR 102250912B1 KR 1020167005218 A KR1020167005218 A KR 1020167005218A KR 20167005218 A KR20167005218 A KR 20167005218A KR 102250912 B1 KR102250912 B1 KR 102250912B1
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
transparent conductive
conductive sheet
silver nanowire
silver
holding layer
Prior art date
Application number
KR1020167005218A
Other languages
English (en)
Other versions
KR20160037218A (ko
Inventor
마사시 마츠모토
가츠미 도쿠노
야스지 구스다
고지 오카모토
Original Assignee
닛샤 가부시키가이샤
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 닛샤 가부시키가이샤 filed Critical 닛샤 가부시키가이샤
Publication of KR20160037218A publication Critical patent/KR20160037218A/ko
Application granted granted Critical
Publication of KR102250912B1 publication Critical patent/KR102250912B1/ko

Links

Images

Classifications

    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01B—CABLES; CONDUCTORS; INSULATORS; SELECTION OF MATERIALS FOR THEIR CONDUCTIVE, INSULATING OR DIELECTRIC PROPERTIES
    • H01B5/00—Non-insulated conductors or conductive bodies characterised by their form
    • H01B5/14—Non-insulated conductors or conductive bodies characterised by their form comprising conductive layers or films on insulating-supports
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32—LAYERED PRODUCTS
    • B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B27/00—Layered products comprising a layer of synthetic resin
    • B32B27/18—Layered products comprising a layer of synthetic resin characterised by the use of special additives
    • G—PHYSICS
    • G06—COMPUTING; CALCULATING OR COUNTING
    • G06F—ELECTRIC DIGITAL DATA PROCESSING
    • G06F3/00—Input arrangements for transferring data to be processed into a form capable of being handled by the computer; Output arrangements for transferring data from processing unit to output unit, e.g. interface arrangements
    • G06F3/01—Input arrangements or combined input and output arrangements for interaction between user and computer
    • G06F3/03—Arrangements for converting the position or the displacement of a member into a coded form
    • G06F3/041—Digitisers, e.g. for touch screens or touch pads, characterised by the transducing means
    • G—PHYSICS
    • G06—COMPUTING; CALCULATING OR COUNTING
    • G06F—ELECTRIC DIGITAL DATA PROCESSING
    • G06F3/00—Input arrangements for transferring data to be processed into a form capable of being handled by the computer; Output arrangements for transferring data from processing unit to output unit, e.g. interface arrangements
    • G06F3/01—Input arrangements or combined input and output arrangements for interaction between user and computer
    • G06F3/03—Arrangements for converting the position or the displacement of a member into a coded form
    • G06F3/041—Digitisers, e.g. for touch screens or touch pads, characterised by the transducing means
    • G06F3/044—Digitisers, e.g. for touch screens or touch pads, characterised by the transducing means by capacitive means
    • G06F3/0445—Digitisers, e.g. for touch screens or touch pads, characterised by the transducing means by capacitive means using two or more layers of sensing electrodes, e.g. using two layers of electrodes separated by a dielectric layer
    • G—PHYSICS
    • G06—COMPUTING; CALCULATING OR COUNTING
    • G06F—ELECTRIC DIGITAL DATA PROCESSING
    • G06F3/00—Input arrangements for transferring data to be processed into a form capable of being handled by the computer; Output arrangements for transferring data from processing unit to output unit, e.g. interface arrangements
    • G06F3/01—Input arrangements or combined input and output arrangements for interaction between user and computer
    • G06F3/03—Arrangements for converting the position or the displacement of a member into a coded form
    • G06F3/041—Digitisers, e.g. for touch screens or touch pads, characterised by the transducing means
    • G06F3/044—Digitisers, e.g. for touch screens or touch pads, characterised by the transducing means by capacitive means
    • G06F3/0446—Digitisers, e.g. for touch screens or touch pads, characterised by the transducing means by capacitive means using a grid-like structure of electrodes in at least two directions, e.g. using row and column electrodes
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32—LAYERED PRODUCTS
    • B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B2307/00—Properties of the layers or laminate
    • B32B2307/20—Properties of the layers or laminate having particular electrical or magnetic properties, e.g. piezoelectric
    • B32B2307/202—Conductive
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32—LAYERED PRODUCTS
    • B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B2307/00—Properties of the layers or laminate
    • B32B2307/40—Properties of the layers or laminate having particular optical properties
    • B32B2307/412—Transparent
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32—LAYERED PRODUCTS
    • B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B2457/00—Electrical equipment
    • B32B2457/20—Displays, e.g. liquid crystal displays, plasma displays
    • B32B2457/202—LCD, i.e. liquid crystal displays
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32—LAYERED PRODUCTS
    • B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B2457/00—Electrical equipment
    • B32B2457/20—Displays, e.g. liquid crystal displays, plasma displays
    • B32B2457/208—Touch screens
    • G—PHYSICS
    • G06—COMPUTING; CALCULATING OR COUNTING
    • G06F—ELECTRIC DIGITAL DATA PROCESSING
    • G06F2203/00—Indexing scheme relating to G06F3/00 - G06F3/048
    • G06F2203/041—Indexing scheme relating to G06F3/041 - G06F3/045
    • G06F2203/04103—Manufacturing, i.e. details related to manufacturing processes specially suited for touch sensitive devices
    • G—PHYSICS
    • G06—COMPUTING; CALCULATING OR COUNTING
    • G06F—ELECTRIC DIGITAL DATA PROCESSING
    • G06F2203/00—Indexing scheme relating to G06F3/00 - G06F3/048
    • G06F2203/041—Indexing scheme relating to G06F3/041 - G06F3/045
    • G06F2203/04112—Electrode mesh in capacitive digitiser: electrode for touch sensing is formed of a mesh of very fine, normally metallic, interconnected lines that are almost invisible to see. This provides a quite large but transparent electrode surface, without need for ITO or similar transparent conductive material

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • General Engineering & Computer Science (AREA)
  • Theoretical Computer Science (AREA)
  • Human Computer Interaction (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Laminated Bodies (AREA)
  • Non-Insulated Conductors (AREA)
  • Position Input By Displaying (AREA)

Abstract

(과제) 가시광이 은 나노 와이어에 닿아도, 은 나노 와이어가 잘 산화되지 않는 투명 도전성 시트를 제공한다.
(해결 수단) 본 발명의 투명 도전성 시트 (1) 는, 기체 시트 (2) 와, 상기 기체 시트 (2) 상에 적층되는 은 나노 와이어 유지층 (3) 과, 상기 은 나노 와이어 유지층 (3) 에 첨가되는 희생제와, 상기 은 나노 와이어 유지층 (3) 의 표면에 적층되는 은 나노 와이어 (4) 를 구비하는 투명 도전성 시트 (1) 이도록 구성하였다.

Description

투명 도전성 시트, 및 투명 도전성 시트를 사용한 터치 패널{TRANSPARENT CONDUCTIVE SHEET AND TOUCH PANEL USING TRANSPARENT CONDUCTIVE SHEET}
본 발명은, 투명 전극 등에 사용되는 투명 도전성 시트에 관한 것으로서, 특히 투명 도전성 나노 와이어를 포함하는 투명 도전성 시트에 관한 것이다.
투명 기재 상에 도전성 화합물의 박막을 형성한 투명 도전막은, 그 도전성을 이용한 용도, 예를 들어 액정 디스플레이, EL 디스플레이와 같은 플랫 디스플레이나 터치 패널의 투명 전극 등 전기, 전자 분야에서 널리 사용되고 있다. 상기 투명 도전막으로는, 투명 기재의 적어도 편면에 산화주석 (SnO2), 산화인듐주석 (ITO) 이나 산화아연 (ZnO) 등을 진공 증착법, 스퍼터링법, 이온 플레이팅법 등의 드라이 프로세스에 의해 형성한 것이 잘 알려져 있다.
또, 상기 드라이 프로세스 이외에도, 도전성 고분자, CNT, 예를 들어 금속 나노 와이어 등의 금속 미립자의 네트워크 구조를 사용한 웨트 프로세스에 의한 투명 도전막도 제안되어 있다.
그 중에서도 최근, 가시광 영역에서 투명한 도전성 재료로서 금속 나노 와이어가 연구되고 있다. 금속 나노 와이어는 작기 때문에, 가시광 영역에서의 광 투과성이 높으며, ITO 를 대신하는 투명 도전막으로서의 응용이 기대되고 있다. 이와 같은 금속 나노 와이어로는, 금 나노 와이어, 은 나노 와이어, 구리 나노 와이어 등이 일반적으로 알려져 있으며, 예를 들어 특허문헌 1 에는 은 나노 와이어를 사용한 투명 도전막이 제안되어 있다.
그러나, 은 나노 와이어는 실제 조건에서의 사용에 있어서는, 은의 산화에서 기인하는 도전율의 저하가 문제가 되고 있다. 예를 들어 특허문헌 2 에는, 도전율의 저하에 대하여 산화 방지제를 첨가하거나 오버코트층을 형성하거나 하는 것이 기재되어 있다. 그러나, 산화 방지제를 첨가하거나 오버코트층을 형성해도, 가시광이 은 나노 와이어에 닿으면, 은 나노 와이어가 산화되고, 투명 도전성 시트의 저항값이 상승된다는 문제가 있다.
일본 공개특허공보 2009-205924호 일본 공개특허공보 2004-1966923호
따라서, 본 발명의 목적은, 가시광이 은 나노 와이어에 닿아도, 은 나노 와이어가 잘 산화되지 않는 투명 도전성 시트를 제공하는 것에 있다.
상기 목적을 달성하기 위해, 본 발명은 이하와 같이 구성한다.
본 발명의 제 1 양태에 의하면, 기체 시트와, 상기 기체 시트 상에 적층되는 은 나노 와이어 유지층과, 상기 은 나노 와이어 유지층에 첨가되는 희생제와, 상기 은 나노 와이어 유지층의 표면에 적층되는 은 나노 와이어를 구비하는 투명 도전성 시트를 제공한다.
본 발명의 제 2 양태에 의하면, 기체 시트와, 상기 기체 시트 상에 적층되는 은 나노 와이어 유지층과, 상기 은 나노 와이어 유지층의 표면에 적층되는 은 나노 와이어와, 상기 은 나노 와이어 상에 적층되는 오버코트층과, 상기 오버코트층에 첨가되는 희생제를 구비하는 투명 도전성 시트를 제공한다.
본 발명의 제 3 양태에 의하면, 기체 시트와, 상기 기체 시트 상에 적층되는 은 나노 와이어 유지층과, 상기 은 나노 와이어 유지층의 표면에 적층되는 은 나노 와이어와, 상기 은 나노 와이어 상에 적층되는 오버코트층과, 상기 은 나노 와이어 유지층에 첨가되는 희생제를 구비하는 투명 도전성 시트를 제공한다.
본 발명의 제 4 양태에 의하면, 상기 희생제가 은 나노 와이어 유지층을 구성하는 수지에 대하여 0.01 ％ ∼ 10 ％ 의 비율로 첨가된 투명 도전성 시트를 제공한다.
본 발명의 제 5 양태에 의하면, 상기 희생제가 오버코트층을 구성하는 수지에 대하여 0.01 ％ ∼ 10 ％ 의 비율로 첨가된 투명 도전성 시트를 제공한다.
본 발명의 제 6 양태에 의하면, 상기 은 나노 와이어의 직경이 5 ㎚ ∼ 500 ㎚ 이고, 길이가 500 ㎚ ∼ 50000 ㎚ 인 투명 도전성 시트를 제공한다.
본 발명의 제 7 양태에 의하면, 상기 은 나노 와이어는, 은 이외의 금속으로 도금된 투명 도전성 시트를 제공한다.
본 발명의 제 8 양태에 의하면, 상기 투명 도전성 시트를 사용한 터치 패널을 제공한다.
본 발명의 투명 도전성 시트는, 장시간 동안 가시광이 은 나노 와이어에 조사되어도, 투명 도전성 시트의 저항값의 상승을 억제할 수 있는 투명 도전성 시트이다.
도 1 은 투명 도전성 시트에 관련된 단면도이다.
도 2 는 투명 도전성 시트에 관련된 단면도이다.
도 3 은 터치 패널의 사시도이다.
도 4 는 도 2 의 A-A' 단면도이다.
도 5 는 도 3 의 B-B' 단면도이다.
하기에서, 본 발명에 관련된 실시형태를 도면에 기초하여 더욱 상세하게 설명한다. 또한, 본 발명의 실시예에 기재된 부위나 부분의 치수, 재질, 형상, 그 상대 위치 등은, 특별히 특정적인 기재가 없는 한, 본 발명의 범위를 그것들에만 한정하는 취지의 것이 아니며, 단순한 설명예에 불과하다.
도 1 에 나타내는 바와 같이, 투명 도전성 시트 (1) 는, 기체 시트 (2), 은 나노 와이어 유지층 (3), 은 나노 와이어 (4), 오버코트층 (5) 이 이 차례로 적층된 구성으로 이루어진다. 또한, 은 나노 와이어 유지층 (3) 과 오버코트층 (5) 중 적어도 어느 일방의 층에는, 희생제가 첨가되어 있다.
또, 은 나노 와이어 유지층 (3), 은 나노 와이어 (4), 오버코트층 (5) 의 형성은, 특별히 언급하지 않는 한, 종래와 동일한 방법에 의해 실시할 수 있다. 종래의 방법의 예에는, 그라비아 코트법, 롤 코트법, 콤마 코트법 등의 코트법, 그라비아 인쇄법, 스크린 인쇄법 등의 인쇄법이 있다. 이하에서, 상기 부재에 대해 설명한다.
[기체 시트]
기체 시트는 시트상, 필름상의 것이면 특별히 제한은 없다. 예를 들어, 석영 유리, 무알칼리 유리, 결정화 투명 유리, 파이렉스 (등록 상표) 등의 유리, 알루미나 등의 세라믹, 철, 알루미늄, 구리 등의 금속, 폴리에틸렌 수지, 폴리에스테르 수지, 셀룰로오스 수지, 비닐알코올 수지, 염화비닐 수지, 시클로올레핀계 수지, 폴리카보네이트 수지, 아크릴 수지, ABS 수지 등의 열가소성 수지, 광경화성 수지, 열경화성 수지 등을 들 수 있다. 투명성을 중시하는 경우에는, 그 전광선 투과율이 80 ％ 이상인 것이 바람직하고, 예를 들어 유리, 폴리에틸렌 수지, 폴리에스테르 수지, 폴리카보네이트 수지, 아크릴 수지, 셀룰로오스 수지 등을 들 수 있다. 상기 기재의 두께는 10 ㎛ ∼ 10 ㎜ 이다.
[은 나노 와이어 유지층]
은 나노 와이어 유지층은, 은 나노 와이어를 기체 시트 상에 유지할 수 있는 부재이면 특별히 제한은 없다. 은 나노 와이어 유지층을 구성하는 부재로는, 바인더 수지나 감광성 수지를 들 수 있다. 또한, 은 나노 와이어 유지층의 두께를 얇게 할 수 있다는 관점에서, 감광성 수지를 사용하는 것이 바람직하다.
바인더 수지로는, 아크릴, 폴리에스테르, 폴리우레탄, 니트로셀룰로오스, 염소화 폴리에틸렌, 염소화 폴리프로필렌, 폴리염화비닐 등의 열가소성 수지나 멜라민아크릴레이트, 우레탄아크릴레이트, 에폭시 수지, 폴리이미드 수지 등의 경화성 수지 등을 들 수 있다.
감광성 수지로는, 아크릴, 폴리에스테르, 폴리우레탄, 니트로셀룰로오스, 염소화 폴리에틸렌, 염소화 폴리프로필렌, 폴리염화비닐 등의 열가소성 수지나 멜라민아크릴레이트, 우레탄아크릴레이트, 에폭시 수지, 폴리이미드 수지 등의 경화성 수지 등을 들 수 있다.
[은 나노 와이어]
은 나노 와이어는, 은으로 구성된다. 또한, 상기 은 나노 와이어는, 은 나노 와이어끼리가 얽혀, 각각의 은 나노 와이어가 접촉함으로써 전체가 도통되는 구성으로 되어 있다. 은 나노 와이어의 형상은, 단축 방향의 길이와 장축 방향의 길이의 비 (이하, 애스펙트라고 한다) 가 10 ∼ 10000 인 것인 것이 바람직하다. 애스펙트비가 10 미만이면 투과율이 저하되고, 10000 을 초과하면 물리적인 강도와 투도전성이 저하된다.
또한, 은 나노 와이어의 단축 방향의 길이는 5 ㎚ ∼ 500 ㎚ 가 바람직하고, 보다 바람직하게는 5 ㎚ ∼ 100 ㎚ 이다. 단축 방향의 길이가 500 ㎚ 를 초과하면 투명 도전성 시트의 투과율이 저하된다. 또, 단축 방향의 길이가 5 ㎚ 미만이면 은 나노 와이어끼리의 접촉이 곤란해져, 투명 도전성 시트의 도전성이 저하된다.
장축 방향의 길이는 500 ㎚ ∼ 50000 ㎚ 인 것이 바람직하고, 보다 바람직하게는 10000 ㎚ ∼ 40000 ㎚ 이다. 장축 방향의 길이가 500 ㎚ 미만이면 투명 도전성 시트의 도전성이 저하되고, 50000 ㎚ 를 초과하면 투과율이 저하된다.
또한, 은 나노 와이어는, 은 이외의 금속으로 도금되어 있는 것이 바람직하다. 은 이외의 금속으로 도금되어 있으면, 은 나노 와이어가 가시광에 조사되었을 때, 은 나노 와이어의 산화를 억제할 수 있다.
[오버코트층]
오버코트층은, 은 나노 와이어를 외부로부터의 물리적, 화학적 자극으로부터 보호할 수 있는 부재이면, 특별히 제한되지 않는다. 오버코트층을 구성하는 부재로는, 바인더 수지나 감광성 수지를 들 수 있다. 또한, 오버코트층을 구성하는 부재로는, 폴리에스테르 수지, 셀룰로오스 수지, 비닐알코올 수지, 비닐 수지, 시클로올레핀계 수지, 폴리카보네이트 수지, 아크릴 수지, 우레탄 수지, 에폭시 수지, ABS 수지 등의 열가소성 수지, 광경화성 수지 및 열경화성 수지 등의 공지된 코팅 재료를 사용할 수 있다.
[희생제]
희생제는, 가시광의 조사에 의해 은 나노 와이어가 산화되는 것을 억제하는 부재이다. 또한, 상기 희생제는, 은 나노 와이어와 인접하는 층 (은 나노 와이어 유지층과 오버코트층) 중 적어도 어느 일방에 첨가된다. 상기 층에 희생제가 첨가되면, 가시광의 조사에 의해 희생제가 여기되고, 여기된 희생제는 은 나노 와이어에 전자를 공급한다. 그러면, 가시광이 닿음으로써 발생하는 은 나노 와이어의 산화, 즉 플라스몬 공명에서 기인하는 은 나노 와이어의 산화를 억제할 수 있다. 그 결과, 장시간 동안 가시광이 투명 도전성 시트에 조사되어도 투명 도전성 시트의 저항값이 상승하는 것을 억제할 수 있다.
그러한 희생제로는, 알데히드기를 함유하는 분자, 알데히드기를 함유하는 당류, 알코올 등을 들 수 있다.
알데히드기를 함유하는 분자로는, 포름알데히드, 아세트알데히드, 파라포름알데히드, 프로피온알데히드, n-부틸알데히드, 카프로알데히드, 알릴알데히드, 벤즈알데히드, 크로톤알데히드, 아크롤레인, 페닐아세트알데히드, 신남알데히드, o-톨루알데히드, 살리실알데히드를 들 수 있다.
알데히드기를 갖는 당류로는, 글루코오스, 자일로오스, 갈락토오스, 프룩토오스, 말토오스, 락토오스 등의 알도오스를 들 수 있다.
알코올류로는, 메탄올, 에탄올, 1-프로판올, 2-프로판올, 부탄올을 들 수 있다.
또한, 희생제가 첨가되는 비율은, 은 나노 와이어 유지층 또는 오버코트층을 구성하는 수지에 대하여 0.01 ％ ∼ 10 ％ 이다. 상기 양이 10 ％ 를 초과하면 은 나노 와이어가 고온 시험이나 고온 고습 시험 등에서 열화되기 쉬워진다. 또, 0.01 ％ 미만이면 유효한 효과가 얻어지지 않는다.
다음으로, 제 2 실시형태의 투명 도전성 시트에 대해 설명한다.
도 2 에 나타내는 바와 같이, 투명 도전성 시트는, 기체 시트 (2), 은 나노 와이어 유지층 (3), 은 나노 와이어 (4), 접착층 (6), 기재 (7) 가 이 차례로 적층된 구성으로 이루어진다. 기체 시트 (2), 은 나노 와이어 유지층 (3), 은 나노 와이어 (4), 희생제의 구성, 및 투명 도전성 시트 (1) 의 제조 방법에 대해서는, 제 1 실시형태와 동일하므로 설명을 생략한다.
[접착층]
접착층은, 은 나노 와이어를 공기 중의 산소로부터 보호하면서, 기재와 은 나노 와이어를 접착시키는 부재이면, 특별히 재료는 한정되지 않는다. 접착층을 구성하는 부재로는, 아크릴, 폴리에스테르, 폴리우레탄, 니트로셀룰로오스, 염소화 폴리에틸렌, 염소화 폴리프로필렌, 폴리염화비닐 등의 열가소성 수지나 멜라민아크릴레이트, 우레탄아크릴레이트, 에폭시 수지, 폴리이미드 수지 등의 경화성 수지 등을 들 수 있다.
또한, 접착층에는, 접착층을 구성하는 수지에 대하여 0.01 ％ ∼ 10 ％ 의 비율로 희생제가 첨가되어 있어도 된다.
[기재]
기재는, 투명 도전성 시트를 외상 등으로부터 보호하는 부재이면, 특별히 제한되지 않는다. 기재를 구성하는 부재로는, 석영 유리, 무알칼리 유리, 결정화 투명 유리, 파이렉스 (등록 상표) 유리, 사파이어 등의 유리, 폴리카보네이트, 폴리메틸메타크릴레이트 등의 아크릴 수지, 폴리염화비닐, 염화비닐 공중합체 등의 염화비닐계 수지, 폴리아릴레이트, 폴리술폰, 폴리에테르술폰, 폴리이미드, PET, PEN, 불소 수지, 페녹시 수지, 폴리올레핀계 수지, 나일론, 스티렌계 수지, ABS 수지, 셀룰로오스 수지 등의 열가소성 수지를 들 수 있다.
[터치 패널]
이하에서는, 상기 투명 도전성 시트를 사용하여 제조한 터치 패널에 대해 설명한다.
도 3 에 나타내는 바와 같이, 터치 패널 (100) 은, 2 장의 투명 도전성 시트 (10, 20) 가 첩합 (貼合) 된 구성으로 이루어진다. 또한, 투명 도전성 시트 (20) 상에는 오버코트층 (32) 이 적층되어 있다.
도 4 에 나타내는 바와 같이, 투명 도전성 시트 (10) 는, 기체 시트 (11) 상에 은 나노 와이어 유지층 (12), 은 나노 와이어 (13), 접착층 (14) 이 이 차례로 적층된 구성으로 이루어진다. 또한, 은 나노 와이어 유지층 (12) 과 접착층 (14) 중 적어도 어느 일방의 층에는, 희생제가 상기 층을 구성하는 수지에 대하여 0.01 ％ ∼ 10 ％ 의 비율로 첨가되어 있다.
또, 도 3 에 나타내는 바와 같이, 은 나노 와이어 (13) 는 Y 축 방향으로 복수 배열되어, 터치 패널 (100) 에 있어서 Y 전극을 형성하고 있다.
도 5 에 나타내는 바와 같이, 투명 도전성 시트 (20) 는, 기체 시트 (21) 상에 은 나노 와이어 유지층 (22), 은 나노 와이어 (23), 접착층 (24) 이 이 차례로 적층된 구성으로 이루어진다. 또한, 은 나노 와이어 유지층 (22) 과 접착층 (24) 중 적어도 어느 일방의 층에는, 희생제가 상기 층을 구성하는 수지에 대하여 0.01 ％ ∼ 10 ％ 의 비율로 첨가되어 있다. 또, 도 3 에 나타내는 바와 같이, 은 나노 와이어 (23) 는 X 축 방향으로 복수 배열되어, 터치 패널 (100) 에 있어서 X 전극을 형성하고 있다.
이와 같이, Y 전극을 구성하는 은 나노 와이어 (13) 는, 은 나노 와이어 유지층 (12) 과 접착층 (14) 사이에 끼워지고, 은 나노 와이어 유지층 (12) 과 접착층 (14) 중 적어도 어느 일방의 층에는 희생제가 첨가되어 있다. 이것은, X 전극을 구성하는 은 나노 와이어 (23) 에 대해서도 동일하다. 그 때문에, 장시간 동안 터치 패널 (100) 이 가시광에 조사된 경우에도, 은 나노 와이어 (13, 23) 가 잘 산화되지 않게 되어 있다. 그 결과, 터치 패널 (100) 은, 장시간 동안 가시광이 조사되어도 저항값이 잘 상승하지 않는 터치 패널로 되어 있다.
1 : 투명 도전성 시트
2 : 기체 시트
3 : 은 나노 와이어 유지층
4 : 은 나노 와이어
5 : 오버코트층
6 : 접착층
7 : 기재
10 : 투명 도전성 시트
11 : 기체 시트
12 : 은 나노 와이어 유지층
13 : 은 나노 와이어
14 : 접착층
20 : 투명 도전성 시트
21 : 기체 시트
22 : 은 나노 와이어 유지층
23 : 은 나노 와이어
24 : 접착층
100 : 터치 패널

Claims (11)

  1. 기체 시트와,
    상기 기체 시트 상에 적층되는 은 나노 와이어 유지층과,
    상기 은 나노 와이어 유지층의 표면에 적층되는 은 나노 와이어를 구비하고,
    상기 은 나노 와이어 유지층은, 가시광의 조사에 의해 상기 은 나노 와이어가 산화되는 것을 억제하는 희생제를 포함하고,
    상기 희생제는 알데히드기를 함유하는 분자, 알데히드기를 함유하는 당류 및 알코올 중 적어도 하나를 포함하는,
    투명 도전성 시트.
  2. 기체 시트와,
    상기 기체 시트 상에 적층되는 은 나노 와이어 유지층과,
    상기 은 나노 와이어 유지층의 표면에 적층되는 은 나노 와이어와,
    상기 은 나노 와이어 상에 적층되는 오버코트층을 구비하고,
    상기 은 나노 와이어 유지층과 상기 오버코트층 중 적어도 하나는, 가시광의 조사에 의해 상기 은 나노 와이어가 산화되는 것을 억제하는 희생제를 포함하고,
    상기 희생제는 알데히드기를 함유하는 분자, 알데히드기를 함유하는 당류 및 알코올 중 적어도 하나를 포함하는, 투명 도전성 시트.
  3. 제 1 항 또는 제 2 항에 있어서,
    상기 희생제는 상기 희생제가 포함되는 층을 구성하는 수지에 대하여 0.01 ％ ∼ 10 ％ 의 비율로 첨가된, 투명 도전성 시트.
  4. 제 1 항 또는 제 2 항에 있어서,
    상기 은 나노 와이어의 직경이 5 ㎚ ∼ 500 ㎚ 이고, 길이가 500 ㎚ ∼ 50000 ㎚ 인, 투명 도전성 시트.
  5. 제 3 항에 있어서,
    상기 은 나노 와이어의 직경이 5 ㎚ ∼ 500 ㎚ 이고, 길이가 500 ㎚ ∼ 50000 ㎚ 인, 투명 도전성 시트.
  6. 제 1 항 또는 제 2 항에 있어서,
    상기 은 나노 와이어는, 은 이외의 금속으로 도금된, 투명 도전성 시트.
  7. 제 3 항에 있어서,
    상기 은 나노 와이어는, 은 이외의 금속으로 도금된, 투명 도전성 시트.
  8. 제 1 항 또는 제 2 항에 기재된 투명 도전성 시트를 사용한 터치 패널.
  9. 제 3 항에 기재된 투명 도전성 시트를 사용한 터치 패널.
  10. 삭제
  11. 삭제
KR1020167005218A 2013-08-01 2014-07-18 투명 도전성 시트, 및 투명 도전성 시트를 사용한 터치 패널 KR102250912B1 (ko)

Applications Claiming Priority (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2013160846A JP6022424B2 (ja) 2013-08-01 2013-08-01 透明導電性シート、および透明導電性シートを用いたタッチパネル
JPJP-P-2013-160846 2013-08-01
PCT/JP2014/069165 WO2015016084A1 (ja) 2013-08-01 2014-07-18 透明導電性シート、および透明導電性シートを用いたタッチパネル

Publications (2)

Publication Number Publication Date
KR20160037218A KR20160037218A (ko) 2016-04-05
KR102250912B1 true KR102250912B1 (ko) 2021-05-11

Family

ID=52431622

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020167005218A KR102250912B1 (ko) 2013-08-01 2014-07-18 투명 도전성 시트, 및 투명 도전성 시트를 사용한 터치 패널

Country Status (7)

Country Link
US (1) US20160152014A1 (ko)
JP (1) JP6022424B2 (ko)
KR (1) KR102250912B1 (ko)
CN (1) CN105431911A (ko)
DE (1) DE112014003499T5 (ko)
TW (1) TWI596623B (ko)
WO (1) WO2015016084A1 (ko)

Families Citing this family (12)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR102248460B1 (ko) * 2014-08-08 2021-05-07 삼성디스플레이 주식회사 터치 스크린 패널 및 그 제조 방법
US20160060492A1 (en) * 2014-09-02 2016-03-03 3M Innovative Properties Company Protection of new electro-conductors based on nano-sized metals using direct bonding with optically clear adhesives
KR102377733B1 (ko) * 2015-06-19 2022-03-24 주식회사 엘지화학 터치 패널용 전도성 필름, 그리고 이를 포함하는 터치 패널 및 표시 장치
WO2017159698A1 (ja) * 2016-03-18 2017-09-21 国立大学法人大阪大学 金属ナノワイヤ層が形成された基材及びその製造方法
KR20180079055A (ko) * 2016-12-30 2018-07-10 엘지디스플레이 주식회사 스트레처블 터치 스크린, 이의 제조 방법 및 이를 이용한 표시 장치
CN107643849B (zh) * 2017-10-09 2020-08-25 业成科技（成都）有限公司 触控面板的制造方法
CN110069152A (zh) * 2018-01-24 2019-07-30 祥达光学（厦门）有限公司 触控面板与触控传感器卷带
CN110504048A (zh) * 2018-05-18 2019-11-26 汉能移动能源控股集团有限公司 导电膜、其制备方法及其使用方法和电子组件及电子产品
CN108829289A (zh) * 2018-06-30 2018-11-16 云谷（固安）科技有限公司 导电叠层结构及其制备方法、触控屏
JPWO2021125168A1 (ko) * 2019-12-18 2021-06-24
CN113325964A (zh) * 2020-02-28 2021-08-31 宸美（厦门）光电有限公司 触控面板、触控面板的制作方法及其装置
TWI817270B (zh) * 2021-11-30 2023-10-01 大陸商宸鴻科技（廈門）有限公司 整合式觸控模組及包含該整合式觸控模組的觸控顯示裝置

Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2008024968A (ja) 2006-07-19 2008-02-07 Tohoku Univ 貴金属ナノ材料の製造方法
JP2009505358A (ja) 2005-08-12 2009-02-05 カンブリオス テクノロジーズ コーポレイション ナノワイヤに基づく透明導電体

Family Cites Families (13)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4983456A (en) * 1982-03-16 1991-01-08 American Cyanamid Compositions convertible to reinforced conductive components and articles incorporating same
JP4341005B2 (ja) 2002-12-17 2009-10-07 三菱マテリアル株式会社 金属ナノワイヤー含有組成物および電磁波遮蔽フィルター
EP3595016A1 (en) * 2006-10-12 2020-01-15 Cambrios Film Solutions Corporation Nanowire-based transparent conductors and method of making them
JP2009205924A (ja) 2008-02-27 2009-09-10 Kuraray Co Ltd 透明導電膜、透明導電部材、銀ナノワイヤ分散液および透明導電膜の製造方法
GB0908300D0 (en) * 2009-05-14 2009-06-24 Dupont Teijin Films Us Ltd Polyester films
JP5443878B2 (ja) * 2009-07-27 2014-03-19 パナソニック株式会社 透明導電膜付き基材
JP2011054419A (ja) * 2009-09-02 2011-03-17 Konica Minolta Holdings Inc 透明電極、有機エレクトロルミネッセンス素子、および有機薄膜太陽電池素子
EP2539904A4 (en) * 2010-02-27 2018-01-10 Innova Dynamics, Inc. Structures with surface-embedded additives and related manufacturing methods
CN102270524A (zh) * 2010-05-21 2011-12-07 中国科学院福建物质结构研究所 基于热塑性透明聚合物的银纳米线透明导电薄膜及其制备方法
JP2012029037A (ja) * 2010-07-23 2012-02-09 Asahi Kasei Electronics Co Ltd パイプライン型ａ／ｄコンバータ
JP2012185933A (ja) * 2011-03-03 2012-09-27 Panasonic Corp 透明導電膜付基材、及び、有機エレクトロルミネッセンス素子
CN102522145B (zh) * 2011-12-02 2013-08-28 浙江科创新材料科技有限公司 一种纳米银透明电极材料及其制备方法
CN102693772B (zh) * 2012-06-11 2016-01-20 清华大学深圳研究生院 柔性透明导电膜及其制造方法

Patent Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2009505358A (ja) 2005-08-12 2009-02-05 カンブリオス テクノロジーズ コーポレイション ナノワイヤに基づく透明導電体
JP2008024968A (ja) 2006-07-19 2008-02-07 Tohoku Univ 貴金属ナノ材料の製造方法

Also Published As

Publication number Publication date
JP2015032436A (ja) 2015-02-16
KR20160037218A (ko) 2016-04-05
TWI596623B (zh) 2017-08-21
DE112014003499T5 (de) 2016-04-28
TW201511043A (zh) 2015-03-16
US20160152014A1 (en) 2016-06-02
JP6022424B2 (ja) 2016-11-09
CN105431911A (zh) 2016-03-23
WO2015016084A1 (ja) 2015-02-05

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR102250912B1 (ko) 투명 도전성 시트, 및 투명 도전성 시트를 사용한 터치 패널
KR102076894B1 (ko) 투명 도전성 필름 적층체 및 그것을 사용하여 얻어지는 터치 패널, 그리고 투명 도전성 필름의 제조 방법
JP5361579B2 (ja) 大型ディスプレイ用のセンサパネル及びその製造方法
KR102187929B1 (ko) 터치 윈도우 및 이를 포함하는 디스플레이 장치
EP2615528A1 (en) Transparent conductive element, input device, electronic device, and master for fabrication of transparent conductive element
US9448678B2 (en) Capacitive transparent touch sheet having excellent visibility and durability
JP6470040B2 (ja) 透明導電性フィルム、透明導電性フィルム積層体及びタッチパネル
WO2015083424A1 (ja) 導電シート、静電容量式タッチパネル及び表示装置
CN105122190A (zh) 带静电容量式触摸面板的显示装置
CN110650842B (zh) 复合部件及器件
CN109564488B (zh) 导电性薄膜及触摸面板
TW201539276A (zh) 透明導電體及觸控面板
WO2012039482A1 (ja) 入力装置
KR20120134955A (ko) 시인성이 향상된 터치 패널 및 그 제조방법
JP6048529B2 (ja) 透明導電性フィルム及びタッチパネル
JP2015032437A (ja) 透明導電性シート、および透明導電性シートを用いたタッチパネル
CN105807986A (zh) 透明导电体和触摸屏
JP2015082346A (ja) 導電積層体及びそれを用いてなる表示体
WO2015102099A1 (ja) 透明導電性シート、および透明導電性シートを用いたタッチパネル
TWM429931U (en) Electromagnetic shielding structure of transparent capacitive touch panel
CN105700735A (zh) 透明导电体和触摸屏
CN212675531U (zh) 触摸面板用电极部件、触摸面板及图像显示装置
KR101616493B1 (ko) 터치 스크린 패널용 터치 센서와 그 제조방법
KR102547456B1 (ko) 투명 도전성 필름 및 화상 표시 장치
US10474309B2 (en) Conductive element, input device, and electronic apparatus

Legal Events

Date Code Title Description
E902 Notification of reason for refusal
E701 Decision to grant or registration of patent right
GRNT Written decision to grant