KR102225758B1 - Chemical liquid control valve and substrate processing apparatus - Google Patents

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KR102225758B1 KR1020190022511A KR20190022511A KR102225758B1 KR 102225758 B1 KR102225758 B1 KR 102225758B1 KR 1020190022511 A KR1020190022511 A KR 1020190022511A KR 20190022511 A KR20190022511 A KR 20190022511A KR 102225758 B1 KR102225758 B1 KR 102225758B1
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마사히토 가시야마
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가부시키가이샤 스크린 홀딩스
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Abstract

[과제]
약액의 치환 특성을 향상시킬 수 있는 약액 제어 밸브 및 기판 처리 장치를 제공한다.
[해결 수단]
유로 블록(21)은, 제1 외벽(21a)과, 제1 외벽(21a)과 직각인 면인 제2 외벽(21b)을 가진다. 니들(41)이 배치되는 유량 조정용 밸브실(27)은, 유로 블록(21)의 제1 외벽(21a)이 패이도록 형성되어 있다. 한편, 다이아프램(51)이 배치되는 개폐용 밸브실(29)은, 제2 외벽(21b)이 패이도록 형성되어 있다. 중간 유로(31)는, 유량 조정용 밸브실(27)과 개폐용 밸브실(29)을 접속하는데, 중간 유로(31)는, 제1 외벽(21a) 및 제2 외벽(21b) 중 어느 한 쪽에 대해 직각으로 연장되어 있다. 이와 같은 구성에 의해, 중간 유로(31)를 직선형으로 형성할 수 있다. 그 때문에, V자 유로 등이 원인으로 약액이 악화될 우려가 있는 약액의 치환 특성을 향상시킬 수 있다.
[assignment]
A chemical liquid control valve and a substrate processing apparatus capable of improving chemical liquid substitution characteristics are provided.
[Remedy]
The flow path block 21 has a first outer wall 21a and a second outer wall 21b that is a surface perpendicular to the first outer wall 21a. The valve chamber 27 for flow adjustment in which the needle 41 is disposed is formed so that the first outer wall 21a of the flow path block 21 is recessed. On the other hand, the valve chamber 29 for opening and closing in which the diaphragm 51 is disposed is formed so that the second outer wall 21b is recessed. The intermediate flow path 31 connects the valve chamber 27 for flow adjustment and the valve chamber 29 for opening/closing, and the intermediate flow path 31 is connected to either of the first outer wall 21a and the second outer wall 21b. It extends at right angles to With such a configuration, the intermediate flow path 31 can be formed in a straight line. Therefore, it is possible to improve the substitution characteristics of the chemical liquid in which the chemical liquid may deteriorate due to the V-shaped flow path or the like.

Description

약액 제어 밸브 및 기판 처리 장치{CHEMICAL LIQUID CONTROL VALVE AND SUBSTRATE PROCESSING APPARATUS}Chemical liquid control valve and substrate processing device {CHEMICAL LIQUID CONTROL VALVE AND SUBSTRATE PROCESSING APPARATUS}

본 발명은, 반도체 기판, 액정 표시 장치나 유기 EL(electroluminescence) 표시 장치 등의 FPD(Flat Panel Display)용의 기판, 포토마스크용 유리 기판, 광디스크용 기판, 자기 디스크용 기판, 세라믹 기판, 태양 전지용 기판 등의 기판에 대해 공급되는 약액을 제어하기 위한 약액 제어 밸브 및 이것을 구비한 기판 처리 장치에 관한 것이다. The present invention is a semiconductor substrate, a substrate for a flat panel display (FPD) such as a liquid crystal display device or an organic EL (electroluminescence) display device, a glass substrate for a photomask, a substrate for an optical disk, a substrate for a magnetic disk, a ceramic substrate, and a solar cell. A chemical liquid control valve for controlling a chemical liquid supplied to a substrate such as a substrate, and a substrate processing apparatus including the same.

종래의 약액 제어 밸브(201)는, 도 7에 나타내는 바와 같이, 유량 조정 밸브(202)와 개폐 밸브(ON·OFF 밸브)(203)를 구비하고 있다(예를 들면, 특허 문헌 1, 2 참조). 유량 조정 밸브(202)는, 공급하는 약액의 유량을 조정한다. 한편, 개폐 밸브(203)는, 약액을 공급시키고, 또, 약액의 공급을 정지시킨다. 유량 조정 밸브(202)와 개폐 밸브(203) 사이는, V자 유로(205) 또는 특허 문헌 2에 기재된 원호형 유로(이하, 「V자 유로(205) 등」이라고 부른다)로 접속되어 있다. 그 때문에, 유량 조정 밸브(202)로부터 보내진 약액은, V자 유로(205) 등을 통과하여 개폐 밸브(203)에 보내진다. The conventional chemical liquid control valve 201 is provided with a flow control valve 202 and an on/off valve (ON/OFF valve) 203 as shown in FIG. 7 (see, for example, Patent Documents 1 and 2). ). The flow rate adjustment valve 202 adjusts the flow rate of the chemical liquid to be supplied. On the other hand, the on-off valve 203 supplies the chemical liquid and stops the supply of the chemical liquid. The flow rate adjustment valve 202 and the on-off valve 203 are connected by a V-shaped flow path 205 or an arc-shaped flow path described in Patent Document 2 (hereinafter referred to as "V-shaped flow path 205 and the like"). Therefore, the chemical liquid sent from the flow rate adjustment valve 202 passes through the V-shaped flow path 205 or the like and is sent to the on-off valve 203.

일본국 특허공개 2001-263507호 공보Japanese Patent Laid-Open No. 2001-263507 일본국 특허공개 2017-207121호 공보Japanese Patent Publication No. 2017-207121

이와 같은 종래의 약액 제어 밸브(201)에는 다음과 같은 문제가 있다. 상기 서술한 바와 같이, 유량 조정 밸브(202)로부터 보내진 약액은, V자 유로(205) 등을 통과하여 개폐 밸브(203)에 보내진다. V자 유로(205) 등에 약액을 통과시키면, 약액 제어 밸브(201)의 입구에서 출구까지의 약액의 치환 특성을 나쁘게 할 우려가 있다. 만일, 약액의 치환 특성이 나쁘면, 머물고 있는 오래된 약액에 기인하여 액체 중에 티끌이 생길 우려가 있다. 그 때문에, 약액 제어 밸브(201)에 있어서의 약액의 치환 특성을 향상시키는 것이 바람직하다. The conventional chemical liquid control valve 201 has the following problems. As described above, the chemical liquid sent from the flow rate adjustment valve 202 passes through the V-shaped flow path 205 or the like, and is sent to the on-off valve 203. When the chemical liquid is passed through the V-shaped flow path 205 or the like, there is a concern that the chemical liquid displacement characteristics from the inlet to the outlet of the chemical liquid control valve 201 may be deteriorated. If the chemical liquid has a poor substitution property, there is a risk that dust may be generated in the liquid due to the stagnant old chemical liquid. Therefore, it is desirable to improve the chemical liquid substitution characteristic in the chemical liquid control valve 201.

본 발명은, 이와 같은 사정을 감안하여 이루어진 것이며, 약액의 치환 특성을 향상시킬 수 있는 약액 제어 밸브 및 이것을 구비한 기판 처리 장치를 제공하는 것을 목적으로 한다. The present invention has been made in view of such circumstances, and an object of the present invention is to provide a chemical liquid control valve capable of improving the substitution characteristics of a chemical liquid, and a substrate processing apparatus provided with the same.

본 발명은, 이와 같은 목적을 달성하기 위해, 다음과 같은 구성을 취한다. 즉, 본 발명에 관련된 약액 제어 밸브는, 제1 외벽 및, 상기 제1 외벽과 직각인 면인 제2 외벽을 가지는 단일 유로 블록과, 상기 제1 외벽이 패이도록 형성된 유량 조정용 밸브실과, 상기 제2 외벽이 패이도록 형성된 개폐용 밸브실과, 상기 유로 블록의 내부에 형성된 직선형의 중간 유로이며, 상기 유량 조정용 밸브실과 상기 개폐용 밸브실 사이를 접속시켜, 상기 제1 외벽 및 상기 제2 외벽 중 어느 한 쪽에 대해 직각으로 연장되는 상기 중간 유로와, 상기 유로 블록의 내부에 형성되며, 상기 유량 조정용 밸브실과 접속하는 제1 유로와, 상기 유로 블록의 내부에 형성되며, 상기 개폐용 밸브실과 접속하는 제2 유로와, 상기 유량 조정용 밸브실 내에 배치된 니들을 가지며, 상기 유량 조정용 밸브실을 막음과 함께, 약액의 유량을 조정하기 위해 상기 니들을 이동시키는 니들 이동 기구와, 상기 개폐용 밸브실 내에 배치된 개폐용 밸브체를 가지며, 상기 개폐용 밸브실을 막음과 함께, 약액의 공급 및 그 공급의 정지를 행하기 위해 상기 개폐용 밸브체를 이동시키는 개폐용 밸브체 이동 기구를 구비하고 있는 것을 특징으로 하는 것이다. The present invention takes the following configuration in order to achieve such an object. That is, the chemical liquid control valve according to the present invention includes a single flow path block having a first outer wall and a second outer wall that is a surface perpendicular to the first outer wall, a valve chamber for flow adjustment formed so that the first outer wall is recessed, and the second An opening/closing valve chamber formed such that an outer wall is recessed, and a linear intermediate flow path formed inside the flow path block, connecting between the flow rate adjustment valve chamber and the opening/closing valve chamber, and one of the first outer wall and the second outer wall The intermediate flow path extending at a right angle to the side, a first flow path formed inside the flow path block and connected to the flow control valve chamber, and a second flow path formed inside the flow path block and connected to the opening/closing valve room A needle movement mechanism having a flow path and a needle disposed in the flow rate adjustment valve chamber, and blocks the flow rate adjustment valve chamber, and moves the needle to adjust the flow rate of the chemical liquid, and the needle movement mechanism disposed in the opening/closing valve chamber. It is characterized in that it has a valve body for opening and closing, and a mechanism for moving the opening and closing valve body to move the valve body for opening and closing to block the valve chamber for opening and closing, and to supply and stop the supply of the chemical liquid. It is to do.

본 발명에 관련된 약액 제어 밸브에 의하면, 유로 블록은, 제1 외벽과, 제1 외벽과 직각인 면인 제2 외벽을 가진다. 니들이 배치되는 유량 조정용 밸브실은, 유로 블록의 제1 외벽이 패이도록 형성되어 있다. 한편, 개폐용 밸브체가 배치되는 개폐용 밸브실은, 제2 외벽이 패이도록 형성되어 있다. 중간 유로는, 유량 조정용 밸브실과 개폐용 밸브실을 접속하는데, 중간 유로는, 제1 외벽 및 제2 외벽 중 어느 한 쪽에 대해 직각으로 연장되어 있다. 이와 같은 구성에 의해, 중간 유로를 직선형으로 형성할 수 있다. 그 때문에, V자 유로 등이 원인으로 약액이 악화될 우려가 있는 약액의 치환 특성을 향상시킬 수 있다. According to the chemical liquid control valve according to the present invention, the flow path block has a first outer wall and a second outer wall that is a surface perpendicular to the first outer wall. The valve chamber for flow adjustment in which the needle is arranged is formed so that the first outer wall of the flow path block is recessed. On the other hand, the valve chamber for opening/closing in which the valve element for opening/closing is disposed is formed so that the second outer wall is recessed. The intermediate flow path connects the valve chamber for flow adjustment and the valve chamber for opening/closing, and the intermediate flow path extends at a right angle to either of the first outer wall and the second outer wall. With such a configuration, the intermediate flow path can be formed in a straight line. Therefore, it is possible to improve the substitution characteristics of the chemical liquid in which the chemical liquid may deteriorate due to the V-shaped flow path or the like.

또, 본 발명에 관련된 약액 제어 밸브는, 제1 외벽 및, 상기 제1 외벽과 대향함과 함께 상기 제1 외벽과 평행한 면인 제2 외벽을 가지는 단일 유로 블록과, 상기 제1 외벽이 패이도록 형성된 유량 조정용 밸브실과, 상기 제2 외벽이 패이도록 형성된 개폐용 밸브실과, 상기 유로 블록의 내부에 형성된 직선형의 중간 유로이며, 상기 유량 조정용 밸브실과 상기 개폐용 밸브실 사이를 접속시켜, 상기 제1 외벽 및 상기 제2 외벽에 대해 직각으로 연장되는 상기 중간 유로와, 상기 유로 블록의 내부에 형성되며, 상기 유량 조정용 밸브실과 접속하는 제1 유로와, 상기 유로 블록의 내부에 형성되며, 상기 개폐용 밸브실과 접속하는 제2 유로와, 상기 유량 조정용 밸브실 내에 배치된 니들을 가지며, 상기 유량 조정용 밸브실을 막음과 함께, 약액의 유량을 조정하기 위해 상기 니들을 이동시키는 니들 이동 기구와, 상기 개폐용 밸브실 내에 배치된 개폐용 밸브체를 가지며, 상기 개폐용 밸브실을 막음과 함께, 약액의 공급 및 그 공급의 정지를 행하기 위해 상기 개폐용 밸브체를 이동시키는 개폐용 밸브체 이동 기구를 구비하고 있는 것을 특징으로 하는 것이다. In addition, the chemical liquid control valve according to the present invention includes a single flow path block having a first outer wall and a second outer wall that faces the first outer wall and is parallel to the first outer wall, and the first outer wall is recessed. The flow rate adjustment valve chamber formed, the opening and closing valve chamber formed such that the second outer wall is recessed, and a linear intermediate flow path formed inside the flow path block, and the flow rate adjustment valve chamber and the opening/closing valve chamber are connected to each other, and the first The intermediate flow path extending at a right angle to the outer wall and the second outer wall, a first flow path formed inside the flow path block and connected to the flow rate adjustment valve chamber, and formed inside the flow path block, for opening/closing A needle movement mechanism having a second flow path connected to the valve chamber, a needle disposed in the flow rate adjustment valve chamber, and blocking the flow rate adjustment valve chamber, and moving the needle to adjust the flow rate of the chemical liquid, and the opening and closing A valve element moving mechanism for opening/closing having an opening/closing valve element disposed in the valve chamber for opening/closing, and moving the valve element for opening/closing to block the valve chamber for opening/closing and to stop supplying and supplying a chemical liquid. It is characterized by being provided.

본 발명에 관련된 약액 제어 밸브에 의하면, 유로 블록은, 제1 외벽과, 제1 외벽과 대향함과 함께 상기 제1 외벽과 평행한 면인 제2 외벽을 가진다. 니들이 배치되는 유량 조정용 밸브실은, 유로 블록의 제1 외벽이 패이도록 형성되어 있다. 한편, 개폐용 밸브체가 배치되는 개폐용 밸브실은, 제2 외벽이 패이도록 형성되어 있다. 중간 유로는, 유량 조정용 밸브실과 개폐용 밸브실을 접속하는데, 중간 유로는, 제1 외벽 및 제2 외벽에 대해 직각으로 연장되어 있다. 이와 같은 구성에 의해, 중간 유로를 직선형으로 형성할 수 있다. 그 때문에, V자 유로 등이 원인으로 약액이 악화될 우려가 있는 약액의 치환 특성을 향상시킬 수 있다. According to the chemical liquid control valve according to the present invention, the flow path block has a first outer wall and a second outer wall that faces the first outer wall and is a surface parallel to the first outer wall. The valve chamber for flow adjustment in which the needle is arranged is formed so that the first outer wall of the flow path block is recessed. On the other hand, the valve chamber for opening/closing in which the valve element for opening/closing is disposed is formed so that the second outer wall is recessed. The intermediate flow path connects the valve chamber for flow adjustment and the valve chamber for opening/closing, and the intermediate flow path extends at a right angle with respect to the first outer wall and the second outer wall. With such a configuration, the intermediate flow path can be formed in a straight line. Therefore, it is possible to improve the substitution characteristics of the chemical liquid in which the chemical liquid may deteriorate due to the V-shaped flow path or the like.

또, 상술한 약액 제어 밸브에 있어서, 상기 제1 유로 및 상기 제2 유로는 각각, 직선형이며, 상기 중간 유로에 대해 직각으로 연장되는 것이 바람직하다. 금형에 재료를 흘려 넣어 유로 블록을 형성할 때에, 중간 유로를 형성하기 위해 금형 내에 삽입하는 제1 핀 부재와, 제1 유로 및 제2 유로를 형성하기 위해 금형 내에 삽입하는 제2 핀 부재 및 제3 핀 부재의 각각을 직각으로 배치할 수 있다. 그 때문에, 제1 핀 부재와, 제2 핀 부재 및 제3 핀 부재의 각각이 비스듬하게 배치되는(직각이 아닌) 경우에 비해, 중간 유로, 제1 유로 및 제2 유로를 용이하게 형성할 수 있다. In addition, in the above-described chemical liquid control valve, it is preferable that the first flow passage and the second flow passage are each linear and extend at right angles to the intermediate flow passage. When forming a flow path block by pouring material into the mold, a first pin member inserted into the mold to form an intermediate flow path, a second pin member inserted into the mold to form the first flow path and the second flow path, and the second Each of the three pin members can be arranged at right angles. Therefore, compared to the case where each of the first pin member, the second pin member, and the third pin member is obliquely disposed (not at a right angle), the intermediate flow path, the first flow path, and the second flow path can be easily formed. have.

또, 상술한 약액 제어 밸브에 있어서, 상기 제1 유로는, 상기 제2 유로와 평행하며, 상기 제1 유로에 있어서의 상기 유량 조정용 밸브실과 접속하는 부분과 반대측의 제1 접속구는, 상기 제2 유로에 있어서의 상기 개폐용 밸브실과 접속하는 부분과 반대측의 제2 접속구와 동일한 방향을 향하여 개구하고 있는 것이 바람직하다. 금형에 재료를 흘려 넣어 유로 블록을 형성할 때에, 제1 유로 및 제2 유로를 형성하기 위해 금형 내에 삽입하는 제2 핀 부재 및 제3 핀 부재를 동일한 방향으로 이동시킬 수 있다. 그 때문에, 제2 핀 부재가 금형 내에 삽입되는 방향이 제3 핀 부재의 방향과 상이한 경우에 비해, 제1 유로 및 제2 유로를 용이하게 형성할 수 있다. In addition, in the above-described chemical liquid control valve, the first flow path is parallel to the second flow path, and the first connection port on the opposite side to the portion of the first flow path connected to the valve chamber for flow adjustment is provided with the second flow path. It is preferable to open in the same direction as the second connection port on the opposite side of the portion of the flow path that is connected to the valve chamber for opening and closing. When the flow path block is formed by pouring material into the mold, the second pin member and the third pin member inserted into the mold to form the first flow path and the second flow path can be moved in the same direction. Therefore, compared with the case where the direction in which the second pin member is inserted into the mold is different from the direction of the third pin member, the first flow path and the second flow path can be formed more easily.

또, 상술한 약액 제어 밸브에 있어서, 상기 유로 블록은, PFA로 형성되어 있는 것이 바람직하다. 유로 블록이 PFA로 형성되면, 유로 블록의 표면이 그 내부보다 단단한 층(막)인 스킨층으로 덮인다. 유로 블록의 내부에 약액이 스며들어 버리면, 결과적으로, 유로 블록의 내부로부터 티끌을 끌어내 버릴 우려가 있다. 그러나, 스킨층이 약액의 스며드는 것을 방지하므로, 약액의 청정도를 악화시킬 우려를 억제할 수 있다. In addition, in the chemical liquid control valve described above, it is preferable that the flow path block is formed of PFA. When the flow path block is formed of PFA, the surface of the flow path block is covered with a skin layer, which is a harder layer (film) than the inside. If the chemical liquid permeates the inside of the flow path block, as a result, there is a fear that dust will be drawn out from the inside of the flow path block. However, since the skin layer prevents penetration of the chemical liquid, the fear of deteriorating the cleanliness of the chemical liquid can be suppressed.

또, 본 발명에 관련된 기판 처리 장치는, 기판을 유지하고, 유지한 기판을 회전시키는 유지 회전부와, 상기 유지 회전부에 유지된 기판에 대해 약액을 토출하는 노즐과, 상기 노즐에 접속된 약액 배관과, 상기 노즐로부터 토출되는 약액의 유량을 조정하고, 또한 상기 노즐로부터 약액을 토출시키고, 약액 토출을 정지시키는 약액 제어 밸브를 구비하고, 상기 약액 제어 밸브는, 제1 외벽 및, 상기 제1 외벽과 직각인 면인 제2 외벽을 가지는 단일 유로 블록과, 상기 제1 외벽이 패이도록 형성된 유량 조정용 밸브실과, 상기 제2 외벽이 패이도록 형성된 개폐용 밸브실과, 상기 유로 블록의 내부에 형성된 직선형의 중간 유로이며, 상기 유량 조정용 밸브실과 상기 개폐용 밸브실 사이를 접속시켜, 상기 제1 외벽 및 상기 제2 외벽 중 어느 한 쪽에 대해 직각으로 연장되는 상기 중간 유로와, 상기 유로 블록의 내부에 형성되며, 상기 유량 조정용 밸브실과 접속하는 제1 유로와, 상기 유로 블록의 내부에 형성된 제2 유로이며, 상기 개폐용 밸브실과 접속함과 함께, 상기 약액 배관을 통하여 상기 노즐에 접속되는 상기 제2 유로와, 상기 유량 조정용 밸브실 내에 배치된 니들을 가지며, 상기 유량 조정용 밸브실을 막음과 함께, 약액의 유량을 조정하기 위해 상기 니들을 이동시키는 니들 이동 기구와, 상기 개폐용 밸브실 내에 배치된 개폐용 밸브체를 가지며, 상기 개폐용 밸브실을 막음과 함께, 약액의 공급 및 그 공급의 정지를 행하기 위해 상기 개폐용 밸브체를 이동시키는 개폐용 밸브체 이동 기구를 구비하고 있는 것 특징으로 하는 것이다. In addition, the substrate processing apparatus according to the present invention includes a holding and rotating unit for holding a substrate and rotating the held substrate, a nozzle for discharging a chemical liquid to the substrate held in the holding and rotating unit, and a chemical liquid pipe connected to the nozzle. , A chemical liquid control valve for adjusting the flow rate of the chemical liquid discharged from the nozzle, discharging the chemical liquid from the nozzle, and stopping the discharge of the chemical liquid, wherein the chemical liquid control valve comprises: a first outer wall and the first outer wall A single flow path block having a second outer wall that is a right angle, a valve chamber for flow adjustment formed such that the first outer wall is recessed, an opening/closing valve chamber formed such that the second outer wall is recessed, and a linear intermediate flow path formed inside the flow path block And the intermediate flow path extending at a right angle to one of the first outer wall and the second outer wall by connecting between the flow rate adjustment valve chamber and the opening/closing valve chamber, and formed inside the flow path block, and the A first flow path connected to the flow rate adjustment valve chamber, a second flow path formed inside the flow path block, the second flow path connected to the nozzle through the chemical liquid pipe together with the opening and closing valve chamber and the connection box; A needle movement mechanism having a needle disposed in the valve chamber for flow adjustment, blocking the flow rate adjustment valve chamber, and moving the needle to adjust the flow rate of the chemical liquid, and an opening/closing valve body disposed in the valve chamber for opening and closing And an opening/closing valve element moving mechanism for moving the opening/closing valve element to block the opening/closing valve chamber and to supply and stop the supply of the chemical liquid.

본 발명에 관련된 기판 처리 장치에 의하면, 약액 제어 밸브를 구비하고 있다. 약액 제어 밸브에 있어서, 유로 블록은, 제1 외벽과, 제1 외벽과 직각인 면인 제2 외벽을 가진다. 니들이 배치되는 유량 조정용 밸브실은, 유로 블록의 제1 외벽이 패이도록 형성되어 있다. 한편, 개폐용 밸브체가 배치되는 개폐용 밸브실은, 제2 외벽이 패이도록 형성되어 있다. 중간 유로는, 유량 조정용 밸브실과 개폐용 밸브실을 접속하는데, 중간 유로는, 제1 외벽 및 제2 외벽 중 어느 한 쪽에 대해 직각으로 연장되어 있다. 이와 같은 구성에 의해, 중간 유로를 직선형으로 형성할 수 있다. 그 때문에, V자 유로 등이 원인으로 약액이 악화될 우려가 있는 약액의 치환 특성을 향상시킬 수 있다. According to the substrate processing apparatus according to the present invention, a chemical liquid control valve is provided. In the chemical liquid control valve, the flow path block has a first outer wall and a second outer wall that is a surface perpendicular to the first outer wall. The valve chamber for flow adjustment in which the needle is arranged is formed so that the first outer wall of the flow path block is recessed. On the other hand, the valve chamber for opening/closing in which the valve element for opening/closing is disposed is formed so that the second outer wall is recessed. The intermediate flow path connects the valve chamber for flow adjustment and the valve chamber for opening/closing, and the intermediate flow path extends at a right angle to either of the first outer wall and the second outer wall. With such a configuration, the intermediate flow path can be formed in a straight line. Therefore, it is possible to improve the substitution characteristics of the chemical liquid in which the chemical liquid may deteriorate due to the V-shaped flow path or the like.

또, 본 발명에 관련된 기판 처리 장치는, 기판을 유지하고, 유지한 기판을 회전시키는 유지 회전부와, 상기 유지 회전부에 유지된 기판에 대해 약액을 토출하는 노즐과, 상기 노즐에 접속된 약액 배관과, 상기 노즐로부터 토출되는 약액의 유량을 조정하고, 또한 상기 노즐로부터 약액을 토출시키고, 약액 토출을 정지시키는 약액 제어 밸브를 구비하고, 상기 약액 제어 밸브는, 제1 외벽 및, 상기 제1 외벽과 대향함과 함께 상기 제1 외벽과 평행한 면인 제2 외벽을 가지는 단일 유로 블록과, 상기 제1 외벽이 패이도록 형성된 유량 조정용 밸브실과, 상기 제2 외벽이 패이도록 형성된 개폐용 밸브실과, 상기 유로 블록의 내부에 형성된 직선형의 중간 유로이며, 상기 유량 조정용 밸브실과 상기 개폐용 밸브실 사이를 접속시켜, 상기 제1 외벽 및 상기 제2 외벽에 대해 직각으로 연장되는 상기 중간 유로와, 상기 유로 블록의 내부에 형성되며, 상기 유량 조정용 밸브실과 접속하는 제1 유로와, 상기 유로 블록의 내부에 형성된 제2 유로이며, 상기 개폐용 밸브실과 접속함과 함께, 상기 약액 배관을 통하여 상기 노즐에 접속되는 상기 제2 유로와, 상기 유량 조정용 밸브실 내에 배치된 니들을 가지며, 상기 유량 조정용 밸브실을 막음과 함께, 약액의 유량을 조정하기 위해 상기 니들을 이동시키는 니들 이동 기구와, 상기 개폐용 밸브실 내에 배치된 개폐용 밸브체를 가지며, 상기 개폐용 밸브실을 막음과 함께, 약액의 공급 및 그 공급의 정지를 행하기 위해 상기 개폐용 밸브체를 이동시키는 개폐용 밸브체 이동 기구를 구비하고 있는 것을 특징으로 하는 것이다. In addition, the substrate processing apparatus according to the present invention includes a holding and rotating unit for holding a substrate and rotating the held substrate, a nozzle for discharging a chemical liquid to the substrate held in the holding and rotating unit, and a chemical liquid pipe connected to the nozzle. , A chemical liquid control valve for adjusting the flow rate of the chemical liquid discharged from the nozzle, discharging the chemical liquid from the nozzle, and stopping the discharge of the chemical liquid, wherein the chemical liquid control valve comprises: a first outer wall and the first outer wall A single flow path block having a second outer wall facing and parallel to the first outer wall, a valve chamber for adjusting flow rate formed to be recessed in the first outer wall, a valve chamber for opening/closing formed so that the second outer wall is recessed, and the flow path It is a linear intermediate flow path formed in the interior of the block, the intermediate flow path extending at a right angle to the first outer wall and the second outer wall by connecting between the flow rate adjustment valve chamber and the opening and closing valve chamber, and the flow path block. The first flow path formed inside and connected to the flow rate adjustment valve chamber, and a second flow path formed inside the flow path block, and connected to the nozzle through the chemical liquid pipe together with the opening and closing valve chamber. A needle movement mechanism having a second flow path and a needle disposed in the flow rate adjustment valve chamber, and blocking the flow rate adjustment valve chamber and moving the needle to adjust the flow rate of the chemical solution, and in the opening/closing valve chamber It has a valve body for opening/closing arranged, and a mechanism for moving the opening/closing valve body to move the valve body for opening/closing in order to block the valve chamber for opening/closing and stop supplying and stopping the supply of the chemical liquid. It is characterized by.

본 발명에 관련된 기판 처리 장치에 의하면, 약액 제어 밸브를 구비하고 있다. 약액 제어 밸브에 있어서, 유로 블록은, 제1 외벽과, 제1 외벽과 대향함과 함께 상기 제1 외벽과 평행한 면인 제2 외벽을 가진다. 니들이 배치되는 유량 조정용 밸브실은, 유로 블록의 제1 외벽이 패이도록 형성되어 있다. 한편, 개폐용 밸브체가 배치되는 개폐용 밸브실은, 제2 외벽이 패이도록 형성되어 있다. 중간 유로는, 유량 조정용 밸브실과 개폐용 밸브실을 접속하는데, 중간 유로는, 제1 외벽 및 제2 외벽에 대해 직각으로 연장되어 있다. 이와 같은 구성에 의해, 중간 유로를 직선형으로 형성할 수 있다. 그 때문에, V자 유로 등이 원인으로 약액이 악화될 우려가 있는 약액의 치환 특성을 향상시킬 수 있다. According to the substrate processing apparatus according to the present invention, a chemical liquid control valve is provided. In the chemical liquid control valve, the flow path block has a first outer wall and a second outer wall that faces the first outer wall and is a surface parallel to the first outer wall. The valve chamber for flow adjustment in which the needle is arranged is formed so that the first outer wall of the flow path block is recessed. On the other hand, the valve chamber for opening/closing in which the valve element for opening/closing is disposed is formed so that the second outer wall is recessed. The intermediate flow path connects the valve chamber for flow adjustment and the valve chamber for opening/closing, and the intermediate flow path extends at a right angle with respect to the first outer wall and the second outer wall. With such a configuration, the intermediate flow path can be formed in a straight line. Therefore, it is possible to improve the substitution characteristics of the chemical liquid in which the chemical liquid may deteriorate due to the V-shaped flow path or the like.

또한, 본 명세서는, 다음과 같은 약액 제어 밸브의 제조 방법에 관련된 발명도 개시하고 있다. In addition, the present specification also discloses the invention related to the method for manufacturing the following chemical liquid control valve.

(1) 본 발명에 관련된 약액 제어 밸브의 제조 방법은, 제1 내벽 및, 상기 제1 내벽과 직각인 면인 제2 내벽을 내부 공간에 가지는 한 쌍의 금형이며, 유량 조정용 밸브실을 형성하기 위해 상기 제1 내벽에 설치된 제1 돌출부와, 개폐용 밸브실을 형성하기 위해 상기 제2 내벽에 설치된 제2 돌출부와, 상기 제1 돌출부와 상기 제2 돌출부를 접속시킴과 함께, 상기 제1 내벽 및 제2 내벽 중 어느 한 쪽에 대해 직각으로 연장되는 방향으로 삽입된 직선형의 제1 핀 부재를 가지는 상기 한 쌍의 금형을 준비하는 공정과, 상기 제1 돌출부와 접속하도록, 직선형의 제2 핀 부재를 상기 내부 공간에 삽입하는 공정과, 상기 제2 돌출부와 접속하도록, 직선형의 제3 핀 부재를 상기 내부 공간에 삽입하는 공정과, 상기 제2 핀 부재 및 상기 제3 핀 부재를 상기 내부 공간에 삽입한 후, 가열되어 녹은 수지를 상기 내부 공간에 흘려 넣는 공정과, 상기 내부 공간에 흘려 넣어진 수지가 냉각되어 굳어진 후, 단일 유로 블록이 되는 수지를 한 쌍의 금형으로부터 떼어내는 공정을 구비하고 있는 것을 특징으로 하는 것이다. (1) The manufacturing method of the chemical liquid control valve according to the present invention is a pair of molds having a first inner wall and a second inner wall that is a surface perpendicular to the first inner wall in an inner space, and to form a valve chamber for flow adjustment A first protrusion provided on the first inner wall, a second protrusion provided on the second inner wall to form an opening/closing valve chamber, and connecting the first protrusion and the second protrusion, and the first inner wall and The step of preparing the pair of molds having a linear first pin member inserted in a direction extending at a right angle to one of the second inner walls, and a second linear pin member to connect with the first protrusion. Inserting into the inner space, inserting a straight third pin member into the inner space to connect with the second protrusion, and inserting the second pin member and the third pin member into the inner space Then, a step of pouring the heated and melted resin into the inner space, and a step of removing the resin serving as a single flow path block from the pair of molds after the resin poured into the inner space is cooled and hardened. It is characterized by that.

본 발명에 관련된 약액 제어 밸브의 제조 방법에 의하면, 한 쌍의 금형은, 제1 내벽 및, 제1 내벽과 직각인 면인 제2 내벽을 내부 공간에 가진다. 한 쌍의 금형은, 유량 조정용 밸브실을 형성하기 위해 제1 내벽에 설치된 제1 돌출부와, 개폐용 밸브실을 형성하기 위해 제2 내벽에 설치된 제2 돌출부와, 제1 돌출부와 상기 제2 돌출부를 접속시킴과 함께, 제1 내벽 및 제2 내벽 중 어느 한 쪽에 대해 직각으로 연장되는 방향으로 삽입된 직선형의 제1 핀 부재를 가진다. 이와 같은 구조로 유로 블록을 형성함으로써, 중간 유로를 직선형으로 형성할 수 있다. 그 때문에, V자 유로 등이 원인으로 약액이 악화될 우려가 있는 약액의 치환 특성을 향상시킬 수 있다. 또한, 종래의 약액 제어 밸브에 있어서, V자 유로는, 형성 후에, 유량 조정용 밸브실 및 개폐용 밸브실의 2방향으로부터 절삭함으로써 형성된다. 본 발명에 의하면, 절삭하지 않고 직선형의 중간 유로(31)를 형성할 수 있다. According to the manufacturing method of the chemical liquid control valve according to the present invention, the pair of molds has a first inner wall and a second inner wall that is a surface perpendicular to the first inner wall in the inner space. The pair of molds includes a first protrusion provided on the first inner wall to form a valve chamber for flow adjustment, a second protrusion provided on the second inner wall to form an opening/closing valve chamber, a first protrusion and the second protrusion. It has a linear first pin member inserted in a direction extending at a right angle with respect to either of the first inner wall and the second inner wall while being connected to each other. By forming the flow path block with such a structure, the intermediate flow path can be formed in a straight line. Therefore, it is possible to improve the substitution characteristics of the chemical liquid in which the chemical liquid may deteriorate due to the V-shaped flow path or the like. In addition, in the conventional chemical control valve, the V-shaped flow path is formed by cutting the flow rate adjustment valve chamber and the opening/closing valve chamber from two directions after formation. According to the present invention, it is possible to form the straight intermediate flow path 31 without cutting.

본 발명에 관련된 약액 제어 밸브 및 이것을 구비한 기판 처리 장치에 의하면, 약액의 치환 특성을 향상시킬 수 있다.According to the chemical liquid control valve according to the present invention and the substrate processing apparatus provided with the same, it is possible to improve the chemical liquid substitution characteristic.

도 1은 실시예에 관련된 기판 처리 장치의 개략 구성도이다.
도 2는 실시예에 관련된 약액 제어 밸브의 개략 구성도이다.
도 3의 (a)는, XY 방향에 있어서의 한 쌍의 금형의 횡단면도이며, (b)는, XZ 방향에 있어서의 한 쌍의 금형의 종단면도이다.
도 4는 변형예에 관련된 약액 제어 밸브의 개략 구성도이다.
도 5의 (a), (b)는, 변형예에 관련된 약액 제어 밸브의 개략 구성도이다.
도 6의 (a), (b)는, 변형예에 관련된 약액 제어 밸브의 개략 구성도이다.
도 7은 종래의 약액 제어 밸브의 개략 구성도이다.
1 is a schematic configuration diagram of a substrate processing apparatus according to an embodiment.
2 is a schematic configuration diagram of a chemical liquid control valve according to an embodiment.
3A is a cross-sectional view of a pair of metal molds in the XY direction, and (b) is a longitudinal cross-sectional view of a pair of metal molds in the XZ direction.
4 is a schematic configuration diagram of a chemical liquid control valve according to a modified example.
5A and 5B are schematic configuration diagrams of a chemical liquid control valve according to a modified example.
6A and 6B are schematic configuration diagrams of a chemical liquid control valve according to a modified example.
7 is a schematic configuration diagram of a conventional chemical liquid control valve.

이하, 도면을 참조하여 본 발명의 실시예를 설명한다. 도 1은, 실시예에 관련된 기판 처리 장치의 개략 구성도이다. 도 2는, 실시예에 관련된 약액 제어 밸브의 개략 구성도이다. Hereinafter, embodiments of the present invention will be described with reference to the drawings. 1 is a schematic configuration diagram of a substrate processing apparatus according to an embodiment. 2 is a schematic configuration diagram of a chemical liquid control valve according to an embodiment.

<기판 처리 장치(1)의 구성> <Configuration of substrate processing apparatus 1>

도 1을 참조한다. 기판 처리 장치(1)는, 노즐(2)과 유지 회전부(3)를 구비하고 있다. 노즐(2)은, 유지 회전부(3)로 유지된 기판(W)에 대해 약액을 토출하는 것이다. 약액은, 예를 들면, 레지스트액, 반사 방지막 형성용의 도포액, 시너 등의 용제, 순수(DIW) 등의 린스액, 현상액, 또는 에칭액이다. See FIG. 1. The substrate processing apparatus 1 includes a nozzle 2 and a holding rotation unit 3. The nozzle 2 discharges a chemical liquid to the substrate W held by the holding rotation unit 3. The chemical liquid is, for example, a resist liquid, a coating liquid for forming an antireflection film, a solvent such as thinner, a rinse liquid such as pure water (DIW), a developer, or an etching liquid.

유지 회전부(3)는, 기판(W)를 유지하고, 유지한 기판(W)를 회전시키는 것이다. 유지 회전부(3)는, 스핀척(4)과 회전 구동부(5)를 구비하고 있다. 스핀척(4)은, 회전축(AX) 둘레로 회전 가능하게 구성되어 있다. 스핀척(4)은, 예를 들면, 기판(W)의 이면을 진공 흡착함으로써 기판(W)를 대략 수평 자세로 유지한다. 한편, 회전 구동부(5)는, 스핀척(4)을 회전축(AX) 둘레로 회전시키는 구동을 행한다. 회전 구동부(5)는, 전동 모터 등으로 구성되어 있다. The holding rotation unit 3 holds the substrate W and rotates the held substrate W. The holding rotation unit 3 includes a spin chuck 4 and a rotation drive unit 5. The spin chuck 4 is configured to be rotatable around a rotation axis AX. The spin chuck 4 holds the substrate W in a substantially horizontal posture by vacuum adsorbing the back surface of the substrate W, for example. On the other hand, the rotation drive unit 5 drives to rotate the spin chuck 4 around the rotation axis AX. The rotation drive unit 5 is constituted by an electric motor or the like.

또, 기판 처리 장치(1)는, 약액 공급원(7), 약액 배관(8a, 8b), 펌프(P) 및 약액 제어 밸브(9)를 구비하고 있다. 약액 공급원(7)은, 예를 들면, 약액을 저류하는 탱크 또는 보틀로 구성되어 있다. 약액 배관(8a, 8b)의 일단은, 약액 공급원(7)에 접속되고, 그 타단은, 노즐(2)에 접속되어 있다. Moreover, the substrate processing apparatus 1 is provided with the chemical liquid supply source 7, the chemical liquid piping 8a, 8b, the pump P, and the chemical liquid control valve 9. The chemical liquid supply source 7 is constituted by, for example, a tank or a bottle that stores a chemical liquid. One end of the chemical liquid pipes 8a and 8b is connected to the chemical liquid supply source 7, and the other end thereof is connected to the nozzle 2.

약액 공급원(7)과 노즐(2) 사이의 약액 배관(8a)에는, 펌프(P)가 설치되어 있다. 펌프(P)와 노즐(2) 사이의 약액 배관(8a, 8b)에는, 약액 제어 밸브(9)가 설치되어 있다. 펌프(P)는 약액을 보내는 기구이다. 약액 제어 밸브(9)는, 노즐(2)로부터 토출시키는 약액의 유량을 조정하고, 또한, 노즐(2)로부터 약액을 토출시키고, 약액 토출을 정지시킨다. 약액 제어 밸브(9)의 상세한 것은 후술한다. 또한, 약액 배관(8a, 8b)에는, 예를 들면, 이물 제거 필터 및, 액흘림 방지를 위한 석백 밸브(suck back valve) 중 적어도 어느 하나가 설치되어 있어도 된다. A pump P is provided in the chemical liquid pipe 8a between the chemical liquid supply source 7 and the nozzle 2. The chemical liquid control valve 9 is provided in the chemical liquid pipes 8a and 8b between the pump P and the nozzle 2. The pump (P) is a mechanism that sends a chemical liquid. The chemical liquid control valve 9 adjusts the flow rate of the chemical liquid discharged from the nozzle 2, further discharges the chemical liquid from the nozzle 2, and stops the chemical liquid discharge. Details of the chemical liquid control valve 9 will be described later. In addition, at least one of a foreign matter removing filter and a suck back valve for preventing liquid leakage may be provided in the chemical liquid pipes 8a and 8b, for example.

기판 처리 장치(1)는, 1 또는 2 이상의 제어부(11)와, 조작부(13)를 구비하고 있다. 제어부(11)는, 중앙 연산 처리 장치(CPU)를 가지고 있다. 제어부(11)는, 기판 처리 장치(1) 및 약액 제어 밸브(9)의 각 구성을 제어한다. 조작부(13)는, 입력부, 표시부 및 기억부를 구비하고 있다. 기억부는, ROM(Read-only Memory), RAM(Random-Access Memory), 및 하드 디스크 등으로 구성되어 있다. 기억부에는, 예를 들면 기판 처리의 각종 조건이 기억되어 있다. The substrate processing apparatus 1 includes one or more control units 11 and an operation unit 13. The control unit 11 has a central processing unit (CPU). The control unit 11 controls each configuration of the substrate processing apparatus 1 and the chemical liquid control valve 9. The operation unit 13 includes an input unit, a display unit, and a storage unit. The storage unit is composed of a read-only memory (ROM), a random-access memory (RAM), and a hard disk. The storage unit stores, for example, various conditions of substrate processing.

<약액 제어 밸브(9)의 구성> <Configuration of chemical liquid control valve 9>

도 2를 참조한다. 약액 제어 밸브(9)는, 단일 유로 블록(21), 니들 이동 기구(23) 및 개폐용 밸브체 이동 기구(25)를 구비하고 있다. See FIG. 2. The chemical liquid control valve 9 is provided with a single flow path block 21, a needle movement mechanism 23, and a valve element movement mechanism 25 for opening and closing.

유로 블록(21)은, 예를 들면 PFA(퍼플루오로알콕시알칸: perfluoroalkoxyalkane) 등의 열가소성 및 용융 유동성을 가지는 불소 수지 그 외의 수지로 형성되어 있다. 유로 블록(21)은, PTFE(폴리테트라플루오로에틸렌: polytetrafluoroethylene) 등의 불소 수지로 형성되어 있어도 된다. The flow path block 21 is formed of, for example, a thermoplastic resin such as PFA (perfluoroalkoxyalkane) and a fluororesin having melt fluidity and other resins. The flow path block 21 may be formed of a fluororesin such as PTFE (polytetrafluoroethylene).

또한, 유로 블록(21)은, PFA로 형성되어 있는 것이 바람직하다. 유로 블록(21)이 사출 성형에 의해 PFA로 형성되면, 유로 블록(21)의 표면이 그 내부보다 단단한 층(막)인 스킨층으로 덮인다. 유로 블록(21)의 내부에 약액이 스며들어 버리면, 결과적으로, 유로 블록(21)의 내부로부터 티끌을 끌어낼 우려가 있다. 그러나, 스킨층이 약액이 스며드는 것을 방지하므로, 약액의 청정도를 악화시킬 우려를 억제할 수 있다. In addition, it is preferable that the flow path block 21 is formed of PFA. When the flow path block 21 is formed of PFA by injection molding, the surface of the flow path block 21 is covered with a skin layer, which is a harder layer (film) than the inside thereof. If the chemical liquid soaks into the inside of the flow path block 21, there is a fear that dust may be drawn out from the inside of the flow path block 21 as a result. However, since the skin layer prevents the chemical liquid from permeating, the fear of deteriorating the cleanliness of the chemical liquid can be suppressed.

유로 블록(21)은, 제1 외벽(면)(21a)과 제2 외벽(면)(21b)을 가진다. 제2 외벽(21b)은, 제1 외벽(21a)과 거의 직각인 면이다. 유로 블록(21)의 제1 외벽(외면)(21a)에는, 유량 조정용 밸브실(27)이 설치되어 있다. 유로 블록(21)의 제2 외벽(외면)(21b)에는, 개폐용 밸브실(29)이 설치되어 있다. 유량 조정용 밸브실(27)은, 제1 외벽(21a)의 일부가 패이도록 형성되어 있다. 즉, 유량 조정용 밸브실(27)은, 제1 외벽(21a)에 오목형으로 형성되어 있다. 개폐용 밸브실(29)은, 제2 외벽(21b)의 일부가 패이도록 형성되어 있다. 즉, 개폐용 밸브실(29)은, 유로 블록(21)의 제2 외벽(21b)에 오목형으로 형성되어 있다. The flow path block 21 has a first outer wall (surface) 21a and a second outer wall (surface) 21b. The second outer wall 21b is a surface substantially perpendicular to the first outer wall 21a. A valve chamber 27 for flow rate adjustment is provided on the first outer wall (outer surface) 21a of the flow path block 21. A valve chamber 29 for opening and closing is provided on the second outer wall (outer surface) 21b of the flow path block 21. The valve chamber 27 for flow rate adjustment is formed so that a part of the 1st outer wall 21a may be recessed. That is, the valve chamber 27 for flow rate adjustment is formed in a concave shape in the 1st outer wall 21a. The opening/closing valve chamber 29 is formed so that a part of the second outer wall 21b is recessed. That is, the valve chamber 29 for opening and closing is formed in a concave shape in the second outer wall 21b of the flow path block 21.

유로 블록(21)의 내부에는, 중간 유로(31), 제1 유로(33) 및 제2 유로(35)가 형성되어 있다. 중간 유로(31), 제1 유로(33) 및 제2 유로(35)는 각각, 직선형으로 형성되어 있다. 중간 유로(31)는, 유량 조정용 밸브실(27)과 개폐용 밸브실(29) 사이를 접속시키도록 형성되어 있다. 또, 중간 유로(31)는, 제2 외벽(21b)와 거의 직각으로 연장되도록 형성되어 있다. Inside the flow path block 21, an intermediate flow path 31, a first flow path 33, and a second flow path 35 are formed. The intermediate flow path 31, the first flow path 33, and the second flow path 35 are formed in a linear shape, respectively. The intermediate flow path 31 is formed so as to connect the valve chamber 27 for flow adjustment and the valve chamber 29 for opening/closing. Further, the intermediate flow path 31 is formed so as to extend substantially at right angles to the second outer wall 21b.

제1 유로(33)의 일단은, 유량 조정용 밸브실(27)과 접속한다. 제1 유로(33)의 타단은, 유로 블록(21)의 외부인, 펌프(P)가 설치된 약액 배관(8a)과 접속한다. 제2 유로(35)의 일단은, 개폐용 밸브실(29)과 접속한다. 제2 유로(35)의 타단은, 유로 블록(21)의 외부인, 노즐(2)이 설치된 약액 배관(8b)과 접속한다. 즉, 제2 유로(35)는, 약액 배관(8b)을 통하여 노즐(2)이 접속되어 있다. One end of the first flow path 33 is connected to the valve chamber 27 for flow rate adjustment. The other end of the first flow path 33 is connected to the chemical liquid pipe 8a provided with the pump P, which is outside the flow path block 21. One end of the second flow path 35 is connected to the valve chamber 29 for opening/closing. The other end of the second flow path 35 is connected to the chemical liquid pipe 8b provided with the nozzle 2 outside the flow path block 21. That is, the nozzle 2 is connected to the 2nd flow path 35 via the chemical liquid piping 8b.

제1 유로(33) 및 제2 유로(35)는 각각, 중간 유로(31)에 대해 직각으로 연장되도록 형성되어 있다. 또, 제1 유로(33)는, 제2 유로(35)와 평행이다. 그리고, 제1 유로(33)에 있어서의 유량 조정용 밸브실(27)과 접속하는 부분과 반대측의 제1 접속구(37)는, 제2 유로(35)에 있어서의 개폐용 밸브실(29)과 접속하는 부분과 반대측의 제2 접속구(39)와 동일한 방향을 향하여 개구하고 있다. 즉, 제1 유로(33)를 통과하는 약액의 방향이 제2 유로(35)를 통과하는 약액의 방향과 역방향이 되도록, 제1 유로(33) 및 제2 유로(35)가 형성되어 있다. Each of the first flow path 33 and the second flow path 35 is formed to extend at a right angle with respect to the intermediate flow path 31. In addition, the first flow path 33 is parallel to the second flow path 35. In addition, the first connection port 37 on the opposite side to the portion connected to the flow rate adjustment valve chamber 27 in the first flow path 33 is provided with the valve chamber 29 for opening and closing in the second flow path 35. It opens toward the same direction as the second connector 39 on the opposite side from the part to be connected. That is, the first flow path 33 and the second flow path 35 are formed so that the direction of the chemical liquid passing through the first flow path 33 is opposite to that of the chemical liquid passing through the second flow path 35.

니들 이동 기구(23)는, 유로 블록(21)에 부착되어 있다. 니들 이동 기구(23)는, 니들(41)을 가진다. 니들 이동 기구(23)는, 유량 조정용 밸브실(27)을 막음과 함께, 약액의 유량을 조정하기 위해 니들(41)을 이동시키도록 구성되어 있다. The needle movement mechanism 23 is attached to the flow path block 21. The needle movement mechanism 23 has a needle 41. The needle movement mechanism 23 is configured to move the needle 41 in order to adjust the flow rate of the chemical liquid while blocking the valve chamber 27 for flow rate adjustment.

또한, 도 2에 있어서, 유량 조정용 밸브실(27)은, 제1 연장 유로(40a)를 가지고 있다. 제1 연장 유로(40a)는, 유량 조정용 밸브실(27)의 저부 이외의 예를 들면 내측벽에 설치되어 있다. 중간 유로(31)가 제1 연장 유로(40a)에 접속됨으로써, 중간 유로(31)는, 유량 조정용 밸브실(27)에 접속된다. 또, 개폐용 밸브실(29)은, 제2 연장 유로(40b)를 가지고 있다. 제2 연장 유로(40b)는, 개폐용 밸브실(29)의 저부에 설치되어 있다. 제2 유로(35)가 제2 연장 유로(40b)에 접속됨으로써, 제2 유로(35)는, 개폐용 밸브실(29)에 접속된다. In addition, in FIG. 2, the valve chamber 27 for flow rate adjustment has a 1st extension flow path 40a. The first extension flow path 40a is provided on, for example, an inner wall other than the bottom of the valve chamber 27 for flow adjustment. When the intermediate flow path 31 is connected to the first extension flow path 40a, the intermediate flow path 31 is connected to the valve chamber 27 for flow adjustment. Moreover, the valve chamber 29 for opening/closing has a 2nd extension flow path 40b. The second extension flow path 40b is provided in the bottom of the valve chamber 29 for opening/closing. The second flow path 35 is connected to the opening/closing valve chamber 29 by connecting the second flow path 35 to the second extended flow path 40b.

니들 이동 기구(23)는, 니들(41) 외에, 하우징(43), 전동 모터(45) 및 변환 기구(47)를 구비하고 있다. 니들(41)은, 유량 조정용 밸브실(27) 내에 배치되어 있다. 또, 니들(41)은, 유량 조정용 밸브실(27)에 설치된 개구부(49)와 대향하도록 배치되어 있다. 개구부(49)는 원형으로 형성되어 있다. 개구부(49)는 제1 유로(33)에 접속되어 있다. 니들(41)의 선단부(41a)는 원뿔형으로 형성되어 있다. 니들(41)의 원뿔형의 선단부(41a)는, 개구부(49)에 통과된다. 즉, 니들(41)을 횡 이동(X 방향 이동)시킴으로써, 원뿔형의 선단부(41a)와 개구부(49)의 간극이 조정된다(도 2 참조). 이것에 의해, 그 간극을 흐르는 약액의 유량이 조정된다. 하우징(43)은, 니들(41)이 통과하도록 구성되어 있다. 하우징(43)은, 유량 조정용 밸브실(27)을 막고 있다. In addition to the needle 41, the needle moving mechanism 23 includes a housing 43, an electric motor 45, and a conversion mechanism 47. The needle 41 is disposed in the valve chamber 27 for flow adjustment. Moreover, the needle 41 is arranged so as to face the opening 49 provided in the valve chamber 27 for flow adjustment. The opening 49 is formed in a circular shape. The opening 49 is connected to the first flow path 33. The tip portion 41a of the needle 41 is formed in a conical shape. The conical tip portion 41a of the needle 41 passes through the opening portion 49. That is, by moving the needle 41 laterally (moving in the X direction), the gap between the conical tip portion 41a and the opening portion 49 is adjusted (see Fig. 2). Thereby, the flow rate of the chemical liquid flowing through the gap is adjusted. The housing 43 is configured so that the needle 41 passes. The housing 43 closes the valve chamber 27 for flow adjustment.

전동 모터(45)는, 니들(41)을 구동시킨다. 전동 모터(45)는, 예를 들면 스텝모터 또는 서보모터로 구성되어 있다. 전동 모터(45)가 서보모터로 구성되는 경우는, 로터리 엔코더 등의 센서가 설치되므로, 니들(41)의 횡 방향의 이동량 또는 위치를 정확하게 얻을 수 있다. 변환 기구(47)는, 전동 모터(45)와 니들(41) 사이에 설치되어, 전동 모터(45)가 출력하는 회전을 니들(41)의 직선 이동으로 변환한다. 변환 기구(47)는, 예를 들면 나사축과 가이드부를 가지고 구성되어 있다. The electric motor 45 drives the needle 41. The electric motor 45 is constituted by, for example, a step motor or a servo motor. When the electric motor 45 is configured as a servo motor, since a sensor such as a rotary encoder is provided, the amount or position of the needle 41 in the lateral direction can be accurately obtained. The conversion mechanism 47 is provided between the electric motor 45 and the needle 41 and converts rotation output from the electric motor 45 into linear movement of the needle 41. The conversion mechanism 47 is configured with, for example, a screw shaft and a guide portion.

개폐용 밸브체 이동 기구(25)는, 유로 블록(21)에 부착되어 있다. 개폐용 밸브체 이동 기구(25)는, 다이아프램(51)을 가진다. 개폐용 밸브체 이동 기구(25)는, 개폐용 밸브실(29)을 막음과 함께, 제2 유로(35)를 개폐하기 위해 다이아프램(51)을 이동시키도록 구성되어 있다. 다이아프램(51)은 본 발명의 개폐용 밸브체에 상당한다. The opening/closing valve element movement mechanism 25 is attached to the flow path block 21. The opening/closing valve element movement mechanism 25 has a diaphragm 51. The opening/closing valve element movement mechanism 25 is configured to move the diaphragm 51 to open and close the second flow path 35 while blocking the opening/closing valve chamber 29. The diaphragm 51 corresponds to the valve body for opening and closing of the present invention.

개폐용 밸브체 이동 기구(25)는, 다이아프램(51) 외에, 하우징(53), 가동 부재(55), 격벽(57), 가동 칸막이 부재(59), 스프링(61), 흡배기구(63) 및 조정 나사부(65)를 구비하고 있다. In addition to the diaphragm 51, the opening/closing valve element moving mechanism 25 includes a housing 53, a movable member 55, a partition wall 57, a movable partition member 59, a spring 61, and an intake/exhaust port 63. ) And an adjustment screw 65.

다이아프램(51)은, 예를 들면 PTFE 또는 PFA 등의 불소 수지로 구성되어 있다. 다이아프램(51)의 주연부는, 개폐용 밸브실(29)의 내측벽에 고정되어 있다. 다이아프램(51)은, 다이아프램(51)의 상하의 이동 방향을 횡단하도록, 후술하는 벨브좌(座)(75)측과 격벽(57)측 사이를 떼고 있다. 다이아프램(51)의 중앙의 육후부(肉厚部)(51a)는, 가동 부재(55)에 고정되어 있다. 하우징(53)은, 개폐용 밸브실(29)을 막고 있다. The diaphragm 51 is made of, for example, a fluororesin such as PTFE or PFA. The periphery of the diaphragm 51 is fixed to the inner wall of the valve chamber 29 for opening and closing. The diaphragm 51 is separated between the valve seat 75 side and the partition wall 57 side to be described later so as to traverse the vertical movement direction of the diaphragm 51. The middle rear portion 51a of the diaphragm 51 is fixed to the movable member 55. The housing 53 closes the valve chamber 29 for opening and closing.

원반형의 격벽(57)은, 하우징(53)의 내측벽에 설치되어 있다. 격벽(57)은, 가동 칸막이 부재(59)측과 다이아프램(51)측 사이를 떼고 있다. 격벽(57)의 중앙부에는, 가동 부재(55)가 삽입되어 있다. 가동 부재(55)는, 격벽(57)에 대해 슬라이드 이동 가능하다. 가동 칸막이 부재(59)는, 다이아프램(51)의 반대측의 가동 부재(55)에 고정되어 있다. 가동 칸막이 부재(59)는, 하우징(53)의 내측벽에 대해 슬라이드 이동 가능하다. 가동 칸막이 부재(59)는, 스프링(61)측과 격벽(57)측 사이를 떼고 있다. 가동 부재(55)와 격벽(57)의 접촉 부분, 및 가동 칸막이 부재(59)와 하우징(53)의 내측벽의 접촉 부분은 시일되어 있다. The disc-shaped partition wall 57 is provided on the inner wall of the housing 53. The partition 57 is separated between the movable partition member 59 side and the diaphragm 51 side. The movable member 55 is inserted in the central part of the partition wall 57. The movable member 55 is slidable with respect to the partition wall 57. The movable partition member 59 is fixed to the movable member 55 on the opposite side of the diaphragm 51. The movable partition member 59 is slidable with respect to the inner wall of the housing 53. The movable partition member 59 is separated between the spring 61 side and the partition wall 57 side. The contact portion between the movable member 55 and the partition wall 57 and the contact portion between the movable partition member 59 and the inner wall of the housing 53 are sealed.

스프링(61)은, 하우징(53)의 천정(53a)과 가동 칸막이 부재(59) 사이에 배치되어 있다. 스프링(61)은, 상시, 하방향(다이아프램(51)이 존재하는 방향)으로 누르도록 설치되어 있다. 흡배기구(63)는, 하우징(53) 내에 있어서의 가동 칸막이 부재(59)와 격벽(57) 사이의 공간에 기체를 출납하는 개구이다. 기체 배관(67)은, 봄베나 공장 내의 배관 등의 기체 공급원(69)과 흡배기구(63)를 접속시킨다. 기체 배관(67)에는, 예를 들면 삼방 밸브(71)가 설치된다. 삼방 밸브(71)는, 기체 공급원(69)으로부터 하우징(53) 내로의 기체의 공급, 및 하우징(53) 내로부터의 기체의 배기를 선택적으로 전환한다. The spring 61 is disposed between the ceiling 53a of the housing 53 and the movable partition member 59. The spring 61 is provided so as to be pressed at all times in a downward direction (the direction in which the diaphragm 51 is present). The intake/exhaust port 63 is an opening in the housing 53 through which gas is put in and out of the space between the movable partition member 59 and the partition wall 57. The gas piping 67 connects a gas supply source 69 such as a cylinder or a piping in a factory and an intake/exhaust port 63. The gas piping 67 is provided with a three-way valve 71, for example. The three-way valve 71 selectively switches the supply of gas into the housing 53 from the gas supply source 69 and exhaustion of the gas from the housing 53.

조정 나사부(65)는, 수나사(65a)를 가진다. 이 수나사(65a)와, 하우징(53)의 천정(53a) 부근에 설치된 암나사(53b)가 맞물리도록 구성되어 있다. 조정 나사부(65)는, 가동 칸막이 부재(59)와 분리되어 있다. 수나사(65a)의 위치에 의해, 가동 칸막이 부재(59), 가동 부재(55), 및 다이아프램(51)의 육후부(51a) 등의 상방향 이동이 제한된다. 또한, 개구부(73)는 제2 유로(35)에 접속되어 있다. 벨브좌(75)는, 개구부(73)의 주위에 설치되어, 다이아프램(51)의 육후부(51a)를 받는 것이다. The adjustment screw portion 65 has a male screw 65a. The male screw 65a and the female screw 53b provided in the vicinity of the ceiling 53a of the housing 53 are configured to engage with each other. The adjustment screw portion 65 is separated from the movable partition member 59. The upward movement of the movable partition member 59, the movable member 55, and the rear portion 51a of the diaphragm 51 is restricted by the position of the male screw 65a. Further, the opening 73 is connected to the second flow path 35. The valve seat 75 is provided around the opening 73 and receives the rear portion 51a of the diaphragm 51.

<약액 제어 밸브(9)의 제조 방법> <Method of manufacturing the chemical liquid control valve 9>

다음에, 약액 제어 밸브(9)의 제조 방법에 대한 일례를 설명한다. 도 3(a)는, XY 방향에 있어서의 한 쌍의 금형의 횡단면도이다. 도 3(b)는, XZ 방향에 있어서의 한 쌍의 금형의 종단면도이다. 또, 도 3(b)는, 도 3(a)에 있어서의 제1 돌출부(87) 및 제2 핀 부재(90) 부분의 종단면도이다. Next, an example of a method of manufacturing the chemical liquid control valve 9 will be described. 3(a) is a cross-sectional view of a pair of molds in the XY direction. 3(b) is a longitudinal cross-sectional view of a pair of molds in the XZ direction. Moreover, FIG. 3(b) is a longitudinal sectional view of the part of the 1st protrusion 87 and the 2nd pin member 90 in FIG. 3(a).

〔단계 S01〕한 쌍의 금형(81, 82)을 준비하는 공정 [Step S01] Process of preparing a pair of molds 81 and 82

한 쌍의 금형(81, 82)을 준비한다. 한 쌍의 금형(81, 82)이 대향 배치되면, 한 쌍의 금형(81, 82)에는, 내부 공간(83)이 형성된다. 도 3(a), 도 3(b)에 있어서, 굵은 간격으로 나타내는 우측하향 사선의 해칭이 내부 공간(83)이다. 내부 공간(83)은, 수지가 채워지는 공간이다. 한 쌍의 금형(81, 82)은, 제1 내벽(면)(85)과 제2 내벽(면)(86)을 내부 공간(83)에 가진다. 제2 내벽(86)은, 제1 내벽(85)과 거의 직각인 면이다. A pair of molds 81 and 82 are prepared. When the pair of molds 81 and 82 are disposed opposite to each other, an inner space 83 is formed in the pair of molds 81 and 82. 3(a) and 3(b), hatching of an oblique line downwards to the right indicated by thick intervals is the inner space 83. The inner space 83 is a space filled with resin. The pair of molds 81 and 82 has a first inner wall (surface) 85 and a second inner wall (surface) 86 in the inner space 83. The second inner wall 86 is a surface substantially perpendicular to the first inner wall 85.

한 쌍의 금형(81, 82)은, 유량 조정용 밸브실(27)을 형성하기 위한 제 1 돌출부(87)와, 개폐용 밸브실(29)을 형성하기 위한 제 2 돌출부(88)와, 중간 유로(31)를 형성하기 위한 직선형의 제1 핀 부재(89)를 구비하고 있다. 제1 돌출부(87)는, 한 쌍의 금형(81, 82)에 있어서의 내부 공간(83)의 제1 내벽(85)에 설치되어 있다. 제1 돌출부(87)에는, 제1 연장 유로(40a)에 대응하는 제1 접속 볼록부(87a)가 설치되어 있다. 제2 돌출부(88)는, 제2 내벽(86)에 설치되어 있다. 제2 돌출부(88)에는, 제2 연장 유로(40b)에 대응하는 제2 접속 볼록부(88a)가 설치되어 있다. The pair of molds 81 and 82 includes a first protrusion 87 for forming the valve chamber 27 for flow adjustment, a second protrusion 88 for forming the valve chamber 29 for opening and closing, and the middle A first straight pin member 89 for forming the flow path 31 is provided. The first protrusion 87 is provided on the first inner wall 85 of the inner space 83 in the pair of molds 81 and 82. The first protrusion 87 is provided with a first connection protrusion 87a corresponding to the first extension flow path 40a. The second protrusion 88 is provided on the second inner wall 86. The second protrusion 88 is provided with a second connection protrusion 88a corresponding to the second extension flow path 40b.

제1 핀 부재(89)는, 제1 돌출부(87)와 제2 돌출부(88) 사이를 접속시키도록, 제2 내벽(86)에 대해 거의 직각으로 연장되는 방향으로 삽입되어 있다. 제1 돌출부(87)는, 횡 방향(X 방향)으로 이동 가능하다. 제1 돌출부(87)는, 한 쌍의 금형(81, 82)의 내부 공간(83)에 삽입된다. 또, 도 3(a)에 나타내는 바와 같이, 제2 돌출부(88)와 제1 핀 부재(89)는, 일체적으로 구성되어 있다. 일체가 된 제2 돌출부(88) 및 제1 핀 부재(89)는, 종 방향(Y 방향)으로 이동 가능하고, 한 쌍의 금형(81, 82)의 내부 공간(83)에 삽입된다. 제1 핀 부재(89)의 선단부(89a)는, 제1 돌출부(87)의 제1 접속 볼록부(87a)에 접촉된다. The first pin member 89 is inserted in a direction extending substantially perpendicular to the second inner wall 86 so as to connect between the first protrusion 87 and the second protrusion 88. The first protrusion 87 is movable in the transverse direction (X direction). The first protrusion 87 is inserted into the inner space 83 of the pair of molds 81 and 82. Moreover, as shown in FIG. 3(a), the 2nd protrusion 88 and the 1st pin member 89 are comprised integrally. The integrated second protrusion 88 and the first pin member 89 are movable in the longitudinal direction (Y direction) and are inserted into the inner space 83 of the pair of molds 81 and 82. The tip portion 89a of the first pin member 89 is in contact with the first connection protrusion 87a of the first protrusion 87.

또한, 제2 돌출부(88) 및 제1 핀 부재(89)는, 일체적이 아니고, 개별적으로 이동하도록 구성되어 있어도 된다. In addition, the 2nd protrusion 88 and the 1st pin member 89 may not be integral, and may be comprised so that they may move individually.

〔단계 S02〕제2 핀 부재(90)를 삽입하는 공정 [Step S02] Step of inserting the second pin member 90

제1 돌출부(87)와 접속하도록, 직선형의 제2 핀 부재(90)를 내부 공간(83)에 삽입한다. 제2 핀 부재(90)는, 횡 방향(X 방향)으로 이동 가능하다. 제2 핀 부재(90)의 선단부(90a)는, 제1 돌출부(87)에 접촉된다. 제2 핀 부재(90)는, 제1 유로(33)를 형성하기 위한 것이다. The linear second pin member 90 is inserted into the inner space 83 so as to connect with the first protrusion 87. The second pin member 90 is movable in the transverse direction (X direction). The distal end 90a of the second pin member 90 comes into contact with the first protrusion 87. The second pin member 90 is for forming the first flow path 33.

〔단계 S03〕제3 핀 부재(91)를 삽입하는 공정 [Step S03] Step of inserting the third pin member 91

제2 돌출부(88)와 접속하도록, 직선형의 제3 핀 부재(91)를 내부 공간(83)에 삽입한다. 제3 핀 부재(91)는, 횡 방향(X 방향)으로 이동 가능하다. 제3 핀 부재(91)의 선단부(91a)는, 제2 돌출부(88)의 제2 접속 볼록부(88a)에 접촉된다. 제3 핀 부재(91)는, 제2 유로(35)를 형성하기 위한 것이다. The linear third pin member 91 is inserted into the inner space 83 so as to connect with the second protrusion 88. The 3rd pin member 91 is movable in the transverse direction (X direction). The distal end 91a of the third pin member 91 comes into contact with the second connection protrusion 88a of the second protrusion 88. The third pin member 91 is for forming the second flow path 35.

〔단계 S04〕수지를 흘려 넣는 공정 [Step S04] Process of pouring resin

제1 돌출부(87), 제2 돌출부(88), 제1 핀 부재(89), 제2 핀 부재(90) 및 제3 핀 부재(91)를 내부 공간(83)에 삽입한 후(즉 단계 S01~S03 후), 가열되어 녹은 수지(예를 들면 PFA)를 내부 공간(83)에 흘려 넣는다. 도시하지 않은 사출 성형기의 가열 실린더의 내부의 수지는, 가열됨으로써 녹여진다. 즉, 한 쌍의 금형(81, 82) 내에 흘려 넣어지는 수지는, 가열에 의해 유동화되는 수지이다. 그리고, 가열 실린더에 의해 한 쌍의 금형(81, 82)의 내부 공간(83)에 흘려 넣어진다. After inserting the first protrusion 87, the second protrusion 88, the first fin member 89, the second fin member 90 and the third fin member 91 into the inner space 83 (that is, step After S01 to S03), heated and melted resin (for example, PFA) is poured into the inner space 83. The resin inside the heating cylinder of an injection molding machine (not shown) is melted by heating. That is, the resin poured into the pair of molds 81 and 82 is a resin that is fluidized by heating. Then, it is poured into the inner space 83 of the pair of molds 81 and 82 by the heating cylinder.

〔단계 S05〕유로 블록(성형품)을 떼어내는 공정 [Step S05] Step of removing the euro block (molded product)

내부 공간(83)에 흘려 넣어진 수지가 냉각되어 굳어진 후, 한 쌍의 금형(81, 82) 내로부터 제1 돌출부(87), 제2 돌출부(88), 제1 핀 부재(89), 제2 핀 부재(90) 및 제3 핀 부재(91)를 뽑아낸다. 그 후, 단일 유로 블록(21)으로서 수지를 한 쌍의 금형(81, 82)으로부터 떼어낸다. 이 떼어냄은, 한 쌍의 금형(81, 82)이 상하 방향(도 3(b)의 Z 방향)으로 상대적으로 이동됨으로써 행해진다. 또한, 내부 공간(83)에 흘려 넣어진 수지가 한 쌍의 금형(81, 82)의 내벽(부호 85, 86 등), 제1 돌출부(87), 제2 돌출부(88), 제1 핀 부재(89), 제2 핀 부재(90) 및 제3 핀 부재(91)와 접하는 부분에 스킨층이 형성된다. After the resin poured into the inner space 83 is cooled and hardened, the first protrusion 87, the second protrusion 88, the first pin member 89, and the second protrusion are formed from the inside of the pair of molds 81 and 82. The 2 pin member 90 and the 3rd pin member 91 are pulled out. After that, the resin is removed from the pair of molds 81 and 82 as a single flow path block 21. This removal is performed by relatively moving the pair of molds 81 and 82 in the vertical direction (Z direction in Fig. 3B). In addition, the resin poured into the inner space 83 is the inner wall of the pair of molds 81 and 82 (reference numerals 85, 86, etc.), the first protrusion 87, the second protrusion 88, and the first pin member. (89), a skin layer is formed in a portion in contact with the second fin member 90 and the third fin member 91.

〔단계 S06〕니들 이동 기구 및 개폐용 밸브체 이동 기구를 부착하는 공정 [Step S06] Step of attaching a needle moving mechanism and an opening/closing valve element moving mechanism

한 쌍의 금형(81, 82)으로부터 떼어내진 유로 블록(21)에 대해, 도 2에 나타내는 개구부(49) 및 벨브좌(75)의 표면을 연마하기 위한 등의 처리가 행해진다. 그리고, 니들 이동 기구(23) 및 개폐용 밸브체 이동 기구(25) 그 외의 부품을 유로 블록(21)에 부착한다. The flow path block 21 removed from the pair of molds 81 and 82 is subjected to a treatment such as polishing the surface of the opening 49 and the valve seat 75 shown in FIG. 2. Then, the needle moving mechanism 23 and the valve body moving mechanism 25 for opening/closing and other components are attached to the flow path block 21.

또한, 후술하는 변형예 등의 유로 블록(21)의 구조에 따라서는, 한 쌍의 금형(81, 82), 제1 돌출부(87), 제2 돌출부(88) 등은, 다음과 같이 구성되어 있어도 된다. 예를 들면, 제1 돌출부(87)는, 금형(81)에 대해 이동하지 않고, 금형(81)의 제1 내벽(85)에 고정되어 있어도 된다. 마찬가지로, 제2 돌출부(88)는, 금형(82)에 대해 이동하지 않고 금형(82)의 제2 내벽(86)에 고정되어 있어도 된다. 또, 후술하는 도 4의 구성에 대응하여, 제2 내벽(86)은, 제1 내벽(85)과 대향하는 면이어도 된다. In addition, depending on the structure of the flow path block 21 such as a modification to be described later, the pair of molds 81 and 82, the first protrusion 87, the second protrusion 88, etc. are configured as follows. You may have it. For example, the first protrusion 87 may be fixed to the first inner wall 85 of the mold 81 without moving relative to the mold 81. Similarly, the second protrusion 88 may be fixed to the second inner wall 86 of the mold 82 without moving relative to the mold 82. Further, corresponding to the configuration of FIG. 4 described later, the second inner wall 86 may be a surface facing the first inner wall 85.

또한, 종래의 약액 제어 밸브(9)에 있어서, 도 7에 나타내는 V자 유로(205)는, 형성 후에, 유량 조정용 밸브실 및 개폐용 밸브실의 2방향으로부터 절삭함으로써 형성된다. 즉, 금형의 제약에 의해, 도 7에 나타내는 V자 유로(205)는 직선형으로 형성할 수 없었다. 또, 예를 들면, 유로 블록(21)이 PFA로 형성되는 경우, V자 유로(205) 부분에서 PFA의 스킨층을 깎아 버리기 때문에, 유로 블록(21)(PFA)의 내부에 약액이 스며들어 버릴 우려가 있다. 본 실시예에 관련된 약액 제어 밸브(9)의 제조 방법에 의하면, 절삭하지 않고 직선형의 중간 유로(31)를 형성할 수 있다. In addition, in the conventional chemical liquid control valve 9, the V-shaped flow path 205 shown in Fig. 7 is formed by cutting the flow rate adjustment valve chamber and the opening/closing valve chamber from two directions after formation. That is, due to the constraints of the mold, the V-shaped flow path 205 shown in FIG. 7 could not be formed in a straight line. In addition, for example, when the flow path block 21 is formed of PFA, since the skin layer of the PFA is cut off at the V-shaped flow path 205, the chemical liquid penetrates into the inside of the flow path block 21 (PFA). There is a risk of throwing it away. According to the manufacturing method of the chemical liquid control valve 9 according to the present embodiment, it is possible to form the linear intermediate flow path 31 without cutting.

<기판 처리 장치 및 약액 제어 밸브의 동작> <Operation of substrate processing device and chemical liquid control valve>

다음에, 기판 처리 장치(1) 및 약액 제어 밸브(9)의 동작에 대해서 설명한다. Next, the operation of the substrate processing apparatus 1 and the chemical liquid control valve 9 will be described.

도 1을 참조한다. 도시하지 않은 반송 기구는, 유지 회전부(3) 상에 기판(W)를 반송한다. 유지 회전부(3)는, 기판(W)의 이면을 흡착함으로써 기판(W)를 유지한다. 그 후, 유지 회전부(3)는, 유지한 기판(W)를 회전시킨다. 노즐(2)은, 도시하지 않은 이동 기구에 의해 기판(W)의 상방으로 이동되어 있다. 제어부(11)는, 약액 제어 밸브(9)를 조작함으로써, 기판(W) 상에 노즐(2)로부터 약액을 토출시킨다. See FIG. 1. A transport mechanism (not shown) transports the substrate W on the holding and rotating unit 3. The holding rotation unit 3 holds the substrate W by adsorbing the back surface of the substrate W. After that, the holding rotation unit 3 rotates the held substrate W. The nozzle 2 is moved above the substrate W by a moving mechanism (not shown). The control unit 11 causes the chemical liquid to be discharged from the nozzle 2 on the substrate W by operating the chemical liquid control valve 9.

도 2에 나타내는 약액 제어 밸브(9)에 있어서, 우선, 개폐용 밸브체 이동 기구(25)의 동작을 설명한다. 다이아프램(51)의 육후부(51a)는, 스프링(61)의 탄성력(복원력)에 의해, 개폐용 밸브실(29)의 개구부(73)의 주위에 설치된 벨브좌(75)에 눌러져 있다(도 2의 파선으로 나타낸 육후부(51a) 참조). 이 상태는, 개폐용 밸브실(29)로부터 제2 유로(35)에 약액을 유통시키지 않는 닫힘 상태이다. 닫힘 상태일 때, 노즐(2)로부터 약액이 토출되지 않는다. In the chemical liquid control valve 9 shown in FIG. 2, first, the operation of the opening/closing valve element moving mechanism 25 will be described. The rear portion 51a of the diaphragm 51 is pressed against the valve seat 75 provided around the opening 73 of the valve chamber 29 for opening/closing by the elastic force (restore force) of the spring 61 ( See the rear portion 51a indicated by the broken line in Fig. 2). This state is a closed state in which the chemical liquid is not circulated from the valve chamber 29 for opening/closing to the second flow path 35. In the closed state, the chemical liquid is not discharged from the nozzle 2.

삼방 밸브(71)를 조작함으로써, 기체 배관(67) 및 흡배기구(63)를 통하여, 기체 공급원(69)으로부터 하우징(53) 내에 있어서의 가동 칸막이 부재(59)와 격벽(57) 사이의 공간에 기체가 보내진다. 이것에 의해, 가동 칸막이 부재(59)가 스프링(61)의 탄성력에 반발하여 들어올려지고, 이것에 수반하여, 가동 부재(55) 및 다이아프램(51)의 육후부(51a)가 들어올려진다(도 2의 실선으로 나타난 육후부(51a) 참조). 이 상태는, 약액을 유통시키는 열림 상태이다. 열림 상태일 때, 노즐(2)로부터 약액이 토출된다. By operating the three-way valve 71, the space between the movable partition member 59 and the partition wall 57 in the housing 53 from the gas supply source 69 through the gas pipe 67 and the intake/exhaust port 63 Gas is sent to. As a result, the movable partition member 59 is lifted by repelling the elastic force of the spring 61, and accordingly, the movable member 55 and the rear portion 51a of the diaphragm 51 are lifted. (Refer to the rear part 51a shown by the solid line in FIG. 2). This state is an open state in which the chemical liquid is circulated. In the open state, the chemical liquid is discharged from the nozzle 2.

여기서, 열림 상태가 되었을 때의 약액의 흐름을 구체적으로 설명한다. 도 1에 나타내는 펌프(P)는, 약액 공급원(7)으로부터 약액 배관(8a)을 통해서 약액 제어 밸브(9)의 제1 유로(33)에 약액을 보낸다. 도 2에 나타내는 제1 유로(33)에 보내진 약액은, 니들(41)의 선단부(41a)와 개구부(49)의 간극을 통과하여, 유량 조정용 밸브실(27)에 보내진다. 그 후, 약액은, 중간 유로(31)를 통해서 유량 조정용 밸브실(27)로부터 개폐용 밸브실(29)에 보내진다. 또한, 중간 유로(31)는, 직선형으로 구성되어 있으므로, 도 7에 나타내는 V자 유로(205) 등에 비해 약액을 원활하게 보낼 수 있다. Here, the flow of the chemical liquid in the open state will be specifically described. The pump P shown in FIG. 1 sends a chemical liquid from the chemical liquid supply source 7 to the first flow path 33 of the chemical liquid control valve 9 through the chemical liquid pipe 8a. The chemical liquid sent to the first flow path 33 shown in FIG. 2 passes through the gap between the tip portion 41a of the needle 41 and the opening portion 49, and is sent to the valve chamber 27 for flow adjustment. After that, the chemical liquid is sent from the flow rate adjustment valve chamber 27 to the opening/closing valve chamber 29 through the intermediate flow path 31. In addition, since the intermediate flow path 31 is formed in a linear shape, it is possible to smoothly send the chemical liquid compared to the V-shaped flow path 205 or the like shown in FIG. 7.

그 후, 약액은, 벨브좌(75)의 개구부(73) 및 제2 유로(35)를 통해서 개폐용 밸브실(29)로부터 약액 배관(8b)에 보내진다. 약액 배관(8b)에 보내진 약액은, 노즐(2)에 보내지고, 노즐(2)로부터 약액이 토출된다. After that, the chemical liquid is sent from the opening/closing valve chamber 29 to the chemical liquid pipe 8b through the opening 73 of the valve seat 75 and the second flow path 35. The chemical liquid sent to the chemical liquid pipe 8b is sent to the nozzle 2, and the chemical liquid is discharged from the nozzle 2.

또, 니들 이동 기구(23)의 동작에 대해서 설명한다. 니들 이동 기구(23)는, 니들(41)의 선단부(41a)와 개구부(49)의 간극을 조정함으로써, 제1 유로(33) 그 외 유로 블록(21) 내의 약액의 유량을 조정한다. 니들(41)은, 전동 모터(45)의 회전 구동에 의해 이동된다. 변환 기구(47)는, 전동 모터(45)의 회전을 니들(41)의 직선 이동으로 변환한다. 니들(41)은, 횡 방향(X 방향)으로 이동된다. In addition, the operation of the needle movement mechanism 23 will be described. The needle movement mechanism 23 adjusts the flow rate of the chemical liquid in the first flow path 33 and the other flow path blocks 21 by adjusting the gap between the distal end 41a of the needle 41 and the opening 49. The needle 41 is moved by rotational drive of the electric motor 45. The conversion mechanism 47 converts the rotation of the electric motor 45 into linear movement of the needle 41. The needle 41 is moved in the transverse direction (X direction).

약액이 토출된 후, 제어부(11)는, 삼방 밸브(71)를 조작함으로써, 기체 공급원(69)으로부터의 기체의 공급을 정지함과 함께, 도 2에 나타내는 하우징(53) 내의 기체를, 흡배기구(63) 등을 통해서 배기한다. 이것에 의해, 스프링(61)의 탄성력에 의해 다이아프램(51)의 육후부(51a)가 눌러지고, 그리고, 육후부(51a)가 벨브좌(75)에 눌러진다(닫힘 상태). 닫힘 상태일 때, 노즐(2)로부터 약액이 토출되지 않는다. After the chemical liquid is discharged, the control unit 11 stops the supply of gas from the gas supply source 69 by operating the three-way valve 71, and intakes and exhausts the gas in the housing 53 shown in FIG. 2. It exhausts through a hole 63 or the like. As a result, the rear portion 51a of the diaphragm 51 is pressed by the elastic force of the spring 61, and the rear portion 51a is pressed against the valve seat 75 (closed state). In the closed state, the chemical liquid is not discharged from the nozzle 2.

노즐(2)로부터의 약액의 토출이 종료된 후, 노즐(2)은, 기판(W)의 상방으로부터 기판 밖으로 퇴피된다. 유지 회전부(3)는, 유지되는 기판(W)의 회전을 정지시키고, 그 후, 기판(W)의 유지를 해제한다. 도시하지 않은 반송 기구는, 유지 회전부(3) 상의 기판(W)를 다른 장치, 재치부 또는 캐리어 등에 이동시킨다. After the discharge of the chemical solution from the nozzle 2 is finished, the nozzle 2 is retracted from the upper side of the substrate W to the outside of the substrate. The holding rotation unit 3 stops the rotation of the held substrate W, and then releases the holding of the substrate W. A transport mechanism (not shown) moves the substrate W on the holding and rotating portion 3 to another device, a mounting portion, a carrier, or the like.

본 실시예에 의하면, 유로 블록(21)은, 제1 외벽(21a)과, 제1 외벽(21a)과 직각인 면인 제2 외벽(21b)을 가진다. 니들(41)이 배치되는 유량 조정용 밸브실(27)은, 유로 블록(21)의 제1 외벽(21a)이 패이도록 형성되어 있다. 한편, 다이아프램(51)이 배치되는 개폐용 밸브실(29)은, 제2 외벽(21b)이 패이도록 형성되어 있다. 중간 유로(31)는, 유량 조정용 밸브실(27)과 개폐용 밸브실(29)을 접속하는데, 중간 유로(31)는, 제2 외벽(21b)에 대해 직각으로 연장되어 있다. 이와 같은 구성에 의해, 중간 유로(31)를 직선형으로 형성할 수 있다. 그 때문에, V자 유로 등이 원인으로 약액이 악화될 우려가 있는 약액의 치환 특성을 향상시킬 수 있다. 또한, 치환 특성은, 새로운 약액이 제1 접속구(37)에 유입되어, 원래의 약액을 밀어내면서 제2 접속구(39)에 도달하는 시간으로 나타내어지는 특성이다. According to this embodiment, the flow path block 21 has a first outer wall 21a and a second outer wall 21b that is a surface perpendicular to the first outer wall 21a. The valve chamber 27 for flow adjustment in which the needle 41 is disposed is formed so that the first outer wall 21a of the flow path block 21 is recessed. On the other hand, the valve chamber 29 for opening and closing in which the diaphragm 51 is disposed is formed so that the second outer wall 21b is recessed. The intermediate flow path 31 connects the valve chamber 27 for flow adjustment and the valve chamber 29 for opening/closing, and the intermediate flow path 31 extends at a right angle with respect to the second outer wall 21b. With such a configuration, the intermediate flow path 31 can be formed in a straight line. Therefore, it is possible to improve the substitution characteristics of the chemical liquid in which the chemical liquid may deteriorate due to the V-shaped flow path or the like. In addition, the substitution characteristic is a characteristic expressed by the time when a new chemical liquid flows into the first connection port 37 and reaches the second connection port 39 while pushing out the original chemical liquid.

또, 제1 유로(33) 및 제2 유로(35)는 각각, 직선형이며, 중간 유로(31)에 대해 직각으로 연장되어 있다. 한 쌍의 금형(81, 82)에 수지를 흘려 넣어 유로 블록(21)을 형성할 때에, 중간 유로(31)를 형성하기 위해 한 쌍의 금형(81, 82) 내에 삽입하는 제1 핀 부재(89)와 제1 유로(33) 및 제2 유로(35)를 형성하기 위해 한 쌍의 금형(81, 82) 내에 삽입하는 제2 핀 부재(90) 및 제3 핀 부재(91)의 각각을 직각으로 배치할 수 있다. 그 때문에, 제1 핀 부재(89)와, 제2 핀 부재(90) 및 제3 핀 부재(91)의 각각이 비스듬하게 배치되는(직각이 아닌) 경우에 비해, 중간 유로(31), 제1 유로(33) 및 제2 유로(35)를 용이하게 형성할 수 있다. In addition, the first flow path 33 and the second flow path 35 are each linear and extend at right angles to the intermediate flow path 31. When forming the flow path block 21 by pouring resin into the pair of molds 81 and 82, a first pin member inserted into the pair of molds 81 and 82 to form the intermediate flow path 31 ( 89), each of the second pin member 90 and the third pin member 91 inserted into the pair of molds 81 and 82 to form the first flow path 33 and the second flow path 35 Can be placed at right angles. Therefore, compared to the case in which each of the first pin member 89, the second pin member 90, and the third pin member 91 is disposed at an angle (not at a right angle), the intermediate flow path 31 The first flow path 33 and the second flow path 35 can be easily formed.

또, 제1 유로(33)는, 제2 유로(35)와 평행이다. 제1 유로(33)에 있어서의 유량 조정용 밸브실(27)과 접속하는 부분과 반대측의 제1 접속구(37)는, 제2 유로(35)에 있어서의 개폐용 밸브실(29)과 접속하는 부분과 반대측의 제2 접속구(39)와 동일한 방향을 향하여 개구하고 있다. 한 쌍의 금형(81, 82)에 수지를 흘려 넣어 유로 블록(21)을 형성할 때에, 제1 유로(33) 및 제2 유로(35)를 형성하기 위해 한 쌍의 금형(81, 82) 내에 삽입하는 제2 핀 부재(90) 및 제3 핀 부재(91)를 동일한 방향으로 이동시킬 수 있다. 그 때문에, 제2 핀 부재(90)이 금형 내에 삽입되는 방향이 제3 핀 부재(91)의 방향과 상이한 경우에 비해, 제1 유로(33) 및 제2 유로(35)를 용이하게 형성할 수 있다. In addition, the first flow path 33 is parallel to the second flow path 35. The first connection port 37 on the opposite side of the portion connected to the flow rate adjustment valve chamber 27 in the first flow path 33 is connected to the opening/closing valve chamber 29 in the second flow path 35. It opens toward the same direction as the second connector 39 on the opposite side of the part. When forming the flow path block 21 by pouring resin into the pair of molds 81 and 82, a pair of molds 81 and 82 to form the first flow path 33 and the second flow path 35 The second pin member 90 and the third pin member 91 to be inserted into the inside may be moved in the same direction. Therefore, compared to the case where the direction in which the second pin member 90 is inserted into the mold is different from the direction of the third pin member 91, the first flow path 33 and the second flow path 35 can be easily formed. I can.

본 발명은, 상기 실시 형태에 한정되는 것은 없으며, 하기와 같이 변형 실시할 수 있다. The present invention is not limited to the above embodiment, and can be modified as follows.

(1) 상술한 실시예에서는, 개폐용 밸브실(29)이 설치된 제2 외벽(21b)은, 유량 조정용 밸브실(27)이 설치된 제1 외벽(21a)과 직각인 면이었다. 이 점, 도 4와 같이, 제2 외벽(21b)은, 제1 외벽(21a)과 대향함과 함께 제1 외벽(21a)과 거의 평행한 면이어도 된다. 즉, 제2 외벽(면)(21b)은, 유로 블록(21)을 사이에 두고 제1 외벽(면)(21a)의 반대측에 설치된다. 또, 제2 외벽(21b)은, 제1 외벽(21a)에 대해 거의 평행이다. (1) In the above-described embodiment, the second outer wall 21b provided with the valve chamber 29 for opening and closing was a surface perpendicular to the first outer wall 21a provided with the valve chamber 27 for adjusting the flow rate. At this point, as shown in FIG. 4, the second outer wall 21b may be a surface substantially parallel to the first outer wall 21a while facing the first outer wall 21a. That is, the second outer wall (surface) 21b is provided on the opposite side of the first outer wall (surface) 21a with the flow path block 21 interposed therebetween. Moreover, the 2nd outer wall 21b is substantially parallel with the 1st outer wall 21a.

유량 조정용 밸브실(27)은, 유로 블록(21)의 제1 외벽(21a)의 일부가 패이도록 형성되어 있다. 개폐용 밸브실(29)은, 유로 블록(21)의 제2 외벽(21b)의 일부가 패이도록 형성되어 있다. 도 4와 같이, 유량 조정용 밸브실(27)은, 개폐용 밸브실(29)과 대향하도록 배치되어 있다. The valve chamber 27 for flow rate adjustment is formed so that a part of the 1st outer wall 21a of the flow path block 21 may be recessed. The opening/closing valve chamber 29 is formed so that a part of the second outer wall 21b of the flow path block 21 is recessed. As shown in FIG. 4, the valve chamber 27 for flow adjustment is disposed so as to face the valve chamber 29 for opening/closing.

직선형의 중간 유로(31)는, 개폐용 밸브실(29)과 유량 조정용 밸브실(27)과 접속시키도록 형성되어 있다. 또, 중간 유로(31)는, 제1 외벽(21a) 및 제2 외벽(21b)에 대해 직각으로 연장되어 있다. 제1 유로(33) 및 제2 유로(35)는, 각각, 중간 유로(31)에 대해 직각으로 연장되어 있다. 제1 유로(33)는, 유량 조정용 밸브실(27)에 접속되어 있다. 한편, 제2 유로(35)는, 개폐용 밸브실(29)에 접속되어 있다. The linear intermediate flow path 31 is formed so as to be connected to the valve chamber 29 for opening/closing and the valve chamber 27 for adjusting the flow rate. Further, the intermediate flow path 31 extends at a right angle to the first outer wall 21a and the second outer wall 21b. The first flow path 33 and the second flow path 35 extend at right angles to the intermediate flow path 31, respectively. The first flow path 33 is connected to the valve chamber 27 for flow rate adjustment. On the other hand, the second flow path 35 is connected to the valve chamber 29 for opening/closing.

도 4에 나타내는 다이아프램(51)은, 종 방향(Y 방향)으로 이동한다. 그리고, 본 변형예의 니들(41)도, 종 방향으로 이동한다. 니들(41)의 선단부(41a)는, 유량 조정용 밸브실(27)과 중간 유로(31)의 접속 부분의 개구부(49)에 통과된다. The diaphragm 51 shown in FIG. 4 moves in the longitudinal direction (Y direction). And the needle 41 of this modification also moves in the longitudinal direction. The tip portion 41a of the needle 41 passes through the opening portion 49 of the connection portion between the flow rate adjustment valve chamber 27 and the intermediate flow path 31.

본 변형예에 의하면, 유로 블록(21)은, 제1 외벽(21a)과, 제1 외벽(21a)과 대향함과 함께 제1 외벽(21a)과 평행한 면인 제2 외벽(21b)을 가진다. 니들(41)이 배치되는 유량 조정용 밸브실(27)은, 유로 블록(21)의 제1 외벽(21a)이 패이도록 형성되어 있다. 한편, 다이아프램(51)이 배치되는 개폐용 밸브실(29)은, 제2 외벽(21b)이 패이도록 형성되어 있다. 중간 유로(31)는, 유량 조정용 밸브실(27)과 개폐용 밸브실(29)을 접속하는데, 중간 유로(31)는, 제1 외벽(21a) 및 제2 외벽(21b)에 대해 직각으로 연장되어 있다. 이와 같은 구성에 의해, 중간 유로(31)를 직선형으로 형성할 수 있다. 그 때문에, V자 유로 등이 원인으로 약액이 악화될 우려가 있는 약액의 치환 특성을 향상시킬 수 있다. According to this modified example, the flow path block 21 has a first outer wall 21a and a second outer wall 21b that is a surface parallel to the first outer wall 21a while facing the first outer wall 21a. . The valve chamber 27 for flow adjustment in which the needle 41 is disposed is formed so that the first outer wall 21a of the flow path block 21 is recessed. On the other hand, the valve chamber 29 for opening and closing in which the diaphragm 51 is disposed is formed so that the second outer wall 21b is recessed. The intermediate flow path 31 connects the valve chamber 27 for flow adjustment and the valve chamber 29 for opening/closing, and the intermediate flow path 31 is at a right angle to the first outer wall 21a and the second outer wall 21b. It is extended. With such a configuration, the intermediate flow path 31 can be formed in a straight line. Therefore, it is possible to improve the substitution characteristics of the chemical liquid in which the chemical liquid may deteriorate due to the V-shaped flow path or the like.

(2) 상술한 실시예에서는, 중간 유로(31)는, 예를 들면 도 2와 같이, 개폐용 밸브실(29)이 설치된 제2 외벽(21b)에 거의 직각으로 연장되도록 형성되고 있었다. 이 점, 중간 유로(31)는, 도 5(a)와 같이, 유량 조정용 밸브실(27)이 설치된 제1 외벽(21a)에 거의 직각으로 연장되도록 형성되어도 된다. (2) In the above-described embodiment, the intermediate flow path 31 is formed to extend substantially at a right angle to the second outer wall 21b in which the valve chamber 29 for opening and closing is provided, as shown in Fig. 2, for example. At this point, the intermediate flow path 31 may be formed to extend substantially at a right angle to the first outer wall 21a in which the valve chamber 27 for flow rate adjustment is provided, as shown in Fig. 5A.

(3) 상술한 실시예 및 변형예(1)에서는, 도 2 및 도 4와 같이, 개폐용 밸브실(29)의 저부의 개구부(73)는, 제2 유로(35)에 접속되어 있었다. 이 점, 도 5(b)와 같이, 개폐용 밸브실(29)의 저부의 개구부(73)는, 중간 유로(31)에 접속되어 있어도 된다. (3) In the above-described embodiment and modification (1), as shown in FIGS. 2 and 4, the opening 73 of the bottom of the valve chamber 29 for opening/closing was connected to the second flow path 35. At this point, as shown in FIG. 5B, the opening 73 of the bottom of the valve chamber 29 for opening/closing may be connected to the intermediate flow path 31.

(4) 상술한 실시예 및 각 변형예에서는, 도 2 및 도 4와 같이, 유량 조정용 밸브실(27)의 저부의 개구부(49)에는, 니들(41)의 이동 방향으로 연장되는 중간 유로(31) 또는 제1 유로(33)가 접속되어 있었다. 이 점, 도 5(b)와 같이, 유량 조정용 밸브실(27)의 저부의 개구부(49)에는, 제3 연장 유로(40c)를 통하여, 니들(41)의 이동 방향과 직교하는 방향으로 연장되는 중간 유로(31)(또는 제1 유로(33))가 접속되어도 된다. 제3 연장 유로(40c)는, 개구부(49)로부터 니들(41)의 이동 방향으로 연장되어, 중간 유로(31)와 접속되어 있다. (4) In the above-described embodiment and each modification, as shown in FIGS. 2 and 4, in the opening 49 of the bottom of the valve chamber 27 for flow adjustment, an intermediate flow path extending in the moving direction of the needle 41 ( 31) Or the first flow path 33 was connected. At this point, as shown in Fig. 5(b), the opening 49 at the bottom of the flow rate adjustment valve chamber 27 extends in a direction orthogonal to the movement direction of the needle 41 through the third extension flow path 40c. The intermediate flow path 31 (or the first flow path 33) may be connected. The third extension flow path 40c extends in the moving direction of the needle 41 from the opening 49 and is connected to the intermediate flow path 31.

또한, 도 5(a), 도 5(b) 및 후술하는 도 6(a), 도 6(b)에 있어서, 니들 이동 기구(23) 및 개폐용 밸브체 이동 기구(25)는 간략화하여 나타내고 있다. In addition, in Figs. 5(a), 5(b) and Figs. 6(a) and 6(b) to be described later, the needle moving mechanism 23 and the opening/closing valve body moving mechanism 25 are simplified and shown. have.

(5) 상술한 실시예 및 각 변형예에서는, 니들 이동 기구(23)는, 전동 모터(45)와 변환 기구(47)를 구비하고, 전동 모터(45)가 출력하는 회전을 변환 기구(47)에 의해, 니들(41)의 직선 이동으로 변환하도록 구성하고 있었다. 그러나, 이것에 한정되는 것은 아니다. 전동 모터(45) 대신에 작업자가 수동으로 움직이는 핸들이나 손잡이를 설치하여, 핸들이나 손잡이의 회전을 니들(41)의 직선 이동으로 변환하도록 구성해도 된다. (5) In the above-described embodiment and each modification, the needle moving mechanism 23 includes the electric motor 45 and the conversion mechanism 47, and converts the rotation output from the electric motor 45 to the conversion mechanism 47 ), the needle 41 was configured to be converted into linear movement. However, it is not limited to this. Instead of the electric motor 45, a handle or a handle that is manually moved by an operator may be provided, and the rotation of the handle or handle may be converted into a linear movement of the needle 41.

(6) 상술한 실시예 및 각 변형예에서는, 예를 들면 도 2 및 도 4와 같이, 제1 유로(33)의 일단의 제1 접속구(37)는, 제2 유로(35)의 일단의 제2 접속구(39)와 동일한 방향을 향하고 있었다. 즉, 제1 접속구(37) 및 제2 접속구(39)는 모두, 도 2 및 도 4에 있어서, 우측 방향으로 개구하고 있었다. 이 점, 도 6(a) 및 도 6(b)와 같이, 제1 접속구(37)는, 제2 접속구(39)와 역방향으로 개구해도 된다. 즉, 도 6(a) 및 도 6(b)에 있어서, 제1 접속구(37)는, 좌측 방향으로 개구하고, 제2 접속구(39)는, 우측 방향으로 개구한다. (6) In the above-described embodiment and each modification, for example, as shown in FIGS. 2 and 4, the first connection port 37 at one end of the first flow path 33 is at one end of the second flow path 35. It was facing the same direction as the second connector 39. In other words, both the first connector 37 and the second connector 39 were open in the right direction in FIGS. 2 and 4. In this respect, as shown in FIGS. 6A and 6B, the first connector 37 may be opened in a direction opposite to the second connector 39. That is, in FIGS. 6A and 6B, the first connector 37 opens to the left, and the second connector 39 opens to the right.

또한, 도 6(a) 및 도 6(b)에 있어서, 제1 접속구(37)는, 제2 접속구(39)와 역방향, 즉, 제2 접속구(39)에 대해 중간 유로(31) 둘레로 180도 반대를 향하여 개구하고 있다. 이 점, 제1 접속구(37)는, 제2 접속구(39)에 대해, 중간 유로(31) 둘레로 예를 들면 90°을 향하여(즉 0도 및 180도를 제외한 방향으로) 개구해도 된다. 6(a) and 6(b), the first connector 37 is in the opposite direction to the second connector 39, that is, around the intermediate flow path 31 with respect to the second connector 39. It is opening 180 degrees opposite. At this point, the first connection port 37 may be opened with respect to the second connection port 39 around the intermediate flow path 31 toward, for example, 90° (that is, in a direction excluding 0° and 180°).

(7) 상술한 실시예 및 각 변형예에서는, 개폐용 밸브체 이동 기구(25)는, 기체에 의해 다이아프램(51)을 구동시키고 있었다. 이 점, 개폐용 밸브체 이동 기구(25)는, 니들 이동 기구(23)과 마찬가지로, 전동 모터에 의해 다이아프램(51)을 구동시켜도 된다. 전동 모터에 의한 회전은, 변환 기구에 의해 직선 이동으로 변환된다. 이것에 의해, 다이아프램(51)의 육후부(51a)를 벨브좌(75)에 누르거나, 육후부(51a)를 벨브좌(75)로부터 떼어 놓는다. (7) In the above-described embodiment and each modification, the opening/closing valve element moving mechanism 25 drives the diaphragm 51 by gas. In this respect, the valve element moving mechanism 25 for opening/closing may drive the diaphragm 51 by an electric motor similarly to the needle moving mechanism 23. The rotation by the electric motor is converted into linear movement by a conversion mechanism. Thereby, the rear part 51a of the diaphragm 51 is pressed against the valve seat 75, or the rear part 51a is separated from the valve seat 75.

1 기판 처리 장치 2 노즐
3 유지 회전부 8a, 8b 약액 배관
9 약액 제어 밸브 11 제어부
21 단일 유로 블록 21a 제1 외벽
21b 제2 외벽 23 니들 이동 기구
25 개폐용 밸브체 이동 기구 27 유량 조정용 밸브실
29 개폐용 밸브실 31 중간 유로
33 제1 유로 35 제2 유로
37 제1 접속구 39 제2 접속구
41 니들 51 다이아프램
1 substrate processing unit 2 nozzles
3 Holding rotating part 8a, 8b chemical liquid piping
9 Chemical liquid control valve 11 Control unit
21 single flow path block 21a first outer wall
21b 2nd outer wall 23 Needle movement mechanism
25 Valve element movement mechanism for opening and closing 27 Valve chamber for flow adjustment
29 Valve chamber for opening and closing 31 Intermediate flow path
33 Euro 1st 35 Euro 2nd
37 First connection port 39 Second connection port
41 needle 51 diaphragm

Claims (7)

제1 외벽 및, 상기 제1 외벽과 직각인 면인 제2 외벽을 가지는 단일 유로 블록과,
상기 제1 외벽이 패이도록 형성된 유량 조정용 밸브실과,
상기 제2 외벽이 패이도록 형성된 개폐용 밸브실과,
상기 유로 블록의 내부에 형성된 직선형의 중간 유로이며, 상기 유량 조정용 밸브실과 상기 개폐용 밸브실 사이를 접속시켜, 상기 제1 외벽 및 상기 제2 외벽 중 어느 한 쪽에 대해 직각으로 연장되는 상기 중간 유로와,
상기 유로 블록의 내부에 형성되며, 상기 유량 조정용 밸브실과 접속하는 제1 유로와,
상기 유로 블록의 내부에 형성되며, 상기 개폐용 밸브실과 접속하는 제2 유로와,
상기 유량 조정용 밸브실 내에 배치된 니들을 가지며, 상기 유량 조정용 밸브실을 막음과 함께, 약액의 유량을 조정하기 위해 상기 니들을 이동시키는 니들 이동 기구와,
상기 개폐용 밸브실 내에 배치된 개폐용 밸브체를 가지며, 상기 개폐용 밸브실을 막음과 함께, 약액의 공급 및 그 공급의 정지를 행하기 위해 상기 개폐용 밸브체를 이동시키는 개폐용 밸브체 이동 기구를 구비하고 있는 것을 특징으로 하는 약액 제어 밸브.
A single flow path block having a first outer wall and a second outer wall that is a surface perpendicular to the first outer wall,
A valve chamber for adjusting flow rate formed so that the first outer wall is recessed,
An opening/closing valve chamber formed such that the second outer wall is recessed,
The intermediate flow path formed in the inside of the flow path block, the intermediate flow path extending at a right angle to one of the first outer wall and the second outer wall by connecting between the flow rate adjustment valve chamber and the opening/closing valve chamber ,
A first flow path formed inside the flow path block and connected to the flow rate adjustment valve chamber,
A second flow path formed inside the flow path block and connected to the opening/closing valve chamber,
A needle movement mechanism having a needle disposed in the flow rate adjustment valve chamber, and blocking the flow rate adjustment valve chamber, and moving the needle to adjust the flow rate of the chemical liquid;
The valve body for opening and closing has a valve body for opening/closing disposed in the valve chamber for opening/closing, and moving the valve member for opening/closing to block the valve chamber for opening/closing and to stop supplying and stopping the supply of the chemical solution. A chemical liquid control valve comprising a mechanism.
제1 외벽 및, 상기 제1 외벽과 대향함과 함께 상기 제1 외벽과 평행한 면인 제2 외벽을 가지는 단일 유로 블록과,
상기 제1 외벽이 패이도록 형성된 유량 조정용 밸브실과,
상기 제2 외벽이 패이도록 형성된 개폐용 밸브실과,
상기 유로 블록의 내부에 형성된 직선형의 중간 유로이며, 상기 유량 조정용 밸브실과 상기 개폐용 밸브실 사이를 접속시켜, 상기 제1 외벽 및 상기 제2 외벽에 대해 직각으로 연장되는 상기 중간 유로와,
상기 유로 블록의 내부에 형성되며, 상기 유량 조정용 밸브실과 접속하는 제1 유로와,
상기 유로 블록의 내부에 형성되며, 상기 개폐용 밸브실과 접속하는 제2 유로와,
상기 유량 조정용 밸브실 내에 배치된 니들을 가지며, 상기 유량 조정용 밸브실을 막음과 함께, 약액의 유량을 조정하기 위해 상기 니들을 이동시키는 니들 이동 기구와,
상기 개폐용 밸브실 내에 배치된 개폐용 밸브체를 가지며, 상기 개폐용 밸브실을 막음과 함께, 약액의 공급 및 그 공급의 정지를 행하기 위해 상기 개폐용 밸브체를 이동시키는 개폐용 밸브체 이동 기구를 구비하고 있는 것을 특징으로 하는 약액 제어 밸브.
A single flow path block having a first outer wall and a second outer wall that faces the first outer wall and is a surface parallel to the first outer wall,
A valve chamber for adjusting flow rate formed so that the first outer wall is recessed,
An opening/closing valve chamber formed such that the second outer wall is recessed,
The intermediate flow path formed in the interior of the flow path block, the intermediate flow path extending at a right angle to the first outer wall and the second outer wall by connecting between the flow rate adjustment valve chamber and the opening/closing valve chamber,
A first flow path formed inside the flow path block and connected to the flow rate adjustment valve chamber,
A second flow path formed inside the flow path block and connected to the opening/closing valve chamber,
A needle movement mechanism having a needle disposed in the flow rate adjustment valve chamber, and blocking the flow rate adjustment valve chamber, and moving the needle to adjust the flow rate of the chemical liquid;
The valve body for opening and closing has a valve body for opening/closing disposed in the valve chamber for opening/closing, and moving the valve member for opening/closing to block the valve chamber for opening/closing and to stop supplying and stopping the supply of the chemical solution. A chemical liquid control valve comprising a mechanism.
청구항 1 또는 청구항 2에 있어서,
상기 제1 유로 및 상기 제2 유로는 각각, 직선형이며, 상기 중간 유로에 대해 직각으로 연장되는 것을 특징으로 하는 약액 제어 밸브.
The method according to claim 1 or 2,
The first flow passage and the second flow passage are each linear and extend at a right angle to the intermediate flow passage.
청구항 1 또는 청구항 2에 있어서,
상기 제1 유로는, 상기 제2 유로와 평행하며,
상기 제1 유로에 있어서의 상기 유량 조정용 밸브실과 접속하는 부분과 반대측의 제1 접속구는, 상기 제2 유로에 있어서의 상기 개폐용 밸브실과 접속하는 부분과 반대측의 제2 접속구와 동일한 방향을 향해 개구하고 있는 것을 특징으로 하는 약액 제어 밸브.
The method according to claim 1 or 2,
The first flow path is parallel to the second flow path,
The first connection port on the opposite side to the portion connected to the flow rate adjustment valve chamber in the first flow path is opened toward the same direction as the second connection port on the opposite side to the portion connected to the opening/closing valve chamber in the second flow channel. Chemical liquid control valve, characterized in that.
청구항 1 또는 청구항 2에 있어서,
상기 유로 블록은, PFA로 형성되어 있는 것을 특징으로 하는 약액 제어 밸브.
The method according to claim 1 or 2,
The flow path block is a chemical liquid control valve, characterized in that formed of PFA.
기판을 유지하고, 유지한 기판을 회전시키는 유지 회전부와,
상기 유지 회전부에 유지된 기판에 대해 약액을 토출하는 노즐과,
상기 노즐에 접속된 약액 배관과,
상기 노즐로부터 토출되는 약액의 유량을 조정하고, 또한 상기 노즐로부터 약액을 토출시키고, 약액 토출을 정지시키는 약액 제어 밸브를 구비하고,
상기 약액 제어 밸브는, 제1 외벽 및, 상기 제1 외벽과 직각인 면인 제2 외벽을 가지는 단일 유로 블록과,
상기 제1 외벽이 패이도록 형성된 유량 조정용 밸브실과,
상기 제2 외벽이 패이도록 형성된 개폐용 밸브실과,
상기 유로 블록의 내부에 형성된 직선형의 중간 유로이며, 상기 유량 조정용 밸브실과 상기 개폐용 밸브실 사이를 접속시켜, 상기 제1 외벽 및 상기 제2 외벽 중 어느 한 쪽에 대해 직각으로 연장되는 상기 중간 유로와,
상기 유로 블록의 내부에 형성되며, 상기 유량 조정용 밸브실과 접속하는 제1 유로와,
상기 유로 블록의 내부에 형성된 제2 유로이며, 상기 개폐용 밸브실과 접속함과 함께, 상기 약액 배관을 통하여 상기 노즐에 접속되는 상기 제2 유로와,
상기 유량 조정용 밸브실 내에 배치된 니들을 가지며, 상기 유량 조정용 밸브실을 막음과 함께, 약액의 유량을 조정하기 위해 상기 니들을 이동시키는 니들 이동 기구와,
상기 개폐용 밸브실 내에 배치된 개폐용 밸브체를 가지며, 상기 개폐용 밸브실을 막음과 함께, 약액의 공급 및 그 공급의 정지를 행하기 위해 상기 개폐용 밸브체를 이동시키는 개폐용 밸브체 이동 기구를 구비하고 있는 것을 특징으로 하는 기판 처리 장치.
A holding rotation unit that holds the substrate and rotates the held substrate,
A nozzle for discharging a chemical solution to the substrate held in the holding rotation unit,
A chemical liquid pipe connected to the nozzle,
And a chemical liquid control valve for adjusting the flow rate of the chemical liquid discharged from the nozzle, discharging the chemical liquid from the nozzle, and stopping the discharge of the chemical liquid,
The chemical liquid control valve includes a single flow path block having a first outer wall and a second outer wall that is a surface perpendicular to the first outer wall,
A valve chamber for adjusting flow rate formed so that the first outer wall is recessed,
An opening/closing valve chamber formed such that the second outer wall is recessed,
The intermediate flow path formed in the inside of the flow path block, the intermediate flow path extending at a right angle to one of the first outer wall and the second outer wall by connecting between the flow rate adjustment valve chamber and the opening/closing valve chamber ,
A first flow path formed inside the flow path block and connected to the flow rate adjustment valve chamber,
A second flow path formed inside the flow path block, the second flow path connected to the nozzle through the chemical liquid pipe together with a connection box with the valve chamber for opening and closing,
A needle movement mechanism having a needle disposed in the flow rate adjustment valve chamber, and blocking the flow rate adjustment valve chamber, and moving the needle to adjust the flow rate of the chemical liquid;
The valve body for opening and closing has a valve body for opening/closing disposed in the valve chamber for opening/closing, and moving the valve member for opening/closing to block the valve chamber for opening/closing and to stop supplying and stopping the supply of the chemical solution. A substrate processing apparatus comprising a mechanism.
기판을 유지하고, 유지한 기판을 회전시키는 유지 회전부와,
상기 유지 회전부에 유지된 기판에 대해 약액을 토출하는 노즐과,
상기 노즐에 접속된 약액 배관과,
상기 노즐로부터 토출되는 약액의 유량을 조정하고, 또한 상기 노즐로부터 약액을 토출시키고, 약액 토출을 정지시키는 약액 제어 밸브를 구비하고,
상기 약액 제어 밸브는, 제1 외벽 및, 상기 제1 외벽과 대향함과 함께 상기 제1 외벽과 평행한 면인 제2 외벽을 가지는 단일 유로 블록과,
상기 제1 외벽이 패이도록 형성된 유량 조정용 밸브실과,
상기 제2 외벽이 패이도록 형성된 개폐용 밸브실과,
상기 유로 블록의 내부에 형성된 직선형의 중간 유로이며, 상기 유량 조정용 밸브실과 상기 개폐용 밸브실 사이를 접속시켜, 상기 제1 외벽 및 상기 제2 외벽에 대해 직각으로 연장되는 상기 중간 유로와,
상기 유로 블록의 내부에 형성되며, 상기 유량 조정용 밸브실과 접속하는 제1 유로와,
상기 유로 블록의 내부에 형성된 제2 유로이며, 상기 개폐용 밸브실과 접속함과 함께, 상기 약액 배관을 통하여 상기 노즐에 접속되는 상기 제2 유로와,
상기 유량 조정용 밸브실 내에 배치된 니들을 가지며, 상기 유량 조정용 밸브실을 막음과 함께, 약액의 유량을 조정하기 위해 상기 니들을 이동시키는 니들 이동 기구와,
상기 개폐용 밸브실 내에 배치된 개폐용 밸브체를 가지며, 상기 개폐용 밸브실을 막음과 함께, 약액의 공급 및 그 공급의 정지를 행하기 위해 상기 개폐용 밸브체를 이동시키는 개폐용 밸브체 이동 기구를 구비하고 있는 것을 특징으로 하는 기판 처리 장치.
A holding rotation unit that holds the substrate and rotates the held substrate,
A nozzle for discharging a chemical solution to the substrate held in the holding rotation unit,
A chemical liquid pipe connected to the nozzle,
And a chemical liquid control valve for adjusting the flow rate of the chemical liquid discharged from the nozzle, discharging the chemical liquid from the nozzle, and stopping the discharge of the chemical liquid,
The chemical liquid control valve includes a single flow path block having a first outer wall and a second outer wall that faces the first outer wall and is a surface parallel to the first outer wall,
A valve chamber for adjusting flow rate formed so that the first outer wall is recessed,
A valve chamber for opening/closing formed such that the second outer wall is recessed,
The intermediate flow path formed in the interior of the flow path block, the intermediate flow path extending at a right angle to the first outer wall and the second outer wall by connecting between the flow rate adjustment valve chamber and the opening/closing valve chamber,
A first flow path formed inside the flow path block and connected to the flow rate adjustment valve chamber,
A second flow path formed inside the flow path block, the second flow path connected to the nozzle through the chemical liquid pipe together with a connection box with the valve chamber for opening and closing,
A needle movement mechanism having a needle disposed in the flow rate adjustment valve chamber, and blocking the flow rate adjustment valve chamber, and moving the needle to adjust the flow rate of the chemical liquid;
The valve body for opening and closing has a valve body for opening/closing disposed in the valve chamber for opening/closing, and moving the valve member for opening/closing to block the valve chamber for opening/closing and to stop supplying and stopping the supply of the chemical solution. A substrate processing apparatus comprising a mechanism.
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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR101660115B1 (en) 2010-05-18 2016-09-26 시케이디 가부시키가이샤 Chemical liquid circuit apparatus
JP2017207121A (en) * 2016-05-18 2017-11-24 Ckd株式会社 Flow passage block, fluid control device, and method for producing flow passage block

Family Cites Families (13)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0442913Y2 (en) * 1984-11-30 1992-10-12
JP4319322B2 (en) * 2000-03-22 2009-08-26 シーケーディ株式会社 Method for assembling flow regulating valve and flow regulating valve assembled by the assembling method
JP2007058352A (en) * 2005-08-22 2007-03-08 Asahi Organic Chem Ind Co Ltd Fluid controller
JP2007058339A (en) * 2005-08-22 2007-03-08 Asahi Organic Chem Ind Co Ltd Fluid control device
KR20100012792U (en) * 2010-01-22 2010-12-24 홍성정공(주) Pressure Compensated Flow Control Valve
JP6196538B2 (en) 2013-11-14 2017-09-13 旭化成株式会社 Cover material for press-through pack packaging body, manufacturing method thereof, and packaging body
JP2015114966A (en) * 2013-12-13 2015-06-22 アドバンス電気工業株式会社 Flow control valve and flow controller using the same
JP6238798B2 (en) * 2014-03-10 2017-11-29 旭有機材株式会社 Flow regulating valve and fluid control apparatus including the same
JP6512426B2 (en) * 2015-01-15 2019-05-15 株式会社Screenホールディングス Substrate processing equipment
JP6512894B2 (en) * 2015-03-27 2019-05-15 株式会社Screenホールディングス Treatment liquid supply apparatus and control method of treatment liquid supply apparatus
JP6576217B2 (en) * 2015-11-10 2019-09-18 株式会社Screenホールディングス Treatment liquid supply apparatus and control method of treatment liquid supply apparatus
KR101821863B1 (en) * 2015-11-19 2018-01-25 서문원 Hydraulic pressure buffer solenoid valve and method for operating the solenoid valve
JP6588819B2 (en) * 2015-12-24 2019-10-09 株式会社Screenホールディングス Substrate processing apparatus and substrate processing method

Patent Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR101660115B1 (en) 2010-05-18 2016-09-26 시케이디 가부시키가이샤 Chemical liquid circuit apparatus
JP2017207121A (en) * 2016-05-18 2017-11-24 Ckd株式会社 Flow passage block, fluid control device, and method for producing flow passage block

Also Published As

Publication number Publication date
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