KR20190106707A - Chemical liquid control valve and substrate processing apparatus - Google Patents

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KR20190106707A KR1020190022511A KR20190022511A KR20190106707A KR 20190106707 A KR20190106707 A KR 20190106707A KR 1020190022511 A KR1020190022511 A KR 1020190022511A KR 20190022511 A KR20190022511 A KR 20190022511A KR 20190106707 A KR20190106707 A KR 20190106707A
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마사히토 가시야마
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Abstract

The present invention provides a chemical liquid control valve and a substrate processing apparatus which can improve substitution properties of chemical liquid. A flow passage block (21) includes a first outer wall (21a) and a second outer wall (21b) which is a surface perpendicular to the first outer wall (21a). A valve chamber (27) for flow control, on which a needle (41) is arranged, is formed to allow the first outer wall (21a) of the flow passage block (21) to cave in. An opening/closing valve chamber (29), on which a diaphragm (51) is arranged, is formed to allow the second outer water (21b) to cave in. A middle flow passage (31) is connected to the valve chamber (27) for flow control and the opening/closing valve chamber (29). The middle flow passage (31) is extended at a right angle with respect to any one among the first and the second outer wall (21a, 21b). Accordingly, the middle flow passage (31) can be formed in a straight line shape. Therefore, substitution properties of chemical liquid with concern for deteriorating chemical liquid due to a V-shaped flow passage or the like can be improved.

Description

약액 제어 밸브 및 기판 처리 장치{CHEMICAL LIQUID CONTROL VALVE AND SUBSTRATE PROCESSING APPARATUS}CHEMICAL LIQUID CONTROL VALVE AND SUBSTRATE PROCESSING APPARATUS}

본 발명은, 반도체 기판, 액정 표시 장치나 유기 EL(electroluminescence) 표시 장치 등의 FPD(Flat Panel Display)용의 기판, 포토마스크용 유리 기판, 광디스크용 기판, 자기 디스크용 기판, 세라믹 기판, 태양 전지용 기판 등의 기판에 대해 공급되는 약액을 제어하기 위한 약액 제어 밸브 및 이것을 구비한 기판 처리 장치에 관한 것이다. BACKGROUND OF THE INVENTION Field of the Invention The present invention relates to a substrate for a flat panel display (FPD) such as a semiconductor substrate, a liquid crystal display device or an organic electroluminescence (EL) display device, a glass substrate for a photomask, a substrate for an optical disk, a substrate for a magnetic disk, a ceramic substrate, a solar cell A chemical liquid control valve for controlling a chemical liquid supplied to a substrate such as a substrate and a substrate processing apparatus having the same.

종래의 약액 제어 밸브(201)는, 도 7에 나타내는 바와 같이, 유량 조정 밸브(202)와 개폐 밸브(ON·OFF 밸브)(203)를 구비하고 있다(예를 들면, 특허 문헌 1, 2 참조). 유량 조정 밸브(202)는, 공급하는 약액의 유량을 조정한다. 한편, 개폐 밸브(203)는, 약액을 공급시키고, 또, 약액의 공급을 정지시킨다. 유량 조정 밸브(202)와 개폐 밸브(203) 사이는, V자 유로(205) 또는 특허 문헌 2에 기재된 원호형 유로(이하, 「V자 유로(205) 등」이라고 부른다)로 접속되어 있다. 그 때문에, 유량 조정 밸브(202)로부터 보내진 약액은, V자 유로(205) 등을 통과하여 개폐 밸브(203)에 보내진다. The conventional chemical liquid control valve 201 is provided with the flow control valve 202 and the on-off valve (ON / OFF valve) 203, as shown in FIG. 7 (for example, refer patent document 1, 2). ). The flow rate adjustment valve 202 adjusts the flow volume of the chemical liquid to supply. On the other hand, the open / close valve 203 supplies the chemical liquid and stops the supply of the chemical liquid. The flow regulating valve 202 and the opening / closing valve 203 are connected by a V-shaped flow path 205 or an arc-shaped flow path described in Patent Document 2 (hereinafter referred to as "V-shaped flow path 205"). Therefore, the chemical liquid sent from the flow regulating valve 202 is sent to the on-off valve 203 through the V-shaped flow path 205 or the like.

일본국 특허공개 2001-263507호 공보Japanese Patent Publication No. 2001-263507 일본국 특허공개 2017-207121호 공보Japanese Patent Publication No. 2017-207121

이와 같은 종래의 약액 제어 밸브(201)에는 다음과 같은 문제가 있다. 상기 서술한 바와 같이, 유량 조정 밸브(202)로부터 보내진 약액은, V자 유로(205) 등을 통과하여 개폐 밸브(203)에 보내진다. V자 유로(205) 등에 약액을 통과시키면, 약액 제어 밸브(201)의 입구에서 출구까지의 약액의 치환 특성을 나쁘게 할 우려가 있다. 만일, 약액의 치환 특성이 나쁘면, 머물고 있는 오래된 약액에 기인하여 액체 중에 티끌이 생길 우려가 있다. 그 때문에, 약액 제어 밸브(201)에 있어서의 약액의 치환 특성을 향상시키는 것이 바람직하다. The conventional chemical liquid control valve 201 has the following problems. As described above, the chemical liquid sent from the flow regulating valve 202 passes through the V-shaped flow path 205 or the like and is sent to the on-off valve 203. If the chemical liquid passes through the V-shaped flow path 205 or the like, there is a concern that the substitution characteristics of the chemical liquid from the inlet to the outlet of the chemical liquid control valve 201 will be deteriorated. If the substitution characteristics of the chemical solution are bad, there is a fear that dust may occur in the liquid due to the old chemical solution staying there. Therefore, it is preferable to improve the substitution characteristic of the chemical liquid in the chemical liquid control valve 201.

본 발명은, 이와 같은 사정을 감안하여 이루어진 것이며, 약액의 치환 특성을 향상시킬 수 있는 약액 제어 밸브 및 이것을 구비한 기판 처리 장치를 제공하는 것을 목적으로 한다. This invention is made | formed in view of such a situation, and an object of this invention is to provide the chemical liquid control valve which can improve the substitution characteristic of chemical liquid, and the substrate processing apparatus provided with this.

본 발명은, 이와 같은 목적을 달성하기 위해, 다음과 같은 구성을 취한다. 즉, 본 발명에 관련된 약액 제어 밸브는, 제1 외벽 및, 상기 제1 외벽과 직각인 면인 제2 외벽을 가지는 단일 유로 블록과, 상기 제1 외벽이 패이도록 형성된 유량 조정용 밸브실과, 상기 제2 외벽이 패이도록 형성된 개폐용 밸브실과, 상기 유로 블록의 내부에 형성된 직선형의 중간 유로이며, 상기 유량 조정용 밸브실과 상기 개폐용 밸브실 사이를 접속시켜, 상기 제1 외벽 및 상기 제2 외벽 중 어느 한 쪽에 대해 직각으로 연장되는 상기 중간 유로와, 상기 유로 블록의 내부에 형성되며, 상기 유량 조정용 밸브실과 접속하는 제1 유로와, 상기 유로 블록의 내부에 형성되며, 상기 개폐용 밸브실과 접속하는 제2 유로와, 상기 유량 조정용 밸브실 내에 배치된 니들을 가지며, 상기 유량 조정용 밸브실을 막음과 함께, 약액의 유량을 조정하기 위해 상기 니들을 이동시키는 니들 이동 기구와, 상기 개폐용 밸브실 내에 배치된 개폐용 밸브체를 가지며, 상기 개폐용 밸브실을 막음과 함께, 약액의 공급 및 그 공급의 정지를 행하기 위해 상기 개폐용 밸브체를 이동시키는 개폐용 밸브체 이동 기구를 구비하고 있는 것을 특징으로 하는 것이다. MEANS TO SOLVE THE PROBLEM This invention takes the following structures, in order to achieve such an objective. That is, the chemical liquid control valve according to the present invention includes a single flow path block having a first outer wall and a second outer wall that is a surface perpendicular to the first outer wall, a valve chamber for adjusting the flow rate so that the first outer wall is dug, and the second It is an opening / closing valve chamber formed so that an outer wall may be dug, and the linear intermediate | middle flow path formed in the said flow path block, and it connects between the said flow regulating valve chamber and the said opening / closing valve chamber, and is any one of a said 1st outer wall and a said 2nd outer wall. The intermediate passage extending at right angles to the side, the first passage formed inside the passage block and connected to the valve chamber for flow rate adjustment, and the second passage formed inside the passage block and connected to the opening / closing valve chamber. The needle has a flow path and a needle disposed in the flow regulating valve chamber, and closes the flow regulating valve chamber while adjusting the flow rate of the chemical liquid. And a needle moving mechanism for moving, an opening and closing valve body disposed in the opening and closing valve chamber, and closing the opening and closing valve chamber and supplying the chemical liquid and stopping the supply. It is characterized by including the opening and closing valve body moving mechanism for moving.

본 발명에 관련된 약액 제어 밸브에 의하면, 유로 블록은, 제1 외벽과, 제1 외벽과 직각인 면인 제2 외벽을 가진다. 니들이 배치되는 유량 조정용 밸브실은, 유로 블록의 제1 외벽이 패이도록 형성되어 있다. 한편, 개폐용 밸브체가 배치되는 개폐용 밸브실은, 제2 외벽이 패이도록 형성되어 있다. 중간 유로는, 유량 조정용 밸브실과 개폐용 밸브실을 접속하는데, 중간 유로는, 제1 외벽 및 제2 외벽 중 어느 한 쪽에 대해 직각으로 연장되어 있다. 이와 같은 구성에 의해, 중간 유로를 직선형으로 형성할 수 있다. 그 때문에, V자 유로 등이 원인으로 약액이 악화될 우려가 있는 약액의 치환 특성을 향상시킬 수 있다. According to the chemical liquid control valve according to the present invention, the flow path block has a first outer wall and a second outer wall that is a surface perpendicular to the first outer wall. The flow rate adjustment valve chamber in which the needle is disposed is formed so that the first outer wall of the flow path block is dug. On the other hand, the opening / closing valve chamber in which the opening / closing valve body is arrange | positioned is formed so that a 2nd outer wall may be dug. The intermediate flow passage connects the flow rate adjusting valve chamber and the opening / closing valve chamber, and the intermediate flow passage extends at right angles to either one of the first outer wall and the second outer wall. With such a configuration, the intermediate flow path can be formed linearly. Therefore, the substitution characteristic of the chemical liquid which may deteriorate due to a V-shaped flow path etc. can be improved.

또, 본 발명에 관련된 약액 제어 밸브는, 제1 외벽 및, 상기 제1 외벽과 대향함과 함께 상기 제1 외벽과 평행한 면인 제2 외벽을 가지는 단일 유로 블록과, 상기 제1 외벽이 패이도록 형성된 유량 조정용 밸브실과, 상기 제2 외벽이 패이도록 형성된 개폐용 밸브실과, 상기 유로 블록의 내부에 형성된 직선형의 중간 유로이며, 상기 유량 조정용 밸브실과 상기 개폐용 밸브실 사이를 접속시켜, 상기 제1 외벽 및 상기 제2 외벽에 대해 직각으로 연장되는 상기 중간 유로와, 상기 유로 블록의 내부에 형성되며, 상기 유량 조정용 밸브실과 접속하는 제1 유로와, 상기 유로 블록의 내부에 형성되며, 상기 개폐용 밸브실과 접속하는 제2 유로와, 상기 유량 조정용 밸브실 내에 배치된 니들을 가지며, 상기 유량 조정용 밸브실을 막음과 함께, 약액의 유량을 조정하기 위해 상기 니들을 이동시키는 니들 이동 기구와, 상기 개폐용 밸브실 내에 배치된 개폐용 밸브체를 가지며, 상기 개폐용 밸브실을 막음과 함께, 약액의 공급 및 그 공급의 정지를 행하기 위해 상기 개폐용 밸브체를 이동시키는 개폐용 밸브체 이동 기구를 구비하고 있는 것을 특징으로 하는 것이다. Further, the chemical liquid control valve according to the present invention includes a single flow path block having a first outer wall, a second outer wall facing the first outer wall and parallel to the first outer wall, and the first outer wall to be dug. The flow rate adjustment valve chamber, the opening / closing valve chamber formed such that the second outer wall is dug, and a straight intermediate flow path formed inside the flow path block, are connected between the flow control valve chamber and the opening / closing valve chamber, The intermediate flow path extending at right angles to the outer wall and the second outer wall, the first flow path formed in the flow path block, the first flow path connected to the valve chamber for adjusting the flow rate, and the inside flow path block. And a second flow path connected to the valve chamber, and a needle disposed in the flow regulating valve chamber to close the flow regulating valve chamber and to adjust the flow rate of the chemical liquid. The needle movement mechanism which moves the said needle, and the opening-closing valve body arrange | positioned in the said opening-closing valve chamber, blocking the said opening-closing valve chamber, the said opening-closing to stop supply of a chemical liquid, and its supply is stopped. It is characterized by including the opening and closing valve body moving mechanism for moving the valve body for.

본 발명에 관련된 약액 제어 밸브에 의하면, 유로 블록은, 제1 외벽과, 제1 외벽과 대향함과 함께 상기 제1 외벽과 평행한 면인 제2 외벽을 가진다. 니들이 배치되는 유량 조정용 밸브실은, 유로 블록의 제1 외벽이 패이도록 형성되어 있다. 한편, 개폐용 밸브체가 배치되는 개폐용 밸브실은, 제2 외벽이 패이도록 형성되어 있다. 중간 유로는, 유량 조정용 밸브실과 개폐용 밸브실을 접속하는데, 중간 유로는, 제1 외벽 및 제2 외벽에 대해 직각으로 연장되어 있다. 이와 같은 구성에 의해, 중간 유로를 직선형으로 형성할 수 있다. 그 때문에, V자 유로 등이 원인으로 약액이 악화될 우려가 있는 약액의 치환 특성을 향상시킬 수 있다. According to the chemical liquid control valve according to the present invention, the flow path block has a first outer wall and a second outer wall that faces the first outer wall and is parallel to the first outer wall. The flow rate adjustment valve chamber in which the needle is disposed is formed so that the first outer wall of the flow path block is dug. On the other hand, the opening / closing valve chamber in which the opening / closing valve body is arrange | positioned is formed so that a 2nd outer wall may be dug. The intermediate flow passage connects the flow rate adjusting valve chamber and the opening and closing valve chamber, and the intermediate flow passage extends at right angles to the first outer wall and the second outer wall. With such a configuration, the intermediate flow path can be formed linearly. Therefore, the substitution characteristic of the chemical liquid which may deteriorate due to a V-shaped flow path etc. can be improved.

또, 상술한 약액 제어 밸브에 있어서, 상기 제1 유로 및 상기 제2 유로는 각각, 직선형이며, 상기 중간 유로에 대해 직각으로 연장되는 것이 바람직하다. 금형에 재료를 흘려 넣어 유로 블록을 형성할 때에, 중간 유로를 형성하기 위해 금형 내에 삽입하는 제1 핀 부재와, 제1 유로 및 제2 유로를 형성하기 위해 금형 내에 삽입하는 제2 핀 부재 및 제3 핀 부재의 각각을 직각으로 배치할 수 있다. 그 때문에, 제1 핀 부재와, 제2 핀 부재 및 제3 핀 부재의 각각이 비스듬하게 배치되는(직각이 아닌) 경우에 비해, 중간 유로, 제1 유로 및 제2 유로를 용이하게 형성할 수 있다. Moreover, in the above-mentioned chemical liquid control valve, it is preferable that the said 1st flow path and the said 2nd flow path are respectively linear, and extend perpendicularly to the said intermediate flow path. The first fin member to be inserted into the mold to form the intermediate flow path, and the second fin member to be inserted into the mold to form the first flow path and the second flow path when the flow path is formed by pouring the material into the mold. Each of the 3 pin members can be disposed at a right angle. Therefore, compared with the case where each of the 1st fin member, the 2nd fin member, and the 3rd fin member is obliquely arranged (not perpendicular), the intermediate | middle flow path, a 1st flow path, and a 2nd flow path can be formed easily. have.

또, 상술한 약액 제어 밸브에 있어서, 상기 제1 유로는, 상기 제2 유로와 평행하며, 상기 제1 유로에 있어서의 상기 유량 조정용 밸브실과 접속하는 부분과 반대측의 제1 접속구는, 상기 제2 유로에 있어서의 상기 개폐용 밸브실과 접속하는 부분과 반대측의 제2 접속구와 동일한 방향을 향하여 개구하고 있는 것이 바람직하다. 금형에 재료를 흘려 넣어 유로 블록을 형성할 때에, 제1 유로 및 제2 유로를 형성하기 위해 금형 내에 삽입하는 제2 핀 부재 및 제3 핀 부재를 동일한 방향으로 이동시킬 수 있다. 그 때문에, 제2 핀 부재가 금형 내에 삽입되는 방향이 제3 핀 부재의 방향과 상이한 경우에 비해, 제1 유로 및 제2 유로를 용이하게 형성할 수 있다. Moreover, in the above-mentioned chemical liquid control valve, the said 1st flow path is parallel to the said 2nd flow path, and the 1st connection port on the opposite side to the part connected to the said flow volume adjusting valve chamber in the said 1st flow path is a said 2nd It is preferable to open toward the same direction as the 2nd connection port on the opposite side to the part connected with the said opening-closing valve chamber in a flow path. When the material flows into the mold to form the flow path block, the second pin member and the third pin member inserted into the mold can be moved in the same direction to form the first flow path and the second flow path. Therefore, compared with the case where the direction in which a 2nd pin member is inserted in a metal mold | die is different from the direction of a 3rd pin member, a 1st flow path and a 2nd flow path can be formed easily.

또, 상술한 약액 제어 밸브에 있어서, 상기 유로 블록은, PFA로 형성되어 있는 것이 바람직하다. 유로 블록이 PFA로 형성되면, 유로 블록의 표면이 그 내부보다 단단한 층(막)인 스킨층으로 덮인다. 유로 블록의 내부에 약액이 스며들어 버리면, 결과적으로, 유로 블록의 내부로부터 티끌을 끌어내 버릴 우려가 있다. 그러나, 스킨층이 약액의 스며드는 것을 방지하므로, 약액의 청정도를 악화시킬 우려를 억제할 수 있다. Moreover, in the above-mentioned chemical liquid control valve, it is preferable that the said flow path block is formed with PFA. When the flow path block is formed of PFA, the surface of the flow path block is covered with a skin layer which is a harder layer (film) than the inside thereof. If chemical liquid penetrates into the flow path block, consequently, there is a fear that dust is drawn out from the flow path block. However, since the skin layer is prevented from infiltrating the chemical liquid, the possibility of deteriorating the cleanliness of the chemical liquid can be suppressed.

또, 본 발명에 관련된 기판 처리 장치는, 기판을 유지하고, 유지한 기판을 회전시키는 유지 회전부와, 상기 유지 회전부에 유지된 기판에 대해 약액을 토출하는 노즐과, 상기 노즐에 접속된 약액 배관과, 상기 노즐로부터 토출되는 약액의 유량을 조정하고, 또한 상기 노즐로부터 약액을 토출시키고, 약액 토출을 정지시키는 약액 제어 밸브를 구비하고, 상기 약액 제어 밸브는, 제1 외벽 및, 상기 제1 외벽과 직각인 면인 제2 외벽을 가지는 단일 유로 블록과, 상기 제1 외벽이 패이도록 형성된 유량 조정용 밸브실과, 상기 제2 외벽이 패이도록 형성된 개폐용 밸브실과, 상기 유로 블록의 내부에 형성된 직선형의 중간 유로이며, 상기 유량 조정용 밸브실과 상기 개폐용 밸브실 사이를 접속시켜, 상기 제1 외벽 및 상기 제2 외벽 중 어느 한 쪽에 대해 직각으로 연장되는 상기 중간 유로와, 상기 유로 블록의 내부에 형성되며, 상기 유량 조정용 밸브실과 접속하는 제1 유로와, 상기 유로 블록의 내부에 형성된 제2 유로이며, 상기 개폐용 밸브실과 접속함과 함께, 상기 약액 배관을 통하여 상기 노즐에 접속되는 상기 제2 유로와, 상기 유량 조정용 밸브실 내에 배치된 니들을 가지며, 상기 유량 조정용 밸브실을 막음과 함께, 약액의 유량을 조정하기 위해 상기 니들을 이동시키는 니들 이동 기구와, 상기 개폐용 밸브실 내에 배치된 개폐용 밸브체를 가지며, 상기 개폐용 밸브실을 막음과 함께, 약액의 공급 및 그 공급의 정지를 행하기 위해 상기 개폐용 밸브체를 이동시키는 개폐용 밸브체 이동 기구를 구비하고 있는 것 특징으로 하는 것이다. Moreover, the substrate processing apparatus which concerns on this invention is a holding | maintenance rotating part which hold | maintains a board | substrate, and rotates the hold | maintained board | substrate, the nozzle which discharges chemical | medical solution with respect to the board | substrate held by the said holding | maintenance rotating part, And a chemical liquid control valve for adjusting a flow rate of the chemical liquid discharged from the nozzle, discharging the chemical liquid from the nozzle, and stopping the chemical liquid discharge. The chemical liquid control valve includes a first outer wall and the first outer wall; A single flow path block having a second outer wall which is a right angled surface, a flow rate adjusting valve chamber formed so that the first outer wall is dug, an opening and closing valve chamber formed so that the second outer wall is dug, and a straight intermediate flow path formed inside the flow path block. The flow rate adjustment valve chamber and the opening / closing valve chamber are connected to each other at right angles to either of the first outer wall and the second outer wall. The intermediate flow path is formed, the first flow path formed inside the flow path block and connected to the valve chamber for flow rate adjustment, and the second flow path formed inside the flow path block. The second flow path connected to the nozzle through the chemical liquid pipe, and a needle disposed in the flow regulating valve chamber, the needle is arranged to block the flow regulating valve chamber and to move the needle to adjust the flow rate of the chemical liquid. It has a needle moving mechanism and the opening-closing valve body arrange | positioned in the said opening-closing valve chamber, The said opening-closing valve chamber is blocked, and the said opening-closing valve body is moved so that supply of a chemical liquid and a stop of the supply may be carried out. It is characterized by including the opening and closing valve body moving mechanism.

본 발명에 관련된 기판 처리 장치에 의하면, 약액 제어 밸브를 구비하고 있다. 약액 제어 밸브에 있어서, 유로 블록은, 제1 외벽과, 제1 외벽과 직각인 면인 제2 외벽을 가진다. 니들이 배치되는 유량 조정용 밸브실은, 유로 블록의 제1 외벽이 패이도록 형성되어 있다. 한편, 개폐용 밸브체가 배치되는 개폐용 밸브실은, 제2 외벽이 패이도록 형성되어 있다. 중간 유로는, 유량 조정용 밸브실과 개폐용 밸브실을 접속하는데, 중간 유로는, 제1 외벽 및 제2 외벽 중 어느 한 쪽에 대해 직각으로 연장되어 있다. 이와 같은 구성에 의해, 중간 유로를 직선형으로 형성할 수 있다. 그 때문에, V자 유로 등이 원인으로 약액이 악화될 우려가 있는 약액의 치환 특성을 향상시킬 수 있다. According to the substrate processing apparatus which concerns on this invention, the chemical liquid control valve is provided. In the chemical liquid control valve, the flow path block has a first outer wall and a second outer wall which is a surface perpendicular to the first outer wall. The flow rate adjustment valve chamber in which the needle is disposed is formed so that the first outer wall of the flow path block is dug. On the other hand, the opening / closing valve chamber in which the opening / closing valve body is arrange | positioned is formed so that a 2nd outer wall may be dug. The intermediate flow passage connects the flow rate adjusting valve chamber and the opening / closing valve chamber, and the intermediate flow passage extends at right angles to either one of the first outer wall and the second outer wall. With such a configuration, the intermediate flow path can be formed linearly. Therefore, the substitution characteristic of the chemical liquid which may deteriorate due to a V-shaped flow path etc. can be improved.

또, 본 발명에 관련된 기판 처리 장치는, 기판을 유지하고, 유지한 기판을 회전시키는 유지 회전부와, 상기 유지 회전부에 유지된 기판에 대해 약액을 토출하는 노즐과, 상기 노즐에 접속된 약액 배관과, 상기 노즐로부터 토출되는 약액의 유량을 조정하고, 또한 상기 노즐로부터 약액을 토출시키고, 약액 토출을 정지시키는 약액 제어 밸브를 구비하고, 상기 약액 제어 밸브는, 제1 외벽 및, 상기 제1 외벽과 대향함과 함께 상기 제1 외벽과 평행한 면인 제2 외벽을 가지는 단일 유로 블록과, 상기 제1 외벽이 패이도록 형성된 유량 조정용 밸브실과, 상기 제2 외벽이 패이도록 형성된 개폐용 밸브실과, 상기 유로 블록의 내부에 형성된 직선형의 중간 유로이며, 상기 유량 조정용 밸브실과 상기 개폐용 밸브실 사이를 접속시켜, 상기 제1 외벽 및 상기 제2 외벽에 대해 직각으로 연장되는 상기 중간 유로와, 상기 유로 블록의 내부에 형성되며, 상기 유량 조정용 밸브실과 접속하는 제1 유로와, 상기 유로 블록의 내부에 형성된 제2 유로이며, 상기 개폐용 밸브실과 접속함과 함께, 상기 약액 배관을 통하여 상기 노즐에 접속되는 상기 제2 유로와, 상기 유량 조정용 밸브실 내에 배치된 니들을 가지며, 상기 유량 조정용 밸브실을 막음과 함께, 약액의 유량을 조정하기 위해 상기 니들을 이동시키는 니들 이동 기구와, 상기 개폐용 밸브실 내에 배치된 개폐용 밸브체를 가지며, 상기 개폐용 밸브실을 막음과 함께, 약액의 공급 및 그 공급의 정지를 행하기 위해 상기 개폐용 밸브체를 이동시키는 개폐용 밸브체 이동 기구를 구비하고 있는 것을 특징으로 하는 것이다. Moreover, the substrate processing apparatus which concerns on this invention is a holding | maintenance rotating part which hold | maintains a board | substrate, and rotates the hold | maintained board | substrate, the nozzle which discharges chemical | medical solution with respect to the board | substrate held by the said holding | maintenance rotating part, And a chemical liquid control valve for adjusting a flow rate of the chemical liquid discharged from the nozzle, discharging the chemical liquid from the nozzle, and stopping the chemical liquid discharge. The chemical liquid control valve includes a first outer wall and the first outer wall; A single flow path block having a second outer wall facing and parallel to the first outer wall, a flow rate adjusting valve chamber formed so that the first outer wall is dug, an opening and closing valve chamber formed so that the second outer wall is dug, and the flow path It is a straight intermediate flow path formed in the inside of a block, and connects the said flow regulating valve chamber and the opening / closing valve chamber, and the said 1st outer wall and said 2nd outer wall The intermediate flow passage extending at right angles to the flow passage, the first flow passage formed inside the flow passage block, the first flow passage connected with the flow rate adjusting valve chamber, and the second flow passage formed inside the flow passage block, and connected to the opening and closing valve chamber. Together with the second flow path connected to the nozzle through the chemical liquid pipe, and a needle disposed in the flow regulating valve chamber, blocking the flow regulating valve chamber and adjusting the flow rate of the chemical liquid. And a needle moving mechanism for moving the valve, and an opening and closing valve body disposed in the opening and closing valve chamber. The opening and closing valve body is configured to block the opening and closing valve chamber, and to supply the chemical liquid and stop the supply thereof. It is characterized in that it is provided with an opening and closing valve body moving mechanism for moving the.

본 발명에 관련된 기판 처리 장치에 의하면, 약액 제어 밸브를 구비하고 있다. 약액 제어 밸브에 있어서, 유로 블록은, 제1 외벽과, 제1 외벽과 대향함과 함께 상기 제1 외벽과 평행한 면인 제2 외벽을 가진다. 니들이 배치되는 유량 조정용 밸브실은, 유로 블록의 제1 외벽이 패이도록 형성되어 있다. 한편, 개폐용 밸브체가 배치되는 개폐용 밸브실은, 제2 외벽이 패이도록 형성되어 있다. 중간 유로는, 유량 조정용 밸브실과 개폐용 밸브실을 접속하는데, 중간 유로는, 제1 외벽 및 제2 외벽에 대해 직각으로 연장되어 있다. 이와 같은 구성에 의해, 중간 유로를 직선형으로 형성할 수 있다. 그 때문에, V자 유로 등이 원인으로 약액이 악화될 우려가 있는 약액의 치환 특성을 향상시킬 수 있다. According to the substrate processing apparatus which concerns on this invention, the chemical liquid control valve is provided. The chemical liquid control valve WHEREIN: A flow path block has a 1st outer wall, and the 2nd outer wall which is a surface parallel to the said 1st outer wall, facing the 1st outer wall. The flow rate adjustment valve chamber in which the needle is disposed is formed so that the first outer wall of the flow path block is dug. On the other hand, the opening / closing valve chamber in which the opening / closing valve body is arrange | positioned is formed so that a 2nd outer wall may be dug. The intermediate flow passage connects the flow rate adjusting valve chamber and the opening and closing valve chamber, and the intermediate flow passage extends at right angles to the first outer wall and the second outer wall. With such a configuration, the intermediate flow path can be formed linearly. Therefore, the substitution characteristic of the chemical liquid which may deteriorate due to a V-shaped flow path etc. can be improved.

또한, 본 명세서는, 다음과 같은 약액 제어 밸브의 제조 방법에 관련된 발명도 개시하고 있다. Moreover, this specification also discloses the invention regarding the manufacturing method of the following chemical liquid control valves.

(1) 본 발명에 관련된 약액 제어 밸브의 제조 방법은, 제1 내벽 및, 상기 제1 내벽과 직각인 면인 제2 내벽을 내부 공간에 가지는 한 쌍의 금형이며, 유량 조정용 밸브실을 형성하기 위해 상기 제1 내벽에 설치된 제1 돌출부와, 개폐용 밸브실을 형성하기 위해 상기 제2 내벽에 설치된 제2 돌출부와, 상기 제1 돌출부와 상기 제2 돌출부를 접속시킴과 함께, 상기 제1 내벽 및 제2 내벽 중 어느 한 쪽에 대해 직각으로 연장되는 방향으로 삽입된 직선형의 제1 핀 부재를 가지는 상기 한 쌍의 금형을 준비하는 공정과, 상기 제1 돌출부와 접속하도록, 직선형의 제2 핀 부재를 상기 내부 공간에 삽입하는 공정과, 상기 제2 돌출부와 접속하도록, 직선형의 제3 핀 부재를 상기 내부 공간에 삽입하는 공정과, 상기 제2 핀 부재 및 상기 제3 핀 부재를 상기 내부 공간에 삽입한 후, 가열되어 녹은 수지를 상기 내부 공간에 흘려 넣는 공정과, 상기 내부 공간에 흘려 넣어진 수지가 냉각되어 굳어진 후, 단일 유로 블록이 되는 수지를 한 쌍의 금형으로부터 떼어내는 공정을 구비하고 있는 것을 특징으로 하는 것이다. (1) The manufacturing method of the chemical liquid control valve which concerns on this invention is a pair of metal mold | die which has a 1st inner wall and the 2nd inner wall which is a surface orthogonal to the said 1st inner wall in an inner space, and forms the valve chamber for flow adjustment The first inner wall and the first protrusion provided on the first inner wall, the second protrusion provided on the second inner wall to form the opening / closing valve chamber, the first protrusion and the second protrusion, and the first inner wall and The process of preparing the said pair of metal mold | die which has a linear 1st pin member inserted in the direction extended at right angles with respect to any one of a 2nd inner wall, The linear 2nd pin member was made to connect with the said 1st protrusion part. Inserting into the inner space, inserting a straight third pin member into the inner space so as to be connected to the second protrusion, inserting the second fin member and the third pin member into the inner space One And a step of flowing the heated and melted resin into the internal space, and a step of removing the resin, which becomes a single flow path block, from the pair of molds after the resin poured into the internal space is cooled and hardened. It is characterized by.

본 발명에 관련된 약액 제어 밸브의 제조 방법에 의하면, 한 쌍의 금형은, 제1 내벽 및, 제1 내벽과 직각인 면인 제2 내벽을 내부 공간에 가진다. 한 쌍의 금형은, 유량 조정용 밸브실을 형성하기 위해 제1 내벽에 설치된 제1 돌출부와, 개폐용 밸브실을 형성하기 위해 제2 내벽에 설치된 제2 돌출부와, 제1 돌출부와 상기 제2 돌출부를 접속시킴과 함께, 제1 내벽 및 제2 내벽 중 어느 한 쪽에 대해 직각으로 연장되는 방향으로 삽입된 직선형의 제1 핀 부재를 가진다. 이와 같은 구조로 유로 블록을 형성함으로써, 중간 유로를 직선형으로 형성할 수 있다. 그 때문에, V자 유로 등이 원인으로 약액이 악화될 우려가 있는 약액의 치환 특성을 향상시킬 수 있다. 또한, 종래의 약액 제어 밸브에 있어서, V자 유로는, 형성 후에, 유량 조정용 밸브실 및 개폐용 밸브실의 2방향으로부터 절삭함으로써 형성된다. 본 발명에 의하면, 절삭하지 않고 직선형의 중간 유로(31)를 형성할 수 있다. According to the manufacturing method of the chemical | medical solution control valve which concerns on this invention, a pair of metal mold | die has a 1st inner wall and the 2nd inner wall which is a surface orthogonal to a 1st inner wall in an inner space. The pair of molds includes a first protrusion provided on the first inner wall to form a valve chamber for adjusting the flow rate, a second protrusion provided on the second inner wall to form an opening and closing valve chamber, a first protrusion and the second protrusion. And a straight first pin member inserted in a direction extending at right angles to either of the first inner wall and the second inner wall. By forming the flow path block in such a structure, the intermediate flow path can be formed in a straight line. Therefore, the substitution characteristic of the chemical liquid which may deteriorate due to a V-shaped flow path etc. can be improved. In addition, in the conventional chemical liquid control valve, the V-shaped flow path is formed by cutting from two directions of the flow rate adjusting valve chamber and the opening / closing valve chamber after formation. According to the present invention, a straight intermediate flow passage 31 can be formed without cutting.

본 발명에 관련된 약액 제어 밸브 및 이것을 구비한 기판 처리 장치에 의하면, 약액의 치환 특성을 향상시킬 수 있다.According to the chemical | medical agent control valve which concerns on this invention, and the substrate processing apparatus provided with this, the substitution characteristic of chemical liquid can be improved.

도 1은 실시예에 관련된 기판 처리 장치의 개략 구성도이다.
도 2는 실시예에 관련된 약액 제어 밸브의 개략 구성도이다.
도 3의 (a)는, XY 방향에 있어서의 한 쌍의 금형의 횡단면도이며, (b)는, XZ 방향에 있어서의 한 쌍의 금형의 종단면도이다.
도 4는 변형예에 관련된 약액 제어 밸브의 개략 구성도이다.
도 5의 (a), (b)는, 변형예에 관련된 약액 제어 밸브의 개략 구성도이다.
도 6의 (a), (b)는, 변형예에 관련된 약액 제어 밸브의 개략 구성도이다.
도 7은 종래의 약액 제어 밸브의 개략 구성도이다.
1 is a schematic configuration diagram of a substrate processing apparatus according to an embodiment.
2 is a schematic configuration diagram of a chemical liquid control valve according to the embodiment.
FIG. 3A is a cross sectional view of a pair of molds in the XY direction, and FIG. 3B is a longitudinal cross-sectional view of a pair of molds in the XZ direction.
4 is a schematic configuration diagram of a chemical liquid control valve according to a modification.
5 (a) and 5 (b) are schematic configuration diagrams of a chemical liquid control valve according to a modification.
6 (a) and 6 (b) are schematic configuration diagrams of a chemical liquid control valve according to a modification.
7 is a schematic configuration diagram of a conventional chemical liquid control valve.

이하, 도면을 참조하여 본 발명의 실시예를 설명한다. 도 1은, 실시예에 관련된 기판 처리 장치의 개략 구성도이다. 도 2는, 실시예에 관련된 약액 제어 밸브의 개략 구성도이다. Hereinafter, embodiments of the present invention will be described with reference to the drawings. 1 is a schematic configuration diagram of a substrate processing apparatus according to an embodiment. 2 is a schematic configuration diagram of a chemical liquid control valve according to the embodiment.

<기판 처리 장치(1)의 구성> <Configuration of Substrate Processing Apparatus 1>

도 1을 참조한다. 기판 처리 장치(1)는, 노즐(2)과 유지 회전부(3)를 구비하고 있다. 노즐(2)은, 유지 회전부(3)로 유지된 기판(W)에 대해 약액을 토출하는 것이다. 약액은, 예를 들면, 레지스트액, 반사 방지막 형성용의 도포액, 시너 등의 용제, 순수(DIW) 등의 린스액, 현상액, 또는 에칭액이다. See FIG. 1. The substrate processing apparatus 1 is equipped with the nozzle 2 and the holding rotation part 3. The nozzle 2 discharges the chemical liquid to the substrate W held by the holding and rotating portion 3. The chemical liquid is, for example, a resist liquid, a coating liquid for antireflection film formation, a solvent such as thinner, a rinse liquid such as pure water (DIW), a developing solution, or an etching solution.

유지 회전부(3)는, 기판(W)를 유지하고, 유지한 기판(W)를 회전시키는 것이다. 유지 회전부(3)는, 스핀척(4)과 회전 구동부(5)를 구비하고 있다. 스핀척(4)은, 회전축(AX) 둘레로 회전 가능하게 구성되어 있다. 스핀척(4)은, 예를 들면, 기판(W)의 이면을 진공 흡착함으로써 기판(W)를 대략 수평 자세로 유지한다. 한편, 회전 구동부(5)는, 스핀척(4)을 회전축(AX) 둘레로 회전시키는 구동을 행한다. 회전 구동부(5)는, 전동 모터 등으로 구성되어 있다. The holding | maintenance rotating part 3 hold | maintains the board | substrate W, and rotates the board | substrate W hold | maintained. The holding | maintenance rotating part 3 is equipped with the spin chuck 4 and the rotation drive part 5. The spin chuck 4 is configured to be rotatable about the rotation axis AX. The spin chuck 4 holds the substrate W in a substantially horizontal posture, for example, by vacuum suction of the back surface of the substrate W. As shown in FIG. On the other hand, the rotation drive part 5 drives to rotate the spin chuck 4 around the rotation axis AX. The rotation drive part 5 is comprised with an electric motor etc.

또, 기판 처리 장치(1)는, 약액 공급원(7), 약액 배관(8a, 8b), 펌프(P) 및 약액 제어 밸브(9)를 구비하고 있다. 약액 공급원(7)은, 예를 들면, 약액을 저류하는 탱크 또는 보틀로 구성되어 있다. 약액 배관(8a, 8b)의 일단은, 약액 공급원(7)에 접속되고, 그 타단은, 노즐(2)에 접속되어 있다. Moreover, the substrate processing apparatus 1 is equipped with the chemical liquid supply source 7, the chemical liquid piping 8a, 8b, the pump P, and the chemical liquid control valve 9. As shown in FIG. The chemical liquid supply source 7 is comprised by the tank or bottle which stores a chemical liquid, for example. One end of the chemical liquid pipes 8a and 8b is connected to the chemical liquid supply source 7, and the other end thereof is connected to the nozzle 2.

약액 공급원(7)과 노즐(2) 사이의 약액 배관(8a)에는, 펌프(P)가 설치되어 있다. 펌프(P)와 노즐(2) 사이의 약액 배관(8a, 8b)에는, 약액 제어 밸브(9)가 설치되어 있다. 펌프(P)는 약액을 보내는 기구이다. 약액 제어 밸브(9)는, 노즐(2)로부터 토출시키는 약액의 유량을 조정하고, 또한, 노즐(2)로부터 약액을 토출시키고, 약액 토출을 정지시킨다. 약액 제어 밸브(9)의 상세한 것은 후술한다. 또한, 약액 배관(8a, 8b)에는, 예를 들면, 이물 제거 필터 및, 액흘림 방지를 위한 석백 밸브(suck back valve) 중 적어도 어느 하나가 설치되어 있어도 된다. The pump P is provided in the chemical liquid piping 8a between the chemical liquid supply source 7 and the nozzle 2. The chemical liquid control valve 9 is provided in the chemical liquid pipes 8a and 8b between the pump P and the nozzle 2. The pump P is a mechanism for sending a chemical liquid. The chemical liquid control valve 9 adjusts the flow rate of the chemical liquid discharged from the nozzle 2, discharges the chemical liquid from the nozzle 2, and stops the chemical liquid discharge. The chemical liquid control valve 9 will be described later in detail. Further, at least one of, for example, a foreign matter removal filter and a suck back valve for preventing liquid spilling may be provided in the chemical liquid pipes 8a and 8b.

기판 처리 장치(1)는, 1 또는 2 이상의 제어부(11)와, 조작부(13)를 구비하고 있다. 제어부(11)는, 중앙 연산 처리 장치(CPU)를 가지고 있다. 제어부(11)는, 기판 처리 장치(1) 및 약액 제어 밸브(9)의 각 구성을 제어한다. 조작부(13)는, 입력부, 표시부 및 기억부를 구비하고 있다. 기억부는, ROM(Read-only Memory), RAM(Random-Access Memory), 및 하드 디스크 등으로 구성되어 있다. 기억부에는, 예를 들면 기판 처리의 각종 조건이 기억되어 있다. The substrate processing apparatus 1 is equipped with the 1 or 2 or more control part 11 and the operation part 13. The control unit 11 has a central processing unit (CPU). The control part 11 controls each structure of the substrate processing apparatus 1 and the chemical liquid control valve 9. The operation unit 13 includes an input unit, a display unit, and a storage unit. The storage unit is composed of a read-only memory (ROM), a random-access memory (RAM), a hard disk, and the like. In the storage unit, for example, various conditions of substrate processing are stored.

<약액 제어 밸브(9)의 구성> <Configuration of Chemical Liquid Control Valve 9>

도 2를 참조한다. 약액 제어 밸브(9)는, 단일 유로 블록(21), 니들 이동 기구(23) 및 개폐용 밸브체 이동 기구(25)를 구비하고 있다. See FIG. 2. The chemical liquid control valve 9 includes a single flow path block 21, a needle moving mechanism 23, and a valve body moving mechanism 25 for opening and closing.

유로 블록(21)은, 예를 들면 PFA(퍼플루오로알콕시알칸: perfluoroalkoxyalkane) 등의 열가소성 및 용융 유동성을 가지는 불소 수지 그 외의 수지로 형성되어 있다. 유로 블록(21)은, PTFE(폴리테트라플루오로에틸렌: polytetrafluoroethylene) 등의 불소 수지로 형성되어 있어도 된다. The flow path block 21 is formed of thermoplastic resins such as PFA (perfluoroalkoxyalkane) and other fluororesins having melt and fluidity. The flow path block 21 may be formed of fluorine resin, such as PTFE (polytetrafluoroethylene: polytetrafluoroethylene).

또한, 유로 블록(21)은, PFA로 형성되어 있는 것이 바람직하다. 유로 블록(21)이 사출 성형에 의해 PFA로 형성되면, 유로 블록(21)의 표면이 그 내부보다 단단한 층(막)인 스킨층으로 덮인다. 유로 블록(21)의 내부에 약액이 스며들어 버리면, 결과적으로, 유로 블록(21)의 내부로부터 티끌을 끌어낼 우려가 있다. 그러나, 스킨층이 약액이 스며드는 것을 방지하므로, 약액의 청정도를 악화시킬 우려를 억제할 수 있다. Moreover, it is preferable that the flow path block 21 is formed of PFA. When the flow path block 21 is formed of PFA by injection molding, the surface of the flow path block 21 is covered with a skin layer which is a harder layer (film) than the inside thereof. If chemical liquid penetrates into the flow path block 21, there is a possibility that dust is drawn out from the flow path block 21 as a result. However, since the skin layer prevents infiltration of the chemical liquid, it is possible to suppress the possibility of deteriorating the cleanliness of the chemical liquid.

유로 블록(21)은, 제1 외벽(면)(21a)과 제2 외벽(면)(21b)을 가진다. 제2 외벽(21b)은, 제1 외벽(21a)과 거의 직각인 면이다. 유로 블록(21)의 제1 외벽(외면)(21a)에는, 유량 조정용 밸브실(27)이 설치되어 있다. 유로 블록(21)의 제2 외벽(외면)(21b)에는, 개폐용 밸브실(29)이 설치되어 있다. 유량 조정용 밸브실(27)은, 제1 외벽(21a)의 일부가 패이도록 형성되어 있다. 즉, 유량 조정용 밸브실(27)은, 제1 외벽(21a)에 오목형으로 형성되어 있다. 개폐용 밸브실(29)은, 제2 외벽(21b)의 일부가 패이도록 형성되어 있다. 즉, 개폐용 밸브실(29)은, 유로 블록(21)의 제2 외벽(21b)에 오목형으로 형성되어 있다. The flow path block 21 has a first outer wall (surface) 21a and a second outer wall (surface) 21b. The second outer wall 21b is a surface substantially perpendicular to the first outer wall 21a. The valve chamber 27 for flow rate adjustment is provided in the 1st outer wall (outer surface) 21a of the flow path block 21. An opening / closing valve chamber 29 is provided on the second outer wall (outer surface) 21b of the flow path block 21. The valve chamber 27 for flow rate adjustment is formed so that a part of the 1st outer wall 21a may be dug. That is, the valve chamber 27 for flow rate adjustment is formed in the recessed shape in the 1st outer wall 21a. The opening / closing valve chamber 29 is formed such that a part of the second outer wall 21b is dug up. That is, the opening / closing valve chamber 29 is formed in the recessed shape in the 2nd outer wall 21b of the flow path block 21.

유로 블록(21)의 내부에는, 중간 유로(31), 제1 유로(33) 및 제2 유로(35)가 형성되어 있다. 중간 유로(31), 제1 유로(33) 및 제2 유로(35)는 각각, 직선형으로 형성되어 있다. 중간 유로(31)는, 유량 조정용 밸브실(27)과 개폐용 밸브실(29) 사이를 접속시키도록 형성되어 있다. 또, 중간 유로(31)는, 제2 외벽(21b)와 거의 직각으로 연장되도록 형성되어 있다. Inside the flow path block 21, an intermediate flow path 31, a first flow path 33, and a second flow path 35 are formed. The intermediate flow passage 31, the first flow passage 33, and the second flow passage 35 are each formed in a straight line. The intermediate flow passage 31 is formed to connect the valve chamber 27 for adjusting the flow rate and the valve chamber 29 for opening and closing. Moreover, the intermediate flow path 31 is formed so that it may extend substantially perpendicularly to the 2nd outer wall 21b.

제1 유로(33)의 일단은, 유량 조정용 밸브실(27)과 접속한다. 제1 유로(33)의 타단은, 유로 블록(21)의 외부인, 펌프(P)가 설치된 약액 배관(8a)과 접속한다. 제2 유로(35)의 일단은, 개폐용 밸브실(29)과 접속한다. 제2 유로(35)의 타단은, 유로 블록(21)의 외부인, 노즐(2)이 설치된 약액 배관(8b)과 접속한다. 즉, 제2 유로(35)는, 약액 배관(8b)을 통하여 노즐(2)이 접속되어 있다. One end of the first flow path 33 is connected to the valve chamber 27 for adjusting the flow rate. The other end of the first flow path 33 is connected to the chemical liquid pipe 8a provided with the pump P, which is outside the flow path block 21. One end of the second flow passage 35 is connected to the opening / closing valve chamber 29. The other end of the second flow path 35 is connected to the chemical liquid pipe 8b provided with the nozzle 2, which is outside the flow path block 21. That is, the nozzle 2 is connected to the 2nd flow path 35 via the chemical liquid piping 8b.

제1 유로(33) 및 제2 유로(35)는 각각, 중간 유로(31)에 대해 직각으로 연장되도록 형성되어 있다. 또, 제1 유로(33)는, 제2 유로(35)와 평행이다. 그리고, 제1 유로(33)에 있어서의 유량 조정용 밸브실(27)과 접속하는 부분과 반대측의 제1 접속구(37)는, 제2 유로(35)에 있어서의 개폐용 밸브실(29)과 접속하는 부분과 반대측의 제2 접속구(39)와 동일한 방향을 향하여 개구하고 있다. 즉, 제1 유로(33)를 통과하는 약액의 방향이 제2 유로(35)를 통과하는 약액의 방향과 역방향이 되도록, 제1 유로(33) 및 제2 유로(35)가 형성되어 있다. The first flow path 33 and the second flow path 35 are formed to extend at right angles to the intermediate flow path 31, respectively. In addition, the first flow path 33 is parallel to the second flow path 35. And the 1st connection port 37 on the opposite side to the part which connects with the flow volume adjustment valve chamber 27 in the 1st flow path 33, and the valve chamber 29 for opening and closing in the 2nd flow path 35 It opens toward the same direction as the 2nd connection port 39 on the opposite side to the part to connect. In other words, the first flow passage 33 and the second flow passage 35 are formed such that the direction of the chemical liquid passing through the first flow passage 33 is in the opposite direction to the direction of the chemical liquid passing through the second flow passage 35.

니들 이동 기구(23)는, 유로 블록(21)에 부착되어 있다. 니들 이동 기구(23)는, 니들(41)을 가진다. 니들 이동 기구(23)는, 유량 조정용 밸브실(27)을 막음과 함께, 약액의 유량을 조정하기 위해 니들(41)을 이동시키도록 구성되어 있다. The needle movement mechanism 23 is attached to the flow path block 21. The needle movement mechanism 23 has a needle 41. The needle movement mechanism 23 is configured to move the needle 41 in order to block the flow rate adjustment valve chamber 27 and to adjust the flow rate of the chemical liquid.

또한, 도 2에 있어서, 유량 조정용 밸브실(27)은, 제1 연장 유로(40a)를 가지고 있다. 제1 연장 유로(40a)는, 유량 조정용 밸브실(27)의 저부 이외의 예를 들면 내측벽에 설치되어 있다. 중간 유로(31)가 제1 연장 유로(40a)에 접속됨으로써, 중간 유로(31)는, 유량 조정용 밸브실(27)에 접속된다. 또, 개폐용 밸브실(29)은, 제2 연장 유로(40b)를 가지고 있다. 제2 연장 유로(40b)는, 개폐용 밸브실(29)의 저부에 설치되어 있다. 제2 유로(35)가 제2 연장 유로(40b)에 접속됨으로써, 제2 유로(35)는, 개폐용 밸브실(29)에 접속된다. In addition, in FIG. 2, the flow volume adjusting valve chamber 27 has the 1st extension flow path 40a. The 1st extension flow path 40a is provided in the inner side wall other than the bottom part of the valve chamber 27 for flow volume adjustments, for example. The intermediate flow path 31 is connected to the 1st extended flow path 40a, and the intermediate flow path 31 is connected to the valve chamber 27 for flow volume adjustment. Moreover, the opening / closing valve chamber 29 has the 2nd extended flow path 40b. The 2nd extension flow path 40b is provided in the bottom part of the opening-closing valve chamber 29. As shown in FIG. The second flow passage 35 is connected to the opening / closing valve chamber 29 by connecting the second flow passage 35 to the second extension flow passage 40b.

니들 이동 기구(23)는, 니들(41) 외에, 하우징(43), 전동 모터(45) 및 변환 기구(47)를 구비하고 있다. 니들(41)은, 유량 조정용 밸브실(27) 내에 배치되어 있다. 또, 니들(41)은, 유량 조정용 밸브실(27)에 설치된 개구부(49)와 대향하도록 배치되어 있다. 개구부(49)는 원형으로 형성되어 있다. 개구부(49)는 제1 유로(33)에 접속되어 있다. 니들(41)의 선단부(41a)는 원뿔형으로 형성되어 있다. 니들(41)의 원뿔형의 선단부(41a)는, 개구부(49)에 통과된다. 즉, 니들(41)을 횡 이동(X 방향 이동)시킴으로써, 원뿔형의 선단부(41a)와 개구부(49)의 간극이 조정된다(도 2 참조). 이것에 의해, 그 간극을 흐르는 약액의 유량이 조정된다. 하우징(43)은, 니들(41)이 통과하도록 구성되어 있다. 하우징(43)은, 유량 조정용 밸브실(27)을 막고 있다. In addition to the needle 41, the needle movement mechanism 23 includes a housing 43, an electric motor 45, and a conversion mechanism 47. The needle 41 is disposed in the valve chamber 27 for adjusting the flow rate. Moreover, the needle 41 is arrange | positioned so that the opening part 49 provided in the flow volume adjusting valve chamber 27 may be opposed. The opening 49 is formed in a circular shape. The opening part 49 is connected to the 1st flow path 33. The tip portion 41a of the needle 41 is formed in a conical shape. The conical tip 41a of the needle 41 passes through the opening 49. In other words, by moving the needle 41 laterally (moving in the X direction), the gap between the conical tip portion 41a and the opening 49 is adjusted (see FIG. 2). Thereby, the flow volume of the chemical liquid which flows through the clearance gap is adjusted. The housing 43 is comprised so that the needle 41 may pass. The housing 43 blocks the valve chamber 27 for flow rate adjustment.

전동 모터(45)는, 니들(41)을 구동시킨다. 전동 모터(45)는, 예를 들면 스텝모터 또는 서보모터로 구성되어 있다. 전동 모터(45)가 서보모터로 구성되는 경우는, 로터리 엔코더 등의 센서가 설치되므로, 니들(41)의 횡 방향의 이동량 또는 위치를 정확하게 얻을 수 있다. 변환 기구(47)는, 전동 모터(45)와 니들(41) 사이에 설치되어, 전동 모터(45)가 출력하는 회전을 니들(41)의 직선 이동으로 변환한다. 변환 기구(47)는, 예를 들면 나사축과 가이드부를 가지고 구성되어 있다. The electric motor 45 drives the needle 41. The electric motor 45 is comprised with a step motor or a servo motor, for example. When the electric motor 45 is comprised by the servomotor, since sensors, such as a rotary encoder, are provided, the movement amount or position of the needle 41 in the lateral direction can be obtained correctly. The conversion mechanism 47 is provided between the electric motor 45 and the needle 41, and converts the rotation which the electric motor 45 outputs into linear movement of the needle 41. The conversion mechanism 47 is comprised, for example with a screw shaft and a guide part.

개폐용 밸브체 이동 기구(25)는, 유로 블록(21)에 부착되어 있다. 개폐용 밸브체 이동 기구(25)는, 다이아프램(51)을 가진다. 개폐용 밸브체 이동 기구(25)는, 개폐용 밸브실(29)을 막음과 함께, 제2 유로(35)를 개폐하기 위해 다이아프램(51)을 이동시키도록 구성되어 있다. 다이아프램(51)은 본 발명의 개폐용 밸브체에 상당한다. The opening / closing valve body moving mechanism 25 is attached to the flow path block 21. The opening / closing valve body moving mechanism 25 has a diaphragm 51. The opening and closing valve body moving mechanism 25 is configured to move the diaphragm 51 in order to close the opening and closing valve chamber 29 and to open and close the second flow path 35. The diaphragm 51 is corresponded to the opening / closing valve body of this invention.

개폐용 밸브체 이동 기구(25)는, 다이아프램(51) 외에, 하우징(53), 가동 부재(55), 격벽(57), 가동 칸막이 부재(59), 스프링(61), 흡배기구(63) 및 조정 나사부(65)를 구비하고 있다. In addition to the diaphragm 51, the opening / closing valve body moving mechanism 25 includes a housing 53, a movable member 55, a partition wall 57, a movable partition member 59, a spring 61, and an intake and exhaust mechanism 63. ) And an adjusting screw portion 65 are provided.

다이아프램(51)은, 예를 들면 PTFE 또는 PFA 등의 불소 수지로 구성되어 있다. 다이아프램(51)의 주연부는, 개폐용 밸브실(29)의 내측벽에 고정되어 있다. 다이아프램(51)은, 다이아프램(51)의 상하의 이동 방향을 횡단하도록, 후술하는 벨브좌(座)(75)측과 격벽(57)측 사이를 떼고 있다. 다이아프램(51)의 중앙의 육후부(肉厚部)(51a)는, 가동 부재(55)에 고정되어 있다. 하우징(53)은, 개폐용 밸브실(29)을 막고 있다. The diaphragm 51 is comprised from fluororesins, such as PTFE or PFA, for example. The periphery of the diaphragm 51 is fixed to the inner wall of the valve chamber 29 for opening and closing. The diaphragm 51 is separating between the valve seat 75 side and the partition wall 57 side mentioned later so that the diaphragm 51 may cross the up-and-down movement direction. The thick part 51a at the center of the diaphragm 51 is fixed to the movable member 55. The housing 53 blocks the opening / closing valve chamber 29.

원반형의 격벽(57)은, 하우징(53)의 내측벽에 설치되어 있다. 격벽(57)은, 가동 칸막이 부재(59)측과 다이아프램(51)측 사이를 떼고 있다. 격벽(57)의 중앙부에는, 가동 부재(55)가 삽입되어 있다. 가동 부재(55)는, 격벽(57)에 대해 슬라이드 이동 가능하다. 가동 칸막이 부재(59)는, 다이아프램(51)의 반대측의 가동 부재(55)에 고정되어 있다. 가동 칸막이 부재(59)는, 하우징(53)의 내측벽에 대해 슬라이드 이동 가능하다. 가동 칸막이 부재(59)는, 스프링(61)측과 격벽(57)측 사이를 떼고 있다. 가동 부재(55)와 격벽(57)의 접촉 부분, 및 가동 칸막이 부재(59)와 하우징(53)의 내측벽의 접촉 부분은 시일되어 있다. The disk-shaped partition wall 57 is provided in the inner wall of the housing 53. The partition wall 57 is separated between the movable partition member 59 side and the diaphragm 51 side. The movable member 55 is inserted in the center part of the partition 57. The movable member 55 is slideable with respect to the partition 57. The movable partition member 59 is fixed to the movable member 55 on the side opposite to the diaphragm 51. The movable partition member 59 is slidable with respect to the inner wall of the housing 53. The movable partition member 59 is separated between the spring 61 side and the partition wall 57 side. The contact portion between the movable member 55 and the partition wall 57 and the contact portion between the movable partition member 59 and the inner wall of the housing 53 are sealed.

스프링(61)은, 하우징(53)의 천정(53a)과 가동 칸막이 부재(59) 사이에 배치되어 있다. 스프링(61)은, 상시, 하방향(다이아프램(51)이 존재하는 방향)으로 누르도록 설치되어 있다. 흡배기구(63)는, 하우징(53) 내에 있어서의 가동 칸막이 부재(59)와 격벽(57) 사이의 공간에 기체를 출납하는 개구이다. 기체 배관(67)은, 봄베나 공장 내의 배관 등의 기체 공급원(69)과 흡배기구(63)를 접속시킨다. 기체 배관(67)에는, 예를 들면 삼방 밸브(71)가 설치된다. 삼방 밸브(71)는, 기체 공급원(69)으로부터 하우징(53) 내로의 기체의 공급, 및 하우징(53) 내로부터의 기체의 배기를 선택적으로 전환한다. The spring 61 is disposed between the ceiling 53a of the housing 53 and the movable partition member 59. The spring 61 is always provided so that it may press in the downward direction (the direction in which the diaphragm 51 exists). The intake / exhaust mechanism 63 is an opening for discharging gas into the space between the movable partition member 59 and the partition wall 57 in the housing 53. The gas piping 67 connects the gas supply source 69, such as a piping in a cylinder or a factory, with the intake and exhaust pipe 63. As shown in FIG. The gas pipe 67 is provided with, for example, a three-way valve 71. The three-way valve 71 selectively switches the supply of gas from the gas supply source 69 into the housing 53, and the exhaust of the gas from within the housing 53.

조정 나사부(65)는, 수나사(65a)를 가진다. 이 수나사(65a)와, 하우징(53)의 천정(53a) 부근에 설치된 암나사(53b)가 맞물리도록 구성되어 있다. 조정 나사부(65)는, 가동 칸막이 부재(59)와 분리되어 있다. 수나사(65a)의 위치에 의해, 가동 칸막이 부재(59), 가동 부재(55), 및 다이아프램(51)의 육후부(51a) 등의 상방향 이동이 제한된다. 또한, 개구부(73)는 제2 유로(35)에 접속되어 있다. 벨브좌(75)는, 개구부(73)의 주위에 설치되어, 다이아프램(51)의 육후부(51a)를 받는 것이다. The adjusting screw part 65 has a male screw 65a. The male screw 65a and the female screw 53b provided near the ceiling 53a of the housing 53 are configured to engage. The adjustment screw part 65 is separated from the movable partition member 59. By the position of the external thread 65a, the upward movement of the movable partition member 59, the movable member 55, and the thick part 51a of the diaphragm 51, etc. is restrict | limited. In addition, the opening portion 73 is connected to the second flow path 35. The valve seat 75 is provided around the opening 73 and receives the thick portion 51a of the diaphragm 51.

<약액 제어 밸브(9)의 제조 방법> <The manufacturing method of the chemical liquid control valve 9>

다음에, 약액 제어 밸브(9)의 제조 방법에 대한 일례를 설명한다. 도 3(a)는, XY 방향에 있어서의 한 쌍의 금형의 횡단면도이다. 도 3(b)는, XZ 방향에 있어서의 한 쌍의 금형의 종단면도이다. 또, 도 3(b)는, 도 3(a)에 있어서의 제1 돌출부(87) 및 제2 핀 부재(90) 부분의 종단면도이다. Next, an example regarding the manufacturing method of the chemical liquid control valve 9 is demonstrated. 3A is a cross sectional view of a pair of molds in the XY direction. FIG.3 (b) is a longitudinal cross-sectional view of a pair of metal mold | die in XZ direction. 3 (b) is a longitudinal cross-sectional view of the part of the 1st protrusion part 87 and the 2nd pin member 90 in FIG. 3 (a).

〔단계 S01〕한 쌍의 금형(81, 82)을 준비하는 공정 [Step S01] Process of preparing a pair of molds 81 and 82

한 쌍의 금형(81, 82)을 준비한다. 한 쌍의 금형(81, 82)이 대향 배치되면, 한 쌍의 금형(81, 82)에는, 내부 공간(83)이 형성된다. 도 3(a), 도 3(b)에 있어서, 굵은 간격으로 나타내는 우측하향 사선의 해칭이 내부 공간(83)이다. 내부 공간(83)은, 수지가 채워지는 공간이다. 한 쌍의 금형(81, 82)은, 제1 내벽(면)(85)과 제2 내벽(면)(86)을 내부 공간(83)에 가진다. 제2 내벽(86)은, 제1 내벽(85)과 거의 직각인 면이다. A pair of molds 81 and 82 are prepared. When the pair of molds 81 and 82 are disposed to face each other, an internal space 83 is formed in the pair of molds 81 and 82. In FIG.3 (a) and FIG.3 (b), the hatching of the right downward diagonal line shown by thick space | interval is the internal space 83. As shown in FIG. The internal space 83 is a space filled with resin. The pair of molds 81 and 82 have a first inner wall (surface) 85 and a second inner wall (surface) 86 in the inner space 83. The second inner wall 86 is a plane substantially perpendicular to the first inner wall 85.

한 쌍의 금형(81, 82)은, 유량 조정용 밸브실(27)을 형성하기 위한 제 1 돌출부(87)와, 개폐용 밸브실(29)을 형성하기 위한 제 2 돌출부(88)와, 중간 유로(31)를 형성하기 위한 직선형의 제1 핀 부재(89)를 구비하고 있다. 제1 돌출부(87)는, 한 쌍의 금형(81, 82)에 있어서의 내부 공간(83)의 제1 내벽(85)에 설치되어 있다. 제1 돌출부(87)에는, 제1 연장 유로(40a)에 대응하는 제1 접속 볼록부(87a)가 설치되어 있다. 제2 돌출부(88)는, 제2 내벽(86)에 설치되어 있다. 제2 돌출부(88)에는, 제2 연장 유로(40b)에 대응하는 제2 접속 볼록부(88a)가 설치되어 있다. The pair of molds 81 and 82 include a first protrusion 87 for forming the flow control valve chamber 27, a second protrusion 88 for forming the opening / closing valve chamber 29, and an intermediate portion. The linear 1st pin member 89 for forming the flow path 31 is provided. The 1st protrusion part 87 is provided in the 1st inner wall 85 of the internal space 83 in the pair of metal molds 81 and 82. As shown in FIG. The 1st connection convex part 87a corresponding to the 1st extension flow path 40a is provided in the 1st protrusion part 87. As shown in FIG. The second protrusion 88 is provided on the second inner wall 86. The 2nd connection convex part 88a corresponding to the 2nd extended flow path 40b is provided in the 2nd protrusion part 88. As shown in FIG.

제1 핀 부재(89)는, 제1 돌출부(87)와 제2 돌출부(88) 사이를 접속시키도록, 제2 내벽(86)에 대해 거의 직각으로 연장되는 방향으로 삽입되어 있다. 제1 돌출부(87)는, 횡 방향(X 방향)으로 이동 가능하다. 제1 돌출부(87)는, 한 쌍의 금형(81, 82)의 내부 공간(83)에 삽입된다. 또, 도 3(a)에 나타내는 바와 같이, 제2 돌출부(88)와 제1 핀 부재(89)는, 일체적으로 구성되어 있다. 일체가 된 제2 돌출부(88) 및 제1 핀 부재(89)는, 종 방향(Y 방향)으로 이동 가능하고, 한 쌍의 금형(81, 82)의 내부 공간(83)에 삽입된다. 제1 핀 부재(89)의 선단부(89a)는, 제1 돌출부(87)의 제1 접속 볼록부(87a)에 접촉된다. The 1st pin member 89 is inserted in the direction extended substantially perpendicularly to the 2nd inner wall 86 so that the 1st protrusion part 87 and the 2nd protrusion part 88 may be connected. The first protrusion 87 is movable in the horizontal direction (X direction). The first protrusion 87 is inserted into the internal space 83 of the pair of molds 81 and 82. 3A, the 2nd protrusion part 88 and the 1st pin member 89 are comprised integrally. The unified 2nd protrusion part 88 and the 1st pin member 89 are movable in a longitudinal direction (Y direction), and are inserted in the internal space 83 of a pair of metal mold | die 81 and 82. As shown in FIG. The tip portion 89a of the first pin member 89 is in contact with the first connection convex portion 87a of the first protrusion 87.

또한, 제2 돌출부(88) 및 제1 핀 부재(89)는, 일체적이 아니고, 개별적으로 이동하도록 구성되어 있어도 된다. In addition, the 2nd protrusion part 88 and the 1st pin member 89 may be comprised so that it may move independently.

〔단계 S02〕제2 핀 부재(90)를 삽입하는 공정 [Step S02] The step of inserting the second pin member 90

제1 돌출부(87)와 접속하도록, 직선형의 제2 핀 부재(90)를 내부 공간(83)에 삽입한다. 제2 핀 부재(90)는, 횡 방향(X 방향)으로 이동 가능하다. 제2 핀 부재(90)의 선단부(90a)는, 제1 돌출부(87)에 접촉된다. 제2 핀 부재(90)는, 제1 유로(33)를 형성하기 위한 것이다. The linear second pin member 90 is inserted into the internal space 83 so as to be connected to the first protrusion 87. The second pin member 90 is movable in the horizontal direction (X direction). The tip portion 90a of the second pin member 90 is in contact with the first protrusion 87. The second fin member 90 is for forming the first flow path 33.

〔단계 S03〕제3 핀 부재(91)를 삽입하는 공정 [Step S03] The process of inserting the third pin member 91

제2 돌출부(88)와 접속하도록, 직선형의 제3 핀 부재(91)를 내부 공간(83)에 삽입한다. 제3 핀 부재(91)는, 횡 방향(X 방향)으로 이동 가능하다. 제3 핀 부재(91)의 선단부(91a)는, 제2 돌출부(88)의 제2 접속 볼록부(88a)에 접촉된다. 제3 핀 부재(91)는, 제2 유로(35)를 형성하기 위한 것이다. The linear third pin member 91 is inserted into the internal space 83 so as to be connected to the second protrusion 88. The third pin member 91 is movable in the horizontal direction (X direction). The tip portion 91a of the third pin member 91 is in contact with the second connection convex portion 88a of the second protrusion 88. The third fin member 91 is for forming the second flow path 35.

〔단계 S04〕수지를 흘려 넣는 공정 [Step S04] Process of pouring resin

제1 돌출부(87), 제2 돌출부(88), 제1 핀 부재(89), 제2 핀 부재(90) 및 제3 핀 부재(91)를 내부 공간(83)에 삽입한 후(즉 단계 S01~S03 후), 가열되어 녹은 수지(예를 들면 PFA)를 내부 공간(83)에 흘려 넣는다. 도시하지 않은 사출 성형기의 가열 실린더의 내부의 수지는, 가열됨으로써 녹여진다. 즉, 한 쌍의 금형(81, 82) 내에 흘려 넣어지는 수지는, 가열에 의해 유동화되는 수지이다. 그리고, 가열 실린더에 의해 한 쌍의 금형(81, 82)의 내부 공간(83)에 흘려 넣어진다. After the first protrusion 87, the second protrusion 88, the first pin member 89, the second pin member 90 and the third pin member 91 are inserted into the inner space 83 (i.e., step) After S01-S03, the heated and melted resin (for example, PFA) is poured into the internal space 83. The resin inside the heating cylinder of the injection molding machine (not shown) is melted by heating. That is, the resin poured into the pair of molds 81 and 82 is a resin that is fluidized by heating. And it flows into the internal space 83 of a pair of metal mold | die 81, 82 by a heating cylinder.

〔단계 S05〕유로 블록(성형품)을 떼어내는 공정 [Step S05] The process of removing the euro block (molded product)

내부 공간(83)에 흘려 넣어진 수지가 냉각되어 굳어진 후, 한 쌍의 금형(81, 82) 내로부터 제1 돌출부(87), 제2 돌출부(88), 제1 핀 부재(89), 제2 핀 부재(90) 및 제3 핀 부재(91)를 뽑아낸다. 그 후, 단일 유로 블록(21)으로서 수지를 한 쌍의 금형(81, 82)으로부터 떼어낸다. 이 떼어냄은, 한 쌍의 금형(81, 82)이 상하 방향(도 3(b)의 Z 방향)으로 상대적으로 이동됨으로써 행해진다. 또한, 내부 공간(83)에 흘려 넣어진 수지가 한 쌍의 금형(81, 82)의 내벽(부호 85, 86 등), 제1 돌출부(87), 제2 돌출부(88), 제1 핀 부재(89), 제2 핀 부재(90) 및 제3 핀 부재(91)와 접하는 부분에 스킨층이 형성된다. After the resin poured into the internal space 83 is cooled and hardened, the first protrusion 87, the second protrusion 88, the first pin member 89, and the first protrusion 87 are formed from the pair of molds 81 and 82. The 2nd pin member 90 and the 3rd pin member 91 are pulled out. Thereafter, the resin is separated from the pair of molds 81 and 82 as the single flow path block 21. This removal is performed by moving a pair of metal mold | die 81 and 82 relatively to an up-down direction (Z direction of FIG. 3 (b)). In addition, the resin poured into the internal space 83 is filled with the inner walls of the pair of molds 81 and 82 (85, 86, etc.), the first protrusion 87, the second protrusion 88, and the first pin member. The skin layer is formed in the part which contact | connects 89, the 2nd fin member 90, and the 3rd fin member 91. FIG.

〔단계 S06〕니들 이동 기구 및 개폐용 밸브체 이동 기구를 부착하는 공정 [Step S06] The process of attaching the needle moving mechanism and the valve body moving mechanism for opening and closing

한 쌍의 금형(81, 82)으로부터 떼어내진 유로 블록(21)에 대해, 도 2에 나타내는 개구부(49) 및 벨브좌(75)의 표면을 연마하기 위한 등의 처리가 행해진다. 그리고, 니들 이동 기구(23) 및 개폐용 밸브체 이동 기구(25) 그 외의 부품을 유로 블록(21)에 부착한다. The flow path block 21 removed from the pair of molds 81 and 82 is subjected to processing such as polishing the surfaces of the opening 49 and the valve seat 75 shown in FIG. 2. Then, the needle moving mechanism 23 and the valve body moving mechanism 25 for opening and closing are attached to the flow path block 21.

또한, 후술하는 변형예 등의 유로 블록(21)의 구조에 따라서는, 한 쌍의 금형(81, 82), 제1 돌출부(87), 제2 돌출부(88) 등은, 다음과 같이 구성되어 있어도 된다. 예를 들면, 제1 돌출부(87)는, 금형(81)에 대해 이동하지 않고, 금형(81)의 제1 내벽(85)에 고정되어 있어도 된다. 마찬가지로, 제2 돌출부(88)는, 금형(82)에 대해 이동하지 않고 금형(82)의 제2 내벽(86)에 고정되어 있어도 된다. 또, 후술하는 도 4의 구성에 대응하여, 제2 내벽(86)은, 제1 내벽(85)과 대향하는 면이어도 된다. Moreover, according to the structure of the flow path block 21, such as a modification mentioned later, a pair of metal mold | die 81, 82, the 1st protrusion part 87, the 2nd protrusion part 88, etc. are comprised as follows. You may be. For example, the first protrusion 87 may be fixed to the first inner wall 85 of the mold 81 without moving with respect to the mold 81. Similarly, the second protrusion 88 may be fixed to the second inner wall 86 of the mold 82 without moving relative to the mold 82. In addition, the surface which faces the 1st inner wall 85 may be sufficient as the 2nd inner wall 86 corresponding to the structure of FIG. 4 mentioned later.

또한, 종래의 약액 제어 밸브(9)에 있어서, 도 7에 나타내는 V자 유로(205)는, 형성 후에, 유량 조정용 밸브실 및 개폐용 밸브실의 2방향으로부터 절삭함으로써 형성된다. 즉, 금형의 제약에 의해, 도 7에 나타내는 V자 유로(205)는 직선형으로 형성할 수 없었다. 또, 예를 들면, 유로 블록(21)이 PFA로 형성되는 경우, V자 유로(205) 부분에서 PFA의 스킨층을 깎아 버리기 때문에, 유로 블록(21)(PFA)의 내부에 약액이 스며들어 버릴 우려가 있다. 본 실시예에 관련된 약액 제어 밸브(9)의 제조 방법에 의하면, 절삭하지 않고 직선형의 중간 유로(31)를 형성할 수 있다. In addition, in the conventional chemical liquid control valve 9, the V-shaped flow path 205 shown in FIG. 7 is formed by cutting from two directions of a flow volume adjusting valve chamber and an opening / closing valve chamber after formation. That is, the V-shaped flow path 205 shown in FIG. 7 could not be formed linearly by the constraint of a metal mold | die. In addition, for example, when the flow path block 21 is formed of PFA, since the skin layer of the PFA is cut off in the V-shaped flow path 205, the chemical liquid penetrates into the flow path block 21 (PFA). I might throw it away. According to the manufacturing method of the chemical | medical agent control valve 9 which concerns on a present Example, the linear intermediate | middle flow path 31 can be formed without cutting.

<기판 처리 장치 및 약액 제어 밸브의 동작> <Operation of Substrate Processing Apparatus and Chemical Liquid Control Valve>

다음에, 기판 처리 장치(1) 및 약액 제어 밸브(9)의 동작에 대해서 설명한다. Next, the operation of the substrate processing apparatus 1 and the chemical liquid control valve 9 will be described.

도 1을 참조한다. 도시하지 않은 반송 기구는, 유지 회전부(3) 상에 기판(W)를 반송한다. 유지 회전부(3)는, 기판(W)의 이면을 흡착함으로써 기판(W)를 유지한다. 그 후, 유지 회전부(3)는, 유지한 기판(W)를 회전시킨다. 노즐(2)은, 도시하지 않은 이동 기구에 의해 기판(W)의 상방으로 이동되어 있다. 제어부(11)는, 약액 제어 밸브(9)를 조작함으로써, 기판(W) 상에 노즐(2)로부터 약액을 토출시킨다. See FIG. 1. The conveyance mechanism which is not shown conveys the board | substrate W on the holding-rotation part 3. The holding | maintenance rotating part 3 hold | maintains the board | substrate W by attracting the back surface of the board | substrate W. As shown in FIG. Thereafter, the holding rotating part 3 rotates the held substrate W. FIG. The nozzle 2 is moved above the substrate W by a moving mechanism not shown. The control unit 11 discharges the chemical liquid from the nozzle 2 on the substrate W by operating the chemical liquid control valve 9.

도 2에 나타내는 약액 제어 밸브(9)에 있어서, 우선, 개폐용 밸브체 이동 기구(25)의 동작을 설명한다. 다이아프램(51)의 육후부(51a)는, 스프링(61)의 탄성력(복원력)에 의해, 개폐용 밸브실(29)의 개구부(73)의 주위에 설치된 벨브좌(75)에 눌러져 있다(도 2의 파선으로 나타낸 육후부(51a) 참조). 이 상태는, 개폐용 밸브실(29)로부터 제2 유로(35)에 약액을 유통시키지 않는 닫힘 상태이다. 닫힘 상태일 때, 노즐(2)로부터 약액이 토출되지 않는다. In the chemical liquid control valve 9 shown in FIG. 2, first, an operation of the opening / closing valve body moving mechanism 25 will be described. The thick part 51a of the diaphragm 51 is pressed against the valve seat 75 provided around the opening 73 of the valve chamber 29 for opening and closing by the elastic force (restoration force) of the spring 61 ( See the thick part 51a shown by the broken line of FIG. This state is a closed state in which the chemical liquid is not flowed from the opening / closing valve chamber 29 to the second flow path 35. In the closed state, the chemical liquid is not discharged from the nozzle 2.

삼방 밸브(71)를 조작함으로써, 기체 배관(67) 및 흡배기구(63)를 통하여, 기체 공급원(69)으로부터 하우징(53) 내에 있어서의 가동 칸막이 부재(59)와 격벽(57) 사이의 공간에 기체가 보내진다. 이것에 의해, 가동 칸막이 부재(59)가 스프링(61)의 탄성력에 반발하여 들어올려지고, 이것에 수반하여, 가동 부재(55) 및 다이아프램(51)의 육후부(51a)가 들어올려진다(도 2의 실선으로 나타난 육후부(51a) 참조). 이 상태는, 약액을 유통시키는 열림 상태이다. 열림 상태일 때, 노즐(2)로부터 약액이 토출된다. By operating the three-way valve 71, the space between the movable partition member 59 and the partition wall 57 in the housing 53 from the gas supply source 69 through the gas pipe 67 and the intake and exhaust pipe 63. The gas is sent to. As a result, the movable partition member 59 is lifted in response to the elastic force of the spring 61, and with this, the thick part 51a of the movable member 55 and the diaphragm 51 is lifted. (See the thick part 51a shown by the solid line of FIG. 2). This state is an open state which distributes a chemical liquid. In the opened state, the chemical liquid is discharged from the nozzle 2.

여기서, 열림 상태가 되었을 때의 약액의 흐름을 구체적으로 설명한다. 도 1에 나타내는 펌프(P)는, 약액 공급원(7)으로부터 약액 배관(8a)을 통해서 약액 제어 밸브(9)의 제1 유로(33)에 약액을 보낸다. 도 2에 나타내는 제1 유로(33)에 보내진 약액은, 니들(41)의 선단부(41a)와 개구부(49)의 간극을 통과하여, 유량 조정용 밸브실(27)에 보내진다. 그 후, 약액은, 중간 유로(31)를 통해서 유량 조정용 밸브실(27)로부터 개폐용 밸브실(29)에 보내진다. 또한, 중간 유로(31)는, 직선형으로 구성되어 있으므로, 도 7에 나타내는 V자 유로(205) 등에 비해 약액을 원활하게 보낼 수 있다. Here, the flow of the chemical liquid in the opened state will be described in detail. The pump P shown in FIG. 1 sends a chemical liquid from the chemical liquid supply source 7 to the 1st flow path 33 of the chemical liquid control valve 9 through the chemical liquid piping 8a. The chemical liquid sent to the 1st flow path 33 shown in FIG. 2 passes through the clearance gap between the front-end | tip part 41a of the needle 41, and the opening part 49, and is sent to the valve chamber 27 for flow volume adjustment. Thereafter, the chemical liquid is sent from the valve chamber 27 for adjusting the flow rate to the opening and closing valve chamber 29 via the intermediate flow passage 31. Moreover, since the intermediate | middle flow path 31 is comprised in linear form, compared with the V-shaped flow path 205 etc. which are shown in FIG. 7, chemical liquid can be sent smoothly.

그 후, 약액은, 벨브좌(75)의 개구부(73) 및 제2 유로(35)를 통해서 개폐용 밸브실(29)로부터 약액 배관(8b)에 보내진다. 약액 배관(8b)에 보내진 약액은, 노즐(2)에 보내지고, 노즐(2)로부터 약액이 토출된다. Thereafter, the chemical liquid is sent from the valve chamber 29 for opening and closing through the opening 73 and the second flow path 35 of the valve seat 75 to the chemical liquid pipe 8b. The chemical liquid sent to the chemical liquid pipe 8b is sent to the nozzle 2, and the chemical liquid is discharged from the nozzle 2.

또, 니들 이동 기구(23)의 동작에 대해서 설명한다. 니들 이동 기구(23)는, 니들(41)의 선단부(41a)와 개구부(49)의 간극을 조정함으로써, 제1 유로(33) 그 외 유로 블록(21) 내의 약액의 유량을 조정한다. 니들(41)은, 전동 모터(45)의 회전 구동에 의해 이동된다. 변환 기구(47)는, 전동 모터(45)의 회전을 니들(41)의 직선 이동으로 변환한다. 니들(41)은, 횡 방향(X 방향)으로 이동된다. In addition, the operation of the needle movement mechanism 23 will be described. The needle movement mechanism 23 adjusts the flow rate of the chemical liquid in the first flow path 33 and the other flow path blocks 21 by adjusting the gap between the tip portion 41a of the needle 41 and the opening 49. The needle 41 is moved by the rotational drive of the electric motor 45. The conversion mechanism 47 converts rotation of the electric motor 45 into linear movement of the needle 41. The needle 41 is moved in the horizontal direction (X direction).

약액이 토출된 후, 제어부(11)는, 삼방 밸브(71)를 조작함으로써, 기체 공급원(69)으로부터의 기체의 공급을 정지함과 함께, 도 2에 나타내는 하우징(53) 내의 기체를, 흡배기구(63) 등을 통해서 배기한다. 이것에 의해, 스프링(61)의 탄성력에 의해 다이아프램(51)의 육후부(51a)가 눌러지고, 그리고, 육후부(51a)가 벨브좌(75)에 눌러진다(닫힘 상태). 닫힘 상태일 때, 노즐(2)로부터 약액이 토출되지 않는다. After the chemical liquid is discharged, the control unit 11 stops the supply of the gas from the gas supply source 69 by operating the three-way valve 71, and inhales and extracts the gas in the housing 53 shown in FIG. 2. It exhausts through the sphere 63 etc. Thereby, the rear part 51a of the diaphragm 51 is pressed by the elastic force of the spring 61, and the rear part 51a is pressed by the valve seat 75 (closed state). In the closed state, the chemical liquid is not discharged from the nozzle 2.

노즐(2)로부터의 약액의 토출이 종료된 후, 노즐(2)은, 기판(W)의 상방으로부터 기판 밖으로 퇴피된다. 유지 회전부(3)는, 유지되는 기판(W)의 회전을 정지시키고, 그 후, 기판(W)의 유지를 해제한다. 도시하지 않은 반송 기구는, 유지 회전부(3) 상의 기판(W)를 다른 장치, 재치부 또는 캐리어 등에 이동시킨다. After the discharge of the chemical liquid from the nozzle 2 is completed, the nozzle 2 is withdrawn from the upper side of the substrate W out of the substrate. The holding | maintenance rotating part 3 stops rotation of the board | substrate W hold | maintained, and releases hold | maintain of the board | substrate W after that. The conveyance mechanism which is not shown in figure moves the board | substrate W on the holding | maintenance rotating part 3 to another apparatus, a mounting part, a carrier, etc.

본 실시예에 의하면, 유로 블록(21)은, 제1 외벽(21a)과, 제1 외벽(21a)과 직각인 면인 제2 외벽(21b)을 가진다. 니들(41)이 배치되는 유량 조정용 밸브실(27)은, 유로 블록(21)의 제1 외벽(21a)이 패이도록 형성되어 있다. 한편, 다이아프램(51)이 배치되는 개폐용 밸브실(29)은, 제2 외벽(21b)이 패이도록 형성되어 있다. 중간 유로(31)는, 유량 조정용 밸브실(27)과 개폐용 밸브실(29)을 접속하는데, 중간 유로(31)는, 제2 외벽(21b)에 대해 직각으로 연장되어 있다. 이와 같은 구성에 의해, 중간 유로(31)를 직선형으로 형성할 수 있다. 그 때문에, V자 유로 등이 원인으로 약액이 악화될 우려가 있는 약액의 치환 특성을 향상시킬 수 있다. 또한, 치환 특성은, 새로운 약액이 제1 접속구(37)에 유입되어, 원래의 약액을 밀어내면서 제2 접속구(39)에 도달하는 시간으로 나타내어지는 특성이다. According to this embodiment, the flow path block 21 has the 1st outer wall 21a and the 2nd outer wall 21b which is the surface orthogonal to the 1st outer wall 21a. The valve chamber 27 for flow rate adjustment in which the needle 41 is disposed is formed such that the first outer wall 21a of the flow path block 21 is dug. On the other hand, the opening / closing valve chamber 29 in which the diaphragm 51 is arrange | positioned is formed so that the 2nd outer wall 21b may be dug. The intermediate flow passage 31 connects the flow rate adjusting valve chamber 27 and the opening / closing valve chamber 29, but the intermediate flow passage 31 extends at a right angle with respect to the second outer wall 21b. With such a configuration, the intermediate passage 31 can be formed in a straight line. Therefore, the substitution characteristic of the chemical liquid which may deteriorate due to a V-shaped flow path etc. can be improved. In addition, the substitution characteristic is a characteristic represented by the time when a new chemical liquid flows into the first connection port 37 and reaches the second connection port 39 while pushing out the original chemical solution.

또, 제1 유로(33) 및 제2 유로(35)는 각각, 직선형이며, 중간 유로(31)에 대해 직각으로 연장되어 있다. 한 쌍의 금형(81, 82)에 수지를 흘려 넣어 유로 블록(21)을 형성할 때에, 중간 유로(31)를 형성하기 위해 한 쌍의 금형(81, 82) 내에 삽입하는 제1 핀 부재(89)와 제1 유로(33) 및 제2 유로(35)를 형성하기 위해 한 쌍의 금형(81, 82) 내에 삽입하는 제2 핀 부재(90) 및 제3 핀 부재(91)의 각각을 직각으로 배치할 수 있다. 그 때문에, 제1 핀 부재(89)와, 제2 핀 부재(90) 및 제3 핀 부재(91)의 각각이 비스듬하게 배치되는(직각이 아닌) 경우에 비해, 중간 유로(31), 제1 유로(33) 및 제2 유로(35)를 용이하게 형성할 수 있다. In addition, the 1st flow path 33 and the 2nd flow path 35 are each linear, and are extended at right angles with respect to the intermediate flow path 31. As shown in FIG. When the resin is poured into the pair of molds 81 and 82 to form the flow path block 21, the first pin member inserted into the pair of molds 81 and 82 to form the intermediate flow path 31 ( 89 and each of the second fin member 90 and the third fin member 91 inserted into the pair of molds 81 and 82 to form the first flow path 33 and the second flow path 35. Can be placed at right angles. Therefore, compared with the case where each of the 1st pin member 89, the 2nd pin member 90, and the 3rd pin member 91 is arranged obliquely (not perpendicular), the intermediate | middle flow path 31 and the 1st The first flow path 33 and the second flow path 35 can be easily formed.

또, 제1 유로(33)는, 제2 유로(35)와 평행이다. 제1 유로(33)에 있어서의 유량 조정용 밸브실(27)과 접속하는 부분과 반대측의 제1 접속구(37)는, 제2 유로(35)에 있어서의 개폐용 밸브실(29)과 접속하는 부분과 반대측의 제2 접속구(39)와 동일한 방향을 향하여 개구하고 있다. 한 쌍의 금형(81, 82)에 수지를 흘려 넣어 유로 블록(21)을 형성할 때에, 제1 유로(33) 및 제2 유로(35)를 형성하기 위해 한 쌍의 금형(81, 82) 내에 삽입하는 제2 핀 부재(90) 및 제3 핀 부재(91)를 동일한 방향으로 이동시킬 수 있다. 그 때문에, 제2 핀 부재(90)이 금형 내에 삽입되는 방향이 제3 핀 부재(91)의 방향과 상이한 경우에 비해, 제1 유로(33) 및 제2 유로(35)를 용이하게 형성할 수 있다. In addition, the first flow path 33 is parallel to the second flow path 35. The first connection port 37 on the opposite side to the portion to be connected to the flow rate adjustment valve chamber 27 in the first flow passage 33 is connected to the opening / closing valve chamber 29 in the second flow passage 35. It opens toward the same direction as the 2nd connection port 39 on the opposite side to a part. When the resin flows into the pair of molds 81 and 82 to form the flow path block 21, the pair of molds 81 and 82 to form the first flow path 33 and the second flow path 35. The second pin member 90 and the third pin member 91 inserted therein can be moved in the same direction. Therefore, the first flow path 33 and the second flow path 35 can be easily formed as compared with the case where the direction in which the second pin member 90 is inserted into the mold is different from the direction of the third pin member 91. Can be.

본 발명은, 상기 실시 형태에 한정되는 것은 없으며, 하기와 같이 변형 실시할 수 있다. The present invention is not limited to the above embodiment and can be modified as follows.

(1) 상술한 실시예에서는, 개폐용 밸브실(29)이 설치된 제2 외벽(21b)은, 유량 조정용 밸브실(27)이 설치된 제1 외벽(21a)과 직각인 면이었다. 이 점, 도 4와 같이, 제2 외벽(21b)은, 제1 외벽(21a)과 대향함과 함께 제1 외벽(21a)과 거의 평행한 면이어도 된다. 즉, 제2 외벽(면)(21b)은, 유로 블록(21)을 사이에 두고 제1 외벽(면)(21a)의 반대측에 설치된다. 또, 제2 외벽(21b)은, 제1 외벽(21a)에 대해 거의 평행이다. (1) In the above-mentioned embodiment, the 2nd outer wall 21b in which the opening / closing valve chamber 29 was provided was the surface orthogonal to the 1st outer wall 21a in which the flow volume adjusting valve chamber 27 was provided. In this regard, as shown in FIG. 4, the second outer wall 21b may be a surface that is substantially parallel to the first outer wall 21a while facing the first outer wall 21a. That is, the second outer wall (surface) 21b is provided on the side opposite to the first outer wall (surface) 21a with the flow path block 21 interposed therebetween. In addition, the second outer wall 21b is substantially parallel to the first outer wall 21a.

유량 조정용 밸브실(27)은, 유로 블록(21)의 제1 외벽(21a)의 일부가 패이도록 형성되어 있다. 개폐용 밸브실(29)은, 유로 블록(21)의 제2 외벽(21b)의 일부가 패이도록 형성되어 있다. 도 4와 같이, 유량 조정용 밸브실(27)은, 개폐용 밸브실(29)과 대향하도록 배치되어 있다. The valve chamber 27 for flow rate adjustment is formed so that a part of the 1st outer wall 21a of the flow path block 21 may be dug. The opening / closing valve chamber 29 is formed so that a part of the second outer wall 21b of the flow path block 21 can be dug. As shown in FIG. 4, the flow rate adjusting valve chamber 27 is disposed to face the opening / closing valve chamber 29.

직선형의 중간 유로(31)는, 개폐용 밸브실(29)과 유량 조정용 밸브실(27)과 접속시키도록 형성되어 있다. 또, 중간 유로(31)는, 제1 외벽(21a) 및 제2 외벽(21b)에 대해 직각으로 연장되어 있다. 제1 유로(33) 및 제2 유로(35)는, 각각, 중간 유로(31)에 대해 직각으로 연장되어 있다. 제1 유로(33)는, 유량 조정용 밸브실(27)에 접속되어 있다. 한편, 제2 유로(35)는, 개폐용 밸브실(29)에 접속되어 있다. The straight intermediate flow passage 31 is formed to be connected to the opening / closing valve chamber 29 and the flow rate adjusting valve chamber 27. Moreover, the intermediate flow path 31 extends at right angles with respect to the 1st outer wall 21a and the 2nd outer wall 21b. The first flow passage 33 and the second flow passage 35 extend at right angles to the intermediate flow passage 31, respectively. The first flow path 33 is connected to the valve chamber 27 for adjusting the flow rate. On the other hand, the second flow path 35 is connected to the opening / closing valve chamber 29.

도 4에 나타내는 다이아프램(51)은, 종 방향(Y 방향)으로 이동한다. 그리고, 본 변형예의 니들(41)도, 종 방향으로 이동한다. 니들(41)의 선단부(41a)는, 유량 조정용 밸브실(27)과 중간 유로(31)의 접속 부분의 개구부(49)에 통과된다. The diaphragm 51 shown in FIG. 4 moves to a longitudinal direction (Y direction). And the needle 41 of this modification also moves to a longitudinal direction. The tip portion 41a of the needle 41 passes through the opening 49 in the connection portion between the valve chamber 27 for adjusting the flow rate and the intermediate flow passage 31.

본 변형예에 의하면, 유로 블록(21)은, 제1 외벽(21a)과, 제1 외벽(21a)과 대향함과 함께 제1 외벽(21a)과 평행한 면인 제2 외벽(21b)을 가진다. 니들(41)이 배치되는 유량 조정용 밸브실(27)은, 유로 블록(21)의 제1 외벽(21a)이 패이도록 형성되어 있다. 한편, 다이아프램(51)이 배치되는 개폐용 밸브실(29)은, 제2 외벽(21b)이 패이도록 형성되어 있다. 중간 유로(31)는, 유량 조정용 밸브실(27)과 개폐용 밸브실(29)을 접속하는데, 중간 유로(31)는, 제1 외벽(21a) 및 제2 외벽(21b)에 대해 직각으로 연장되어 있다. 이와 같은 구성에 의해, 중간 유로(31)를 직선형으로 형성할 수 있다. 그 때문에, V자 유로 등이 원인으로 약액이 악화될 우려가 있는 약액의 치환 특성을 향상시킬 수 있다. According to this modification, the flow path block 21 has the 1st outer wall 21a, the 2nd outer wall 21b which is a surface parallel to the 1st outer wall 21a, facing the 1st outer wall 21a. . The valve chamber 27 for flow rate adjustment in which the needle 41 is disposed is formed such that the first outer wall 21a of the flow path block 21 is dug. On the other hand, the opening / closing valve chamber 29 in which the diaphragm 51 is arrange | positioned is formed so that the 2nd outer wall 21b may be dug. The intermediate flow passage 31 connects the flow rate adjusting valve chamber 27 and the opening / closing valve chamber 29. The intermediate flow passage 31 is perpendicular to the first outer wall 21a and the second outer wall 21b. It is extended. With such a configuration, the intermediate passage 31 can be formed in a straight line. Therefore, the substitution characteristic of the chemical liquid which may deteriorate due to a V-shaped flow path etc. can be improved.

(2) 상술한 실시예에서는, 중간 유로(31)는, 예를 들면 도 2와 같이, 개폐용 밸브실(29)이 설치된 제2 외벽(21b)에 거의 직각으로 연장되도록 형성되고 있었다. 이 점, 중간 유로(31)는, 도 5(a)와 같이, 유량 조정용 밸브실(27)이 설치된 제1 외벽(21a)에 거의 직각으로 연장되도록 형성되어도 된다. (2) In the above-mentioned embodiment, the intermediate flow path 31 was formed so as to extend substantially perpendicular to the 2nd outer wall 21b in which the opening / closing valve chamber 29 was provided like FIG. This point and the intermediate | middle flow path 31 may be formed so that it may extend substantially perpendicularly to the 1st outer wall 21a in which the flow volume adjusting valve chamber 27 was provided like FIG.

(3) 상술한 실시예 및 변형예(1)에서는, 도 2 및 도 4와 같이, 개폐용 밸브실(29)의 저부의 개구부(73)는, 제2 유로(35)에 접속되어 있었다. 이 점, 도 5(b)와 같이, 개폐용 밸브실(29)의 저부의 개구부(73)는, 중간 유로(31)에 접속되어 있어도 된다. (3) In the above-described embodiment and modified example (1), as shown in Figs. 2 and 4, the opening 73 in the bottom of the opening / closing valve chamber 29 is connected to the second flow path 35. In this regard, as shown in FIG. 5B, the opening 73 at the bottom of the opening / closing valve chamber 29 may be connected to the intermediate flow path 31.

(4) 상술한 실시예 및 각 변형예에서는, 도 2 및 도 4와 같이, 유량 조정용 밸브실(27)의 저부의 개구부(49)에는, 니들(41)의 이동 방향으로 연장되는 중간 유로(31) 또는 제1 유로(33)가 접속되어 있었다. 이 점, 도 5(b)와 같이, 유량 조정용 밸브실(27)의 저부의 개구부(49)에는, 제3 연장 유로(40c)를 통하여, 니들(41)의 이동 방향과 직교하는 방향으로 연장되는 중간 유로(31)(또는 제1 유로(33))가 접속되어도 된다. 제3 연장 유로(40c)는, 개구부(49)로부터 니들(41)의 이동 방향으로 연장되어, 중간 유로(31)와 접속되어 있다. (4) In the above-described embodiment and each modified example, as shown in Figs. 2 and 4, the opening 49 at the bottom of the valve chamber 27 for adjusting the flow rate extends in an intermediate flow path extending in the moving direction of the needle 41. 31) or the first flow path 33 was connected. In this regard, as shown in Fig. 5 (b), the opening 49 at the bottom of the flow regulating valve chamber 27 extends in the direction orthogonal to the moving direction of the needle 41 via the third extension flow passage 40c. The intermediate flow passage 31 (or the first flow passage 33) may be connected. The third extension flow passage 40c extends from the opening portion 49 in the moving direction of the needle 41 and is connected to the intermediate flow passage 31.

또한, 도 5(a), 도 5(b) 및 후술하는 도 6(a), 도 6(b)에 있어서, 니들 이동 기구(23) 및 개폐용 밸브체 이동 기구(25)는 간략화하여 나타내고 있다. 5 (a), 5 (b), and 6 (a) and 6 (b) described later, the needle moving mechanism 23 and the valve opening and closing mechanism 25 for opening and closing are shown in a simplified manner. have.

(5) 상술한 실시예 및 각 변형예에서는, 니들 이동 기구(23)는, 전동 모터(45)와 변환 기구(47)를 구비하고, 전동 모터(45)가 출력하는 회전을 변환 기구(47)에 의해, 니들(41)의 직선 이동으로 변환하도록 구성하고 있었다. 그러나, 이것에 한정되는 것은 아니다. 전동 모터(45) 대신에 작업자가 수동으로 움직이는 핸들이나 손잡이를 설치하여, 핸들이나 손잡이의 회전을 니들(41)의 직선 이동으로 변환하도록 구성해도 된다. (5) In the above-described embodiment and each modified example, the needle movement mechanism 23 includes an electric motor 45 and a conversion mechanism 47, and converts the rotation output from the electric motor 45 into the conversion mechanism 47. ) To convert the needle 41 into linear movement. However, it is not limited to this. Instead of the electric motor 45, a handle or knob that is manually moved by an operator may be provided so as to convert the rotation of the handle or knob into linear movement of the needle 41.

(6) 상술한 실시예 및 각 변형예에서는, 예를 들면 도 2 및 도 4와 같이, 제1 유로(33)의 일단의 제1 접속구(37)는, 제2 유로(35)의 일단의 제2 접속구(39)와 동일한 방향을 향하고 있었다. 즉, 제1 접속구(37) 및 제2 접속구(39)는 모두, 도 2 및 도 4에 있어서, 우측 방향으로 개구하고 있었다. 이 점, 도 6(a) 및 도 6(b)와 같이, 제1 접속구(37)는, 제2 접속구(39)와 역방향으로 개구해도 된다. 즉, 도 6(a) 및 도 6(b)에 있어서, 제1 접속구(37)는, 좌측 방향으로 개구하고, 제2 접속구(39)는, 우측 방향으로 개구한다. (6) In the above-described embodiment and each modification, for example, as shown in FIGS. 2 and 4, the first connection port 37 of one end of the first flow path 33 is connected to one end of the second flow path 35. It was facing the same direction as the second connector 39. That is, both the 1st connection port 37 and the 2nd connection port 39 opened in the right direction in FIG.2 and FIG.4. 6A and 6B, the first connector 37 may be opened in the opposite direction to the second connector 39. That is, in FIG.6 (a) and FIG.6 (b), the 1st connection opening 37 opens to a left direction, and the 2nd connection opening 39 opens to a right direction.

또한, 도 6(a) 및 도 6(b)에 있어서, 제1 접속구(37)는, 제2 접속구(39)와 역방향, 즉, 제2 접속구(39)에 대해 중간 유로(31) 둘레로 180도 반대를 향하여 개구하고 있다. 이 점, 제1 접속구(37)는, 제2 접속구(39)에 대해, 중간 유로(31) 둘레로 예를 들면 90°을 향하여(즉 0도 및 180도를 제외한 방향으로) 개구해도 된다. 6 (a) and 6 (b), the first connector 37 is in the opposite direction to the second connector 39, that is, around the intermediate passage 31 with respect to the second connector 39. It is opening 180 degrees in the opposite direction. In this regard, the first connection port 37 may be opened with respect to the second connection port 39 toward, for example, 90 ° (ie, in a direction except 0 ° and 180 °) around the intermediate flow path 31.

(7) 상술한 실시예 및 각 변형예에서는, 개폐용 밸브체 이동 기구(25)는, 기체에 의해 다이아프램(51)을 구동시키고 있었다. 이 점, 개폐용 밸브체 이동 기구(25)는, 니들 이동 기구(23)과 마찬가지로, 전동 모터에 의해 다이아프램(51)을 구동시켜도 된다. 전동 모터에 의한 회전은, 변환 기구에 의해 직선 이동으로 변환된다. 이것에 의해, 다이아프램(51)의 육후부(51a)를 벨브좌(75)에 누르거나, 육후부(51a)를 벨브좌(75)로부터 떼어 놓는다. (7) In the above-mentioned embodiment and each modification, the opening-closing valve body moving mechanism 25 was driving the diaphragm 51 with gas. In this regard, the valve body moving mechanism 25 for opening and closing may drive the diaphragm 51 by an electric motor similarly to the needle moving mechanism 23. The rotation by the electric motor is converted into linear movement by the conversion mechanism. Thereby, the thickness part 51a of the diaphragm 51 is pressed against the valve seat 75, or the thickness part 51a is removed from the valve seat 75. As shown in FIG.

1 기판 처리 장치 2 노즐
3 유지 회전부 8a, 8b 약액 배관
9 약액 제어 밸브 11 제어부
21 단일 유로 블록 21a 제1 외벽
21b 제2 외벽 23 니들 이동 기구
25 개폐용 밸브체 이동 기구 27 유량 조정용 밸브실
29 개폐용 밸브실 31 중간 유로
33 제1 유로 35 제2 유로
37 제1 접속구 39 제2 접속구
41 니들 51 다이아프램
1 substrate processing unit 2 nozzles
3 Holding Rotator 8a, 8b Chemical Piping
9 Chemical Control Valve 11 Controls
21 single euro block 21a first outer wall
21b 2nd outer wall 23 needle movement mechanism
25 Valve body moving mechanism for opening and closing 27 Valve chamber for adjusting flow rate
29 Valve valve for opening and closing 31 Intermediate flow path
33 1st Euro 35 2nd Euro
37 First port 39 Second port
41 Needle 51 Diaphragm

Claims (7)

제1 외벽 및, 상기 제1 외벽과 직각인 면인 제2 외벽을 가지는 단일 유로 블록과,
상기 제1 외벽이 패이도록 형성된 유량 조정용 밸브실과,
상기 제2 외벽이 패이도록 형성된 개폐용 밸브실과,
상기 유로 블록의 내부에 형성된 직선형의 중간 유로이며, 상기 유량 조정용 밸브실과 상기 개폐용 밸브실 사이를 접속시켜, 상기 제1 외벽 및 상기 제2 외벽 중 어느 한 쪽에 대해 직각으로 연장되는 상기 중간 유로와,
상기 유로 블록의 내부에 형성되며, 상기 유량 조정용 밸브실과 접속하는 제1 유로와,
상기 유로 블록의 내부에 형성되며, 상기 개폐용 밸브실과 접속하는 제2 유로와,
상기 유량 조정용 밸브실 내에 배치된 니들을 가지며, 상기 유량 조정용 밸브실을 막음과 함께, 약액의 유량을 조정하기 위해 상기 니들을 이동시키는 니들 이동 기구와,
상기 개폐용 밸브실 내에 배치된 개폐용 밸브체를 가지며, 상기 개폐용 밸브실을 막음과 함께, 약액의 공급 및 그 공급의 정지를 행하기 위해 상기 개폐용 밸브체를 이동시키는 개폐용 밸브체 이동 기구를 구비하고 있는 것을 특징으로 하는 약액 제어 밸브.
A single flow path block having a first outer wall and a second outer wall that is a surface perpendicular to the first outer wall;
A valve chamber for adjusting flow rate formed such that the first outer wall is dug;
A valve valve for opening and closing the second outer wall is formed;
The intermediate flow path formed inside the flow path block, the intermediate flow path extending between the first outer wall and the second outer wall at a right angle by connecting between the flow rate adjusting valve chamber and the opening / closing valve chamber; ,
A first flow path formed inside the flow path block and connected to the flow rate adjusting valve chamber;
A second flow path formed inside the flow path block and connected to the opening / closing valve chamber;
A needle moving mechanism having a needle disposed in the flow regulating valve chamber and blocking the flow regulating valve chamber and moving the needle to adjust the flow rate of the chemical liquid;
An opening / closing valve body which has an opening / closing valve body arranged in the opening / closing valve chamber and which moves the opening / closing valve body in order to close the opening / closing valve chamber and to stop supply of the chemical liquid and its supply. A chemical liquid control valve having a mechanism.
제1 외벽 및, 상기 제1 외벽과 대향함과 함께 상기 제1 외벽과 평행한 면인 제2 외벽을 가지는 단일 유로 블록과,
상기 제1 외벽이 패이도록 형성된 유량 조정용 밸브실과,
상기 제2 외벽이 패이도록 형성된 개폐용 밸브실과,
상기 유로 블록의 내부에 형성된 직선형의 중간 유로이며, 상기 유량 조정용 밸브실과 상기 개폐용 밸브실 사이를 접속시켜, 상기 제1 외벽 및 상기 제2 외벽에 대해 직각으로 연장되는 상기 중간 유로와,
상기 유로 블록의 내부에 형성되며, 상기 유량 조정용 밸브실과 접속하는 제1 유로와,
상기 유로 블록의 내부에 형성되며, 상기 개폐용 밸브실과 접속하는 제2 유로와,
상기 유량 조정용 밸브실 내에 배치된 니들을 가지며, 상기 유량 조정용 밸브실을 막음과 함께, 약액의 유량을 조정하기 위해 상기 니들을 이동시키는 니들 이동 기구와,
상기 개폐용 밸브실 내에 배치된 개폐용 밸브체를 가지며, 상기 개폐용 밸브실을 막음과 함께, 약액의 공급 및 그 공급의 정지를 행하기 위해 상기 개폐용 밸브체를 이동시키는 개폐용 밸브체 이동 기구를 구비하고 있는 것을 특징으로 하는 약액 제어 밸브.
A single flow path block having a first outer wall and a second outer wall facing the first outer wall and parallel to the first outer wall;
A valve chamber for adjusting flow rate formed such that the first outer wall is dug;
A valve valve for opening and closing the second outer wall is formed;
The intermediate flow path formed inside the flow path block, the intermediate flow path extending between the first outer wall and the second outer wall by connecting between the flow rate adjusting valve chamber and the opening / closing valve chamber;
A first flow path formed inside the flow path block and connected to the flow rate adjusting valve chamber;
A second flow path formed inside the flow path block and connected to the opening / closing valve chamber;
A needle moving mechanism having a needle disposed in the flow regulating valve chamber and blocking the flow regulating valve chamber and moving the needle to adjust the flow rate of the chemical liquid;
An opening / closing valve body which has an opening / closing valve body arranged in the opening / closing valve chamber and which moves the opening / closing valve body in order to close the opening / closing valve chamber and to stop supply of the chemical liquid and its supply. A chemical liquid control valve having a mechanism.
청구항 1 또는 청구항 2에 있어서,
상기 제1 유로 및 상기 제2 유로는 각각, 직선형이며, 상기 중간 유로에 대해 직각으로 연장되는 것을 특징으로 하는 약액 제어 밸브.
The method according to claim 1 or 2,
The first flow path and the second flow path are each linear, and the chemical liquid control valve, characterized in that extending at right angles to the intermediate flow path.
청구항 1 또는 청구항 2에 있어서,
상기 제1 유로는, 상기 제2 유로와 평행하며,
상기 제1 유로에 있어서의 상기 유량 조정용 밸브실과 접속하는 부분과 반대측의 제1 접속구는, 상기 제2 유로에 있어서의 상기 개폐용 밸브실과 접속하는 부분과 반대측의 제2 접속구와 동일한 방향을 향해 개구하고 있는 것을 특징으로 하는 약액 제어 밸브.
The method according to claim 1 or 2,
The first flow path is parallel to the second flow path,
The first connection port on the side opposite to the portion to be connected to the flow rate adjustment valve chamber in the first flow passage opens toward the same direction as the second connection port on the opposite side to the portion to be connected to the opening / closing valve chamber in the second flow passage. Chemical liquid control valve characterized in that.
청구항 1 또는 청구항 2에 있어서,
상기 유로 블록은, PFA로 형성되어 있는 것을 특징으로 하는 약액 제어 밸브.
The method according to claim 1 or 2,
The channel block is formed of PFA, the chemical liquid control valve.
기판을 유지하고, 유지한 기판을 회전시키는 유지 회전부와,
상기 유지 회전부에 유지된 기판에 대해 약액을 토출하는 노즐과,
상기 노즐에 접속된 약액 배관과,
상기 노즐로부터 토출되는 약액의 유량을 조정하고, 또한 상기 노즐로부터 약액을 토출시키고, 약액 토출을 정지시키는 약액 제어 밸브를 구비하고,
상기 약액 제어 밸브는, 제1 외벽 및, 상기 제1 외벽과 직각인 면인 제2 외벽을 가지는 단일 유로 블록과,
상기 제1 외벽이 패이도록 형성된 유량 조정용 밸브실과,
상기 제2 외벽이 패이도록 형성된 개폐용 밸브실과,
상기 유로 블록의 내부에 형성된 직선형의 중간 유로이며, 상기 유량 조정용 밸브실과 상기 개폐용 밸브실 사이를 접속시켜, 상기 제1 외벽 및 상기 제2 외벽 중 어느 한 쪽에 대해 직각으로 연장되는 상기 중간 유로와,
상기 유로 블록의 내부에 형성되며, 상기 유량 조정용 밸브실과 접속하는 제1 유로와,
상기 유로 블록의 내부에 형성된 제2 유로이며, 상기 개폐용 밸브실과 접속함과 함께, 상기 약액 배관을 통하여 상기 노즐에 접속되는 상기 제2 유로와,
상기 유량 조정용 밸브실 내에 배치된 니들을 가지며, 상기 유량 조정용 밸브실을 막음과 함께, 약액의 유량을 조정하기 위해 상기 니들을 이동시키는 니들 이동 기구와,
상기 개폐용 밸브실 내에 배치된 개폐용 밸브체를 가지며, 상기 개폐용 밸브실을 막음과 함께, 약액의 공급 및 그 공급의 정지를 행하기 위해 상기 개폐용 밸브체를 이동시키는 개폐용 밸브체 이동 기구를 구비하고 있는 것을 특징으로 하는 기판 처리 장치.
A holding and rotating portion for holding the substrate and rotating the held substrate;
A nozzle for discharging the chemical liquid to the substrate held by the holding rotating part;
A chemical liquid pipe connected to the nozzle,
A chemical liquid control valve which adjusts the flow rate of the chemical liquid discharged from the nozzle, further discharges the chemical liquid from the nozzle, and stops the chemical liquid discharge;
The chemical liquid control valve may include a single flow path block having a first outer wall and a second outer wall that is a surface perpendicular to the first outer wall;
A valve chamber for adjusting flow rate formed such that the first outer wall is dug;
A valve valve for opening and closing the second outer wall is formed;
The intermediate flow path formed inside the flow path block, the intermediate flow path extending between the first outer wall and the second outer wall at a right angle by connecting between the flow rate adjusting valve chamber and the opening / closing valve chamber; ,
A first flow path formed inside the flow path block and connected to the flow rate adjusting valve chamber;
A second flow path formed inside the flow path block, the second flow path being connected to the nozzle via the chemical liquid pipe while being connected to the opening / closing valve chamber;
A needle moving mechanism having a needle disposed in the flow regulating valve chamber and blocking the flow regulating valve chamber and moving the needle to adjust the flow rate of the chemical liquid;
An opening / closing valve body which has an opening / closing valve body arranged in the opening / closing valve chamber and which moves the opening / closing valve body in order to close the opening / closing valve chamber and to stop supply of the chemical liquid and its supply. A substrate processing apparatus comprising a mechanism.
기판을 유지하고, 유지한 기판을 회전시키는 유지 회전부와,
상기 유지 회전부에 유지된 기판에 대해 약액을 토출하는 노즐과,
상기 노즐에 접속된 약액 배관과,
상기 노즐로부터 토출되는 약액의 유량을 조정하고, 또한 상기 노즐로부터 약액을 토출시키고, 약액 토출을 정지시키는 약액 제어 밸브를 구비하고,
상기 약액 제어 밸브는, 제1 외벽 및, 상기 제1 외벽과 대향함과 함께 상기 제1 외벽과 평행한 면인 제2 외벽을 가지는 단일 유로 블록과,
상기 제1 외벽이 패이도록 형성된 유량 조정용 밸브실과,
상기 제2 외벽이 패이도록 형성된 개폐용 밸브실과,
상기 유로 블록의 내부에 형성된 직선형의 중간 유로이며, 상기 유량 조정용 밸브실과 상기 개폐용 밸브실 사이를 접속시켜, 상기 제1 외벽 및 상기 제2 외벽에 대해 직각으로 연장되는 상기 중간 유로와,
상기 유로 블록의 내부에 형성되며, 상기 유량 조정용 밸브실과 접속하는 제1 유로와,
상기 유로 블록의 내부에 형성된 제2 유로이며, 상기 개폐용 밸브실과 접속함과 함께, 상기 약액 배관을 통하여 상기 노즐에 접속되는 상기 제2 유로와,
상기 유량 조정용 밸브실 내에 배치된 니들을 가지며, 상기 유량 조정용 밸브실을 막음과 함께, 약액의 유량을 조정하기 위해 상기 니들을 이동시키는 니들 이동 기구와,
상기 개폐용 밸브실 내에 배치된 개폐용 밸브체를 가지며, 상기 개폐용 밸브실을 막음과 함께, 약액의 공급 및 그 공급의 정지를 행하기 위해 상기 개폐용 밸브체를 이동시키는 개폐용 밸브체 이동 기구를 구비하고 있는 것을 특징으로 하는 기판 처리 장치.
A holding and rotating portion for holding the substrate and rotating the held substrate;
A nozzle for discharging the chemical liquid to the substrate held by the holding rotating part;
A chemical liquid pipe connected to the nozzle,
A chemical liquid control valve which adjusts the flow rate of the chemical liquid discharged from the nozzle, further discharges the chemical liquid from the nozzle, and stops the chemical liquid discharge;
The chemical liquid control valve may include a single flow path block having a first outer wall and a second outer wall facing the first outer wall and parallel to the first outer wall;
A valve chamber for adjusting flow rate formed such that the first outer wall is dug;
A valve valve for opening and closing the second outer wall is formed;
The intermediate flow path formed inside the flow path block, the intermediate flow path extending between the first outer wall and the second outer wall by connecting between the flow rate adjusting valve chamber and the opening / closing valve chamber;
A first flow path formed inside the flow path block and connected to the flow rate adjusting valve chamber;
A second flow path formed inside the flow path block, the second flow path being connected to the nozzle via the chemical liquid pipe while being connected to the opening / closing valve chamber;
A needle moving mechanism having a needle disposed in the flow regulating valve chamber and blocking the flow regulating valve chamber and moving the needle to adjust the flow rate of the chemical liquid;
An opening / closing valve body which has an opening / closing valve body arranged in the opening / closing valve chamber and which moves the opening / closing valve body in order to close the opening / closing valve chamber and to stop supply of the chemical liquid and its supply. A substrate processing apparatus comprising a mechanism.
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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
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KR20210106707A (en) * 2020-02-21 2021-08-31 한국기술교육대학교 산학협력단 Exhaust control apparatus
KR20210119726A (en) 2020-03-25 2021-10-06 무진전자 주식회사 Chemical providing management system of semiconductor process

Citations (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2001263507A (en) 2000-03-22 2001-09-26 Ckd Corp Flow regulating valve
KR20100012792U (en) * 2010-01-22 2010-12-24 홍성정공(주) Pressure Compensated Flow Control Valve
KR20150069510A (en) * 2013-12-13 2015-06-23 아드반스 덴키 고교 가부시키가이샤 Flow control valve and flow control system using same
KR101660115B1 (en) * 2010-05-18 2016-09-26 시케이디 가부시키가이샤 Chemical liquid circuit apparatus
KR20170058602A (en) * 2015-11-19 2017-05-29 서문원 Hydraulic pressure buffer solenoid valve and method for operating the solenoid valve
KR20170116155A (en) * 2015-03-27 2017-10-18 가부시키가이샤 스크린 홀딩스 Process liquid supply device and control method of process liquid supply device
JP2017207121A (en) 2016-05-18 2017-11-24 Ckd株式会社 Flow passage block, fluid control device, and method for producing flow passage block

Family Cites Families (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0442913Y2 (en) * 1984-11-30 1992-10-12
JP2007058352A (en) * 2005-08-22 2007-03-08 Asahi Organic Chem Ind Co Ltd Fluid controller
JP2007058339A (en) * 2005-08-22 2007-03-08 Asahi Organic Chem Ind Co Ltd Fluid control device
JP6196538B2 (en) 2013-11-14 2017-09-13 旭化成株式会社 Cover material for press-through pack packaging body, manufacturing method thereof, and packaging body
JP6238798B2 (en) * 2014-03-10 2017-11-29 旭有機材株式会社 Flow regulating valve and fluid control apparatus including the same
JP6512426B2 (en) * 2015-01-15 2019-05-15 株式会社Screenホールディングス Substrate processing equipment
JP6576217B2 (en) * 2015-11-10 2019-09-18 株式会社Screenホールディングス Treatment liquid supply apparatus and control method of treatment liquid supply apparatus
JP6588819B2 (en) * 2015-12-24 2019-10-09 株式会社Screenホールディングス Substrate processing apparatus and substrate processing method

Patent Citations (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2001263507A (en) 2000-03-22 2001-09-26 Ckd Corp Flow regulating valve
KR20100012792U (en) * 2010-01-22 2010-12-24 홍성정공(주) Pressure Compensated Flow Control Valve
KR101660115B1 (en) * 2010-05-18 2016-09-26 시케이디 가부시키가이샤 Chemical liquid circuit apparatus
KR20150069510A (en) * 2013-12-13 2015-06-23 아드반스 덴키 고교 가부시키가이샤 Flow control valve and flow control system using same
KR20170116155A (en) * 2015-03-27 2017-10-18 가부시키가이샤 스크린 홀딩스 Process liquid supply device and control method of process liquid supply device
KR20170058602A (en) * 2015-11-19 2017-05-29 서문원 Hydraulic pressure buffer solenoid valve and method for operating the solenoid valve
JP2017207121A (en) 2016-05-18 2017-11-24 Ckd株式会社 Flow passage block, fluid control device, and method for producing flow passage block

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20210106707A (en) * 2020-02-21 2021-08-31 한국기술교육대학교 산학협력단 Exhaust control apparatus
KR20210119726A (en) 2020-03-25 2021-10-06 무진전자 주식회사 Chemical providing management system of semiconductor process

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