KR102326247B1 - Exhaust control apparatus - Google Patents

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Abstract

본 발명에 따른 배기압 조절 장치는, 내부에 유체가 이동되는 제1공간과, 제1공간과 연결되며 일방향으로 직경이 커지도록 형성되는 제2공간을 포함하는 하우징유닛; 및 제1공간 및 제2공간을 이동하며 유체의 유량을 조절하는 유량조절유닛을 포함하고, 유량조절유닛은 하우징유닛 내부에서 이동 가능하게 구비되어 하우징유닛 내부와 접촉 가능하게 구비될 수 있다.An exhaust pressure control device according to the present invention includes: a housing unit including a first space in which a fluid is moved, and a second space connected to the first space and formed to have a larger diameter in one direction; and a flow rate control unit moving the first space and the second space to control the flow rate of the fluid, wherein the flow rate control unit is movably provided inside the housing unit to be in contact with the inside of the housing unit.

Description

배기압 조절 장치 {EXHAUST CONTROL APPARATUS}Exhaust pressure control device {EXHAUST CONTROL APPARATUS}

본 발명은 배기압 조절 장치에 관한 것으로서, 보다 상세하게는, 유동하는 공기의 양을 조절하여 설비를 포함하는 특정공간의 압력을 일정하게 유지하기 위한 배기압 조절 장치에 관한 것이다.The present invention relates to an exhaust pressure regulating device, and more particularly, to an exhaust pressure regulating device for maintaining a constant pressure in a specific space including a facility by controlling an amount of flowing air.

반도체 제조공정은 반도체 웨이퍼 상에 증착을 통해 감광물질을 도포하고 패턴마스크를 통해 감광물질을 노광한 후 식각처리를 통해 감광물질을 제거함으로써 원하는 패턴을 형성하는 공정이 진행되고, 이러한 패턴처리 공정에는 식각 후 웨이퍼 상의 이물질을 제거하기 위한 후처리작업을 필요로 한다.In the semiconductor manufacturing process, a desired pattern is formed by applying a photosensitive material through deposition on a semiconductor wafer, exposing the photosensitive material through a pattern mask, and then removing the photosensitive material through an etching process. After etching, a post-processing operation is required to remove foreign substances on the wafer.

이때 전술한 반도체 공정처리 결과는 주변 환경에 민감하게 반응하며 특히, 압력 변화에 따라 반도체 공정처리 결과의 편차가 발생한다는 문제점이 있다.In this case, there is a problem in that the above-described semiconductor processing results are sensitive to the surrounding environment, and in particular, there is a problem in that the semiconductor processing results are varied according to a change in pressure.

본 발명은 상기와 같은 문제점을 해결하기 위한 것으로서, 설비 혹은 특정공간의 압력이 일정하게 유지되도록 하는 배기압 조절 장치를 제공하는 것이 과제이다.SUMMARY OF THE INVENTION The present invention is to solve the above problems, and it is an object to provide an exhaust pressure control device for maintaining a constant pressure in a facility or a specific space.

본 발명의 과제들은 이상에서 언급한 과제들로 제한되지 않으며, 언급되지 않는 또 다른 과제들은 아래의 기재로부터 당업자에게 명확하게 이해될 수 있을 것이다.The problems of the present invention are not limited to the problems mentioned above, and other problems not mentioned will be clearly understood by those skilled in the art from the following description.

상기한 과제를 해결하기 위하여, 본 발명의 일 형태에 따르면, 배기압 조절 장치는 내부에 유체가 이동되는 제1공간과, 상기 제1공간과 연결되며 일방향으로 직경이 커지도록 형성되는 제2공간을 포함하는 하우징유닛; 및 상기 제1공간 및 제2공간을 이동하며 상기 유체의 유량을 조절하는 유량조절유닛을 포함하고, 상기 유량조절유닛은 상기 하우징유닛 내부에서 이동 가능하게 구비되어 상기 하우징유닛 내부와 접촉 가능하게 구비될 수 있다.In order to solve the above problems, according to one aspect of the present invention, the exhaust pressure control device includes a first space in which a fluid is moved, and a second space connected to the first space and formed to have a larger diameter in one direction. A housing unit comprising a; and a flow rate control unit moving the first space and the second space to adjust the flow rate of the fluid, wherein the flow rate control unit is movably provided inside the housing unit to be in contact with the inside of the housing unit can be

여기서 상기 유량조절유닛은 길게 형성되어 상기 제1공간의 중심을 관통하는 이동부; 상기 이동부에 결합되며 상기 이동부의 길이방향을 따라 이동되는 개폐부를 포함할 수 있다.Here, the flow rate control unit is formed to be elongated and a moving part passing through the center of the first space; It may include an opening/closing part coupled to the moving part and moving along the longitudinal direction of the moving part.

또한 상기 개폐부는 상기 이동부가 결합된 일측면에서 타측면으로 갈수록 직경이 작아지는 원뿔 형태일 수 있으며, 상기 제2공간은 상기 개폐부의 외주 일면이 상기 제2공간의 내주 일면에 접하여 상기 제1공간 및 상기 제2공간의 유체의 흐름이 차단되도록 형성될 수 있다.In addition, the opening and closing portion may be in the form of a cone having a diameter that decreases from one side to which the moving unit is coupled to the other side, and the second space has an outer peripheral surface of the opening and closing portion in contact with an inner peripheral surface of the second space, so that the first space And it may be formed to block the flow of the fluid in the second space.

상기 이동부는 액추에이터유닛; 상기 액추에이터유닛의 회전력을 직선 왕복운동으로 변환하는 변환유닛; 상기 변환유닛에 연결되어 일단에 상기 개폐부가 결합되는 결합유닛; 및 상기 결합유닛이 슬라이딩 되도록 고정하는 고정유닛을 포함할 수 있다.The moving unit may include an actuator unit; a conversion unit converting the rotational force of the actuator unit into a linear reciprocating motion; a coupling unit connected to the conversion unit and coupled to one end of the opening/closing unit; and a fixing unit for fixing the coupling unit to slide.

본 발명의 일 형태에 따른 배기압 조절 장치는 연결되는 설비의 현재압력정보 및 설정압력정보를 입력 받고, 설비의 현재압력정보가 설정압력정보에 수렴하도록 상기 유량조절유닛의 이동을 제어하는 제어유닛을 더 포함할 수 있다.Exhaust pressure regulating device according to an embodiment of the present invention is a control unit that receives current pressure information and set pressure information of a connected facility, and controls the movement of the flow rate control unit so that the current pressure information of the facility converges to the set pressure information. may further include.

본 발명의 배기압 조절 장치에 따르면, 설비 혹은 특정공간의 압력이 일정하게 유지되게 함으로써 반도체 공정에 적용될 경우 동일한 반도체 공정처리 결과를 얻을 수 있어 제품의 수율이 향상될 수 있다는 효과가 있다.According to the exhaust pressure control apparatus of the present invention, the same semiconductor processing result can be obtained when applied to a semiconductor process by maintaining a constant pressure in a facility or a specific space, thereby improving product yield.

본 발명의 효과들은 이상에서 언급한 효과들로 제한되지 않으며, 언급되지 않은 또 다른 효과들은 청구범위의 기재로부터 당업자에게 명확하게 이해될 수 있을 것이다.Effects of the present invention are not limited to the effects mentioned above, and other effects not mentioned will be clearly understood by those skilled in the art from the description of the claims.

아래에서 설명하는 본 출원의 바람직한 실시예의 상세한 설명뿐만 아니라 위에서 설명한 요약은 첨부된 도면과 관련해서 읽을 때에 더 잘 이해될 수 있을 것이다. 본 발명을 예시하기 위한 목적으로 도면에는 바람직한 실시예들이 도시되어 있다. 그러나, 본 출원은 도시된 정확한 배치와 수단에 한정되는 것이 아님을 이해해야 한다.
도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 배기압 조절 장치의 모습을 나타낸 도면;
도 2는 본 발명의 일 실시예에 따른 배기압 조절 장치의 유량조절유닛을 나타낸 도면;
도 3은 본 발명의 일 실시예에 따른 배기압 조절 장치의 개폐모습을 나타낸 도면;
도 4는 본 발명의 일 실시예에 따른 배기압 조절 장치의 제1공간, 제2공간 및 개폐부의 형성에 따른 압력차 발생 여부를 확인하기 위한 2D해석을 나타낸 도면;
도 5는 본 발명의 일 실시예에 따른 배기압 조절장치의 유량조절유닛이 특정공간에서 제어유닛에 의해 제어되는 모습을 나타낸 도면;
도 6은 본 발명의 일 실시예에 따른 배기압 조절장치의 유량조절유닛이 특정공간에 배치된 다수의 설비에 마련되어 제어유닛에 의해 제어되는 모습을 나타낸 도면이다.The summary set forth above as well as the detailed description of the preferred embodiments of the present application set forth below may be better understood when read in conjunction with the accompanying drawings. For the purpose of illustrating the invention, there are shown in the drawings preferred embodiments. It should be understood, however, that the present application is not limited to the precise arrangements and instrumentalities shown.
1 is a view showing the appearance of an exhaust pressure control device according to an embodiment of the present invention;
2 is a view showing a flow rate control unit of the exhaust pressure control device according to an embodiment of the present invention;
3 is a view showing the opening and closing state of the exhaust pressure control device according to an embodiment of the present invention;
4 is a view showing a 2D analysis for confirming whether a pressure difference occurs according to the formation of the first space, the second space, and the opening and closing portion of the exhaust pressure control device according to an embodiment of the present invention;
5 is a view showing a state in which the flow rate control unit of the exhaust pressure control device according to an embodiment of the present invention is controlled by the control unit in a specific space;
6 is a view showing a state in which the flow rate control unit of the exhaust pressure control device according to an embodiment of the present invention is provided in a plurality of facilities disposed in a specific space and controlled by the control unit.

이하 본 발명의 목적이 구체적으로 실현될 수 있는 본 발명의 바람직한 실시예를 첨부된 도면을 참조하여 설명한다. 본 실시예를 설명함에 있어서, 동일 구성에 대해서는 동일 명칭 및 동일 부호가 사용되며 이에 따른 부가적인 설명은 생략하기로 한다.Hereinafter, preferred embodiments of the present invention in which the object of the present invention can be specifically realized will be described with reference to the accompanying drawings. In describing the present embodiment, the same names and the same reference numerals are used for the same components, and an additional description thereof will be omitted.

도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 배기압 조절 장치의 모습을 나타낸 도면이고, 도 2는 본 발명의 일 실시예에 따른 배기압 조절 장치의 유량조절유닛을 나타낸 도면이며, 도 3은 본 발명의 일 실시예에 따른 배기압 조절 장치의 개폐모습을 나타낸 도면이고, 도 4의 압력차 발생 여부를 확인하기 위한 도시된 바와 같이 2D해석을 나타낸 도면이며, 도 5는 본 발명의 일 실시예에 따른 배기압 조절장치의 유량조절유닛이 특정공간에서 제어유닛에 의해 제어되는 모습을 나타낸 도면이며, 도 6은 본 발명의 일 실시예에 따른 배기압 조절장치의 유량조절유닛이 특정공간에 배치된 다수의 설비에 마련되어 제어유닛에 의해 제어되는 모습을 나타낸 도면이다.1 is a view showing the appearance of an exhaust pressure control device according to an embodiment of the present invention, Figure 2 is a view showing a flow rate control unit of the exhaust pressure control device according to an embodiment of the present invention, Figure 3 is this It is a view showing the opening and closing state of the exhaust pressure control device according to an embodiment of the present invention, a view showing 2D analysis as shown for checking whether a pressure difference occurs in FIG. 4 , and FIG. 5 is an embodiment of the present invention It is a view showing a state that the flow control unit of the exhaust pressure control device is controlled by the control unit in a specific space according to It is a diagram showing a state that is provided in a number of facilities and is controlled by a control unit.

도 1에 도시된 바와 같이, 본 발명의 일 실시예에 따른 배기압 조절 장치(10)는 크게 하우징유닛(200), 유량조절유닛(400)을 포함할 수 있다.As shown in FIG. 1 , the exhaust pressure control device 10 according to an embodiment of the present invention may largely include a housing unit 200 and a flow rate control unit 400 .

하우징유닛(200)은 유체가 이동될 수 있도록 내부에 제1공간(220)이 마련되고 제1공간(220)에 연결되어 제2공간(240)이 마련될 수 있다.The housing unit 200 may be provided with a first space 220 therein so that the fluid can move, and connected to the first space 220 to provide a second space 240 .

여기서 제2공간(240)은 제1공간(220)에 연결되어 일방향으로 직경이 커지도록 마련될 수 있으며 구체적으로 제1공간(220)은 원기둥형태로 마련될 수 있고, 원기둥형태로 마련된 제1공간(220)의 일단에 제2공간(240)의 일단이 연결된 다음 타단으로 갈수록 직경이 커지도록 마련되어 외주면이 테이퍼진 형태로 마련되는 원기둥형태일 수 있다.Here, the second space 240 is connected to the first space 220 and may be provided to have a larger diameter in one direction. Specifically, the first space 220 may be provided in a cylindrical shape, and the first space 220 is provided in a cylindrical shape. One end of the second space 240 is connected to one end of the space 220, and then the diameter increases toward the other end.

이때 하우징유닛(200)으로 유입되는 유체는 입출구 면적을 비례적으로 조절해서 배기압을 조절하는 기능을 수행할 수 있다면 제1공간(220)에서 제2공간(240)으로 유입될 수도 있으며 제2공간(240)에서 제1공간(220)으로 유입될 수도 있다.At this time, the fluid flowing into the housing unit 200 may be introduced into the second space 240 from the first space 220 if it can perform a function of adjusting the exhaust pressure by proportionally adjusting the inlet/outlet area. It may flow into the first space 220 from the space 240 .

다음으로 유량조절유닛(400)은 유체의 유량을 조절하기 위해서 제1공간(220) 및 제2공간(240)을 이동하도록 마련될 수 있다.Next, the flow rate control unit 400 may be provided to move the first space 220 and the second space 240 to adjust the flow rate of the fluid.

이때 유량조절유닛(400)은 회전력을 직선왕복운동으로 변환하는 구동을 통해서 하우징유닛(200) 내부에서 이동 가능하게 마련될 수 있으며 일측이 하우징유닛(200)의 내부 공간에 접촉하거나 접촉이 해제되어 배기압을 조절 할 수 있다.At this time, the flow rate control unit 400 may be provided to be movable inside the housing unit 200 through a drive that converts the rotational force into a linear reciprocating motion, and one side is in contact with the inner space of the housing unit 200 or the contact is released. Exhaust pressure can be adjusted.

도 2를 참조하여 유량조절유닛(400)의 구성에 대해 자세히 살펴보면 다음과 같다.With reference to FIG. 2, the configuration of the flow control unit 400 will be described in detail as follows.

유량조절유닛(400)은 크게 이동부(420), 개폐부(440)를 포함할 수 있으며 제2공간(240)의 일측에 마련되고 제1공간(220)의 중심을 향해 길게 형성되어 제1공간(220)의 중심을 관통할 수 있다.The flow rate control unit 400 may include a moving part 420 and an opening/closing part 440, and is provided on one side of the second space 240 and is formed long toward the center of the first space 220 to form the first space. It can penetrate the center of 220 .

구체적으로 이동부(420)는 회전력을 직선왕복운동을 변환하기 위한 구조로 마련될 수 있으며 크게 액추에이터유닛(422), 변환유닛(424), 결합유닛(426), 고정유닛(428)을 포함할 수 있다.Specifically, the moving unit 420 may be provided in a structure for converting a rotational force into a linear reciprocating motion, and largely includes an actuator unit 422, a conversion unit 424, a coupling unit 426, and a fixed unit 428. can

회전력을 전달하기 위한 역할을 수행하는 액추에이터유닛(422)은 펄스에 따라 일정한 각도조정이 가능한 스테핑모터 중 어느 하나일 수 있으며 비례적으로 제1공간(220) 및 제2공간(240)의 면적을 가변시킬 수 있다면 정밀 위치 제어가 가능한 서보모터로 변경될 수도 있다.The actuator unit 422, which serves to transmit the rotational force, may be any one of stepping motors capable of adjusting a constant angle according to a pulse, and proportionally increase the area of the first space 220 and the second space 240. If it can be changed, it can be changed to a servomotor capable of precise position control.

변환유닛(424)은 액추에이터유닛(422)의 회전력을 직선 왕복운동으로 변환하는 기능을 수행하며 액추에이터(422)의 모터축에 축결합된 피니언기어와 피니언기어에 치합하는 랙기어 일 수 있다.The conversion unit 424 performs a function of converting the rotational force of the actuator unit 422 into a linear reciprocating motion, and may be a pinion gear axially coupled to the motor shaft of the actuator 422 and a rack gear meshing with the pinion gear.

이때 변환유닛(424)은 도면에 도시된 바와 다른 구조로 변경될 수도 있다. 서보모터를 사용하는 경우에는 서보모터축에 볼스크류가 결합되고 볼스크류에 결합되는 너트에 결합유닛(426)이 결합되고 결합유닛(426)을 가이드하는 고정유닛(428)을 따라 직선왕복 이동하도록 마련될 수 있다.At this time, the conversion unit 424 may be changed to a structure different from that shown in the drawings. When a servo motor is used, the ball screw is coupled to the servo motor shaft, the coupling unit 426 is coupled to the nut coupled to the ball screw, and the coupling unit 426 moves linearly along the fixing unit 428 that guides the coupling unit 426. can be provided.

결합유닛(426)은 도 2에 도시된 바와 같이 직선이동 방향으로 긴 프레임 형성되고 변환유닛(424)이 래크기어인 경우에는 프레임의 일면에 래크기어가 결합된 형태로 마련될 수 있다.The coupling unit 426 is formed with a long frame in the linear movement direction as shown in FIG. 2 , and when the conversion unit 424 is a rack gear, it may be provided in a form in which the rack gear is coupled to one surface of the frame.

또한 서보모터로 회전력을 전달받는 경우에는 볼스크류에 결합되는 너트에 볼트고정되는 것이 간편할 것이다.In addition, when the rotational force is transmitted to the servomotor, it will be convenient to bolt the bolt to the nut coupled to the ball screw.

이때 고정유닛(428)은 결합유닛(426)이 길이방향으로 일정하게 직선왕복운동 하도록 가이드하는 역할을 수행하며 구체적으로 도면에 도시된 바와 같이 결합유닛(426)이 길이방향으로 슬라이딩 되도록 고정하도록 마련될 수 있다.At this time, the fixing unit 428 serves to guide the coupling unit 426 to make a constant linear reciprocating motion in the longitudinal direction, and specifically, as shown in the drawing, the coupling unit 426 is provided to be fixed so as to slide in the longitudinal direction. can be

또한 고정유닛(428)은 결합유닛(426)의 일단에 스토퍼를 구비하여 결합유닛(426)의 직선왕복운동 범위를 제한할 수도 있다.In addition, the fixing unit 428 may include a stopper at one end of the coupling unit 426 to limit the range of linear reciprocating motion of the coupling unit 426 .

전술한 이동부(420)에 결합되는 개폐부(440)는 이동부(420)의 길이방향을 따라 이동되며 하우징의 내부공간에 접촉되어 제1공간(220) 및 제2공간(240)의 유체의 흐름을 차단하거나 하우징의 내부공간에서 접촉이 해제되어 제1공간(220) 및 제2공간(240)의 유체의 흐름을 차단 해제할 수 있게 된다.The opening/closing unit 440 coupled to the above-described moving unit 420 is moved along the longitudinal direction of the moving unit 420 and is in contact with the inner space of the housing so that the fluid of the first space 220 and the second space 240 is closed. The flow is blocked or the contact is released in the inner space of the housing, so that the flow of the fluid in the first space 220 and the second space 240 can be released.

구체적으로 개폐부(440)는 이동부(420)가 결합된 일측면에서 타측면으로 갈수록 직경이 작아지는 원뿔 형태로 마련될 수 있다.Specifically, the opening/closing unit 440 may be provided in the form of a cone whose diameter decreases from one side to which the moving unit 420 is coupled to the other side.

이때 결합유닛(426)이 결합되는 개폐부(440)의 외주면 일측이 하우징의 내부공간에 접촉하여 제1공간(220) 및 제2공간(240)의 유체의 흐름을 차단하거나 차단해제 할 수 있다.At this time, one side of the outer peripheral surface of the opening and closing part 440 to which the coupling unit 426 is coupled may contact the inner space of the housing to block or release the flow of the fluid in the first space 220 and the second space 240 .

다음으로 도 3을 통해 하우징유닛(200)에 내부공간에 유량조절유닛(400)의 일측이 접촉하여 제1공간(220) 및 제2공간(240)의 유체의 흐름을 차단하거나 차단을 해제하는 동작 과정을 자세히 살펴보면 다음과 같다.Next, one side of the flow control unit 400 contacts the inner space of the housing unit 200 through FIG. 3 to block or release the flow of the fluid in the first space 220 and the second space 240 . A detailed look at the operation process is as follows.

구체적으로 측단면도로 도시한 도 3의 (a)와 같이 제1공간(220)의 일단에는 제2공간(240)의 일단이 연결되고 연결된 일단에서 멀어질수록 직경이 커지는 형태로 마련되고 유량조절유닛(400)은 제2공간(240)의 일측에서 제1공간(220)을 향해 직선운동하거나 복귀하는 형태로 구비될 수 있다.Specifically, one end of the second space 240 is connected to one end of the first space 220 as shown in FIG. 3 (a) as a side cross-sectional view, and the diameter increases as the distance from the connected end increases, and the flow rate is controlled. The unit 400 may be provided in a form that linearly moves or returns from one side of the second space 240 toward the first space 220 .

도 3의 (b)에 도시된 바와 같이 유량조절유닛(400)의 개폐부(440)가 제1공간(220)을 향해 직선운동하게 되면 제2공간(240)에 내주면에 개폐부(440)의 외주면 일측이 접촉되게 되고 제1공간(220) 및 제2공간(240)의 유량이 완전히 차단될 수 있다.As shown in (b) of FIG. 3 , when the opening and closing part 440 of the flow rate control unit 400 linearly moves toward the first space 220 , the outer peripheral surface of the opening and closing part 440 is located on the inner peripheral surface of the second space 240 . One side is brought into contact and the flow rate of the first space 220 and the second space 240 may be completely blocked.

상술한 바와 같은 형상을 가짐으로써 발생하는 제1공간(220) 및 제2공간(240)의 압력차는 도 4의 도시된 바와 같이 2D해석(난류 게이지 압력 해석)을 통해 압력차 발생 여부를 확인할 수 있었다.As shown in FIG. 4, the pressure difference between the first space 220 and the second space 240 generated by having the shape as described above can be checked through 2D analysis (turbulence gauge pressure analysis) to determine whether a pressure difference occurs. there was.

개폐부(440)가 제2공간(240)에서 완전히 이격된 상태에서 제1공간(220)으로 직선이동하면서 제1공간(220) 및 제2공간(240)을 완전히 분리하는 상태를 3가지의 경우로 나눠 그때의 제1공간(220) 및 제2공간(240)의 압력상태를 색상으로 나타낸 것이고 이때 기압은 빨간색에 수렴할수록 고기압을 나타내고 파란색에 수렴할수록 저기압을 나타낸다. There are three cases in which the opening and closing part 440 completely separates the first space 220 and the second space 240 while moving linearly to the first space 220 while being completely separated from the second space 240 . The pressure states of the first space 220 and the second space 240 at that time are expressed in color by dividing by .

구체적으로 절단면을 기준으로 직사각형의 형태인 제1공간(220)과 사다리꼴 형태의 제2공간(240)에 삼각형 형태의 개폐부(440)가 제2공간(240)에서 제1공간(220)으로 진행함으로써 개폐부(440)의 위치에 따라 제1공간(220) 및 제2공간(240)을 포함하는 배관의 단면적이 달라지며 결과적으로 제1공간(220) 및 제2공간(240)의 압력차가 발생할 수 있다.Specifically, in the first space 220 having a rectangular shape based on the cut surface and the second space 240 having a trapezoidal shape, a triangular opening/closing part 440 proceeds from the second space 240 to the first space 220 . Accordingly, the cross-sectional area of the pipe including the first space 220 and the second space 240 varies according to the position of the opening and closing part 440 , and as a result, a pressure difference between the first space 220 and the second space 240 may occur. can

상술한 바와 같은 구성을 가지는 배기압 조절장치는 설비 또는 특정공간에 연결될 수 있으며, 이때 배기압 조절장치는 제어유닛을 더 포함할 수 있다.The exhaust pressure regulating device having the above-described configuration may be connected to a facility or a specific space, and in this case, the exhaust pressure regulating device may further include a control unit.

제어유닛은 연결되는 설비의 현재압력정보와 설정압력정보를 입력 받은 다음 설비의 현재압력정보가 설정압력정보에 수렴하도록 유량조절유닛(400)의 이동을 제어할 수 있다.The control unit may receive the current pressure information and set pressure information of the connected equipment, and then control the movement of the flow rate control unit 400 so that the current pressure information of the equipment converges to the set pressure information.

이때 본 발명에서 언급하는 설비에 대해 예를 들어 설명하면, 웨이퍼를 제조하기 위한 공정을 수행하는 하나의 클린룸일 수 있으며, 이때 배기압 조절 장치(10)는 클린룸의 일측에 구비되어 클린룸으로 유체가 흐르도록 형성하는 배기유닛(미도시)과 연결될 수도 있다.At this time, if the equipment referred to in the present invention is described as an example, it may be a clean room that performs a process for manufacturing a wafer, and in this case, the exhaust pressure control device 10 is provided at one side of the clean room to enter the clean room. It may be connected to an exhaust unit (not shown) that forms a fluid to flow.

구체적으로 도 5에 도시된 바와 같이 배기압 조절 장치(10)가 클린룸이라는 특정공간에 마련되고 제어유닛에 연결된 압력센서를 통해 클린룸의 현재압력을 파악하고 제어유닛은 클린룸이 원하는 설정압력으로 유지되도록 배기압 조절 장치(10)를 피드백 제어하여 클린룸의 현재압력이 원하는 설정압력에 수렴시킬 수 있다.Specifically, as shown in FIG. 5 , the exhaust pressure control device 10 is provided in a specific space called the clean room and grasps the current pressure of the clean room through a pressure sensor connected to the control unit, and the control unit sets the desired set pressure of the clean room. By feedback control of the exhaust pressure adjusting device 10 so as to maintain the current pressure in the clean room, it is possible to converge to the desired set pressure.

예를 들어 제어유닛은 기 설정압력값이 100이고 현재 클린룸압력값이 80인 경우에 기설정압력값과 클린룸압력값의 차를 에러값 20을 인식하여 에러값을 0으로 수렴시키기 위해서 유량조절유닛(400)을 이동시킬 수 있다.For example, when the preset pressure value is 100 and the current cleanroom pressure value is 80, the control unit recognizes an error value of 20 for the difference between the preset pressure value and the cleanroom pressure value and the flow rate to converge the error value to 0. The control unit 400 may be moved.

구체적으로 원하는 설정압력값보다 클린룸압력값이 낮으면 유량조절유닛(400)이 제1공간(220)에서 이격되어 유입되는 유량을 늘리고 원하는 설정압력값보다 클린룸압력값이 높으면 유입되는 유량을 줄여 에러값을 0으로 수렴시킬 수 있다.Specifically, if the cleanroom pressure value is lower than the desired set pressure value, the flow rate control unit 400 is spaced apart from the first space 220 to increase the inflow flow rate, and if the clean room pressure value is higher than the desired set pressure value, the inflow flow rate is decreased. It is possible to reduce the error value to converge to 0.

이때 제어유닛은 PID 피드백 제어를 통해 에러값의 기준값을 설정하고 에러값이 기준값보다 큰 경우에는 유량조절유닛(400)의 이동속도를 빠르게 설정하고 에러값이 기준값보다 작은 경우에는 유량조절유닛(400)의 이동속도를 느리게 설정하여 클린룸압력값이 원하는 설정압력값에 도달하는 시간을 단축시킬 수 있다.At this time, the control unit sets the reference value of the error value through PID feedback control, and when the error value is larger than the reference value, sets the moving speed of the flow rate control unit 400 quickly, and when the error value is smaller than the reference value, the flow rate control unit 400 ), it is possible to shorten the time for the cleanroom pressure value to reach the desired set pressure value by setting the moving speed slowly.

이때 제어유닛은 PID 제어의 연산을 통해 에러값에 대응하여 액추에이터(422)의 회전각도를 설정하기 위해 미분하거나 적분하는 경우에 모든 시간에 발생된 에러값들에 대응하지 않고 기 설정된 시간, 예를 들면 0.1초 간격으로 발생된 에러값에 대응하여 회전각도를 설정하여 클린룸압력값이 원하는 설정압력값에 도달하는 시간을 단축시킬 수 있다.At this time, the control unit does not correspond to the error values generated at all times when differentiating or integrating to set the rotation angle of the actuator 422 in response to the error value through the operation of the PID control, but a preset time, e.g. For example, it is possible to shorten the time for the cleanroom pressure value to reach the desired set pressure value by setting the rotation angle corresponding to the error value generated at 0.1 second intervals.

또한 본 발명에서 언급하는 설비에 대해 예를 들어 설명하면, 웨이퍼를 제조하기 위한 공정을 수행하는 하나의 클린룸에 마련된 다수의 장비일 수 있으며, 이때 배기압 조절 장치(10)는 다수의 장비(M1,M2,M3)에 각각 구비되고 다수의 장비(M1,M2,M3) 각각에 압력센서(P1,P2,P3)가 배치되어 제어유닛을 통해 다수의 장비의 압력이 제어될 수 있다.In addition, if the equipment mentioned in the present invention is described as an example, it may be a plurality of equipment provided in one clean room that performs a process for manufacturing a wafer, in which case the exhaust pressure control device 10 is a plurality of equipment ( M1, M2, M3 are respectively provided, and the pressure sensors P1, P2, P3 are disposed in each of the plurality of devices M1, M2, M3, so that the pressure of the plurality of devices can be controlled through the control unit.

이로 인해 본 발명의 배기압 조절 장치(10)에 따르면, 설비 혹은 특정공간의 압력이 일정하게 유지되게 함으로써 그 안에서 이루어지는 공정처리 시 동일한 결과를 확보할 수 있어 반도체 공정처리에 적용하는 경우 제품의 수율이 향상될 수 있다는 장점이 있다.For this reason, according to the exhaust pressure control device 10 of the present invention, the same result can be secured during the process performed therein by maintaining the pressure of the facility or a specific space constant, so that when applied to the semiconductor process, the yield of the product The advantage is that this can be improved.

이상과 같이 본 발명에 따른 바람직한 실시예를 살펴보았으며, 앞서 설명된 실시예 이외에도 본 발명이 그 취지나 범주에서 벗어남이 없이 다른 특정 형태로 구체화될 수 있다는 사실은 해당 기술에 통상의 지식을 가진 이들에게는 자명한 것이다. 그러므로, 상술된 실시예는 제한적인 것이 아니라 예시적인 것으로 여겨져야 하고, 이에 따라 본 발명은 상술한 설명에 한정되지 않고 첨부된 청구항의 범주 및 그 동등 범위 내에서 변경될 수도 있다.As described above, preferred embodiments according to the present invention have been described, and the fact that the present invention can be embodied in other specific forms without departing from the spirit or scope of the present invention in addition to the above-described embodiments is one of ordinary skill in the art. It is obvious to them. Therefore, the above-described embodiments are to be regarded as illustrative rather than restrictive, and accordingly, the present invention is not limited to the above description, but may be modified within the scope of the appended claims and their equivalents.

10: 배기압 조절 장치
200: 하우징유닛
220: 제1공간
240: 제2공간
400: 유량조절유닛
420: 이동부
422: 액추에이터
424: 변환유닛
426: 결합유닛
428: 고정유닛
440: 개폐부
600: 제어부10: exhaust pressure control device
200: housing unit
220: first space
240: second space
400: flow control unit
420: moving unit
422: actuator
424: conversion unit
426: coupling unit
428: fixed unit
440: opening and closing part
600: control unit

Claims (5)

웨이퍼를 제조하기 위한 공정을 수행하는 하나의 클린룸에 복수로 마련되는 배기압 조절 장치로서,
내부에 유체가 이동되는 제1공간과, 상기 제1공간과 연결되며 일방향으로 직경이 커지도록 형성되는 제2공간을 포함하는 하우징유닛; 및
상기 제1공간 및 제2공간을 이동하며 상기 유체의 유량을 조절하는 유량조절유닛을 포함하고,
상기 유량조절유닛은 상기 하우징유닛 내부에서 이동 가능하게 구비되어 상기 하우징유닛 내부와 접촉 가능하게 구비되고, 길게 형성되어 상기 제1공간의 중심을 관통하는 이동부, 및 상기 이동부에 결합되며 상기 이동부의 길이방향을 따라 이동되는 개폐부를 포함하며,
상기 개폐부는, 상기 이동부가 결합된 일측면에서 타측면으로 갈수록 직경이 작아지는 원뿔 형태로 마련됨으로써, 타단에 첨단부가 형성되어 유체와의 마찰과 와류발생을 최소화하는 것을 특징으로 하고,
상기 제2공간은, 상기 개폐부의 외주 일면이 상기 제2공간의 내주 일면에 접하여 상기 제1공간 및 상기 제2공간의 유체의 흐름이 차단되도록 형성되는 것을 특징으로 하며,
상기 이동부는, 액추에이터유닛, 상기 액추에이터유닛의 회전력을 직선 왕복운동으로 변환하는 변환유닛, 상기 변환유닛에 연결되어 일단에 상기 개폐부가 결합되는 결합유닛, 및 상기 결합유닛이 슬라이딩 되도록 고정하는 고정유닛을 포함하는 것을 특징으로 하되,
상기 고정유닛은, 상기 결합유닛의 일단에 스토퍼를 구비함으로써, 상기 결합유닛의 직선왕복운동 범위를 제한하는 것을 특징으로 하는,
배기압 조절 장치.
As an exhaust pressure control device provided in plurality in one clean room for performing a process for manufacturing a wafer,
a housing unit including a first space in which a fluid is moved, and a second space connected to the first space and formed to have a larger diameter in one direction; and
and a flow rate control unit moving the first space and the second space and adjusting the flow rate of the fluid,
The flow control unit is provided movably inside the housing unit to be in contact with the inside of the housing unit, a moving part formed to be elongated and passing through the center of the first space, and coupled to the moving part, the moving part It includes an opening and closing part that moves along the longitudinal direction of the part,
The opening and closing part is provided in the form of a cone whose diameter decreases from one side to which the moving part is coupled to the other side, so that a tip is formed at the other end to minimize friction with the fluid and the generation of vortices,
The second space, characterized in that the outer peripheral surface of the opening and closing part is formed so as to be in contact with the inner peripheral surface of the second space to block the flow of the fluid in the first space and the second space,
The moving unit includes an actuator unit, a conversion unit for converting the rotational force of the actuator unit into a linear reciprocating motion, a coupling unit connected to the conversion unit and coupled to one end of the opening/closing unit, and a fixed unit for fixing the coupling unit to slide. characterized in that it comprises,
The fixing unit, by having a stopper at one end of the coupling unit, characterized in that to limit the linear reciprocating motion range of the coupling unit,
exhaust pressure regulator.
 삭제delete 삭제delete 삭제delete 제1항에 있어서,
연결되는 설비의 현재압력정보 및 설정압력정보를 입력 받고, 설비의 현재압력정보가 설정압력정보에 수렴하도록 상기 유량조절유닛의 이동을 제어하는 제어유닛을 더 포함하는
배기압 조절 장치.According to claim 1,
Further comprising a control unit that receives the current pressure information and set pressure information of the connected equipment, and controls the movement of the flow control unit so that the current pressure information of the equipment converges to the set pressure information
exhaust pressure regulator.
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