KR102048951B1 - 기체에서 질소산화물을 제거하는 방법 - Google Patents

기체에서 질소산화물을 제거하는 방법 Download PDF

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Abstract

본 발명은 기체에서 질소산화물을 제거하는 방법에 관한 것으로서, 처리된 기체를 기체-고체 반응탑에 도입하고, 동시에 기체-고체 반응탑에 염화철 고체입자를 도입하고, 기체 중의 질소산화물은 기체-고체 반응탑에서 염화철과 기체-고체 흡착 화학반응을 일으켜 흡수되면서 고체 산물을 생성하고, 이를 통해 기체 정화의 목적을 달성한다.

Description

기체에서 질소산화물을 제거하는 방법
본 발명은 대기오염 제어 및 관련 환경보호 기술 분야에 관한 것으로서, 더욱 상세하게는 기체에서 질소산화물을 제거하는 방법에 관한 것이다.
인류의 활동으로 생산되는 질소산화물(NOx)은 주로 NO와 NO2를 포함한다. 이는 90% 이상이 연료 연소로 인해 생성되며 그 다음으로는 질산 생산, 화학공업 및 제약의 질산화 반응, 금속표면과 반도체 처리 등과 같은 공업으로 인해 생성된다. NOx는 사람에 대해 독성 작용을 나타내며, 대량의 질소산화물 배출은 대기 광화학 스모그와 산성비를 유발하는 주요 원인 중 하나이다. 중국환경상황공보 통계 데이터에 따르면, 중국 도시 산성비 중 질소산화물 비중이 지속 증가하고 있으며, 일부 지역의 산성비 오염성질은 이미 황산형(sulfuric acid type)에서 질산 이온이 끊임없이 증가하는 복합형으로 전환되고 있다(국가환경부, 2010년 중국환경상황공보). 최근 몇 년 동안 국가에서는 일부 법률, 법규를 제정해 질소산화물, 특히 화력발전 등 연소 과정에서 배출되는 질소산화물에 대해 더욱 엄격한 제재와 배출 감소의 규정을 적용했다.
통상적으로 화력발전소 등에서 화석연료 연소로 생성되는 연기 중의 질소산화물 농도는 수백에서 수천 ppm에 달하며, 그 중 95% 이상이 일산화질소이다. 선택적 환원 촉매(SCR)는 현재 연기 NOx를 처리하는 주요 수단 중 하나로 사용되고 있으나, 촉매는 운행 조건에 대한 요구 기준이 엄격하고 암모니아를 환원제로 사용해야 하며, 기체 중 함유된 황화물과 분진 등이 촉매 수명에 상당한 영향을 미친다. 특히 석탄을 연료로 사용하는 화력발전소에 대한 운영비용이 아주 높다. 습식법 각종 액체를 이용해 NOx를 흡수하는 것으로서 저온 배출원을 처리하는 주요 방법이다. 주로 산화 흡수법과 환원 흡수법의 2가지 방법이 있다. 산화법은 과산화수소, 차아염소산나트륨, 과망간산칼륨 등을 산화제로 사용해 흡수 처리를 진행하며, 환원법은 아황산나트륨, 황화나트륨, 요소 등을 환원제로 사용해 흡수 처리를 진행한다. 그러나 일산화질소를 비교적 많이 함유한 질소산화물의 경우, 일산화질소가 용액 내에서의 용해도가 아주 낮기 때문에 흡수 효율이 비교적 낮고 약제가 비교적 비싸 운행 및 사용 비용이 높다. 따라서 상기 기술의 공업적 응용을 위해서는 신규한 연기 질소산화물 정화 기술에 대한 연구 및 개발이 시급하다.
본 발명의 목적은, 기체에서 질소산화물을 제거하는 방법를 제안함으로써 기체 중 질소산화물을 비교적 낮은 온도에서 제거해 기체를 정화시키는 데에 있다.
본 발명은 이하의 기술방안을 채택했다. 본 발명은 기체에서 질소산화물을 제거하는 방법에 관한 것으로서, 처리된 기체를 기체-고체 반응탑에 도입하고, 동시에 기체-고체 반응탑에 염화철 고체입자를 도입하고, 기체 중의 질소산화물은 기체-고체 반응탑에서 염화철과 기체-고체 흡착 화학반응을 일으켜 흡수되면서 고체 산물을 생성하고, 이를 통해 기체 정화의 목적을 달성한다.
본 발명의 상기 질소산화물은 일산화질소와 이산화질소를 포함하는데, 주로 일산화질소이다. 상기 기술방안에 있어서, 질소산화물과 염화철의 기체-고체 흡착 화학반응으로 생성된 고체 산물은 염화철과 질소산화물의 착화합물과 관련 염류이다.
본 발명의 상기 기체는 주로 화력발전, 제련 등 화석연료 연소에서 발생하는 질소산화물을 함유한 연기이며, 기타 공업 생산 과정에서 발생하는 관련 기체일 수도 있다. 통상적인 연기 중 질소산화물의 농도는 1%(체적 함량) 이하인데, 기타 공업 기체 중 질소산화물 농도가 1%(체적 함량)보다 높은 경우 본 발명의 상기 방법을 적용한다. 본 발명의 상기 기체-고체 반응탑은 화학공업 단위 조작에서 통상적으로 사용하는 고정층, 이동층, 비등층, 유동층, 순환유동층 등 기체-고체 접촉 반응기를 채택할 수 있고, 순방향, 역방향, 직교방향 기체 등 다양한 형식을 채택할 수도 있으며, 효과는 대체적으로 비슷하다. 구체적인 내용은 관련 화학공업 반응설비 핸드북을 참조할 수 있다. 순환유동층 반응시스템의 경우, 상기 기체-고체 반응탑의 측면 하부에 상기 기체와 연결되는 기체 입구를 설치하고, 중간부에 염화철 고체입자 투입구를 설치한다. 상기 염화철 고체입자 첨가 방식은 기계식 주입 또는 공기식 주입 등 방식을 채택할 수 있으며 효과는 비슷하다. 탑체의 하부 기체 입구 상방에 기체 분포기를 설치해 탑 내부 기체-고체가 충분히 혼합 반응을 일으키도록 만들고, 상기 기체는 탑체의 상부에 설치된 연결관을 통해 기체-고체 분리기와 연통하고, 기체-고체는 기체-고체 분리기에서 분리된 후, 기체는 기체-고체 분리기의 상부에서 배출되고, 고체입자는 기체-고체 분리기 하부에서 배출된다. 여기에서 일부 고체입자는 탑 내부로 다시 되돌아와 반응이 진행되지 않은 염화철 입자를 다시 반응에 참여시키고, 반응 정도에 따라 물질을 탑 내부로 다시 되돌려 반응에 참여시키는 비율(범위는 0 내지 100%일 수 있음)을 조절할 수 있다.
본 발명에 있어서 상기 기체-고체 반응탑 내의 반응온도 범위는 통상적으로 35 내지 95℃이고, 부압 하에서 온도는 적절하게 약간 낮출 수 있고, 탑 내부 압력이 상압보다 높을 때 온도도 적절하게 약간 높일 수 있는데, 바람직한 온도범위는 40 내지 75℃이다. 예를 들어 먼저 상기 염화철 고체입자의 온도를 40℃ 이상(바람직하게는 50 내지 95℃)까지 가열한 후, 다시 상기 기체-고체 반응탑에 첨가한다. 반응탑 내부 기체 온도는 약간 낮을 수 있는데, 이는 염화철이 예열 후 활성화돼 상응하는 반응온도가 낮아졌기 때문이다. 이때 기체-고체 반응탑에 진입하는 기체 온도는 35℃보다 낮을 수 있고, 염화철과 질소산화물의 기체-고체 반응은 발열반응이다. 상기 질소산화물은 반응탑 내에서 반응과정의 기체-고체 접촉시간이 통상적으로 0.5 내지 100s이고, 접촉시간이 길수록 제거율이 높으며 바람직하게는 1 내지 25s이다. 염화철과 질소산화물의 기체-고체 흡착 화학반응의 화학양론적 비율은 1로 계산할 수 있으며, 실제 조작 과정에 있어서 염화철의 투입량은 반응탑 형식, 염화철 입자크기, 기체온도, 반응시간, 전환율 등 조작 계수에 따라 확정한다. 순환유동층 기체-고체 반응탑에 있어서, 염화철과 질소산화물의 몰비는 통상적으로 0.5 내지 100이고, 몰비가 클수록 반응효과가 우수한데, 바람직하게는 5 내지 30을 취하며, 구체적으로는 제거율에 따라 확정할 수 있다. 고정층, 이동층, 비등층, 유동층에 대해서는 특별한 요구기준이 없으므로 필요에 따라 추가할 수 있다. 상기 염화철 고체입자는 통상적으로 분말상이며 일반적인 공업상품을 사용할 수 있고 그 입자크기는 통상적으로 0.01 내지 1mm이며 입자크기가 작은 것이 좋다. 규사, 세라믹 또는 제올라이트 등 입자상 충전재와 염화철 분말을 일정 비율로 혼합한 후 기체-고체 반응탑에 도입해, 반응탑 내부 기체-고체 혼합 효과와 기체 접촉면적을 개선하고 반응효율과 물질의 이용률을 향상시킬 수 있다. 여기에서 입자상 충전재의 입자크기는 통상적으로 0.01 내지 10mm이고, 혼합비율은 최대 99%(체적비)이다. 구체적으로는 반응탑 형식과 조작 계수에 따라 확정할 수 있으며, 유동층 반응탑을 채택하는 경우에는 충전재의 비율이 낮을 수 있는데 바람직하게는 5 내지 30%이고, 고정층 반응탑은 높을 수 있는데 바람직하게는 30 내지 60%이다. 예를 들어 고정층 기체-고체 반응탑 내에서 50%(체적비)의 입자크기가 약 2 내지 5mm인 규사를 혼합하면 반응효율을 20% 이상 향상시킬 수 있다. 기체 중의 산소와 수분 등 기타 함량이 질소산화물의 제거에 미치는 영향은 크지 않으며, 반응과정에서 소량의 염화수소 기체가 생산될 수 있으나 이후의 고체 또는 액체 흡수를 거쳐 제거할 수 있다.
반응 후 수득한 고체 산물은 가열을 통해 흡수된 질소산화물을 제거할 수 있고, 가열온도는 상압에서 통상적으로 105℃ 이상이며 바람직하게는 150 내지 250℃이다. 부압 하에서는 약간 낮을 수 있으며, 질산을 회수할 수 있고, 산소가 존재할 때 300℃ 이상까지 가열하면 산화철 부산물을 수득할 수 있다. 고체 산물을 맑은 물 등 용매에 용해하면 흡수된 질소산화물 기체를 배출할 수도 있으며, 추가 처리를 진행하면 산화철 부산물을 회수할 수도 있다. 고체 산물은 산화철 재생에 사용한 후 재활용할 수도 있다.
종래기술과 비교할 때 본 발명의 장점은 이하와 같다. 즉, 염화철을 일정한 온도에서 기체 중의 질소산화물과 기체-고체 흡착 화학반응을 일으켜, 기체 중의 질소산화물을 제거함으로써 기체 정화의 목적을 달성한다. 고체 산물을 가열 처리해 질산 또는 산화철 부산물을 회수할 수 있으므로, 투자원가와 운영비용이 낮고 조작이 간단하며 처리효율이 높고 처리량이 많은 특징을 가지고 있어 광범위한 사용에 적합하다.
도 1은 본 발명의 실시예 1에 있어서 기체-고체 반응탑 장치의 구조도이고;
도 2는 본 발명의 실시예 4에 있어서 기체-고체 반응탑 장치의 구조도이고;
도 3은 본 발명의 실시예 6에 있어서 기체-고체 반응탑 장치의 구조도이다.
이하에서는, 본 발명의 예시적인 실시형태들을 도면을 통해 보다 상세히 설명한다.
기체에서 질소산화물을 제거하는 방법의 장치는 도 1에서 도시하는 바와 같다. 상기 장치는 탑체(4)를 포함하고, 탑체(4)의 측면 하부에 기체가 연결된 기체 입구(1)를 설치하고, 탑체(4)의 하부 기체 입구 상방에 기체 분포기(2)를 설치해 탑 내부 기체-고체가 충분히 혼합 반응을 일으키도록 만들고, 중간부에 고체입자 투입구(3)를 설치하고, 탑체(4)의 상부는 설치된 연결관(5)을 통해 기체-고체 분리기(7)를 통해 연통하고, 기체-고체 분리기(7)의 상부에 기체 출구(6)를 설치하고, 기체-고체 분리기(7)의 하부에 고체입자 배출구(9)를 설치하고, 고체입자 반환구(8)는 탑체(4)와 연통하고, 탑체(4) 중하부와 바닥부에 각각 검수구(10)와 탑 바닥 고체입자 배출구(11)를 더 설치한다.
도 1에서 도시하는 바와 같이, 기체에서 질소산화물을 제거하는 방법의 장치에 있어서, 그 처리 공정 프로세스는 처리할 기체를 기체 입구(1)에서 탑체(4)로 도입하고, 기체 분포기(2)를 거쳐 고체입자 투입구(3)에서 첨가된 염화철 고체입자와 혼합된 후 흡착 화학반응을 일으키고, 정화된 기체는 탑 상부의 연결관(5)에서 기체-고체 분리기(7)로 진입해 기체-고체 분리가 진행되고, 기체는 기체 출구(6)에서 배출되고, 일부 고체입자는 고체입자 반환구(8)를 통해 탑체(4) 내로 되돌아가 계속해서 반응에 참여할 수 있고, 나머지 일부는 고체입자 배출구(9)를 통해 배출되고, 동시에 탑 바닥부에도 탑 바닥 고체입자 배출구(11)가 설치돼 남은 고체입자가 배출된다.
실시예 1: 기체에서 질소산화물을 제거하는 방법의 순환유동층 기체-고체 반응탑 장치는 도 1에서 도시하는 바와 같다. 상기 순환유동층 기체-고체 반응탑의 탑 직경은 φ60mm, 높이는 2500mm이고, 탑체 소재는 316L 스테인리스강이다. 기체 중 질소산화물(일산화질소 약 95%)의 농도는 500ppm이고, 산소 기체는 약 8%(체적)이고, 수분 함량은 약 10%(체적)이고, 나머지는 질소 기체이다. 염화철은 산업 수준( industrial level)의 분말상 입자로 함량이 98% 이상이고, 평균 입자크기가 약 0.1mm이다. 기체 온도는 각각 35℃, 45℃, 65℃, 80℃ 및 95℃이고, 기체 유량은 약 5m3/h이고, 반응탑 내 기체-고체 접촉시간은 약 2 내지 5s이다. 질소산화물과 염화철의 몰비는 약 1:15이고, 고체 재료는 기계적 측정 방식으로 투입한다. 기체-고체 분리기(사이클론 분리기 채택)로 분리해 수득한 반응 후의 고체입자는 탑 내로 되돌아오지 않는다. 실험결과는 표 1과 같다.
Figure 112017098525797-pct00001
실시예 2: 기체 중 일산화질소 농도는 500ppm이고, 기체 온도는 각각 40℃, 55℃ 및 75℃이고, 일산화질소와 염화철의 몰비는 1:30이고, 기타 조건은 실시예 1과 동일하다. 실험결과는 표 2와 같다.
Figure 112017098525797-pct00002
실시예 3: 물질 중 20%(체적)의 입자 크기가 약 1mm인 규사를 혼합하고, 질소산화물과 염화철의 몰비는 약 1:10이다. 기체 온도는 각각 40℃, 55℃ 및 75℃이고, 기타 조건은 실시예 1과 동일하다. 실험결과는 표 3과 같다.
Figure 112017098525797-pct00003
실시예 4: 기체에서 질소산화물을 제거하는 방법의 기체-고체 역류 이동층 반응탑 장치는 도 2에서 도시하는 바와 같다.
상기 장치는 탑체(4)를 포함하고, 탑체(4) 하부에 기체 입구(1)가 설치되고, 상부에 고체입자 투입구(3)와 기체 출구(6)가 설치되고, 바닥부에 고체입자 배출구(9)가 설치되고, 기체 입구(1)는 탑체(4) 내의 기체-고체 반응영역(12)을 거쳐 기체 출구(6)와 연통하고, 상기 고체입자 투입구(3)는 탑체(4) 내의 기체-고체 반응영역(12) 및 고체입자 회수영역(13)을 거쳐 고체입자 배출구(9)와 연통한다.
상기 탑체(4)는 관경이 φ60mm이고, 높이는 1500mm이고, 탑체 소재는 316L 스테인리스강이고, 기체-고체 반응영역(12)은 유효 높이가 약 1000mm이다. 운반기체는 공기이고, 상대습도는 약 70%이고, 기체 중 일산화질소의 농도는 500ppm이다. 염화철은 산업 수준의 분말상 입자이고, 함량은 98% 이상이고, 평균 입자크기는 약 0.1mm이고, 반응탑 내부 기체온도는 각각 40℃, 55℃ 및 75℃이고, 평균 기체 유량은 약 1m3/h이고, 반응탑 내 기체-고체 접촉시간은 약 10 내지 15s이다. 질소산화물과 염화철의 몰비는 약 1:30이다.
그 처리 공정 프로세스는 처리할 기체를 기체 입구(1)에서 탑체(4)로 도입하고, 고체입자 투입구(3)에서 첨가된 염화철 분말과 기체-고체 반응영역(12)에서 기체-고체 흡착 화학반응을 일으키고, 정화된 기체는 기체 출구(6)에서 배출되고, 반응 후 고체입자는 고체입자 회수영역(13)을 거친 후 고체입자 배출구(9)를 통해 배출된다. 실험결과는 표 4와 같다.
Figure 112017098525797-pct00004
실시예 5: 기체에서 질소산화물을 제거하는 방법의 기체-고체 역류 이동층 반응탑 장치는 도 2에서 도시하는 바와 같다. 염화철 분말을 상기 기체-고체 반응탑에 투입하기 전에 먼저 40℃, 50℃, 80℃ 및 95℃까지 가열한 후 다시 도입하고, 반응탑에 도입한 기체 온도는 약 25℃이고, 기타 조건은 실시예 4와 동일하다. 실험결과에서 수득한 기체 출구 NO 농도는 각각 365ppm, 273ppm, 85ppm 및 48ppm이다.
실시예 6: 기체에서 질소산화물을 제거하는 방법의 고정층 기체-고체 반응탑 장치는 도 3에서 도시하는 바와 같다.
상기 장치는 탑체(4)를 포함하고, 탑체(4) 하부에 기체 입구(1)가 설치되고, 기체 입구(1) 상방에 기체 분포기(2)가 설치되고, 기체 분포기(2) 상방은 염화철 충전층(14)이고, 염화철 충전층(14)의 상부에 고체입자 투입구(3)가 설치되고, 하부에 고체입자 배출구(9)가 설치되고, 탑체(4)의 상부에 기체 출구(6)가 더 설치되고, 기체 입구(1)는 기체 분포기(2)와 염화철 충전층(14)의 공극 기체 통로를 거쳐 기체 출구(6)와 연통하고, 상기 고체입자 투입구(3)와 고체입자 배출구(9)는 각각 염화철 충전층(14)과 연통한다.
상기 탑체(4)는 직경이 φ60mm이고, 높이는 1500mm이고, 소재는 316L 스테인리스강이다. 물질 중 50%(체적)의 평균 입자크기가 약 3mm인 규사를 혼합하고, 혼합물의 부피밀도는 약 1500kg/m3이고, 반응탑 내 충전 높이는 약 500mm이다. 튜브 타입 전기로를 채택하고, 반응탑 외벽을 가열해(염화철 분말과 규사 혼합물을 첨가하기 전에 별도로 예열하지 않음) 반응탑 출구 기체 온도를 65 내지 95℃로 유지하고, 기체 유량은 0.5m3/h이고, 기체 입구 기체 온도는 실온이고, 기체가 반응탑 내에서 정체하는 시간은 약 15 내지 25s이다. 기타 조건은 실시예 1과 같다.
그 처리 공정 프로세스는 처리할 질소산화물을 함유한 기체를 기체 입구(1)에서 기체 분포기(2)를 거쳐 염화철 충전층(14)으로 도입하고, 상기 염화철 충전층(14) 내에서 질소산화물은 염화철과 기체-고체 흡착 화학반응을 일으켜 제거되고, 정화된 기체는 반응탑 상부의 기체 출구(6)에서 배출되고, 반응 후 고체입자는 고체입자 배출구(9)에서 정기적으로 배출된다. 입구 질소산화물(일산화질소 약 95%)의 농도가 500ppm일 때, 측정한 기체 출구 질소산화물 농도는 약 55ppm이었다. 고정층 반응탑에 투입하는 염화철의 양이 고정적이기 때문에, 기체 중 질소산화물의 제거율이 탑 내부 염화철의 반응소모에 따라 달라진다. 측정한 질소산화물 농도는 최대 제거율일 때의 농도이다.
상기 실시예는 본 발명의 기술방안을 설명하기 위한 것으로서 본 발명의 보호범위를 제한하지 않는다. 본 발명이 속한 기술분야의 당업자가 본 발명의 정신과 원칙을 기반으로 각 실시예에 기재된 기술방안을 수정하거나 그 중 일부 기술에 동등한 수준의 치환, 수정, 변화, 개선 등을 진행한 경우, 이는 모두 본 발명의 보호범위 내에 속한다.
1: 기체 입구 2: 기체 분포기
3: 고체입자 투입구 4: 탑체
5: 연결관 6: 기체 출구
7: 기체-고체 분리기 8: 고체입자 반환구
9: 고체입자 배출구 10: 검수구
11: 탑 바닥 고체입자 배출구 12: 기체-고체 반응영역
13: 고체입자 회수영역 14: 염화철 충전층

Claims (13)

  1. 질소산화물이 포함된 기체를 기체-고체 반응탑에 도입하고, 동시에 상기 기체-고체 반응탑에 분말형태의 염화철 고체입자를 도입하고, 기체 중의 질소산화물은 상기 기체-고체 반응탑에서 염화철 고체입자와 기체-고체 흡착 화학반응을 일으켜 흡수되면서 고체 산물을 생성하고, 이를 통해 기체 정화의 목적을 달성하되,
    상기 기체-고체 반응탑은 고정층, 이동층, 비등층, 유동층 또는 순환유동층으로 이루어진 군에서 선택된 하나이고,
    상기 기체-고체 반응탑 내 기체-고체 접촉시간은 0.5 내지 100s이며,
    상기 기체-고체 반응탑은 가열하여 내부의 반응온도가 40 내지 75℃가 되도록 하고,
    상기 기체-고체 반응탑에 상기 염화철 고체입자를 투입하기 이전에 상기 염화철 고체입자를 40℃ 이상으로 예열한 후 투입하며,
    규사, 세라믹 또는 제올라이트로 이루어진 입자상 충전재와 염화철을 혼합한 후 상기 기체-고체 반응탑 내에 투입하며,
    상기 충전재의 입자크기는 0.01 내지 10mm이고,
    반응 후 수득한 고체 산물은 105℃ 이상의 온도로 가열하거나 용매에 용해하여 흡수된 질소산화물을 제거하는 것을 특징으로 하는 기체에서 질소산화물을 제거하는 방법.
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  8. 제 1항에 있어서,
    상기 기체-고체 반응탑은 탑체(4)를 포함하고, 상기 탑체(4)의 측면 하부에 기체가 연결된 기체 입구(1)를 설치하고, 중간부에 염화철 고체입자 투입구(3)를 설치하고, 탑체(4) 내의 하부 기체 입구(1) 상방에 기체 분포기(2)를 설치하고, 탑체(4) 상부에 연결관(5)을 설치하고, 상기 연결관(5)은 기체-고체 분리기(7)와 연통하고, 상기 기체-고체 분리기(7)의 상부에 기체 출구(6)를 설치하고, 하부에 반응 후 고체입자 배출구(9)와 고체입자 반환구(8)를 설치하고, 상기 고체입자 반환구(8)는 탑체(4)와 연통하며,
    상기 기체 입구(1)를 통해 상기 탑체(4) 내부로 투입된 기체는 상기 고체입자 투입구(3)를 통해 상기 탑체(4) 내부로 투입된 염화철 고체입자와 흡착 화학반응하면서 기체에 포함된 질소산화물이 상기 염화철 고체입자에 흡수되고, 질소산화물이 제거된 기체는 상기 기체 출구(6)를 통해 외부로 배출되는 것을 특징으로 하는 기체에서 질소산화물을 제거하는 방법.
  9. 제 1항에 있어서,
    상기 기체-고체 반응탑은 탑체(4)를 포함하고, 상기 탑체(4)의 하부에 기체 입구(1)를 설치하고, 상부에 고체입자 투입구(3)와 기체 출구(6)를 설치하고, 바닥부에 고체입자 배출구(9)를 설치하고, 상기 기체 입구(1)는 탑체(4) 내의 기체-고체 반응영역(12)을 거쳐 기체 출구(6)와 연통하고, 상기 고체입자 투입구(3)는 탑체(4) 내의 기체-고체 반응영역(12) 및 고체입자 회수영역(13)을 거쳐 고체입자 배출구(9)와 연통하며,
    상기 기체 입구(1)를 통해 상기 탑체(4) 내부로 투입된 기체는 상기 고체입자 투입구(3)를 통해 상기 탑체(4) 내부로 투입된 염화철 고체입자와 흡착 화학반응하면서 기체에 포함된 질소산화물이 상기 염화철 고체입자에 흡수되고, 질소산화물이 제거된 기체는 상기 기체 출구(6)를 통해 외부로 배출되는 것을 특징으로 하는 기체에서 질소산화물을 제거하는 방법.
  10. 제 1항에 있어서,
    상기 기체-고체 반응탑은 탑체(4)를 포함하고, 상기 탑체(4)의 하부에 기체 입구(1)를 설치하고, 상기 기체 입구(1) 상방에 기체 분포기(2)를 설치하고, 상기 기체 분포기(2) 상방은 염화철 충전층(14)이고, 상기 염화철 충전층(14)의 상부에 고체입자 투입구(3)를 설치하고, 하부에 고체입자 배출구(9)를 설치하고, 상기 탑체(4)의 상부에 기체 출구(6)를 더 설치하고, 상기 기체 입구(1)는 기체 분포기(2)와 염화철 충전층(14) 내의 공극을 거쳐 기체 출구(6)와 연통하고, 상기 고체입자 투입구(3)와 고체입자 배출구(9)는 각각 염화철 충전층(14)과 연통하며,
    상기 기체 입구(1)를 통해 상기 탑체(4) 내부로 투입된 기체는 상기 고체입자 투입구(3)를 통해 상기 탑체(4) 내부로 투입된 염화철 고체입자와 흡착 화학반응하면서 기체에 포함된 질소산화물이 상기 염화철 고체입자에 흡수되고, 질소산화물이 제거된 기체는 상기 기체 출구(6)를 통해 외부로 배출되는 것을 특징으로 하는 기체에서 질소산화물을 제거하는 방법.
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