KR102022888B1 - 광학 컴포넌트의 기하 구조 측정 방법 및 장치 - Google Patents

Abstract

본 발명의 주제는 광학 컴포넌트의 기하 또는 광학 구조를 측정하는 방법 및 시스템이다. 특히, 본 발명은 제1 면(10) 및 제2 면(20)에 의해 범위가 정해지는 광학 컴포넌트의 기하 구조를 측정하는 방법에 관한 것으로, 상기 방법은: (S1) 적어도 상기 제1 면(10)에 의한 제1 프로브 신호(PS1)의 제1 변형의 결과인 제1 신호(MS1)를 측정하는 단계; (S2) 적어도 상기 제2 면(20)에 의한 제2 프로브 신호(PS2)의 제2 변형의 결과인 제2 신호(MS2)를 측정하는 단계; (S3) 제1 신호(MS1)의 측정과 연관된 제1 세트의 좌표(R1)를 제2 신호(MS2)의 측정과 연관된 제2 세트의 좌표(R2)로 변환할 수 있도록 하는 제3 변환을 결정하는 단계; (S10) 제1 신호(MS1), 상기 제1 시뮬레이션, 및 예측(ES1)과 제1 신호(MS1) 사이의 차이를 정량화하는 제1 비용 기준을 사용하여 상기 제1 면(10)을 예측하는 단계; 및 (S20) 제2 신호(MS2), 상기 제2 시뮬레이션, 상기 제3 변형, 및 예측(ES2) 및 제2 신호(MS2) 사이의 차이를 정량화하는 제2 비용 기준을 사용하여 상기 제2 면(20)을 예측하는 단계를 포함한다.

Description

광학 컴포넌트의 기하 구조 측정 방법 및 장치{METHOD AND TOOL FOR MEASURING THE GEOMETRIC STRUCTURE OF AN OPTICAL COMPONENT}

본 발명의 주제는 광학 컴포넌트의 기하 또는 광학 구조를 측정하는 방법 및 시스템이다.

본 발명에 따른 방법은 광학 컴포넌트의 두 면을 절대적인 방식으로 측정하는 것을 가능하게 한다. 절대 측정은 굴절률을 제외하고 컴포넌트에 대한 임의의 사전 지식이 필요 없는 측정을 의미한다. 면의 측정은 여러 산업 분야에 적용 가능하다. 이는 안과 렌즈안과 렌즈의 측정 또는 검사를 위한 안과 분야에서 특히 유용한데, 이 경우 복합면의 제작에 수백 개의 계수를 동시 결정하는 것이 필요하다.

이 섹션은 독자에게 이하에서 설명되고/되거나 청구되는 본 발명의 다양한 양상에 관련된 기술의 다양한 측면을 소개하고자 하는 것이다. 이러한 논의는 본 발명의 다양한 측면을 더 잘 이해할 수 있도록 배경 정보를 독자에게 제공하는데 유용할 것으로 간주된다. 따라서, 이들 설명은 이런 측면에서 읽어야 하며 종래 기술의 해설로 읽으면 안 되는 것으로 이해해야 한다.

본 출원인의 유럽 공개 특허 EP-A-0 644 411는 반사 또는 투과 편향법 툴을 설명한다. 이 툴은 광학 컴포넌트의 기하 구조의 반사 또는 투과에 의해 측정할 수 있도록 한다. 그러한 측정 툴의 원리는 가장 간단한 경우 평면파와 같은 알려진 파면의 방사에 의해 측정되는 광학 컴포넌트를 조명하고 측정될 광학 컴포넌트 상의 반사 또는 투과 후의 파면을 측정하는 것이다. 반사 또는 투과 후 파면의 측정은 측정될 컴포넌트의 기하 특성을 알아낼 수 있게 한다.

그러므로 컴포넌트의 일면의 기하를 결정하는 것은 알려져 있고; 컴포넌트의 다른 면의 기하는 연산을 위해 알려진 것으로 추정된다. 그러므로 광학 컴포넌트와 특히 그 두 면의 여러 특성을 결정할 수 있도록 하는 측정 툴에 대한 필요가 존재한다. 그러한 툴은 그 두 면 각각의 형상을 정확한 방식으로 결정하는 것과, 이들 면 중 하나에 대한 임의의 추정을 공식화할 필요 없이 다른 면에 대하여 한 면을 정확하게 배치하는 것에 의해, 특히 누진 안과 렌즈를 효과적으로 측정할 수 있도록 한다.

또한 본 출원인의 프랑스 공개 특허 FR-2 813 391 A1은 광학 컴포넌트의 투과에서 한 쌍의 측정을 수행하는 광학 컴포넌트의 기하 구조를 측정하는 방법을 설명한다. 그러나 두 측정 각각이 가로지르는 두 면의 영향을 결합하기 때문에 재구축된 기하 구조의 정확도가 언제나 만족할만한 것은 아니다.

살아있는 유기체(세포 또는 세포 그룹)의 굴절률의 내부 분산과 표면 토포그래피를 결정하기 위하여, 두 간섭계 측정이 하나는 반사에서, 다른 하나는 투과에서 실행되는 독일 공개 특허 DE102004047531도 알려져 있다. 그러나, 함축적 방식으로, 반사 또는 투과된 광학 파장의 상변화의 측정을 굴절률의 변화 또는 높이의 맵으로 변환하는 것을 가능하게 하는 절대적인 결과를 달성하기 위하여, 이러한 문헌에 의해 설명된 측정은 유기체의 굴절률 분산의 또는 토포그래피의 종래 지식을 필요로 한다.

또한, 점별, 면별 또는 두 면 각각의 한 점에서 동시에 작동하는 기계적 또는 광학 프로브를 구비한 게이지의 도움으로 광학 컴포넌트의 면들을 측정하는 것이 알려져 있다. 그러나 여전히 한 면의 측정 시간이 상당하고, 제2 면에 대하여 제1 면의 측정 위치를 잡는 것이 항상 어렵다. 또한, 일반적으로 점별 측정은, 산업 현장에서 활용하기 어렵고 입수 및 점검 관점에서 비교적 고가인 (기계적 또는 광학) 프로브를 대신할 극도로 정확한 수단을 필요로 한다.

[선행기술문헌]

[특허문헌]

(특허문헌 1) 유럽 공개 특허 EP-A-0 644 411

(특허문헌 2) 프랑스 공개 특허 FR2813391A1

(특허문헌 3) 독일 공개 특허 DE102004047531

본 발명의 목적은 전술된 단점을 해결하기 위한 것이고, 2개의 비파괴 측정을 기초로 광학 컴포넌트의 기하 구조를 결정하는 것이 제안된다. 이들 측정 중 적어도 하나는 구역 모드 또는 멀티 포인트 방식(위에 개시된 ""점-대-점"방식에 반대되는 것으로)에서 동작하고, 이들 측정 중 적어도 하나는 면들 중 하나에 의한 프로브 신호의 변형의 결과인 하나의 MS1의 신호에서 수행되고, 이들 면 각각은 종래에 알려져 있지 않다. 본 결정은 또한 상기 측정을 기초로 컴포넌트의 면들 각각의 수치 재구축에 기초한다.

본 발명은 제1 양상에 따라 청구항 1의 특징으로 이 목적을 달성하고, 제2 양상에 따라 청구항 14의 특징으로 이 목적을 달성한다.

이차적인 청구항들은 본 발명의 이로운 개념과 강화를 제시한다.

제1 양상에 따라, 본 발명은 제1 면(10)과 제2 면(20)에 의해 범위가 정해지는 컴포넌트의 기하 구조를 측정하는 방법에 관한 것으로; 상기 방법은:

S1. 상기 제1 면(10)에 의한 제1 프로브 신호(PS1)의 제1 변형의 결과인 제1 신호(MS1)의 측정 단계로서, 상기 제1 변형의 제1 시뮬레이션은 제1 신호(MS1)의 측정 동안 상기 제1 면(10)과 동일한 방식으로 제1 측정 기준 프레임(R1)에 배치되고 알려진 적어도 하나의 제1 가상면에 의한 제1 프로브 신호(PS1)의 상기 제1 변형의 결과인 신호의 제1 예측(ES1)을 얻도록 할 수 있는 것인 단계;

S2. 적어도 상기 제2 면(20)에 의한 제2 프로브 신호(PS2)의 제2 변형의 결과인 제2 신호(MS2)의 측정 단계로서, 상기 제2 변형의 제2 시뮬레이션은 제2 신호(MS2)의 측정 동안 상기 제2 면(20)과 동일한 방식으로 제2 측정 기준 프레임(R2)에 배치되고 알려진 적어도 하나의 제2 가상면에 의한 제2 프로브 신호(PS2)의 상기 제2 변형의 결과인 신호의 제2 예측(ES2)을 얻도록 할 수 있는 것인 단계;

S3. 제1 기준 프레임(R1)에서 제2 기준 프레임(R2)으로 변환하도록 할 수 있는 제3 변형의 결정 단계;

S10. 제1 신호(MS1), 상기 제1 시뮬레이션, 및 예측(ES1)과 제1 신호(MS1) 사이의 차이를 정량화하는 제1 비용 함수를 기초로 수행되는 상기 제1 면(10)의 예측 단계; 및

S20. 제2 신호(MS2), 상기 제2 시뮬레이션, 상기 제3 변형, 및 예측(ES2) 및 제2 신호(MS2) 사이의 차이를 정량화하는 제2 비용 함수를 기초로 수행되는 상기 제2 면(20)의 예측 단계를 포함하되,

여기서 제1 신호(MS1)의 측정과 제2 신호(MS2)의 측정 중 적어도 하나의 측정은 구역 측정이다.

제2 양상에 따라, 본 발명은 제1 면(10)과 제2 면(20)에 의해 범위가 정해지는 컴포넌트의 기하 구조를 측정하는 시스템에 관한 것으로, 상기 시스템은:

- 적어도 상기 제1 면(10)에 의한 제1 프로브 신호(PS1)의 제1 변형의 결과인 제1 신호(MS1)를 측정하는 것으로서, 상기 제1 변형의 제1 시뮬레이션은 제1 신호(MS1)의 측정 동안 상기 제1 면(10)과 동일한 방식으로 제1 측정 기준 프레임(R1)에 배치되고 알려진 적어도 하나의 제1 가상면에 의한 제1 프로브 신호(PS1)의 상기 제1 변형의 결과인 신호의 제1 예측(ES1)을 얻도록 할 수 있는, 제1 측정 수단(MM1);

- 적어도 상기 제2 면(20)에 의한 제2 프로브 신호(PS2)의 제2 변형의 결과인 제2 신호(MS2)를 측정하는 것으로서, 상기 제2 변형의 제2 시뮬레이션은 제2 신호(MS2)의 측정 동안 상기 제2 면(20)과 동일한 방식으로 제2 측정 기준 프레임(R2)에 배치되고 알려진 적어도 하나의 제2 가상면에 의한 제2 프로브 신호(PS2)의 상기 제2 변형의 결과인 신호의 제2 예측(ES2)을 얻도록 할 수 있는, 제2 측정 수단(MM2);

- 제1 기준 프레임(R1)에서 제2 기준 프레임(R2)으로 변환하도록 할 수 있는 제3 변형을 결정하는 수단(MD);

- 제1 신호(MS1), 상기 제1 시뮬레이션, 제1 가상면 및 제1 예측(ES1)과 제1 신호(MS1) 사이의 차이를 정량화하는 제1 비용 함수를 기초로 상기 제1 면(10)을 예측하도록 설정된 제1 연산 수단(CM1);

- 제2 신호(MS2), 상기 제2 시뮬레이션, 제2 가상면, 상기 제3 변형, 및 제2 예측(ES2)과 제2 신호(MS2) 사이의 차이를 정량화하는 제2 비용 함수를 기초로 상기 제2 면(20)을 예측하도록 설정된 제2 연산 수단(CM2)을 포함하되,

여기서 상기 측정 수단(MM1,MM2) 중 적어도 하나는 구역 측정을 수행한다.

본 발명에 따른 공정은 기존의 직접적인 기계적 또는 광학적 측정 기술(예를 들어, 기계적 또는 광학 프로브를 구비한 점-대-점 게이지 등)에 비해 매우 빠른 컴포넌트의 구조의 결정을 수행하는 이점을 제시한다.

유리하게, 적어도 하나의 구역 또는 "멀티포인트"측정(예를 들어 제1 신호의 측정)은 그 자체가 제한된 숫자의 기본 구역 측정의 수집의 결과가 될 수 있다. 이러한 기본 구역 측정은 각각 제1 면(10)의 존에 의한 제1 프로브 신호(PS1)의 제1 변형의 결과인 제1 기본 신호를 측정한다. 존의 전체 세트는 제1 면을 커버한다. 이 경우, 기본 구역 측정의 결합 단계가 필요하다. 이는 구역 측정이 단일 캡처에서 수행될 때보다 하나의 동일한 측정 수단(MM1)을 가지고 더 정확한 제1 면의 예측을 얻는 것이 가능하게 하고, 제한된 숫자의 기본 구역 측정의 수집으로 수행되는 구역 측정이 점-대-점 측정보다 실행이 더 빠르고 더 간단하다.

또한, 특성이 매우 상이한 면들 각각에서 수행되는 두 측정을 채용하는 것에 의해 본 발명에 따른 공정을 실행하는 것이 가능하다. 제1 측정은 예를 들어 반사에서의 측정이고, 제2 측정은 예를 들어 투과에서 수행된다. 그러나 반사/반사와 같은 다른 기하 구조가 가능하다. 또한, 제1 측정은 프린지의 반사에 기초하는 편향법 측정이고, 제2 측정은 하트만(Hartmann) 타입의 측정이지만, 대신 제1 측정이 동일하게 양호하게 제1 면에 의해 반사된 광학 신호의 변형의 측정일 수 있고, 제2 측정은 제1 및 제2 면에 의해 투과된 광학 신호의 확장 또는 배율의 측정이다.

따라서, 본 발명에 따른 공정은 면들의 측정을 수행하도록 설정된 기존 기구를 기초로 실행될 수 있는 이점도 제시하지만, 이들은 그 자체에 결속되는 데이터에서 이들 면들을 재구축하기 위한 임의의 연산 수단을 포함하지 않는다.

본 발명에 따른 공정의 세 번째 이점은 구조의 결정이 생성되는 형태에 관련되는 것이다: 이하에서 제시된 면 재구축 단계는 분석적인 형태로 면의 표시를 채용한다. 또한 본 발명에 따른 공정에 의해 전달되는 것과 같은 컴포넌트의 구조는 분석적 형태를 갖는다: 이는 수치 시뮬레이션 수단에서 예측되는 구조의 다음 사용에 특히 적합하다.

본 발명에 따른 절차의 네 번째 이점은 높이 변화의 크기가 상당하고 이들 면 중 어느 것의 지식도 연역적으로 필요하지 않는데도 광학 컴포넌트의 면의 높이 평가를 달성할 수 있도록 하는 뛰어난 정확성에 있다.

본 발명의 여러 실시예는 예를 들어 안과 렌즈와 같은 가공된 부품의 조사 또는 측정에 대한 적용을 제시한다. 이 경우, 복합면의 제작은 수백 개의 계수의 동시 결정을 필요로 한다.

본 발명은 첨부된 다음 도면을 참조하여, 제한 없이 포괄적으로, 실시예와 뒤따르는 실행의 예를 통해 설명되고 보다 잘 이해될 것이다:
도 1은 본 발명의 실시예에 따른 측정 공정의 흐름도를 나타낸다.
도 2는 본 발명의 실시예에 따른 상기 공정에서 실행되는 제1 신호(MS1)의 예시적인 측정을 나타낸다.
도 3은 본 발명의 실시예에 따른 상기 공정에서 실행되는 제2 신호(MS2)를 측정하는 예시적인 단계를 나타낸다.
도 4는 본 발명의 실시예에 따른 상기 공정에서 실행되는 제3 변환을 결정하는 예시적인 단계를 나타낸다.
도 5는 본 발명의 실시예에 따른 컴포넌트의 구조를 측정하는 시스템의 실시예를 계략적으로 나타낸다.

명료성을 위해 광학 컴포넌트의 면의 재구축에 기초한 측정 방법에서 발견되는 여러 다른 구성요소를 삭제하는 한편, 본 발명의 설명과 수치는 본 발명을 분명히 이해하기 위하여 관련 있는 구성요소를 설명하기 위하여 간략화된 것으로 이해될 것이다. 그러나 이들 구성요소는 종래 기술에서 잘 알려져 있기 때문에 이들 구성요소의 상세한 논의는 여기서 예상되지 않는다. 본 개시는 당업자에게 잘 알려진 이러한 모든 변형 및 수정에 관한 것이다.

도 1은 본 발명의 실시예에 따른 컴포넌트의 기하 구조를 측정하는 공정의 5 단계를 포함하는 흐름도를 나타낸다. 다음에서, 이러한 5 단계는 예를 들어 볼록면인 제1 면(10)과 예를 들어 오목면인 제2 면(20)을 포함하는 안과 렌즈의 기하 구조의 측정에 관하여 상세하게 설명된다.

유리하게, 광학 컴포넌트는 안과 렌즈다. 유리하게, 광학 컴포넌트는 누진 안과 렌즈다.

단계 S1 : 프린지 반사 공정에 의한 제1 면(10)의 측정:

도 2에 표시된 바와 같이, 예를 들어, 백색광에 의해 균일하게 조명되고 폭(L)을 갖는 비조명 대역에 의해 분리되는 폭(L)을 갖는 발광 대역으로 구성되는 주기적 프린지 격자(PS1)가 컴포넌트의 제1 면(10) 상에 투영된다. 프린지 격자는 면(10)에 의해 반사되고 격자의 변형된 이미지를 형성한다. 이 이미지는 예를 들어, 가시 스펙트럼 내의 광 감응성 디지털 카메라와 같은 이미지 캡처 장치에 의해 캡처된다. 이 이미지(또는 복수의 이미지의 세트)는 선택된 수의 그 포인트에서 면(10)에 법선 방향의 맵(MS1)을 연산하는 데 사용된다. 따라서, 변환(T1)은 신호(PS1)에서 면(10)의 "측정된" 법선의 맵(MS1)으로 변환하는 것을 가능하게 한다. 시뮬레이션은 알려진 초기 면에 대하여 법선의 제1 절대 예측(ES1)을 구할 수 있게 한다. 한정어 "절대"를 사용하는 것은 예측이 불명확함 없이 결과에 접근할 수 있도록 하는 것을 나타내기 위한 것이다. 그러한 것은 예를 들어, 파장 λ에서 수행되는 제1 면 상의 반사의 기하 구조 측면에서 간섭 측정에 관한 경우가 아니다. 이러한 종류의 측정이 상변화 측정에 기반하므로, 그 시뮬레이션은 모호한, 모듈로 λ인 제1 면의 높이의 맵에 접근하는 것을 가능하게 한다: 이 경우 예측은 절대적이지 않다. 측정된 법선의 맵(MS1)은 제1 절대 예측을 얻을 수 있도록 하는 시뮬레이션의 지식을 기초로 다음 단계 S10에서의 최적화에 의해 해결되는 재구축 문제의 대상을 구성한다.

물론, 본 발명은 예를 들어 설명된 실시예에 한정되지 않으며, 따라서 제1 신호(MS1)를 측정하기 위하여 예를 들어 론치 격자(Ronchi grating)의 사용 또는 투영 격자 편향법 공정과 같은 반사 격자 편향법이 아닌 다른 절차를 사용하는 것이 가능하다.

유리하게, 제1 신호(MS1)의 측정은 구역 또는 멀티포인트 측정이다. 보다 정확하게, 동시에 광학 컴포넌트의 제1 면의 복수의 포인트에 의한 프로브 신호의 제1 변형에 의한 신호(MS1)의 측정은 여기서 "구역" 또는 "멀티포인트"로 칭해진다.

제1 실시예에서, 제1 면(10)은 프린지 격자에 의해 조명되고 이 격자의 넓이는 제1 면(10)의 크기보다 더 크다. 그러므로 구역 측정은 하나의 빠르고 간단한 단계로 면(10)의 전체를 측정할 수 있도록 한다.

유리하게, 구역 측정은 예를 들어, "기본 존"으로 칭해지는 제1 표면의 일부만 조명하는, 전술한 프린지 격자로 수행되는 기본 구역 측정의 집합에 의해 얻을 수 있다. 기본 구역 측정은 기본 존에 의한 프린지 격자의 반사로 인해 발생하는 신호를 측정한다. 기본 구역 측정은 기본 구역이 제1 면 전체를 덮을 때까지 반복된다. 구역 측정은 여러 기본 구역 측정을 결합하여 얻어진다.

2개의 기본 구역 측정을 기초로 수행되는 구역 측정에 대한 이러한 제2 실시예의 예는 다음과 같이 설명될 수 있다: 제1 면(10)은 제1 면(10)의 전체 표면보다 작은 넓이의 프린지 격자에 의해 조명된다. 프린지 격자가 제1 면(10)의 표면의 60%를 덮는 예에 대하여 고려하기로 한다. 제1 기본 구역 측정은 격자에 대한 제1 면의 제1 위치에 대하여 격자에 의해 덮이는 제1 면의 60%에 상응하는 제1 기본 존(Z1) 상에 이상에서 밝힌 바와 같이 수행된다. 제1 면(10) 전체를 측정하기 위하여, 상기 제1 면(10)은 이후 격자가 면(10)의 다른 부분 위로 투영되고, 제2 기본 존(Z2)을 덮도록 격자에 대하여 변위되는데, 예를 들어 존은 여전히 제1 면의 표면의 60%를 덮지만, 기본 존(Z1 및 Z2)은 제1 면의 전체 영역의 20%에 상응하는 영역 위에 겹쳐진다. 이들 두 기본 구역 측정을 수행하기 위하여, 제1 존(Z1) 위로 투영한 후 제2 기본 존 상에 프로브 신호를 투영하는 측정 헤드를 변위시킬 수도 있다. 마지막으로, 두 개의 기본 구역 측정의 결합은 프린지 격자로 구성되는 프로브 신호를 기초로 제1 신호(SM1)의 측정을 구성하도록 수행된다. 결합은 2개의 기본 존(Z1 및 Z2) 사이의 중첩된 존에 걸쳐 신호(SM1)의 자동상관 함수를 최대화하려고 함으로써, 수치적으로 수행된다. 이 경우, 하나의 제한이 필요하다: 기본 존들 사이의 중첩된 존은 양호한 자동상관 함수를 얻기 위해 충분한 정보를 포함할 필요가 있다.

기본 존들 사이의 이러한 중첩은 제1 면(10)이 예를 들어 단초점 렌즈와 같은 다른 것에 대한 기본 구역 측정들 중 하나를 용이하게 배치할 수 있게 하는, 광학 또는 기계적 기준 프레임을 구비하는 경우에는 필수불가결하지 않다.

바람직하게, 컴포넌트의 면 중 하나의 구역 측정을 수행할 수 있도록 하는 기본 구역 측정의 수는 10을 초과하지 않는다.

프린지 격자 반사 측정의 종류에 제한되지 않는 이러한 제2 실시예는, 하나의 동일한 프로브 신호를 갖는 넓은 표면적의 면의 측정을 허용하거나, 그렇지 않으면 구역 측정에서 훨씬 더 큰 정확도를 획득하는 임의의 적용에 대하여, 복수의 캡처에서 구역 측정을 수행하는 것을 가능하게 하는 이점을 제시한다.

단계 S2 : 하트만( Hartmann ) 유형의 공정에 의해 제1 및 제2 면을 통한 투과에서의 측정:

도 3에 제시되는 바와 같이, 평행 광선(PS2)를 가지는 광학 빔은 측정될 컴포넌트의 면(10) 및 면(20)을 통과하여 전송된다. 빔을 구성하는 광선은 컴포넌트의 두 계면(10, 20)에서 굴절에 관련된 편차를 겪는다. 그러므로 그 후 편향된 광선의 일부는 최종적으로 스크린에 의해 차단되는 제2 빔을 형성하도록 개구의 행렬을 통과한다. 스크린의 이미지는 예를 들어 가시 스펙트럼 내의 광 감응성 디지털 카메라와 같은 이미지 캡처 장치에 의해 캡처된다: 측정된 컴포넌트의 광학 효과의 입사 광선 특성의 편향으로 해석된 제2 빔의 변이가 획득된다. 캡처된 이미지 상에서 수행된 알려진 처리에 의해, 이러한 변이는 컴포넌트에 의해 투과된 파면의 법선의 맵(MS2)으로 변환된다. 그러므로 변형(T2)은 신호(PS2)에서 "측정된" 편향의 맵(MS2)로 변환하는 것을 가능하게 한다.

광선의 편향에 관한 지식은 하트만 유형의 측정 시스템의 거동의 모델링과 연관된다. 이 모델링에 기초하여, 2개의 알려진 면을 갖는 컴포넌트에 의한 광선의 편향의 시뮬레이션은 이 컴포넌트에 대하여 획득되는 편향의 절대 예측을 얻을 수 있도록 한다. 실행된 제2 측정은 그 동작의 시뮬레이션이 컴포넌트의 면들의 절대 예측에 접근하도록 하는 점에서 단수이다. 측정된 편향의 맵(MS2)은 다음 단계 S20에서 최적화에 의해 해결되는 재구축 문제의 대상을 구성한다.

물론, 본 발명은 예를 들어 설명된 실시예에 제한되지 않고, 따라서 제2 신호(MS2)를 측정하기 위해 예를 들어, 쉴리렌(Schlieren)계 또는 투과 격자계, 섀크-하트만(Shack-Hartmann) 편향법 절차와 같이, 투과 하트만 편향법 이외의 공정을 사용하는 것이 가능하다.

제1 실시예에서, 제1 신호(MS1)는 상기 제1 면(10)에 의한 제1 프로브 신호 (PS1)의 제1 변형의 결과이고, 제2 신호(MS2)는 상기 제1 면(10)과 상기 제2 면(20)에 의한 제2 프로브 신호(PS2)의 제2 변형의 결과이다.

제2 실시예에서, 제1 신호(MS1)는 상기 제1 면(10)에 의한 제1 프로브 신호 (PS1)의 제1 변형의 결과이고, 제2 신호(MS2)는 상기 제2 면(20)에 의한 제2 프로브 신호(PS2)의 제2 변형의 결과이다.

유리하게, 제1 및/또는 제2 프로브 신호(PS1, PS2)는 광학 신호이다.

유리하게, 제1 신호(MS1)는 제1 면(10)에 의해 반사된 주기적 격자로 구성되는 광학 신호의 편향법 측정에 의해 얻어진 제1 면(10)에 대한 법선의 맵이고, 제2 신호(MS2)를 측정하는 단계 S2는 제1 및 제2 면(10, 20)에 의해 투과된 광학 신호의 편향법 측정이다.

유리하게 제1 신호(MS1)을 측정하는 단계 S1은 제1 면(10)에 의해 반사된 광학 신호의 변형의 측정이고, 제2 신호(MS2)를 측정하는 단계 S2는 제1 및 제2 면(10, 20)에 의해 투과된 광학 신호의 확장 또는 배율의 측정이다.

유리하게, 제2 신호(MS2)의 측정은 구역 측정이다.

유리하게 제1 신호(MS1)의 측정과 제2신호(MS2)의 측정은 구역 측정이다.

유리하게 상기 구역 측정은 기본 구역 측정의 수집으로 수행되고, 여기서 상기 기본 구역 측정은 각각 면의(또는 면들의) 기본 존에 의해 프로브 신호의 변형의 결과인 기본 신호를 측정하여 상기 기본 존이 상기 면(또는 상기 면들) 전체를 덮는다.

유리하게, 측정 단계 S1, S2는 단일 기기에 의해 실행된다.

단계 S3 : 제1 기준 프레임( R1 )에서 제2 기준 프레임( R2 )으로 변환할 수 있도록 하는 제3 변형의 결정

기준 프레임(R1)에서 제1 신호(MS1)의 측정이 제1 면(10) 상의 반사에 의해 수행될 때, 제1 면(10)의 재구축만이 이 제1 측정(SM1)에 기초하여 달성될 수 있다. 제2 면의 측정(MS2)은 기준 프레임(R2)에서 수행된다. 기준 프레임(R1)에서 기준 프레임(R2)으로의 변환에 대한 변형을 알 필요가 있다. 투과에서 수행된 제2 측정(MS2)에 기초하여 제2 면(20)을 재구축하는 단계는 일반적으로 그 자체에 의해 제1 예측 면에 대하여 제2 예측(또는 재구축) 면을 배치하고 배향할 수 있게 하지 않는다. 제1 신호(MS1)의 측정에 결부된 제1 기준 프레임(R1)에서 제2 신호(MS2)의 측정에 결부된 제2 기준 프레임(R2)으로 이동하는 것을 가능하게 하는 제3 변형의 이해가 이를 달성하기 위해 필요하다.

여기서, 기준 프레임(R1, R2)은 기점과 3개의 독립 방향으로 한정되는 아핀 공간(affine space)의 기준 프레임을 의미하는 것으로 이해된다. 그러므로, 제3 변형은 그 결과 R1의 기점과 R2의 기점을 분리하는 벡터와, 기준 프레임(R1)의 축에서 기준 프레임(R2)의 축으로 변환하기 위해 필요한 회전을 설명하기 위한 3차 회전 행렬로 정의될 수 있는 아핀 변형이다.

본 실시예에 대하여, 제3 변형의 이해는 제1 및 제2 신호(MS2)의 측정과는 관계 없는 결정을 수반한다. 도 4에 표시되는 바와 같이, 제3 변형은 기준 포인트에서 결정될 수 있다: 컴포넌트의 중심에서의 두께는 예를 들어 기계적 또는 광학적 게이지를 구비한 시스템의 도움으로 측정된다. 이로 인해 이 기준 포인트에서 컴포넌트의 면(10, 20) 사이의 거리를 확인할 수 있다.

단계 S3는 단계 S1과 S2에서 수행된 측정의 종류에 좌우된다.

사실상, 단계 S1과 S2의 측정이 높이에 관련이 있으면(예를 들어 물리적 게이지에서), 사용 가능한 정보는 면을 전체적으로 재구축하기에 충분하다.

측정이 1차 데이터에 관련이 있으면(예를 들어 법선, 또는 광학 편향), 불확정성과 재구축은 면의 포인트의 높이를 주지 않고 발생되지 않을 수 있다(재구축 문제는 무한한 해법을 갖는다). 이 문제를 해결하기 위해, 컴포넌트의 중심에서 두께를 측정하면 재구축될 면을 공간 내에 배치할 수 있다.

2차 측정의 경우(예를 들어 곡률 또는 배율의 측정), 2개의 불확정성이 있다. 해법의 독창성을 보장하기 위하여 면의 포인트에서의 높이와 면의 포인트에서의 법선을 제시할 필요가 있다. 따라서, 제2 면에 대한 법선을 나타낼 컴포넌트의 프리즘은 물론 제2 면의 높이를 결정하기 위하여 컴포넌트의 중심에서의 두께를 측정하는 것이 가능하다.

프리즘이 제1 면에 법선인 입사 광선의 도움으로 광학 수단에 의해 측정되면, 프리즘 측정은 제1 면과 제2 면 사이의 변형으로 직접 변환될 수 있다. 프리즘 측정이 제1 면에 법선이 아닌 입사 광선에 의해 수행되면, 프리즘은 제2 면에 좌우된다. 그러므로 제2 면과 공간 내에서 제2 면의 방향을 동시에 재구축할 필요가 있다(높이는 중심 두께의 측정에 의해 주어짐). 후자의 상황에서, 이하에서 설명되는 단계 S20은 제3 변형과 제2 면(20)의 동시 결정으로 이어진다.

물론, 본 발명은 예를 들어 설명되는 실시예에 제한되지 않고, 따라서, 제3 변형을 결정하기 위하여 예를 들어 기계적 게이지 기반 또는 다른 광학 게이지 기반, 반사 광학 공정과 같이, 언급된 투과 광학 공정 이외의 공정을 사용할 수 있다.

측정 단계 S1, S2는 상이한 측정 기기에서 수행된다. 이는 절대 방식으로 공간 내에 컴포넌트를 배치하는 공통 측정 데이터를 필요로 한다. 본 실시예의 경우, 제1 및 제2 측정은 컴포넌트의 면들 중 하나 위에서 수행되는 마이크로-서클(micro-circle)의 태그 시스템의 도움으로, 또는 대안으로 그 다음 그들 각각에서 균등한 기준 프레임 내의 배치를 보장하는 측정 시스템들 사이에서 공통의 기계적 데이터에 의하여 각각 수행될 수 있다. 따라서, 예를 들어 공간 내에 참조되는 자동-센터링 기계적 집게가 사용된다.

일 실시예에 따라, 제3 변형을 결정하는 단계(S3)는 컴포넌트의 두께 측정을 포함한다.

일 실시예에 따라, 제3 변형을 결정하는 단계(S3)는 컴포넌트의 프리즘의 측정을 추가로 포함한다.

단계 S10 : 특히 제1 신호( MS1 )에 기초하여 수행되는 제1 면(10)의 예측.

제1 구축은 컴포넌트의 제1 면(10)의 예측을 목적으로 한다. 제1 가상면이 프린지 격자 변형 측정 동안 물리적 컴포넌트의 제1 면(10)과 동일한 조건(위치 및 방향) 하에 공간에서 고려되고 배치된다. 측정(MS1)이 수행되고 제1 면(10)과 제1 가상면의 위치가 알려진 기준 프레임은 R1으로 지칭된다.

최적화에 의한 재구축의 원리는 그 자체가 알려져 있다.

시작 값은 예를 들어 구 형상과 같은 제1 가상면에 대하여 정의된다. 가상면에 의한 신호(PS1)의 변형의 시뮬레이션은 가상면의 법선의 예측 (ES1)을 연산하는 것을 가능하게 한다.

컴포넌트의 가상면의 현재 값에 대하여 연산될 수 있는 비용 함수는 그 다음 정의된다; 이 비용 함수는 가상면으로 수행된 측정의 예측(ES1)의 값이 측정(MS1)의 값과 동일할 때 최소 또는 최대 값을 보이도록 고안된다.

비용 함수의 값은 측정(ES1)의 시물레이션과 측정(MS1) 사이의 차이를 정량화하도록 할 수 있다. 각 측정 포인트에 대하여, 측정에서 나온 법선을 나타내는 벡터와 시뮬레이션에서 나온 법선을 나타내는 벡터 사이의 차이와 같은 벡터의 법선을 고려할 수 있다. 비용 함수는 모든 측정 포인트에 대하여 벡터의 표준의 이차 합계일 수 있다.

그 다음, 반복 최적화 알고리즘이 비용 함수를 감소시키도록 가상면을 수정한다. 예를 들어, Gauss-Newton, 또는 "Numerical Optimization", Bonnas et al.등, Springer 2003에서 설명된 Levenberg-Marquardt와 같은 최소 제곱 알고리즘이 채용된다. 각 반복에서, 알고리즘은 새로운 가상면을 제안한다; 이 새로운 가상면에 의한 변형(T1)의 시뮬레이션으로 비용 함수의 새로운 값을 연산할 수 있다. 반복 과정은 예를 들어, 비용 함수에 의해 취해진 값이 더 이상 감소될 수 없을 때, 그렇지 않으면 비용 함수의 값이 소정 임계값 미만이 될 때와 같은 중지 기준이 만족될 때 중단된다. 그러면 측정과 변형(T1)을 거친 이 측정의 시뮬레이션 사이의 차이가 감소되므로 측정된 면(10)의 정확한 예측인 가상면을 가지게 된다.

단계 S20 : 특히 제1 신호( MS2 )에 기초하여 수행된 제2 면(20)의 예측

가상 컴포넌트가 구축되고 그 제1 면은 측정(MS1)을 기초로 예측된 제1 면(10)의 재구축의 결과이고, 그 제2 면은 제2 가상면이다. 단계 S3에서 결정된 제3 변형은 제1 예측된 면이 표현된 기준 프레임(R1)에서 제2 면(20)의 위치인 기준 프레임(R2)으로의 변환에 대한 법칙이고, 단계 2에서 수행된 측정 과정에서 참조된다. 이러한 제3 변형은 공간 내의 가상 컴포넌트를 구축하는 것을 가능하게 하고, 단계 2에서 수행된 측정 과정에서 컴포넌트(물리적 부분)와 동일한 조건하에 가상으로 배치하는 것을 가능하게 한다.

제2 신호의 예측을 계산하기 위해 이 최초 가상 컴포넌트에 의해 신호(PS2)의 변형(T2)을 시뮬레이션하 는 것, 즉 가상 컴포넌트에 의해 생성되는 편차의 맵(프로브 신호(PS2)의 2차 빔)을 계산에 의해 얻는 방법은 공지되어 있다.

이 편차 맵의 각 포인트에 대하여, 측정된 편차 벡터와 시뮬레이션된 편차 벡터 사이의 차이와 동일한 벡터의 표준을 고려할 수 있다. 비용 함수는 이들 표준의 이차 합계일 수 있다.

그 후, 반복 최적화 알고리즘은 컴포넌트의 가상 표면을 비용 함수의 값을 감소시키도록 수정한다. 예를 들어, Gauss-Newton, 또는 Levenberg-Marquardt("Numerical Optimization", Bonnas et al., Springer 2003)와 같은 최소 제곱 알고리즘이 이 목적을 위하여 사용될 수 있다 각 반복에서, 알고리즘은 새로운 가상면을 제안한다: 이 새로운 면에 의한 변형(T2)의 시뮬레이션은 비용 함수의 새로운 값을 연산할 수 있도록 한다. 이 반복 과정은 예를 들어 비용 함수의 값이 더 이상 감소되지 않을 때, 그렇지 않으면 비용 함수의 값이 소정 임계값 미만이 될 때 중지한다. 그러면 우리는 측정과 변형(T2)을 통한 이 측정의 시뮬레이션 사이의 차이가 작으므로 측정된 면(20)의 예측(E2)인 가상면을 가지게 된다.

유리하게, 각 예측 단계 S10, S20은 반복되고, 각 반복은:

a. 적어도 하나의 가상면과 측정된 신호의 예측(ES1, ES2)을 얻기 위한 프로브 신호(PS1; PS2)를 기초로 시뮬레이션(SIM1, SIM2)을 실행하는 단계;

b. 단계 a에서 연산된 예측(ES1, ES2)과 측정된 신호(MS1; MS2) 사이의 차이를 비용 함수로 측정하는 단계;

c. 단계 b에서 측정된 중지 기준 불일치가 만족되지 않으면 상기 불일치를 줄이도록 가상면을 수정하고 단계 a로 돌아가는 단계;

d. 면(10, 20)을 본 반복의 단계 a에서 고려된 가상 면의 값으로 예측하는 단계를 포함한다.

유리하게, 상기 제2 면(20)의 예측은 상기 제1 면(10)의 예측을 기초로 추가로 얻어진다.

유리하게, 예측 단계 S10, S20은 가상면이 분석 형식으로 표현되는 단계를 포함한다. 이 단계에 의해 구성되는 이점은 연산을 빠르게 하는 것이고, 결국 이후 수치 연산 동안 용이하게 조작할 수 있는 형식으로 컴포넌트의 기하 구조의 예측을 제공하는 것이다.

도 5는 제1 면(10) 및 제2 면(20)에 의해 범위가 정해진 컴포넌트의 기하 구조를 측정하는 시스템을 개략적으로 나타내며, 상기 시스템은

- 적어도 상기 제1 면(10)에 의한 제1 프로브 신호(PS1)의 제1 변형의 결과인 제1 신호(MS1)를 측정하기 위한 것으로서, 상기 제1 변형의 제1 시뮬레이션은 상기 제1 신호(MS1)의 측정 동안 상기 제1 면(10)과 동일한 방식으로 제1 측정 기준 프레임(R1)에 배치되고 알려진 적어도 하나의 제1 가상면에 의한 제1 프로브 신호(PS1)의 상기 제1 변형의 결과인 신호의 제1 예측을 얻을 수 있도록 하는 제1 측정 수단(MM1);

- 적어도 상기 제2 면(20)에 의한 제2 프로브 신호(PS2)의 제2 변형의 결과인 제2 신호(MS2)를 측정하기 위한, 상기 제2 변형의 제2 시뮬레이션은 제2 신호(MS2)의 측정 동안 상기 제2 면(20)과 동일한 방식으로 제2 측정 기준 프레임(R2)에 배치되고 알려진 적어도 하나의 제2 가상면에 의한 제2 프로브 신호(PS2)의 상기 제2 변형의 결과인 신호의 제2 예측(ES2)을 얻을 수 있도록 하는 제2 측정 수단(MM2);

- 제1 기준 프레임(R1)에서 제2 기준 프레임(R2)으로 변환할 수 있도록 하는 제3 변형을 결정하기 위한 수단(MD);

- 제1 신호(MS1), 상기 제1 시뮬레이션, 제1 가상면 및 제1 예측(ES1)과 제1 신호(MS1) 사이의 차이를 정량화하는 제1 비용 함수를 기초로 상기 제1 면(10)을 예측하도록 구성되는 제1 연산 수단(CM1);

- 제2 신호(MS2), 상기 제2 시뮬레이션, 제2 가상면, 상기 제3 변형 및 제2 예측(ES2)과 제2 신호(MS2) 사이의 차이를 정량화하는 제2 비용 함수에 기초하여 상기 제2 면(20)을 예측하도록 구성되는 제2 연산 수단(CM2)을 포함한다.

도 5에 도시되는 예에서, 제1 표면(10)의 예측은 제2 표면(20)을 예측하는 역할을 한다. 유리하게, 제1 연산 수단(CM1)은 제1 면(10)에 의해 반사된 광학 신호의 변형 측정을 수행하고, 제2 연산 수단(CM2)은 제1 및 제2 면(10, 20)에 의해 투과된 광학 신호의 확장 또는 배율의 측정을 수행한다.

대안적으로, 제1 연산 수단(CM1)은 제1 면(10)에 의해 반사된 주기적 격자로 구성되는 광학 신호의 편차 측정에 의해 얻어지는 제1 면(10)의 법선의 맵을 생성하고;

- 제2 연산 수단(CM2)은 제1 및 제2 면(10, 20)에 의해 투과된 광학 신호의 편차 측정을 수행한다.

유리하게, 본 발명의 실시예에 따른 시스템은 상기 시스템에 특정한 기준 프레임에 표현된 광학 컴포넌트의 면들(10,20)의 측정을 수행하도록 구성된 광학 측정 시스템의 측정 수단(MM1, MM2)을 포함한다.

유리하게, 상기 측정 수단(MM1, MM2)의 적어도 하나는 구역 측정을 수행한다.

유리하게, 상기 제1 및 제2 측정 수단(MM1, MM2)은 구역 측정을 수행한다.

안과 렌즈에 대한 기하 구조의 본 측정의 적용 중 하나는 예를 들어 생성된 부품의 적합성을 연구하도록, 명목상 부품과 매칭한 후 렌즈의 비교 분석일 수 있다.

따라서, 측정된 안과 렌즈와 명목상 부품에 공통인 절대 데이터를 정의할 필요가 있다. 따라서, 측정된 안과 렌즈와 명목상 부품은 예를 들어 측정이 수행되는 부품에 결속된 공통 데이터로 일컬어진다. 측정된 안과 렌즈와 측정 데이터 내의 명목상 부분의 위치는, 예를 들어 플랫과 같은, 렌즈와 부품 상의 기계적 기준 프레임의 연관에 의해, 또는 마이크로-서클 유형의 렌즈와 부품 상의 표식의 영구 태그에 의해 그 다음 결정된다.

상기에서, "실시예"에 대한 참조는 실시예와 관련하여 설명된 특정 특징, 구조, 또는 특성이 본 발명의 적어도 하나의 구현에 포함될 수 있음을 의미한다. 전술한 상세한 설명에서 여러 곳에서 "실시예에서"라는 표현의 출현이 반드시 모두 동일한 실시예를 나타내는 것은 아니다. 마찬가지로, 별개의 또는 대안적인 실시예가 반드시 다른 실시예에 상호 배타적인 것은 아니다.

Claims (18)

1. 제1 면(10)과 제2 면(20)에 의해 범위가 정해지는 광학 컴포넌트의 기하 구조를 측정하는 방법에 있어서,
   -(S1) 상기 제1 면(10)에 의한 제1 프로브 신호(PS1)의 제1 변형의 결과인 제1 신호(MS1)의 측정 단계로서, 상기 제1 변형의 제1 시뮬레이션은 제1 신호(MS1)의 측정 동안 상기 제1 면(10)과 동일한 방식으로 제1 측정 기준 프레임(R1)에 배치되고 알려진 제1 가상면에 의한 제1 프로브 신호(PS1)의 상기 제1 변형의 결과인 신호의 제1 절대 예측(ES1)을 얻도록 할 수 있는 것인 단계;
   -(S2) 적어도 상기 제2 면(20)에 의한 제2 프로브 신호(PS2)의 제2 변형의 결과인 제2 신호(MS2)의 측정 단계로서, 상기 제2 변형의 제2 시뮬레이션은 제2 신호(MS2)의 측정 동안 상기 제2 면(20)과 동일한 방식으로 제2 측정 기준 프레임(R2)에 배치되고 알려진 적어도 하나의 제2 가상면에 의한 제2 프로브 신호(PS2)의 상기 제2 변형의 결과인 신호의 제2 절대 예측(ES2)을 얻도록 할 수 있는 것인 단계;
   -(S3) 제1 기준 프레임(R1)에서 제2 기준 프레임(R2)으로 변환하도록 할 수 있는 제3 변형의 결정 단계;
   -(S10) 제1 신호(MS1), 상기 제1 시뮬레이션, 및 제1 절대 예측(ES1)과 제1 신호(MS1) 사이의 차이를 정량화하는 제1 비용 함수를 기초로 수행되는 상기 제1 면(10)의 예측 단계;
   -(S20) 제2 신호(MS2), 상기 제2 시뮬레이션, 상기 제3 변형, 및 제2 절대 예측(ES2) 및 제2 신호(MS2) 사이의 차이를 정량화하는 제2 비용 함수를 기초로 수행되는 상기 제2 면(20)의 예측 단계를 포함하되,
   여기서 제1 신호(MS1)의 측정 및 제2 신호(MS2)의 측정 중 적어도 하나는 구역 측정인, 방법.
2. 제1항에 있어서,
   제1 신호(MS1)의 측정과 제2 신호(MS2)의 측정은 구역 측정인 것을 특징으로 하는 방법.
3. 제1항 또는 제2항에 있어서,
   상기 구역 측정은 기본 구역 측정의 수집으로 수행되고,
   상기 기본 구역 측정은 기본 존이 면(또는 면들) 전체를 덮도록 상기 면(또는 상기 면들)의 상기 기본 존에 의한 프로브 신호의 변형의 결과인 기본 신호를 각각 측정하는 것을 특징으로 하는 방법.
4. 제1항에 있어서,
   - 제1 신호(MS1)는 상기 제1 면(10)에 의한 제1 프로브 신호(PS1)의 제1 변형의 결과이고;
   - 제2 신호(MS2)는 상기 제1 면(10) 및 상기 제2 면(20)에 의한 제2 프로브 신호(PS2)의 제2 변형의 결과인 것을 특징으로 하는 방법.
5. 제1항에 있어서,
   - 제1 신호(MS1)는 상기 제1 면(10)에 의한 제1 프로브 신호(PS1)의 제1 변형의 결과이고;
   - 제2 신호(MS2)는 상기 제2 면(20)에 의한 제2 프로브 신호(PS2)의 제2 변형의 결과인 것을 특징으로 하는 방법.
6. 제1항에 있어서,
   각 예측 단계(S10, S20)는 반복되고, 각 반복은:
   a) 측정된 신호의 절대 예측(ES1, ES2)을 얻도록 적어도 하나의 가상면과 프로브 신호(PS1; PS2)를 기초로 시뮬레이션(SIM1, SIM2)을 실행하는 단계;
   b) 단계 a)에서 연산된 절대 예측(ES1, ES2)과 측정된 신호(MS1; MS2) 사이의 차이를 비용 함수로 측정하는 단계;
   c) 중단 기준인 단계 b)에서 측정된 차이가 만족되지 않으면, 상기 차이를 감소시키도록 가상면을 수정하고 단계 a)로 돌아가는 단계;
   d) 본 반복의 단계 a)에서 고려된 가상면의 값으로 면(10, 20)을 예측하는 단계로 구성되는 것을 특징으로 하는 방법.
7. 제1항에 있어서,
   상기 제2 절대 예측(ES2)은 상기 제1 절대 예측(ES1)을 기초로 추가로 얻어지는 것을 특징으로 하는 방법.
8. 제1항에 있어서,
   제1 및 제2 프로브 신호(PS1, PS2) 중 적어도 하나는 광학 신호인 것을 특징으로 하는 방법.
9. 제1항에 있어서,
   - 제1 신호(MS1)는 제1 면(10)에 의해 반사된 주기적 격자로 구성되는 광학 신호의 편향법 측정에 의해 얻어진 제1 면(10)에 대한 법선의 맵이고;
   - 제2 신호(MS2)를 측정하는 단계(S2)는 제1 및 제2 면(10, 20)에 의해 투과된 광학 신호의 편향법에 의한 측정인 것을 특징으로 하는 방법.
10. 제1항에 있어서,
    - 제1 신호(MS1)를 측정하는 단계(S1)는 제1 면(10)에 의해 반사된 광학 신호의 변형을 측정하는 것이고,
    - 제2 신호(MS2)를 측정하는 단계(S2)는 제1 및 제2 면(10, 20)에 의해 투과된 광학 신호의 배율을 측정하는 것을 특징으로 하는 방법.
11. 제1항에 있어서,
    제3 변형을 결정하는 단계(S3)는 컴포넌트의 두께의 측정을 포함하는 것을 특징으로 하는 방법.
12. 제11항에 있어서,
    제3 변형을 결정하는 단계(S3)는 컴포넌트의 프리즘의 측정을 추가로 포함하는 것을 특징으로 하는 방법.
13. 제1항에 있어서,
    측정 단계(S1, S2)는 단일 기기에 의해 실행되는 것을 특징으로 하는 방법.
14. 제1항에 있어서,
    광학 컴포넌트는 안과 렌즈인 것을 특징으로 하는 방법.
15. 제1 면(10)과 제2 면(20)에 의해 범위가 정해지는 광학 컴포넌트의 기하 구조를 측정하는 시스템에 있어서,
    - 상기 제1 면(10)에 의한 제1 프로브 신호(PS1)의 제1 변형의 결과인 제1 신호(MS1)를 측정하는 것으로서, 상기 제1 변형의 제1 시뮬레이션은 제1 신호(MS1)의 측정 동안 상기 제1 면(10)과 동일한 방식으로 제1 측정 기준 프레임(R1)에 배치되고 알려진 제1 가상면에 의한 제1 프로브 신호(PS1)의 상기 제1 변형의 결과인 신호의 제1 절대 예측(ES1)을 얻도록 할 수 있는, 제1 측정 수단(MM1);
    - 적어도 상기 제2 면(20)에 의한 제2 프로브 신호(PS2)의 제2 변형의 결과인 제2 신호(MS2)를 측정하는 것으로서, 상기 제2 변형의 제2 시뮬레이션은 제2 신호(MS2)의 측정 동안 상기 제2 면(20)과 동일한 방식으로 제2 측정 기준 프레임(R2)에 배치되고 알려진 적어도 하나의 제2 가상면에 의한 제2 프로브 신호(PS2)의 상기 제2 변형의 결과인 신호의 제2 절대 예측(ES2)을 얻도록 할 수 있는, 제2 측정 수단(MM2);
    구역- 제1 기준 프레임(R1)에서 제2 기준 프레임(R2)으로 변환하도록 할 수 있는 제3 변형을 결정하는 수단(MD);
    - 제1 신호(MS1), 상기 제1 시뮬레이션, 제1 가상면 및 제1 절대 예측(ES1)과 제1 신호(MS1) 사이의 차이를 정량화하는 제1 비용 함수를 기초로 상기 제1 면(10)을 예측하도록 설정된 제1 연산 수단(CM1);
    - 제2 신호(MS2), 상기 제2 시뮬레이션, 제2 가상면, 상기 제3 변형, 및 제2 절대 예측(ES2)과 제2 신호(MS2) 사이의 차이를 정량화하는 제2 비용 함수를 기초로 상기 제2 면(20)을 예측하도록 설정된 제2 연산 수단(CM2)을 포함하되,
    여기서 상기 측정 수단(MM1, MM2) 중 적어도 하나는 구역 측정을 수행하는, 시스템.
16. 제15항에 있어서,
    상기 측정 수단(MM1, MM2) 각각은 구역 측정을 수행하는 것을 특징으로 하는 시스템.
17. 제15항 또는 제16항에 있어서,
    - 제1 연산 수단(CM1)은 제1 면(10)에 의해 반사된 광학 신호의 변형의 측정을 수행하고;
    - 제2 연산 수단(CM2)은 제1 및 제2 면(10, 20)에 의해 투과된 광학 신호의 배율의 측정을 수행하는 것을 특징으로 하는 시스템.
18. 제17항에 있어서,
    - 제1 연산 수단(CM1)은 제1 면(10)에 의해 반사된 주기적 격자로 구성되는 광학 신호의 편향법 측정에 의해 얻어진 제1 면(10)의 법선의 맵을 생성하고;
    - 제2 연산 수단(CM2)은 제1 및 제2 면(10, 20)에 의해 투과된 광학 신호의 편향법에 의한 측정을 수행하는 것을 특징으로 하는 시스템.

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