KR101807684B1 - 필터, 필터 제조 방법, 및 레이저 파장 모니터링 장치 - Google Patents

필터, 필터 제조 방법, 및 레이저 파장 모니터링 장치 Download PDF

Info

Publication number
KR101807684B1
KR101807684B1 KR1020157036426A KR20157036426A KR101807684B1 KR 101807684 B1 KR101807684 B1 KR 101807684B1 KR 1020157036426 A KR1020157036426 A KR 1020157036426A KR 20157036426 A KR20157036426 A KR 20157036426A KR 101807684 B1 KR101807684 B1 KR 101807684B1
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
plane
filter
translucent
planes
bodies
Prior art date
Application number
KR1020157036426A
Other languages
English (en)
Other versions
KR20160013160A (ko
Inventor
민 저우
레이 왕
화펑 린
전싱 랴오
Original Assignee
후아웨이 테크놀러지 컴퍼니 리미티드
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 후아웨이 테크놀러지 컴퍼니 리미티드 filed Critical 후아웨이 테크놀러지 컴퍼니 리미티드
Publication of KR20160013160A publication Critical patent/KR20160013160A/ko
Application granted granted Critical
Publication of KR101807684B1 publication Critical patent/KR101807684B1/ko

Links

Images

Classifications

    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02BOPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B6/00Light guides; Structural details of arrangements comprising light guides and other optical elements, e.g. couplings
    • G02B6/24Coupling light guides
    • G02B6/26Optical coupling means
    • G02B6/28Optical coupling means having data bus means, i.e. plural waveguides interconnected and providing an inherently bidirectional system by mixing and splitting signals
    • G02B6/293Optical coupling means having data bus means, i.e. plural waveguides interconnected and providing an inherently bidirectional system by mixing and splitting signals with wavelength selective means
    • G02B6/29346Optical coupling means having data bus means, i.e. plural waveguides interconnected and providing an inherently bidirectional system by mixing and splitting signals with wavelength selective means operating by wave or beam interference
    • G02B6/29361Interference filters, e.g. multilayer coatings, thin film filters, dichroic splitters or mirrors based on multilayers, WDM filters
    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02BOPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B6/00Light guides; Structural details of arrangements comprising light guides and other optical elements, e.g. couplings
    • G02B6/24Coupling light guides
    • G02B6/42Coupling light guides with opto-electronic elements
    • G02B6/4201Packages, e.g. shape, construction, internal or external details
    • G02B6/4204Packages, e.g. shape, construction, internal or external details the coupling comprising intermediate optical elements, e.g. lenses, holograms
    • G02B6/4215Packages, e.g. shape, construction, internal or external details the coupling comprising intermediate optical elements, e.g. lenses, holograms the intermediate optical elements being wavelength selective optical elements, e.g. variable wavelength optical modules or wavelength lockers
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C18/00Chemical coating by decomposition of either liquid compounds or solutions of the coating forming compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating; Contact plating
    • C23C18/16Chemical coating by decomposition of either liquid compounds or solutions of the coating forming compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating; Contact plating by reduction or substitution, e.g. electroless plating
    • C23C18/1601Process or apparatus
    • C23C18/1633Process of electroless plating
    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02BOPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B27/00Optical systems or apparatus not provided for by any of the groups G02B1/00 - G02B26/00, G02B30/00
    • G02B27/10Beam splitting or combining systems
    • G02B27/14Beam splitting or combining systems operating by reflection only
    • G02B27/141Beam splitting or combining systems operating by reflection only using dichroic mirrors
    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02BOPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B27/00Optical systems or apparatus not provided for by any of the groups G02B1/00 - G02B26/00, G02B30/00
    • G02B27/30Collimators
    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02BOPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B5/00Optical elements other than lenses
    • G02B5/20Filters
    • G02B5/28Interference filters
    • G02B5/285Interference filters comprising deposited thin solid films
    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02BOPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B6/00Light guides; Structural details of arrangements comprising light guides and other optical elements, e.g. couplings
    • G02B6/24Coupling light guides
    • G02B6/26Optical coupling means
    • G02B6/34Optical coupling means utilising prism or grating
    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02BOPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B6/00Light guides; Structural details of arrangements comprising light guides and other optical elements, e.g. couplings
    • G02B6/24Coupling light guides
    • G02B6/42Coupling light guides with opto-electronic elements
    • G02B6/4201Packages, e.g. shape, construction, internal or external details
    • G02B6/4286Optical modules with optical power monitoring
    • HELECTRICITY
    • H04ELECTRIC COMMUNICATION TECHNIQUE
    • H04BTRANSMISSION
    • H04B10/00Transmission systems employing electromagnetic waves other than radio-waves, e.g. infrared, visible or ultraviolet light, or employing corpuscular radiation, e.g. quantum communication
    • H04B10/07Arrangements for monitoring or testing transmission systems; Arrangements for fault measurement of transmission systems
    • H04B10/075Arrangements for monitoring or testing transmission systems; Arrangements for fault measurement of transmission systems using an in-service signal
    • H04B10/079Arrangements for monitoring or testing transmission systems; Arrangements for fault measurement of transmission systems using an in-service signal using measurements of the data signal
    • H04B10/0795Performance monitoring; Measurement of transmission parameters
    • H04B10/07957Monitoring or measuring wavelength
    • HELECTRICITY
    • H04ELECTRIC COMMUNICATION TECHNIQUE
    • H04BTRANSMISSION
    • H04B10/00Transmission systems employing electromagnetic waves other than radio-waves, e.g. infrared, visible or ultraviolet light, or employing corpuscular radiation, e.g. quantum communication
    • H04B10/25Arrangements specific to fibre transmission
    • H04B10/2589Bidirectional transmission
    • H04B10/25891Transmission components
    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02BOPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B1/00Optical elements characterised by the material of which they are made; Optical coatings for optical elements
    • G02B1/10Optical coatings produced by application to, or surface treatment of, optical elements
    • G02B1/11Anti-reflection coatings

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Electromagnetism (AREA)
  • Signal Processing (AREA)
  • Computer Networks & Wireless Communication (AREA)
  • General Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Metallurgy (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Optical Filters (AREA)
  • Lasers (AREA)
  • Optical Couplings Of Light Guides (AREA)
  • Semiconductor Lasers (AREA)
  • Optical Elements Other Than Lenses (AREA)

Abstract

필터는, 두 개의 반투명체로서, 각각의 반투명체는 제1 평면, 제1 평면과 쐐기각을 형성하는 제2 평면, 및 제1 평면과 제2 평면 둘 다와 교차하는 제3 평면을 가지며, 두 개의 반투명체의 제1 평면은 서로 평행하고, 두 개의 반투명체의 제2 평면은 서로 평행한, 두 개의 반투명체; 빔 분리막으로서, 양 면의 표면이 두 개의 반투명체의 제1 평면과 각각 결합되는, 빔 분리막; 및 두 개의 반투명체의 제2 평면과 각각 결합되는 두 개의 반사막을 포함한다. 상기 필터는 제품의 패키징 비용을 상당히 줄일 수 있다.

Description

필터, 필터 제조 방법, 및 레이저 파장 모니터링 장치{FILTER, METHOD FOR PRODUCING FILTER, AND LASER WAVELENGTH MONITORING APPARATUS}
본원은 광섬유 통신 기술의 분야, 특히 필터, 필터 제조 방법, 및 레이저 파장 모니터링 장치에 관한 것이다.
대역폭에 대한 사용자의 요구가 계속적으로 증가하면서, 종래의 구리 와이어 광역 액세스 시스템이 대역폭 병목현상(bottleneck)에 점점 더 직면하게 되었다. 동시대에, 큰 대역폭 용량을 갖는 광섬유 통신 기술이 점점 더 발전하였고, 광섬유 액세스 네트워크가 차세대 광대역 액세스 네트워크의 강력한 경쟁자가 되었다. 특히, PON(passive optical network, passive optical network) 시스템은 더욱 경쟁력이 있다.
PON 시스템에서, 광학 모듈이 트랜시버 시스템을 구현하기 위한 물리적 엔티티로 사용되고, 광학 모듈의 기능은 매우 중요하다; 레이저가 통신 광파의 송신 장치로 사용되고, 레이저의 기능이 최우선이다. PON 분야의 다수의 응용 시나리오에서, 레이저 디바이스의 송신 파장이 특정값에서 안정할 수 있을 것이 요구되어서, 물리적 송신의 기술 규격(specification)과 광통신 기준이 부합하는 것이 보장된다. 그러므로, 다수의 응용 시나리오에서, 광학 모듈 내의 레이저는 일반적으로 파장을 조정하기 위해 사용되는 반도체 냉각기 또는 가열 부재를 가지며, 레이저 파장 모니터링 장치는 피드백 조정을 구현하도록 사용될 것이 요구된다.
도 1에 도시된 바와 같이, 종래의 레이저 파장 모니터링 장치는 시준 렌즈(1), 제1 포커싱 렌즈(2), F-P 에탈론(3), 두 개의 빔 스플리터(4a 및 4b), 두 개의 광 수신기(5a 및 5b), 및 두 개의 제2 포커싱 렌즈(6a 및 6b)를 포함하고, F-P 에탈론(3)은 콤 필터(comb filter)로서 기능하고, 두 개의 빔 스플리터(4a 및 4b)는 각각 고정 분할비(split ratio)를 갖는 빔 스플리터이다. 레이저(7)에 의해 방출되는 광은 시준 렌즈(1)를 통해 통과한 후에 시준광이 된다. 빔 스플리터(4a)는 특정비에 따라 시준광을 분리하고, 하나의 부분의 광이 제2 포커싱 렌즈(6a)를 통해 통과한 후에 광 수신기에 의해 수신되고, 다른 부분의 광은 빔 스플리터(4a)를 통해 통과한 후에 F-P 에탈론(3)으로 입사된다. 빔 스플리터(4b)는 특정비에 따라, F-P 에탈론(3)을 관통하는 광을 분리하며, 하나의 부분의 광이 제2 포커싱 렌즈(6b)를 통해 통과한 후에 광 수신기(5b)에 의해 수신되고, 다른 부분의 광이 빔 스플리터(4b)를 통해 통과하고, 그 후에 제1 포커싱 렌즈(2)를 통해 통과하고 나서 송신 광의 입사 포트(8)에 입사한다.
PD10과 PD20가 두 개의 광 수신기(5a 및 5b)의 각각의 초기 캘리브레이팅된 광 전력이고, PD1와 PD2는 두 개의 광 수신기(5a 및 5b)의 각각의 실제 수신된 광 전력이고, 광 수신기(5b)의 실제 수신된 광 전력과 광 수신기(5a)의 실제 수신된 광 전력에 대한 비가 A=PD2/PD1임을 추정할 수 있다. 레이저 파장에서 적색변이(redshift)가 발생할 때, PD2=PD20 + ΔP이고, 레이저 파장에서 청색변이가 발생할 때, PD2=PD20-ΔP이며, PD1은 레이저 파장에 의해 변하지 않는다. 그러므로, 파장 오프셋은 다음과 같다:
ΔA= +ΔP/PD10 (적색변이), 및 ΔA= -ΔP/PD10 (청색변이) (1)
그러므로, 레이저 파장의 변화 상태는 파장 오프셋 ΔA에 따라 정의될 수 있다.
본원의 발명자는 두 개의 빔 스플리터로 인해, 레이저 파장 모니터링 장치의 전체 패키징 크기가 비교적 크고, 패키징 비용이 비교적 높으며, 축소화 및 비용 감축의 현재 개발 경향과 맞지 않는다는 것을 알았다. 게다가, 이러한 구조의 레이저 파장 모니터링 장치의 모니터링 정밀도가 충분히 높지 않다.
본원의 실시태양은 필터, 필터 제조 방법 및 레이저 파장 모니터링 장치를 제공하여, 레이저 파장 모니터링 장치의 부피 및 비용을 줄이고 모니터링 정밀도를 더욱 개선시킨다.
본원의 제1 측면에 따라, 필터가 제공되며, 이 필터는:
두 개의 반투명체로서, 각각의 반투명체는 제1 평면, 제1 평면과 쐐기각(wedge angle)을 형성하는 제2 평면, 및 제1 평면과 제2 평면 둘 다와 교차하는 제3 평면을 가지며, 두 개의 반투명체의 제1 평면은 서로 평행하고, 두 개의 반투명체의 제2 평면은 서로 평행한, 두 개의 반투명체;
빔 분리막으로서, 양 면의 표면이 두 개의 반투명체의 제1 평면과 각각 결합되는, 빔 분리막; 및
두 개의 반투명체의 제2 평면과 각각 결합되는 두 개의 반사막을 포함한다.
제1 측면의 가능 구현 방법에서, 쐐기각은 45°±λ이고, λ는 설정 허용 오차(set allowable error)이다.
제1 측면의 가능 구현 방법에서, 두 개의 반투명체의 제3 평면은 평행하거나 평행하지 않다.
제1 측면의 가능 구현 방법에서, 두 개의 반투명체에서, 하나의 반투명체는 적어도 두 개의 반투명 기판을 포함하고, 반사방지 코팅(antireflection coating)이 두 개의 인접한 반투명 기판 사이에 배치된다.
본원의 제2 측면에 따르면, 전술한 기술적 해결책 중 임의의 하나에 따른 필터를 제조하는 방법이 제공되며, 이 방법은:
두 개의 반투명체의 제2 평면 상에 각각 반사막을 도금하고, 하나의 반투명체의 제1 평면 상에 빔 분리막을 도금하는 단계; 및
다른 반투명체의 제1 평면을 빔 분리막과 결합하는 단계를 포함한다.
제2 측면의 가능 구현 방법에서, 다른 반투명체의 제1 평면을 빔 분리막과 결합하는 단계는 구체적으로:
다른 반투명체의 제1 평면을 빔 분리막에 본딩하는 단계를 포함한다.
본원의 제3 측면에 따르면, 레이저 파장 모니터링 장치가 제공되며, 이 장치는 두 개의 광 수신기 및 전술한 기술적 해결책 중 임의의 하나에 따른 필터를 포함하며,
필터의 두 개의 반사막이 각각 레이저의 송신 포트 및 송신 섬유의 입사 포트와 마주보고, 필터의 두 개의 제3 평면이 각각 두 개의 광 수신기의 수신 포트를 마주본다.
제3 측면의 가능 구현 방법에서, 레이저 파장 모니터링 장치는 레이저의 송신 포트와 레이저의 송신 포트를 마주보는 필터의 반사막 사이에 위치하는 시준 렌즈를 더 포함한다.
제3 측면의 가능 구현 방법에서, 시준 렌즈의 하나의 면이 평면이고 시준 렌즈의 면에 마주보는 필터의 반사막과 결합한다.
제3 측면의 가능 구현 방법에서, 레이저 파장 모니터링 장치는 송신 섬유의 입사 포트와 송신 섬유의 입사 포트를 마주보는 필터의 반사막 사이에 위치하는 제1 포커싱 렌즈를 더 포함한다.
제3 측면의 가능 구현 방법에서, 제1 포커싱 렌즈의 하나의 면은 평면이고, 제1 포커싱 렌즈의 면을 마주보는 필터의 반사막과 결합된다.
제3 측면의 가능 구현 방법에서, 레이저 파장 모니터링 장치는 두 개의 제2 포커싱 렌즈를 더 포함하며, 각각의 렌즈는 필터의 두 개의 제3 평면과 상기 필터의 두 개의 제3 평면을 마주보는 광 수신기의 수신 포트 사이에 위치된다.
제3 측면의 가능 구현 방법에서, 필터에서, 적어도 두 개의 반투명 기판을 포함하는 반투명체가 송신 섬유의 입사 포트에 인접한 빔 분리막의 하나의 면 상에 위치한다.
본원의 실시태양의 기술적 해결책에서, 빔 분리막은 두 개의 반투명체의 제1 평면들 사이에 배치되어, 레이저 파장 모니터링 장치의 파장 모니터링 광 경로가 종래 기술의 파장 모니터링 광 경로와 비교하여 상당히 짧고, 레이저 파장 모니터링 장치의 부피는 비교적 작고, 소형화 패키징이 구현될 수 있으며, 이는 제품의 패키징 비용을 상당히 감소시키게 된다. 게다가, 필터를 가지는 레이저 파장 모니터링 장치가 투과 전력(transmittance power) 모니터링 및 반사 전력(reflected power) 모니터링을 수행할 수 있고, 파장 오프셋의 모니터링 정밀도가 두 배가 된다. 그러므로, 레이저 파장 모니터링 장치는 종래의 장치와 비교하여 더 높은 모니터링 정밀도를 가진다.
도 1은 종래의 레이저 파장 모니터링 장치의 개략적 구조도이다.
도 2a는 본원의 제1 실시태양에 따른 필터의 제1 구현 방법의 개략적 구조도이다.
도 2b는 본원의 제1 실시태양에 따른 필터의 제2 구현 방법의 개략적 구조도이다.
도 3은 본원의 제5 실시태양에 따른 필터 제조 방법의 개략적 흐름도이다.
도 4는 본원의 실시태양에 따른 필터 제조 프로세스의 개략도이다.
도 5는 본원의 제7 실시태양에 따른 레이저 파장 모니터링 장치의 개략적 구조도이다.
도 6은 본원의 제8 실시태양에 따른 레이저 파장 모니터링 장치의 개략적 구조도이다.
도 7은 본원의 제9 실시태양에 따른 레이저 파장 모니터링 장치의 개략적 구조도이다.
도 8은 본원의 제10 실시태양에 따른 레이저 파장 모니터링 장치의 개략적 구조도이다.
도 9는 본원의 제11 실시태양에 따른 레이저 파장 모니터링 장치의 개략적 구조도이다.
레이저 파장 모니터링 장치의 부피 및 비용을 줄이고, 모니터링 정밀도를 더욱 개선시키기 위해, 본원의 실시태양은 필터, 필터 제조 방법 및 레이저 파장 모니터링 장치를 제공한다. 본원의 실시태양의 기술적 해결책에서, 빔 분리막이 두 개의 반투명체의 제1 평면들 사이에 배치되어, 레이저 파장 모니터링 장치의 파장 모니터링 광 경로가 종래기술의 경로에 비해 상당히 짧아지고, 레이저 파장 모니터링 장치의 부피는 비교적 소형이며, 축소형 패키징이 구현될 수 있으며, 패키징 비용도 비교적 낮아진다. 게다가, 필터를 가지는 레이저 파장 모니터링 장치가 투과 전력 모니터링 및 반사 전력 모니터링을 수행할 수 있고, 파장 오프셋의 모니터링 정밀도가 두 배가 된다. 그러므로, 레이저 파장 모니터링 장치는 종래의 장치와 비교하여 더 높은 모니터링 정밀도를 가진다. 목적, 기술적 해결 및 본원의 장점을 더 명확히 이해하기 위하여, 이하 특정 실시태양을 나열하여 본원을 더 자세히 기술한다.
도 2a에서와 같이, 본원의 제1 실시태양의 필터는,
두 개의 반투명체(9)로서, 각각의 반투명체(9)는 제1 평면(10), 제1 평면(10)과 쐐기각을 형성하는 제2 평면(11), 및 제1 평면(10)과 제2 평면(11) 둘 다와 교차하는 제3 평면(12)을 가지며, 두 개의 반투명체(9)의 제1 평면(10)이 서로 평행하고, 두 개의 반투명체(9)의 제2 평면(11)이 서로 평행한, 두 개의 반투명체;
빔 분리막(13)으로서, 양 면의 표면이 두 개의 반투명체(9)의 제1 평면(10)과 각각 결합되는, 빔 분리막; 및
두 개의 반투명체(9)의 제2 평면(11)과 각각 결합되는 두 개의 반사막(14)을 포함한다.
반투명체(9)는 오직 하나의 반투명 기판을 포함하거나, 둘 이상의 반투명 기판을 포함할 수 있다. 도 2b의 실시태양의 두 개의 반투명체(9)에서, 하나의 반투명체(9)는 둘 이상의 반투명 기판(16)을 포함하고, 반사방지 코팅(17)이 두 개의 인접한 반투명 기판(16) 사이에 배치된다. 반사방지 코팅(17)을 배치함으로써, 광 손실이 감소될 수 있다. 반투명 기판(16)의 재료는 제한되지 않으며, 유리와 같은 재료가 선택되고 사용될 수 있으며, 반투명 기판의 단면 형상이 삼각형, 사다리꼴 또는 이와 유사한 것일 수 있다.
병렬 간섭 공진 모드(이에 제한되지는 않으나 F-P 간섭 및 G-T 간섭을 포함함)를 사용하여 필터링 기능을 구현하기 위하여, 두 개의 반투명체(9)의 제1 평면(10)이 서로 평행하고, 두 개의 반투명체(9)의 제2 평면(11)이 서로 평행하다. 빔 분리막(13)은 고정 분할비를 가지며, 비율로 입사 레이저 광을 분리할 수 있고, 하나의 부분이 반사되고 다른 부분은 통과된다. 빔 분리막(13)이 반투명체(9)의 제1 평면(10) 상에 먼저 도금될 수 있고, 그 후 다른 반투명체(9)의 제1 평면(10)이 빔 분리막(13)에 본딩되어서, 안정된 병렬 간섭 공진이 필터에 형성될 수 있도록 보장한다. 반사막(14)은 일반적으로, 대안으로 분배되는 상이한 두께의 다수의 막층을 포함한다. 이 막층은 실리콘 산화막층, 탄탈륨 산화막층 또는 이와 유사한 것일 수 있다. 이 막층의 특정 구조의 설계는 종래 기술이며, 본 명세서에서 다시 자세하게 기술하지 않는다.
쐐기각의 특정값이 제한되지는 않는다. 본원의 제2 실시태양의 필터에서, 쐐기각이 45°±λ이고, λ는 설정 허용 오차이며, 예컨대 1°이다. 이 값 범위에서 쐐기각을 선택하고 사용함으로써, 필터의 광 경로의 설계가 비교적 단순하고 편리할 수 있고, 이는 레이저 파장 모니터링 장치의 내부 기계적 부분의 레이아웃을 용이하게 한다.
본원의 제3 실시태양의 필터에서, 두 개의 반투명체(9)의 제3 평면(12)은 평행하지 않다. 본원의 제4 실시태양의 필터에서, 두 개의 반투명체(9)의 제3 평면(12)은 평행하다. 두 개의 반투명체(9) 의 제3 평면(12)을 평행하게 배치함으로써, 레이저 파장 모니터링 장치의 두 개의 광 수신기가 대칭 위치로 배치될 수 있어서, 광 경로의 설계 및 제품의 압축화와 소형화가 더 용이하며, 제품의 패키징 비용을 더 감소시킬 수 있다.
도 3 및 도 4에 도시된 것처럼, 본원의 제5 실시태양의 필터 제조 방법은 다음을 포함한다:
단계 101: 두 개의 반투명체의 제2 평면 상에 각각 반사막을 도금하고(plate), 하나의 반투명체의 제1 평면 상에 빔 분리막을 도금한다.
단계 102: 다른 반투명체의 제1 평면을 빔 분리막과 결합한다.
본원의 제6 실시태양의 필터 제조 방법에서, 단계 102는 구체적으로, 본딩 기술을 사용하여 다른 반투명체의 제1 평면을 빔 분리막과 결합하는 단계이다. 광 시멘트 본딩 기술(optical cement bonding technology)이 바람직하게 사용된다. 광 시멘트 본딩은, 연속된 면의 처리를 수행한 후에 두 개의 균일 또는 불균일 재료를 함께 밀접하게 페이스팅하여, 실온에서 광 시멘트를 형성하며, 그 후에 광 시멘트에서의 열 처리 수행하여, 또 다른 바인더 및 고압이 요구되지 않는 상황에서 영구 본딩을 형성할 수 있다. 레이저 응용의 측면에서, 이 기술은 레이저의 빔 품질 및 열 성능을 상당히 개선시킬 수 있을 뿐만 아니라, 레이저 시스템의 집적을 용이하게 한다.
도 5에 도시된 바와 같이, 본원의 제7 실시태양의 레이저 파장 모니터링 장치는 전술한 실시태양 중 임의의 하나에 따른 두 개의 광 수신기(5a 및 5b) 및 필터(15) 를 포함한다.
필터(15)의 두 개의 반사막(14)은 레이저(7)의 송신 포트 및 송신 섬유의 입사 포트(8)를 각각 마주보고, 필터(15)의 두 개의 제3 평면(12)은 두 개의 광 수신기(5a 및 5b)의 수신 포트를 각각 마주본다.
광 수신기(5a 및 5b)는 수신된 레이저광의 전력을 검출하도록 포토다이오드를 사용할 수 있다.
도 6의 바람직한 제8 실시태양을 참조하면, 레이저 파장 모니터링 장치는, 레이저(7)의 송신 포트와 레이저(7)의 송신 포트를 마주보는 필터(15)의 반사막(14) 사이에 위치되는 시준 렌즈(1), 및 송신 섬유의 입사 포트(8)와 송신 섬유의 입사 포트(8)를 마주보는 필터(15)의 반사막(14) 사이에 위치하는 제1 포커싱 렌즈(2)를 더 포함한다. 시준 렌즈(1)와 제1 포커싱 렌즈(2)는 또한 레이저(7) 및 송신 섬유의 입사 포트(8)의 구조로 각각 설계될 수 있다. 그러나, 이 경우에, 레이저(7) 및 송신 섬유의 입사 포트(8)의 크기는 비교적 크고, 레이저(7) 및 송신 섬유의 입사 포트(8)의 구조는 약간 복잡하며, 또한 시준 렌즈(1)와 제1 포커싱 렌즈(2)의 위치를 조정하기가 불편하다.
도 6의 바람직한 실시태양을 더 참조하면, 레이저 파장 모니터링 장치는, 필터(15)의 두 개의 제3 평면(12)과 필터(15)의 두 개의 제3 평면(12)을 마주보는 광 수신기(5a 및 5b)의 수신 포트 사이에 각각 위치하는 두 개의 제2 포커싱 렌즈(6a 및 6b)을 더 포함한다. 유사하게 그리고 대안으로, 제2 포커싱 렌즈(6a 및 6b)는 광 수신기(5a 및 5b)의 구조로 각각 설계될 수 있다. 광 수신기(5a 및 5b)의 수신면의 영역이 특정 조건에 부합할 때, 제2 포커싱 렌즈(6a 및 6b)의 배치가 생략될 수 있음에 유의한다.
도 7에 도시된 것처럼, 본원의 제9 실시태양의 레이저 파장 모니터링 장치에서, 시준 렌즈(1)의 하나의 면이 평면이고, 시준 렌즈(1)의 면을 마주보는 필터(15)의 반사막(14)과 결합한다. 이 경우에, 레이저 파장 모니터링 장치는 비교적 작은 패키징 크기를 가지고, 제1 포커싱 렌즈(2)의 위치가 자유롭게 조정될 수 있다.
도 8에 도시된 바와 같이, 본원의 제10 실시태양의 레이저 파장 모니터링 장치에서, 제1 포커싱 렌즈(2)의 하나의 면이 평면이고, 제1 포커싱 렌즈(2)의 면을 마주보는 필터(15)의 반사막(14)과 결합된다. 이 경우에, 레이저 파장 모니터링 장치는 비교적 작은 패키징 크기를 가지고, 시준 렌즈의 위치는 자유롭게 조정될 수 있다.
도 9에 도시된 바오 같이, 본원의 제11 실시태양의 레이저 파장 모니터링 장치에서, 시준 렌즈(1)의 하나의 면은 평면이고 시준 렌즈(1)의 면을 마주보는 필터(15)의 반사막(14)과 결합되고, 제1 포커싱 렌즈(2)의 하나의 면은 평면이고 필터(15)의 반사막(14)과 결합된다. 이 경우에, 레이저 파장 모니터링 장치의 패키징 크기는 제9 및 제10 실시태양의 레이저 파장 모니터링 장치의 패키징 크기와 비교하여 최소이고, 시준 렌즈와 제1 포커싱 렌즈의 위치는 자유롭게 조정될 수 있다.
필터(15)에서, 반투명체(9)가 적어도 두 개의 반투명 기판(16)을 포함하는 경우에, 입사광의 손실을 줄이기 위하여, 적어도 두 개의 반투명 기판(16)을 포함하는 반투명체(9)가 바람직하게는 송신 섬유의 입사 포트(8)에 인접하는 빔 분리막(13)의 하나의 면 상에 설계된다.
도 6의 실시태양이 실시예로서 사용된다. 레이저 파장 모니터링 장치의 작동 원리는 다음과 같다: 레이저(7)에 의해 송신되는 레이저 광이 시준 렌즈(1)를 통해 통과한 후에 시준광이 되고; 시준광이 필터(15)의 하나의 면 상의 반사막(14)으로 입사되고, 빔 분리막(13)이 비율로 수신된 레이저 광을 분리하고, 하나의 부분은 필터(15)로부터 제1 광 수신기(5a)로 반사되고 방출되고, 다른 부분은 필터(15)의 다른 면 상의 반사막(14)으로 관통한다. 그 후, 하나의 부분이 빔 분리막(13)으로 반사되고, 빔 분리막(13)이 비율로 수신된 레이저 광을 다시 분리하며, 하나의 부분이 필터로부터 제2 광 수신기(5b)로 반사되고 방출된다.
빔 분리막은 두 개의 반투명체 중 제1 평면들 사이에 배치되어, 레이저 파장 모니터링 장치의 파장 모니터링 광 경로는 종래 기술의 파장 모니터링 광 경로에 비교하여 상당히 짧고, 레이저 파장 모니터링 장치의 부피는 비교적 작고, 소형화 패키징이 구현될 수 있으며, 이는 제품의 패키징 비용을 상당히 감소시키게 된다. 예컨대, 종래의 파장 모니터링 장치는 일반적으로 XMD 패키징을 사용하고, 패키징 비용이 비교적 높다. 그러나, 해결책으로서의 파장 모니터링 장치는 TO 패키징을 사용할 수 있으며, 이로써 패키징 비용이 상당히 줄어든다.
PD1과 PD2가 두 개의 광 수신기(5a 및 5b)의 각각의 실제 수신된 광 전력이고, 필터(15)의 총 반사 광 전력이 Pf이고, 필터(15)의 총 투과 광 전력이 Pt임을 추정할 수 있다. 적색변이가 레이저 파장에서 발생할 때에, 필터(15)의 총 투과 광 전력이 Pt + ΔP이고, 청색변이가 레이저 파장에서 발생할 때에, 필터(15)의 총 반사 광 전력이 Pf-ΔP이며, PD1는 레이저 파장에 따라 변화하지 않는다. 그러므로, 파장 오프셋은 다음과 같다:
ΔA= + 2ΔP/(Pf+Pt) (적색변이), 및 ΔA= -2ΔP/(Pf+Pt) (청색변이) (2)
전체로서 필터에 대하여, Pf+Pt=P0이며, 이때 P0는 상수이고, 레이저 파장에 따라 변화하지 않는다. 그러므로, 레이저 파장의 상태 변화는 또한 파장 오프셋 ΔA에 따라 정의될 수 있다.
공식 (2)와 종래 기술의 공식(1)을 비교함으로써, 레이저 파장 모니터링 장치가 투과 전력 모니터링 및 반사 전력 모니터링을 수행할 수 있고, 파장 오프셋의 모니터링 정밀도가 두 배가 된다는 것을 알 것이다. 그러므로, 종래의 레이저 파장 모니터링 장치와 비교하여, 레이저 파장 모니터링 장치는 좀 더 높은 모니터링 정밀도와 모니터링 성능을 가진다.
명백하게, 이 분야의 통상의 기술자는 본원의 정신 및 범위에 벗어나지 않는 한 본원에 대한 다양한 변경 및 변이가 가능할 것이다. 본원은 다음의 특허청구범위 및 그 등가적 기술에 의해 한정되는 보호 범위 내에 있는 것으로 제공되는 변경 및 변이를 포함하는 의도이다.

Claims (13)

  1. 필터로서,
    각각의 반투명체가 제1 평면, 제1 평면과 쐐기각(wedge angle)을 형성하는 제2 평면, 및 제1 평면과 제2 평면 둘 다와 교차하는 제3 평면을 가지는 두 개의 반투명체 ― 상기 두 개의 반투명체의 제1 평면들이 서로 평행하고, 상기 두 개의 반투명체의 제2 평면들이 서로 평행함 ―;
    고정 분할비(split ratio)를 가지고 이 비율(ratio)로 입사 레이저 광을 분리하도록 구성된 빔 분리막 - 상기 빔 분리막이 상기 두 개의 반투명체 중 하나의 제1 평면 상에 먼저 도금되고, 그 후 다른 반투명체의 제1 평면이 상기 빔 분리막에 본딩되어 안정된 병렬 간섭 공진이 상기 필터에 형성됨 - ;
    양 면의 표면이 상기 두 개의 반투명체의 제1 평면들과 각각 결합되는 빔 분리막; 및
    상기 두 개의 반투명체의 제2 평면들과 각각 결합되는 두 개의 반사막
    을 포함하는,
    필터.
  2. 제1항에 있어서,
    상기 쐐기각은 45°±λ이고, λ는 설정 허용 오차(set allowable error)인 것인, 필터.
  3. 제1항에 있어서,
    상기 두 개의 반투명체의 제3 평면들은 평행하거나 평행하지 않는 것인, 필터.
  4. 제3항에 있어서,
    상기 두 개의 반투명체에서, 하나의 반투명체는 적어도 두 개의 반투명 기판을 포함하고, 두 개의 인접한 반투명 기판 사이에 반사방지 코팅(antireflection coating)이 배치되는, 필터.
  5. 필터 제조 방법으로서,
    두 개의 반투명체의 제2 평면들 상에 각각 반사막을 도금하고, 하나의 반투명체의 제1 평면 상에 빔 분리막을 도금하는 단계; 및
    다른 반투명체의 제1 평면을 상기 빔 분리막과 결합하는 단계
    를 포함하고,
    상기 두 개의 반투명체의 각각은 제1 평면, 제1 평면과 쐐기각(wedge angle)을 형성하는 제2 평면, 및 제1 평면과 제2 평면 둘 다와 교차하는 제3 평면을 가지고, 상기 두 개의 반투명체의 제1 평면들이 서로 평행하고, 상기 두 개의 반투명체의 제2 평면들이 서로 평행하며,
    상기 빔 분리막은 고정 분할비(split ratio)를 가지고 이 비율(ratio)로 입사 레이저 광을 분리하도록 구성되고, 상기 빔 분리막이 상기 두 개의 반투명체 중 하나의 제1 평면 상에 먼저 도금되고, 그 후 다른 반투명체의 제1 평면이 상기 빔 분리막에 본딩되어 안정된 병렬 간섭 공진이 상기 필터에 형성되는,
    필터 제조 방법.
  6. 제5항에 있어서,
    상기 다른 반투명체의 제1 평면을 상기 빔 분리막과 결합하는 단계는 구체적으로, 상기 다른 반투명체의 제1 평면을 상기 빔 분리막에 본딩하는 단계인 것인, 필터 제조 방법.
  7. 레이저 파장 모니터링 장치로서,
    두 개의 광 수신기 및 필터를 포함하며,
    상기 필터는,
    각각의 반투명체가 제1 평면, 제1 평면과 쐐기각을 형성하는 제2 평면, 및 제1 평면과 제2 평면 둘 다와 교차하는 제3 평면을 가지는 두 개의 반투명체 ― 상기 두 개의 반투명체의 제1 평면들이 서로 평행하고, 상기 두 개의 반투명체의 제2 평면들이 서로 평행함 ―,
    고정 분할비(split ratio)를 가지고 이 비율(ratio)로 입사 레이저 광을 분리하도록 구성된 빔 분리막 - 상기 빔 분리막이 상기 두 개의 반투명체 중 하나의 제1 평면 상에 먼저 도금되고, 그 후 다른 반투명체의 제1 평면이 상기 빔 분리막에 본딩되어 안정된 병렬 간섭 공진이 상기 필터에 형성됨 - , 및
    상기 두 개의 반투명체의 제2 평면들과 각각 결합되는 두 개의 반사막을 포함하고,
    상기 필터의 두 개의 반사막이 레이저의 송신 포트 및 송신 섬유의 입사 포트를 각각 마주보고, 상기 필터의 두 개의 제3 평면이 상기 두 개의 광 수신기의 수신 포트들을 각각 마주보는,
    레이저 파장 모니터링 장치.
  8. 제7항에 있어서,
    상기 레이저의 송신 포트와, 상기 레이저의 송신 포트를 마주보는 상기 필터의 반사막 사이에 위치하는 시준 렌즈를 더 포함하는, 레이저 파장 모니터링 장치.
  9. 제8항에 있어서,
    상기 시준 렌즈의 하나의 면이, 평면이고, 상기 시준 렌즈의 면에 마주보는 상기 필터의 반사막과 결합되는, 레이저 파장 모니터링 장치.
  10. 제7항에 있어서,
    상기 송신 섬유의 입사 포트와, 상기 송신 섬유의 입사 포트를 마주보는 상기 필터의 반사막 사이에 위치하는 제1 포커싱 렌즈를 더 포함하는, 레이저 파장 모니터링 장치.
  11. 제10항에 있어서,
    상기 제1 포커싱 렌즈의 하나의 면이, 평면이고, 상기 제1 포커싱 렌즈의 면을 마주보는 상기 필터의 반사막과 결합되는, 레이저 파장 모니터링 장치.
  12. 제7항에 있어서,
    상기 필터의 두 개의 제3 평면과, 상기 필터의 두 개의 제3 평면을 마주보는 상기 광 수신기들의 수신 포트들 사이에 각각 위치되는 두 개의 제2 포커싱 렌즈를 더 포함하는, 레이저 파장 모니터링 장치.
  13. 제7항에 있어서,
    상기 필터에서, 적어도 두 개의 반투명 기판을 포함하는 반투명체가 상기 송신 섬유의 입사 포트에 인접한, 빔 분리막의 하나의 면 상에 위치되는, 레이저 파장 모니터링 장치.
KR1020157036426A 2013-05-27 2013-05-27 필터, 필터 제조 방법, 및 레이저 파장 모니터링 장치 KR101807684B1 (ko)

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
PCT/CN2013/076273 WO2014190473A1 (zh) 2013-05-27 2013-05-27 滤波器、滤波器的制造方法和激光波长监控装置

Publications (2)

Publication Number Publication Date
KR20160013160A KR20160013160A (ko) 2016-02-03
KR101807684B1 true KR101807684B1 (ko) 2017-12-11

Family

ID=51987837

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020157036426A KR101807684B1 (ko) 2013-05-27 2013-05-27 필터, 필터 제조 방법, 및 레이저 파장 모니터링 장치

Country Status (11)

Country Link
US (1) US9678277B2 (ko)
EP (1) EP2995979B1 (ko)
JP (1) JP6047811B2 (ko)
KR (1) KR101807684B1 (ko)
CN (1) CN104380160B (ko)
AU (1) AU2013391380B2 (ko)
CA (1) CA2913482C (ko)
ES (1) ES2710558T3 (ko)
MX (1) MX347531B (ko)
RU (1) RU2660761C2 (ko)
WO (1) WO2014190473A1 (ko)

Families Citing this family (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CA2913482C (en) * 2013-05-27 2018-05-15 Huawei Technologies Co., Ltd. Filter, method for producing filter, and laser wavelength monitoring apparatus
CN104730655B (zh) * 2015-03-27 2017-01-04 青岛海信宽带多媒体技术有限公司 一种光学器件及收发一体光器件
CN108873159B (zh) * 2018-06-19 2021-01-01 武汉电信器件有限公司 一种用于掺饵光纤放大器的集成器件
CN109151664B (zh) * 2018-09-11 2021-04-20 陕西千山航空电子有限责任公司 一种双模式导光型音频监控器
TW202137483A (zh) 2019-12-12 2021-10-01 立陶宛商布羅利思感測科技公司 用於發光及偵測之具有平面外配置之光學裝置
KR102537400B1 (ko) 2020-12-31 2023-05-30 주식회사씨아이티시스템 자돈을 위한 보온시스템
WO2023037510A1 (ja) * 2021-09-10 2023-03-16 三菱電機株式会社 波長ロッカー、モニタフォトダイオード、ビームスプリッタおよび波長ロッカーの調芯方法

Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2007249129A (ja) * 2006-03-20 2007-09-27 Epson Toyocom Corp 波長分離素子、波長分離素子の製造方法及び光モジュール

Family Cites Families (68)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4074930A (en) * 1976-01-28 1978-02-21 The United States Of America As Represented By The Secretary Of The Air Force Coaxial optical system
JPS57130001A (en) * 1981-02-05 1982-08-12 Canon Inc Low polalization achromatic beam splitter
US4431258A (en) * 1981-12-15 1984-02-14 Gte Laboratories Incorporated Optical fiber transmission system and dichroic beam splitter therefor
US4627688A (en) * 1983-07-01 1986-12-09 Sano Kiko Co., Ltd. Beam splitter
JPS6069614A (ja) * 1983-09-27 1985-04-20 Mitsubishi Electric Corp 集光装置、及この装置を利用した光学式情報記録、または再生装置
FR2580414B1 (fr) * 1985-04-12 1987-06-05 Telecommunications Sa Dispositif multiplexeur demultiplexeur pour fibres optiques et son procede de fabrication
US4844584A (en) * 1986-06-26 1989-07-04 Fuji Photo Film Co., Ltd. Semiconductor laser beam splitting device
US4859029A (en) * 1986-07-03 1989-08-22 Durell William E Variable ratio beam splitter and beam launcher
US4733926A (en) * 1986-11-10 1988-03-29 Lockheed Missiles & Space Company, Inc. Infrared polarizing beamsplitter
JPH0777038B2 (ja) * 1986-12-25 1995-08-16 ソニー株式会社 光学ピツクアツプ装置
JPH02123321A (ja) * 1988-11-02 1990-05-10 Shojiro Kawakami 光アイソレータの製造方法および同製造方法に用いられる偏光素子アレイ並びに同製造方法で得られた光アイソレータを一体化した光学モジュール
JP2781987B2 (ja) 1989-05-23 1998-07-30 株式会社小松製作所 波長検出装置
JPH04110916A (ja) * 1990-08-31 1992-04-13 Sony Corp 半導体レーザ用合波装置
GB2256725B (en) * 1991-06-10 1995-01-18 Alps Electric Co Ltd Polarising light separation element and light receiving optical device using same
US5164857A (en) * 1991-06-24 1992-11-17 Nanometrics, Incorporated Wide band non-coated beam splitter
US5400179A (en) * 1992-02-18 1995-03-21 Asahi Kogaku Kogyo Kabushiki Kaisha Optical multilayer thin film and beam splitter
JPH06138413A (ja) * 1992-10-29 1994-05-20 Canon Inc プレート型偏光分離装置及び該偏光分離装置を用いた偏光照明装置
US5457558A (en) * 1993-06-30 1995-10-10 Nec Corporation Optical waveguide multiplexer for optical fiber amplifiers
JPH0774343A (ja) * 1993-08-31 1995-03-17 Fujitsu Ltd 集積化光装置及びその製造方法
US5790306A (en) * 1995-06-16 1998-08-04 Global Surgical Corporation Microscope beamsplitter
JP3538987B2 (ja) * 1995-08-17 2004-06-14 富士通株式会社 光レベル監視モジュール及び光レベル監視回路
US5883730A (en) * 1995-12-29 1999-03-16 Lucent Technologies Inc. Optical transceiver for multi-directional and multi-wavelength applications
US6487014B2 (en) * 1996-08-12 2002-11-26 National Research Council Of Canada High isolation optical switch, isolator or circulator having thin film polarizing beam-splitters
US6097521A (en) * 1997-09-26 2000-08-01 Siemens Aktiengesellschaft Optoelectronic module for bidirectional optical data transmission
US6212014B1 (en) * 1997-09-29 2001-04-03 Lsa, Inc. MWIR polarizing beamsplitter cube and method of making the same
US6190014B1 (en) * 1998-03-02 2001-02-20 Nikon Corporation Projection display apparatus
US6320993B1 (en) * 1998-06-05 2001-11-20 Astarte Fiber Networks, Inc. Optical switch pathway configuration using control signals
US6421176B1 (en) * 1998-09-18 2002-07-16 3M Innovative Properties Company Optical isolator
JP3698393B2 (ja) * 1998-12-11 2005-09-21 富士通株式会社 光送受信モジュールの構造及びその製法
DE60000525T2 (de) * 1999-01-29 2003-03-27 Nec Tokin Corp Optischer isolator mit einem faraday-rotator
JP3924104B2 (ja) * 2000-01-28 2007-06-06 信越化学工業株式会社 光ファイバ付きフェルール接続型光アイソレータ
US6587214B1 (en) * 2000-06-26 2003-07-01 Jds Uniphase Corporation Optical power and wavelength monitor
WO2002077573A2 (en) * 2001-03-26 2002-10-03 Koninklijke Philips Electronics N.V. Transceiver device for cooperation with an optical fiber
US6621580B2 (en) * 2001-05-08 2003-09-16 Precision Photonics Corporation Single etalon wavelength locker
US7116479B1 (en) * 2001-07-19 2006-10-03 Wavesplitter Technologies, Inc. Array polarization beamsplitter and combiner
JP2003045063A (ja) * 2001-07-27 2003-02-14 Olympus Optical Co Ltd 光学ヘッド
US6571033B2 (en) * 2001-09-28 2003-05-27 Corning Incorporated Optical signal device
DE10225176C1 (de) * 2002-05-31 2003-12-24 Infineon Technologies Ag Vorrichtung zum Demultiplexen optischer Signale einer Vielzahl von Wellenlängen
CN2583691Y (zh) * 2002-07-02 2003-10-29 中国科学院长春光学精密机械与物理研究所 光学群组滤波器
JP4062073B2 (ja) * 2002-07-05 2008-03-19 日本ビクター株式会社 色分解及び色合成光学系
US7039278B1 (en) * 2002-07-10 2006-05-02 Finisar Corporation Single-fiber bi-directional transceiver
US6654178B1 (en) * 2002-08-14 2003-11-25 Agilent Technologies, Inc. Immersed non-polarizing beamsplitters
US6838658B2 (en) * 2002-11-12 2005-01-04 Intel Corporation Simple and compact laser wavelength locker
US20040109166A1 (en) * 2002-12-09 2004-06-10 Fibera, Inc. Wavelength Locker With Confocal Cavity
JP2004234818A (ja) * 2003-01-07 2004-08-19 Matsushita Electric Ind Co Ltd 光学ヘッド
JP2004233484A (ja) * 2003-01-29 2004-08-19 Oki Electric Ind Co Ltd 光モジュール
US7145727B2 (en) * 2003-03-07 2006-12-05 Optoplex Corporation Unpolarized beam splitter having polarization-independent phase difference when used as an interferometer
JP4393094B2 (ja) * 2003-04-10 2010-01-06 キヤノン株式会社 光学系
US6922294B2 (en) * 2003-05-02 2005-07-26 International Business Machines Corporation Optical communication assembly
JP2005049821A (ja) * 2003-07-11 2005-02-24 Omron Corp 光合分波器、光集積回路及びそれらを用いた光送受信器
JP4461272B2 (ja) * 2003-12-02 2010-05-12 富士通オプティカルコンポーネンツ株式会社 波長分離素子および光モジュール
JP2005235276A (ja) 2004-02-18 2005-09-02 Tdk Corp 光ヘッド、光再生装置及び光記録再生装置
WO2005119669A1 (ja) * 2004-06-03 2005-12-15 Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. 光記録再生装置用光ヘッド
JP2006195301A (ja) * 2005-01-17 2006-07-27 Konica Minolta Opto Inc 光学素子
US7529029B2 (en) * 2005-07-29 2009-05-05 3M Innovative Properties Company Polarizing beam splitter
JP4348636B2 (ja) * 2005-12-16 2009-10-21 並木精密宝石株式会社 光アイソレータ付きレセプタクルおよびその製造方法
US20070154218A1 (en) * 2005-12-30 2007-07-05 Bookham Technology, Plc Optical discriminators and systems and methods
KR100754641B1 (ko) * 2006-03-02 2007-09-05 삼성전자주식회사 모니터들을 구비한 다파장 양방향 광송수신기
WO2007129375A1 (ja) * 2006-04-26 2007-11-15 Okamoto Glass Co., Ltd. 光学素子コンポーネント
EP2135335A4 (en) * 2007-03-19 2010-08-11 Jeong Soo Kim AUTOMATIC PARALLEL PLATE BEAM DIVIDER, ITS MANUFACTURING METHOD, AND LASER DIODE HOUSING STRUCTURE USING SAME
US8643948B2 (en) * 2007-04-22 2014-02-04 Lumus Ltd. Collimating optical device and system
JP2009105106A (ja) * 2007-10-22 2009-05-14 Hitachi Ltd 光送受信モジュール
JP2013501965A (ja) * 2009-08-10 2013-01-17 クロマ テクノロジー コーポレイション 顕微鏡立方体
CN101726872B (zh) * 2009-12-31 2012-09-19 招远招金光电子科技有限公司 一种可切换的低色散光梳状滤波器及方法
JP5796934B2 (ja) * 2010-04-13 2015-10-21 日本オクラロ株式会社 偏波ダイバーシティ光学系装置、復調器及び送受信機
CN101943772A (zh) * 2010-08-26 2011-01-12 华中科技大学 G-t谐振腔与双折射元件结合的可调谐光梳状滤波器
US8705975B2 (en) * 2011-02-24 2014-04-22 Avago Technologies General Ip (Singapore) Pte. Ltd. Single wavelength bidirectional fiber optical link with beam-splitting element
CA2913482C (en) * 2013-05-27 2018-05-15 Huawei Technologies Co., Ltd. Filter, method for producing filter, and laser wavelength monitoring apparatus

Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2007249129A (ja) * 2006-03-20 2007-09-27 Epson Toyocom Corp 波長分離素子、波長分離素子の製造方法及び光モジュール

Also Published As

Publication number Publication date
MX2015016214A (es) 2016-03-11
WO2014190473A1 (zh) 2014-12-04
CN104380160A (zh) 2015-02-25
AU2013391380B2 (en) 2016-06-23
MX347531B (es) 2017-05-02
CN104380160B (zh) 2017-12-05
CA2913482A1 (en) 2014-12-04
US9678277B2 (en) 2017-06-13
JP2016520218A (ja) 2016-07-11
RU2660761C2 (ru) 2018-07-09
AU2013391380A1 (en) 2015-12-24
ES2710558T3 (es) 2019-04-25
EP2995979A4 (en) 2016-06-29
EP2995979B1 (en) 2018-11-14
KR20160013160A (ko) 2016-02-03
US20160085028A1 (en) 2016-03-24
EP2995979A1 (en) 2016-03-16
CA2913482C (en) 2018-05-15
RU2015156205A (ru) 2017-06-28
JP6047811B2 (ja) 2016-12-21

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR101807684B1 (ko) 필터, 필터 제조 방법, 및 레이저 파장 모니터링 장치
US20130330080A1 (en) Wavelength Division Multiplexing/De-Multiplexing Optical Assembly for High Speed Parallel Long Distance Transmission
JP5623675B2 (ja) 光信号多重化方法および光多重化装置
WO2020186926A1 (zh) 一种单光纤双向光收发组件
JPWO2009081539A1 (ja) 光送受信モジュール
US8705910B2 (en) Optical module manufacturing method and optical module
US9645315B2 (en) Multiplexer
US10613339B2 (en) Collimation lens and optical module
WO2016112576A1 (zh) 波分复用/解复用器以及光发射组件
CN109061814B (zh) 一种基于环形器的单纤双向收发器
US20110085240A1 (en) Optical module having three or more optically transparent layers
CN112782862A (zh) 一种多波长合波的光学模组
WO2012106886A1 (zh) 分光装置、光复用装置及方法、光分插复用设备
KR20110095084A (ko) 파장 안정화 장치 및 이를 이용한 레이저 모듈
JP2010113157A (ja) 光受信装置
CN210348082U (zh) 一种分波合波光学组件
CN206270601U (zh) 一种多波长合波器
CN106785901B (zh) 一种基于模式变换器的硅基可调谐激光器及其实现方法
CN220105430U (zh) 光信号合束结构、发端光器件及光模块
GB2429766A (en) Light monitoring device
CN207799139U (zh) 一种光路位移补偿的微型集成光路器件
CN118050861A (zh) 一种光组件及其工作方法
CN118099924A (zh) 一种可调谐激光器的封装结构
CN109379143A (zh) 一种波长可调谐光接收组件
WO2015149249A1 (zh) 一种可调滤波器、可调光组件及无源光网络系统

Legal Events

Date Code Title Description
A201 Request for examination
E902 Notification of reason for refusal
GRNT Written decision to grant