KR101755534B1 - 진공 증발장치용 인젝터 - Google Patents

진공 증발장치용 인젝터 Download PDF

Info

Publication number
KR101755534B1
KR101755534B1 KR1020110004651A KR20110004651A KR101755534B1 KR 101755534 B1 KR101755534 B1 KR 101755534B1 KR 1020110004651 A KR1020110004651 A KR 1020110004651A KR 20110004651 A KR20110004651 A KR 20110004651A KR 101755534 B1 KR101755534 B1 KR 101755534B1
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
nozzle
injector
injection duct
main channel
channel
Prior art date
Application number
KR1020110004651A
Other languages
English (en)
Other versions
KR20120074172A (ko
Inventor
장-루이스 귀요
프랑크 스뗌멜렌
올리비에르 그랑쥐
Original Assignee
리베르
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 리베르 filed Critical 리베르
Publication of KR20120074172A publication Critical patent/KR20120074172A/ko
Application granted granted Critical
Publication of KR101755534B1 publication Critical patent/KR101755534B1/ko

Links

Images

Classifications

    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
    • C23C14/24—Vacuum evaporation
    • C23C14/26—Vacuum evaporation by resistance or inductive heating of the source
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/06—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the coating material
    • C23C14/14—Metallic material, boron or silicon
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
    • C23C14/24—Vacuum evaporation
    • C23C14/243—Crucibles for source material
    • H—ELECTRICITY
    • H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
    • H10K71/00—Manufacture or treatment specially adapted for the organic devices covered by this subclass

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Metallurgy (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Physical Vapour Deposition (AREA)

Abstract

본 발명은 길이방향축(11)을 가지며, 진공 증발장치와 연결될 수 있는 흡입 포트(2), 증발물을 확산시키는 적어도 하나의 노즐(3)로 구성된 인젝션 덕트(1)를 포함하고, 상기 노즐은 측면(4)과 상부면(5)을 갖도록 구성된 진공 증발장치용 인젝터에 관한 것이다.
본 발명에 따르면, 상기 인젝션 덕트(1)의 외부로 나오는 메인 채널(6)과, 상기 인젝션 덕트(1)의 내부와 메인 채널(6)을 연결하는 적어도 하나의 측면 공급 채널(7)을 포함하고, 상기 측면 공급 채널(7)은 산화물에 의한 상기 노즐(3)의 막힘을 방지하기 위해 상기 노즐(3)의 측면(4)을 통해 상기 인젝션 덕트(1)의 내부로 나오는 측면 오리피스(8)를 갖도록 구성된다.

Description

진공 증발장치용 인젝터{INJECTOR FOR A VACUUM EVAPORATION SOURCE}
본 발명은 진공 증착 챔버에서 물질을 증발 또는 승화시키는 진공 증발장치용 인젝터에 관한 것이다.
상기한 진공 증착 챔버는, 예를 들어 CIGS(구리 인듐 갈륨 셀레늄) 태양 전지 또는 OLED(유기 발광 장치) 다이오드의 제조를 위해 사용된다.
이 진공 증발장치는 특히 인라인 시스템에서 수평 하향(horizontal top-down) 방식 또는 수평 상향(horizontal bottom-up) 방식으로 유리 패널을 셀렌화(selenisation) 하기 위해 셀레늄을 증발시키는데 사용된다.
국제특허공개공보 WO 2008/079209호는 OLED 다이오드의 제조를 위해 유기물 또는 무기물을 증발시키는 공지의 진공 증발장치를 개시하고 있다.
이러한 진공 증발장치는 진공 증착 시스템에 부착 가능한 몸체를 포함한다. 몸체는 서로 분리가능한 제1 몸체부와 제2 몸체부를 포함한다. 밸브는 길이방향형상으로 이루어지고, 증발물을 확산시키기 위한 다수의 출구 오리피스를 가지는 인젝터에 연결된다. 이 인젝터는 그 외부면에 위치된 가열수단에 의해 가열된다.
인젝터가 수평 상향 방식의 형태로 사용되는 경우, 노즐은 인젝터의 바닥에 위치된다.
각 노즐은 인젝터의 내부와 외부를 연결하는 채널(channel)을 포함한다. 이 채널은 노즐의 상부면을 통해 인젝터 내부로 나온다.
증착 공정이 진행되는 동안, 증발물의 일부는 인젝터의 내벽에 흡착되고 산화된다. 온도 변화로 인해, 이 산화된 물질은 갈라지게 된다. 산화물의 몇몇 조각들은 인젝터의 벽으로부터 분리되어 노즐의 상부면에 떨어져 노즐 일부의 막힘을 초래한다.
노즐이 막힘으로써 증발물에 의해 덮여질 패널에 증발물이 불균일하게 분사된다.
본 발명의 하나의 목적은 산화물에 의해 노즐이 막히는 것을 방지할 수 있는 인젝터를 제공하는 것이다.
이러한 목적을 위해, 인젝터는:
- 길이방향축을 가지며, 진공 증발장치에 연결될 수 있는 흡입 포트, 증발물을 확산시키는 적어도 하나의 노즐로 구성된 인젝션 덕트를 포함하며, 상기 노즐은 측면과 상부면을 갖는다.
본 발명에 따르면, 상기 노즐은:
상기 인젝션 덕트 외부로 나오는 메인 채널과, 인젝션 덕트의 내부와 메인 채널을 연결하는 적어도 하나의 측면 공급 채널을 포함하며, 상기 측면 공급 채널은 산화물에 의한 상기 노즐의 막힘을 방지하기 위해 상기 노즐의 측면을 통해 상기 인젝터 덕트의 내부로 나오는 측면 오리피스를 갖는다.
본 발명은 산화물에 의한 노즐의 막힘을 방지하는 인젝터를 제공한다.
노즐의 메인 채널의 상부 개구부가 산화물의 조각에 의해 막히더라도, 증발물은 측면 공급 채널을 통해 분무될 수 있다.
이는 산화물 조각의 출현과 상관없이, 수평 상향 방식의 인라인 진공 처리 챔버에서 태양 전지 패널의 표면에 증발물이 균일하게 분무 되도록 한다.
인젝터를 세척하는 주기를 증가시켜서 비용절감을 얻는다.
인젝터는 인젝터의 세척을 위해 진공 처리 챔버로부터 분리되기 때문에, 증착공정이 보다 덜 중단되어 생산성을 향상시킨다.
다양한 실시예들에 따르면, 본 발명은 또한 특징들이 개별적으로 또는 특징들 모두의 기술적 가능한 모든 조합으로 고려되는, 아래의 특징들과 관련이 있다.
- 측면 공급 채널의 측면 오리피스는 상기 노즐의 상부면의 부근에 위치된다.
이는 인젝터의 바닥에 응축된 물질이 노즐로 흘러들어가는 것을 방지할 수 있게 한다.
- 노즐은 상기 메인 채널에 수직한 2개의 측면 공급 채널을 포함하고, 상기 메인 채널과 상기 측면 공급 채널은 길이방향축에 수직을 이룬다.
- 상기 메인 채널은 상기 노즐의 상부면을 통해 상기 인젝션 덕트 내부로 나오는 상부 개구부가 형성된 상부를 포함한다.
- 상기 노즐의 상부면은 원뿔형이나 각형 형상을 갖는다.
이러한 외형적 구조는 노즐의 상부면에 있는 산화물의 조각에 의해 노즐의 메인 채널의 상부 개구부가 막히는 것을 방지할 수 있다.
도 1은 본 발명의 실시예에 따른 인젝터의 사시도,
도 2는 도 1에 따른 인젝터의 종단면도,
도 3은 도 2에 따른 인적터의 A-A선 단면도, 및
도 4는 본 발명에 따른 인젝터의 국부 확대 단면도이다.
이하, 첨부된 도면을 참조하여 본 발명을 설명한다.
도 1 및 도 2에 도시된 바와 같이, 인젝터는 제1 진공부(10)의 범위를 한정하는 인젝션 덕트(1)를 포함한다. 인젝션 덕트(1)는 길이방향으로 연장되고 원형 단면을 갖는 관 형상으로 이루어진다.
인젝션 덕트(1)는 진공 증발장치와 연결될 수 있는 흡입 포트(2)와, 진공 증착 챔버(미도시) 안으로 증발물을 확산시키기 위한 적어도 하나의 노즐(3)들을 포함한다.
도 4의 예에서, 인젝션 덕트(1)는 길이방향축(11)을 따라 등거리로 배열된 다수의 노즐(3)들을 포함한다.
바람직하게는, 노즐(3)들은 노즐(3)이 구비된 블럭을 형성하는 선형 노즐 조립체(12)에 내장된다.
각각의 노즐(3)은 인젝션 덕트(1)의 외부에 노출된 메인 채널(6)과 인젝션 덕트(1)와 메인 채널(6)을 연결하는 적어도 하나의 측면 공급 채널(7)을 포함한다.
측면 공급 채널(7)은 노즐(3)의 측면(4)을 통해 인젝션 덕트(1)의 제1 진공부(10) 내부에 노출된 측면 오리피스(8)를 갖는다. 측면 오리피스(8)의 이러한 측면 위치지정은 산화물에 의한 노즐의 막힘을 방지하기 위한 것이다.
바람직하게는, 메인 채널(6)과 측면 공급 채널(7)은 원형 단면을 갖는다. 이 단면은 타원형과 같이 각 부분마다 다를 수 있다.
메인 채널(6)과 측면 공급 채널(6)의 직경은 동일하거나 다를 수 있다.
바람직하게는, 메인 채널(6)의 직경은 측면 공급 채널(7)의 직경보다 크다.
각각의 메인 채널(6)의 직경은 서로 다를 수 있다.
측면 공급 채널(7)은 메인 채널(6)의 상류에 위치된다.
인젝터의 제1 진공부(10) 내의 증발 물질은 진공 처리 챔버 내에 분무되도록 측면 공급 채널(7)과 메인 채널(6)을 통과한다.
도 1 내지 도 4의 예에서, 각각의 노즐(3)은 메인 채널(6)에 대하여 반대편에 위치되고, 메인 채널(6) 및 길이방향축(11)과 수직을 이루는 2개의 측면 공급 채널(7)을 포함한다. 메인 채널(6)은 길이방향축(11)과 직각을 이룬다.
다른 형태들도 가능하다. 예를 들어, 메인 채널(6)은 길이방향축(11)에 대해 경사질 수 있다. 모든 메인 채널(6)들은 나란히 배열되거나 그렇지 않을 수 있다.
대안적으로, 측면 공급 채널(7)은 메인 채널(6)과 수직인 방향과 다른 방향을 향하도록 형성될 수도 있다.
측면 공급 채널(7)과 메인 채널(6)은 길이방향축(11)에 대해 경사진 단일 채널을 구성하도록 배열될 수 있다.
대안적으로, 각각의 노즐(3)은 2개 이상의 측면 공급 채널(7)을 포함할 수 있다.
바람직하게는, 측면 공급 채널(7)의 측면 오리피스(8)는 노즐(3)의 상부면(5) 부근에 위치된다.
가능한 실시예에 있어서, 메인 채널(6)은 노즐(3)의 상부면(5)을 통해 인젝션 덕트(1)의 내부에 노출된 상부 개구부(29)를 갖는 상부(9)를 포함한다.
대안적으로, 메인 채널(6)은 인젝터 내에 노출되지 않는다.
가능한 실시예에서, 노즐(3)의 상부면(5)은 원뿔 형상을 가지거나 경사진 형상을 갖는다.
노즐(3)의 상부면(5)은 경사각을 이루도록 구비된 2개의 경사진 평면을 포함할 수 있다.
인젝션 덕트(1)는 대구경을 갖는 제1 부분(13a)과 소구경을 갖는 제2 부분(13b)을 포함한다.
노즐 조립체(12)는 제1 부분(13a)에 위치된다.
인젝션 덕트(1)의 제1 부분(13a)과 제2 부분(13b)은 원뿔부(14)에 의해 연결된다.
인젝터(1)는 인젝션 덕트(1)의 벽을 둘러싸는 가열수단(15,15')을 포함한다.
인젝터(1)는 인젝터(1)를 적어도 부분적으로 둘러싸는 추가 벽(16)을 포함한다. 추가 벽(16)과 인젝션 덕트(1)는 제1 진공부(10) 및 인젝터(1)의 외부와 구별되고 기밀되게 격리된 제2 진공부(17)의 범위를 한정한다.
가열 수단(15,15')은 제2 진공부(17)의 내부에 위치되어, 가열수단(15,15')과 증발물 간에 접촉을 방지한다. 제2 진공부(17) 내의 압력은 10-2 Torr ~ 10-4Torr 사이에 포함되고, 바람직하게는 10-3Torr이다.
제1 진공부(10)의 압력은 10-6Torr에 이를 수 있다.
가열수단(15,15')은 커넥터(18)에 의해 전원이 공급된다. 인젝터(1)는 가열수단(15,15')의 온도를 제어하기 위한 온도센서(19)를 포함한다.
추가 벽(16)은 인젝션 덕트(1)가 내장된 추가의 케이싱을 형성한다. 추가의 케이싱은 관 형상을 갖는다.
추가 벽(16)은 노즐 조립체(12)의 전방에 개구부(20)를 포함할 수 있다. 노즐(3)은 추가 벽(16)을 통해 노출된다.
각각 노즐(3)은 도 3에 도시된 바와 같이, 인젝션 덕트(1)의 내부면 상으로 돌출된 상부(26)와 인젝션 덕트(10)의 외부면 상으로 돌출된 하부(27)를 포함한다. 하부(27)는 인젝션 덕트(1)와 추가 벽(16) 사이에 위치되고, 카트리지와 같은 가열 부재(28)에 의해 둘러싸인다.
노즐(3)의 상부(26)는 인젝션 덕트(1)의 제1 진공부(10)에 위치되고, 2개의 측면 공급 채널(7)을 포함한다.
메인 채널(6)은 노즐(3)을 수직방향으로 완전히 가로지른다. 메인 채널(6)은 추가 벽(16)을 통해 인젝터의 외측에 노출된다.
추가 벽(16)은 인젝션 덕트(1)의 흡입 포트(2) 부근까지 연장된다.
추가 벽(16)은 인젝터(1)의 흡입 포트(2)와 노즐(3) 사이에 위치된 중간부(21)를 포함한다.
중간부(21)는 인젝션 덕트(1)를 둘러싸는 적어도 하나의 벨로우즈(22,22'; bellows)를 포함한다. 이 벨로우즈는, 인젝션 덕트(1)가 가열되는 경우, 인젝션 덕트(1)의 길이방향 팽창과 균형을 맞추도록 연장할 수 있다.
인젝션 덕트(1)는 예를 들어 450℃ ~ 550℃ 사이의 온도로 가열된다.
바람직하게는, 중간부(21)는 금속으로 이루어진 2개의 밸로우즈(22,22')를 포함한다.
중간부(21)는 인젝션 덕트(1)의 제2 부분(13b)을 부분적으로 둘러싼다. 중간부(21)는 인젝션 덕트(1)의 흡입 포트(2) 부근에 위치된다.
가열수단(15,15')은 중간부(21)까지 인젝션 덕트(1)의 적어도 제1 부분(13a)을 둘러싸는 제1 가열 수단(15)을 포함한다.
제1 가열 수단(15)은 추가 벽(16)을 따라 배치되고, 길이방향으로 배치된 다수의 카트리지를 포함할 수 있다.
가열수단(15,15')은 인젝션 덕트(1)의 제1 부분(13b)을 둘러싸는 제2 가열 수단(15')을 포함한다.
제2 가열 수단(15')은 인젝션 덕트(1)의 흡입 포트(2)로부터 원뿔부(14)까지 연장된다.
중간부(21)는 중간부(21)와 진공 증발장치를 연결하는 제1 플랜지(23)와, 중간부(21)와 진공 증착 챔버를 연결하는 제2 플랜지(24)를 포함한다. 제1 플랜지(23)와 제2 플랜지(24)는 서로 반대방향에 배치된다. 각각의 플랜지는 중간부(21)의 벽과 일체화된 플레이트를 포함한다.
제1 및 제2 밸로우즈(22,22')는 온도 함수로 변화하는 인젝션 덕트(1)의 길이에 따라서 인젝션 덕트(1)의 길이방향으로 신축될 수 있다.
인젝터는 가열수단(15,15')을 덮는 절연 부재(25)를 포함할 수 있다.
인젝터는 300℃ ~ 500℃ 사이의 온도로 가열되는 경우, 10-3Torr를 초과하는 증기압을 갖는 물질을 분사하는데 사용된다.
바람직하게는, 물질은 예를 들어 셀레늄이나 형광체이다.
예를 들어, 증착 챔버의 내부에 설치된 인젝터의 부분은 길이가 2200 ~ 2600mm이고, 인젝터의 전체 길이는 3000 ~ 3500mm, 직경이 100 ~ 130mm일 수 있으며, 길이 500 ~ 1800mm 부분에는 적어도 100개의 노즐들이 분포될 수 있다.
1: 인젝션 덕트 2: 흡입 포트
3: 노즐 5: 상부면
6: 메인 채널 7: 측면 공급 채널
8: 측면 오리피스

Claims (5)

  1. 길이방향축(11)을 가지며, 진공 증발장치와 연결될 수 있는 흡입 포트(2), 및 증발물을 확산시키는 적어도 하나의 노즐(3)로 구성된 인젝션 덕트(1)를 포함하는 진공 증발장치용 인젝터로서,
    상기 노즐(3)은 측면(4)과 상부면(5)을 가지며,
    상기 노즐(3)은 상기 인젝션 덕트(1)의 외부로 나오는 메인 채널(6)과, 상기 인젝션 덕트(1)의 내부와 메인 채널(6)을 연결하는 적어도 하나의 측면 공급 채널(7)을 포함하고,
    상기 측면 공급 채널(7)은 산화물에 의한 상기 노즐(3)의 막힘을 방지하기 위해 상기 노즐(3)의 측면(4)을 통해 상기 인젝션 덕트(1)의 내부로 나오는 측면 오리피스(8)를 갖는 것을 특징으로 하는 진공 증발장치용 인젝터.
  2. 제1항에 있어서,
    상기 측면 공급 채널(7)의 상기 측면 오리피스(8)는 상기 노즐(3)의 상부면(5)에 인접하게 위치된 것을 특징으로 하는 진공 증발장치용 인젝터.
  3. 제1항 또는 제2항에 있어서,
    상기 노즐(3)은 상기 메인 채널(6)에 수직한 2개의 측면 공급 채널(7)을 포함하고, 상기 메인 채널(6)과 상기 측면 공급 채널(7)은 상기 길이방향축(11)에 수직을 이루는 것을 특징으로 하는 진공 증발장치용 인젝터.
  4. 제3항에 있어서,
    상기 메인 채널(6)은 상기 노즐(3)의 상부면(5)을 통해 상기 인젝션 덕트(1) 내부로 나오는 상부 개구부(29)가 형성된 상부(9)를 갖는 것을 특징으로 하는 진공 증발장치용 인젝터.
  5. 제4항에 있어서,
    상기 노즐(3)의 상부면(5)은 원뿔형이나 각형 형상을 갖는 것을 특징으로 하는 진공 증발장치용 인젝터.
KR1020110004651A 2010-12-27 2011-01-17 진공 증발장치용 인젝터 KR101755534B1 (ko)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
EP10306524.9A EP2468917B1 (en) 2010-12-27 2010-12-27 Injector for a vacuum evaporation source
EP10306524.9 2010-12-27

Publications (2)

Publication Number Publication Date
KR20120074172A KR20120074172A (ko) 2012-07-05
KR101755534B1 true KR101755534B1 (ko) 2017-07-07

Family

ID=43875295

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020110004651A KR101755534B1 (ko) 2010-12-27 2011-01-17 진공 증발장치용 인젝터

Country Status (9)

Country Link
US (1) US8858714B2 (ko)
EP (1) EP2468917B1 (ko)
JP (1) JP5781429B2 (ko)
KR (1) KR101755534B1 (ko)
CN (1) CN102534507B (ko)
DK (1) DK2468917T3 (ko)
ES (1) ES2429343T3 (ko)
PL (1) PL2468917T3 (ko)
SG (1) SG182124A1 (ko)

Families Citing this family (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP6488397B2 (ja) * 2014-11-07 2019-03-20 アプライド マテリアルズ インコーポレイテッドＡｐｐｌｉｅｄ Ｍａｔｅｒｉａｌｓ，Ｉｎｃｏｒｐｏｒａｔｅｄ 真空堆積のための材料源アレンジメント及びノズル
TWI737718B (zh) 2016-04-25 2021-09-01 美商創新先進材料股份有限公司 含有瀉流源的沉積系統及相關方法
CN115279935A (zh) * 2020-03-26 2022-11-01 应用材料公司 蒸发源、具有蒸发源的沉积设备及其方法
CN112342529B (zh) * 2020-09-24 2022-12-06 杭州盾源聚芯半导体科技有限公司 一种具有连接头的喷射管

Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US20040035366A1 (en) * 2002-07-23 2004-02-26 Samsung Nec Mobile Display Co., Ltd. Heating crucible and deposition apparatus using the same
JP2006152440A (ja) 2004-11-26 2006-06-15 Samsung Sdi Co Ltd 蒸発源及びこれを備えた蒸着装置
US20100159132A1 (en) * 2008-12-18 2010-06-24 Veeco Instruments, Inc. Linear Deposition Source

Family Cites Families (13)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
GB1471916A (en) * 1974-03-14 1977-04-27 Plessey Co Ltd Fuel injection arrangements having vibrating fuel injection nozzles
JPH0745530A (ja) * 1993-07-27 1995-02-14 Shin Etsu Handotai Co Ltd 縦型気相成長装置
US5421522A (en) * 1993-09-24 1995-06-06 Bex Engineering Ltd. Nozzle assembly
JP4063565B2 (ja) * 2002-03-26 2008-03-19 トヨタ自動車株式会社 薄膜の成膜方法
DE10256038A1 (de) * 2002-11-30 2004-06-17 Applied Films Gmbh & Co. Kg Bedampfungsvorrichtung
WO2008004792A1 (en) * 2006-07-03 2008-01-10 Yas Co., Ltd. Multiple nozzle evaporator for vacuum thermal evaporation
KR101263005B1 (ko) 2006-12-19 2013-05-08 비코 인스트루먼츠 인코포레이티드 증착 장치 및 방법
EP1967604A1 (en) * 2007-03-08 2008-09-10 Applied Materials, Inc. Evaporation crucible and evaporation apparatus with directional evaporation
US7827646B2 (en) * 2008-02-08 2010-11-09 Tdw Delaware, Inc. Vortex inhibitor dispersal pig
WO2010019218A2 (en) 2008-08-11 2010-02-18 Veeco Instruments Inc. Electrical contacts for use with vacuum deposition sources
KR101015336B1 (ko) * 2008-08-22 2011-02-16 삼성모바일디스플레이주식회사 내부 플레이트 및 이를 구비한 증착용 도가니 장치
WO2010110871A2 (en) * 2009-03-25 2010-09-30 Veeco Instruments Inc. Deposition of high vapor pressure materials
KR100977374B1 (ko) * 2009-08-03 2010-08-20 텔리오솔라 테크놀로지스 인크 대면적 박막형 ｃｉｇｓ 태양전지 고속증착 및 양산장비, 그 공정방법

Patent Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US20040035366A1 (en) * 2002-07-23 2004-02-26 Samsung Nec Mobile Display Co., Ltd. Heating crucible and deposition apparatus using the same
JP2006152440A (ja) 2004-11-26 2006-06-15 Samsung Sdi Co Ltd 蒸発源及びこれを備えた蒸着装置
US20100159132A1 (en) * 2008-12-18 2010-06-24 Veeco Instruments, Inc. Linear Deposition Source

Also Published As

Publication number Publication date
EP2468917B1 (en) 2013-07-10
DK2468917T3 (da) 2013-10-14
JP5781429B2 (ja) 2015-09-24
US8858714B2 (en) 2014-10-14
ES2429343T3 (es) 2013-11-14
KR20120074172A (ko) 2012-07-05
EP2468917A1 (en) 2012-06-27
SG182124A1 (en) 2012-07-30
JP2012136777A (ja) 2012-07-19
PL2468917T3 (pl) 2013-11-29
CN102534507B (zh) 2016-10-26
US20120160171A1 (en) 2012-06-28
CN102534507A (zh) 2012-07-04

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR101755534B1 (ko) 진공 증발장치용 인젝터
CN104372306A (zh) 化学气相沉积装置
US20180361181A1 (en) Water mist nozzle for a fire suppression system
KR20160087985A (ko) 증착장치
KR20140085858A (ko) 박막 증착장치의 선형 증발원
KR20150144423A (ko) 기판 건조 장치
US10118191B2 (en) Film forming apparatus
KR102201598B1 (ko) 혼합영역이 포함된 선형 증발원
CN105483620B (zh) 喷嘴部件、蒸镀装置及制作有机发光二极管器件的方法
KR102235367B1 (ko) 슬릿 노즐이 구비된 선형 증발원
KR101422533B1 (ko) 믹싱 영역이 포함된 선형 증발원
KR101471901B1 (ko) 다중 분사판이 구비된 도가니
KR101243782B1 (ko) 박막 증착 장치
KR20160074858A (ko) 증착 박막의 균일도 향상을 위한 증착 소스
KR102164986B1 (ko) 증발원 및 이를 포함하는 기판처리장치
KR20140133133A (ko) 파티클프리 하향식 선형 증발원의 분자빔 집속장치
KR20140130927A (ko) 증착 소스 및 그것을 포함하는 증착 장치
CN212247183U (zh) 一种线性坩埚
KR20150017849A (ko) 하향식 증착용 증발원
KR101582958B1 (ko) 플렉시블 이류체 분사노즐
CN105088143B (zh) 一种镀膜装置
KR20150034455A (ko) 대면적용 선형 증발원
KR102629939B1 (ko) 이산화탄소 분사노즐
KR20140086334A (ko) 증발원 조립체
KR20240057586A (ko) 증발원

Legal Events

Date Code Title Description
A201 Request for examination
E902 Notification of reason for refusal
E701 Decision to grant or registration of patent right
GRNT Written decision to grant