CN104372306A - 化学气相沉积装置 - Google Patents

Abstract

本发明提供了一种化学气相沉积装置，所述化学气相沉积装置包括：支撑构件，被构造成支撑基板的下表面；遮蔽框架，被构造成覆盖基板的上表面的边缘部分；以及护套，具有吹扫气体供应开口，吹扫气体供应开口被构造成供应吹扫气体，使得吹扫气体从位于基板的下表面下方的位置离开吹扫气体供应开口。护套邻近于遮蔽框架的一部分并被构造成覆盖基板的下表面的一部分。排放单元设置在护套中，或者排放单元位于护套和遮蔽框架之间。

Description

化学气相沉积装置

技术领域

本发明的一方面涉及一种化学气相沉积装置。

背景技术

通常，化学气相沉积装置可以用于对各种基板进行沉积。例如，化学气相沉积装置可以用于对制造太阳能电池时必需的基板进行沉积，或者对制造显示面板时必需的基板进行沉积。这样的化学气相沉积装置可以通过在上侧上喷射沉积气体来对基板进行沉积。这里，可以从基板的下侧喷射吹扫气体，以防止沉积气体在基板的下表面上的沉积或沉积气体在基板的侧表面上的不均匀沉积。

供应的吹扫气体可能从基板的下表面移动到基板的上表面。此外，因固定或支撑基板的结构的移动，所以在基板的边缘区域处，基板可能不会被合适地沉积。因此，吹扫气体经常不能被顺利地排放或者在基板边缘区域处不能均匀地沉积。

发明内容

提供本发明内容，以介绍进一步在具体实施方式中描述的构思的选择。本发明内容不意图标明要求保护的主题的关键或必要特征，也不意图用来帮助限制要求保护的主题的范围。

本发明的实施例的方面涉及一种能够改善基板的边缘部分和/或下表面处的膜均匀性的化学气相沉积装置。

根据本发明的实施例的方面，可以通过防止吹扫气体移动到基板的上表面或者防止吹扫气体被储存在基板的边缘区域中来改善沉积均匀性。此外，根据本发明的实施例的方面，可以通过将吹扫气体排放到护套的侧部来促进吹扫气体的顺利排放。

在一个实施例中，化学气相沉积装置包括：支撑构件，被构造成支撑基板的下表面；遮蔽框架，被构造成覆盖基板的上表面的边缘部分；以及护套，具有吹扫气体供应开口，吹扫气体供应开口被构造成供应吹扫气体，使得吹扫气体从位于基板的下表面下方的位置离开吹扫气体供应开口。护套可以邻近于遮蔽框架的一部分并被构造成覆盖基板的下表面的一部分，排放单元可以位于护套中或者位于护套和遮蔽框架之间。

在一个实施例中，化学气相沉积装置的排放单元被构造成沿着与基板的下表面平行的方向排放吹扫气体的至少一部分。

在一个实施例中，化学气相沉积装置还包括容纳支撑构件、遮蔽框架和护套的室。在一些实施例中，化学气相沉积装置包括位于室的侧部或底部处的抽吸单元。在一些实施例中，抽吸单元位于室的底部处。

在另一实施例中，化学气相沉积装置的吹扫气体供应开口穿过护套延伸。

在一个实施例中，化学气相沉积装置的护套包括：吹扫气体供应单元，与吹扫气体供应开口结合；以及护套体，结合到吹扫气体供应单元。吹扫气体供应单元可以具有第一厚度，护套体可具有与第一厚度不同的第二厚度。在一些实施例中，第一厚度小于第二厚度。在另一实施例中，在遮蔽框架和吹扫气体供应单元之间存在空间，使得空间结合到排放单元。

在另一实施例中，化学气相沉积装置的吹扫气体供应开口被构造成向基板的下表面供应吹扫气体，排放单元被构造成将从吹扫气体供应开口供应的吹扫气体的至少一部分排放到护套的外侧。在另一实施例中，排放单元被构造成通过将吹扫气体的过量部分排放到护套的外侧来防止吹扫气体朝着基板的上表面供应。在另一实施例中，化学气相沉积装置还包括被构造成朝着基板的上表面喷射沉积气体的喷头。在另一实施例中，排放单元被构造成将从吹扫气体供应开口供应的一部分吹扫气体和从喷头供应的一部分沉积气体排放到护套的外侧。

在一个实施例中，化学气相沉积装置的排放单元位于遮蔽框架和护套之间。在另一实施例中，遮蔽框架包括固定单元和接触单元。固定单元可以邻近于并接触基板的上表面的边缘部分，接触单元可以邻近于排放单元。遮蔽框架可以被构造成将基板固定在遮蔽框架和支撑构件之间。

在另一实施例中，化学气相沉积装置的排放单元包括多个排放单元，护套还包括在第一方向上位于所述多个排放单元中的两个相邻的排放单元之间的支撑单元。护套的一部分可以以每个支撑单元与遮蔽框架的一部分接触。在一些实施例中，排放单元的深度为护套的厚度的大约20%至大约75%。在另一实施例中，排放单元的直径为护套的厚度的大约20%至大约75%。

在一个实施例中，化学气相沉积装置的排放单元的沿着与基板的侧表面平行的第一方向的第一宽度与支撑单元的沿着第一方向的第二宽度不同。在一些实施例中，第一宽度与第二宽度之比在0.25和4之间。在另一实施例中，排放单元的沿着与基板的侧表面平行的第一方向的直径与所述多个排放单元中的两个相邻的排放单元之间的最短距离不同。在一些实施例中，排放单元的直径与所述多个排放单元中的两个相邻的排放单元之间的最短距离之比在0.25和4之间。

在另一实施例中，化学气相沉积装置包括容纳支撑构件、遮蔽框架和护套的室，其中，支撑构件被构造成支撑基板的下表面，遮蔽框架被构造成覆盖基板的上表面的边缘部分，以及护套具有吹扫气体供应开口，吹扫气体供应开口被构造成供应吹扫气体，使得吹扫气体从位于基板的下表面下方的位置离开吹扫气体供应开口。护套可以邻近于遮蔽框架的一部分并被构造成覆盖基板的下表面的一部分。排放单元可以位于护套中或者在护套和遮蔽框架之间。抽吸单元可以与室结合并被构造成从室抽吸气体。

在一个实施例中，化学气相沉积装置的抽吸单元包括：抽吸管，与室结合；以及真空泵，与抽吸管结合。在一些实施例中，通过抽吸单元，吹扫气体的一部分经过排放单元排放到室的外部。

在另一实施例中，通过抽吸单元，化学气相沉积装置的吹扫气体的一部分和沉积气体的一部分经过排放单元排放到室的外部。

附图说明

图1是根据本发明的一个实施例的化学气相沉积装置的正视图。

图2是图1的化学气相沉积装置的部分A的放大正视图。

图3是示出了图2的化学气相沉积装置的所述部分的遮蔽框架和护套的侧表面的侧视图。

图4是根据本发明的另一实施例的化学气相沉积装置的正视图。

图5是图4的化学气相沉积装置的部分B的放大正视图。

图6是示出了图5的化学气相沉积装置的所述部分的遮蔽框架和护套的侧表面的侧视图。

图7是根据本发明的另一实施例的化学气相沉积装置的正视图。

图8是图7的化学气相沉积装置的部分C的放大正视图。

具体实施方式

现在将参照附图更充分地描述本发明，在附图中示出了本发明的实施例。然而，本发明可以以许多不同的形式来呈现，并且不应被解释为限制于这里阐述的实施例；而是，提供这些实施例使得本公开将是彻底的和完全的，并且将向本领域技术人员充分地传达本发明的构思。附图中同样的附图标记表示同样的元件，因此将省略它们的描述。除非诸如“包括”、“具有”或“包含”的术语与术语“仅”一起使用，否则这些术语可以意图指示多个组件。诸如“第一”和“第二”的术语可以用于描述不同的组件，但是本发明不受这些术语限制。这些术语仅用来将一个组件与另一组件区分开。

图1是根据本发明的实施例的化学气相沉积装置100的正视图。图2是图1的化学气相沉积装置的部分A的放大正视图。图3是示出了图2的化学气相沉积装置100的所述部分的遮蔽框架140和护套（jacket）130的侧表面的侧视图。

参照图1至图3，在一些实施例中，化学气相沉积装置100包括在其中形成空间的室110。另外，在一些实施例中，化学气相沉积装置100包括用于放置基板S的支撑构件120。在一些实施例中，安装了加热器以向放置的基板S施加热。

此外，在一些实施例中，化学气相沉积装置100覆盖支撑构件120的外部，并包括护套130，护套130具有用于向基板S供应吹扫气体的吹扫气体供应开口131。在一些实施例中，在护套130的外侧的一部分距支撑构件120的外侧的一部分特定距离的位置处，形成吹扫气体供应开口131。此外，吹扫气体供应开口131可以被形成为从护套的底表面贯穿护套130。在下面更详细地描述的实施例中，为了便于解释，吹扫气体供应开口131被形成为穿过护套130。

上面的吹扫气体供应开口131可以连接到吹扫气体供应线。在一个实施例中，吹扫气体供应线沿着支撑构件120的内部弯曲，并通过支撑构件120的一部分连接到外部。

此外，护套130可以包括：吹扫气体供应单元134，吹扫气体供应开口131形成在吹扫气体供应单元134中；护套体单元或护套体135，连接到吹扫气体供应单元134，其中，护套体单元或护套体135的至少一部分支撑遮蔽框架140。

可以以多阶梯的方式形成上述护套130。具体地说，可以将吹扫气体供应单元134的厚度设置为与护套体单元或护套体135的厚度不同。具体地讲，可以将吹扫气体供应单元134的厚度形成为比护套体单元或护套体135的厚度小。

此外，护套130可以包括将从吹扫气体供应开口131供应到基板S的吹扫气体的一部分排放到外侧的排放单元132。在这些实施例中，排放单元132相对于护套130形成在不同的位置，以沿着从支撑构件120向护套130的外侧的方向排放吹扫气体的一部分，如上所述。

此外，排放单元132可以形成在不同的位置处。例如，排放单元132可以形成在护套130的外侧处。具体地，排放单元132可以形成在护套体单元或护套体135的其处遮蔽框架140接触护套130的外侧处。在一些实施例中，排放单元132被形成为贯穿护套130的孔。在下文中描述的实施例中，将集中对在护套130的外侧的一部分距支撑构件120的外侧的一部分特定距离的位置处形成吹扫气体供应开口131的实施例进行描述。

通过排放单元132排放的气体可以沿着从护套体单元或护套体135的接触遮蔽框架140的外侧向下的方向进入。另外，排放单元132可以沿着护套130在纵向方向上延伸。

在一个实施例中，排放单元132被形成为连接到由吹扫气体供应单元134的上侧、基板S的边界以及遮蔽框架140的下侧形成的空间V。

在另一实施例中，提供了多个排放单元132。在这些实施例中，以规则的间隔形成多个排放单元132。具体地讲，如上所述，如果存在多个排放单元132，则护套130可以邻近于排放单元132而包括支撑遮蔽框架140的一部分的支撑单元133。

多个排放单元132可以与多个吹扫气体供应开口131以各种形式布置。例如，每个排放单元132和每个吹扫气体供应开口131可以布置在一条直线上。在这个实施例中，每个排放单元132仅形成在护套体单元或护套体135上，使得每个排放单元132没有连接到吹扫气体供应开口131。另外，每个排放单元132可以形成在吹扫气体供应单元134和护套体单元或护套体135的外侧上，从而被连接到每个吹扫气体供应开口131。另外，每个排放单元132和每个吹扫气体供应开口131可以交替地形成。在一些实施例中，每个排放单元132仅形成在护套体单元或护套体135上。为了便于解释，下面的描述将集中于每个排放单元132和每个吹扫气体供应开口131交替地形成的实施例。

排放单元132和支撑单元133可以形成为具有不同的高度。例如，排放单元132的高度可以比支撑单元133的高度小。具体地讲，排放单元132可以从护套体单元或护套体135的外表面嵌入，支撑单元133可以从护套体单元或护套体135的外表面突出，或者支撑单元133可以以与形成护套体单元或护套体135的外表面的方式相同的方式形成。即，排放单元132和支撑单元133可以交替地形成，或者可以以特定的比例形成，以形成不均匀的结构。

在一个实施例中，排放单元132与支撑单元133之比为4:1或1:4。例如，如果排放单元132的宽度为4，则支撑单元133的宽度为1；如果排放单元132的宽度为1，则支撑单元133的宽度为4。

具体地讲，在排放单元132的宽度超过支撑单元133的宽度四倍的实施例中，支撑单元133可能变形，使得支撑单元133不能支撑遮蔽框架140，或者遮蔽框架140的位置偏离。

相反，在排放单元132的宽度比支撑单元133的宽度的1/4小的实施例中，排放单元132的尺寸可能太小而不能顺利地排放沉积气体或吹扫气体。

在排放单元132与支撑单元133之比为4:1或1:4的另一实施例中，所述比例包括排放单元132沿平行于基板S的侧表面的第一方向的直径与存在多个排放单元132的情况下两个相邻的排放单元132之间的最短距离之间的比例。例如，如果每个排放单元132的直径为4，则多个排放单元132中的两个相邻的排放单元132之间的最短距离可以为1；如果每个排放单元132的直径为1，则多个排放单元132中的两个相邻的排放单元132之间的最短距离可以为4。具体地讲，在每个排放单元132的直径超过多个排放单元132中的两个相邻的排放单元132之间的最短距离的四倍的实施例中，布置在多个排放单元132的相邻的排放单元132之间的支撑单元133可能变形，使得支撑单元133不能支撑遮蔽框架140，或者遮蔽框架140的位置偏离。相反，在每个排放单元132的直径比多个排放单元132中的两个相邻的排放单元132之间的最短距离的1/4小的实施例中，排放单元132的尺寸可能太小而不能顺利地排放沉积气体或吹扫气体。

在一些实施例中，排放单元132的深度或直径在护套130的厚度的大约20%和大约75%之间。在这些实施例中，如果排放单元132的深度或直径小于护套130的厚度的20%，则可能不能顺利地排放吹扫气体和沉积气体，并且不能确保基板S的沉积均匀性。此外，如果排放单元132的深度或直径超过护套130的厚度的75%，则护套130可能不能有效地支撑遮蔽框架140，使得遮蔽框架140的位置会偏离或者基板S会损坏。

在一些实施例中，化学气相沉积装置100包括接触护套130的遮蔽框架140，遮蔽框架140的至少一部分布置在基板S的上表面上。在这个实施例中，遮蔽框架140包括布置在基板S的上表面上的固定单元141。此外，遮蔽框架140可以包括从固定单元141弯曲的接触单元142。在这个实施例中，接触单元142在基板S的边界开始以规则的间隔布置，并接触护套130的一个表面。具体地，排放单元132可以连接到由吹扫气体供应单元134的上侧、基板S的边界以及遮蔽框架140的下侧形成的空间V，并且可以将吹扫气体排放到外侧。

化学气相沉积装置100可以包括将沉积气体喷射到基板S上或朝着基板S喷射沉积气体的喷头160,喷头160可以安装在室110内部。在这个实施例中，喷头160供应来自外部的沉积气体并将沉积气体喷射到基板S上或朝着基板S喷射沉积气体。

另外，化学气相沉积装置100可以允许基板插入到室110的内部中，其中，基板S可以稳固地布置在支撑构件120上。在这个实施例中，遮蔽框架140以规则的间隔与基板S分隔开。

在如上所述地布置基板S的实施例中，支撑构件120上升，使得基板S可以与遮蔽框架140接触。具体地，可以通过将固定单元141布置在基板S的上表面上以接触基板S来固定基板S。

在这些实施例中，通过喷头160将沉积气体供应到基板S，通过吹扫气体供应开口131从基板S的下表面供应吹扫气体。具体地讲，吹扫气体可以通过吹扫气体供应线从外部供应到吹扫气体供应开口131。在一个实施例中，二乙基锌（DEZ）和水蒸气（H2O）用作沉积气体，氩气（Ar）用作吹扫气体。然而，本发明的实施例的沉积气体和吹扫气体仅是示例，可以包括化学气相沉积方法中使用的任何合适的沉积气体和/或吹扫气体。

在分别供应沉积气体和吹扫气体的一些实施例中，吹扫气体防止沉积气体流到基板S的下表面。具体地，沉积气体可以从基板S的中心部分流动到边界部分，并且可以进入基板S和固定单元141之间的空间中。具体地讲，沉积气体会流入由吹扫气体供应单元134的上侧、基板S的边界以及遮蔽框架140的下侧形成的空间V中。另外，在一些实施例中，吹扫气体通过吹扫气体供应开口131流动到基板S的下表面和护套130的上表面之间的空间。在一些实施例中，吹扫气体流入由吹扫气体供应单元134的上侧、基板S的边界以及遮蔽框架140的下侧形成的空间V中。

在一些实施例中，沉积气体和吹扫气体根据两种气体之间的相互压强而平衡，沉积气体在由吹扫气体供应单元134的上侧、基板S的边界以及遮蔽框架140的下侧形成的空间V中维持这种相互压强状态。在这个实施例中，当沉积气体的浓度因储存在由吹扫气体供应单元134的上侧、基板S的边界以及遮蔽框架140的下侧形成的空间V中的沉积气体而在基板S的边界增加时，会执行不均匀的沉积。

另外，如果沉积气体的压强小于吹扫气体的压强，则吹扫气体会从由吹扫气体供应单元134的上侧、基板S的边界以及遮蔽框架140的下侧形成的空间V通过遮蔽框架140和基板S之间的空间被排放到室110的内部。在这个实施例中，如上所说明的，在基板S的边界部分的沉积被阻碍的位置，基板S的边界区域的沉积会变得不均匀。具体地讲，遮蔽框架140会因吹扫气体的压强而移动。

然而，在根据本发明的实施例的化学气相沉积装置100的情况下，通过将吹扫气体通过排放单元132排放到外侧，防止基板S的边界部分的不均匀沉积。

具体地，在一些实施例中，通过排放单元132将通过吹扫气体供应开口131供应的吹扫气体的一部分排放到室110的侧部。例如，如上所述，排放单元132可以通过将由吹扫气体供应单元134的上侧、基板S的边界以及遮蔽框架140的下侧形成的空间V与基板S的边界连接，将吹扫气体排放到护套130的外侧。

同样，在一个实施例中，通过排放单元132排出或排放的气体连接到由吹扫气体供应单元134的上侧、基板S的边界以及遮蔽框架140的下侧形成的空间V和吹扫气体供应开口131中的至少一个，并可以将吹扫气体引导到护套130的外侧。另外，排放单元132可以将沉积气体的一部分排放到护套130的外侧。

此外，在一些实施例中，当排放时，吹扫气体不流入到基板S和固定单元141之间的空间V中；并且，因此，沉积气体不需要流动到基板S的下表面。另外，可以恒定地维持在基板S的边界区域处的沉积气体均匀性。

具体地讲，在下面的对比示例中示出了实施例的没有设置排放单元132的对比示例，在下面的实验示例中示出了设置了排放单元132的实施例。在这些示例中，T表示沉积膜的厚度，单位是微米（μm）。Rs表示沉积膜的电阻，单位是Ω/sq。另外，水平数字和竖直数字分别表示基板S的x坐标和y坐标。此外，百分比值表示数据中的最大值和最小值之间的关系（%），并且可以使用下面的式子来获得：（最大值-最小值）/（最大值+最小值）乘以100。

对比示例

实验示例

如上所示，沉积膜的厚度的均匀性从8.2%改善到了3.7%，这说明最大值和最小值之间的差值减小，并且说明根据各个坐标的厚度的相似度更高。另外，根据各个坐标的沉积膜的电阻的均匀性从20.7%改善到9.8%。具体地讲，这说明：随着沉积膜的厚度在整个基板S上变得更均匀，沉积膜的均匀性提高。

因此，化学气相沉积装置100可以通过将吹扫气体排放到护套130的外侧，来防止吹扫气体移动到基板S的上表面或者储存在基板S的边界区域中，从而提高基板S的沉积均匀性。此外，化学气相沉积装置100可以通过将吹扫气体排放到护套130的侧部来促进吹扫气体的顺利排放。此外，化学气相沉积装置100可以通过将沉积气体排放到护套130的侧部来促进沉积气体的顺利排放。

化学气相沉积装置100可以包括抽吸单元150，抽吸单元150安装在室110外部，抽吸室110内部的气体并将气体排放到外部。在一些实施例中，抽吸单元150可以包括安装在室110的底表面处的抽吸管152和安装在抽吸管152中的真空泵151。可选择地，包括抽吸管152和真空泵151的抽吸单元150可以安装在室110的侧表面处。在一些实施例中，当抽吸单元150的抽吸管152工作时，吹扫气体因空间V和室110的内部之间的压差而通过排放单元132被排出。

在一个实施例中，化学气相沉积装置100将已经沿着空间V和遮蔽框架140之间的空间流入到基板S的边界区域中的沉积气体与吹扫气体一起沿着排放单元132排放到护套130的侧部。在这个实施例中，防止吹扫气体移动到基板S的上表面并防止吹扫气体到达基板的在基板接触支撑构件120的位置处的下表面。

图4是根据本发明的另一实施例的化学气相沉积装置的正视图。图5是图4的化学气相沉积装置的部分B的放大正视图。图6是示出了在图5中示出的化学气相沉积装置的所述部分的遮蔽框架和护套的侧表面的侧视图。

参照图4和图5，化学气相沉积装置200可以包括支撑构件220、护套230、遮蔽框架240和室210。支撑构件220、护套230、遮蔽框架240和室210与参照图1至图3说明的支撑构件120、护套130、遮蔽框架140和室110相似，因此这里将省略对其的详细描述。

此外，化学气相沉积装置200可以包括抽吸单元250，抽吸单元250安装在室210外部，抽吸室210内部的气体并将气体排放到外部。在一个实施例中，抽吸单元250包括安装在室210的侧表面处的抽吸管252和安装在抽吸管252中的真空泵251。

护套230可以包括排放单元232、支撑单元233、吹扫气体供应单元234和护套体单元或护套体235，如上面说明的。在一些实施例中，排放单元232将从吹扫气体供应开口231向基板S供应的吹扫气体的一部分排放到室210的侧表面处的抽吸单元250。具体地讲，如上所述，排放单元232可以形成在护套体单元或护套体235的外侧处，或者可以被形成为贯穿护套230的孔。然而，如果排放单元232形成在护套体单元或护套体235的外侧处，则排放单元232和支撑单元233将与上面参照图1至图3描述的那些相似，因此，这里将省略对其的详细描述。此外，为了便于说明，将集中在排放单元232被形成为贯穿护套230的孔的实施例上来详细描述排放单元232。

支撑单元233可以邻近于排放单元232。在一些实施例中，支撑单元233形成在通过接触遮蔽框架240而支撑遮蔽框架240的护套230内侧。

此外，排放单元232可以形成在吹扫气体供应单元234和护套体单元或护套体235内侧，从而连接到吹扫气体供应开口231。排放单元232可以形成在支撑单元233之间。具体地，可以有多个排放单元232，并且可以以规则的间隔形成。在一些实施例中，支撑单元233形成在排放单元232之间，使得排放单元232的形状不因遮蔽框架240的负荷或外力而变形。

此外，支撑单元233的宽度与排放单元232的直径之比在大约1:4和大约4:1之间。在这个实施例中，排放单元232的直径在护套230的厚度的大约20%和大约75%之间，如上面所描述的。

可以以与上面描述中的方式相似的方式来执行化学气相沉积装置200的操作。具体地，在将基板S放置在支撑构件220上之后，支撑构件220可以上升，或者遮蔽框架240可以下降，从而将基板S固定在支撑构件220处。

当完成该过程时，可以通过喷头260向基板S的上表面供应沉积气体。在这个实施例中，通过吹扫气体供应开口231向或朝着基板S的下表面喷射吹扫气体，如上所述。

同样，如果供应沉积气体和吹扫气体，则沉积气体可以在基板S的上表面上散布，并可以沉积在基板S上或者朝着基板S沉积。沉积气体可以流入基板S的边界区域中，如上所述。在这些实施例中，吹扫气体通过阻挡沉积气体可以防止基板S的下表面具有沉积在下表面处的沉积气体。

此外，如果吹扫气体如上所描述地流动，则基板S的边界区域的沉积均匀性如上所描述地因吹扫气体的流动而会出现问题。在一些实施例中，吹扫气体的对沉积均匀性造成问题的部分可以通过排放单元232被排放到护套230的外侧。具体地讲，吹扫气体可以通过排放单元232移动到抽吸单元250并移动到外部。

在一个实施例中，在室210内部的气体根据真空泵251的操作而流过抽吸管252的情况下，吹扫气体流过排放单元232。具体地讲，如上所述，排放单元232可以从基板S的边界形成在抽吸管252侧，使得吹扫气体可以根据真空泵251的操作通过排放单元232的内部流动到护套230的外侧。在一些实施例中，如上描述的，如果吹扫气体流动，则防止吹扫气体过量地流动到基板S的边界区域。

化学气相沉积装置200可以通过防止吹扫气体移动到基板S的上表面或者被储存在基板S的边界区域中来改善基板S的沉积均匀性。另外，化学气相沉积装置200可以通过将吹扫气体排放到护套230的侧表面来促进吹扫气体的顺利排放。

具体地讲，根据一个实施例，化学气相沉积装置200在吹扫气体与沉积气体混合之前将吹扫气体的一部分排放到护套230的侧部，从而防止因吹扫气体和沉积气体而在基板S的边界区域上形成过大的压强。另外，如果吹扫气体供应开口231的内部的压强因吹扫气体而增大，则吹扫气体可以通过排放单元232而被排放到外侧，从而使得因吹扫气体的高压强或供应中断而产生的临时震动减小。

此外，在完成沉积工艺之后，化学气相沉积装置200可以将基板S的边界区域中剩余的沉积气体和吹扫气体通过排放单元232排放到外侧，使得吹扫气体可以流入到基板S和遮蔽框架240之间的空间中，或者沉积气体可以流入到基板S和支撑构件220之间的空间中，从而防止对基板S的表面上的沉积均匀性造成损害。

图7是根据本发明的另一实施例的化学气相沉积装置的正视图。图8是图7的化学气相沉积装置的部分C的放大正视图。

参照图7和图8，化学气相沉积装置300可以包括支撑构件320、护套330、遮蔽框架340和室310。支撑构件320、护套330、遮蔽框架340和室310与参照图1至图3说明的支撑构件120、护套130、遮蔽框架140和室110相似，因此这里将省略对其的详细描述。

另外，化学气相沉积装置300可以包括抽吸单元350，抽吸单元350安装在室310外部，抽吸室310内部的气体并将气体排放到外部。在一些实施例中，抽吸单元350包括安装在室310的侧表面处的抽吸管352和安装在抽吸管352中的真空泵351。这里，抽吸单元350与参照图1至图6描述的抽吸单元150、250相似，因此这里省略了对其的详细描述。

护套330可以包括排放单元332、支撑单元、吹扫气体供应单元334以及护套体单元或护套体335，如上面说明的。在一些实施例中，排放单元332将储存在由基板S的边界和遮蔽框架340的下表面形成的空间V中的吹扫气体和沉积气体的一部分通过抽吸单元350排放到外侧。具体地讲，如上所描述的，排放单元332可以形成在护套体单元或护套体335的表面上，或者可以被形成为贯穿护套体单元或护套体335的孔。然而，如果排放单元332形成在护套体单元或护套体335的外侧，则排放单元332和支撑单元将与参照图1至图3描述的那些相似，因此在这里将省略对其的详细描述。此外，为了便于说明，将集中在排放单元332被形成为贯穿护套330的孔的情况上来详细地描述根据一个实施例的排放单元332。

支撑单元可以被形成为邻近于排放单元332。在一些实施例中，支撑单元形成在通过接触遮蔽框架340而支撑遮蔽框架340的护套330内侧。此外，排放单元332可以被形成为连接到由吹扫气体供应单元334的上表面、基板S的边界以及遮蔽框架340的下表面形成的空间V。具体地讲，排放单元332可以被形成为连接到在由吹扫气体供应单元334的上表面、基板S的边界以及遮蔽框架340的下表面形成的空间V内侧吹扫气体供应单元334的表面和护套体单元或护套体335的表面中的至少一个。

在一些实施例中，排放单元332的形状是在吹扫气体供应单元334的表面上具有入口并在护套体单元或护套体335的外侧处具有出口的孔。在其他实施例中，排放单元332的形状是在护套体单元或护套体335的侧部上具有入口并在护套体单元或护套体335的外侧处具有出口的孔。具体地讲，孔形的排放单元332可以是沿着护套体单元或护套体335的纵向方向的直线，以允许在由吹扫气体供应单元334的上侧、基板S的边界以及遮蔽框架340的下侧形成的空间V处的沉积气体和吹扫气体被引导到护套330的侧部。

此外，可以存在可以以规则的间隔形成的多个排放单元332。在这些实施例中，支撑单元形成在排放单元332之间，使得排放单元332的形状不因遮蔽框架340的负荷或外力而变形。

此外，支撑单元的宽度与排放单元332的直径之比可以在大约1：4和大约4：1之间。在一个实施例中，排放单元332的直径在护套330的厚度的大约20%和大约75%之间，如上所述。

此外，可以以与上面的描述中的方式相似的方式执行化学气相沉积装置300的操作。具体地，在基板S被放置在支撑构件320上之后，支撑构件320可以上升，或者遮蔽框架340可以下降，从而将基板S固定在支撑构件320处。

当完成该过程时，可以通过喷头360向基板S的上表面供应沉积气体。在一个实施例中，通过吹扫气体供应开口331向基板S的下表面喷射吹扫气体，如上所述。

同样，如果供应沉积气体和吹扫气体，则沉积气体可以在基板S的上表面上散布，并可以沉积在基板S上或者朝着基板S沉积。沉积气体可以流入基板S的边界区域中，如上所述。在这些实施例中，吹扫气体通过阻挡沉积气体来防止基板S的下表面被沉积。

此外，如果吹扫气体如上所述地流动，则基板S的边界区域的沉积均匀性如上所描述地因吹扫气体的流动而会出现问题。在一些实施例中，空间V中的吹扫气体的对沉积均匀性造成问题的部分和沉积气体通过排放单元332被排放到护套330的外侧，其中，空间V由吹扫气体供应单元334的上表面、基板S的边界和遮蔽框架340形成。具体地讲，吹扫气体可以通过排放单元332移动到抽吸单元350并移动到外部。

在室310内部的气体根据真空泵351的操作而流过抽吸管352的一个实施例中，吹扫气体流过排放单元332。具体地讲，如上所述，排放单元332可以形成在由吹扫气体供应单元334的上表面、基板S的边界和遮蔽框架340形成的空间V处以到抽吸管352，使得吹扫气体可以根据真空泵351的操作通过排放单元332的内部流动到护套330的外侧。在一些实施例中，如上所述，如果吹扫气体流动，则防止吹扫气体过量地流动到基板S的边界区域。

因此，化学气相沉积装置300可以通过防止吹扫气体移动到基板S的上表面或者被储存在基板S的边界区域中来改善基板S的沉积均匀性。另外，化学气相沉积装置300可以通过将吹扫气体排放到护套330的侧表面来促进吹扫气体的顺利排放。

此外，在一个实施例中，化学气相沉积装置300在完成沉积工艺之后将剩余在基板S的边界区域上的吹扫气体通过排放单元332排放到外侧，从而吹扫气体流入基板S和遮蔽框架340之间的空间V中，以防止对基板S的表面上的沉积均匀性造成损害。

尽管已经参照上面提到的实施例描述了本发明，但是在本发明的范围内可以以各种方式对本发明进行修改。因此，在本发明的范围内，权利要求可以包括这样的修改。

附图标记的描述

100、200、300：化学气相沉积装置

110、210、310：室

120、220、320：支撑构件

130、230、330：护套

131、231、331：吹扫气体供应开口

132、232、332：排放单元

133、233：支撑单元

134、234、334：吹扫气体供应单元

135、235、335：护套体单元或护套体

140、240、340：遮蔽框架

141、241、341：固定单元

142、242、342：接触单元

150、250、350：抽吸单元

151、251、351：真空泵

152、252、352：抽吸管

160、260、360：喷头

Claims (24)

1.一种化学气相沉积装置，所述化学气相沉积装置包括：

支撑构件，被构造成支撑基板的下表面；

遮蔽框架，被构造成覆盖基板的上表面的边缘部分；以及

护套，具有吹扫气体供应开口，吹扫气体供应开口被构造成供应吹扫气体，使得吹扫气体从位于基板的下表面下方的位置离开吹扫气体供应开口，护套邻近于遮蔽框架的一部分并被构造成覆盖基板的下表面的一部分，

其中，排放单元设置在护套中，或者排放单元位于护套和遮蔽框架之间。

2.如权利要求1所述的化学气相沉积装置，其中，排放单元被构造成沿着与基板的下表面平行的方向排放吹扫气体的至少一部分。

3.如权利要求1所述的化学气相沉积装置，所述化学气相沉积装置还包括容纳支撑构件、遮蔽框架和护套的室。

4.如权利要求1所述的化学气相沉积装置，其中，吹扫气体供应开口穿过护套延伸。

5.如权利要求1所述的化学气相沉积装置，其中，护套包括：

吹扫气体供应单元，与吹扫气体供应开口结合；以及

护套体，结合到吹扫气体供应单元。

6.如权利要求5所述的化学气相沉积装置，其中，吹扫气体供应单元具有第一厚度，护套体具有与第一厚度不同的第二厚度。

7.如权利要求6所述的化学气相沉积装置，其中，第一厚度小于第二厚度。

8.如权利要求6所述的化学气相沉积装置，其中，在遮蔽框架和吹扫气体供应单元之间存在空间，所述空间结合到排放单元。

9.如权利要求1所述的化学气相沉积装置，其中，吹扫气体供应开口被构造成向基板的下表面供应吹扫气体，排放单元被构造成将从吹扫气体供应开口供应的吹扫气体的至少一部分排放到护套的外侧。

10.如权利要求9所述的化学气相沉积装置，其中，排放单元被构造成通过将吹扫气体的过量部分排放到护套的外侧来防止吹扫气体朝着基板的上表面供应。

11.如权利要求9所述的化学气相沉积装置，所述化学气相沉积装置还包括被构造成朝着基板的上表面喷射沉积气体的喷头。

12.如权利要求11所述的化学气相沉积装置，其中，排放单元被构造成将从吹扫气体供应开口供应的一部分吹扫气体和从喷头供应的一部分沉积气体排放到护套的外侧。

13.如权利要求1所述的化学气相沉积装置，其中，排放单元位于遮蔽框架和护套之间。

14.如权利要求13所述的化学气相沉积装置，其中，遮蔽框架包括固定单元和接触单元，其中，固定单元邻近于并接触基板的上表面的边缘部分，接触单元邻近于排放单元，其中，遮蔽框架被构造成将基板固定在遮蔽框架和支撑构件之间。

15.如权利要求1所述的化学气相沉积装置，其中，排放单元包括多个排放单元，护套还包括位于所述多个排放单元中的两个相邻的排放单元之间的支撑单元，其中，护套的一部分以每个支撑单元与遮蔽框架的一部分接触。

16.如权利要求15所述的化学气相沉积装置，其中，排放单元的深度为护套的厚度的20%至75%。

17.如权利要求15所述的化学气相沉积装置，其中，排放单元的直径为护套的厚度的20%至75%。

18.如权利要求15所述的化学气相沉积装置，其中，排放单元的沿着与基板的侧表面平行的第一方向的第一宽度与支撑单元的沿着第一方向的第二宽度不同。

19.如权利要求18所述的化学气相沉积装置，其中，第一宽度与第二宽度之比在0.25和4之间。

20.如权利要求15所述的化学气相沉积装置，其中，排放单元的沿着与基板的侧表面平行的第一方向的直径与所述多个排放单元中的两个相邻的排放单元之间沿着第一方向的最短距离不同，其中，排放单元的直径与所述多个排放单元中的两个相邻的排放单元之间的最短距离之比在0.25和4之间。

21.一种化学气相沉积装置，所述化学气相沉积装置包括：

室，所述室容纳：

支撑构件，被构造成支撑基板的下表面；

遮蔽框架，被构造成覆盖基板的上表面的边缘部分；以及

护套，具有吹扫气体供应开口，吹扫气体供应开口被构造成供应吹扫气体，使得吹扫气体从位于基板的下表面下方的位置离开吹扫气体供应开口，护套邻近于遮蔽框架的一部分并被构造成覆盖基板的下表面的一部分，

其中，排放单元设置在护套中，或者排放单元位于护套和遮蔽框架之间；以及

抽吸单元，与室结合并被构造成从室抽吸气体。

22.如权利要求21所述的化学气相沉积装置，其中，抽吸单元包括：

抽吸管，与室结合；以及

真空泵，与抽吸管结合。

23.如权利要求21所述的化学气相沉积装置，其中，通过抽吸单元，吹扫气体的一部分经过排放单元排放到室的外部。

24.如权利要求21所述的化学气相沉积装置，其中，通过抽吸单元，吹扫气体的一部分和沉积气体的一部分经过排放单元排放到室的外部。