CN212247183U - 一种线性坩埚 - Google Patents

Abstract

本实用新型涉及蒸镀技术领域，特别涉及一种线性坩埚，通过在坩埚上盖设置一字形的喷射口，使得蒸镀材料在从坩埚本体蒸发出来的蒸汽分散的更加均匀，提高蒸镀的均匀性；通过将坩埚本体的侧壁向坩埚本体底部的中心倾斜，由于坩埚本体侧壁的倾斜设置，使得坩埚本体内腔的蒸镀材料在剩余量不多的情况下还能在坩埚本体底部均匀分布，从而提高线性坩埚蒸镀的均匀性；本方案设计的线性坩埚能够扩大坩埚的加料周期、提升材料利用率和节约材料成本。

Description

一种线性坩埚

技术领域

本实用新型涉及蒸镀技术领域，特别涉及一种线性坩埚。

背景技术

蒸镀工艺是有源矩阵有机发光二极体(Active-matrix Organic Light EmittingDiode，简称为AMOLED)制作过程的一项重要工艺，有机材料通过加热熔融蒸发镀到玻璃表面上。现有的坩埚在有机材料剩余量不多，材料不能十分均匀地分布在坩埚底部，会造成坩埚不同区域的蒸汽量有差异性，最终导致镀到玻璃上的膜厚不均匀，影响镀膜的品质；另外，蒸镀出来的蒸汽存在重叠和边缘不整齐现象，也会导致蒸镀到玻璃上的膜厚不均匀。

实用新型内容

为了克服上述现有技术的缺陷，本实用新型所要解决的技术问题是：提供一种能够提高蒸镀均匀性的线性坩埚。

为了解决上述技术问题，本实用新型采用的技术方案为：

一种线性坩埚，包括上端具有开口的坩埚本体和盖设在所述开口处的坩埚上盖，所述坩埚上盖设有供坩埚本体内的喷射物向外喷射的喷嘴，所述喷嘴的喷射口为一字形喷射口，所述坩埚本体的侧壁向坩埚本体底部的中心倾斜。

进一步的，所述坩埚本体的相对两侧壁均向坩埚本体底部的中心倾斜，所述坩埚本体的竖直截面形状为等腰梯形。

进一步的，所述坩埚本体的相对两侧壁均向坩埚本体底部的中心倾斜，所述坩埚本体的竖直截面形状为等腰三角形。

进一步的，所述坩埚本体的相对两侧壁均向坩埚本体底部的中心倾斜，所述坩埚本体底部的竖直截面为圆弧形。

进一步的，所述一字形喷射口的宽度为5mm-15mm。

进一步的，沿所述喷嘴的进口端至出口端方向，所述喷嘴内部的喷射通道的宽度依次变窄。

本实用新型的有益效果在于：

通过在坩埚上盖设置一字形的喷射口，使得蒸镀材料在从坩埚本体蒸发出来的蒸汽分散的更加均匀，提高蒸镀的均匀性；通过将坩埚本体的侧壁向坩埚本体底部的中心倾斜，由于坩埚本体侧壁的倾斜设置，使得坩埚本体内腔的蒸镀材料在剩余量不多的情况下还能在坩埚本体底部均匀分布，从而提高线性坩埚蒸镀的均匀性；本方案设计的线性坩埚能够扩大坩埚的加料周期、提升材料利用率和节约材料成本。

附图说明

图1所示为根据本实用新型的一种线性坩埚的结构示意图；

图2所示为根据本实用新型的一种线性坩埚的坩埚本体的结构示意图；

图3所示为根据本实用新型的一种线性坩埚的坩埚本体的结构示意图；

图4所示为根据本实用新型的一种线性坩埚的坩埚本体的结构示意图；

标号说明：

1、坩埚本体；

2、坩埚上盖；201、喷射口。

具体实施方式

为详细说明本实用新型的技术内容、所实现目的及效果，以下结合实施方式并配合附图予以说明。

请参照图1所示，本实用新型提供的技术方案：

一种线性坩埚，包括上端具有开口的坩埚本体和盖设在所述开口处的坩埚上盖，所述坩埚上盖设有供坩埚本体内的喷射物向外喷射的喷嘴，所述喷嘴的喷射口为一字形喷射口，所述坩埚本体的侧壁向坩埚本体底部的中心倾斜。

从上述描述可知，本实用新型的有益效果在于：

通过在坩埚上盖设置一字形的喷射口，使得蒸镀材料在从坩埚本体蒸发出来的蒸汽分散的更加均匀，提高蒸镀的均匀性；通过将坩埚本体的侧壁向坩埚本体底部的中心倾斜，由于坩埚本体侧壁的倾斜设置，使得坩埚本体内腔的蒸镀材料在剩余量不多的情况下还能在坩埚本体底部均匀分布，从而提高线性坩埚蒸镀的均匀性；本方案设计的线性坩埚能够扩大坩埚的加料周期、提升材料利用率和节约材料成本。

进一步的，所述坩埚本体的相对两侧壁均向坩埚本体底部的中心倾斜，所述坩埚本体的竖直截面形状为等腰梯形。

从上述描述可知，坩埚本体的相对两侧壁均向坩埚本体底部的中心倾斜,在蒸镀过程中坩埚本体内腔的蒸镀物逐渐减少时由于倾斜的侧壁会使得蒸镀材料向坩埚本体底部的中心汇聚，这样在坩埚本体内腔的蒸镀材料在蒸镀过程中会一直保持均匀分布，进一步提高线性坩埚蒸镀的均匀性。

进一步的，所述坩埚本体的相对两侧壁均向坩埚本体底部的中心倾斜，所述坩埚本体的竖直截面形状为等腰三角形。

从上述描述可知，在坩埚本体的竖直截面形状为等腰三角形时，底部平坦，给坩埚本体加热的加热丝可以从侧边和底部加热，热均一性更好。

进一步的，所述坩埚本体的相对两侧壁均向坩埚本体底部的中心倾斜，所述坩埚本体底部的竖直截面为圆弧形。

从上述描述可知，通过设置上述结构，能够使得材料回收更容易挖取，坩埚本体清洗时也不容易造成材料残留问题。

进一步的，所述一字形喷射口的宽度为5mm-15mm。

进一步的，沿所述喷嘴的进口端至出口端方向，所述喷嘴内部的喷射通道的宽度依次变窄。

从上述描述可知，采用这样的设计，可以减小蒸镀材料在喷射通道内的附着力，进而可以减少蒸镀材料在喷射通道内的沉积，有利于提高蒸镀效果和提高蒸镀的均匀性，从而提升制程稳定性，提升产品品质。

请参照图1至图4所示，本实用新型的实施例一为：

请参照图1，一种线性坩埚，包括上端具有开口的坩埚本体1和盖设在所述开口处的坩埚上盖2，所述坩埚上盖2设有供坩埚本体1内的喷射物向外喷射的喷嘴，所述喷嘴的喷射口201为一字形喷射口201，所述坩埚本体1的侧壁向坩埚本体1底部的中心倾斜。

所述一字形喷射口201的数量为一个，能够避免蒸镀出来的蒸汽不会存在重叠和边缘不整齐的现象。

请参照图2，所述坩埚本体1的相对两侧壁均向坩埚本体1底部的中心倾斜，当坩埚本体1的相对两侧壁均向坩埚本体1底部的中心倾斜的角度相同时，所述坩埚本体1的竖直截面形状为等腰梯形。

若所述坩埚本体1的相对两侧壁中的一个侧壁向坩埚本体1底部的中心倾斜，另一个侧壁不作倾斜设计，则所述坩埚本体1的竖直截面形状为直角三角形。

所述一字形喷射口201的宽度为5mm-15mm，优选为13.25mm。

沿所述喷嘴的进口端至出口端方向，所述喷嘴内部的喷射通道的宽度依次变窄，采用这样的设计，可以减小蒸镀材料在喷射通道内的附着力，进而可以减少蒸镀材料在喷射通道内的沉积，有利于提高蒸镀效果和提高蒸镀的均匀性，从而提升制程稳定性，提升产品品质。

在本方案中还可以设计挡片，将挡片设置在喷嘴的出口端位置，挡片上设有若干个通孔，通过设置挡片来调整喷射口201蒸镀材料的喷出量，有利于提高蒸镀的均匀性。

请参照图3所示，本实用新型的实施例二为：

实施例二与实施例一的区别在于：所述坩埚本体1的相对两侧壁均向坩埚本体1底部的中心倾斜，当坩埚本体1的相对两侧壁均向坩埚本体1底部的中心倾斜的角度相同时，所述坩埚本体1的竖直截面形状为等腰三角形。

若所述坩埚本体1的相对两侧壁中的一个侧壁向坩埚本体1底部的中心倾斜，另一个侧壁不作倾斜设计，则所述坩埚本体1的竖直截面形状为直角三角形。

请参照图4所示，本实用新型的实施例三为：

实施例三与实施例一的区别在于：所述坩埚本体1的相对两侧壁均向坩埚本体1底部的中心倾斜，所述坩埚本体1底部的竖直截面为圆弧形。

综上所述，本实用新型提供的一种线性坩埚，通过在坩埚上盖设置一字形的喷射口，使得蒸镀材料在从坩埚本体蒸发出来的蒸汽分散的更加均匀，提高蒸镀的均匀性；通过将坩埚本体的侧壁向坩埚本体底部的中心倾斜，由于坩埚本体侧壁的倾斜设置，使得坩埚本体内腔的蒸镀材料在剩余量不多的情况下还能在坩埚本体底部均匀分布，从而提高线性坩埚蒸镀的均匀性；本方案设计的线性坩埚能够扩大坩埚的加料周期、提升材料利用率和节约材料成本。

以上所述仅为本实用新型的实施例，并非因此限制本实用新型的专利范围，凡是利用本实用新型说明书及附图内容所作的等同变换，或直接或间接运用在相关的技术领域，均同理包括在本实用新型的专利保护范围内。

Claims (6)

1.一种线性坩埚，其特征在于，包括上端具有开口的坩埚本体和盖设在所述开口处的坩埚上盖，所述坩埚上盖设有供坩埚本体内的喷射物向外喷射的喷嘴，所述喷嘴的喷射口为一字形喷射口，所述坩埚本体的侧壁向坩埚本体底部的中心倾斜。

2.根据权利要求1所述的线性坩埚，其特征在于，所述坩埚本体的相对两侧壁均向坩埚本体底部的中心倾斜，所述坩埚本体的竖直截面形状为等腰梯形。

3.根据权利要求1所述的线性坩埚，其特征在于，所述坩埚本体的相对两侧壁均向坩埚本体底部的中心倾斜，所述坩埚本体的竖直截面形状为等腰三角形。

4.根据权利要求1所述的线性坩埚，其特征在于，所述坩埚本体的相对两侧壁均向坩埚本体底部的中心倾斜，所述坩埚本体底部的竖直截面为圆弧形。

5.根据权利要求1所述的线性坩埚，其特征在于，所述一字形喷射口的宽度为5mm-15mm。

6.根据权利要求1所述的线性坩埚，其特征在于，沿所述喷嘴的进口端至出口端方向，所述喷嘴内部的喷射通道的宽度依次变窄。

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