KR101711478B1

KR101711478B1 - 플럭스 오염물 세척장치

Info

Publication number: KR101711478B1
Application number: KR1020100064875A
Authority: KR
Inventors: 김종규
Original assignee: 삼성전자 주식회사
Priority date: 2010-07-06
Filing date: 2010-07-06
Publication date: 2017-03-03
Also published as: US20120006364A1; JP2012016699A; US9555449B2; KR20120004161A; US20150258579A1

Abstract

본 발명은 플럭스 오염물 세척장치에 관한 것으로서, 본 발명의 플럭스 오염물 세척장치는, 본체; 상기 본체에 설치되고, 플럭스 오염물이 거치되는 거치대; 상기 본체에 설치되고, 상기 플럭스 오염물에 잔류하는 플럭스 등의 이물질을 제거할 수 있도록 상기 거치대에 거치된 플럭스 오염물 방향으로 스팀(steam)을 분사하는 적어도 하나 이상의 스팀 분사 노즐; 및 상기 본체에 설치되고, 상기 스팀 분사 노즐로 스팀을 공급하는 스팀 공급장치;를 포함하여 이루어지는 것을 특징으로 하기 때문에 플럭스에 의해 오염된 플럭스 툴이나 어태치 툴 등의 플럭스 오염물을 순간적으로 빠르고, 정확하게 세척할 수 있고, 수분이 침투로 인한 플럭스 툴이나 어태치 툴 등의 변형을 방지하여 수율을 크게 향상시킬 수 있는 효과를 갖는다.

Description

플럭스 오염물 세척장치{Flux cleaning apparatus}

본 발명은 플럭스 오염물 세척장치에 관한 것으로서, 더욱 상세하게는, 순간적인 세정 후 즉시 증발하는 스팀의 특성을 이용하여 플럭스에 의해 오염된 플럭스 툴이나 어태치 툴 등의 플럭스 오염물을 순간적으로 빠르고, 정확하게 세척할 수 있고, 수분이 침투로 인한 플럭스 툴이나 어태치 툴 등의 변형을 방지하여 수율을 크게 향상시킬 수 있게 하는 플럭스 오염물 세척장치에 관한 것이다.

일반적으로 반도체 공정에서 와이어나 솔더볼 등의 본딩시, 본딩의 접착력을 향상시킬 수 있도록 기판의 패드 등에 플럭스를 도포하는 플럭스 도포 작업이 필요하다.

이러한, 기판의 패드 위에 플럭스를 도포하는 플럭스 도포 공정은, 몸체에 다수개의 플럭스 핀(flux pin)이 설치되는 플럭스 툴(flux tool)을 이용하여 상기 플럭스 핀의 끝단에 플럭스를 바르고, 상기 플럭스 툴을 기판의 패드에 접촉시켜서 상기 플럭스 핀의 끝단에 방울진 플럭스를 상기 기판의 패드 위에 떨어뜨리는 플럭스 도팅(flux dotting) 과정 등으로 이루어진다.

또한, 플럭스 도팅 과정에 이어서, 진공홀로 솔더볼을 흡착한 어태치 툴(attach tool)을 이용하여 플럭스가 도팅된 기판의 패드 위에 상기 솔더볼을 올려놓은 솔더볼 어태칭(solder ball attaching) 과정 등이 연달아 이루어진다.

이러한, 상기 플럭스 도팅 과정을 마친 플럭스 툴이나 솔더볼 어태칭 과정을 마친 어태치 툴 등의 장치들에 잔류하는 플럭스를 제거하기 위하여 종래에는, 고온의 세척수에 플럭스 핀 등을 담구어 수중 세척하거나 세척수에 초음파를 인가하여 플럭스를 수중 분해시키는 세척장치들이 널리 사용되었다.

그러나, 이러한 세척수를 이용하는 방식의 세척장치들은, 수중 세척의 특성상, 플럭스가 수중 분해되는 데에 시간이 많이 소요되고, 세척 후, 플럭스 툴이나 어태치 툴에 잔류하는 세척수를 건조시키는 건조시간 및 쿨링 시간이 역시 많이 소요되어 세척 비용과 세척 시간이 크게 낭비되는 문제점이 있었다.

또한, 모세관 현상이 발생되어 미세한 규격의 플럭스 핀을 따라 다량의 세척수가 플럭스 툴 내부로 침투되어 부품에 녹이 쓸게 하는 등 플럭스 핀의 위치가 변형되어 플럭스 도팅시 기판의 패드 위에 부분적으로 플럭스가 도팅되지 않거나 정위치에서 벗어난 위치에 플럭스가 잘 못 도팅되는 등 후속 공정에 악영향을 주어 수율을 크게 떨어뜨리는 문제점이 있었다.

상기와 같은 문제점을 해결하기 위한 본 발명의 목적은, 순간적인 세정 후 즉시 증발하는 고온 고압의 스팀 특성을 이용하여 플럭스에 의해 오염된 플럭스 툴이나 어태치 툴 등의 플럭스 오염물을 순간적으로 빠르고, 정확하게 세척함으로써 세척 시간은 물론, 건조 시간 및 쿨링 시간을 획기적으로 단축시킬 수 있게 하는 플럭스 오염물 세척장치를 제공함에 있다.

또한, 본 발명의 다른 목적은, 에어커튼 형성장치나 양압 형성장치를 이용하여 플럭스 툴이나 어태치 툴 내부로 수분이 유입되는 것을 방지함으로써 공정의 신뢰도 및 수율을 크게 향상시킬 수 있게 하는 플럭스 오염물 세척장치를 제공함에 있다.

상기 목적을 달성하기 위한 본 발명의 플럭스 오염물 세척장치는, 본체; 상기 본체에 설치되고, 플럭스 오염물이 거치되는 거치대; 상기 본체에 설치되고, 상기 플럭스 오염물에 잔류하는 플럭스 등의 이물질을 제거할 수 있도록 상기 거치대에 거치된 플럭스 오염물 방향으로 스팀(steam)을 분사하는 적어도 하나 이상의 스팀 분사 노즐; 및 상기 본체에 설치되고, 상기 스팀 분사 노즐로 스팀을 공급하는 스팀 공급장치;를 포함하여 이루어지는 것을 특징으로 한다.

또한, 본 발명에 따르면, 상기 스팀 분사 노즐은, 분사 각도가 조정되도록 노즐 회전축에 설치되는 것이 가능하다.

또한, 본 발명에 따르면, 상기 노즐 회전축은, 사용자의 조작이 가능하도록 일측에 회전 노브가 설치되는 것이 가능하다.

또한, 본 발명에 따르면, 상기 노즐 회전축은, 명령입력장치에 의해 입력된 명령에 따라 제어부의 제어 신호에 의해 상기 노즐 회전축을 회전시키는 모터가 설치될 수 있다.

또한, 본 발명의 플럭스 오염물 세척장치는, 상기 스팀 분사 노즐이 상기 플럭스 오염물의 표면을 따라 전후진이 가능하도록 상기 스팀 분사 노즐을 전후진시키는 전후진장치;를 더 포함하여 이루어지는 것이 가능하다.

또한, 본 발명에 따르면, 상기 전후진장치는, 상기 스팀 분사 노즐이 설치된 가동대; 상기 가동대의 이송경로를 안내하는 가이드부재; 상기 본체에 설치되고, 상기 가동대를 전후진시키는 액츄에이터; 및 명령입력장치에 의해 입력된 명령에 따라 상기 액츄에이터에 제어 신호를 인가하는 제어부;를 포함하여 이루어질 수 있다.

또한, 본 발명에 따르면, 상기 플럭스 오염물은, 내부에 유동 공간이 형성되는 몸체; 상기 유동 공간에 수용되는 백 플레이트(back plate); 일단부가 상기 백 플레이트에 설치되고, 타단부가 상기 몸체의 핀홀을 통해 외부로 노출되는 플럭스 핀; 및 상기 플럭스 핀을 전진시키는 방향으로 복원력이 작용하도록 상기 백 플레이트와 몸체 사이에 설치되는 탄성 스프링;을 포함하여 이루어지는 플럭스 툴(flux tool)인 것이 바람직하다.

또한, 본 발명의 플럭스 오염물 세척장치는, 상기 플럭스 툴의 몸체 내부의 유동 공간으로 스팀이 침투하는 것을 방지할 수 있도록 상기 유동 공간에 양압을 형성하는 양압 형성장치;를 더 포함하여 이루어지는 것이 가능하다.

또한, 본 발명의 플럭스 오염물 세척장치는, 상기 플럭스 핀 방향으로 분사되는 스팀이 상기 플럭스 오염물의 몸체까지 도달되는 것을 차단할 수 있도록 상기 플럭스 핀과 몸체 사이에 에어커튼을 형성하는 에어커튼 형성장치;를 더 포함하여 이루어지는 것이 가능하다.

이상에서와 같이 본 발명의 플럭스 오염물 세척장치에 의하면, 고온 고압의 스팀 특성을 이용하여 세척 시간은 물론, 건조 시간 및 쿨링 시간을 획기적으로 단축시키고, 세척 비용을 절감하며, 생산성을 크게 향상시킬 수 있고, 공정의 신뢰도 및 수율을 크게 향상시킬 수 있는 효과를 갖는 것이다.

도 1은 본 발명의 바람직한 일 실시예에 따른 플럭스 오염물 세척장치를 나타내는 개념도이다.
도 2는 도 1의 플럭스 오염물 세척장치의 플럭스 툴 세척 상태를 나타내는 확대도이다.
도 3은 본 발명의 바람직한 다른 실시예에 따른 플럭스 오염물 세척장치의 외관을 나타내는 전방 사시도이다.
도 4는 도 3의 후방 사시도이다.
도 5는 도 3의 플럭스 오염물의 거치 상태를 나타내는 부분 절개 사시도이다.
도 6은 도 5의 스팀 분사 노즐의 스팀 분사 상태를 나타내는 확대 사시도이다.
도 7은 도 5의 평면도이다.
도 8은 도 5의 측면도이다.
도 9는 도 5의 후면도이다.

이하, 본 발명의 바람직한 여러 실시예에 따른 플럭스 오염물 세척장치를 도면을 참조하여 상세히 설명한다. 본 발명의 실시예들은 첨부도면에 도시된 바에 국한되지 않고, 동일한 발명의 범주내에서 다양하게 변형될 수 있음을 밝혀둔다.

도 1은 본 발명의 바람직한 일 실시예에 따른 플럭스 오염물 세척장치를 나타내는 개념도이고, 도 2는 도 1의 플럭스 오염물 세척장치의 플럭스 툴 세척 상태를 나타내는 확대도이다.

먼저, 도 1 및 도 2에 도시된 바와 같이, 본 발명의 바람직한 일 실시예에 따른 플럭스 오염물 세척장치는, 크게 본체(10)와, 거치대(20)와, 스팀 분사 노즐(30)과, 스팀 공급장치(40)와, 전후진장치(50)와, 배수받이(60)와, 에어커튼 형성장치(70)와, 양압 형성장치(80) 및 배기장치(90)를 포함하여 이루어지는 구성이 가능하다.

여기서, 상기 본체(10)는, 장치의 외관을 형성하는 동시에 상술된 거치대(20)와, 스팀 분사 노즐(30)과, 스팀 공급장치(40)와, 전후진장치(50)와, 배수받이(60)와, 에어커튼 형성장치(70)와, 양압 형성장치(80) 및 배기장치(90) 등 각종 장치들을 지지하는 구조물로서, 그 내부에 상기 거치대(20) 및 스팀 분사 노즐(30)을 수용할 수 있도록 내부 수용 공간이 형성되는 세척실(R)이 설치되는 것이다.

도 3은 본 발명의 바람직한 다른 실시예에 따른 플럭스 오염물 세척장치의 외관을 나타내는 전방 사시도이고, 도 4는 도 3의 후방 사시도이다.

도 3 및 도 4에 도시된 바와 같이, 이러한 상기 세척실(R)은, 상기 세척실(R)의 외부로 스팀이 누출되지 않도록 각종 패킹부재를 이용하여 밀폐될 수 있는 구성으로서, 상부에 상기 플럭스 오염물(1)의 유출입이 가능하도록 손잡이(11)가 달린 뚜껑(12)이 설치되는 것이 바람직하다.

따라서, 도 3 및 도 4에 도시된 바와 같이, 사용자는 상기 손잡이(11)를 잡고 상기 뚜껑(12)을 들어 올린 후, 플럭스(F)로 오염된 플럭스 오염물(1)을 상기 세척실(R) 내부의 거치대(20)에 거치시킨 다음, 다시 상기 뚜껑(12)을 닫아 상기 세척실(R)을 밀폐시킬 수 있는 것이다.

또한, 도 3에 도시된 바와 같이, 이러한 상기 세척실(R)은, 측면에 사용자의 내부 관찰이 가능하도록 투명창(13)이 설치되어 사용자가 상기 세척실(R) 내부의 세척 상태를 육안으로 확인할 수 있는 것도 가능하다.

이외에도, 도시하지는 않았지만, 상기 세척실(R) 내부 상태 및 상기 플럭스 오염물(1)의 세척의 상태를 별도의 모니터를 통해 확인할 수 있도록 별도의 카메라가 설치되는 것도 가능하다.

한편, 도 1 및 도 2에 도시된 바와 같이, 상기 거치대(20)는, 상기 본체(10)의 세척실(R) 내부에 설치되는 것으로서, 후술될 플럭스 툴(flux tool)이나 기타 어태치 툴(attach tool) 등 플럭스에 의해 오염된 플럭스 오염물(1)이 거치되는 것이다.

여기서, 상기 거치대(20)는, 상기 플럭스 오염물(1)의 측면을 잡아 고정하는 클램프(21)가 설치될 수 있다.

따라서, 상기 플럭스 오염물(1)은 상기 거치대(20)에 거치된 후, 상기 클램프(21)에 의해, 세척 과정 동안, 상기 거치대(20)에서 흔들리지 않고 견고하게 고정될 수 있는 것이다.

여기서, 이러한 상기 클램프(21)는 상기 플럭스 오염물(1)의 좌우측에 모두 설치되는 것도 가능하고, 상기 플럭스 오염물(1)을 잡아 고정시킬 수 있는 다양한 형태의 모든 클램프가 적용될 수 있는 것이다.

한편, 상기 스팀 분사 노즐(30)은, 상기 본체(10)의 세척실(R) 내부에 적어도 하나 이상 설치되는 것으로서, 상기 플럭스 오염물(1)에 잔류하는 플럭스(F) 등의 이물질(7)을 제거할 수 있도록 상기 거치대(20)에 거치된 플럭스 오염물(1) 방향으로, 순간적인 세정 후 즉시 증발할 수 있는 고온 고압의 스팀(S)(steam)을 분사하는 것이다.

여기서, 도 1 및 도 2에 도시된 바와 같이, 상기 스팀 분사 노즐(30)은, 분사 각도가 조정되도록 회전이 자유로운 가능한 노즐 회전축(31)에 설치되고, 사용자의 조작이 가능하도록 상기 노즐 회전축(31)의 일측에 회전 노브(32)가 설치될 수 있는 것이다.

즉, 사용자는 상기 플럭스 오염물(1) 방향으로 분사되는 스팀(S)의 각도를 수동으로 조정하여 최적의 각도(예를 들어, 수평으로부터 40도 내지 90도 각도)로 세척이 이루어질 수 있게 하는 것이 가능하다.

또한, 도 1에 도시된 바와 같이, 상기 노즐 회전축(31)은, 명령입력장치(35)에 의해 입력된 명령에 따라 제어부(34)의 제어 신호에 의해 상기 노즐 회전축(31)을 회전시키는 모터(33)가 설치될 수 있는 것이다.

따라서, 사용자는 상기 플럭스 오염물(1) 방향으로 분사되는 스팀(S)의 각도를 상기 명령입력장치(35)를 통해 자동으로 조정하여 최적의 각도(예를 들어, 수평으로부터 40도 내지 90도 각도)로 세척이 이루어질 수 있게 하는 것도 가능하고, 미리 입력된 프로그램에 따라 상기 스팀 분사 노즐(30)의 분사 각도가 자동으로 다양하게 변화되면서 세척 효율을 극대화할 수 있는 것이다.

또한, 상기 스팀 공급장치(40)는, 상기 본체(10)에 설치되는 것으로서, 상기 스팀 분사 노즐(30)과 연결되어 상기 스팀 분사 노즐(30)로 고온 고압의 스팀(S)을 공급하는 장치이다.

여기서, 이러한 상기 스팀 공급장치(40)는 물을 가열하여 고온 고압의 증기로 만드는 보일러 등 다양한 형태의 스팀 공급장치들이 적용될 수 있는 것이다.

따라서, 상기 스팀 공급장치(40)에서 발생된 고온의 스팀(S)은 상기 스팀 분사 노즐(30)을 거쳐서 고압의 스팀(S) 상태로 상기 플럭스 오염물(1)에 잔류하는 플럭스(F)를 신속하고 정확하게 녹여내면서 상기 플럭스 오염물(1)을 깨끗하게 세척할 수 있는 것이다.

이 때, 상기 스팀(S)은 상기 스팀 분사 노즐(30)에 의해 고온이면서 고압인 상태로 상기 플럭스(F)와 고속 충돌하면서 상기 플럭스(F)를 순간적으로 용융시키면서 상기 플럭스 오염물(1)로부터 빠르게 분리하여 순간 세척할 수 있는 것은 물론, 고온의 상기 스팀(S)은 증발이 빠르게 이루어지기 때문에 세척 후 순간적으로 빠르게 건조될 수 있는 것이다.

그러므로, 예를 들어서 종래의 초음파 수중 세척방식은, 초음파 세척시간(27분), 별도의 히팅 오븐(oven)을 이용한 오븐 건조시간(40분) 및 쿨링(cooling)시간(20분)을 모두 합친 총 세척시간이 대략 87분이였다면, 본 발명의 스팀 세척 방식은, 불과 스팀 세척시간(1분) 및 쿨링시간(1분)으로 총 세척시간이 대략 2분인 것으로서, 그야말로 세척시간을 획기적으로 줄일 수 있는 것이다.

도 3은 본 발명의 바람직한 다른 실시예에 따른 플럭스 오염물 세척장치의 외관을 나타내는 전방 사시도이고, 도 4는 도 3의 후방 사시도이고, 도 5는 도 3의 플럭스 오염물(1)의 거치 상태를 나타내는 부분 절개 사시도이고, 도 6은 도 5의 스팀 분사 노즐(30)의 스팀 분사 상태를 나타내는 확대 사시도이고, 도 7은 도 5의 평면도이고, 도 8은 도 5의 측면도이고, 도 9는 도 5의 후면도이다.

도 1 내지 도 9에 도시된 바와 같이, 상기 전후진장치(50)는, 상기 스팀 분사 노즐(30)이 상기 플럭스 오염물(1)의 표면을 따라 전후진이 가능하도록 상기 스팀 분사 노즐(30)을 전후진시키는 것으로서, 가동대(51)와, 가이드부재(52)와, 액츄에이터(55) 및 제어부(34)를 포함하여 이루어질 수 있는 구성이다.

여기서, 도 5 내지 도 7의 상기 가동대(51)는, 상기 스팀 분사 노즐(30)이 일렬로 설치되는 노즐 회전축(31)이 설치되는 것으로서, 상기 스팀 분사 노즐(30)이 상기 플럭스 오염물(1)의 표면을 따라 전후진하는 것이 자유롭도록 설치되는 것이다.

또한, 상기 가이드부재(52)는, 상기 가동대(51)의 이송경로를 안내하도록 상기 가동대(51)를 관통하여 설치되는 가이드봉(53) 및 상기 가동대(51)의 밑면을 안내하는 가이드레일(54)로 이루어지는 것으로서, 이외에도 다양한 형태의 가이드부재(52)가 적용될 수 있는 것이다.

또한, 상기 액츄에이터(55)는, 상기 본체(10)에 설치되는 것으로서, 상기 가동대(51)를 전후진시키는 것이 가능한 각종의 실린더나 리니어 모터 등 각종 모터 등가 설치될 수 있는 것이다.

여기서, 도 6에 도시된 바와 같이, 상기 세척실(R) 내부의 스팀(S)이 상기 가동대(51)와 상기 가이드부재(52) 및 상기 액츄에이터(55) 등에 침투되는 것을 방지할 수 있도록 상기 세척실(R)과 상기 가이드부재(52) 사이에 차단솔(36)이 일렬로 설치되는 것도 가능하다.

또한, 상기 제어부(34)는, 명령입력장치(35)에 의해 입력된 명령에 따라 상기 액츄에이터(55)에 제어 신호를 인가하는 것이다.

따라서, 사용자는 상기 플럭스 오염물(1)의 밑면을 따라 상기 스팀 분사 노즐(30)을 전후진시키면서 최적의 위치 또는 최적의 속도로 세척이 이루어질 수 있게 하는 것도 가능하고, 미리 입력된 프로그램에 따라 상기 스팀 분사 노즐(30)의 전후진 위치와 전후진 속도가 자동으로 다양하게 변화되면서 세척 효율을 극대화할 수 있는 것이다.

한편, 상기 배수받이(60)는, 상기 스팀(S)에 의해 상기 플럭스 오염물(1)로부터 제거된 이물질(7)을 수거하도록 상기 본체(10)의 세척실(R) 하방에 설치되는 것으로서, 바람직하기로는 상기 세척실(R) 하부에 서랍식으로 설치되고, 수거된 이물질(7)의 외부 배출이 용이하도록 일측에 손잡이(61)가 설치되는 것이 가능하다.

이외에도, 상기 배수받이(60) 대신 상기 세척실(R)에 별도의 배수구를 설치하여 상기 이물질(7)들이 상기 본체(10)의 외부로 배출될 수 있게 하는 것도 가능하다.

한편, 도 1 및 도 2에 도시된 바와 같이, 본 발명의 바람직한 일 실시예에 따른 플럭스 오염물 세척장치는, 플럭스 도팅(flux dotting) 과정에서 사용되는 플럭스 툴(2)(flux tool)을 세척하는 것으로서, 상술된 플럭스 툴(2) 이외에도 도시하진 않았지만, 솔더볼 어태칭(solder ball attaching) 과정에서 사용되는 어태치 툴(attach tool) 등 플럭스(F)에 의해 오염될 수 있는 각종 툴 등을 세척할 수 있는 것이다.

여기서, 도 1 및 도 2에 도시된 바와 같이, 상기 플럭스 툴(2)은, 내부에 유동 공간이 형성되는 몸체(3)와, 상기 유동 공간에 수용되는 백 플레이트(5)(back plate)와, 일단부가 상기 백 플레이트(5)에 설치되고, 타단부가 상기 몸체(3)의 핀홀(1a)을 통해 외부로 노출되는 플럭스 핀(6) 및 상기 플럭스 핀(6)을 전진시키는 방향으로 복원력이 작용하도록 상기 백 플레이트(5)와 몸체(3) 사이에 설치되는 탄성 스프링(4)을 포함하여 이루어질 수 있는 구성이다.

이렇게 상술된 상기 플럭스 툴(2)을 세척하는 경우, 상기 플럭스 툴(2)의 몸체(3) 내부의 유동 공간으로 스팀(S)이 침투하는 것을 방지할 수 있도록 상기 유동 공간에 양압을 형성하는 상기 양압 형성장치(80)가 더 설치될 수 있다.

여기서, 상기 양압 형성장치(80)는, 도 1 및 도 2에 도시된 바와 같이, 상기 플럭스 툴(2)의 몸체(3)에 형성된 투입구(1b)에 양압 형성용 가스를 공급하는 양압 형성 가스 공급관(81)인 것이 가능하다.

따라서, 도 2에 도시된 바와 같이, 상기 양압 형성 가스 공급관(81)을 통해 양압 형성용 가스(예를 들어, 에어나 불활성 가스 등)를 공급받아 상기 플럭스 툴(2)의 몸체(3) 내부에 양압(대기압력보다 높은 압력)이 형성되는 경우, 상기 양압 형성용 가스는, 상기 플럭스 툴(2)의 내부에서 상기 플럭스 핀(6)과 상기 핀홀(1a) 사이의 좁은 틈새를 통해 외부로 배출되면서, 상기 세척실(R)의 스팀(S)이 상기 핀홀(1a)을 통해 상기 몸체(3) 내부로 틀어오려는 것을 가스의 압력으로 밀어내어 결과적으로 상기 플럭스 툴(2)을 수분으로부터 보호할 수 있는 것이다.

아울러, 상기 양압 형성용 가스는, 상기 플럭스 툴(2)을 건조시키는 동시에 상기 스팀(S)에 의해 온도가 상승하는 상기 플럭스 툴(2)의 온도를 하강시키는 쿨링의 역할을 동시에 수행하는 것도 가능하다.

또한, 상기 플럭스 핀(6) 방향으로 분사되는 스팀(S)이 상기 플럭스 오염물(1)의 몸체(3)까지 도달되는 것을 차단할 수 있도록 상기 플럭스 핀(6)과 몸체(3) 사이에 에어커튼을 형성하는 에어커튼 형성장치(70)가 더 설치될 수 있다.

여기서, 상기 에어커튼 형성장치(70)는, 상기 본체(10)의 세척실(R) 내부에 설치되는 것으로서, 상기 플럭스 핀(6)과 몸체(3) 사이에 에어를 분사하는 에어 분사 노즐(71)인 것이 가능하다.

따라서, 도 2에 도시된 바와 같이, 상기 에어 분사 노즐(71)을 통해 상기 플럭스 핀(6)과 몸체(3) 사이에 에어 커튼이 형성되면, 상기 몸체(3) 방향으로 흐르는 상기 세척실(R)의 스팀(S)의 기류를 사전에 차단하여 상기 플럭스 툴(2)을 수분으로부터 보호할 수 있는 것이다.

아울러, 상기 에어는 플럭스 툴(2)을 건조시키는 동시에 상기 스팀(S)에 의해 온도가 상승하는 상기 플럭스 툴(2)의 온도를 하강시키는 쿨링의 역할을 동시에 수행하는 것도 가능하다.

한편, 도 1 및 도 2에 도시된 바와 같이, 상기 세척실(R)은, 상기 스팀 분사 노즐(30)에서 분사된 스팀(S)을 외부로 신속하게 배출시키는 배기장치(90)를 더 포함하여 이루어지는 것이 가능하다.

즉, 도 1 및 도 2에 도시된 바와 같이, 상기 배기장치(90)는, 상기 세척실(R)의 측면에 형성된 도 4의 배기구(10a)로부터 스팀(S)을 강제 배기시키는 배기관(91)인 것이 가능하다.

따라서, 도 2에 도시된 바와 같이, 상기 스팀 분사 노즐(30)에서 분사된 스팀(S)이 세척작업을 마치면 상기 배기관(91)을 따라 신속하게 외부로 배출되면서 상기 플럭스 툴(2)을 스팀(S)의 수분으로부터 보호할 수 있는 동시에 상기 플럭스 툴(2)을 신속하게 건조시키고, 상기 플럭스 툴(2)의 온도를 하강시키는 쿨링이 촉진될 수 있는 것이다.

본 발명은 상술한 실시예에 한정되지 않으며, 본 발명의 사상을 해치지 않는 범위 내에서 당업자에 의한 변형이 가능함은 물론이다.

따라서, 본 발명에서 권리를 청구하는 범위는 상세한 설명의 범위 내로 정해지는 것이 아니라 후술되는 청구범위와 이의 기술적 사상에 의해 한정될 것이다.

1: 플럭스 오염물 1a: 핀홀
1b: 투입구 2: 플럭스 툴
3: 몸체 4: 탄성 스프링
5: 백 플레이트 6: 플럭스 핀
7: 이물질 10: 본체
10a: 배기구 11: 손잡이
12: 뚜껑 13: 투명창
20: 거치대 21: 클램프
30: 스팀 분사 노즐 31: 노즐 회전축
32: 회전 노브 33: 모터
34: 제어부 35: 명령입력장치
36: 차단솔 F: 플럭스
S: 스팀 40: 스팀 공급장치
50: 전후진장치 51: 가동대
52: 가이드부재 53: 가이드봉
54: 가이드레일 55: 액츄에이터
R: 세척실 60: 배수받이
61: 손잡이 70: 에어커튼 형성장치
71: 에어 분사 노즐 80: 양압 형성장치
81: 양압 형성 가스 공급관 90: 배기장치
91: 배기관

Claims

본체;
상기 본체에 설치되고, 플럭스 오염물이 거치되는 거치대;
상기 거치대에 거치된 상기 플럭스 오염물의 측면을 잡아 고정하는 클램프;
상기 본체에 상기 거치대로부터 하방으로 이격되어 설치되고, 상기 플럭스 오염물에 잔류하는 플럭스 등의 이물질을 제거할 수 있도록 상기 거치대에 거치된 상기 플럭스 오염물을 향하는 상방으로 스팀(steam)을 분사하는 적어도 하나 이상의 스팀 분사 노즐; 및
상기 본체에 설치되고, 상기 스팀 분사 노즐로 스팀을 공급하는 스팀 공급장치;를 포함하고,
상기 플럭스 오염물은, 내부에 유동 공간이 형성되는 몸체; 상기 유동 공간에 수용되는 백 플레이트(back plate); 및 일단부가 상기 백 플레이트에 설치되고, 타단부가 상기 몸체의 핀홀을 통해 외부로 노출되는 플럭스 핀;을 포함하고,
상기 플럭스 오염물의 몸체 내부의 유동 공간으로 스팀이 침투하는 것을 방지할 수 있도록 상기 유동 공간에 양압 형성용 가스를 공급하는 양압 형성장치;를 포함하여 이루어지는 것을 특징으로 하는 플럭스 오염물 세척장치.
제 1항에 있어서,
상기 스팀 분사 노즐은, 분사 각도가 조정되도록 노즐 회전축에 설치되는 것을 특징으로 하는 플럭스 오염물 세척장치.
제 2항에 있어서,
상기 노즐 회전축은, 사용자의 조작이 가능하도록 일측에 회전 노브가 설치되는 것을 특징으로 하는 플럭스 오염물 세척장치.
제 2항에 있어서,
상기 노즐 회전축은, 명령입력장치에 의해 입력된 명령에 따라 제어부의 제어 신호에 의해 상기 노즐 회전축을 회전시키는 모터가 설치되는 것을 특징으로 하는 플럭스 오염물 세척장치.
제 1항에 있어서,
상기 스팀 분사 노즐이 상기 플럭스 오염물의 표면을 따라 전후진이 가능하도록 상기 스팀 분사 노즐을 전후진시키는 전후진장치;를 더 포함하여 이루어지는 것을 특징으로 하는 플럭스 오염물 세척장치.
제 5항에 있어서,
상기 전후진장치는,
상기 스팀 분사 노즐이 설치된 가동대;
상기 가동대의 이송경로를 안내하는 가이드부재;
상기 본체에 설치되고, 상기 가동대를 전후진시키는 액츄에이터; 및
명령입력장치에 의해 입력된 명령에 따라 상기 액츄에이터에 제어 신호를 인가하는 제어부;
를 포함하여 이루어지는 것을 특징으로 하는 플럭스 오염물 세척장치.
제 1항에 있어서,
상기 플럭스 오염물은,
상기 플럭스 핀을 전진시키는 방향으로 복원력이 작용하도록 상기 백 플레이트와 몸체 사이에 설치되는 탄성 스프링을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 플럭스 오염물 세척장치.
삭제
제 1항에 있어서,
상기 플럭스 핀 방향으로 분사되는 스팀이 상기 플럭스 오염물의 몸체까지 도달되는 것을 차단할 수 있도록 상기 플럭스 핀과 몸체 사이에 에어커튼을 형성하는 에어커튼 형성장치;
를 더 포함하여 이루어지는 것을 특징으로 하는 플럭스 오염물 세척장치.
제 9항에 있어서,
상기 에어커튼 형성장치는,
상기 본체에 설치되고, 상기 플럭스 핀과 몸체 사이에 에어를 분사하는 에어 분사 노즐인 것을 특징으로 하는 플럭스 오염물 세척장치.