KR101658940B1 - 인쇄 방법과 그것에 이용하는 용제 흡수체 - Google Patents

Abstract

용제 흡수체에 의한 용제 흡수능을 충분히 발휘시켜 실리콘 블랭킷의 팽윤을 억제할 수 있고, 인쇄 초기로부터 장기간에 걸쳐 인쇄의 정밀도를 높은 레벨로 계속 유지할 수 있는 인쇄 방법과, 상기 인쇄 방법에 이용하는 용제 흡수체를 제공한다.
표면의 거칠기 곡선의 산술 평균 거칠기(Ra)가 0.001 ㎛를 초과하고 1 ㎛ 이하인 실리콘 블랭킷과, 적어도 표면을 실리콘 고무 또는 실리콘 수지에 의해 형성한, 타입 A 듀로미터 경도가 A5/S 이상 A50/S 이하, 상기 표면의 산술 평균 거칠기(Ra)가 0.001 ㎛ 이상 0.1 ㎛ 이하이고, 또한 상기 실리콘 블랭킷의 표면보다도 상기 산술 평균 거칠기(Ra)가 작은 용제 흡수체를 조합하여 이용하는 인쇄 방법과, 상기 특성을 만족하는 용제 흡수체이다.

Description

인쇄 방법과 그것에 이용하는 용제 흡수체{PRINTING METHOD AND SOLVENT ABSORBER THEREFOR}

본 발명은, 실리콘 블랭킷의 표면에 담지시킨 잉크를 피인쇄체의 표면에 전사하여 상기 표면에 상기 잉크로 이루어지는 소정의 패턴을 인쇄하기 위한 인쇄 방법과, 상기 인쇄 방법에 있어서, 상기 잉크 중에 포함되어 상기 실리콘 블랭킷에 함침되는 용제를 흡수하여 제거하기 위해서 이용하는 용제 흡수체에 관한 것이다.

오프셋 인쇄 방법은, 잉크 패턴을 간이하고, 또한 적은 공정수로 효율 좋게 다량으로, 게다가 저렴하게 형성할 수 있는 이점을 갖고 있고, 또한 최근에 이르러 인쇄 정밀도의 향상이 도모되고 있으므로, 특히 전자 공학 분야에서 이용이 확대되고 있다.

예컨대 전기 배선의 패턴이나 형광체의 패턴, 또는 플라즈마 디스플레이 패널(PDP)이나 액정 디스플레이 패널(LCD)의 구성 부품 등에 있어서의 각종의 패턴과 같은, 미세하고 또한 고정밀도의 패턴의 형성이 요구되는 분야에 있어서, 종래의 포토리소그래프법에 의한 패턴 형성을 대신하여, 상기 오프셋 인쇄 방법이 보급되어 오고 있다.

오프셋 인쇄 방법에서는, 판의 표면에 패턴 형성한 잉크를 블랭킷의 표면에 전사시킨 후, 피인쇄체로서의 기판의 표면에 재전사시킴으로써, 상기 기판의 표면에 소정의 패턴이 인쇄된다.

블랭킷으로서는, 적어도 그 표면을, 잉크에 대한 이형성이 우수한 실리콘 고무 또는 실리콘 수지에 의해 형성한 실리콘 블랭킷이 널리 이용된다.

실리콘 블랭킷은 잉크와 반복 접촉하기 때문에, 특히 피인쇄체가 유리 기판 등의 용제를 흡수하지 않는 재료로 이루어질 때, 인쇄를 반복하는 동안에 상기 잉크 중에 포함되는 용제가 함침되어 상기 실리콘 블랭킷이 서서히 팽윤하고, 그에 따라 잉크에 대한 실리콘 블랭킷의 표면의 젖음성이 서서히 상승한다. 그 때문에, 인쇄 초기로부터 장기간에 걸쳐 인쇄의 정밀도를 높은 레벨로 계속 유지하는 것은 곤란하다.

실리콘 고무나 실리콘 수지를 거의 팽윤시키지 않는 젖음성이 낮은 용제를 포함하는 잉크를 사용하면, 인쇄를 반복해도 상기 젖음성은 거의 변화하지 않기 때문에, 안정된 인쇄를 행할 수 있을 것으로 생각된다. 그러나 젖음성이 낮은 용제를 포함하는 잉크는, 판의 표면으로부터 실리콘 블랭킷의 표면으로의 전사성이 낮기 때문에, 특히 세선의 패턴에 있어서 단선(斷線)을 발생시키기 쉽다.

단선은 가장 회피해야 할 불량이며, 그것을 방지하기 위해서는, 실리콘 블랭킷을 어느 정도는 팽윤시킬 수 있는 용제를 사용해야 한다. 그러나, 상기 용제를 포함하는 잉크를 사용하여 인쇄를 반복하면 실리콘 블랭킷이 서서히 팽윤하여, 잉크에 대한 젖음성이 서서히 상승한다. 그리고 그에 따라 잉크가 번지기 쉬워져, 특히 세선의 패턴의 선폭이 서서히 넓어지거나, 판 표면의 미소한 오물을 전사하게 되거나, 실리콘 블랭킷으로부터 기판으로의 잉크의 전사성이 서서히 저하되어 인쇄의 정밀도가 서서히 저하된다.

예컨대, 실리콘 블랭킷을 가열하여 팽윤한 용제를 제거하는 것이 고려되고 있다. 그러나, 그를 위해서는 실리콘 블랭킷을 대략 40℃∼200℃ 정도까지 가열할 필요가 있어, 가열 직후의 표면 온도가 높은 실리콘 블랭킷을 판에 접촉시키면, 상기 판이 열팽창하여 인쇄의 정밀도가 저하된다는 문제가 있다.

실리콘 블랭킷의 표면에, 용제를 흡수하는 기능을 갖는 용제 흡수체를 접촉시켜, 상기 실리콘 블랭킷 중에 함침된 용제를 용제 흡수체로 이동시켜 제거하는 것이 제안되어 있다(특허 문헌 1∼6 등 참조). 상기 용제 흡수체를 사용하면, 실리콘 블랭킷을 가열하지 않고 용제를 제거할 수 있기 때문에, 인쇄의 정밀도를 높은 레벨로 유지할 수 있다. 용제 흡수체에 의한 용제의 제거는, 1회 내지 수회의 인쇄마다 실시된다.

[특허문헌]

[특허 문헌 1] 일본 특허 공개 평성 제7-329409호 공보

[특허 문헌 2] 일본 특허 공개 평성 제8-156388호 공보

[특허 문헌 3] 일본 특허 공개 제2006-188015호 공보

[특허 문헌 4] 일본 특허 공개 제2006-35769호 공보

[특허 문헌 5] 일본 특허 공개 제2009-119709호 공보

[특허 문헌 6] 일본 특허 공개 제2009-119710호 공보

발명자의 검토에 의하면, 실리콘 블랭킷으로부터 용제 흡수체로의 용제의 이동은, 양자의 표면끼리의 접촉 상태에 의존하여 크게 변동한다. 그리고 접촉 상태 여하에 따라서는, 용제 흡수체에 의한 충분한 용제 흡수능을 발휘시킬 수 없어, 앞서 설명한 바와 같이 용제 흡수체에 의한 용제의 제거를 빈번히 반복했다고 해도 실리콘 블랭킷의 팽윤을 충분히 억제할 수 없기 때문에, 인쇄 초기로부터 장기간에 걸쳐 인쇄의 정밀도를 높은 레벨로 계속 유지할 수 없는 경우가 있는 것이 판명되었다.

본 발명의 목적은, 용제 흡수체에 의한 용제 흡수능을 충분히 발휘시켜 실리콘 블랭킷의 팽윤을 억제할 수 있고, 인쇄 초기로부터 장기간에 걸쳐 인쇄의 정밀도를 높은 레벨로 계속 유지할 수 있는 인쇄 방법과, 상기 인쇄 방법에 이용하는 용제 흡수체를 제공하는 것에 있다.

본 발명은, 적어도 표면을 실리콘 고무 또는 실리콘 수지에 의해 형성한 실리콘 블랭킷의 상기 표면에 담지시킨 잉크를 피인쇄체의 표면에 전사시켜, 상기 피인쇄체의 표면에 상기 잉크로 이루어지는 패턴을 인쇄하는 인쇄 방법으로서, 상기 실리콘 블랭킷의 표면에 용제 흡수체를 접촉시킴으로써, 상기 잉크 중에 포함되어 상기 실리콘 블랭킷에 함침되는 용제를 상기 용제 흡수체에 의해 흡수하여 제거하는 공정을 포함하고, 상기 실리콘 블랭킷 및 용제 흡수체로서,

(1) 상기 표면의 거칠기 곡선의 산술 평균 거칠기(Ra)가 0.001 ㎛를 초과하고 1 ㎛ 이하인 실리콘 블랭킷과,

(2) 적어도 표면을 실리콘 고무 또는 실리콘 수지에 의해 형성한, 타입 A 듀로미터 경도가 A5/S 이상 A50/S 이하, 상기 표면의 산술 평균 거칠기(Ra)가 0.001 ㎛ 이상 0.1 ㎛ 이하이고, 또한 상기 실리콘 블랭킷의 표면보다도 상기 산술 평균 거칠기(Ra)가 작은 용제 흡수체

를 조합하여 이용하는 것을 특징으로 하는 인쇄 방법이다.

본 발명에 따르면, 용제 흡수체의 적어도 표면을, 조합하는 실리콘 블랭킷의 표면과 동종의 실리콘 고무 또는 실리콘 수지(이하 「실리콘 고무 등」이라고 총칭하는 경우가 있음)에 의해 형성하고, 상기 용제 흡수체를, 온도 23±1℃, 상대 습도 55±1%의 환경하, 일본 공업 규격 JIS K6253:2006 「가황 고무 및 열가소성 고무-경도를 구하는 방법」에 규정된 측정 방법에 기초하여 측정되는 타입 A 듀로미터 경도가 A50/S 이하인 유연한 것으로 함으로써, 상기 표면의, 실리콘 블랭킷의 표면에 대한 밀착성을 향상시킬 수 있다.

또한, 상기 용제 흡수체의 표면의, 일본 공업 규격 JIS B0601:1994 「표면 거칠기-정의 및 표시」에 규정된 거칠기 곡선의 산술 평균 거칠기(Ra)를 0.1 ㎛ 이하이면서 실리콘 블랭킷의 표면의 상기 산술 평균 거칠기(Ra)보다도 작게 함으로써, 상기 용제 흡수체의 표면의, 실리콘 블랭킷의 표면에 대한 밀착성을 더 향상시킬 수 있다.

게다가, 상기한 바와 같이 적어도 표면이 실리콘 고무 등을 포함하고, 타입 A 듀로미터 경도가 A50/S 이하인 유연한 용제 흡수체는, 일반적으로, 타입 A 듀로미터 경도가 상기 범위를 초과하는 딱딱한 것에 비하여 흡수할 수 있는 용제량이 많다.

그 때문에 용제 흡수의 공정에 있어서 상기 용제 흡수체의 표면을 실리콘 블랭킷의 표면에 가능한 한 간극 없이 밀착시켜, 상기 용제 흡수체에 의한 용제 흡수능을 충분히 발휘시키면서, 실리콘 블랭킷에 함침된 용제를 효율적으로, 게다가 다량으로 용제 흡수체로 이동시켜 제거할 수 있어, 인쇄 초기로부터 장기간에 걸쳐 실리콘 블랭킷의 지나친 팽윤을 억제할 수 있다.

또한, 상기 실리콘 고무 등 중에는, 그 가교 반응 시에 발생하는 저분자량의 폴리실록산이 포함되어 있고, 이러한 저분자량의 폴리실록산이, 마찬가지로 실리콘 블랭킷의 적어도 표면을 형성하는 실리콘 고무 등 중에도 포함되어 있으나 인쇄를 반복하는 동안에 서서히 상실되어 가는 저분자량의 폴리실록산을 보충하여, 상기 실리콘 블랭킷의 표면으로부터 피인쇄체의 표면으로의 잉크의 전사성을 향상시키는 이형제로서 기능한다.

그 때문에 상기 이형제로서의 저분자량의 폴리실록산의 부족에 따른 전사성의 저하를 억제하여, 인쇄 초기로부터 장기간에 걸쳐, 실리콘 블랭킷의 표면으로부터 피인쇄체의 표면으로의 잉크의 양호한 전사성을 유지할 수도 있다.

또한, 실리콘 블랭킷으로서, 그 표면의 산술 평균 거칠기(Ra)가 1 ㎛ 이하인 것을 이용함으로써, 상기 표면에서의 잉크의 번짐에 의한 선폭의 증가 등을 억제할 수도 있다.

따라서 본 발명에 따르면, 상기 용제 흡수체와 실리콘 블랭킷을 조합함으로써, 인쇄 초기로부터 장기간에 걸쳐 인쇄의 정밀도를 높은 레벨로 계속 유지하는 것이 가능해진다.

또한, 상기한 바와 같이 적어도 표면이 실리콘 고무 등을 포함하고, 타입 A 듀로미터 경도가 A50/S 이하여서 흡수할 수 있는 용제량이 많은 용제 흡수체를 이용함으로써, 인쇄를 정지하여 용제 흡수체를 교환하거나, 가열 등에 의해 용제 흡수체에 흡수된 용제를 제거하는 조작을 하는 빈도를 적게 할 수 있다.

또한, 타입 A 듀로미터 경도가 A5/S 이상으로 적절한 강도를 갖는 용제 흡수체를 이용함으로써, 인쇄를 반복했을 때에 상기 용제 흡수체가 파손되는 것을 억제하여, 파손된 용제 흡수체의 교환을 위해 인쇄를 정지하거나 하는 빈도를 적게 할 수 있다.

그 때문에 인쇄의 택트 타임(tact time), 즉, 인쇄기에 피인쇄체를 세팅하고, 앞서 설명한 순서에 따라 상기 피인쇄체의 표면에 잉크를 인쇄하여 패턴 형성한 후 인쇄기에 새로운 피인쇄체를 세팅할 때까지 필요로 하는 평균 시간을 짧게 하여, 인쇄 방법에 의해 제조되는 제품의 생산성을 향상시킬 수도 있다.

또 본 발명에 있어서, 실리콘 블랭킷의 표면의 산술 평균 거칠기(Ra)가 0.001 ㎛를 초과하는 범위로 한정되고, 용제 흡수체의 표면의 산술 평균 거칠기(Ra)가 0.001 ㎛ 이상으로 한정되는 것은, 표면의 산술 평균 거칠기(Ra)가 상기 범위를 하회하는 높은 평활성을 갖는 표면을 갖는 실리콘 블랭킷, 및 용제 흡수체를 제조하는 것이 용이하지 않기 때문이다.

또한, 표면의 산술 평균 거칠기(Ra)가 어느 한쪽이라도 상기 범위를 하회한 경우에는 실리콘 블랭킷의 표면과 용제 흡수체의 표면의 밀착성이 지나치게 높아져, 상기 양자를 접촉시켜 용제 흡수의 조작을 한 후에 용제 흡수체를 실리콘 블랭킷의 표면으로부터 떼어낼 때에 시간이 걸려, 상기 택트 타임이 길어져 제품의 생산성이 저하되기 때문이기도 하다.

본 발명은, 상기 인쇄 방법에 이용하는 용제 흡수체로서, 필름형 또는 시트형의 기재와, 상기 기재의 적어도 한쪽 면에 형성한, 실리콘 고무 등을 포함하고, 타입 A 듀로미터 경도가 A5/S 이상 A50/S 이하, 표면의 산술 평균 거칠기(Ra)가 0.001 ㎛ 이상 0.1 ㎛ 이하이며, 또한, 조합하여 이용하는, 표면의 산술 평균 거칠기(Ra)가 0.001 ㎛ 이상 1 ㎛ 이하인 실리콘 블랭킷보다도 상기 산술 평균 거칠기(Ra)가 작은 흡수층을 구비하는 것을 특징으로 한다.

본 발명에 따르면, 상기 필름형 또는 시트형의 기재에 의해 용제 흡수체 전체의 강도를 유지하고, 또한 양호한 취급성을 확보하면서, 상기 기재의 적어도 한쪽 면에 형성한 상기 각 조건을 만족하는 흡수층을 실리콘 블랭킷의 표면에 가능한 한 간극 없이 밀착시킴으로써, 상기 실리콘 블랭킷에 함침되는 용제를 효율적으로 게다가 다량으로 흡수할 수 있다.

상기 용제 흡수체는 벨트형(무단 벨트형을 포함함)으로 형성함으로써, 종래의, 상기 벨트형 등의 용제 흡수체를 이용하는 오프셋 인쇄기에 그대로 적용할 수 있다. 게다가 상기 용제 흡수체의 흡수층이 상기한 바와 같이 용제를 흡수하는 능력이 우수하기 때문에, 상기 종래의 오프셋 인쇄기를 이용하여 본 발명의 인쇄 방법을 실시할 수 있고, 인쇄 초기로부터 장기간에 걸쳐 인쇄의 정밀도를 높은 레벨로 계속 유지할 수 있다.

본 발명에 따르면, 용제 흡수체에 의한 용제 흡수능을 충분히 발휘시켜 실리콘 블랭킷의 팽윤을 억제할 수 있고, 인쇄 초기로부터 장기간에 걸쳐 인쇄의 정밀도를 높은 레벨로 계속 유지할 수 있는 인쇄 방법과, 상기 인쇄 방법에 이용하는 용제 흡수체를 제공할 수 있다.

본 발명은, 적어도 표면을 실리콘 고무 등에 의해 형성한 실리콘 블랭킷의 상기 표면에 담지시킨 잉크를 피인쇄체의 표면에 전사시켜, 상기 피인쇄체의 표면에 상기 잉크로 이루어지는 패턴을 인쇄하는 인쇄 방법으로서, 상기 실리콘 블랭킷의 표면에 용제 흡수체를 접촉시킴으로써, 상기 잉크 중에 포함되어 상기 실리콘 블랭킷에 함침되는 용제를 상기 용제 흡수체에 의해 흡수하여 제거하는 공정을 포함하고, 상기 실리콘 블랭킷 및 용제 흡수체로서,

(1) 상기 표면의 거칠기 곡선의 산술 평균 거칠기(Ra)가 0.001 ㎛를 초과하고 1 ㎛ 이하인 실리콘 블랭킷과,

(2) 적어도 표면을 실리콘 고무 등에 의해 형성한, 타입 A 듀로미터 경도가 A5/S 이상 A50/S 이하, 상기 표면의 산술 평균 거칠기(Ra)가 0.001 ㎛ 이상 0.1 ㎛ 이하이고, 또한 상기 실리콘 블랭킷의 표면보다도 상기 산술 평균 거칠기(Ra)가 작은 용제 흡수체

를 조합하여 이용하는 것을 특징으로 한다.

또한, 상기 본 발명의 인쇄 방법에 이용하는 본 발명의 용제 흡수체는, 필름형 또는 시트형의 기재와, 상기 기재의 적어도 한쪽 면에 형성한, 실리콘 고무 등을 포함하고, 타입 A 듀로미터 경도가 A5/S 이상 A50/S 이하, 표면의 산술 평균 거칠기(Ra)가 0.001 ㎛ 이상 0.1 ㎛ 이하이며, 또한, 조합하여 이용하는, 표면의 산술 평균 거칠기(Ra)가 0.001 ㎛ 이상 1 ㎛ 이하인 실리콘 블랭킷보다도 상기 산술 평균 거칠기(Ra)가 작은 흡수층을 구비하는 것을 특징으로 한다.

상기 흡수층을 형성하는 실리콘 고무 등으로서는, 예컨대 미경화 시에 액상 내지는 페이스트상을 나타내는 것이 바람직하다.

상기 액상 내지 페이스트상을 나타내는 실리콘 고무 등을, 예컨대 닥터나이프, 바코터, 롤코터 등을 이용하여 소정의 두께가 되도록 기재 상에 도포한 후 경화시킴으로써 흡수층이 형성되어 용제 흡수체가 제조된다. 이때, 흡수층의 기초가 되는 도막의 표면, 즉, 경화 후의 흡수층의 표면을, 경화 시에 액 또는 페이스트의 셀프 레벨링 효과에 의해 평활화하고, 상기 흡수층의 두께를 균일화할 수 있다.

또 용제 흡수체는, 상기 액상 내지는 페이스트상을 나타내는 실리콘 고무 등을, 흡수층의 표면 형상에 대응하는 부형면(賦形面)을 가지며 기재를 세팅한 금형 내에 주입하여 경화시킴으로써 제조해도 된다.

흡수층을, 조합하는 실리콘 블랭킷의 표면과 동종의 실리콘 고무 등에 의해 형성하고 있는 것은, 상기 흡수층의 표면의, 실리콘 블랭킷의 표면에 대한 밀착성을 향상시키기 위함이다. 또한, 상기 실리콘 고무 등의 가교 반응 시에 발생하여 흡수층 중에 포함되는 저분자량의 폴리실록산을, 이형제로서 실리콘 블랭킷의 표면에 공급하기 위함이기도 하다. 흡수층을 상기 실리콘 고무 등 이외의 고무나 수지로 형성해도 이들 효과는 얻어지지 않는다.

상기 실리콘 고무 등으로서는, 실온 경화형(RTV)인 것이 바람직하다. 상기 실온 경화형의 실리콘 고무 등은, 그 이름대로 가열하지 않아도 실온(5℃∼35℃ 정도)에서 경화시키는 것이 가능하기 때문에, 용제 흡수체의 제조 공정 및 제조를 위한 설비를 간략화할 수 있고, 또한 가열에 의한 팽창과 냉각 시의 수축을 거치지 않기 때문에, 흡수층의 두께의 정밀도를 향상시킬 수 있다.

또한, 상기 실리콘 고무 등으로서는, 주제와 경화제의 2성분으로 이루어지고, 상기 양자를 부가 반응에 의해 경화시킬 수 있는 이액 부가 반응형의 것이 바람직하다.

상기 이액 부가 반응형의 실리콘 고무 등은, 경화 반응 시에 상기 저분자량의 폴리실록산 이외에는 저분자량의 성분(부생성물, 예컨대 탈수 축합 반응에 의한 물 등)을 발생시키지 않기 때문에, 흡수층의 치수 정밀도를 향상시키고, 또한 상기 부생성물에 기초하는 기포 등을 포함하지 않는 균일한 흡수층을 형성할 수 있다.

상기 흡수층의 타입 A 듀로미터 경도를 A5/S 이상 A50/S 이하의 범위로 한정하고 있는 것은, 하기의 이유에 의한다.

즉, 흡수층의 타입 A 듀로미터 경도를 A5/S 이상으로 함으로써 용제 흡수체에 적절한 강도를 부여하여, 인쇄를 반복했을 때에 상기 용제 흡수체가 파손되는 것을 억제하여, 파손된 용제 흡수체의 교환을 위해 인쇄를 정지하거나 하는 빈도를 적게 할 수 있고, 인쇄의 택트 타임을 짧게 하여, 인쇄 방법에 의해 제조되는 제품의 생산성을 향상시킬 수 있다.

또한, 흡수층의 타입 A 듀로미터 경도를 A50/S 이하로 하여 상기 흡수층을 적절히 유연하게 함으로써, 상기 흡수층의 표면의, 실리콘 블랭킷의 표면에 대한 밀착성을 향상시킬 수 있고, 상기 흡수층에 의해 흡수할 수 있는 용제량을 많게 할 수 있다.

그 때문에 용제 흡수의 공정에 있어서 흡수층의 표면을 실리콘 블랭킷의 표면에 가능한 한 간극 없이 밀착시켜, 상기 흡수층에 의한 용제 흡수능을 충분히 발휘시키면서, 실리콘 블랭킷에 함침된 용제를 효율적으로, 게다가 다량으로 흡수층으로 이동시켜 제거할 수 있어, 인쇄 초기로부터 장기간에 걸쳐 실리콘 블랭킷의 지나친 팽윤을 억제할 수 있다.

또한, 인쇄를 정지하여 용제 흡수체를 교환하거나, 가열 등에 의해 용제 흡수체에 흡수된 용제를 제거하는 조작을 하는 빈도를 적게 할 수 있고, 인쇄의 택트 타임을 짧게 하여, 인쇄 방법에 의해 제조되는 제품의 생산성을 향상시킬 수 있다.

또 이들 효과를 더 향상시키기 위해서, 흡수층의 타입 A 듀로미터 경도는, 상기 범위 내에서도 A10/S 이상인 것이 바람직하고, A30/S 이하인 것이 바람직하다.

상기 흡수층의 타입 A 듀로미터 경도를 상기 범위 내의 임의의 값으로 조정하기 위해서는, 예컨대 흡수층을 형성하는 실리콘 고무 등으로서 상기 이액 부가 반응형의 것을 이용하는 경우에, 상기 주제와 경화제의 조합을 선택하거나, 양자의 배합 비율을 조정하는 것이 고려된다.

또한, 흡수층의 기초가 되는 실리콘 고무 등에, 예컨대 실리카, 탄산칼슘 등의 충전제를 첨가하는 것도 고려되고, 상기 충전제의 종류와 양을 조정함으로써, 흡수층의 타입 A 듀로미터 경도를 상기 범위 내의 임의의 값으로 조정할 수 있다. 단 충전제는, 흡수층의 표면 거칠기에 영향을 미치지 않기 위해서, 그 종류나 입자 직경을 선택하거나, 배합 비율을 설정하는 것이 바람직하다.

상기 흡수층의 표면의 산술 평균 거칠기(Ra)를 0.001 ㎛ 이상 0.1 ㎛ 이하이면서 조합하여 이용하는 실리콘 블랭킷의 표면의 상기 산술 평균 거칠기(Ra)보다도 작은 범위로 한정하고 있는 것은, 하기의 이유에 의한다.

즉, 흡수층의 표면의 산술 평균 거칠기(Ra)를 0.1 ㎛ 이하이면서 실리콘 블랭킷의 표면의 상기 산술 평균 거칠기(Ra)보다도 작게 함으로써, 상기 흡수층의 표면의, 실리콘 블랭킷의 표면에 대한 밀착성을 향상시킬 수 있다.

그 때문에 용제 흡수의 공정에 있어서 흡수층의 표면을 실리콘 블랭킷의 표면에 가능한 한 간극 없이 밀착시켜, 상기 흡수층에 의한 용제 흡수능을 충분히 발휘시키면서, 실리콘 블랭킷에 함침된 용제를 효율적으로, 게다가 다량으로 흡수층으로 이동시켜 제거할 수 있어, 인쇄 초기로부터 장기간에 걸쳐 실리콘 블랭킷의 지나친 팽윤을 억제할 수 있다.

단, 표면의 산술 평균 거칠기(Ra)가 0.001 ㎛ 미만인 높은 평활성을 갖는 흡수층을 구비한 용제 흡수체를 제조하는 것은 용이하지 않다.

또한, 제조할 수 있었다고 해도, 흡수층의 표면의, 실리콘 블랭킷의 표면에 대한 밀착성이 지나치게 높아져, 용제 흡수의 공정 후에 용제 흡수체를 실리콘 블랭킷의 표면으로부터 떼어내는 데 시간이 걸려, 상기 택트 타임이 길어져 제품의 생산성이 저하되어 버린다.

또, 상기 생산성의 문제나 택트 타임의 문제 등이 발생하는 것을 가능한 한 억제하면서, 흡수층의 표면의, 실리콘 블랭킷의 표면에 대한 밀착성을 더 향상시키는 것을 고려하면, 흡수층의 표면의 산술 평균 거칠기(Ra)는, 상기 범위 내에서도 0.005 ㎛ 이상인 것이 바람직하고, 0.05 ㎛ 이하인 것이 바람직하다.

흡수층의 표면의 산술 평균 거칠기(Ra)를 상기 범위 내의 임의의 값으로 조정하기 위해서는, 예컨대 상기 셀프 레벨링에 의한 흡수층의 형성에 이용하는 액상 또는 페이스트상의 실리콘 고무 등의 점도나 도포 두께를 조정하거나, 금형의 부형면의 표면 거칠기를 조정하면 된다. 또한, 소정의 표면 거칠기를 갖는 하지(下地) 상에 상기 액상 또는 페이스트상의 실리콘 고무 등을 도포하여 경화시킨 후 상기 하지로부터 박리하고, 기재와 접합시켜 용제 흡수체를 구성해도 된다. 또한, 상기 중 어느 하나의 제조 공정을 거쳐 제조된 용제 흡수체의, 흡수층의 표면을 연마 등 하여 산술 평균 거칠기(Ra)를 조정해도 된다.

상기 흡수층의 두께는 0.1 ㎜ 이상, 특히 0.2 ㎜ 이상인 것이 바람직하고, 1 ㎜ 이하, 특히 0.5 ㎜ 이하인 것이 바람직하다.

두께가 상기 범위 미만인 얇은 흡수층에는 충분한 양의 용제를 흡수시킬 수 없기 때문에, 용제 흡수체를 교환하거나, 가열 등에 의해 용제를 제거하는 조작을 하는 빈도가 많아지고, 그 만큼 인쇄의 택트 타임이 길어져 제품의 생산성이 저하될 우려가 있다.

또한, 두께가 상기 범위를 초과하는 경우에는, 흡수층의 유연성과, 그에 따른 실리콘 블랭킷의 표면에의 추종성이 저하되어, 예컨대 블랭킷 동체(胴體)의 외주에 권회(捲回)되는 등의 상태로 사용되는 실리콘 블랭킷의 표면에, 상기 흡수층을 가능한 한 간극 없이 밀착시킨 상태로 용제를 흡수시킬 수 없을 우려가 있다.

또한, 흡수층의 중량이 증가하여, 상기한 바와 같이 실리콘 블랭킷의 표면에 접촉시킬 때의 취급성이 저하되거나, 상기 취급 시에 기재가 꺾이거나 주름지기 쉬워질 우려도 있다.

기재로서는, 여러 가지 수지의 필름 또는 시트나, 금속의 박판 등을 들 수 있다. 이 중 수지의 필름 또는 시트로서는, 폴리에틸렌테레프탈레이트(PET), 폴리염화비닐, 폴리에틸렌, 폴리프로필렌, 폴리스티렌 및 그 공중합물, 폴리염화비닐리덴, 폴리비닐알코올, 불소 수지, 폴리카보네이트, 셀룰로오스아세테이트, 폴리아미드, 폴리이미드, 변성 폴리페닐렌에테르, 폴리술폰, 폴리아릴레이트, 폴리에테르술폰, 폴리에테르에테르케톤, 폴리에테르이미드, 폴리페닐렌술파이드, TPX 폴리머, 및 폴리파라크실렌 등의 수지로 이루어지는 필름 또는 시트를 들 수 있다.

또한, 금속의 박판으로서는 구리 또는 그 합금, 알루미늄 또는 그 합금, 스테인리스강, 니켈 등의 금속으로 이루어지는 박판이 바람직하다.

특히 임의의 두께, 및 표면 거칠기를 갖는 필름형 또는 시트형으로 가공하기 쉽고, 또한 치수 안정성이 우수한 PET의 필름 또는 시트를 기재로서 이용하는 것이 바람직하다.

기재의 두께는 0.05 ㎜ 이상, 특히 0.1 ㎜ 이상인 것이 바람직하고, 0.35 ㎜ 이하, 특히 0.25 ㎜ 이하인 것이 바람직하다.

두께가 상기 범위 미만이면, 상기 기재에 의한, 흡수층의 지지체로서 용제 흡수체 전체의 강도를 유지하고 또한 양호한 취급성을 확보하는 효과가 충분히 얻어지지 않아, 취급 시에 기재가 꺾이거나 주름지기 쉬워질 우려도 있다.

또한, 두께가 상기 범위를 초과하는 경우에는, 용제 흡수체 전체로서의 유연성과, 그에 따른 실리콘 블랭킷의 표면에의 추종성이 저하되어, 예컨대 블랭킷 동체의 외주에 권회되는 등의 상태로 사용되는 실리콘 블랭킷의 표면에, 상기 흡수층을 가능한 한 간극 없이 접촉시킨 상태로 용제를 흡수시킬 수 없을 우려가 있다.

흡수층을 형성하기 전의 기재의 표면에는, 상기 흡수층의 밀착성을 높이기 위해서, 예컨대 플라즈마 처리, 프레임 처리 등의 전처리를 실시하거나, 임의의 하지층을 형성해도 된다.

흡수층은, 기재의 한쪽 면에 형성해도 되고, 양면에 형성해도 된다. 양면에 흡수층을 형성한 용제 흡수체는, 한쪽 면의 흡수층을 용제의 흡수에 사용한 후, 뒤집어 반대면의 흡수층을 용제의 흡수에 사용할 수 있다.

상기 용제 흡수체는, 인쇄 방법을 실시하는 인쇄기의 구조 등에 따라 임의의 형상으로 형성할 수 있고, 특히 벨트형(무단 벨트형을 포함함)으로 형성하는 것이 바람직하다. 이에 따라, 종래의, 상기 벨트형 등의 용제 흡수체를 이용하는 오프셋 인쇄기에 그대로 적용할 수 있다.

예컨대 용제 흡수체를 장척(長尺)의 벨트형으로 형성하여 롤형으로 권회해 두고, 상기 롤로부터 풀어낸 용제 흡수체의 소정 길이의 영역을 실리콘 블랭킷의 표면에 접촉시켜 용제를 흡수시키는 조작을, 동일한 영역을 이용하여 1회 내지 수회 행하고, 상기 소정 회의 조작을 행할 때마다, 상기 롤로부터 용제 흡수체의 새로운 영역을 풀어내어, 마찬가지로 용제 흡수에 사용할 수 있다.

또한, 용제 흡수체를 무단 벨트형으로 형성하고, 상기 용제 흡수체를 회전시키면서 실리콘 블랭킷의 표면에 접촉시켜 용제를 흡수시키는 조작을 1회 내지 수회 행할 때마다, 용제 흡수체를 가열하는 등 하여 흡수한 용제를 제거하면서, 상기 용제 흡수체를 용제 흡수에 반복 사용할 수 있다.

게다가 이 중 어느 경우에 있어서도, 용제 흡수체의 흡수층이 상기한 바와 같이 실리콘 블랭킷의 표면에 대한 양호한 밀착성을 가지며, 용제를 흡수하는 능력이 우수하기 때문에, 상기 종래의 오프셋 인쇄기를 이용하여 본 발명의 인쇄 방법을 실시했을 때에도 인쇄 초기로부터 장기간에 걸쳐 인쇄의 정밀도를 높은 레벨로 계속 유지하는 것이 가능해진다.

본 발명의 인쇄 방법은, 예컨대

(1) 오목판, 평판 등의 판의 표면에 패턴 형성한 잉크를 실리콘 블랭킷의 표면에 전사한 후, 피인쇄체로서의 기판의 표면에 재전사시키는 오프셋 인쇄 방법,

(2) 실리콘 블랭킷의 표면의 전체 면에 잉크를 도포한 후 오목판과 접촉시킴으로써, 상기 오목판의 오목부 이외의 영역과 접촉한 잉크를 선택적으로 실리콘 블랭킷의 표면으로부터 제거하여 상기 표면의 잉크층을 패턴 형성한 후, 상기 기판의 표면에 전사하는 반전 인쇄 방법,

(3) 실리콘 블랭킷의 표면에 직접적으로 잉크 패턴을 묘화한 후, 상기 기판의 표면에 전사하는 인쇄 방법

등의, 실리콘 블랭킷을 이용하는 여러 가지 인쇄 방법에 적용할 수 있다.

상기 각종의 인쇄 방법에 있어서, 인쇄하는 틈틈이, 실리콘 블랭킷의 표면에 용제 흡수체를 접촉시킴으로써, 상기 실리콘 블랭킷에 함침되는 용제를 상기 용제 흡수체에 의해 흡수하여 제거하는 공정을, 상기 용제 흡수체를 이용하여 실시할 수 있다. 이에 따라, 인쇄 초기로부터 장기간에 걸쳐 인쇄의 정밀도를 높은 레벨로 계속 유지하는 것이 가능해진다.

실리콘 블랭킷으로서는, 적어도 그 표면이 실리콘 고무 등에 의해 형성되고, 상기 표면의 거칠기 곡선의 산술 평균 거칠기(Ra)가 0.001 ㎛를 초과하고 1 ㎛ 이하인 것이 선택되어 사용된다. 구체적으로는, 예컨대 필름형 또는 시트형의 기재와, 상기 기재의 한쪽 면에 형성한, 적어도 실리콘 고무 등을 포함하는 조성물로 이루어지는 표면 고무층을 구비한 실리콘 블랭킷이 바람직하다.

상기 표면 고무층을 구성하는 실리콘 고무 등으로서는, 미경화 시에 액상 내지 페이스트상을 나타내는 액상의 실리콘 고무 또는 실리콘 수지가 바람직하다. 상기 액상의 실리콘 고무 등은, 예컨대 닥터나이프, 바코터, 롤코터 등을 이용하여 소정의 두께가 되도록 기재 상에 도포하고, 경화시켜 표면 고무층을 형성할 때에, 상기 표면 고무층의 표면을 상기 셀프 레벨링 효과에 의해 평활화하고, 표면 고무층의 두께를 균일화할 수 있다. 그 때문에 피인쇄체로서의 기판의 표면에 미세하고 또한 고정밀도의 패턴을 형성하기에 적합한 표면 평활성이 우수한 표면 고무층을 갖는 실리콘 블랭킷을, 연마 등의 공정을 거치지 않고서 생산성 좋게 제조할 수 있다. 또 필요에 따라 표면 고무층의 표면을 연마해도 되는 것은 물론이다.

또한, 실리콘 블랭킷은, 상기 액상 내지는 페이스트상을 나타내는 실리콘 고무 등을, 표면 고무층의 표면 형상에 대응하는 부형면을 가지며 기재를 세팅한 금형 내에 주입하여 경화시킴으로써 제조해도 된다.

상기 실리콘 고무 등으로서는, 역시 실온 경화형(RTV)인 것이 바람직하다. 상기 실온 경화형의 실리콘 고무 등은 가열하지 않아도 실온에서 경화시키는 것이 가능하기 때문에, 실리콘 블랭킷의 제조 공정 및 제조를 위한 설비를 간략화할 수 있고, 또한 가열에 의한 팽창과 냉각 시의 수축을 거치지 않기 때문에, 표면 고무층의 두께의 정밀도를 향상시킬 수 있다.

또한, 상기 실리콘 고무 등으로서는, 주제와 경화제의 2성분으로 이루어지고, 상기 양자를 부가 반응에 의해 경화시킬 수 있는 이액 부가 반응형의 것이 바람직하다.

상기 이액 부가 반응형의 실리콘 고무 등은, 경화 반응 시에 상기 저분자량의 폴리실록산 이외에는 저분자량의 성분(부생성물, 예컨대 탈수 축합 반응에 의한 물 등)을 발생시키지 않기 때문에, 표면 고무층의 치수 정밀도를 향상시키고, 또한 상기 부생성물에 기초하는 기포 등을 포함하지 않는 균일한 표면 고무층을 형성할 수 있다.

상기 표면 고무층의 표면의 산술 평균 거칠기(Ra)를 0.001 ㎛ 초과 1 ㎛ 이하의 범위로 한정하고 있는 것은, 하기의 이유에 의한다.

즉, 표면 고무층의 표면의 산술 평균 거칠기(Ra)를 1 ㎛로 함으로써, 상기 표면에서의 잉크의 번짐에 의한 선폭의 증가 등을 억제할 수 있다. 그 때문에, 이러한 표면 고무층을 구비한 실리콘 블랭킷을 상기 용제 흡수체와 조합함으로써, 인쇄 초기로부터 장기간에 걸쳐 인쇄의 정밀도를 높은 레벨로 계속 유지하는 것이 가능해진다.

단, 표면의 산술 평균 거칠기(Ra)가 0.001 ㎛ 이하인 높은 평활성을 갖는 표면 고무층을 구비한 용제 흡수체를 제조하는 것은 용이하지 않다.

또한, 제조할 수 있었다고 해도, 표면 고무층의 표면의, 용제 흡수체의 표면(흡수층의 표면)에 대한 밀착성이 지나치게 높아져, 용제 흡수의 공정 후에 용제 흡수체를 실리콘 블랭킷의 표면으로부터 떼어내는 데 시간이 걸려, 상기 택트 타임이 길어져 제품의 생산성이 저하되어 버린다.

또, 상기 생산성의 문제나 택트 타임의 문제 등이 발생하는 것을 가능한 한 억제하면서, 잉크의 번짐에 의한 선폭의 증가 등을 억제하여, 인쇄 초기로부터 장기간에 걸쳐 정밀도가 높은 양호한 인쇄를 계속하는 것을 고려하면, 표면 고무층의 표면의 산술 평균 거칠기(Ra)는, 상기 범위 내에서도 0.005 ㎛ 이상인 것이 바람직하고, 0.1 ㎛ 이하인 것이 바람직하다.

표면 고무층의 표면의 산술 평균 거칠기(Ra)를 상기 범위 내의 임의의 값으로 조정하기 위해서는, 용제 흡수체의 흡수층과 동일하게 하면 된다. 예컨대 상기 셀프 레벨링에 의한 표면 고무층의 형성에 이용하는 액상 또는 페이스트상의 실리콘 고무 등의 점도나 도포 두께를 조정하거나, 금형의 부형면의 표면 거칠기를 조정하면 된다. 또한, 소정의 표면 거칠기를 갖는 하지 상에 상기 액상 또는 페이스트상의 실리콘 고무 등을 도포하여 경화시킨 후 상기 하지로부터 박리하고, 기재와 접합시켜 실리콘 블랭킷을 구성해도 된다. 또한, 상기 중 어느 하나의 제조 공정을 거쳐 제조된 실리콘 블랭킷의, 표면 고무층의 표면을 연마 등 하여 산술 평균 거칠기(Ra)를 조정해도 된다.

앞서 설명한 PDP나 LCD의 구성 부품 등의 높은 인쇄 정밀도가 요구되는 정밀 인쇄용의 경우, 상기 표면 고무층은, 타입 A 듀로미터 경도가 A20/S 이상, 특히 A30/S 이상인 것이 바람직하고, A70/S 이하, 특히 A60/S 이하인 것이 바람직하다.

또한, 표면 고무층의 두께는 0.1 ㎜ 이상, 특히 0.3 ㎜ 이상인 것이 바람직하고, 1 ㎜ 이하, 특히 0.7 ㎜ 이하인 것이 바람직하다.

기재로서는, 앞서 설명한 용제 흡수체에 있어서 사용한 것과 동일한 여러 가지 수지의 필름 또는 시트, 또한, 금속의 박판 등을 들 수 있고, 특히 임의의 두께, 및 표면 거칠기를 갖는 필름형 또는 시트형으로 가공하기 쉬우며, 또한, 치수 안정성이 우수한 PET의 필름 또는 시트가 바람직하다.

기재의 두께는, 상기 정밀 인쇄용의 실리콘 블랭킷의 경우는 0.1 ㎜ 이상, 특히 0.2 ㎜ 이상인 것이 바람직하고, 0.7 ㎜ 이하, 특히 0.5 ㎜ 이하인 것이 바람직하다.

표면 고무층을 형성하기 전의 기재의 표면에는, 상기 표면 고무층의 밀착성을 높이기 위해서, 예컨대 플라즈마 처리, 프레임 처리 등의 전처리를 실시하거나, 임의의 하지층을 형성해도 된다.

<실시예>

이하의 실리콘 블랭킷 및 용제 흡수체의 제작, 고무 경도 및 표면 거칠기의 측정, 및 실시예, 비교예, 종래예에 있어서의 인쇄와 그 평가를, 특별히 기재한 것 이외에는 온도 23±1℃, 상대 습도 55±1%의 환경하에서 실시하였다. 또 실리콘 블랭킷의 표면 고무층, 및 용제 흡수체의 흡수층의 타입 A 듀로미터 경도는, 각각 상기 환경하, 고분자계기(주) 제조의 아스카 고무 경도계 A형을 이용하여 측정하였다. 또한, 상기 표면 고무층, 및 흡수층의 표면의 산술 평균 거칠기(Ra)는, 상기 환경하, (주)기엔스 제조의 레이저 현미경 VK-9000을 이용하여 측정하였다.

〈실리콘 블랭킷 (a)〉

두께 0.35 ㎜의 PET 필름의 한쪽 면에, 표면의 산술 평균 거칠기(Ra)가 0.002 ㎛, 타입 A 듀로미터 경도가 A40/S이고, 또한 두께가 0.55 ㎜인 표면 고무층을 적층하여 실리콘 블랭킷 (a)를 제작하였다.

〈실리콘 블랭킷 (b)∼(g)〉

표면 고무층의 표면의 산술 평균 거칠기(Ra)를 0.05 ㎛[실리콘 블랭킷 (b)], 0.1 ㎛[실리콘 블랭킷 (c)], 0.11 ㎛[실리콘 블랭킷 (d)], 0.5 ㎛[실리콘 블랭킷 (e)], 1.0 ㎛[실리콘 블랭킷 (f)], 및 1.2 ㎛[실리콘 블랭킷 (g)]로 한 것 이외에는 실리콘 블랭킷 (a)와 동일하게 하여 상기 각 실리콘 블랭킷을 제작하였다.

각 실리콘 블랭킷을 구성하는 PET 필름 및 표면 고무층의 두께, 및 표면 고무층의 타입 A 듀로미터 경도는, 모두 실리콘 블랭킷 (a)와 동일하게 하였다.

〈용제 흡수체 (1)〉

두께 0.188 ㎜의 PET 필름의 한쪽 면에, 실온 경화형이고, 또한 이액 부가 반응형의 액상 실리콘 고무〔신에츠 가가쿠 고교(주) 제조의 KE1603〕의 주제와 경화제를 질량비 1:1로 배합한 것을 도포한 후 24시간 정치(靜置)하여 경화시키고, 표면의 산술 평균 거칠기(Ra)가 0.001 ㎛, 타입 A 듀로미터 경도가 A28/S이며, 또한 두께가 0.35 ㎜인 흡수층을 형성하여 용제 흡수체 (1)을 제작하였다.

〈용제 흡수체 (2)〉

흡수층의 표면의 산술 평균 거칠기(Ra)를 0.01 ㎛, 상기 흡수층의 타입 A 듀로미터 경도를 A3/S로 한 것 이외에는 용제 흡수체 (1)과 동일하게 하여 용제 흡수체 (2)를 제작하였다.

〈용제 흡수체 (3)〉

흡수층의 표면의 산술 평균 거칠기(Ra)를 0.01 ㎛, 상기 흡수층의 타입 A 듀로미터 경도를 A20/S로 한 것 이외에는 용제 흡수체 (1)과 동일하게 하여 용제 흡수체 (3)을 제작하였다.

〈용제 흡수체 (4)〉

흡수층의 표면의 산술 평균 거칠기(Ra)를 0.01 ㎛, 상기 흡수층의 타입 A 듀로미터 경도를 A28/S로 한 것 이외에는 용제 흡수체 (1)과 동일하게 하여 용제 흡수체 (4)를 제작하였다.

〈용제 흡수체 (5)〉

흡수층의 표면의 산술 평균 거칠기(Ra)를 0.03 ㎛, 상기 흡수층의 타입 A 듀로미터 경도를 A8/S로 한 것 이외에는 용제 흡수체 (1)과 동일하게 하여 용제 흡수체 (5)를 제작하였다.

〈용제 흡수체 (6)〉

흡수층의 표면의 산술 평균 거칠기(Ra)를 0.03 ㎛, 상기 흡수층의 타입 A 듀로미터 경도를 A28/S로 한 것 이외에는 용제 흡수체 (1)과 동일하게 하여 용제 흡수체 (6)을 제작하였다.

〈용제 흡수체 (7)〉

흡수층의 표면의 산술 평균 거칠기(Ra)를 0.03 ㎛, 상기 흡수층의 타입 A 듀로미터 경도를 A45/S로 한 것 이외에는 용제 흡수체 (1)과 동일하게 하여 용제 흡수체 (7)을 제작하였다.

〈용제 흡수체 (8)〉

흡수층의 표면의 산술 평균 거칠기(Ra)를 0.03 ㎛, 상기 흡수층의 타입 A 듀로미터 경도를 A50/S로 한 것 이외에는 용제 흡수체 (1)과 동일하게 하여 용제 흡수체 (8)을 제작하였다.

〈용제 흡수체 (9)〉

흡수층의 표면의 산술 평균 거칠기(Ra)를 0.03 ㎛, 상기 흡수층의 타입 A 듀로미터 경도를 A55/S로 한 것 이외에는 용제 흡수체 (1)과 동일하게 하여 용제 흡수체 (9)를 제작하였다.

〈용제 흡수체 (10)〉

흡수층의 표면의 산술 평균 거칠기(Ra)를 0.08 ㎛, 상기 흡수층의 타입 A 듀로미터 경도를 A28/S로 한 것 이외에는 용제 흡수체 (1)과 동일하게 하여 용제 흡수체 (10)을 제작하였다.

〈용제 흡수체 (11)〉

흡수층의 표면의 산술 평균 거칠기(Ra)를 0.1 ㎛, 상기 흡수층의 타입 A 듀로미터 경도를 A28/S로 한 것 이외에는 용제 흡수체 (1)과 동일하게 하여 용제 흡수체 (11)을 제작하였다.

〈용제 흡수체 (12)〉

흡수층의 표면의 산술 평균 거칠기(Ra)를 0.1 ㎛, 상기 흡수층의 타입 A 듀로미터 경도를 A50/S로 한 것 이외에는 용제 흡수체 (1)과 동일하게 하여 용제 흡수체 (12)를 제작하였다.

〈용제 흡수체 (13)〉

흡수층의 표면의 산술 평균 거칠기(Ra)를 0.12 ㎛, 상기 흡수층의 타입 A 듀로미터 경도를 A28/S로 한 것 이외에는 용제 흡수체 (1)과 동일하게 하여 용제 흡수체 (13)을 제작하였다.

〈용제 흡수체 (14)〉

흡수층을 우레탄 수지〔히타치 가세이 고교(주) 제조의 KU7002〕에 의해 형성하고, 상기 흡수층의 표면의 산술 평균 거칠기(Ra)를 0.03 ㎛, 타입 A 듀로미터 경도를 A28/S로 한 것 이외에는 용제 흡수체 (1)과 동일하게 하여 용제 흡수체 (14)를 제작하였다.

또 용제 흡수체 (2)∼(14)를 구성하는 PET 필름 및 흡수층의 두께는, 모두 용제 흡수체 (1)과 동일하게 하였다.

〈실시예 1〉

오목판 오프셋 인쇄기〔나칸(주) 제조, 300 ㎜×400 ㎜ 대응의 평판형 정밀 인쇄기〕의 블랭킷 동체의 외주에, 상기 실리콘 블랭킷 (b)를 권회하여 고정하였다.

또한, 오목판으로서는, 유리 기판의 한쪽 면에 선폭 20 ㎛, 피치 300 ㎛, 깊이 7.5 ㎛의 오목부를 패턴 형성한 것을 이용하였다.

잉크로서는, 폴리에스테르 수지 100 질량부, 은 분말 900 질량부, 유리 프릿 25 질량부, 및 부틸카르비톨 80 질량부를, 3본롤을 이용해서 혼련하여 조제한 것을 이용하였다. 또한, 피인쇄체로서는, 두께 2.8 ㎜의 유리 기판〔아사히 가라스(주) 제조의 PD200〕을 이용하였다.

또한, 상기 용제 흡수체 (5)를, 양단을 서로 연결시켜 무단 벨트형으로 하고, 상기 블랭킷 동체의 외주에 휘감은 실리콘 블랭킷 (b)와 동기 회전시키면서 서로 접촉시켜 용제 흡수의 공정을 실시할 수 있도록 세팅하였다. 동기 회전 시의 무단 벨트의 이송 속도는 40 ㎜/s로 설정하였다. 용제 흡수의 공정은, 인쇄를 1회 행할 때마다 실시하였다.

인쇄 조건은, 오목판으로부터 실리콘 블랭킷의 표면으로의 잉크의 전사 속도를 70 ㎜/s, 실리콘 블랭킷의 표면으로부터 유리 기판의 표면으로의 잉크의 전사 속도를 150 ㎜/s로 설정하고, 상기 유리 기판을 교환하면서 200회의 연속 인쇄를 하였다.

〈실시예 2∼12, 비교예 1∼6〉

표 1에 나타내는 실리콘 블랭킷과 용제 흡수체를 조합하여 이용한 것 이외에는 실시예 1과 동일하게 하여 200회의 연속 인쇄를 하였다.

〈종래예 1〉

용제 흡수체를 편입시키지 않고, 따라서 용제 흡수의 공정을 실시하지 않은 것 이외에는 실시예 1과 동일하게 하여 200회의 연속 인쇄를 하였다.

〈인쇄 특성의 평가〉

상기 각 실시예, 비교예, 종래예에 있어서 인쇄를 10회 행할 때마다, 유리 기판의 표면에 인쇄된 패턴 상의 소정의 5개소의 위치에서 상기 패턴의 선폭을 측정하여, 200회의 연속 인쇄 동안에 선폭의 변동이 ±2 ㎛를 초과한 것을 불량(×), 상기 변동이 ±2 ㎛ 이내였던 것을 양호(○), ±1 ㎛ 이내였던 것을 우량(◎)으로 평가하였다.

또한, 인쇄를 10회 행할 때마다, 잉크를 유리 기판의 표면에 전사한 후의 실리콘 블랭킷의 표면을 관찰하여, 상기 표면에 잉크가 남아 있던 것을 파일링(piling) 있음, 불량(×), 잉크가 남아 있지 않은 것을 파일링 없음, 양호(○)로 평가하였다.

이상의 결과를 표 1에 나타낸다.

표의 종래예 1의 결과로부터, 용제 흡수체를 이용한 용제 흡수의 공정을 실시하지 않은 경우에는, 실리콘 블랭킷의 팽윤과 그에 따른 잉크의 번짐에 의한 선폭의 변동(증가 방향으로의 변동, 선폭이 굵어짐)이 커지고, 이형제로서의 저분자량의 폴리실록산의 부족에 의한 파일링이 발생하는 것을 알 수 있었다. 게다가 종래예 1에서는, 최초의 인쇄 10회째의 측정 및 관찰에 있어서 이들의 문제가 발생하고 있는 것이 확인되었다.

비교예 1의 결과로부터, 용제 흡수체의 흡수층의 타입 A 듀로미터 경도가 A5/S 미만이면 실리콘 블랭킷과의 밀착성이 지나치게 높아져, 상기 실리콘 블랭킷 중의 용제를 지나치게 흡수해 버리기 때문에, 소정의 선폭을 유지할 수 없어 선폭의 변동(감소 방향으로의 변동, 선폭이 가늘어짐)이 커지는 것을 알 수 있었다.

비교예 2의 결과로부터, 상기 흡수층의 타입 A 듀로미터 경도가 A50/S를 초과하는 경우에는, 용제 흡수체의 유연성이 불충분하여, 상기 흡수층의 표면을 실리콘 블랭킷의 표면에 간극 없이 밀착할 수 없기 때문에, 또한 흡수층 자체의 용제 흡수량이 적기 때문에, 인쇄를 반복했을 때에, 상기 실리콘 블랭킷의 팽윤과 그에 따른 잉크의 번짐에 의해 선폭의 증가 방향으로의 변동이 커지는 것을 알 수 있었다.

비교예 3의 결과로부터, 실리콘 블랭킷의 표면보다 흡수층의 표면의 산술 평균 거칠기(Ra)가 큰 경우에는, 용제 흡수체의 유연성이 불충분하여, 상기 흡수층의 표면을 실리콘 블랭킷의 표면에 간극 없이 밀착할 수 없기 때문에, 인쇄를 반복했을 때에, 상기 실리콘 블랭킷의 팽윤과 그에 따른 잉크의 번짐에 의해 선폭의 증가 방향으로의 변동이 커지는 것을 알 수 있었다.

비교예 4의 결과로부터, 흡수층을 실리콘 고무 또는 실리콘 수지 이외의 수지에 의해 형성한 경우에는, 이형제로서의 저분자량의 폴리실록산의 부족에 의한 파일링이 발생하는 것을 알 수 있었다.

비교예 5의 결과로부터, 흡수층의 표면의 산술 평균 거칠기(Ra)가 0.1 ㎛를 초과하는 경우에는, 상기 흡수층의 표면을 실리콘 블랭킷의 표면에 간극 없이 밀착할 수 없기 때문에, 인쇄를 반복했을 때에, 상기 실리콘 블랭킷의 팽윤과 그에 따른 잉크의 번짐에 의해 선폭의 증가 방향으로의 변동이 커지는 것을 알 수 있었다.

또한, 비교예 6의 결과로부터, 실리콘 고무의 표면의 산술 평균 거칠기(Ra)가 1 ㎛를 초과하는 경우에는, 잉크의 번짐에 의한 선폭의 증가 방향으로의 변동이 커지는 것을 알 수 있었다.

이에 비하여, 실시예 1∼12의 결과로부터, 실리콘 블랭킷의 표면의 산술 평균 거칠기(Ra)를 0.001 ㎛ 초과 1 ㎛ 이하의 범위 내, 흡수층의 타입 A 듀로미터 경도를 A5/S 이상 A50/S 이하의 범위 내, 상기 흡수층의 표면의 산술 평균 거칠기(Ra)를 0.001 ㎛ 이상 0.1 ㎛ 이하의 범위 내로 하고, 또한 상기 실리콘 블랭킷의 표면보다 흡수층의 표면의 산술 평균 거칠기(Ra)를 작게 한 경우에는, 인쇄를 반복해도, 실리콘 블랭킷의 팽윤과 그에 따른 잉크의 번짐이나, 이형제의 부족에 의한 파일링 등을 발생시키지 않고서, 인쇄 초기로부터 장기간에 걸쳐 인쇄의 정밀도를 높은 레벨로 유지할 수 있는 것을 알 수 있었다.

또한, 실시예 1∼12의 결과로부터, 실리콘 블랭킷의 표면의 산술 평균 거칠기(Ra)는, 상기 범위 내에서도 0.005 ㎛ 이상 0.1 ㎛ 이하인 것이 바람직하고, 흡수층의 타입 A 듀로미터 경도는, 상기 범위 내에서도 A10/S 이상 A30/S 이하인 것이 바람직하며, 상기 흡수층의 표면의 산술 평균 거칠기(Ra)는, 상기 범위 내에서도 0.005 ㎛ 이상, 0.05 ㎛ 이하인 것이 바람직한 것을 알 수 있었다.

Claims (3)

1. 적어도 표면을 실리콘 고무 또는 실리콘 수지에 의해 형성한 실리콘 블랭킷의 상기 표면에 담지시킨 잉크를 피인쇄체의 표면에 전사시켜, 상기 피인쇄체의 표면에 상기 잉크로 이루어지는 패턴을 인쇄하는 인쇄 방법으로서, 상기 실리콘 블랭킷의 표면에 용제 흡수체를 접촉시킴으로써, 상기 잉크 중에 포함되어 상기 실리콘 블랭킷에 함침되는 용제를 상기 용제 흡수체에 의해 흡수하여 제거하는 공정을 포함하고, 상기 실리콘 블랭킷 및 용제 흡수체로서,
   (1) 상기 표면의 거칠기 곡선의 산술 평균 거칠기(Ra)가 0.001 ㎛를 초과하고 1 ㎛ 이하인 실리콘 블랭킷과,
   (2) 적어도 표면을 실리콘 고무 또는 실리콘 수지에 의해 형성한, 타입 A 듀로미터 경도가 A5/S 이상 A50/S 이하, 상기 표면의 산술 평균 거칠기(Ra)가 0.001 ㎛ 이상 0.1 ㎛ 이하이고, 또한 상기 실리콘 블랭킷의 표면보다도 상기 산술 평균 거칠기(Ra)가 작은 용제 흡수체
   를 조합하여 이용하는 것을 특징으로 하는 인쇄 방법.
2. 제1항에 기재된 인쇄 방법에 이용하는 용제 흡수체로서, 필름형 또는 시트형의 기재와, 상기 기재의 적어도 한쪽 면에 형성한, 실리콘 고무 또는 실리콘 수지를 포함하고, 타입 A 듀로미터 경도가 A5/S 이상 A50/S 이하, 표면의 산술 평균 거칠기(Ra)가 0.001 ㎛ 이상 0.1 ㎛ 이하이며, 또한, 조합하여 이용하는, 표면의 산술 평균 거칠기(Ra)가 0.001 ㎛ 이상 1 ㎛ 이하인 실리콘 블랭킷보다도 상기 산술 평균 거칠기(Ra)가 작은 흡수층을 구비하는 것을 특징으로 하는 용제 흡수체.
3. 제2항에 있어서, 벨트형으로 형성되어 있는 용제 흡수체.