KR20110035840A - 용제 흡수체 - Google Patents

Abstract

본 발명은 종래에 비해서 교환이나 용제 제거의 조작을 빈번하게 행할 필요가 없기 때문에, 인쇄의 택트 타임을 짧게 하여 제품의 생산성을 향상시킬 수 있는 신규한 용제 흡수체를 제공한다.
상기 용제 흡수체는, 기재(基材) 상에, 실리콘 블랭킷의 표면에 접촉하여 상기 실리콘 블랭킷에 함침된 용제를 흡수하여 제거하기 위한 흡수층을 마련함과 동시에, 상기 흡수층을, 상기 실리콘 블랭킷의 표면에 접촉하는 표면을 구성하는 표층과, 상기 표층으로부터 기재측에 배치되는, 상기 표층보다 상기 용제의 팽윤율이 높은 층(하층)을 포함하는 2층 이상의 적층 구조로 한 용제 흡수체이다.

Description

용제 흡수체{SOLVENT ABSORBER}

본 발명은 실리콘 블랭킷의 표면에 담지시킨 잉크를 피인쇄체의 표면에 전사시켜 상기 표면에 상기 잉크로 이루어지는 소정의 패턴을 인쇄하기 위한 인쇄 방법에 있어서, 상기 잉크 중에 포함되어, 상기 실리콘 블랭킷에 함침되는 용제를 흡수하여 제거하기 위해 사용하는 용제 흡수체에 관한 것이다.

오프셋 인쇄 방법은, 잉크 패턴을 간이하게, 또한 적은 공정 수로 효율 좋게 다량으로, 더구나 저렴하게 형성할 수 있는 이점을 가지고 있고, 또한 최근에 이르러 인쇄 정밀도의 향상이 도모되고 있기 때문에, 특히 일렉트로닉스 분야에서 이용이 광범위해지고 있다.

예컨대 전기 배선의 패턴이나 형광체의 패턴, 혹은 플라즈마 디스플레이 패널(PDP)이나 액정 디스플레이 패널(LCD)의 구성 부품 등에서의 각종 패턴과 같은, 미세하며 또한 고정밀도의 패턴의 형성이 요구되는 분야에서, 종래의 포토리소그래프법에 따른 패턴 형성 대신에, 상기 오프셋 인쇄 방법이 보급되어 오고 있다.

오프셋 인쇄 방법에서는, 판의 표면에 패턴 형성한 잉크를 블랭킷의 표면에 전사시킨 후, 피인쇄체로서의 기판의 표면에 재차 전사시킴으로써, 상기 기판의 표면에 소정의 패턴이 인쇄된다.

블랭킷으로서는, 적어도 그 표면을, 잉크에 대한 이형성(離型性)이 우수한 실리콘 고무 또는 실리콘 수지에 의해 형성한 실리콘 블랭킷이 널리 이용된다.

실리콘 블랭킷은 잉크와 반복하여 접촉하기 때문에, 특히 피인쇄체가 유리 기판 등의 용제를 흡수하지 않는 재료로 이루어질 때, 인쇄를 반복하는 동안에 상기 잉크 중에 포함되는 용제가 함침되어 상기 실리콘 블랭킷이 서서히 팽윤하고, 그에 따라 잉크에 대한 실리콘 블랭킷의 표면의 습윤성이 서서히 상승한다. 그 때문에, 인쇄 초기부터 장기간에 걸쳐 인쇄의 정밀도를 높은 레벨로 계속 유지하는 것은 곤란하다.

실리콘 고무나 실리콘 수지를 거의 팽윤시키지 않는 습윤성이 낮은 용제를 포함하는 잉크를 사용하면, 인쇄를 반복하여도 상기 습윤성은 거의 변화하지 않기 때문에, 안정된 인쇄를 행할 수 있다고 생각된다. 그러나 습윤성이 낮은 용제를 포함하는 잉크는, 판의 표면으로부터 실리콘 블랭킷의 표면으로의 수리성이 낮기 때문에, 특히 세선의 패턴에서 단선을 발생시키기 쉽다.

단선은 가장 회피하여야 할 불량의 하나이며, 그것을 방지하기 위해서는 실리콘 블랭킷을 어느 정도는 팽윤시킬 수 있는 용제를 사용하지 않으면 안 된다. 그런데 상기 용제를 포함하는 잉크를 사용하여 인쇄를 반복하면 실리콘 블랭킷이 서서히 팽윤하여, 잉크에 대한 습윤성이 서서히 상승하여, 이형성이 서서히 저하한다. 그리고 습윤성의 상승에 따라 잉크가 번지기 쉬워져, 특히 세선의 패턴의 선폭이 서서히 넓어지거나, 판 표면의 미소한 오물을 전사하게 되거나 하며, 또한 이형성의 저하에 따라 실리콘 블랭킷으로부터 기판으로의 잉크의 전사성이 서서히 저하하게 되어 인쇄의 정밀도가 저하한다.

실리콘 블랭킷을 가열하여 팽윤한 용제를 제거하는 것이 고려되고 있다. 그러나 그를 위해서는 실리콘 블랭킷을 대략 40∼200℃ 정도로 가열할 필요가 있어, 가열 직후의 표면 온도가 높은 실리콘 블랭킷을 판에 접촉시키면, 상기 판이 열팽창하여 인쇄의 정밀도가 저하한다고 하는 문제가 있다.

실리콘 블랭킷의 표면에, 용제를 흡수하는 기능을 갖는 용제 흡수체를 접촉시켜, 상기 실리콘 블랭킷 중에 함침된 용제를 용제 흡수체로 이동시켜 제거하는 것이 제안되어 있다(특허문헌 1, 2 등 참조). 이 방법에 따르면 실리콘 블랭킷을 가열하지 않고 용제를 제거할 수 있기 때문에, 인쇄의 정밀도를 높은 레벨로 유지할 수 있다. 용제 흡수체에 의한 용제의 제거는, 1회 내지 수회의 인쇄마다 실시된다.

상기 방법에 이용하는 용제 흡수체는, 기재(基材)의 적어도 편면에, 실리콘 블랭킷의 표면과 거의 동등한 실리콘 고무 또는 실리콘 수지로 이루어지는 단층의 흡수층을 적층하여 구성되는 것이 일반적이다.

[특허문헌]

특허문헌 1: 일본 특허 공개 평성 제8-156388호 공보

특허문헌 2: 일본 특허 공개 제2009-119709호 공보

그러나, 상기 종래의 용제 흡수체의 흡수층은, 용제의 흡수 용이성에 대해서도 실리콘 블랭킷과 거의 동등하며, 단순히 함침하고 있는 용제의 농도차에 기초하여 용제를 흡수하고 있는 것에 지나지 않아, 실리콘 블랭킷의 표면에 접촉시켜 용제를 흡수하는 조작을 반복해서 행하는 동안에, 흡수된 용제에 의해 흡수층 그 자체가 팽윤하여 서서히 용제를 흡수하기 어려워지는 경향이 있다.

그 때문에, 예컨대 용제 흡수체의 사용 횟수를 미리 설정해 두고, 소정의 사용 횟수에 달한 시점에서 새로운 용제 흡수체로 교환하는 것 등이 고려되고 있다.

구체적으로는, 예컨대 용제 흡수체를 긴 벨트형으로 형성하여 롤형으로 권회(捲回)해 두고, 상기 롤로부터 풀어낸 용제 흡수체의 소정 길이의 영역을 실리콘 블랭킷의 표면에 접촉시켜 용제를 흡수시키는 조작을, 동일한 영역을 이용하여 1회 내지 수회 행함과 동시에, 상기 소정 횟수의 조작을 행할 때마다, 상기 롤로부터 용제 흡수체가 새로운 영역을 풀어내어, 마찬가지로 용제 흡수에 사용하는 것 등이 검토되고 있다.

또한 용제 흡수체를 무단 벨트형으로 형성하고, 상기 용제 흡수체를 회전시키면서 실리콘 블랭킷의 표면에 접촉시켜 용제를 흡수시키는 조작을 1회 내지 수회 행할 때마다, 용제 흡수체를 가열하는 등 하여 흡수된 용제를 제거하면서, 상기 용제 흡수체를 용제 흡수에 반복 사용하는 것도 검토되고 있다.

그러나 어떤 조작을 행하여도, 그 동안은 인쇄를 스톱시키지 않으면 안 되기 때문에, 이들 조작을 빈번하게 행할수록 오프셋 인쇄 방법의 택트 타임, 즉 오프셋 인쇄기에 기판을 셋트하고, 앞서 설명한 순서에 따라 상기 기판의 표면에 잉크를 인쇄하여 패턴을 형성한 후 오프셋 인쇄기에 새로운 기판을 셋트할 때까지 필요한 평균 시간이 길어져, 오프셋 인쇄 방법에 의해 제조되는 제품의 생산성이 저하한다고 하는 문제를 일으킨다.

또한, 상기와 같이 용제 흡수체를 교환하거나, 가열하여 용제를 제거하거나 하는 조작을 빈번하게 행하는 것은 자원 절약, 에너지 절약의 관점에서도 결코 바람직한 것이 아니다.

본 발명의 목적은, 종래에 비해서 교환이나 용제 제거의 조작을 빈번하게 행할 필요가 없기 때문에, 상기 인쇄의 택트 타임을 짧게 하여 제품의 생산성을 향상시킬 수 있는 신규한 용제 흡수체를 제공하는 것에 있다.

본 발명은, 필름형 또는 시트형의 기재와, 상기 기재의 적어도 편면에 형성된 흡수층을 구비하고, 실리콘 블랭킷을 이용한 인쇄 방법에 이용하는 잉크 중에 포함되어 상기 실리콘 블랭킷에 함침되는 용제를, 상기 흡수층의 표면을 상기 실리콘 블랭킷의 표면에 접촉시킴으로써, 상기 흡수층에 의해 흡수하여 제거하기 위한 용제 흡수체로서, 상기 흡수층을, 상기 표면을 구성하는 표층을 포함하는 2층 이상의 적층 구조로 하고, 또한 상기 표층으로부터 기재측에, 상기 표층보다도 상기 용제의 팽윤율이 높은 층을 배치한 것을 특징으로 하는 용제 흡수체이다.

팽윤율이란, 고무 또는 수지로 이루어지는 소정의 층이, 전혀 용제를 흡수하고 있지 않은 건조 상태로부터 시작하여 일정 시간 내에 흡수할 수 있는 용제의 양, 즉 그 층이 건조 상태로부터 얼마만큼의 용제를 흡수할 수 있는 능력을 갖는지를 나타내는 지표이며, 팽윤율이 높을수록, 그 층은 용제를 흡수하는 능력이 우수하고, 일정 시간 내에 보다 많은 용제를 흡수할 수 있는 것을 나타내고 있다.

본 발명자가 검토한 바, 상기 팽윤율이 다른 2층을 적층하고, 그 중 팽윤율이 낮은 쪽의 층에 용제를 함침시키면, 함침된 용제는, 상기 팽윤율의 차에 기초하여 팽윤율이 높은 쪽의 층으로 이동한다고 하는 현상을 발생시킨다.

본 발명은 이 현상을 이용한 것이며, 상기한 바와 같이 흡수층을, 표층을 포함하는 2층 이상의 적층 구조로 하고, 또한 상기 표층으로부터 기재측(하측)에, 상기 표층보다도 용제의 팽윤율이 높은 층을 배치하고 있기 때문에, 용제 흡수의 공정에서 실리콘 블랭킷으로부터 흡수층으로 이동한 용제의 대부분은 상기 표층에 머무르는 일 없이, 상기 팽윤율의 차이에 기초하여 하측의 층으로 이동한다.

그 때문에 흡수층의 표면인 표층의 표면을, 용제의 함침량이 적으며 용제를 흡수하기 쉬운 상태로 비교적 길게 계속 유지할 수 있고, 종래에 비해서 교환이나 용제 제거의 조작을 행하는 빈도를 적게 하며, 인쇄의 택트 타임을 짧게 하여 제품의 생산성을 향상시키는 것이 가능해진다.

또한 팽윤율을, 본 발명에서는 실온 23±1℃, 상대 습도 55±1%의 환경 하, 하기의 측정을 하여 구한 값으로 나타내는 것으로 한다.

즉, 우선 흡수층을 구성하는 각 층(표층 등)을 형성하는 것과 동일한 재료에 의해 각각 샘플을 제작하고, 상기 샘플의, 용제를 전혀 흡수하고 있지 않은 건조 상태에서의 질량(W₁)을 측정한 후, 실제로 사용하는 잉크에 포함되는 용제 중에 샘플의 전체가 잠기도록 침지하여 2시간 정치한다.

계속해서, 용제 중으로부터 끌어올린 직후의 샘플의 질량(W₂)을 측정하여, 하기 수학식 1에 의해, 용제의 팽윤에 따른 질량 변화율로서의 팽윤율(%)을 구한다.

수학식 1

팽윤율(%)=[(W₂-W₁)/W₁]×100

흡수층은, 상기 표층과, 상기 표층보다도 용제의 팽윤율이 높은 하층의 2층 구조로 하는 것이 바람직하다. 이에 따라, 구조를 가능한 한 간략화하여 용제 흡수체의 생산성을 향상시킬 수 있다.

또한 상기 표층은, 실리콘 블랭킷의 표면을 형성하는 것과 동종의 실리콘 고무 또는 실리콘 수지에 의해 형성하는 것이 바람직하다. 이에 따라, 흡수층의 표면의 실리콘 블랭킷의 표면에의 밀착성을 높여, 상기 실리콘 블랭킷에 함침된 용제를 가능한 한 원활하게, 상기 흡수층에 의해 흡수하여 제거할 수 있다.

또한 실리콘 블랭킷의 표면이 이종 재료와의 접촉에 의해 오염되는 것을 방지하여, 상기 표면의 상태를 일정하게 유지할 수도 있다.

본 발명에 따르면, 종래에 비해서 교환이나 용제 제거의 조작을 빈번하게 행할 필요가 없기 때문에, 인쇄의 택트 타임을 짧게 하여 제품의 생산성을 향상시킬 수 있는 신규한 용제 흡수체를 제공할 수 있다.

본 발명은, 필름형 또는 시트형의 기재와, 상기 기재의 적어도 편면에 형성된 흡수층을 구비하고, 실리콘 블랭킷을 이용한 인쇄 방법에 이용하는 잉크 중에 포함되어 상기 실리콘 블랭킷에 함침되는 용제를, 상기 흡수층의 표면을 상기 실리콘 블랭킷의 표면에 접촉시킴으로써, 상기 흡수층에 의해 흡수하여 제거하기 위한 용제 흡수체로서, 상기 흡수층을 2층 이상의 층의 적층 구조로 하고, 또한 상기 적층 구조의 표층으로부터 기재측(하측)에, 상기 표층보다도 상기 용제의 팽윤율이 높은 층을 배치한 것을 특징으로 하는 것이다.

상기 흡수층 중 표층은, 실리콘 고무 또는 실리콘 수지(이하 「실리콘 고무 등」이라고 총칭하는 경우가 있음)에 의해 형성하는 것이 바람직하다. 이에 따라, 흡수층의 표면의, 실리콘 블랭킷의 표면에의 밀착성을 높여, 상기 실리콘 블랭킷에 함침된 용제를 가능한 한 원활하게, 상기 흡수층에 의해 흡수하여 제거할 수 있다. 또한 실리콘 블랭킷의 표면이 이종 재료와의 접촉에 의해 오염되는 것을 방지하여, 상기 표면의 상태를 일정하게 유지할 수도 있다.

상기 표층과 함께 흡수층을 구성하는 하측의 층은 단층이어도, 혹은 2층 이상의 복수층이어도 좋지만, 특히 단층인 것이 바람직하다. 즉 흡수층을, 상기 단층의 하층과 그 위의 표층의 2층 구조로 함으로써, 구조를 가능한 한 간략화하여 용제 흡수체의 생산성을 향상시킬 수 있다.

상기 하층은, 표층과 동종의 실리콘 고무 등에 의해 형성하는 것이 바람직하다. 이에 따라 상기 양층 사이에서의 밀착성을 높여, 실리콘 블랭킷으로부터 흡수된 용제를 표층으로부터 하층으로 가능한 한 원활하게 이동시킬 수 있다. 또한, 용제 흡수를 위해 용제 흡수체를 실리콘 블랭킷의 표면에 추종시켜 만곡시켰을 때 등에 양층 사이에서의 박리를 생기기 어렵게 할 수도 있다.

또한 표층은, 기재 상에 형성한 하층 상에, 후술하는 바와 같이 미경화 시에 액상 내지 페이스트상을 나타내는 실리콘 고무 등을 도포한 후 경화 반응시켜 형성하는 것이 바람직하지만, 하층을 동종의 실리콘 고무 등에 의해 형성한 경우에는, 상기 액상의 실리콘 고무 등을, 상기 하층 상에, 기포 등을 끌어들이거나 튕김 등을 발생시키거나 하는 일 없이 가능한 한 균일하게 도포할 수 있다.

또한, 도포 후의 실리콘 고무 등의 경화 반응이 이종 재료에 의해 저해되는 것을 방지할 수도 있다. 그 때문에 상기 하층 상에, 표면의 평활성이나 강도 등이 우수한 양호한 표층을 형성할 수 있다.

상기 실리콘 고무 등으로 이루어지는 하층에서의 용제의 팽윤율을 표층보다도 높게 하기 위해서는, 예컨대 팽윤에 기여하는 실리콘 고무 등의 가교도를 양층 사이에서 다르게 하거나, 상기 양층을 형성하는 실리콘 고무 등으로서 상기 팽윤율이 다른 것을 선택하여 조합하거나 하면 좋다.

표층과 하층의 팽윤율은 특별히 한정되지 않지만, 상기 표층의 팽윤율은 4% 이상, 특히 6%인 것이 바람직하고, 12% 미만, 특히 10% 이하인 것이 바람직하다.

표층의 팽윤율이 상기 범위 미만에서는, 상기 표층 그 자체에서의 용제를 흡수할 능력이 부족하여, 실리콘 블랭킷의 표면으로부터, 상기 용제를 단시간에 원활하게 흡수하여 제거할 수 없게 될 우려가 있다. 그 때문에 용제 흡수의 공정에 필요한 시간이 길어져, 인쇄의 택트 타임을 짧게 하는 효과가 불충분해질 우려가 있다.

한편, 표층의 팽윤율이 상기 범위를 넘는 경우에는, 상기 표층 그 자체에서의 용제를 흡수하는 능력이 너무 높기 때문에, 용제 흡수의 공정을 반복하는 동안에, 실리콘 블랭킷의 표면이 서서히 용제 부족의 상태가 될 우려가 있다. 그 때문에 오목판으로부터 실리콘 블랭킷의 표면으로의 잉크의 수리성이 서서히 저하하여, 특히 세선의 패턴의 선폭이, 반대로 서서히 좁아지거나, 단선을 발생시키거나 할 우려가 있다.

또한 하층의 팽윤율은, 상기 표층의 팽윤율보다 높으면 좋지만 12% 이상, 특히 14% 이상인 것이 바람직하고, 18% 이하, 특히 16% 이하인 것이 바람직하다.

하층의 팽윤율이 상기 범위 미만에서는, 조합하는 표층의 팽윤율에도 따르지만, 상기 표층의 팽윤율과의 차가 작아져, 상기 팽윤율의 차에 기초하여 표층에서 함침된 용제를 하층으로 원활하게 이동시킬 수 없어질 우려가 있다. 그 때문에 표층의 표면을, 용제의 함침량이 적으며 용제를 흡수하기 쉬운 상태로 비교적 길게 계속 유지함으로써 교환이나 용제 제거의 조작을 행하는 빈도를 적게 하여 인쇄의 택트 타임을 짧게 하는 효과가 불충분해질 우려가 있다.

또한 팽윤율이 상기 범위를 넘는 팽윤율이 높은 하층은 강도가 부족하여 빈번하게 교환할 필요를 발생시켜, 인쇄의 택트 타임을 짧게 하는 효과가 불충분해질 우려가 있다.

또한 표층과 하층의 팽윤율의 차는 3 포인트 이상, 특히 5 포인트 이상인 것이 바람직하고, 11 포인트 이하, 특히 9 포인트 이하인 것이 바람직하다.

팽윤율의 차가 상기 범위 미만에서는, 양층 사이의 팽윤율의 차가 작아져, 상기 팽윤율의 차에 기초하여 표층에서 함침된 용제를 하층으로 원활하게 이동시킬 수 없어질 우려가 있다. 그 때문에 표층의 표면을, 용제의 함침량이 적으며 용제를 흡수하기 쉬운 상태로 비교적 길게 계속 유지함으로써 교환이나 용제 제거의 조작을 행하는 빈도를 적게 하여 인쇄의 택트 타임을 짧게 하는 효과가 불충분해질 우려가 있다.

또한 상기 범위를 넘는 표층과 하층을 조합하려고 하면, 표층의 팽윤율이 상기 적합한 범위를 하회하거나, 혹은 하층의 팽윤율이 상기 적합한 범위를 넘게 되기 때문에, 어느 쪽의 경우도 인쇄의 택트 타임을 짧게 하는 효과가 불충분해질 우려가 있다.

상기 표층 및 하층을 구성하는 실리콘 고무 등으로서는, 앞서 설명한 바와 같이 미경화 시에 액상 내지 페이스트상을 나타내는 것이 바람직하다.

하층은, 상기 액상 내지 페이스트상을 나타내는 실리콘 고무 등을, 예컨대 닥터나이프, 바코터, 롤코터 등을 이용하여 소정의 두께가 되도록 기재 상에 도포한 후 경화시켜 형성할 수 있다. 그 때에, 소위 셀프 레벨링 효과에 의해, 상기 하층의 기초가 되는 도막의 표면, 즉 경화 후의 하층의 표면을 평활화함과 동시에, 상기 하층의 두께를 균일화할 수 있다.

또한 표층은, 상기 액상 내지 페이스트상을 나타내는 실리콘 고무 등을, 마찬가지로 닥터나이프, 바코터, 롤코터 등을 이용하여 소정의 두께가 되도록 하층 상에 도포한 후 경화시켜 형성할 수 있다. 그 때에, 역시 셀프 레벨링 효과에 의해, 상기 표층의 기초가 되는 도막의 표면, 즉 경화 후의 표층의 표면을 평활화함과 동시에, 상기 표층의 두께를 균일화할 수 있다.

그 때문에 실리콘 블랭킷의 표면에 간극 없이 밀착시켜 용제를 흡수할 수 있는, 표면의 평활성이 우수한 용제 흡수체를 연마 등의 공정을 거치는 일 없이 생산성 좋게 제조할 수 있다. 또한 필요에 따라 하층 및 표층의 표면을 연마하여도 좋은 것은 물론이다.

또한 하층은, 상기 액상 내지 페이스트상을 나타내는 실리콘 고무 등을, 그 표면 형상에 대응하는 부형면(賦形面)을 가지며, 기재를 셋트한 금형 내에 주입하여 경화시킴으로써 형성하여도 좋다. 마찬가지로 표층은, 상기 액상 내지 페이스트상을 나타내는 실리콘 고무 등을, 그 표면 형상에 대응하는 부형면을 가지며, 하층을 형성한 기재를 셋트한 금형 내에 주입하여 경화시킴으로써 형성하여도 좋다.

상기 실리콘 고무 등으로서는, 실온 경화형(RTV)인 것이 바람직하다. 상기 실온 경화형의 실리콘 고무 등은, 그 이름대로 가열하지 않아도 실온(5∼35℃)에서 경화시키는 것이 가능하기 때문에, 용제 흡수체의 제조 공정 및 제조를 위한 설비를 간략화할 수 있는 데다가, 가열에 의한 팽창과 냉각 시의 수축을 거치지 않기 때문에, 하층, 표층 및 양층의 적층체인 흡수층의 두께의 정밀도를 향상시킬 수 있다.

또한 상기 실리콘 고무 등으로서는, 앞서 설명한 바와 같이 주제(主劑)와 경화제의 2 성분으로 이루어지고, 상기 양자를 부가 반응에 의해 경화시킬 수 있는 2액 부가 반응형의 것이 바람직하다.

상기 2액 부가 반응형의 실리콘 고무 등은, 경화 반응 시에 부생성물(탈수 축합 반응에 의한 물 등)을 발생시키지 않기 때문에 하층이나 표층의 치수 정밀도를 향상시키고, 또한 상기 부생성물에 기초한 기포 등을 포함하지 않는 균일한 하층이나 표층을 형성할 수 있다.

상기 실온 경화형이며 또한 2액 부가형인 액상 실리콘 고무 등으로서는, 예컨대 신에츠카가쿠코교(주) 제조의 품번 KE1600, KE1603, KE1606, KE1310ST, KE1300T, KE1314, KE1241, KE106, KE103, 모먼티브·퍼포먼스·머트리얼즈사 제조의 품번 TSE3402, TSE3453, TSE3455T, TSE3457, TSE3466 등을 들 수 있다.

상기 표층 및 하층의 2층으로 이루어지는 2층 구조의 흡수층, 혹은 3층 이상의 다층 구조의 흡수층의 전체의 두께는 0.01 ㎜ 이상, 1 ㎜ 이하인 것이 바람직하다.

두께가 상기 범위 미만인 얇은 흡수층에는 충분한 양의 용제를 흡수시킬 수 없기 때문에, 용제 흡수체를 교환하거나, 가열 등에 의해 용제를 제거하거나 하는 조작을 하는 빈도를 적게 하여 인쇄의 택트 타임을 짧게 하는 효과가 불충분해질 우려가 있다.

또한 상기 범위를 넘는 경우에는, 용제 흡수체 전체로서의 유연성과, 그에 따른 실리콘 블랭킷의 표면에의 추종성이 저하하여, 예컨대 블랭킷 몸통의 외주에 권회하는 등 한 상태로 사용되는 실리콘 블랭킷의 표면에, 상기 흡수층을 가능한 한 간극 없이 접촉시킨 상태로 용제를 흡수시킬 수 없을 우려가 있다.

또한 흡수층의 중량이 증가하여, 상기한 바와 같이 실리콘 블랭킷의 표면에 접촉시킬 때의 취급성이 저하하거나, 상기 취급 시에 기재가 꺽이거나 주름이 되거나 하기 쉬워질 우려도 있다.

상기 흡수층이 표층과 하층의 2층으로 형성되는 경우, 상기 양층의 두께는 임의로 설정할 수 있지만, 특히 하층의 두께(T_U)를 표층의 두께(T_S) 이상(T_U≥T_S)으로 설정하는 것이 바람직하다. 이에 따라, 하층에서 보다 많은 용제를 흡수하여, 표층의 표면을, 용제의 함침량이 적으며 용제를 흡수하기 쉬운 상태로 가능한 한 길게 계속 유지할 수 있다. 또한 실리콘 블랭킷의 표면으로부터 흡수된 용제를, 상기 표층을 원활하게 통과시켜 하층에 함침시킬 수 있다.

단 표층의 두께가 지나치게 작은 경우에는, 용제 흡수의 공정에서 상기 표층의 표면을 실리콘 블랭킷의 표면에 접촉시켰을 때에, 그 접촉압 등에 의해, 하층에 함침된 용제가 표층의 표면으로 되돌아가, 실리콘 블랭킷으로부터의 용제 흡수를 방해하거나, 반대로 실리콘 블랭킷에서의 용제의 함침량을 증가시키거나 할 우려가 있다. 그 때문에 표층의 두께는 0.005 ㎜ 이상, 특히 0.008 ㎜ 이상인 것이 바람직하다.

흡수층의 전체의 경도는, 실리콘 블랭킷의 표면에 양호하게 추종시켜 간극 없이 접촉시키는 것을 고려하면, 상기 실리콘 블랭킷의 표면의 경도와 동등하거나 또는 그 이하인 것이 바람직하다.

흡수층의 전체의 경도를, 실리콘 블랭킷의 표면의 경도 이하로 하기 위해서는, 예컨대 흡수층을 구성하는 각 층의 기초가 되는 실리콘 고무 등으로서, 모두 경화 후의 경도가 실리콘 블랭킷의 표면의 경도와 동등 또는 그 이하인 것을 선택하여 이용하면 좋다. 이에 따라 흡수층의 전체의 경도를, 실리콘 블랭킷의 표면보다도 부드럽게 할 수 있다.

흡수층의 기초가 되는 각 층의 경도의 구체적인 범위는, 상기한 바와 같이 실리콘 블랭킷의 표면의 경도 이하이면 좋고, 특별히 한정되지 않지만, 예컨대 일본 공업 규격 JIS K6253:2006 「가황 고무 및 열가소성 고무-경도 구하는 방법」에서 규정된 타입 A 경도계(durometer) 경도로 나타내어 A5/S 이상, A50/S 이하, 특히 A10/S 이상, A30/S 이하 정도인 것이 바람직하다.

또한 흡수층 중 표층의 표면은, 실리콘 블랭킷의 표면에 간극 없이 밀착시키기 위해 가능한 한 평활한 것이 바람직하다. 단 흡수층은 상기와 같이 유연하기 때문에, 실리콘 블랭킷의 표면만큼 평탄하지 않아도, 상기 표면에 충분히 간극 없이 밀착시키는 것은 가능하다.

상기 표면의 표면 거칠기의 구체적인 범위는, 특별히 한정되지 않지만, 일본 공업 규격 JIS B0601:2001 「제품의 기하 특성 사양(GPS)-표면 성상:윤곽 곡선 방식-용어, 정의 및 표면 성상 파라미터」의 부속서 1에서 규정된 십점 평균 거칠기 Rz_JIS94로 나타내어 0.01 ㎛ 이상, 5 ㎛ 이하, 특히 0.05 ㎛ 이상, 1 ㎛ 이하 정도인 것이 바람직하다.

표층으로부터 하측의 층이 2층 이상의 복수층인 경우, 앞서 설명한 용제 이동의 메커니즘을 가능한 한 원활하고 양호하게 기능시키기 위해서는, 상기 복수층 중 적어도 표층의 바로 아래에, 상기 표층보다도 상기 용제의 팽윤율이 높은 층을 배치하는 것이 바람직하다.

기재로서는, 여러가지 수지의 필름 또는 시트나, 금속의 박판 등을 들 수 있다. 이 중 수지의 필름 또는 시트로서는, 폴리에틸렌테레프탈레이트(PET), 폴리염화비닐, 폴리에틸렌, 폴리프로필렌, 폴리스티렌 및 그 공중합물, 폴리염화비닐리덴, 폴리비닐알코올, 불소 수지, 폴리카보네이트, 셀룰로오스아세테이트, 폴리아미드, 폴리이미드, 변성 폴리페닐렌에테르, 폴리술폰, 폴리아릴레이트, 폴리에테르술폰, 폴리에테르에테르케톤, 폴리에테르이미드, 폴리페닐렌설파이드, TPX 폴리머, 및 폴리파라크실렌 등의 수지로 이루어지는 필름 또는 시트를 들 수 있다.

또한 금속의 박판으로서는 구리 또는 그의 합금, 알루미늄 또는 그의 합금, 스테인리스강, 니켈 등의 금속으로 이루어지는 박판이 바람직하다.

특히 임의의 두께, 및 표면 거칠기를 갖는 필름형 또는 시트형으로 가공하기쉬운 데다가, 치수 안정성이 우수한 PET의 필름 또는 시트를 기재로서 이용하는 것이 바람직하다.

기재의 두께는 0.05 ㎜ 이상, 특히 0.1 ㎜ 이상인 것이 바람직하고, 0.35 ㎜ 이하, 특히 0.25 ㎜ 이하인 것이 바람직하다.

두께가 상기 범위 미만에서는, 상기 기재에 의한, 흡수층의 지지체로서 용제 흡수체 전체의 강도를 유지하고, 또한 양호한 취급성을 확보하는 효과가 충분히 얻어지지 않으며, 취급 시에 기재가 꺽이거나 주름이 되거나 하기 쉬워질 우려도 있다.

또한 두께가 상기 범위를 넘는 경우에는, 용제 흡수체 전체로서의 유연성과, 그에 따른 실리콘 블랭킷의 표면에의 추종성이 저하하여, 예컨대 블랭킷 몸통의 외주에 권회되는 등 한 상태로 사용되는 실리콘 블랭킷의 표면에, 상기 흡수층을 가능한 한 간극 없이 접촉시킨 상태로 용제를 흡수시킬 수 없을 우려가 있다.

흡수층을 형성하기 전의 기재의 표면에는, 상기 흡수층의 밀착성을 높이기 위해, 예컨대 플라즈마 처리, 프레임 처리 등의 전처리를 시행하거나, 임의의 하지층을 형성하거나 하여도 좋다.

흡수층은, 기재의 편면에 형성하여도 좋고, 양면에 형성하여도 좋다. 양면에 흡수층을 형성한 용제 흡수체는, 편면의 흡수층을 용제의 흡수에 사용한 후, 뒤집어 반대면의 흡수층을 용제의 흡수에 사용할 수 있다.

상기 용제 흡수체는, 인쇄 방법을 실시하는 인쇄기의 구조 등에 따라 임의의 형상으로 형성할 수 있고, 특히 벨트형(무단 벨트형을 포함함)으로 형성하는 것이 바람직하다. 이에 따라, 종래의, 상기 벨트형 등의 용제 흡수체를 이용하는 오프셋 인쇄기에 그대로 적용할 수 있다.

예컨대 용제 흡수체를 긴 벨트형으로 형성하여 롤형으로 권회해 두고, 상기 롤로부터 풀어낸 용제 흡수체의 소정 길이의 영역을 실리콘 블랭킷의 표면에 접촉시켜 용제를 흡수시키는 조작을, 동일한 영역을 이용하여 1회 내지 수회 행함과 동시에, 상기 소정 횟수의 조작을 행할 때마다, 상기 롤로부터 용제 흡수체의 새로운 영역을 풀어내어, 마찬가지로 용제 흡수에 사용할 수 있다.

또한 용제 흡수체를 무단 벨트형으로 형성하고, 상기 용제 흡수체를 회전시키면서 실리콘 블랭킷의 표면에 접촉시켜 용제를 흡수시키는 조작을 1회 내지 수회 행할 때마다, 용제 흡수체를 가열하는 등 하여 흡수된 용제를 제거하면서, 상기 용제 흡수체를 용제 흡수에 반복 사용할 수 있다.

더구나 이 어떤 경우에서도, 용제 흡수체의 흡수층이, 상기한 바와 같이 표층과, 상기 표층보다도 용제의 팽윤율이 높은 층과의 적층 구조를 가지고 있기 때문에, 흡수층의 표면인 표층의 표면을, 용제의 함침량이 적으며 용제를 흡수하기 쉬운 상태로 비교적 길게 계속 유지할 수 있어, 종래에 비해서 교환이나 용제 제거의 조작을 행하는 빈도를 적게 하여, 인쇄의 택트 타임을 짧게 하여 제품의 생산성을 향상시키 것이 가능해진다.

상기 본 발명의 용제 흡수체는, 예컨대

(1) 오목판, 평판 등의 판의 표면에 패턴 형성한 잉크를 실리콘 블랭킷의 표면에 전사한 후, 피인쇄체로서의 기판의 표면에 재전사시키는 오프셋 인쇄 방법,

(2) 실리콘 블랭킷의 표면의 전면에 잉크를 도포한 후 오목판과 접촉시킴으로써, 상기 오목판의 오목부 이외의 영역과 접촉한 잉크를 선택적으로 실리콘 블랭킷의 표면으로부터 제거하여 상기 표면의 잉크층을 패턴 형성한 후, 상기 기판의 표면에 전사하는 반전 인쇄 방법,

(3) 실리콘 블랭킷의 표면에 직접적으로 잉크 패턴을 묘화한 후, 상기 기판의 표면에 전사하는 인쇄 방법

등의, 실리콘 블랭킷을 이용하는 여러가지 인쇄 방법에 사용할 수 있다.

상기 각종 인쇄 방법에서, 인쇄하는 사이에, 실리콘 블랭킷의 표면에 용제 흡수체를 접촉시킴으로써, 상기 실리콘 블랭킷에 함침되는 용제를 상기 용제 흡수체에 의해 흡수하여 제거하는 공정을, 상기 용제 흡수체를 이용하여 실시할 수 있다. 이에 따라, 인쇄 초기부터 장기간에 걸쳐 인쇄의 정밀도를 높은 레벨로 계속 유지하는 것이 가능해진다.

실리콘 블랭킷으로서는, 적어도 그 표면이 실리콘 고무 등에 의해 형성된 여러가지 실리콘 블랭킷이 사용 가능하다. 구체적으로는, 예컨대 필름형 또는 시트형의 기재와, 상기 기재의 편면에 형성된, 적어도 실리콘 고무 등을 포함하는 조성물로 이루어지는 표면 고무층을 구비한 실리콘 블랭킷이 바람직하다.

상기 표면 고무층을 구성하는 실리콘 고무 등으로서는, 미경화 시에 액상 내지 페이스트상을 나타내는 액상의 실리콘 고무 또는 실리콘 수지가 바람직하다. 상기 액상의 실리콘 고무 등은, 예컨대 닥터나이프, 바코터, 롤코터 등을 이용하여 소정의 두께가 되도록 기재 상에 도포하고, 경화시켜 표면 고무층을 형성할 때에, 상기 셀프 레벨링 효과에 의해, 상기 표면 고무층의 표면을 평활화함과 동시에 두께를 균일화할 수 있다. 그 때문에 피인쇄체로서의 기판의 표면에 미세하고 고정밀도인 패턴을 형성하는 데 적합한 표면 평활성이 우수한 표면 고무층을 갖는 실리콘 블랭킷을, 연마 등의 공정을 거치는 일 없이 생산성 좋게 제조할 수 있다. 또한 필요에 따라 표면 고무층의 표면을 연마하여도 좋은 것은 물론이다.

또한 실리콘 블랭킷은, 상기 액상 내지는 페이스트상을 나타내는 실리콘 고무 등을, 표면 고무층의 표면 형상에 대응하는 부형면을 가지며, 기재를 셋트한 금형 내에 주입하여 경화시킴으로써 제조하여도 좋다.

상기 실리콘 고무 등으로서는, 마찬가지로 실온 경화형(RTV)인 것이 바람직하다. 상기 실온 경화형의 실리콘 고무 등은 가열하지 않아도 실온에서 경화시키는 것이 가능하기 때문에, 실리콘 블랭킷의 제조 공정 및 제조를 위한 설비를 간략화할 수 있는 데다가, 가열에 의한 팽창과 냉각 시의 수축을 거치지 않기 때문에, 표면 고무층의 두께의 정밀도를 향상시킬 수 있다.

또한 상기 실리콘 고무 등으로서는, 주제와 경화제의 2 성분으로 이루어지고, 상기 양자를 부가 반응에 의해 경화시킬 수 있는 2액 부가 반응형의 것이 바람직하다.

상기 2액 부가 반응형의 실리콘 고무 등은, 경화 반응 시에 부생성물(탈수 축합 반응에 의한 물 등)을 발생시키지 않기 때문에, 표면 고무층의 치수 정밀도를 향상시키고, 또한 상기 부생성물에 기초한 기포 등을 포함하지 않는 균일한 표면 고무층을 형성할 수 있다.

상기 실온 경화형이며 또한 2액 부가형인 액상 실리콘 고무 등으로서는, 예컨대 앞에 나온, 신에츠카가쿠코교(주) 제조의 품번 KE1600, KE1603, KE1606, KE1310ST, KE1300T, KE1314, KE1241, KE106, KE103, 모먼티브·퍼포먼스·머트리얼즈사 제조의 품번 TSE3402, TSE3453, TSE3455T, TSE3457, TSE3466 등을 들 수 있다.

표면 고무층의 두께는, 특히 앞서 설명한 PDP나 LCD의 패턴 등의 높은 인쇄 정밀도가 요구되는 정밀 인쇄용의 실리콘 블랭킷의 경우는 0.01 ㎜ 이상, 0.5 ㎜ 이하 정도인 것이 바람직하다.

기재로서는, 앞서 설명한 용제 흡수체에서 사용한 것과 동일한 여러가지 수지의 필름 또는 시트, 또한 금속의 박판 등을 들 수 있고, 특히 임의의 두께 및 표면 거칠기를 갖는 필름형 또는 시트형으로 가공하기 쉬운 데다가, 치수 안정성이 우수한 PET의 필름 또는 시트가 바람직하다.

기재의 두께는, 상기 정밀 인쇄용의 실리콘 블랭킷의 경우는 0.01 ㎜ 이상, 0.4 ㎜ 이하 정도인 것이 바람직하다.

표면 고무층을 형성하기 전의 기재의 표면에는, 상기 표면 고무층의 밀착성을 높이기 위해, 예컨대 플라즈마 처리, 프레임 처리 등의 전처리를 시행하거나, 임의의 하지층을 형성하거나 하여도 좋다.

표면 고무층의 경도는, 상기 JIS K6253:2006에서 규정된 타입 A 경도계 경도로 나타내어 A10/S 이상, A70/S 이하, 특히 A30/S 이상, A60/S 이하 정도인 것이 바람직하다.

또한 실리콘 블랭킷의 표면 상태는, 잉크 패턴이 미세해질수록 그 정밀도에 영향을 끼치기 때문에, 가능한 한 평탄한 것이 바람직하다. 예컨대 상기 정밀 인쇄용의 실리콘 블랭킷의 표면 거칠기는, 상기 JIS B0601:2001 「제품의 기하 특성 사양(GPS)-표면 성상:윤곽 곡선 방식-용어, 정의 및 표면 성상 파라미터」의 부속서 1에서 규정된 십점 평균 거칠기 Rz_JIS94로 나타내어 0.01 ㎛ 이상, 1 ㎛ 이하 정도인 것이 바람직하다.

실시예

이하의 실시예, 비교예의 용제 흡수체의 제조, 특성의 측정 및 시험을, 특기한 것 이외에는, 온도 23±1℃, 상대 습도 55±1%의 환경 하에서 실시하였다.

〈실시예 1〉

실온 경화형이며 또한 2액 부가 반응형인 액상 디메틸실리콘 고무[신에츠카가쿠코교(주) 제조의 KE1241]의 주제 100 질량부 및 경화제 10 질량부를 혼합한 후 탈포하여 하층용의 도포액을 조제하고, 상기 도포액을, 기재로서의 두께 0.25 ㎜의 PET 필름의 편면에 바코터를 이용하여 도포한 후 실온에서 24시간 정치하여 경화시켜, 두께 0.4 ㎜, PET 필름의 면 방향의 치수가 세로 60 ㎝×가로 50 ㎝인 하층을 형성하였다.

계속해서, 실온 경화형이며 또한 2액 부가 반응형인 액상 디메틸실리콘 고무[신에츠카가쿠코교(주) 제조의 KE1603]의 주제 100 질량부 및 경화제 100 질량부를 혼합한 후 탈포하여 표층용의 도포액을 조제하고, 상기 도포액을, 상기 PET 필름 상의 하층의 표면에 바코터를 이용하여 도포한 후 실온에서 24시간 정치하여 경화시켜, 두께 0.1 ㎜, PET 필름의 면 방향의 치수가 세로 60 ㎝×가로 50 ㎝인 표층을 형성하여, 상기 하층과 표층의 2층 구조를 갖는 흡수층을 구비한 용제 흡수체를 제조하였다.

또한 상기 하층 및 표층의 형성에 사용한 것과 동일한 도포액을 이용하여 각각의 층의 샘플을 제작하고, 상기 양샘플에 대해서, 용제로서의 부틸카르비톨아세테이트의 팽윤량을, 앞서 설명한 방법에 따라 측정한 바 하층의 팽윤량은 15%, 표층의 팽윤량은 8%였다.

〈실시예 2〉

하층의 두께를 0.25 ㎜, 표층의 두께를 0.25 ㎜로 한 것 이외에는, 실시예 1과 동일하게 하여, 상기 하층과 표층의 2층 구조를 갖는 용제 흡수체를 제조하였다.

〈실시예 3〉

하층의 두께를 0.1 ㎜, 표층의 두께를 0.4 ㎜로 한 것 이외에는, 실시예 1과 동일하게 하여, 상기 하층과 표층의 2층 구조를 갖는 용제 흡수체를 제조하였다.

〈비교예 1〉

실시예 1에서 조정한 것과 동일한 표층용의 도포액을, 기재로서의 두께 0.25 ㎜의 PET 필름의 편면에 바코터를 이용하여 도포한 후 실온에서 24시간 정치하여 경화시켜, 두께 0.5 ㎜, PET 필름의 면 방향의 치수가 세로 60 ㎝×가로 50 ㎝인 단층 구조의 흡수층을 구비한 용제 흡수체를 제조하였다.

〈비교예 2〉

실시예 1에서 조제한 것과 동일한 표층용의 도포액을, 기재로서의 두께 0.25 ㎜의 PET 필름의 편면에 바코터를 이용하여 도포한 후 실온에서 24시간 정치하여 경화시켜, 두께 0.25 ㎜, PET 필름의 면 방향의 치수가 세로 60 ㎝×가로 50 ㎝인 하층을 형성하였다.

계속해서 실시예 1에서 조정한 것과 동일한 하층용의 도포액을, 상기 PET 필름 상의 하층의 표면에 바코터를 이용하여 도포한 후 실온에서 24시간 정치하여 경화시켜, 두께 0.25 ㎜, PET 필름의 면 방향의 치수가 세로 60 ㎝×가로 50 ㎝인 표층을 형성하여, 상기 하층과 표층의 2층 구조를 갖는 흡수층을 구비한 용제 흡수체를 제조하였다.

〈인쇄 특성 시험〉

(실리콘 블랭킷의 제작)

실온 경화형이며 또한 2액 부가 반응형인 액상 실리콘 고무[경화 후의 타입 A 경도계 경도(JIS K6253:2006 준거)가 A30/S인 것]의 주제 91 질량부와 경화제 9 질량부를 혼합한 후 탈포하여 표면 고무층용의 도포액을 조제하고, 상기 도포액을, 기재로서의 두께 0.25 ㎜의 PET 필름의 편면에 바코터를 이용하여 도포한 후 실온에서 24시간 정치하여 경화시켜, 두께 0.70 ㎜, PET 필름의 면 방향의 치수가 세로 60 ㎝×가로 50 ㎝인 표면 고무층을 형성하여 실리콘 블랭킷을 제작하였다.

(인쇄 공정)

상기 실리콘 블랭킷을, 오목판 오프셋 인쇄기[나칸(주) 제조, 360 ㎜×460 ㎜ 대응의 평판형 정밀 인쇄기]의 블랭킷 몸통의 외주에 권회하여 고정하였다. 또한 오목판으로서는, 유리판의 표면에 선폭 20 ㎛, 피치 300 ㎛, 깊이 8 ㎛의 오목부를 격자형으로 패턴 형성한 것을 이용하였다.

잉크로서는, 폴리에스테르 수지와, 용제로서의 부틸카르비톨아세테이트와, 은 분말을 3본롤을 이용하여 혼련하여 조제한 것을 이용하였다.

또한 상기 각 실시예, 비교예에서 제조한 어느 것의 용제 흡수체를, 양단을 서로 연결시켜 무단 벨트형으로 하여, 상기 블랭킷 몸통의 외주에 감아 붙인 실리콘 블랭킷과 동기 회전시키면서 상호 접촉시켜 용제 흡수의 공정을 실시할 수 있도록 셋트하였다. 동기 회전 시의 무단 벨트의 이송 속도는 40 ㎜/s로 설정하였다. 용제 흡수의 공정은, 인쇄를 1회 행할 때마다 실시하였다.

인쇄의 조건은, 오목판으로부터 실리콘 블랭킷에의 잉크의 전사 속도를 100 ㎜/s, 실리콘 블랭킷으로부터, 피인쇄체로서의 유리 기판의 표면에의 잉크의 전사 속도를 100 ㎜/s로 설정하여, 상기 유리 기판을 교환하면서 연속 인쇄를 하였다.

그리고 유리 기판의 표면에 인쇄된 패턴을 관찰하여, 상기 패턴의 선폭이 서서히 넓어져 25 ㎛를 넘거나, 반대로 서서히 좁아져 15 ㎛를 하회하거나, 혹은 단선이 생길 때까지 인쇄할 수 있었던 인쇄 매수를 계수하였다.

결과를 하기 표 1에 나타낸다.

종래의, 단층 구조의 흡수층을 갖는 비교예 1의 용제 흡수체를 이용한 경우에는, 상기 흡수층이, 용제 흡수의 공정을 반복하는 동안에 용제에 의해 팽윤하여 용제를 흡수하기 어려워지고, 그에 따라 실리콘 블랭킷의 표면의 습윤성이 서서히 상승하여 잉크가 번지기 쉬워짐과 동시에, 세선의 패턴의 선폭이 서서히 넓어져 인쇄 매수 400장에서 상기 선폭이 25 ㎛를 넘었기 때문에 그 이상의 인쇄를 단념하였다.

또한 흡수층을, 본 발명과는 반대로, 하층과, 상기 하층보다 팽윤율이 높은 표층의 2층 구조로 한 비교예 2의 용제 흡수체를 이용한 경우에는, 용제 흡수의 공정을 반복하는 동안에 실리콘 블랭킷의 표면이 서서히 용제 부족의 상태가 되어, 오목판으로부터 실리콘 블랭킷의 표면으로의 잉크의 수리성이 서서히 저하하여 인쇄 매수 100장에서 상기 세선의 패턴에 단선을 발생시켰기 때문에 그 이상의 인쇄를 단념하였다.

이에 대하여 흡수층을, 표층과, 상기 표층보다 팽윤율이 높은 하층의 2층 구조로 한 실시예 1∼3의 용제 흡수체를 이용한 경우에는, 모두 상기 하층의 기능에 의해 표층의 표면을 용제의 함침량이 적으며 용제를 흡수하기 쉬운 상태로 유지할 수 있고, 그에 따라 실리콘 블랭킷의 표면의 용제량을 적절한 범위로 유지할 수 있기 때문에, 인쇄 매수 500장 이상에 걸쳐, 선폭이 25 ㎛를 넘거나, 반대로 15 ㎛를 하회하거나, 혹은 단선을 발생시키거나 하지 않는 양호한 세선의 패턴을 연속하여 인쇄할 수 있는 것을 알 수 있었다. 또한, 각 실시예의 결과로부터, 상기 하층의 두께를 표층의 두께 이상으로 함으로써, 상기 하층의 기능을 더 양호하게 발휘시켜, 상기와 같이 양호한 세선의 패턴을 연속하여 계속 인쇄할 수 있는 횟수를 증가시킬 수 있는 것도 알 수 있었다.

Claims (3)

1. 필름형 또는 시트형의 기재(基材)와, 상기 기재의 편면 또는 양면에 형성된 흡수층을 구비하고, 실리콘 블랭킷을 이용한 인쇄 방법에 이용하는 잉크 중에 포함되어 상기 실리콘 블랭킷에 함침되는 용제를, 상기 흡수층의 표면을 상기 실리콘 블랭킷의 표면에 접촉시킴으로써, 상기 흡수층에 의해 흡수하여 제거하기 위한 용제 흡수체로서, 상기 흡수층을, 상기 표면을 구성하는 표층을 포함하는 2층 이상의 적층 구조로 하고, 또한 상기 표층으로부터 기재측에, 상기 표층보다도 상기 용제의 팽윤율이 높은 층을 배치한 것을 특징으로 하는 용제 흡수체.
2. 제1항에 있어서, 상기 흡수층을, 상기 표층과, 상기 표층보다도 용제의 팽윤율이 높은 하층의 2층 구조로 한 것인 용제 흡수체.
3. 제1항 또는 제2항에 있어서, 상기 표층을, 실리콘 고무 또는 실리콘 수지에 의해 형성한 것인 용제 흡수체.